KR101280166B1 - 이동체 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

이동체 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 Download PDF

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Abstract

스토퍼 기구 (48A, 48B) 에 의해, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 이 소정 거리보다 접근하는 것이 저지됨과 함께, 구동 기구 (34A) 에 의해, 이 스토퍼 기구에 의한 저지를 해제할 수 있기 때문에, X 축 고정자 (81, 80) 가 예를 들어 독립적으로 구동되는 경우에는, 만일 2 개의 테이블 중 적어도 일방이 폭주한 경우라도, 스토퍼 기구가 각 테이블끼리의 접촉을 저지 가능하게 할 수 있고, 예를 들어 테이블끼리를 소정 거리보다 접근한 상태로 하는 경우에는, 해제 기구에 의해 스토퍼 기구의 저지를 해제함으로써, 스토퍼 기구의 방해 없이, 양 테이블을 접근시킬 수 있게 된다.

Description

이동체 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법{MOBILE BODY SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF PRODUCING DEVICE}
본 발명은 이동체 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 소정의 1 축 방향으로 독립적으로 이동 가능한 2 개의 이동체를 갖는 이동체 시스템, 그 이동체 시스템을 구비하는 노광 장치 및 그 노광 장치를 사용하여 기판 상에 디바이스 패턴을 전사하는 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 소자 (집적 회로 등), 액정 표시 소자 등의 전자 디바이스를 제조하는 리소그래피 공정에서는, 마스크 (또는 레티클) 패턴의 이미지를 투영 광학계를 통하여, 레지스트 (감광제) 가 도포된 웨이퍼 또는 유리 플레이트 등의 감광성의 물체 (이하, 「웨이퍼」 라고 부른다) 상의 복수의 쇼트 영역 각각에 전사하는 스텝ㆍ앤드ㆍ리피트 방식의 축소 투영 노광 장치 (이른바 스테퍼) 나, 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식의 투영 노광 장치 (이른바 스캐닝ㆍ스텝퍼 (스캐너라고도 불리워진다)) 등이, 주로 사용되고 있다.
이런 종류의 투영 노광 장치에서는, 집적 회로의 고집적화에 의한 패턴의 미세화에 수반하여, 보다 높은 해상력 (해상도) 이 해마다 요구되고, 그 때문에 노광광의 단파장화 및 투영 광학계의 개구수 (NA) 의 증대화 (대(大)NA화) 가 점차 진행되어 왔다. 그런데, 노광광의 단파장화 및 투영 광학계의 대NA화는, 투영 노광 장치의 해상력을 향상시키는 반면, 초점 심도의 협소화를 초래한다. 또한, 장래적으로 노광 파장은 더욱 단파장화되는 것이 확실시되고 있으며, 이 상태로는 초점 심도가 너무 좁아져, 노광 동작시의 포커스 마진이 부족할 우려가 발생하였다.
그래서, 실질적으로 노광 파장을 짧게 하고, 또한 공기 중에 비하여 초점 심도를 크게 (넓게) 하는 방법으로서, 액침법을 이용한 노광 장치가 최근 주목을 받게 되었다. 이 액침법을 이용한 노광 장치로서, 투영 광학계의 하면 (下面) 과 웨이퍼 표면 사이를 물 또는 유기 용매 등의 액체로 국소적으로 채운 상태에서 노광을 행하는 것이 알려져 있다 (예를 들어, 특허 문헌 1 참조). 이 특허 문헌 1 에 기재된 노광 장치에서는, 액체 중에서의 노광광의 파장이, 공기 중의 1/n 배 (n 은 액체의 굴절률로, 통상 1.2 ∼ 1.6 정도) 가 되는 것을 이용하여 해상도를 향상시킴과 함께, 그 해상도와 동일한 해상도가 액침법에 관계없이 얻어지는 투영 광학계 (이러한 투영 광학계의 제조가 가능할 경우) 에 비하여 초점 심도를 n 배로 확대하는, 즉 공기 중에 비하여 초점 심도를 실질적으로 n 배로 확대시킬 수 있다.
또, 최근에는, 2 개의 웨이퍼 스테이지를 구비한 노광 장치나, 웨이퍼 스테이지와 웨이퍼 스테이지와는 독립적으로, 2 차원 면내에서 구동 가능하고, 계측에 사용되는 계측기가 설치된 스테이지 (계측 스테이지) 를 구비한 노광 장치도 제안되어 있다 (예를 들어, 특허 문헌 2, 3 등 참조).
그러나, 상기 노광 장치에서는, 2 개의 스테이지를 구비하고 있기 때문에, 양 스테이지를 적확 (適確) 하게 제어할 수 없는 경우, 즉, 양 스테이지가 가령 폭주한 경우에는, 양 스테이지가 충돌할 가능성이 있다. 이러한 충돌이 발생하면, 양 스테이지가 손상되는 것은 물론, 양 스테이지의 손상에 의해 스테이지의 위치 결정 정밀도 등을 포함하는 제어 성능이 악화될 우려가 있다.
특허 문헌 1: 국제공개공보 제99/49504호 팜플렛
특허 문헌 2: 일본 공개특허공보 평11-135400호
특허 문헌 3: 일본 공개특허공보 평3-211812호
본 발명은, 상기 기술한 사정 하에 이루어진 것으로서, 제 1 관점에서 보면, 소정의 1 축 방향으로 독립적으로 이동 가능한 2 개의 이동체를 갖는 이동체 시스템으로서, 상기 2 개의 이동체끼리가 소정 거리보다 접근하는 것을 저지하는 스토퍼 기구와, 상기 스토퍼 기구에 의한 상기 저지를 해제하고, 상기 2 개의 이동체가 상기 소정 거리보다 접근하는 것을 허용하는 해제 기구를 구비하는 제 1 이동체 시스템이다.
이에 따르면, 스토퍼 기구에 의해, 2 개의 이동체끼리가 소정 거리보다 접근하는 것이 저지됨과 함께, 해제 기구에 의해 이 스토퍼 기구에 의한 저지가 해제되면, 2 개의 이동체를 소정 거리보다 접근시킬 수가 있다. 이 때문에, 이동체끼리가 예를 들어 독립적으로 구동되는 경우에, 만일 2 개의 이동체 중 적어도 일방이 폭주한 경우라도, 스토퍼 기구에 의해 각 이동체끼리의 접촉을 저지 가능하게 할 수 있다. 또한, 한편으로, 예를 들어, 이동체끼리를 소정 거리보다 접근한 상태로 하는 경우에는, 해제 기구에 의해 스토퍼 기구의 저지를 해제함으로써, 스토퍼 기구의 방해없이, 양 이동체를 접근시킬 수 있게 된다.
본 발명은, 제 2 관점에서 보면, 기판을 노광하여, 상기 기판에 패턴을 형성하는 노광 장치로서, 상기 2 개의 이동체 중 적어도 일방에서 상기 기판을 유지하는 본 발명의 제 1 이동체 시스템과, 상기 해제 기구의 동작을 제어하는 제어 장치를 구비하는 제 1 노광 장치이다.
이에 따르면, 스토퍼 기구에 의해 2 개의 이동체의 충돌이 회피됨과 함께, 해제 장치에 의해 스토퍼 기구에 방해받지 않고, 2 개의 이동체를 소정 거리보다 접근시킬 수 있는 본 발명의 이동체 시스템을 구비하고 있기 때문에, 2 개의 이동체 중 적어도 일방에서 유지된 기판을 노광할 때에는, 만일 적어도 일방의 이동체가 폭주하거나 한 경우라도, 스토퍼 기구에 의해 2 개의 이동체 간의 접촉 및 손상 등을 막을 수 있다. 그 결과, 이동체의 제어성을 높게 유지할 수 있고, 나아가서는 노광 정밀도를 높게 유지할 수 있게 된다. 또, 해제 장치에 의해, 스토퍼 기구의 저지가 해제됨으로써 2 개의 이동체를 접근시킬 수도 있기 때문에, 노광에 관련된 동작 등으로 2 개의 이동체를 접근시킬 필요가 있을 때에도, 스토퍼 기구의 방해없이 2 개의 이동체를 접근시킬 수 있다.
본 발명은, 제 3 관점에서 보면, 광학계와 기판 사이에 액체를 공급하고, 상기 광학계와 상기 액체를 통하여 에너지 빔에 의해 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서, 상기 2 개의 이동체가 상기 광학계와의 사이에 상기 액체를 유지 가능한 액침 가능 영역을 각각 가짐과 함께, 상기 2 개의 이동체 중 적어도 일방에서 상기 기판을 유지하는 본 발명의 제 1 이동체 시스템과, 상기 2 개의 이동체 중 일방의 액침 가능 영역으로부터 타방의 액침 가능 영역으로 상기 액체를 이동시키기 위해서, 상기 2 개의 이동체가 맞닿거나 또는 상기 소정 거리보다 접근한 소정 상태를 유지한 채로, 상기 2 개의 이동체의 동작을 제어하는 제어 장치를 구비하는 제 2 노광 장치이다.
이에 따르면, 노광 동작시에는, 만일의 이동체의 폭주에 대비하여, 이동체 시스템을 구성하는 스토퍼 기구가 2 개의 이동체의 접근을 저지 가능한 상태로 해둔다. 한편으로, 2 개의 이동체의 일방의 액침 가능 영역으로부터 타방의 액침 가능 영역으로 액체의 액침 영역을 이동시킬 때에는, 해제 장치에 의해 스토퍼 기구에 의한 상기 저지를 해제한 상태에서, 2 개의 이동체가 맞닿거나 또는 상기 소정 거리보다 접근한 소정 상태를 유지한 채로, 상기 2 개의 이동체의 동작을 제어한다. 이로써, 일방의 이동체 상에 액침 가능 영역이 형성된 상태로부터 타방의 이동체 상에 액침 가능 영역이 형성된 상태로 전이시키는 경우에, 액체의 공급 정지 → 2 개의 이동체의 이동 → 액체의 공급 재개라는 일련의 동작을 행할 필요가 없다. 따라서, 노광 정밀도가 높게 유지됨과 함께, 2 개의 이동체의 광학계 바로 아래에 있어서의 이동의 고속화, 나아가서는 고(高) 스루풋화를 실현할 수 있게 된다.
본 발명은 제 4 관점에서 보면, 이동체 시스템으로서, 소정의 1 축 방향으로 독립적으로 이동 가능한 2 개의 이동체와, 상기 소정의 1 축 방향에 관한 상기 2 개의 이동체끼리의 접근 가능한 거리를, 미리 설정된 복수의 거리 사이에서 변경할 수 있는 변경 장치를 구비하는 제 2 이동체 시스템이다.
본 발명은 제 5 관점에서 보면, 기판을 노광하여, 상기 기판에 패턴을 형성하는 노광 장치로서, 상기 2 개의 이동체 중 적어도 일방에서 상기 기판을 유지하는 제 2 이동체 시스템과, 상기 변경 장치의 동작을 제어하는 제어 장치를 구비하는 제 3 노광 장치이다.
또, 리소그래피 공정에 있어서, 본 발명의 제 1 ∼ 제 3 노광 장치를 사용하여 기판 상에 디바이스 패턴을 전사함으로써, 고집적도의 마이크로 디바이스의 생산성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명은, 또 다른 관점에서 보면, 본 발명의 제 1 ∼ 제 3 노광 장치 중 어느 하나를 사용하는 디바이스 제조 방법이라고도 말할 수 있다.
도 1 은, 일 실시형태에 관련된 노광 장치를 나타내는 개략도이다.
도 2 는, 도 1 의 스테이지 장치의 평면도이다.
도 3(A) ∼ 도 3(C) 는, 계측 테이블에 설치된 탈리 (脫離) 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 4 는, X 축 고정자 (80, 81) 의 +X 측 단부를 나타내는 사시도이다.
도 5 는, 완충기 (shock absorber) 의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 6(A) ∼ 도 6(D) 는, 스토퍼 기구의 작용을 설명하기 위한 도면이다.
도 7 은, X 축 고정자끼리가 가장 접근한 상태를 나타내는 평면도이다.
도 8 은, 일 실시형태에 관련된 노광 장치의 제어계의 주요한 구성을 나타내는 블록도이다.
도 9 는, 계측 스테이지가 투영 광학계 바로 아래에 있는 상태를 나타내는 평면도이다.
도 10(A), 도 10(B) 는, 스토퍼 기구의 제 1 변형예를 나타내는 도면이다.
도 11(A) ∼ 도 11(D) 는, 스토퍼 기구의 제 2 변형예를 나타내는 도면이다.
도 12(A), 도 12(B) 는, 완충기와 셔터가 접촉한 상태에서 X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB)) 의 X 축 방향의 상대 이동에 대하여 설명하기 위한 도면이다.
도 13 은, 본 발명에 관련된 디바이스 제조 방법을 설명하기 위한 플로우 차트이다.
도 14 는, 도 13 의 단계 204 의 구체예를 나타내는 플로우 차트이다.
이하, 본 발명의 일 실시형태를 도 1 ∼ 도 9 에 기초하여 설명한다.
도 1 에는, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 노광 장치 (100) 의 구성이 개략적으로 나타나 있다. 이 노광 장치 (100) 는, 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식의 주사형 노광 장치, 즉, 이른바 스캐너이다.
노광 장치 (100) 는, 조명계 (10), 그 조명계 (10) 로부터의 노광용 조명광 (이하, 「조명광」 또는 「노광광」 이라고 부른다; IL) 에 의해 조명되는 레티클 (R) 을 유지하는 레티클 스테이지 (RST), 레티클 (R) 로부터 사출된 조명광 (IL) 을 웨이퍼 (W) 상에 투사하는 투영 광학계 (PL) 를 포함하는 투영 유닛 (PU), 웨이퍼 스테이지 (WST) 및 계측 스테이지 (MST) 를 갖는 스테이지 장치 (50), 및 이들의 제어계 등을 포함하고 있다. 웨이퍼 스테이지 (WST) 상에는, 웨이퍼 (W) 가 재치되도록 되어 있다.
상기 조명계 (10) 는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2001-313250호 및 이것에 대응하는 미국 특허 출원 공개 제2003/0025890호 명세서 또는 공보 등에 개시되어 있는 바와 같이, 광원, 옵티컬 인터그레이터 등을 포함한 조도 균일화 광학계, 빔 스플리터, 릴레이 렌즈, 가변 ND 필터, 레티클 블라인드 등 (모두 도시 생략) 을 포함하고 있다. 이 조명계 (10) 에서는, 레티클 블라인드로 규정된 레티클 (R) 상의 슬릿 형상의 조명 영역을 조명광 (노광광; IL) 에 의해 거의 균일한 조도로 조명한다. 여기서, 조명광 (IL) 으로서는, 일례로서 ArF 엑시머 레이저광 (파장 193㎚) 이 사용되고 있다. 또, 옵티컬 인터그레이터로서는, 플라이 아이 렌즈, 로드 인티그레이터 (내면 반사형 인티그레이터) 또는 회절 광학 소자 등을 사용할 수 있다. 본 국제 출원에서 지정한 지정국 (또는 선택한 선택국) 의 국내 법령이 허용하는 한, 상기 미국 특허 출원 공개에 있어서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다.
상기 레티클 스테이지 (RST) 상에는, 회로 패턴 등이 그 패턴면 (도 1 에 있어서의 하면) 에 형성된 레티클 (R) 이, 예를 들어 진공 흡착에 의해 고정되어 있다. 레티클 스테이지 (RST) 는, 예를 들어, 리니어 모터 등을 포함하는 레티클 스테이지 구동계 (11; 도 1 에서는 도시 생략, 도 8 참조) 에 의해, XY 평면 내에서 미소 구동 가능함과 함께, 소정의 주사 방향 (여기에서는 도 1 에서의 지면 내 좌우 방향인 Y 축 방향으로 한다) 으로 지정된 주사 속도로 구동 가능하게 되어 있다.
레티클 스테이지 (RST) 의 스테이지 이동면 내의 위치 (Z 축 둘레의 회전을 포함한다) 는, 레티클 레이저 간섭계 (이하, 「레티클 간섭계」 라고 한다; 116) 에 의해, 이동경 (15; 실제로는, Y 축 방향에 직교하는 반사면을 갖는 Y 이동경과, X 축 방향에 직교하는 반사면을 갖는 X 이동경이 설치되어 있다) 을 통하여, 예를 들어 0.5 ∼ 1㎚ 정도의 분해능으로 항상 검출된다. 이 레티클 간섭계 (116) 의 계측값은, 주제어 장치 (20; 도 1 에서는 도시 생략, 도 8 참조) 로 보내지고, 주제어 장치 (20) 에서는, 이 레티클 간섭계 (116) 의 계측값에 기초하여 레티클 스테이지 (RST) 의 X 축 방향, Y 축 방향 및 θz 방향 (Z 축 둘레의 회전 방향) 의 위치를 산출함과 함께, 이 산출 결과에 기초하여 레티클 스테이지 구동계 (11) 를 제어함으로써, 레티클 스테이지 (RST) 의 위치 (및 속도) 를 제어한다. 또한, 이동경 (15) 대신에, 레티클 스테이지 (RST) 의 단면 (端面) 을 경면 가공하여 반사면 (이동경 (15) 의 반사면에 상당) 을 형성하는 것으로 해도 된다.
레티클 (R) 의 상방에는, 투영 광학계 (PL) 를 통하여 레티클 (R) 상의 한 쌍의 레티클 얼라인먼트 마크와 이들에 대응하는 계측 스테이지 (MST) 상의 한 쌍의 기준 마크 (이하, 「 제 1 기준 마크」 라고 부른다) 를 동시에 관찰하기 위한 노광 파장의 광을 사용한 TTR (Through The Reticle) 얼라인먼트계로 이루어지는 한 쌍의 레티클 얼라인먼트 검출계 (RAa, RAb) 가 X 축 방향으로 소정 거리 떨어져서 설치되어 있다. 이들의 레티클 얼라인먼트 검출계 (RAa, RAb) 로서는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평7-176468호 및 이것에 대응하는 미국 특허 제5,646,413호 명세서 등에 개시되는 것과 동일한 구성의 것이 사용되고 있다. 본 국제 출원에서 지정한 지정국 (또는 선택한 선택국) 의 국내 법령이 허용하는 한, 상기 미국 특허에 있어서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다.
상기 투영 유닛 (PU) 은, 레티클 스테이지 (RST) 의 도 1 에 있어서의 하방에 배치되어 있다. 투영 유닛 (PU) 은, 경통 (40) 과, 그 경통 (40) 내에 소정의 위치 관계에서 유지된 복수의 광학 소자로 이루어지는 투영 광학계 (PL) 를 포함한다. 투영 광학계 (PL) 로서는, 예를 들어, Z 축 방향의 공통의 광축 (AX) 을 갖는 복수의 렌즈 (렌즈 엘리먼트) 로 이루어지는 굴절 광학계가 사용되고 있다. 이 투영 광학계 (PL) 는, 예를 들어, 양측 텔레센트릭에 의해 소정의 투영 배율 (예를 들어, 1/4 배 또는 1/5 배) 을 갖는다. 이 때문에, 조명계 (10) 로부터의 조명광 (IL) 에 의해 레티클 (R) 상의 조명 영역 (IAR) 이 조명되면, 이 레티클 (R) 을 통과한 조명광 (IL) 에 의해, 투영 광학계 (PL; 투영 유닛 (PU)) 를 통하여 그 조명 영역 (IAR) 내의 레티클 (R) 의 회로 패턴의 축소 이미지 (회로 패턴의 일부의 축소 이미지) 가 표면에 레지스트 (감광제) 가 도포된 웨이퍼 (W) 상의 상기 조명 영역 (IAR) 에 공액인 영역 (이하, 「노광 영역」 이라고도 부른다; IA) 에 형성된다.
또한, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에서는, 후술하는 바와 같이, 액침법을 적용한 노광이 행해지기 때문에, 개구수 (NA) 가 실질적으로 증대되는 것에 수반하여 레티클측의 개구가 커진다. 이 때문에, 렌즈만으로 구성하는 굴절 광학계에 있어서는, 페츠발의 조건을 만족시키기 곤란해져, 투영 광학계가 대형화되는 경향이 있다. 이러한 투영 광학계의 대형화를 회피하기 위해서, 미러와 렌즈를 포함하여 구성된 반사 굴절계 (카타디옵트릭 (catadioptric) 계) 를 사용해도 된다.
또, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에서는, 액침법을 적용한 노광이 행해지기 때문에, 투영 광학계 (PL) 를 구성하는 이미지면측 (웨이퍼 (W) 측) 에 가장 가까운 광학 소자로서의 렌즈 (이하, 「선옥 (先玉)」 이라고도 한다; 191) 의 근방에는, 액침 장치 (32) 를 구성하는 액체 공급 노즐 (31A) 과, 액체 회수 노즐 (31B) 이 설치되어 있다.
상기 액체 공급 노즐 (31A) 에는, 그 일단이 액체 공급 장치 (5; 도 1 에서는 도시 생략, 도 8 참조) 에 접속된 도시를 생략한 공급관의 타단이 접속되어 있고, 상기 액체 회수 노즐 (31B) 에는, 그 일단이 액체 회수 장치 (6; 도 1 에서는 도시 생략, 도 8 참조) 에 접속된 도시를 생략한 회수관의 타단이 접속되어 있다.
상기 액체 공급 장치 (5) 는, 액체의 탱크, 가압 펌프, 온도 제어 장치, 그리고 공급관에 대한 액체의 공급ㆍ정지를 제어하기 위한 밸브 등을 포함한다. 밸브로서는, 예를 들어 액체의 공급ㆍ정지뿐만 아니라, 유량의 조정도 가능해지도록 유량 제어 밸브를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 온도 제어 장치는, 액체 탱크 내의 액체의 온도를 노광 장치 본체가 수납되어 있는 챔버 (도시 생략) 내의 온도와 동일한 정도의 온도로 조정한다. 또한, 액체를 공급하기 위한 탱크, 가압 펌프, 온도 제어 장치, 밸브 등은, 그 모두를 노광 장치 (100) 에서 구비하고 있을 필요는 없고, 적어도 일부를 노광 장치 (100) 가 설치되는 공장 등의 설비로 대체할 수도 있다.
상기 액체 회수 장치 (6) 는, 액체의 탱크 및 흡인 펌프, 그리고 회수관을 통한 액체의 회수ㆍ정지를 제어하기 위한 밸브 등을 포함한다. 밸브로서는, 상기 기술한 액체 공급 장치 (5) 측의 밸브에 대응하여 유량 제어 밸브를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 액체를 회수하기 위한 탱크, 흡인 펌프, 밸브 등은, 그 모두를 노광 장치 (100) 에서 구비하고 있을 필요는 없고, 적어도 일부를 노광 장치 (100) 가 설치되는 공장 등의 설비로 대체할 수도 있다.
상기 액체로서는, 여기에서는 ArF 엑시머 레이저광 (파장 193㎚ 의 광) 이 투과하는 초순수 (이하, 특별히 필요한 경우를 제외하고, 간단하게 「물」 이라고 기술한다) 를 사용하는 것으로 한다. 초순수는, 반도체 제조 공장 등에서 용이하게 대량으로 입수할 수 있음과 함께, 웨이퍼 상의 포토레지스트나 광학 렌즈 등에 대한 악영향이 없다는 이점이 있다.
ArF 엑시머 레이저광에 대한 물의 굴절률 n 은, 대략 1.44 이다. 이 물속에서는, 조명광 (IL) 의 파장은 193㎚ × 1/n = 약 134㎚ 로 단파장화된다.
상기 액체 공급 장치 (5) 및 액체 회수 장치 (6) 는, 각각 컨트롤러를 구비하고 있고, 각각의 컨트롤러는, 주제어 장치 (20) 에 의해 제어되도록 되어 있다 (도 8 참조). 액체 공급 장치 (5) 의 컨트롤러는, 주제어 장치 (20) 로부터의 지시에 따라 공급관에 접속된 밸브를 소정 개도로 열고, 액체 공급 노즐 (31A) 을 통하여 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이에 물을 공급한다. 또, 이때, 액체 회수 장치 (6) 의 컨트롤러는, 주제어 장치 (20) 로부터의 지시에 따라 회수관에 접속된 밸브를 소정 개도로 열고, 액체 회수 노즐 (31B) 을 통하여 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이로부터 액체 회수 장치 (6; 액체의 탱크) 의 내부에 물을 회수한다. 이때, 주제어 장치 (20) 는, 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이에 액체 공급 노즐 (31A) 로부터 공급되는 물의 양과, 액체 회수 노즐 (31B) 을 통하여 회수되는 물의 양이 항상 동일해지도록, 액체 공급 장치 (5) 의 컨트롤러, 액체 회수 장치 (6) 의 컨트롤러에 대하여 지령을 부여한다. 따라서, 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이에, 일정량의 물 (Lq; 도 1 참조) 이 유지된다. 이 경우, 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이에 유지된 물 (Lq) 은, 항상 교체되어 있다.
상기 설명에서 알 수 있는 바와 같이, 본 실시형태의 액침 장치 (32) 는, 상기 액체 공급 장치 (5), 액체 회수 장치 (6), 공급관, 회수관, 액체 공급 노즐 (31A) 및 액체 회수 노즐 (31B) 등을 포함하는 국소 액침 장치이다.
또한, 투영 유닛 (PU) 하방에 계측 스테이지 (MST) 가 위치하는 경우에도, 상기와 마찬가지로 계측 테이블 (MTB) 과 선옥 (191) 사이에 물을 채울 수 있다.
또한, 상기 설명에서는, 그 설명을 간단하게 하기 위하여, 액체 공급 노즐과 액체 회수 노즐이 각각 1 개씩 설치되어 있는 것으로 하였지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어, 국제공개공보 제99/49504호 팜플렛에 개시되어 있는 바와 같이, 노즐을 다수 갖는 구성을 채용하는 것으로 해도 된다. 요컨대, 투영 광학계 (PL) 를 구성하는 최하단의 광학 부재 (선옥; 191) 와 웨이퍼 (W) 사이에 액체를 공급할 수 있는 것이면, 그 구성은 어떠한 것이어도 된다. 예를 들어, 국제공개공보 제 2004/053955호 팜플렛에 개시되어 있는 액침 기구나, 유럽 특허출원공개 제1420298호 명세서에 개시되어 있는 액침 기구도 본 실시형태의 노광 장치에 적용할 수 있다. 본 국제 출원에서 지정한 지정국 (또는 선택한 선택국) 의 국내 법령이 허용하는 한, 상기 국제 출원 공개 팜플렛 및 유럽 특허 출원 공개에 있어서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다.
상기 스테이지 장치 (50) 는, 베이스반 (12) 과, 그 베이스반 (12) 의 상면의 상방에 배치된 웨이퍼 스테이지 (WST), 계측 스테이지 (MST) 와, 이들 스테이지 (WST, MST) 의 위치를 계측하는 Y 축 간섭계 (16, 18) 를 포함하는 간섭계 시스템 (118; 도 8 참조) 과, 스테이지 (WST, MST) 를 구동하는 스테이지 구동계 (124; 도 8 참조) 를 구비하고 있다.
웨이퍼 스테이지 (WST), 계측 스테이지 (MST) 의 저면에는, 도시를 생략한 비접촉 베어링, 예를 들어, 진공 예압형 공기 정압 (靜壓) 베어링 (이하, 「에어 패드」 라고 부른다) 이 복수 지점에 설치되어 있고, 이들 에어 패드로부터 베이스반 (12) 의 상면을 향하여 분출된 가압 공기의 정압에 의해, 베이스반 (12) 의 상면의 상방에 웨이퍼 스테이지 (WST), 계측 스테이지 (MST) 가 수 ㎛ 정도의 클리어런스 (clearance) 를 통하여 비접촉으로 부상 (浮上) 지지되어 있다. 또, 각 스테이지 (WST, MST) 는, 스테이지 구동계 (124) 에 의해, X 축 방향 (도 1 에 있어서의 지면 내 좌우 방향) 및 Y 축 방향 (도 1 에 있어서의 지면 직교 방향) 으로 독립적으로 2 차원 방향으로 구동 가능하게 구성되어 있다.
베이스반 (12) 상에는, 도 2 의 평면도에 나타내는 바와 같이, Y 축 방향으로 연장되는 한 쌍의 Y 축 고정자 (86, 87) 가 X 축 방향으로 소정 간격을 두고 배치되어 있다. 이들 Y 축 고정자 (86, 87) 는, 예를 들어, Y 축 방향을 따라 소정 간격으로, 또한 교대로 배치된 N 극 자석과 S 극 자석의 복수 세트로 이루어지는 영구 자석군을 내장하는 자극 유닛에 의해 구성되어 있다. 이들 Y 축 고정자 (86, 87) 에는, 각 2 개의 Y 축 가동자 (82, 84 및 83, 85) 가, 대응하는 Y 축 고정자 (86, 87) 에 걸어 맞춰진 상태로 비접촉으로 설치되어 있다. 즉, 합계 4 개의 Y 축 가동자 (82, 84, 83, 85) 는, XZ 단면의 U 자형의 Y 축 고정자 (86 또는 87) 의 내부 공간에 삽입된 상태로 되어 있고, 대응하는 Y 축 고정자 (86 또는 87) 에 대하여 도시를 생략한 에어 패드를 각각 통하여, 예를 들어, 수 ㎛ 정도의 클리어런스를 통하여 부상 지지되어 있다. Y 축 가동자 (82, 84, 83, 85) 의 각각은, 예를 들어, Y 축 방향을 따라 소정 간격으로 배치된 전기자 코일을 각각 내장하는 전기자 유닛에 의해 구성되어 있다. 즉, 본 실시형태에서는, 전기자 유닛으로 이루어지는 Y 축 가동자 (82, 84) 와 자극 유닛으로 이루어지는 Y 축 고정자 (86) 에 의해, 무빙 코일형의 Y 축 리니어 모터가 각각 구성되어 있다. 마찬가지로, Y 축 가동자 (83, 85) 와 Y 축 고정자 (87) 에 의해, 무빙 코일형의 Y 축 리니어 모터가 각각 구성되어 있다. 이하에 있어서는, 상기 4 개의 Y 축 리니어 모터의 각각을, 각각의 Y 축 가동자 (82, 84, 83, 85) 와 동일한 부호를 사용하여, 적절하게, Y 축 리니어 모터 (82), Y 축 리니어 모터 (84), Y 축 리니어 모터 (83), 및 Y 축 리니어 모터 (85) 라고 부르는 것으로 한다.
상기 4 개의 Y 축 리니어 모터 중, 2 개의 Y 축 리니어 모터 (82, 83) 의 가동자 (82, 83) 는, X 축 방향으로 연장되는 X 축 고정자 (80) 의 길이 방향의 일단과 타단에 각각 고정되어 있다. 또, 나머지 2 개의 Y 축 리니어 모터 (84, 85) 의 가동자 (84, 85) 는, X 축 방향으로 연장되는 X 축 고정자 (81) 의 일단과 타단에 고정되어 있다. 따라서, X 축 고정자 (80, 81) 는, 각 한 쌍의 Y 축 리니어 모터 (82, 83, 84, 85) 에 의해, Y 축을 따라 각각 구동되도록 되어 있다.
상기 X 축 고정자 (80, 81) 각각은, 예를 들어 X 축 방향을 따라 소정 간격으로 배치된 전기자 코일을 각각 내장하는 전기자 유닛에 의해 구성되어 있다.
일방의 X 축 고정자 (81) 는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 구성하는 X 이동체 (91; 도 2 에서는 도시 생략, 도 1 참조) 에 형성된 도시를 생략한 개구에 삽입 상태로 설치되어 있다. 이 X 이동체 (91) 의 상기 개구의 내부에는, 예를 들어, X 축 방향을 따라 소정 간격으로, 또한 교대로 배치된 N 극 자석과 S 극 자석의 복수 세트로 이루어지는 영구 자석군을 갖는 자극 유닛이 설치되어 있다. 이 자극 유닛과 X 축 고정자 (81) 에 의해, X 이동체 (91) 를 X 축 방향으로 구동하는 무빙 마그넷형의 X 축 리니어 모터가 구성되어 있다. 마찬가지로, 타방의 X 축 고정자 (80) 는, 계측 스테이지 (MST) 를 구성하는 X 이동체 (92; 도 2 에서는 도시 생략, 도 1 참조) 에 형성된 개구에 삽입 상태로 설치되어 있다. 이 X 이동체 (92) 의 상기 개구의 내부에는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 측 (X 이동체 (91) 측) 과 동일한 자극 유닛이 설치되어 있다. 이 자극 유닛과 X 축 고정자 (80) 에 의해, 계측 스테이지 (MST) 를 X 축 방향으로 구동하는 무빙 마그넷형의 X 축 리니어 모터가 구성되어 있다. 이하에 있어서는, 적절하게, 이들의 X 축 리니어 모터를 각각의 고정자를 구성하는 X 축 고정자 (81, 80) 와 동일한 부호를 사용하여, X 축 리니어 모터 (81), X 축 리니어 모터 (80) 라고 부르는 것으로 한다.
본 실시형태에서는, 스테이지 구동계 (124) 를 구성하는 상기 각 리니어 모터가, 도 8 에 나타내는 주제어 장치 (20) 에 의해 제어되도록 되어 있다. 또한, 각 리니어 모터는, 각각 무빙 마그넷형이나 무빙 코일형 중 어느 일방에 한정되는 것이 아니라, 필요에 따라 적절하게 선택할 수 있다.
또한, 한 쌍의 Y 축 리니어 모터 (84, 85; 또는 82, 83) 가 각각 발생하는 추력 (推力) 을 약간 다르게 함으로써, 웨이퍼 스테이지 (WST) 또는 계측 스테이지 (MST) 의 요잉 (yawing) 의 제어가 가능하다.
상기 웨이퍼 스테이지 (WST) 는, 상기 기술한 X 이동체 (91) 와, 그 X 이동체 (91) 상에 도시를 생략한 Z 레벨링 기구 (예를 들어, 보이스 코일 모터 등) 를 통하여 탑재되고, X 이동체 (91) 에 대하여 Z 축 방향 및 X 축 둘레의 회전 방향 (θx 방향), Y 축 둘레의 회전 방향 (θy 방향) 으로 상대적으로 미소 구동되는 웨이퍼 테이블 (WTB) 을 포함하고 있다.
상기 웨이퍼 테이블 (WTB) 상에는, 웨이퍼 (W) 를 진공 흡착 등에 의해 유지하는 웨이퍼 홀더 (도시 생략) 가 설치되어 있다. 또, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 상면에는, 웨이퍼 홀더 상에 재치되는 웨이퍼와 동일 면이고, 전체적으로 직사각형이고, 그 중앙부에 웨이퍼 홀더보다 한층 큰 원형의 개구가 형성된 보조 플레이트 (발수판; 28) (도 1, 도 3 참조) 가 설치되어 있다. 이 보조 플레이트 (발수판; 28) 는, 웨이퍼 테이블 (WTB) 보다 한층 크게 설정되어 있다. 보조 플레이트 (발수판; 28) 의 발액 (발수) 면은, 일반적으로 원자외역 또는 진공 자외역의 광에 약하고, 그 노광광의 조사에 의해 발액 (발수) 성능이 열화된다. 또, 보조 플레이트 (발수판; 28) 의 상면에 액체의 부착 자국 (워터 마크 등) 이 형성될 우려도 있다. 따라서, 보조 플레이트 (발수판; 28) 는 웨이퍼 테이블 (WTB) 에 대하여 용이하게 착탈 (교환) 가능하도록 되어 있다. 또한, 보조 플레이트 (발수판) 의 고정은, 진공 흡착 방식이나 정전 흡착 방식 등의 각종 방식을 채용할 수 있다.
이 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 -Y 단면은, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 경면 가공하여 반사면 (17a) 이 형성되어 있고, -X 단면도 마찬가지로 경면 가공하여 반사면 (17b) 이 형성되어 있다. 이들의 반사면에는, 간섭계 시스템 (118; 도 8 참조) 을 구성하는 간섭계 (Y 축 방향에 관해서는 Y 축 간섭계 (16), X 축 방향에 관해서는 복수의 X 축 간섭계 (126, 128)) 로부터의 간섭계 빔 (측장 (測長) 빔) 이 투사되고, 그 반사광을 각 간섭계에서 수광함으로써, 각 반사면의 기준 위치 (일반적으로는 투영 유닛 (PU) 측면이나, 얼라인먼트계 (ALG) 의 측면에 고정 미러를 배치하고, 그곳을 기준면으로 한다) 로부터의 변위가 계측되고, 이로써, 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 2 차원 위치가 계측되도록 되어 있다. 또한, 도 2 에서는 도시를 생략하였지만, X 축 간섭계로부터의 측장 빔이 닿지 않는 경우에는, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 위치가 인코더 (77A; 도 8 참조) 에 의해 계측되도록 되어 있다.
상기 계측 스테이지 (MST) 는, 상기 기술한 X 이동체 (92) 와, 그 X 이동체 (92) 상에 탑재된 계측 테이블 (MTB) 을 포함하고 있다. 계측 테이블 (MTB) 에 관해서도 도시를 생략한 Z 레벨링 기구를 통하여 X 이동체 (92) 상에 탑재되어 있다. 또한, 계측 테이블 (MTB) 을 X 이동체 (92) 에 고정시키고, X 이동체 (92) 를 6 자유도 방향으로 구동 가능한 구성을 채용하는 것으로 해도 된다.
이 계측 테이블 (MTB; 및 X 이동체 (92)) 에는, 각종 계측용 부재가 설치되어 있다. 이 계측용 부재로서는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평5-21314호 및 이것에 대응하는 미국 특허 제5,243,195호 등에 개시되는 복수의 기준 마크가 형성된 기준 마크판이나 투영 광학계 (PL) 를 통하여 조명광 (IL) 을 수광하는 센서 등이 포함되어 있다. 센서로서는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평11-16816호 및 이것에 대응하는 미국 특허 출원 공개 제2002/0061469호 명세서 등에 개시되는 투영 광학계 (PL) 의 이미지면 상에서 조명광 (IL) 을 수광하는 소정 면적의 수광부를 갖는 조도 모니터나, 일본 공개특허공보 소57-117238호 및 이것에 대응하는 미국 특허 제4,465,368호 등에 개시되는 투영 광학계 (PL) 의 이미지면 상에서 조명광 (IL) 을 수광하는 핀홀 형상의 수광부를 갖는 조도 불균일 센서, 일본 공개특허공보 2002-14005호 및 이것에 대응하는 미국 특허 출원 공개 제2002/0041377호 명세서 등에 개시되는 투영 광학계 (PL) 에 의해 투영되는 패턴의 공간 이미지 (투영 이미지) 의 광 강도를 계측하는 공간 이미지 계측기 등을 채용할 수 있다. 본 국제 출원에서 지정한 지정국 (또는 선택한 선택국) 의 국내 법령이 허용하는 한, 상기 각 미국 특허, 각 미국 특허 출원 공개에 있어서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다.
또한, 본 실시형태에서는, 투영 광학계 (PL) 와 물을 통하여 노광광 (조명광; IL) 에 의해 웨이퍼 (W) 를 노광하는 액침 노광이 행해지는 데에 대응하여, 조명광 (IL) 을 사용하는 계측에 사용되는 상기의 조도 모니터, 조도 불균일 센서, 공간 이미지 계측기에서는, 투영 광학계 (PL) 및 물을 통하여 조명광 (IL) 을 수광하게 된다. 또, 각 센서는, 예를 들어, 광학계 등의 일부만이 계측 테이블 (MTB) (및 X 이동체 (92)) 에 탑재되어 있어도 되고, 센서 전체를 계측 테이블 (MTB; 및 X 이동체 (92)) 에 배치하도록 해도 된다.
계측 테이블 (MTB) 의 -Y 측 단부에는, 도 2 및 도 3(A) 에 나타내는 바와 같이, X 축 방향으로 연장되는 탈리 (脫離) 부재 (29) 가 설치되어 있다. 이 탈리 부재 (29) 는, 예를 들어, 테플론 (등록 상표) 수지로 이루어지고, 계측 테이블 (MTB) 에 대하여 도시를 생략한 영구 자석 등을 통하여 고정되어 있고, 도 3(B) 와 같이, Y 축 방향으로부터의 충격 (발수판 (28) 과의 충돌에 의한 힘) 을 받은 경우에, 도 3(C) 에 나타내는 바와 같이, 계측 테이블 (MTB) 로부터의 탈리가 가능하게 되어 있다.
이 계측 테이블 (MTB) 의 +Y 단면, -X 단면도 상기 기술한 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 동일한 반사면 (19a, 19b) 이 형성되어 있다 (도 2 참조). 이들의 반사면에는, 간섭계 시스템 (118; 도 8 참조) 을 구성하는 간섭계 (Y 축 방향에 대해서는 Y 축 간섭계 (18), X 축 방향에 대해서는 X 축 간섭계 (126, 128 또는 130))로부터의 간섭계 빔 (측장 빔) 이 투사되고, 그 반사광을 각 간섭계에서 수광함으로써, 각 반사면의 기준 위치 (일반적으로는 투영 유닛 (PU) 측면이나, 얼라인먼트계 (ALG) 의 측면에 고정 미러를 배치하고, 그곳을 기준면으로 한다) 로부터의 변위가 계측되고, 이로써, 계측 스테이지 (MST) 의 2 차원 위치가 계측되도록 되어 있다. 또한, 도 2 에서는 도시를 생략하였지만, X 축 간섭계로부터의 측장 빔이 닿지 않는 경우에는, 계측 테이블 (MTB) 의 위치가 인코더 (77B; 도 8 참조) 에 의해 계측되도록 되어 있다.
그런데, X 축 고정자 (81) 와 X 축 고정자 (80) 에는, 도 2 및 X 축 고정자 (80, 81) 근방을 사시도로 나타내는 도 4 에 나타내는 바와 같이, 스토퍼 기구 (48A, 48B) 가 설치되어 있다. 일방의 스토퍼 기구 (48A) 는, 일방의 X 축 고정자 (81) 에 설치된 완충기 (47A) 와, 타방의 X 축 고정자 (80) 의 상기 완충기 (47A) 에 대향하는 위치 (+Y 측) 에 설치된 셔터 (49A) 를 포함하고 있다. X 축 고정자 (80) 의 완충기 (47A) 에 대향하는 위치에는, 개구 (51A) 가 형성되어 있다.
상기 완충기 (47A) 는, 오일 댐퍼로 이루어지고, 도 5 에 단면도로 나타나는 바와 같이, 원통 형상 (단면 원형) 의 실린더 (102) 와, 그 실린더 (102) 내부에 설치된 원주 형상의 피스톤 (104c) 과 그 피스톤 (104c) 에 접속된 피스톤 로드 (104a) 와, 그 피스톤 로드 (104a) 의 외주부에 설치되고, 실린더 (102) 의 단면과 피스톤 로드 (104a) 의 헤드부 (104d) 사이에 협지된 압축 스프링 (106) 을 포함하고 있다. 상기 실린더 (102) 내부는, 피스톤 (104c) 에 의해 제 1 실 (108A) 과 제 2 실 (108B) 로 나누어져 있고, 피스톤 (104c) 에 설치된 오리피스 (orifice, 104b) 를 통하여, 각 제 1, 2 실 (108A, 108B) 이 서로 연통하고 있다. 제 1, 2 실 (108A, 108B) 각각의 내부에는, 작동 오일이 주입되어 있다.
상기 셔터 (49A) 는, 도 4 에 나타내는 바와 같이, X 축 고정자 (80) 에 형성된 개구 (51A) 의 -Y 측에 설치되고, 에어 실린더 등을 포함하여 구성되는 구동 기구 (34A) 에 의해 화살표 (A, A') 방향 (Z 축 방향) 으로 구동되도록 되어 있다. 따라서, 셔터 (49A) 에 의해 개구 (51A) 를 열림 상태 또는 닫힘 상태로 하는 것이 가능해지고 있다. 이 셔터 (49A) 의 개폐 상태는, 그 셔터 (49A) 근방에 설치된 개폐 센서 (도 4 에서는 도시 생략, 도 8 참조; 101) 에 의해 검출되고, 그 검출 결과가 주제어 장치 (20) 에 보내지도록 되어 있다.
타방의 스토퍼 기구 (48B) 도, 일방의 스토퍼 기구 (48A) 와 동일한 구성으로 되어 있다. 즉, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 스토퍼 기구 (48B) 는, 일방의 X 축 고정자 (81) 의 -X 단부 근방에 설치된 완충기 (47B) 와, 타방의 X 축 고정자 (80) 의 상기 완충기 (47B) 에 대향하는 위치에 설치된 셔터 (49B) 를 포함하고 있다. 또, X 축 고정자 (80) 의 셔터 (49B) 의 +Y 측 부분에는, 개구 (51B) 가 형성되어 있다.
여기서, 상기 스토퍼 기구 (48A, 48B) 의 작용에 대하여, 일방의 스토퍼 기구 (48A) 근방을 확대하여 나타내는 도 6(A) ∼ 도 6(D) 에 기초하여 설명한다.
도 6(A) 에 나타내는 바와 같이, 셔터 (49A) 가 개구 (51A) 를 폐색 (閉塞) 하는 상태에 있는 경우에는, 도 6(B) 에 나타내는 바와 같이, X 축 고정자 (81) 와 X 축 고정자 (80) 가 접근한 경우에도, 완충기 (47A) 와 셔터 (49A) 가 접촉함으로써, 그 이상, X 축 고정자 (80, 81) 끼리가 접근할 수 없도록 되어 있다. 이 경우, 도 6(B) 에 나타내는 바와 같이, 완충기 (47A) 의 피스톤 (104c) 이 -Y 측으로 가장 많이 이동한 경우 (즉, 완충기 (47A) 가 수축하여, 그 전체 길이가 가장 짧아진 경우) 에도 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 은 접촉하지 않는 구성으로 되어 있다.
한편, 도 6(C) 에 나타내는 바와 같이, 구동 기구 (34A) 를 통하여, 셔터 (49A) 가 하강 구동되면, 개구 (51A) 가 개방된 상태가 되기 때문에, X 축 고정자 (81, 80) 가 서로 접근하면, 도 6(D) 에 나타내는 바와 같이, 완충기 (47A) 의 선단부 중 적어도 일부를 개구 (51A) 내에 침입시킬 수가 있기 때문에, 도 6(B) 에 나타내는 상태보다 X 축 고정자 (81, 80) 끼리를 접근시키는 것이 가능하다. 이러한 X 축 고정자 (81, 80) 끼리가 가장 접근한 상태에서는, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 을 접촉시키는 (또는, 300㎛ 정도의 클리어런스를 통하여 접근시키는) 것이 가능하다.
개구 (51A) 의 안쪽 길이 (깊이) 는, 도 6(D) 에 나타내는 바와 같이, X 축 고정자 (81, 80) 끼리가 가장 접근한 상태에 있어서도 완충기 (47A) 와 개구 (51A) 의 종단부 (바닥에 상당하는 부분) 사이에 갭이 형성되도록 설정해도 되고, 완충기 (47A) 가 종단부에 접하도록 설정해도 된다. 또, X 축 고정자 (81, 80) 가 X 축 방향으로 상대 이동한 경우에도, 완충기 (47A) 와 개구 (51A) 의 벽부가 접촉하지 않도록, 상대 이동의 양에 따라 미리 개구부의 폭을 설정해 두어도 된다.
또한, 타방의 스토퍼 (48B) 도 동일하게 기능한다.
도 2 로 되돌아와, X 축 고정자 (80) 의 +X 단부에는, 간격 검지 센서 (43A) 와 충돌 검지 센서 (43B) 가 설치되고, X 축 고정자 (81) 의 +X 단부에는, Y 축 방향으로 가늘고 긴 판 형상 부재 (41A) 가 +Y 측으로 돌출 설치되어 있다. 또, X 축 고정자 (80) 의 -X 단부에는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 간격 검지 센서 (43C) 와 충돌 검지 센서 (43D) 가 설치되고, X 축 고정자 (81) 의 -X 단부에는, Y 축 방향으로 가늘고 긴 판 형상 부재 (41B) 가 +Y 측으로 돌출 설치되어 있다.
상기 간격 검지 센서 (43A) 는, 예를 들어 투과형 포토 센서 (예를 들어 LED-PTr 의 투과형 포토 센서) 로 이루어지고, 도 4 에 나타내는 바와 같이, U 자형의 고정 부재 (142) 와, 그 고정 부재 (142) 의 대향하는 한 쌍의 면 각각에 설치된 발광부 (144A) 및 수광부 (144B) 를 포함하고 있다. 이 간격 검지 센서 (43A) 에서는, 발광부 (144A) 로부터의 광이 차광됨으로써 변화하는 수광부 (144B) 의 출력을 검출함으로써, 발광부 (144A) 와 수광부 (144B) 사이에 광을 투과하지 않는 물체가 존재하는지의 여부를 검출한다.
즉, 간격 검지 센서 (43A) 에 의하면, 도 4 의 상태로부터, X 축 고정자 (80) 와 X 축 고정자 (81) 가 더욱 접근한 경우에는, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 수광부 (144B) 와 발광부 (144A) 사이에 판 형상 부재 (41A) 가 들어가도록 되어 있다. 이 경우, 판 형상 부재 (41A) 의 하반부가 발광부 (144A) 로부터의 광을 차단하게 되기 때문에, 수광부 (144B) 에 대한 광의 입광이 없어지고, 출력 전류가 작아진다. 따라서, 주제어 장치 (20) 에서는, 그 출력 전류를 검출함으로써, 양 이동체의 간격이 소정 거리 이하가 된 것을 검지할 수 있도록 되어 있다.
상기 충돌 검지 센서 (43B) 는, U 자형의 고정 부재 (143) 와, 그 고정 부재 (143) 의 대향하는 한 쌍의 면 각각에 설치된 발광부 (145A) 및 수광부 (145B) 를 포함하고 있고, 발광부 (145A) 의 광이 차광됨으로써 변화하는 수광부 (145B) 의 출력을 검출함으로써, 발광부 (145A) 와 수광부 (145B) 사이에 광을 투과하지 않는 물체가 존재하는지의 여부를 검출하는 센서이다. 이 경우, 발광부 (145A) 는, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 상기 기술한 간격 검지 센서 (43A) 의 발광부 (144A) 에 대하여, Z 축 방향의 위치 (높이 위치) 가 상이한 위치로 설정되어 있고, 수광부 (145B) 는, 간격 검지 센서 (43A) 의 수광부 (144B) 에 대하여, Z 축 방향의 위치 (높이 위치) 가 상이한 위치로 설정되어 있다.
이 충돌 검지 센서 (43B) 에 의하면, X 축 고정자 (81, 80) 끼리가 더욱 접근하고, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 이 접촉한 단계에서, 발광부 (145A) 와 수광부 (145B) 사이에 판 형상 부재 (41A) 의 상반부가 위치 결정되기 때문에, 발광부 (145A) 로부터의 광이 수광부 (145B) 에 입광되지 않도록 되어 있다.
또한, 도 4 에서는, 판 형상 부재 (41A) 는, 상반부가 하반부보다 길게 (+Y 방향에 의해 돌출한 상태로) 설정되어 있지만, 이것은, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 이 접촉하였을 때에, 판 형상 부재 (41A) 의 상반부가 발광부 (145A) 와 수광부 (145B) 사이에 위치 결정되도록 한 것이다. 따라서, 충돌 검지 센서 (43B) 를 보다 -Y 측으로 설정할 수 있는 경우에는, 간단하게 직사각형 형상의 판 형상 부재를 채용하는 것으로 해도 된다.
또한, X 축 고정자의 -X 단부 근방에 설치된 간격 검지 센서 (43C) 및 충돌 검지 센서 (43D) 도, 상기 기술한 -X 단부 근방에 설치된 간격 검지 센서 (43A) 및 충돌 검지 센서 (43B) 와 동일하게 구성되고, 판 형상 부재 (41B) 도 상기 기술한 판 형상 부재 (41A) 와 동일하게 구성되어 있기 때문에, 그 설명은 생략하는 것으로 한다.
도 1 로 되돌아와, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에서는, 투영 유닛 (PU) 을 유지하는 유지 부재에는, 오프액시스ㆍ얼라이먼트계 (이하, 「얼라이먼트계」 로 약술한다; ALG) 가 설치되어 있다. 이 얼라인먼트계 (ALG) 로서는, 예를 들어, 웨이퍼 상의 레지스트를 감광시키지 않는 브로드 밴드인 검출 광속을 대상 마크에 조사하고, 그 대상 마크로부터의 반사광에 의해 수광면에 결상된 대상 마크의 이미지와 도시를 생략한 지표 (얼라인먼트계 (ALG) 내에 설치된 지표판 상의 지표 패턴) 의 이미지를 촬상 소자 (CCD 등) 를 사용하여 촬상하고, 그들의 촬상 신호를 출력하는 화상 처리 방식의 FIA (Field Image Alig㎚ent) 계의 센서가 사용되고 있다. 얼라인먼트계 (ALG) 로부터의 촬상 신호는, 도 8 의 주제어 장치 (20) 에 공급되도록 되어 있다.
또한, 얼라인먼트계 (ALG) 로서는, FIA 계에 한정되지 않고, 코히어런트한 검출광을 대상 마크에 조사하고, 그 대상 마크로부터 발생되는 산란광 또는 회절광을 검출하거나, 또는 그 대상 마크로부터 발생되는 2 개의 회절광 (예를 들어 동일 차수의 회절광, 또는 동일 방향으로 회절하는 회절광) 을 간섭시켜서 검출하는 얼라인먼트 센서를 단독으로 또는 적절하게 조합하여 사용하는 것은 물론 가능하다.
본 실시형태의 노광 장치 (100) 에서는, 도 1 에서는 도시가 생략되어 있지만, 조사계 (90a) 및 수광계 (90b; 도 8 참조) 로 이루어지는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평6-283403호 및 이것에 대응하는 미국 특허 제5,448,332호 등에 개시되는 것과 동일한 사입사 (斜入射) 방식의 다점 초점 위치 검출계가 설치되어 있다. 본 실시형태에서는, 일례로서 조사계 (90a) 가 투영 유닛 (PU) 의 -X 측에서 투영 유닛 (PU) 을 유지하는 유지 부재에 매달려 지지되고, 수광계 (90b) 가 투영 유닛 (PU) 의 ＋X 측에서 유지 부재의 하방에 매달려 지지되어 있다. 즉, 조사계 (90a) 및 수광계 (90b) 와, 투영 광학계 (PL) 가 동일한 부재에 장착되어 있고, 양자의 위치 관계가 일정하게 유지되어 있다. 본 국제 출원에서 지정한 지정국 (또는 선택한 선택국) 의 국내 법령이 허용하는 한, 상기 미국 특허에 있어서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다.
도 8 에는, 노광 장치 (100) 의 제어계의 주요한 구성이 나타나 있다. 이 제어계는, 장치 전체를 통괄적으로 제어하는 마이크로 컴퓨터 (또는 워크 스테이션) 로 이루어지는 주제어 장치 (20) 를 중심으로 하여 구성되어 있다.
다음으로, 상기 기술한 바와 같이 하여 구성된 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에 있어서의, 웨이퍼 스테이지 (WST) 와 계측 스테이지 (MST) 를 사용한 병렬 처리 동작에 관하여, 도 2, 도 7, 도 9 등에 기초하여 설명한다. 또한, 이하의 동작 중, 주제어 장치 (20) 에 의해, 액침 장치 (32) 의 액체 공급 장치 (5) 및 액체 회수 장치 (6) 의 각 밸브의 개폐 제어가 상기 기술한 바와 같이 행해지고, 투영 광학계 (PL) 의 선옥 (191) 의 바로 아래에는 항상 물이 채워져 있다. 그러나, 이하에서는, 설명을 알기 쉽게 하기 위하여, 액체 공급 장치 (5) 및 액체 회수 장치 (6) 의 제어에 관한 설명은 생략한다.
도 2 에는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 상의 웨이퍼 (W; 여기에서는, 일례로서 어느 로트 (1 로트는 25 매 또는 50 매) 의 마지막 웨이퍼로 한다) 에 대한 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식의 노광이 행해지고 있는 상태가 나타나 있다. 이때, 계측 스테이지 (MST) 는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 와 충돌하지 않는 소정의 대기 위치에서 대기하고 있다. 또, 이 경우에는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 와 계측 스테이지 (MST) 가 소정 거리보다 접근하는 것을 방지하기 위하여, 셔터 (49A, 49B) 가 개구 (51A, 51B) 를 폐색한 상태로 설정되어 있다.
상기의 노광 동작은, 주제어 장치 (20) 에 의해, 사전에 행해진, 예를 들어, EGA (Enhanced Global alignment) 등의 웨이퍼 얼라인먼트의 결과 및 최신의 얼라인먼트계 (ALG) 의 베이스 라인의 계측 결과 등에 기초하여, 웨이퍼 (W) 상의 각 쇼트 영역의 노광을 위한 주사 개시 위치 (가속 개시 위치) 로 웨이퍼 스테이지 (WST) 가 이동되는 쇼트간 이동 동작과, 각 쇼트 영역에 대한 레티클 (R) 에 형성된 패턴을 주사 노광 방식으로 전사하는 주사 노광 동작을 반복함으로써 행해진다. 또한, 상기의 노광 동작은, 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이에 물을 유지한 상태로 행해진다.
그리고, 웨이퍼 스테이지 (WST) 측에서, 웨이퍼 (W) 에 대한 노광이 종료된 단계에서, 주제어 장치 (20) 는, 구동 기구 (34A, 34B) 를 통하여 셔터 (49A, 49B) 를 하강 구동하고, 개구 (51A, 51B) 를 열림 상태로 설정한다. 주제어 장치 (20) 는, 개폐 센서 (101) 를 통하여, 셔터 (49A, 49B) 가 모두 열림 상태가 된 것을 확인한 후에, 간섭계 시스템 (118) 의 계측값, 및 인코더 (77B) 의 계측값에 기초하여 스테이지 구동계 (124) 를 제어하고, 계측 스테이지 (MST; 계측 테이블 (MTB)) 를 도 7 에 나타내는 위치까지 이동시킨다. 이때, 계측 테이블 (MTB) 의 -Y 측면과 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 +Y 측면과는 접촉하고 있다. 또한, 간섭계 시스템 (118) 중, 각 테이블의 Y 축 방향 위치를 계측하는 간섭계의 계측값을 모니터하여 계측 테이블 (MTB) 과 웨이퍼 테이블 (WTB) 을 Y 축 방향으로 300㎛ 정도 이간시켜서, 비접촉의 상태를 유지해도 된다.
이어서, 주제어 장치 (20) 는, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 의 Y 축 방향의 위치 관계를 유지하면서, 양 스테이지 (WST, MST) 를 -Y 방향으로 동시에 구동하는 동작을 개시한다.
이와 같이 하여, 주제어 장치 (20) 에 의해, 웨이퍼 스테이지 (WST), 계측 스테이지 (MST) 가 동시에 구동되면, 투영 유닛 (PU) 의 선옥 (191) 과 웨이퍼 (W) 사이에 유지되어 있던 물이, 웨이퍼 스테이지 (WST) 및 계측 스테이지 (MST) 의 -Y 측으로의 이동에 수반하여, 웨이퍼 (W) → 발수판 (28) → 계측 테이블 (MTB) 상을 순차 이동한다. 또한, 상기의 이동 중, 웨이퍼 테이블 (WTB), 계측 테이블 (MTB) 은 서로 접촉하는 위치 관계를 유지하고 있다.
상기 상태로부터, 추가로 웨이퍼 스테이지 (WST), 계측 스테이지 (MST) 가 -Y 방향으로 동시에 소정 거리 구동되면, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 계측 스테이지 (MST) 와 선옥 (191) 사이에 물이 유지된 상태가 된다.
이어서, 주제어 장치 (20) 는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 위치를 간섭계 시스템 (118), 인코더 (77A) 의 계측값에 기초하여 관리하면서, 스테이지 구동계 (124) 를 제어하여, 소정의 웨이퍼 교환 위치에 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 이동시킴과 함께 다음 로트의 최초의 웨이퍼로의 교환을 행하고, 이것과 병행하여, 계측 스테이지 (MST) 를 사용한 소정의 계측을 필요에 따라 실행한다. 이 계측으로서는, 예를 들어 얼라인먼트계 (ALG) 의 베이스 라인 계측을 일례로서 들고 있다.
구체적으로는, 주제어 장치 (20) 에서는, 계측 테이블 (MTB) 상에 설치된 기준 마크 영역 내의 한 쌍의 제 1 기준 마크와 대응하는 레티클 상의 레티클 얼라인먼트 마크를 상기 기술한 레티클 얼라인먼트계 (RAa, RAb) 를 사용하여 동시에 검출하여 한 쌍의 제 1 기준 마크와 대응하는 레티클 얼라인먼트 마크의 위치 관계를 검출한다. 이것과 동시에, 주제어 장치 (20) 에서는, 상기 기준 마크 영역 내의 제 2 기준 마크를 얼라인먼트계 (ALG) 에 의해 검출함으로써, 얼라인먼트계 (ALG) 의 검출 중심과 제 2 기준 마크의 위치 관계를 검출한다. 그리고, 주제어 장치 (20) 는, 상기 한 쌍의 제 1 기준 마크와 대응하는 레티클 얼라인먼트 마크의 위치 관계와 얼라인먼트계 (ALG) 의 검출 중심과 제 2 기준 마크의 위치 관계와, 이미 알려진 한 쌍의 제 1 기준 마크와 제 2 기준 마크의 위치 관계에 기초하여, 투영 광학계 (PL) 에 의한 레티클 패턴의 투영 중심과 얼라인먼트계 (ALG) 의 검출 중심과의 거리, 즉, 얼라인먼트계 (ALG) 의 베이스 라인을 구한다.
또한, 상기의 얼라인먼트계 (ALG) 의 베이스 라인의 계측과 함께, 레티클 상에 레티클 얼라인먼트 마크를 복수 쌍 형성하고, 이것에 대응하여 기준 마크 영역 내에 복수 쌍의 제 1 기준 마크를 형성해 두고, 적어도 2 쌍의 제 1 기준 마크와 대응하는 레티클 얼라인먼트 마크의 상대 위치를, 레티클 스테이지 (RST), 계측 스테이지 (MST) 를 Y 축 방향으로 단계 이동하면서, 레티클 얼라인먼트계 (RAa, RAb) 를 사용하여 계측함으로써, 이른바 레티클 얼라인먼트를 행할 수도 있다.
이 경우, 레티클 얼라인먼트계 (RAa, RAb) 를 사용한 마크의 검출은, 투영 광학계 (PL) 및 물을 통하여 행해진다.
그리고, 상기 기술한 양 스테이지 (WST, MST) 상에 있어서의 작업이 종료된 단계에서, 주제어 장치 (20) 는, 계측 스테이지 (MST) 와 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 접촉시키고, 그 상태를 유지하면서 XY 면 내에서 구동하고, 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 투영 유닛 바로 아래로 되돌린다. 또한, 상기 기술한 바와 같이, 계측 스테이지 (MST) 와 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 비접촉 상태로 해도 된다.
주제어 장치 (20) 에서는, 조금 전과는 반대로 웨이퍼 스테이지 (WST) 와 계측 스테이지 (MST) 의 Y 축 방향의 위치 관계를 유지하면서, 양 스테이지 (WST, MST) 를 +Y 방향으로 동시에 구동하고, 웨이퍼 스테이지 (WST; 웨이퍼) 를 투영 광학계 (PL) 의 하방으로 이동시킨 후, 계측 스테이지 (MST) 를 소정의 위치로 퇴피 (退避) 시킨다. 이 단계에서, 주제어 장치 (20) 는, 셔터 (49A, 49B) 를 구동 기구 (34A, 34B) 를 통하여 상승 구동함으로써, 개구 (51A, 51B) 를 폐색한 상태로 설정한다.
그 후, 주제어 장치 (20) 에서는, 새로운 웨이퍼에 대하여 웨이퍼 얼라인먼트, 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식의 노광 동작을 실행하고, 웨이퍼 상의 복수의 쇼트 영역에 레티클 패턴을 순차 전사한다. 이후, 동일한 동작을 반복하여 실시한다.
또한, 상기의 설명에서는, 계측 동작으로서 베이스 라인 계측을 행하는 경우에 대하여 설명하였지만, 이것에 한정하지 않고, 웨이퍼 스테이지 (WST) 측에서 각 웨이퍼를 교환하고 있는 동안에, 계측 스테이지 (MST) 의 계측기군을 사용하여, 조도 계측, 조도 불균일 계측, 공간 이미지 계측, 파면 수차 계측 등 중 적어도 하나를 행하고, 그 계측 결과를 그 후에 행해지는 웨이퍼의 노광에 반영시키는 것으로 해도 된다. 구체적으로는, 예를 들어, 계측 결과에 기초하여 도시를 생략한 결상 특성 보정 컨트롤러에 의해 투영 광학계 (PL) 를 조정하는 것으로 할 수 있다. 또, 상기 기술한 공간 이미지 계측기, 조도 불균일 계측기, 조도 모니터 및 파면 수차 계측기는, 반드시 그 모두가 구비되어 있을 필요는 없고, 필요에 따라 일부만을 탑재하는 것만이어도 된다.
또, 상기의 설명에서는, 새로운 웨이퍼에 대한 웨이퍼 얼라인먼트를, 계측 스테이지 (MST) 를 퇴피시킨 후에 행하고 있지만, 새로운 웨이퍼에 대한 웨이퍼 얼라인먼트의 적어도 일부를, 양 스테이지 (WST, MST) 를 접촉시키기 전에, 및/또는 양 스테이지 (WST, MST) 를 접촉시킨 상태에서 행해도 된다.
여기서, 상기 기술한 각종 동작이 행해지고 있는 동안에는, 간섭계 시스템 (118) 에 의해 웨이퍼 테이블 (WTB; 웨이퍼 스테이지 (WST)) 의 위치 및 속도, 계측 테이블 (MTB; 계측 스테이지 (MST)) 의 위치 및 속도가 계측되고 있다. 주제어 장치 (20) 에서는, 양 스테이지의 각 시간마다의 상대 속도를 산출하고, 산출된 상대 속도가 미리 정해져 있는 값 (임계값) 을 초과한 경우에는, 양 스테이지의 속도를 억제하는 제어를 행하는 것으로 하고, 이로써, 양 스테이지의 폭주, 충돌을 방지하는 것으로 하고 있다.
*이상 상세하게 설명한 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 에 의하면, 스토퍼 기구 (48A, 48B) 에 의해, 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) 끼리가 소정 거리보다 접근하는 것이 저지되어 있을 뿐만 아니라, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 이 소정 거리보다 접근하는 것이 저지되어 있다. 또, 셔터 (49A, 49B) 가 구동 기구 (34A, 34B) 에 의해 퇴피됨으로써, 이 스토퍼 기구 (48A, 48B) 에 의한 저지가 해제되고, 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) 를 소정 거리보다 접근시킬 수 있어, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 을 소정 거리보다 접근시킬 수 있다.
특히, 본 실시형태의 노광 장치 (100) 와 같이, 액침형의 노광 장치를 채용하는 경우에 있어서는, 투영 광학계 (PL) 의 바로 아래에 웨이퍼 테이블 (WTB) (또는 계측 테이블 (MTB)) 이 위치하는 상태로부터, 투영 광학계 (PL) 의 바로 아래에 계측 테이블 (MTB) (또는 웨이퍼 테이블 (WTB)) 이 위치하는 상태로 전이시킬 때에, 완충기 (49A, 49B) 에 의한 저지를 해제한다. 그 때문에, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 을 접근시킨 상태에서 투영 광학계 바로 아래를 이동시킬 수 있기 때문에, 이하의 (1) ∼ (3) 의 일련의 동작을 행할 필요가 없다. 즉, (1) 발수판 (28) (또는 계측 테이블 (MTB)) 상에 존재하는 물을 회수하고, (2) 투영 광학계 바로 아래에 계측 테이블 (MTB) (또는 웨이퍼 테이블 (WTB)) 을 이동하고, (3) 물을 재공급하는 일련의 동작이 불필요해진다. 따라서, 노광 정밀도가 높게 유지됨과 함께, 2 개의 스테이지의 이동의 고속화, 나아가서는 높은 스루풋화를 실현할 수 있게 된다.
또, 주제어 장치 (20) 는, 2 개의 X 축 고정자의 상대 속도 (웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 의 상대 속도) 가 소정값 이상이 되었을 때에, 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) (웨이퍼 스테이지 (WST) 및 계측 스테이지 (MST)) 중 적어도 일방의 속도를 제한한다. 그 때문에, 2 개의 X 축 고정자 (웨이퍼 스테이지 (WST) 및 계측 스테이지 (MST)) 의 폭주를 사전에 막아, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 의 충돌의 가능성을 저감시킬 수 있고, 결과적으로 웨이퍼 스테이지 (WST), 계측 스테이지 (MST) 의 손상의 회피, 및 각 스테이지의 구동 성능의 유지, 및 노광 정밀도의 유지를 도모할 수 있다.
또, 스토퍼 기구로서 Y 축 방향으로부터의 충격을 완화시키는 완충기가 채용되어 있기 때문에, 이동체간의 접근을 저지하는 경우에 있어서도, 타방의 이동체로부터의 충격이 일방의 이동체에 영향을 주는 것을 완화시킬 수 있기 때문에, 각 이동체의 손상 등을 최대한 억제할 수 있게 된다.
또, 본 실시형태에서는, 셔터가 열림 상태 및 닫힘 상태에 있는 경우 중 적어도 일방을 검출하는 개폐 센서 (101) 를 포함하고 있기 때문에, 이 개폐 센서 (101) 의 검출 결과에 기초하여, 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) 를 이동시킴으로써, X 축 고정자 (80, 81) 를 접근시키거나 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 을 접근 또는 접촉시키고자 할 때에 완충기 (47A, 47B) 와 셔터 (49A, 49B) 가 기계적으로 간섭하는 것을 회피할 수 있다.
*또, 본 실시형태에서는, 스토퍼 기구 (48A, 48B) 를 구비할 뿐만 아니라, 간격 검지 센서 (43A, 43C) 를 구비하고, 그 센서를 사용하여 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) 끼리가 소정 거리보다 가까워졌는지의 여부를 검출하기 때문에, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 의 접근 정도를 검출할 수 있고, 만일 웨이퍼 스테이지 (WST) 와 계측 스테이지 (MST) 가 폭주한 경우 등이라도 그 충돌의 가능성을 보다 저감시킬 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) 의 충돌을 검출하는 충돌 검지 센서 (43B, 43D) 를 포함하고 있기 때문에, 이 센서 (43B, 43D) 에 의한 검출 결과에 기초하여 2 개의 X 축 고정자 (80, 81) 의 구동 제어를 행함으로써, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 의 충돌에 의한 각 테이블 등에 대한 영향을 최대한 저감시킬 수 있다. 또, 이 센서 (43B, 43D) 에 의해 충돌이 검출됨으로써, 메인터넌스 개시 등의 판단을 신속하고 용이하게 실시할 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 계측 테이블 (MTB) 의 -Y 측 단부에, 탈리 부재 (29) 가 배치되어 있기 때문에, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 이 충돌해도, 탈리 부재 (29) 가 최초로 탈리됨으로써 테이블 자체의 손상을 최대한 작게 할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 계측 테이블 (MTB) 측에 탈리 부재 (29) 를 배치하는 것으로 하였지만, 이것에 한정하지 않고, 탈리 부재 (29) 는, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 +Y 단부에 형성하는 것으로 해도 된다.
또한, 상기 실시형태에서는, X 축 고정자 (80, 81) 에 스토퍼 기구를 형성하는 경우에 대하여 설명하였지만, 이것에 한정하지 않고, 예를 들어, 웨이퍼 테이블 (WTB) (또는) 및 계측 테이블 (MTB) 에 스토퍼 기구를 형성하는 것으로 해도 된다.
또한, 상기 실시형태에서는, X 축 고정자 (80, 81) 끼리의 접근, 및 웨이퍼 테이블 (WTB: 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 의 접근을 저지하고 있지만, 다른 두 물체의 접근을 저지하도록 해도 되는 것은 말할 필요도 없다.
또, 상기 실시형태에서는, X 축 고정자 (80, 81) 에 스토퍼 기구를 설치하고 있지만, 어느 일방에 스토퍼 기구를 형성하는 구성이어도 된다.
또, 상기 실시형태에서는, X 축 고정자 (80, 81) 에 스토퍼 기구를 설치하고, X 축 고정자 (80, 81) 끼리의 접근, 및 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 의 접촉을 저지하도록 하고 있지만, 이것에 한정하지 않고, 다른 두 물체 중 적어도 일방에 스토퍼 기구를 설치할 수 있다. 예를 들어, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 중 적어도 일방에 스토퍼 기구를 설치하고, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 의 접근을 저지하도록 해도 된다. 또, 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB) 중 적어도 일방에 스토퍼 기구를 설치하고, X 축 고정자 (80, 81) 끼리의 접근이나 다른 두 물체의 접근을 저지할 수도 있다.
또, 상기 기술한 설명에서는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 에서 웨이퍼 교환을 행하는 전후에 스토퍼 기구 (48A, 48B) 의 저지 기능이 해제되도록 되어 있지만, 이것에 한정하지 않고, 필요에 따라 스토퍼 기구 (48A, 48B) 의 저지 기능을 해제할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
또한, 상기 실시형태에서는, 스테이지 장치 (50) 가 웨이퍼 스테이지 (WST) 와 계측 스테이지 (MST) 를 구비하는 경우에 대하여 설명하였지만, 이것에 한정하지 않고, 2 개의 스테이지가 모두 웨이퍼 스테이지여도 된다. 이 경우, 일방의 스테이지 상에서 노광 동작이 행해지고 있는 동안에 타방의 스테이지에서 웨이퍼 교환 및 얼라인먼트 등의 계측을 행할 수 있기 때문에, 스루풋의 향상을 기대할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 스토퍼 기구로서 완충기를 채용하는 것으로 하였지만, 이것에 한정하지 않고, 완충기 이외 (예를 들어, 에어 댐퍼 등) 여도 되고, Y 축 방향으로부터의 충격을 완화시키는 것이 가능하면 각종 완충 장치를 채용할 수가 있다. 또, 스토퍼 기구로서는, 완충 장치에 한정하지 않고, 완충 작용을 갖지 않는 스토퍼 기구를 채용하는 것으로 해도 된다.
또한, 상기 실시형태에서는, 완충기를 X 축 고정자 (81) 측에 설치하고, X 축 고정자 (80) 에, 그 X 축 고정자 (80) 에 형성된 개구를 개폐하는 셔터를 형성하는 것으로 하였지만, 이것에 한정하지 않고, X 축 고정자 (80) 측에 완충기를 구비하고, X 축 고정자 (81) 에 개구를 형성함과 함께 셔터를 형성하는 것으로 해도 된다.
또, 상기 실시형태에서는 셔터가 Z 축 방향으로 구동되는 것으로 하였지만, 이것에 한정하지 않고, 셔터가 X 축 방향으로 이동하는 구성을 채용해도 되고, 개구보다 한층 작은 덮개 형상의 부재가 개구 내부에서 Y 축 방향으로 이동 가능한 구성을 채용해도 된다.
또한, 상기 실시형태에서는, X 축 고정자 (80) 에 개구를 형성하는 것으로 하였지만, 이것에 한정되는 것이 아니고, 도 10(A) 에 나타내는 바와 같이, 개구를 형성하지 않고, 셔터 (49A) 를 두께를 갖는 부재에 의해 구성하고, 셔터 (49A) 를 상하 구동하는 구동 기구 (34A) 를 통하여, 셔터 (49A) 를 도 10(A) 상태로부터 도 10(B) 상태로 변경함으로써, 완충기 (47A) 에 의한 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 의 접촉의 저지, 및 그 저지의 해제를 행하는 것으로 해도 된다.
또한, 상기 실시형태에서는, X 축 고정자 (81) 의 일방에 고정된 완충기와 셔터의 조합을 채용하는 것으로 하였지만, 본 발명이 이것에 한정되는 것은 아니고, 도 11(A) 에 나타내는 바와 같이, 완충기가 Y 축 방향으로 이동 가능한 구성을 채용해도 된다. 도 11(A) 의 구성에 의하면, 완충기 (47A) 는, X 축 고정자 (81) 상에 설치된 가이드 (45) 를 따라, 에어 실린더로 이루어지는 구동 기구 (34') 에 의해, Y 축 방향으로 구동되도록 되어 있다. 또, X 축 고정자 (80) 의 완충기 (47A) 에 대향하는 위치에는, 판부재 (49') 가 설치되어 있다.
이 경우, 도 11(A) 에 나타내는 바와 같이, 완충기 (47A) 가 +Y 측에 배치되고, 완충기 (47A) 가 X 축 고정자 (81) 보다 +Y 측으로 돌출된 상태에서는, 도 11(B) 에 나타내는 바와 같이, 양 X 축 고정자 (81, 80) 가 접근하려고 해도, 완충기 (47A) 와 판부재 (49) 가 접촉함으로써, X 축 고정자 (80, 81) 가 소정 거리 이상 접근할 수 없도록 되어 있다. 즉, X 축 고정자 (80, 81) 중 적어도 일방이 만일 폭주한 경우여도, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 의 접촉을 저지할 수 있게 되어 있다.
한편, 도 11(C) 에 나타내는 바와 같이, 완충기 (47A) 가 구동 기구 (34') 에 의해 -Y 측에 이동된 경우에는, 도 11(D) 에 나타내는 같이 완충기 (47A) 와 판부재 (49) 가 접촉하지 않기 때문에, 양 X 축 고정자 (81, 80) 끼리를 가장 접근시키는 (즉, 웨이퍼 테이블 (WTB; 발수판 (28)) 과 계측 테이블 (MTB) 을 접촉 또는 가장 접근시킨다) 것이 가능해지고 있다.
또한, 상기 변형예에 있어서는, 완충기 (47A) 의 위치가 도 11(A) 의 위치에 있는지, 도 11(C) 상태에 있는지의 적어도 일방을 검지하는 센서를 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 변형예 (도 11(A) ∼ 도 11(D)) 에서는, X 축 고정자 (80) 에 설치된 판부재 (49) 는 설치하지 않는 것으로 해도 된다. 또, 완충기 (47A) 및 구동 기구 (34') 를 X 축 고정자 (80) 측에 형성하는 것으로 해도 된다.
또한, 상기 실시형태에 있어서의 셔터 (49A) 를 구동하는 구동 기구 (34A, 34B) 및 상기 변형예에 있어서의 완충기 (47A) 를 구동하는 구동 기구 (34') 로서 에어 실린더를 채용하는 것으로 하였지만, 이것에 한정되는 것이 아니고, 볼 나사 방식의 구동 기구나, 보이스 코일 모터, 리니어 모터 등 여러 가지의 구동 기구를 채용할 수 있다.
또, 상기 기술한 실시형태에서는, 웨이퍼 테이블 (WTB) 및 계측 테이블 (MTB) 의 위치 정보를 얻기 위하여 간섭계 시스템을 사용하고 있지만, 그 대신에, 인코더 등의 다른 측장 시스템을 사용해도 된다.
또, 상기 실시형태에서는, 간격 검지 센서 및 충돌 검지 센서로서 투과형 포토 센서를 채용한 경우에 대하여 설명하였지만, 본 발명이 이것에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어, 포토 센서를 채용하는 경우에는, 반사형 포토 센서나 분리형 포토 센서 등을 사용하는 것으로 해도 된다. 또, 포토 센서에 한정하지 않고, 라인 센서나 정전 용량 센서 등 여러 가지의 센서를 사용하는 것도 가능하다. 또, 제 3, 제 4 검출 장치로서, 2 개의 이동체 간의 거리를 직접 계측하는 계측 장치를 사용할 수도 있다.
또, 상기 기술한 실시형태에 있어서, 스토퍼 기구 (48A; 48B) 의 셔터 (49A; 49B) 가 닫힘 상태로 되어 있는 경우, Y 축 방향에 대하여 X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 와 계측 테이블 (MTB)) 가 소정 거리보다 접근하는 것이 저지되어 있지만, 완충기 (47A; 47B) 의 헤드부 (104d) 와 셔터 (49A; 49B) 가 접촉해도, X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 와 계측 테이블 (MTB)) 각각은, X 축 방향, 및 Z 축 방향으로 상대 이동할 수 있다. 예를 들어, X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB)) 각각이 X 축 방향으로 이동 중에, 도 12(A) 에 나타내는 바와 같이, 완충기 (47A) 의 헤드부 (104d) 와 셔터 (49A) 가 접촉해도, X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB)) 끼리의 Y 축 방향의 접근을 제한하면서, X 축 방향으로 이동할 수 있다. 여기서, 헤드부 (104d) 와 셔터 (49A) 사이의 마찰에 의한 영향을 회피하기 위하여, 헤드부 (104d) 와 셔터 (49A) 의 각 표면을 테플론 (등록 상표) 으로 코팅하는 등, 미끄러지기 쉽게 하기 위한 표면 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 이로써, 도 12(B) 에 나타내는 바와 같이, 헤드부 (104d) 와 셔터 (49A) 가 접촉한 채로, 셔터 (49A) 와 헤드부 (104d) 가 서로 표면을 미끄러지듯이 이동할 수 있다. 이와 같이, 셔터 (49A) 와 헤드부 (104d) 가 접촉해도 X 축 방향의 이동이 허용되어 있기 때문에, 헤드부 (104d) 와 셔터 (49A) 의 접촉의 영향을 받지 않고, X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB)) 를 X 축 방향으로 상대 이동할 수 있다. 또한, 상기 표면 처리 대신, 헤드부 (104d) 의 셔터 (49A) 와의 접촉부를 회전 가능한 구 형상으로 해도 된다. 또한, 도 12(A), 도 12(B) 에서는, X 축 고정자 (80, 81; 웨이퍼 테이블 (WTB) 과 계측 테이블 (MTB)) 가 X 축 방향으로 상대 이동하고 있는 동안의 도면이 나타나 있지만, Z 축 방향에 관해서도 동일하다.
또한, 상기 실시형태에서는, 노광 장치가 액침형 노광 장치인 경우에 대하여 설명하였지만, 이것에 한정되는 것이 아니고, 액체 (물) 를 통하지 않고 웨이퍼 (W) 의 노광을 행하는 드라이 타입의 노광 장치에도 채용할 수 있다. 이 경우, 노광 동작, 얼라인먼트 동작 등의 병행 동작시에, 만일 2 개의 스테이지가 폭주한 경우라도, 양 스테이지끼리의 충돌을 방지할 수 있음과 함께, 2 개의 스테이지를 접근시킬 필요가 있는 경우에도, 스토퍼 기구의 저지를 해제함으로써, 스토퍼 기구의 방해없이 2 개의 스테이지를 접근시킬 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 액체로서 초순수 (물) 를 사용하는 것으로 하였지만, 본 발명이 이것에 한정되지 않는 것은 물론이다. 액체로서는, 화학적으로 안정적이고, 조명광 (IL) 의 투과율이 높고 안전한 액체, 예를 들어 불소계 불활성 액체를 사용해도 된다. 이 불소계 불활성 액체로서는, 예를 들어 플루오리네이트 (미국 쓰리엠사의 상품명) 를 사용할 수 있다. 이 불소계 비활성 액체는 냉각 효과면에서도 우수하다. 또, 액체로서 조명광 (IL) 에 대한 투과성이 있어, 가능한 한 굴절률이 높고, 또, 투영 광학계나 웨이퍼 표면에 도포되어 있는 포토레지스트에 대하여 안정적인 것 (예를 들어, 시더유 (cedar oil) 등) 을 사용할 수도 있다. 또, F2 레이저를 광원으로 하는 경우에는, 폼블린 (fomblin) 오일을 선택하면 된다.
또, 상기 실시형태에서, 회수된 액체를 재사용하도록 해도 되고, 이 경우에는 회수된 액체로부터 불순물을 제거하는 필터를 액체 회수 장치, 또는 회수관 등에 설치해 두는 것이 바람직하다.
또, 상기 실시형태에서는, 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식 등의 주사 형태 노광 장치에 본 발명이 적용된 경우에 관하여 설명하였지만, 본 발명의 적용 범위가 이것에 한정되지 않는 것은 물론이다. 즉, 스텝ㆍ앤드ㆍ리피트 방식의 투영 노광 장치, 또한 스텝ㆍ앤드ㆍ스티치 방식의 노광 장치, 또는 프록시미티 방식의 노광 장치 등에도, 본 발명은 적용할 수 있다.
노광 장치의 용도로서는 반도체 제조용의 노광 장치에 한정되지 않고, 예를 들어, 사각형의 유리 플레이트에 액정 표시 소자 패턴을 전사하는 액정용의 노광 장치나, 유기 EL, 박막 자기 헤드, 촬상 소자 (CCD 등), 마이크로 머신 및 DNA 칩 등을 제조하기 위한 노광 장치에도 널리 적용할 수 있다. 또, 반도체 소자 등의 마이크로 디바이스뿐만 아니라, 광노광 장치, EUV 노광 장치, X 선 노광 장치, 및 전자선 노광 장치 등에서 사용되는 레티클 또는 마스크를 제조하기 위하여, 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼 등에 회로 패턴을 전사하는 노광 장치에도 본 발명을 적용할 수 있다.
또한, 상기 실시형태의 노광 장치의 광원은, ArF 엑시머 레이저에 한정되지 않고, KrF 엑시머 레이저 (출력 파장 248㎚), F2 레이저 (출력 파장 157㎚), Ar2 레이저 (출력 파장 126㎚), Kr2 레이저 (출력 파장 146㎚) 등의 펄스 레이저 광원이나, g 선 (파장 436㎚), i 선 (파장 365㎚) 등의 휘선을 발하는 초고압 수은 램프 등을 사용하는 것도 가능하다. 또, YAG 레이저의 고조파 발생 장치 등을 사용할 수도 있다. 이 밖에, DFB 반도체 레이저 또는 화이버 레이저로부터 발진되는 적외역, 또는 가시역의 단일 파장 레이저광을, 예를 들어 에르븀 (또는 에르븀과 이테르븀 모두) 이 도핑된 화이버 앰프에 의해 증폭되고, 비선형 광학 결정을 사용하여 자외광으로 파장 변환한 고조파를 사용해도 된다. 또, 투영 광학계는 축소계뿐만 아니라 등배계 및 확대계 중 어느 것이어도 된다.
또, 상기 실시형태에서는, 노광 장치의 조명광 (IL) 으로서는 파장 100㎚ 이상의 광에 한정하지 않고, 파장 100nm 미만의 광을 사용해도 되는 것은 말할 필요도 없다. 예를 들어, 최근, 70㎚ 이하의 패턴을 노광하기 위해서, SOR 이나 플라즈마 레이저를 광원으로 하여, 연(軟) X 선 영역 (예를 들어 5 ∼ 15㎚ 의 파장역) 의 EUV (Extreme Ultraviolet) 광을 발생시킴과 함께, 그 노광 파장 (예를 들어 13.5㎚) 아래에서 설계된 전반사 축소 광학계, 및 반사형 마스크를 사용한 EUV 노광 장치가 개발되고 있다. 이 장치에 있어서는, 원호 조명을 사용하여 마스크와 웨이퍼를 동기 주사하여 스캔 노광하는 구성을 생각할 수 있다.
《디바이스 제조 방법》
다음으로, 상기 기술한 노광 장치를 리소그래피 공정에서 사용하는 디바이스의 제조 방법의 실시형태에 대하여 설명한다.
도 13 에는, 디바이스 (IC 나 LSI 등의 반도체 칩, 액정 패널, CCD, 박막 자기 헤드, 마이크로 머신 등) 의 제조예의 플로우 차트가 나타나 있다. 도 13 에 나타내는 바와 같이, 먼저, 단계 201 (설계 단계) 에 있어서, 디바이스의 기능ㆍ성능 설계 (예를 들어, 반도체 디바이스의 회로 설계 등) 을 행하고, 그 기능을 실현하기 위한 패턴 설계를 행한다. 이어서, 단계 202 (마스크 제작 단계) 에 있어서, 설계한 회로 패턴을 형성한 마스크를 제작한다. 한편, 단계 203 (웨이퍼 제조 단계) 에 있어서, 실리콘 등의 재료를 사용하여 웨이퍼를 제조한다.
다음으로, 단계 204 (웨이퍼 처리 단계) 에 있어서, 단계 201 ∼ 단계 203 에서 준비한 마스크와 웨이퍼를 사용하여, 후술하는 바와 같이, 리소그래피 기술 등에 의해 웨이퍼 상에 실제의 회로 등을 형성한다. 이어서, 단계 205 (디바이스 조립 단계) 에 있어서, 단계 204 에서 처리된 웨이퍼를 사용하여 디바이스 조립을 행한다. 이 단계 205 에는, 다이싱 공정, 본딩 공정, 팩키지 공정 (칩 봉입) 등의 공정이 필요에 따라 포함된다.
마지막으로, 단계 206 (검사 단계) 에 있어서, 단계 205 에서 작성된 디바이스의 동작 확인 테스트, 내구 테스트 등의 검사를 행한다. 이러한 공정을 거친 후에 디바이스가 완성되고, 이것이 출하된다.
도 14 에는, 반도체 디바이스에 있어서의, 상기 단계 204 의 상세한 플로우 예가 나타나 있다. 도 14 에 있어서, 단계 211 (산화 단계) 에 있어서는 웨이퍼의 표면을 산화시킨다. 단계 212 (CVD 단계) 에 있어서는 웨이퍼 표면에 절연막을 형성한다. 단계 213 (전극 형성 단계) 에 있어서는 웨이퍼 상에 전극을 증착에 의해 형성한다. 단계 214 (이온 주입 단계) 에 있어서는 웨이퍼에 이온을 주입한다. 이상의 단계 211 ∼ 단계 214 각각은, 웨이퍼 처리의 각 단계의 전(前)처리 공정을 구성하고 있고, 각 단계에 있어서 필요한 처리에 따라 선택되어 실행된다.
웨이퍼 프로세스의 각 단계에 있어서, 상기 기술한 전처리 공정이 종료되면, 이하와 같이 하여 후처리 공정이 실행된다. 이 후처리 공정에서는, 먼저, 단계 215 (레지스트 형성 단계) 에 있어서, 웨이퍼에 감광제를 도포한다. 이어서, 단계 216 (노광 단계) 에 있어서, 위에서 설명한 노광 장치에 의해 마스크의 회로 패턴을 웨이퍼에 전사한다. 다음으로, 단계 217 (현상 단계) 에 있어서는 노광된 웨이퍼를 현상하고, 단계 218 (에칭 단계) 에 있어서, 레지스트가 잔존하고 있는 부분 이외의 부분의 노출 부재를 에칭에 의해 제거한다. 그리고, 단계 219 (레지스트 제거 단계) 에 있어서, 에칭이 끝나 불필요해진 레지스트를 제거한다.
이들의 전처리 공정과 후처리 공정을 반복 실시함으로써, 웨이퍼 상에 다중으로 회로 패턴이 형성된다.
이상 설명한 본 실시형태의 디바이스 제조 방법을 사용하면, 노광 공정 (단계 216) 에 있어서 상기 실시형태의 노광 장치가 사용되기 때문에, 중첩 정밀도를 높게 유지하면서, 높은 스루풋 노광을 행할 수 있다. 따라서, 미세 패턴이 형성된 고집적도의 마이크로 디바이스의 생산성을 향상시킬 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 이동체 유닛은, 소정의 1 축 방향으로 독립적으로 이동 가능한 2 개의 이동체를 이동시키는 데에 적합하다. 또, 본 발명의 노광 장치 및 디바이스 제조 방법은, 반도체 소자 (집적 회로), 액정 표시 소자 등의 전자 디바이스를 제조하는 데에 적합하다.

Claims (12)

  1. 기판이 재치되는 제 1 기판 테이블을 갖고, 투영 광학계와 액체를 통하여 에너지 빔에 의해 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 제 1 기판 테이블은, 상기 기판을 재치하는 재치부를 포함하는 제 1 부분과 그 제 1 부분으로부터 탈리 가능한 제 2 부분을 갖고,
    상기 제 2 부분은, 상기 제 1 부분으로부터 탈리되지 않은 제 1 위치에 있을 때, 상기 제 1 부분의 상면과 동일 면의 상면을 갖고, 또한, 평면에 있어서 상기 제 1 기판 테이블의 단부를 이룸과 함께, 그 제 1 기판 테이블의 단부를 형성하지 않는 제 2 위치를 향하여, 상기 제 1 부분에 대해 탈리 가능한, 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 부분은, 외부로부터 힘이 가해짐으로써 제 1 위치로부터 제 2 위치로 이동 가능한, 노광 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 부분은, 힘을 받았을 때에 상기 제 1 기판 테이블로부터 박리되도록 그 제 1 기판 테이블에 장착되어 있는, 노광 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 상면은, 상기 제 1 기판 테이블에 재치되는 기판과 동일 면인, 노광 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 부분은, 상기 제 1 위치에 있을 때에, 자력에 의해 상기 제 1 기판 테이블에 고정되어 있는, 노광 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    기판이 재치되고, 상기 제 1 기판 테이블과는 독립적으로 이동 가능한 제 2 기판 테이블과,
    상기 투영 광학계의 바로 아래에 액체를 공급하여 액침 영역을 형성하는 액체 공급 장치를 추가로 갖고,
    상기 투영 광학계의 바로 아래에 상기 액침 영역을 유지하면서, 상기 제 1 기판 테이블의 단부와 상기 제 2 기판 테이블의 단부를 맞닿음 또는 제 1 소정 거리 떨어진 상태를 유지하고, 상기 제 1 기판 테이블 및 상기 제 2 기판 테이블을 이동시키는, 노광 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 기판 테이블 상에 상기 액침 영역이 위치하는 제 1 상태로부터 상기 제 2 기판 테이블 상에 상기 액침 영역이 위치하는 제 2 상태로 천이시킬 때에, 상기 액침 영역이 상기 제 2 부분의 상면에 위치하는 상태가 되는, 노광 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 투영 광학계의 바로 아래에 액체를 공급하여 액침 영역을 형성하는 액체 공급 장치를 추가로 갖고,
    상기 제 1 기판 테이블 상에 상기 액침 영역이 위치하는 제 1 상태와 상기 제 2 기판 테이블 상에 상기 액침 영역이 위치하는 제 2 상태를 천이시킬 때에, 상기 제 2 부분 상에 상기 액침 영역이 위치하는 상태가 되는, 노광 장치.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 부분은, 상기 제 1 기판 테이블과 상기 제 2 기판 테이블의 충돌에 의해 상기 제 1 위치로부터 상기 제 2 위치로 이동하는, 노광 장치.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 평면에서 상기 제 1 기판 테이블의 상기 단부보다 돌출되도록 형성된 돌출부와,
    상기 돌출부에 의해 상기 제 1 기판 테이블과 상기 제 2 기판 테이블의 상기 단부가 상기 제 1 기판 테이블과 상기 제 2 기판 테이블이 충돌하지 않는 소정의 위치에 있는 상태와, 상기 제 1 기판 테이블의 상기 단부와 상기 제 2 기판 테이블의 상기 단부가, 맞닿음 또는 상기 제 1 소정 거리 떨어진 상태를 유지하여, 함께 이동하는 상태를 각각 설정하는 제어 장치를 갖는, 노광 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 1 기판 테이블을 지지하여 이동 가능한 제 1 이동체와, 상기 제 2 기판 테이블을 지지하여 이동 가능한 제 2 이동체를 추가로 갖고,
    상기 돌출부는, 상기 제 1 이동체와 상기 제 2 이동체 중 어느 일방에 형성된 완충 장치를 포함하는, 노광 장치.
  12. 리소그래피 공정을 포함하는 디바이스 제조 방법으로서,
    상기 리소그래피 공정에서는, 제 1 항, 제 2 항 및 제 4 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 노광 장치를 이용하여, 기판 상에 디바이스 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
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