JP2004108434A - ショックアブソーバユニット、ショックアブソーバ及びそれを有する露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】真空環境下で使用した場合に万一損傷したとしても、その真空環境を悪化させることのないショックアブソーバユニット等を提供する。
【解決手段】電子線露光装置１００のチャンバー壁面には、ショックアブソーバユニット１０が設けられている。このショックアブソーバユニット１０は、蛇腹カバー２７や基部ディスク２３等（外装容器）の内部にショックアブソーバ１１が収装されたものである。ショックアブソーバ１１は、外装容器で覆われることで、真空環境から隔離されている。そのため、ショックアブソーバ１１が万一損傷したとしても、真空環境に悪影響が及ばない。
【選択図】　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空環境内で移動可能な可動部材（ステージ等）の衝撃吸収に使用するショックアブソーバ、及び、そのようなショックアブソーバを備える露光装置に関する。特には、真空環境下での使用時に万一損傷した場合にも、その真空環境を悪化させることのないショックアブソーバユニット等に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、露光装置のステージ装置には、ショックアブソーバが設置されている。ショックアブソーバは、ステージ装置の可動子（テーブル等）が暴走した場合に、その可動子を制動する。この種のショックアブソーバとしては、オイルの充填されたシリンダを備えるもの（オイルダンパ式）が一般的である。このシリンダは、進退可能なピストンロッドを有しており、ピストンには緩衝用オリフィス（油絞り流路）が設けられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、線幅０．１μｍ以下の微細パターン対応の次世代半導体露光装置の開発が進められている。そして、次世代半導体露光装置の中には、軟Ｘ線露光装置や電子線露光装置等のように、真空環境下での露光が前提となるものがある。このような露光装置においては、パターン原版（レチクルやマスク）及び感応基板（ウェハ）は真空引き可能なチャンバー内に配置され、これらを載置するステージ装置も真空環境下で駆動できるものが用いられる。このように真空チャンバー内に設置されるステージ装置において、前述したオイルダンパ式のショックアブソーバを装備した場合、もしショックアブソーバが損傷してオイルが噴出・蒸発すると、真空チャンバー内の真空環境を壊滅的に悪化させるおそれがある。
【０００４】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、真空環境下での使用時に万一損傷した場合にも、その真空環境を悪化させることのないショックアブソーバを提供することを目的とする。
また、そのようなショックアブソーバを有する露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するため、本発明のショックアブソーバユニットは、真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバユニットであって、　前記可動部材を制動するショックアブソーバと、　該ショックアブソーバを前記環境から隔離する手段と、を具備することを特徴とする。
このショックアブソーバユニットのショックアブソーバは、真空環境から隔離されているので、仮に損傷して内部のオイル等が噴出したとしても、真空環境の汚染や劣化（真空度の低下等）を引き起こすことがない。
【０００６】
本発明のショックアブソーバユニットにおいては、前記隔離手段が、ベローズ等の直線運動可能な伸縮部又はスライド部を有するカバーを備えるものとすることができる。
このショックアブソーバユニットのカバーは、可動部材の制動時に、ショックアブソーバのピストン等（制動部材）の伸縮（移動）に応じて変形する。そのため、ショックアブソーバの制動機能を害することなく、ショックアブソーバの隔離を実現できる。
【０００７】
本発明のショックアブソーバユニットにおいては、前記カバー内が前記真空環境外の大気に通じているものとすることができる。
この場合、ショックアブソーバの作動に伴いカバーの内容積が小さくなったときには、カバー内の気体は大気中に放出される。そのため、カバーの内圧が急激に上昇することがない。
【０００８】
本発明のショックアブソーバユニットにおいては、前記カバー内が前記真空環境に近い減圧雰囲気となっているものとすることができる。
この場合、カバーが縮んでも内圧が著しく高くなることはない。そのため、ショックアブソーバの作動不良が起こる可能性を低減できる。
【０００９】
本発明のショックアブソーバユニットにおいては、前記カバーの伸びあるいは膨張を防止するカバー伸び防止手段が設けられているものとすることができる。カバーの内圧と真空環境との差圧によって、カバーには伸びる方向の力あるいは膨らむ方向の力が働くが、このような力によるカバーの伸びあるいは膨張を防止することができる。そのため、正常に稼動している可動部材にカバーが当接するようなトラブルを回避できる。
【００１０】
本発明のショックアブソーバユニットにおいては、前記ショックアブソーバの先端側に配置された、衝撃吸収作動時に前記可動部材に当接する当接部と、　前記ショックアブソーバの基端側を固定する固定部と、を有し、　前記カバーが、前記当接部と固定部との間を掛け渡すように設けられており、　前記カバー伸び防止手段として、前記当接部と前記固定部とが所定間隔以上離れないようこれら両者間を繋ぐ繋ぎ部材を有することができる。
この場合、当接部と固定部間が繋ぎ部材で繋がれて所定間隔以上離れないので、当接部が異常に前進して可動部材にぶつかるような現象を回避できる。
【００１１】
本発明のショックアブソーバユニットにおいては、前記ショックアブソーバが、蒸気圧の低いオイルを用いる油圧式ショックアブソーバであることが好ましい。
この場合、ショックアブソーバが万一破損して内部のオイルが漏れた際にも、そのオイルが蒸発して真空環境を汚染したり、真空度を劣化したりする被害を少なくすることができる。
【００１２】
本発明の第１のショックアブソーバは、真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバであって、　移動してきた前記可動部材に当接して移動する当接部と、　ガスが充填される充填部と、を備え、　前記当接部の移動に伴って前記充填部のガスの充填容積が増減することを特徴とする。
このショックアブソーバは、万一破損したとしてもガスが抜けるだけである。そのため、深刻な真空環境の汚染を引き起こすことがない。
【００１３】
本発明の第２のショックアブソーバは、真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバであって、　移動してきた前記可動部材に当接して移動する当接部と、　該当接部の移動に抵抗を与える弾性部材及び／又はコイルバネと、を備えることを特徴とする。
このショックアブソーバは、万一破損したとしても液体や気体が漏れることはないので、真空環境を汚染するようなことが起こらない。
このショックアブソーバの弾性部材としては、フッ素樹脂、ポリイミド、あるいは、ポリエーテル・エーテル・ケトン等のエラストマー（ｅｌａｓｔｏｍｅｒ）を用いることができる。
【００１４】
本発明の第１の露光装置は、真空チャンバー内で稼動する感応基板ステージ及び／又はパターン原版ステージを有する露光装置であって、　前記ステージの暴走時に該ステージを制動する、前記請求項１〜１０いずれか１項記載のショックアブソーバユニット又はショックアブソーバを備えることを特徴とする。
この露光装置は、原版ステージや感応基板ステージが暴走したとしても、ショックアブソーバでその衝撃を吸収することができる。さらに、仮にショックアブソーバが損傷したとしても、真空環境の汚染や真空度劣化を引き起こすことがない。
【００１５】
本発明の第２の露光装置は、真空チャンバー内で稼動する感応基板ステージ及び／又はパターン原版ステージを有する露光装置であって、　前記真空チャンバー外にショックアブソーバを設置し、該ショックアブソーバで前記ステージの暴走時の制動を行うことを特徴とする。
この露光装置は、原版ステージや感応基板ステージが暴走したとしても、ショックアブソーバによりその衝撃をチャンバー外で受けることができる。そのため、露光装置のチャンバーが変形する等の可能性を低減できる。
【００１６】
また、本発明のショックアブソーバユニットは、真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバユニットであって、　前記可動部材を制動する、蒸気圧の低いオイルを用いる油圧式ショックアブソーバを具備することを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係るショックアブソーバユニットを搭載する電子線露光装置全体の概略構成を模式的に示す正面断面図である。
図２は、同ショックアブソーバユニットのより詳細な構成を示す縦断面図である。
図３は、同ショックアブソーバユニットの作動状態を示す縦断面図である。
【００１８】
まず、図１を参照しつつ露光装置の全体構成を説明する。
図１において、電子線露光装置１００は、上部に光学鏡筒（真空チャンバー）１０１を備えている。光学鏡筒１０１には、真空ポンプ１０２が接続されている。真空ポンプ１０２は、光学鏡筒１０１内を真空排気している。
【００１９】
光学鏡筒１０１の上部には、電子銃１０３が配置されている。電子銃１０３は、下方に向けて電子線を放射する。電子銃１０３の下方には、コンデンサレンズ１０４ａや電子線偏向器１０４ｂ等を含む照明光学系１０４やマスク（パターン原版）Ｍが配置されている。
【００２０】
電子銃１０３から放射された電子線は、コンデンサレンズ１０４ａによって収束されるとともに、偏向器１０４ｂにより図の右方向に順次走査（スキャン）される。これにより、照明光学系１０４の視野内にあるマスクＭの各小領域（サブフィールド）の照明が行われる。なお、図では一段のコンデンサレンズ１０４ａのみが示されているが、実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口等が設けられている。
【００２１】
マスクＭは、マスクステージ１１１の上部に設けられたチャック１１０に静電吸着等により固定されている。マスクステージ１１１は、定盤１１６に載置されている。このマスクステージ１１１には、図の左方に示す駆動装置１１２が接続されている。駆動装置１１２は、ドライバ１１４を介して制御装置１１５に接続されている。
【００２２】
定盤１１６の下方には、ウェハチャンバー（真空チャンバー）１２１が設けられている。ウェハチャンバー１２１の側方（図の右側）には、真空ポンプ１２２が接続されている。真空ポンプ１２２は、ウェハチャンバー１２１内を真空排気している。ウェハチャンバー１２１内には、コンデンサレンズ（投影レンズ）１２４ａや偏向器１２４ｂ等を含む投影光学系１２４、ウェハＷが配置されている。
【００２３】
マスクＭを通過した電子線は、コンデンサレンズ１２４ａにより収束される。コンデンサレンズ１２４ａを通過した電子線は、偏向器１２４ｂにより偏向されて、ウェハ（感応基板）Ｗ上の所定の位置にマスクＭの像を結像する。なお、図ではコンデンサレンズ１２４ａが一段示されているのみであるが、実際には、投影光学系中には数段のレンズや収差補正用のレンズやコイルが設けられている。
【００２４】
ウェハＷは、ウェハステージ１３１の上部に設けられたチャック１３０に静電吸着等により固定されている。ウェハステージ１３１は、定盤１３６上に載置されている。ウェハステージ１３１には、図の左方に示す駆動装置１３２が接続されている。駆動装置１３２は、ドライバ１３４を介して制御装置１１５に接続されている。
【００２５】
この露光装置１００において、マスクステージ（可動部材）１１１側方と、ウェハステージ（可動部材）１３１側方には、ショックアブソーバユニット１０がそれぞれ取り付けられている。このショックアブソーバユニット１０は、何らかの誤動作により暴走したステージ１１１、１３１を制動して衝撃を吸収する。
【００２６】
以下、図２及び図３を参照しつつショックアブソーバユニット１０について詳細に説明する。なお、図２及び図３における左側を先端側といい、右側を後端側という。
この実施の形態におけるショックアブソーバユニット１０は、一般的なショックアブソーバ１１が蛇腹カバー（伸縮部、スライド部）２７や基部ディスク（固定部）２３の中に納められたものである。
【００２７】
ショックアブソーバ１１は、内部にオイルの充填されたシリンダ１３を備えている。シリンダ１３の後端寄り外面には、鍔状に張り出したフランジ部１４が形成されている。このシリンダ１３は、図中左右方向に進退可能なピストンロッド１２を有している。シリンダ１３内において、ピストンロッド１２は、緩衝用のオリフィスを有するピストン（図示されず）に連結されている。ピストンロッド１２は、後述する蛇腹カバー２７の先端部（当接部）２２を介して、暴走したステージ１１１、１３１（図１参照）を制動する。
【００２８】
図３に示すように、このショックアブソーバ１１は、暴走したステージが当接部２２に当たってピストンロッド１２の先端が押されると、シリンダ１３内でピストンが図中右方向に移動しようとするが、シリンダ１３内部のオリフィスでオイルに流動抵抗が与えられ、ピストンロッド１２の急激なスライドが制動される。
【００２９】
ショックアブソーバ１１のピストンロッド１２に加えられる負荷が除かれると、内蔵バネの付勢力によりピストンロッド１２が進出して図２に示す状態に復元する。なお、ショックアブソーバ１１のシリンダ１３内に充填されるオイルとしては、ショックアブソーバ１１が万一破損した場合を考慮して、蒸気圧の低い真空用オイルを用いるのが好ましい。
【００３０】
ショックアブソーバユニット１０の外側は、ショックアブソーバ１１の先端部（左端）を覆う蛇腹カバー２７と、ショックアブソーバ１１の後端側を覆う基部ディスク２３等（隔離手段）に覆われている。ショックアブソーバ１１を覆うこれらのカバー２７等を外装容器ともいう。ショックアブソーバ１１は、これらの蛇腹カバー２７等により、光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１内部の真空環境から隔離されている。
【００３１】
基部ディスク２３は、挿通穴２３ａを有している。この挿通穴２３ａ内には、ショックアブソーバ１１のシリンダ１３が挿通されている。ショックアブソーバ１１のシリンダ１３の後端側外周にはフランジ部１４が形成されており、このフランジ部１４を基部ディスク２３後端面に密着させた状態で、シリンダ１３がねじ止め固定されている。
【００３２】
基部ディスク２３後端面には、ボトムカバー２４がねじ止めされている。基部ディスク２３とボトムカバー２４との間には、Ｏリング２５が挟まれている。ショックアブソーバ１１のシリンダ１３後端側は、ボトムカバー２４で覆われて外部と遮断されている。ボトムカバー２４内（シリンダ１３後端側周囲の空間）は、Ｏリング２５で気密性が確保されている。
【００３３】
蛇腹カバー２７の先端側には、円盤部２６が取り付けられている。この円盤部２６は、ピストンロッド１２の先端に対面するように配置されている。この円盤部２６の前面（先端側の面）には、緩衝材料（例えばテフロン（登録商標）等）からなる当接部２２が形成されている。この当接部２２は、暴走したステージが当たったときに、ステージが衝撃で損傷するのを防ぐ。
【００３４】
蛇腹カバー２７は、基部ディスク２３前面側の挿通穴２３ａの外周部と、円盤部２６後端側の外周部との間において、内部が気密になるように取り付けられている。この蛇腹カバー２７は、ショックアブソーバ１１のピストンロッド１２とともに伸縮する。図３に示すように、蛇腹カバー２７は、暴走したステージが当接部２２に当接したとき、ショックアブソーバ１１のピストンロッド１２が退くのと同時に縮む。
【００３５】
さらに、蛇腹カバー２７の外側において、基部ディスク２３と円盤部２６との間には、一対のワイヤ（カバー伸び防止手段）２９が張られている。各ワイヤ２９の端部は、基部ディスク２３及び円盤部２６のそれぞれの外周面にピン２８で止められている。これらワイヤ２９は、ショックアブソーバ１１のピストンロッド１２が無負荷状態で伸張しているとき（図２の状態）に、ピストンロッド１２先端に円盤部２６が接触する状態となる程度に張られている。これらワイヤ２９は、光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１の内部を真空引きした際に、真空圧と蛇腹カバー２７内圧との差圧で蛇腹カバー２７が伸び、円盤部２６及び当接部２２が突出するのを防止する。
【００３６】
このように、本実施の形態においては、ショックアブソーバ１１が蛇腹カバー２７等の外装容器内部に納められていることで、ショックアブソーバ１１を光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１内部の真空環境から隔離することができる。そのため、仮にショックアブソーバ１１が破損したとしても、真空環境内にオイルが噴出・蒸発することがない。したがって、真空チャンバー内を汚染したり、真空度を劣化させたりすることがない。
【００３７】
以下、本発明に係るショックアブソーバユニットの他の実施の形態について説明する。なお、以下に述べる各実施の形態において、前述の第１実施の形態と略同一構成部分には同一符号を付すものとする。
図４は、本発明の第２実施の形態に係るショックアブソーバユニットを示す概念図である。
【００３８】
図４において、ショックアブソーバユニット１０は、光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１（図１参照）のチャンバー壁部３０に取り付けられている。チャンバー壁部３０には、貫通孔３１が形成されている。この貫通孔３１は、チャンバー壁部３０外部と外装容器（蛇腹カバー２７等）内部とが連通するように形成されている。そのため、ショックアブソーバユニット１０の外装容器内は、貫通孔３１を介して外気と連通している。
【００３９】
この第２実施の形態のショックアブソーバユニット１０は、暴走したステージが当接部２２に当接したときに、蛇腹カバー２７内の空気を貫通孔３１から外部に逃がすことができる。そのため、暴走したステージが当たって蛇腹カバー２７が縮小し、蛇腹カバー２７の内圧が上昇した場合にも、これらステージを押し返す反力が生じない。
【００４０】
図５は、本発明の第３実施の形態に係るショックアブソーバユニットを示す概念図である。
図５に示す第３実施の形態は、前述の図４に示す第２実施の形態において、チャンバー壁部３０の貫通孔３１に排気ポンプ４５が接続されたものである。この排気ポンプ４５は、チャンバー壁部３０の外側に設置されており、外装容器内部を真空引きする。この排気ポンプ４５により、蛇腹カバー２７内を光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１内と同時に真空引きすることができる。そのため、蛇腹カバー２７内圧を真空チャンバー内の真空環境に近い減圧雰囲気とすることができる。
【００４１】
この第３実施の形態においては、ショックアブソーバユニット１０の外装容器の内圧を真空環境に近い減圧雰囲気とすることができるので、蛇腹カバー２７内圧も著しく高くはならない。そのため、暴走したステージが当接部２２に当たった場合に、ピストンロッド１２の退避とともに蛇腹カバー２７はスムーズに縮小し、ショックアブソーバ１１の作動不良が起こる可能性を低減できる。
【００４２】
図６は、本発明の第４実施の形態に係るショックアブソーバユニットを示す概念図である。
図６に示すショックアブソーバユニット４０は、ショックアブソーバ１１の後端側を覆う基部ディスク２３、ボトムカバー２４と、ショックアブソーバ１１の先端側を覆うヘッドカバー４２からなる。基部ディスク２３・ボトムカバー２４は、前述の各実施の形態で説明したものと同一構成である。
【００４３】
ヘッドカバー４２は、有底円筒状をしている。ベッドカバー４２の開口端４２ａは、基部ディスク２３の先端側端面に溶接されている。ヘッドカバー４２の前端面４２ｂ中央には、挿通穴４３が形成されている。この挿通穴４３内には、ショックアブソーバ１１のピストンロッド１２が摺動可能に挿通されている。ヘッドカバー４２の挿通穴４３内周面には、Ｏリング４４がセットされている。このＯリング４４は、ピストンロッド１２の外面に摺接して、ヘッドカバー４２内部が気密になるようにシールしている。ここで、Ｏリング４４には、蒸気圧の低い真空グリス（オイル）が塗布されることが好ましい。なお、挿通穴４３内周面は、Ｏリング４４を配置してシールする以外に、磁性流体等を用いて気密性を確保してもよい。
【００４４】
このショックアブソーバ１１のピストンロッド１２は、ヘッドカバー４２の挿通穴４３から出没可能である。このショックアブソーバ１１も、前述と同様に、暴走したステージを制動して衝撃を吸収することができる。なお、ヘッドカバー４２内は、前述と同様に内部を真空引きするのが好ましい。
【００４５】
このようなショックアブソーバユニット４０によれば、ショックアブソーバ１１を真空チャンバー（真空環境）内から隔離できるので、前述の実施の形態と同様に、仮にショックアブソーバ１１が破損したとしても、真空環境内にオイルが噴出・蒸発することがなく、真空チャンバーの壁面を汚染したり、真空度を劣化させたりすることがない。
【００４６】
図７は、本発明の第５実施の形態に係るショックアブソーバを示す概念図である。
図７に示すショックアブソーバ５０は、シリンダ５３を有している。シリンダ５３のシリンダ空間（充填部）５３ａ内には、ガスが充填されている。シリンダ５３のシリンダ空間５３ａは、オリフィス５５を介してドレイン空間５６に連通されている。なお、この実施の形態では、シリンダ５３のシリンダ空間５３ａとドレイン空間５６とを別体に配置しているが、シリンダ５３内にシリンダ空間５３ａ及びドレイン空間５６を内装することもできる。
【００４７】
シリンダ５３は、ピストン５４を有している。このピストン５４は、シリンダ空間５３ａ内で図中左右方向に往復運動することができる。このピストン５４の外周面には、Ｏリング５４ａが設けられている。Ｏリング５４ａは、シリンダ５３内周面に摺接して、シリンダ空間５３ａの気密性を確保する。ピストン５４には、ピストンロッド５２が連結されている。
【００４８】
このようなショックアブソーバ５０は、暴走したステージにピストンロッド５２の先端（当接部）が当たったとき、ピストン５４が図中右側に移動して、ガスが充填されているシリンダ空間５３ａの容積が小さくなる。すると、シリンダ空間５３ａ内のガスがドレイン空間５６内に急激に流入しようとするが、このガス流はオリフィス５５で絞られて流動抵抗が与えられ、ピストンロッド５２の急激なスライドが制動される。
【００４９】
なお、このショックアブソーバ５０は、ピストンロッド５２に加えられる負荷が除かれると、圧縮されたガスの反発力によりピストンロッド５４が進出し、縮小したシリンダ空間５３ａの容積が広がる。すると、容積の広がったシリンダ空間５３ａ内にドレイン空間５６からガスが流入し、機能が復帰する。このようなショックアブソーバ５０は、光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１内で万一破損したとしても、ガスが流出するだけで済むので、ガス漏れによる作業中の真空度劣化が起こるだけである。そのため、次回の作業に影響するような深刻な汚染は起こらない。
【００５０】
図８は、本発明の第６実施の形態に係るショックアブソーバを示す概念図である。
図８に示すショックアブソーバ６０は、シリンダ６３を有している。シリンダ６３内には、壁板部（ピストン）６４が内装されている。この壁板部６４は、シリンダ６３内で図中左右方向に往復運動することができる。この壁板部６４の図中左端面には、ピストンロッド６２が連結されている。このピストンロッド６２の端部（壁板部６４と逆側の端部）は、シリンダ先端面６３ｂから突出している。一方、シリンダ６３内において、シリンダ後端面６３ａと壁板部６４の間には、弾性棒６６が介装されている。この弾性棒６６には、コイルバネ６５が外嵌している。これらコイルバネ６５及び弾性棒６６は、壁板部６４が図中右方向に移動したときに、弾性力で壁板部６４を押し返す（つまり、図中左方向に押す）。
【００５１】
この弾性棒６６は、例えばフッ素樹脂、ポリイミド、あるいは、ポリエーテル・エーテル・ケトン等のエラストマー（ｅｌａｓｔｏｍｅｒ）から作製されている。なお、このショックアブソーバ６０のシリンダ６３内は、気密にはなっておらず、流体が流通可能となっている。このため、光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１を真空引きした際には、シリンダ６３内も同様に真空環境になる。また、ここでは、コイルバネ６５及び弾性棒６６の双方を用いるが、必要な反力（弾性力）を考慮していずれか一方のみを用いてもよい。
【００５２】
このようなショックアブソーバ６０は、前述の第５実施の形態のショックアブソーバ５０と同様に機能し、暴走したステージが当たってピストンロッド６２の先端が押されても、コイルバネ６５及び弾性棒６６の弾性力でピストンロッド６２の急激なスライドが制動される。なお、このショックアブソーバ６０は、ピストンロッド６２に加えられる負荷が除かれると、縮小したコイルバネ６５及び弾性棒６６が弾性復帰して機能が復元する。このようなショックアブソーバ６０は、真空環境内で万一破損したとしても、オイルもガスも流出しない利点がある。
【００５３】
図９は、本発明の第７実施の形態に係るショックアブソーバを搭載する露光装置の概略構成を示す概念図である。
図９には、光学鏡筒１０１やウェハチャンバー１２１（図１参照）のチャンバー壁部３０が示されている。このチャンバー壁部３０には、貫通孔３１が形成されている。この貫通孔３１内には、シャフト７２が摺動自在に保持されている。チャンバー壁部３０の外面３０ａには、ベローズ７１が取り付けられている。このベローズ７１の端面７１ａ（チャンバー外面３０ａへの取り付け端部と逆側の端面）は閉じられている。ベローズ７１は、チャンバー外面３０ａに対して近付く側・離れる側に伸縮自在であるとともに、貫通孔３１を気密に封止している。ベローズ端面７１ａの内側には、シャフト７２の後端が当接している。そして、このベローズ端面７１ａを介して、シャフト７２にはショックアブソーバ１１のピストンロッド１２の先端が突き合わされている。
【００５４】
図９に示す構成では、暴走したステージがシャフト７２の先端に当たると、ベローズ端面７１ａを介してショックアブソーバ１１のピストンロッド１２が押される。このとき、シャフト７２は急激にスライドしようとするが、シャフト７２のスライドはショックアブソーバ１１で制動される。なお、このショックアブソーバ１１は、シャフト７２からの負荷が除かれると、ピストンロッド１２が進出して機能が復帰する。このような構成においては、ショックアブソーバ１１が装置外部に設置されているので、万一破損した場合にも、チャンバー内の真空環境に悪影響を及ぼさない。
【００５５】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、真空環境下での使用時に万一損傷した場合にも、その真空環境を悪化させることのないショックアブソーバユニット等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の一実施の形態に係るショックアブソーバユニットを搭載する電子線露光装置全体の概略構成を模式的に示す正面断面図である。
【図２】同ショックアブソーバユニットのより詳細な構成を示す縦断面図である。
【図３】同ショックアブソーバユニットの作動状態を示す縦断面図である。
【図４】本発明の第２実施の形態に係るショックアブソーバユニットを搭載する露光装置の概略構成を示す概念図である。
【図５】本発明の第３実施の形態に係るショックアブソーバユニットを搭載する露光装置の概略構成を示す概念図である。
【図６】本発明の第４実施の形態に係るショックアブソーバユニットの概略全体構成を示す縦断面図である。
【図７】本発明の第５実施の形態に係るショックアブソーバの概略全体構成を示す縦断面概念図である。
【図８】本発明の第６実施の形態に係るショックアブソーバの概略全体構成を示す縦断面概念図である。
【図９】本発明の第７実施の形態に係るショックアブソーバユニットを搭載する露光装置の概略構成を示す概念図である。
【符号の説明】
１０、４０　　ショックアブソーバユニット
１１、５０、６０　　ショックアブソーバ
１２、５２、６２　　ピストンロッド　１３、５３、６３　　シリンダ
２２　　当接部　　　　　　　　　　　２３　　基部ディスク
２４　　ボトムカバー　　　　　　　　２６　　円盤部
２７　　蛇腹カバー　　　　　　　　　２９　　ワイヤ
３０　　チャンバー壁面　　　　　　　３１　　貫通孔
３２　　排気ポンプ　　　　　　　　　４２　　ヘッドカバー
４３　　挿通穴　　　　　　　　　　　５３ａ　　シリンダ空間
５４　　ピストン　　　　　　　　　　５５　　オリフィス
５６　　ドレイン空間　　　　　　　　６４　　壁板部
６５　　コイルバネ　　　　　　　　　６６　　弾性棒
７１　　ベローズ　　　　　　　　　　７２　　シャフト
１００　　電子線露光装置　　　　　　１０１　　光学鏡筒
１０２、１２２　　真空ポンプ　　　　１１１　　マスクステージ
１２１　　ウェハチャンバー　　　　　１３１　　ウェハステージ
Ｍ　　マスク　　　　　　　　　　　　Ｗ　　ウェハ

Claims (13)

1. 真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバユニットであって、
   前記可動部材を制動するショックアブソーバと、
   該ショックアブソーバを前記環境から隔離する手段と、
   を具備することを特徴とするショックアブソーバユニット。
2. 前記隔離手段が、ベローズ等の直線運動可能な伸縮部又はスライド部を有するカバーを備えることを特徴とする請求項１記載のショックアブソーバユニット。
3. 前記カバー内が前記真空環境外の大気に通じていることを特徴とする請求項２記載のショックアブソーバユニット。
4. 前記カバー内が前記真空環境に近い減圧雰囲気となっていることを特徴とする請求項２記載のショックアブソーバユニット。
5. 前記カバーの伸びあるいは膨張を防止するカバー伸び防止手段が設けられていることを特徴とする請求項２〜４いずれか１項記載のショックアブソーバユニット。
6. 前記ショックアブソーバの先端側に配置された、衝撃吸収作動時に前記可動部材に当接する当接部と、
   前記ショックアブソーバの基端側を固定する固定部と、を有し、
   前記カバーが、前記当接部と固定部との間を掛け渡すように設けられており、
   前記カバー伸び防止手段として、前記当接部と前記固定部とが所定間隔以上離れないようこれら両者間を繋ぐ繋ぎ部材を有することを特徴とする請求項５記載のショックアブソーバユニット。
7. 前記ショックアブソーバが、蒸気圧の低いオイルを用いる油圧式ショックアブソーバであることを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載のショックアブソーバユニット。
8. 真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバであって、
   移動してきた前記可動部材に当接して移動する当接部と、
   ガスが充填される充填部と、を備え、
   前記当接部の移動に伴って前記充填部のガスの充填容積が増減することを特徴とするショックアブソーバ。
9. 真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバであって、
   移動してきた前記可動部材に当接して移動する当接部と、
   該当接部の移動に抵抗を与える弾性部材及び／又はコイルバネと、
   を備えることを特徴とするショックアブソーバ。
10. 前記弾性部材が、フッ素樹脂、ポリイミド、あるいは、ポリエーテル・エーテル・ケトン等のエラストマー（ｅｌａｓｔｏｍｅｒ）からなることを特徴とする請求項９記載のショックアブソーバ。
11. 真空チャンバー内で稼動する感応基板ステージ及び／又はパターン原版ステージを有する露光装置であって、
    前記ステージの暴走時に該ステージを制動する、前記請求項１〜１０いずれか１項記載のショックアブソーバユニット又はショックアブソーバを備えることを特徴とする露光装置。
12. 真空チャンバー内で稼動する感応基板ステージ及び／又はパターン原版ステージを有する露光装置であって、
    前記真空チャンバー外にショックアブソーバを設置し、該ショックアブソーバで前記ステージの暴走時の制動を行うことを特徴とする露光装置。
13. 真空環境内で移動可能な可動部材の衝撃吸収に使用するショックアブソーバユニットであって、
    前記可動部材を制動する、蒸気圧の低いオイルを用いる油圧式ショックアブソーバを具備することを特徴とするショックアブソーバユニット。

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