JPWO2006057263A1 - 移動体システム、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
次に上述した露光装置をリソグラフィ工程で使用するデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
Claims (31)
- 所定の一軸方向に独立して移動可能な2つの移動体を有する移動体システムであって、
前記2つの移動体同士が所定距離よりも接近するのを阻止するストッパ機構と;
前記ストッパ機構による前記阻止を解除し、前記2つの移動体が前記所定距離よりも接近するのを許容する解除機構と;を備える移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記ストッパ機構は、前記一方の移動体に設けられた、前記一軸方向からの衝撃を緩和する緩衝装置を含むことを特徴とする移動体システム。 - 請求項2に記載の移動体システムにおいて、
前記ストッパ機構は、前記他方の移動体の前記緩衝装置に対向する位置に設けられた板状部材を更に含むことを特徴とする移動体システム。 - 請求項2に記載の移動体システムにおいて、
前記解除機構は、前記緩衝装置の位置を、前記2つの移動体同士が所定距離よりも接近するのを阻止することが可能な第1位置から、前記接近を許容する第2位置へ変更する第1の変更機構を含むことを特徴とする移動体システム。 - 請求項4に記載の移動体システムにおいて、
前記緩衝装置が前記第1位置にある場合及び前記第2位置にある場合の少なくとも一方を検出する第1の検出装置を更に備える移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記ストッパ機構は、
前記一方の移動体に設けられた、前記一軸方向からの衝撃を緩和する緩衝装置と;
前記他方の移動体に設けられ、前記緩衝装置と接触可能な可動部材と;を備え、
前記解除機構は、前記可動部材の位置を、前記緩衝装置に接触可能な第1位置から、前記緩衝装置に接触不可能な第2位置に変更する第2の変更機構を含むことを特徴とする移動体システム。 - 請求項6に記載の移動体システムにおいて、
前記可動部材が前記第1位置にある場合及び前記第2位置にある場合の少なくとも一方を検出する第2の検出装置を更に備える移動体システム。 - 請求項6に記載の移動体システムにおいて、
前記他方の移動体には、前記緩衝装置の先端部の少なくとも一部が侵入可能な開口が形成され、
前記可動部材は、前記開口を開閉するシャッタであり、
前記解除機構は、前記シャッタを閉状態から開状態に変更することを特徴とする移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記各移動体は、前記一軸方向に直交する他軸方向を長手方向とし、前記一軸方向に移動可能な第1物体と、該第1物体に沿って、前記他軸方向に移動可能な第2物体と、該第2物体に接続されたテーブルとを備えることを特徴とする移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記2つの移動体の距離情報を検出する第3の検出装置を更に備える移動体システム。 - 請求項10に記載の移動体システムにおいて、
前記第3の検出装置は、前記2つの移動体同士が所定距離以下まで接近したか否かを検出することを特徴とする移動体システム。 - 請求項11に記載の移動体システムにおいて、
前記第3の検出装置とは別に、前記2つの移動体それぞれの前記一軸方向の位置情報を計測するための測長システムを備える移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記2つの移動体の衝突を検出する第4の検出装置を更に備える移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記2つの移動体の少なくとも一部には、2つの移動体の衝突により脱離する脱離部材が固定されていることを特徴とする移動体システム。 - 請求項1に記載の移動体システムにおいて、
前記解除機構は、前記2つの移動体を前記所定距離よりも接近させるときに、前記ストッパ機構による前記阻止を解除することを特徴とする移動体システム。 - 請求項1に記載の移動システムにおいて、
前記2つの移動体は、前記2つの移動体が当接状態又は所定距離よりも接近した所定状態を維持したまま移動可能であることを特徴とする移動体システム。 - 請求項6に記載の移動体システムにおいて、
前記可動部材の前記緩衝装置と接触可能な部分には、前記可動部材と前記緩衝装置との間に生ずる摩擦の影響を軽減する表面処理が施されていることを特徴とする移動体システム。 - 請求項6に記載の移動体システムにおいて、
前記緩衝装置の前記可動部材と接触可能な部分は、回転可能な球状であることを特徴とする移動体システム。 - 基板を露光して、前記基板にパターンを形成する露光装置であって、
前記2つの移動体の少なくとも一方で前記基板を保持する、請求項1〜18のいずれか一項に記載の移動体システムと;
前記解除機構の動作を制御する制御装置と;を備える露光装置。 - 請求項19に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記2つの移動体の相対速度が所定値以上になったときに、前記2つの移動体のうちの少なくとも一方の速度を制限することを特徴とする露光装置。 - 光学系と基板との間に液体を供給し、前記光学系と前記液体とを介してエネルギビームにより前記基板を露光する露光装置であって、
前記2つの移動体が前記光学系との間に前記液体を保持することが可能な液浸可能領域をそれぞれ有するとともに、前記2つの移動体の少なくとも一方で前記基板を保持する、請求項1〜18のいずれか一項に記載の移動体システムと;
前記2つの移動体の一方の液浸可能領域から他方の液浸可能領域へ前記液体を移動させるために、前記2つの移動体が当接又は前記所定距離よりも接近した所定状態を維持したまま、前記2つの移動体の動作を制御する制御装置と;を備える露光装置。 - 請求項21に記載の露光装置において、
前記一方の移動体は前記基板を保持する基板テーブルを有し、
前記他方の移動体は、所定の計測に用いられる計測部が設けられた計測テーブルを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項21に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記2つの移動体の相対速度が所定値以上になったときに、前記2つの移動体のうちの少なくとも一方の速度を制限することを特徴とする露光装置。 - 移動体システムであって、
所定の一軸方向に独立して移動可能な2つの移動体と;
前記所定の一軸方向に関する前記2つの移動体同士の接近可能な距離を、予め設定された複数の距離の間で変更することが可能な変更装置と;を備える移動体システム。 - 請求項24に記載の移動体システムであって、
前記変更機構は前記2つの移動体同士が接近するのを阻止するストッパ機構を含み、
前記予め設定された複数の距離は、前記ストッパ機構によって前記阻止が行われる第1の距離を含むことを特徴とする移動体システム。 - 請求項25に記載の移動体システムであって、
前記変更装置は前記ストッパ機構の前記阻止を解除する解除機構を含み、
前記予め設定された複数の距離は、前記ストッパ機構による前記阻止が解除された状態で達成可能な第2の距離を含むことを特徴とする移動体システム。 - 請求項26に記載の移動体システムであって、
前記2つの移動体のうちの少なくとも一方の位置を検出した結果に基づいて前記2つの移動体のうちの少なくとも一方を移動させることで、前記第2の距離まで前記2つの移動体を接近させることを特徴とする移動体システム。 - 基板を露光して、前記基板にパターンを形成する露光装置であって、
前記2つの移動体の少なくとも一方で前記基板を保持する、請求項24〜27のいずれか一項に記載の移動体システムと;
前記変更装置の動作を制御する制御装置と;を備える露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項19に記載の露光装置を用いて、基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項21に記載の露光装置を用いて、基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項28に記載の露光装置を用いて、基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
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