TW594847B - Illumination system, projection exposure apparatus and method for manufacturing a device provided with a pattern to be exposed - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 一 _ B7 五、發明説明（彳） 發明領域及相關技術 本發明通常是與一種照明系統有關。更尤其是，本發 明與一種照明系統、曝光設備及裝置製造方法有關，在該 製造方法中使用波長爲2 0 0 - 1 0 0 n m之極紫外線區 或X射線區之光源，將例如爲一半導體晶圓之單晶基底或 一液晶顯示（L C D )之玻璃基底的作品加以曝光。 作爲具有精細圖案之半導體電路裝置製法之一實例， 有一使用EUV光波長爲13.4nm之降低投影曝光之 方法。以此方法，以E U V光照明在上面有形成電路圖案 之一光罩或網線（在本發明中可交換使用光罩或網線）並 以縮小尺寸將光罩之圖案影像投射在一晶圓表面上。因此 ，使那表面上之抗蝕劑曝光並從那裡傳送圖案。 根據曝光源波長λ及比例常數k 1，投.影曝光設備之 解析度R以下列方程式表示： R^klx (λ/ΝΑ) (1) 另一方面，可保持某種成像表現之焦點範圍稱爲焦點 深度。根據一比例常數k 2，焦點深度D 0 F以下列方程 式表示 ： D 〇 F = k 1 X ( λ / N A 2 ) ( 2 ) 第1 8圖爲一習知EUV降低投影曝光設備1 0 0 0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 辦衣 訂 备 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -4- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 ___ B7 五、發明説明（2) 在桌18H中，1〇〇ι表示EUV光之光放射點。 1 0 0 2表示一 E UV光束，而1 〇 〇 3表示一濾光器。 1 0 0 4表示一第一旋轉拋物面鏡，且1 〇 〇 5表示一反 射式整合器。1 0 0 6表示一第二旋轉拋物面鏡，且 1 0 0 7表示一反射式光罩。丨Q 〇 8表示構成一投影光 學系統之複鏡系統’且1 0 Q 9表示爲一晶圓。1 〇 1〇 表示爲一光罩枱，且1〇11表示爲一晶圓枱。1〇12 表示爲一弧形光圏，且1 〇 1 3表示一雷射光源。 1 0 1 4表示一雷射聚光系統。且〇 1 7表示一真空容器 。第1 9圖爲用以說明光罩1 〇 〇 7上一照明區1 〇 15 及實施曝光之一弧形區1 〇 1 6間關係之平面圖。 因此，曝光設備1 〇〇〇包含一光源單元（1 〇 1 3 及1 0 1 4 )，一照明光學系統（即，第一旋轉拋物面鏡 1 0 0 4，反射式整合器1 〇 〇 5及第二旋轉拋物面鏡 1 0 0 6 )，一反射式光罩1 〇 〇 7，一投影光學系統 1 0 0 8，一晶圓1 〇 〇 9，一上面有承接一光罩之枱 1 0 1 0，一上面有承接一晶圓之一枱1 〇 1 1 ，一用以 精確對準光罩及晶圓之對準機構（未示出），一用以使整 個光學系統保持真空，避免EUV光衰減之真空容器 1017，一釋氣單元（未示出）等等。 在一照明光學系統中，以第一旋轉拋物面鏡1 0 0 4 收集來自光放射點1 0 0 1之E U V光線1 〇 0 2並將它 投射在反射式整合器1 〇 〇 5上，因此，產生第二光源。 收集來自第二光源之E U V光線並藉由第二旋轉拋物面鏡 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I I 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 ___ B7 五、發明説明（3) 將一光線重疊在另一光線上，因此均勻照射光罩1 0 0 7 〇 反射式光罩1 〇 〇 7包含一在上面有形成一非反射部 位之多層膜反射鏡，加以界定傳送圖案，其中之非反射部 位例如’ τη由E U V吸收性材料製成。由反射式光罩 1 〇 0 7所反射且因此具有關於電路圖案資訊之E u V光 線是由投影光學系統1 〇 〇 8加以成線在晶圓1 〇 〇 9表 面上。 將投影光學系統1 〇 〇 8設計成從光軸中心之一狹窄 弧形W中表現良好之成像效能。考慮到此’就在晶圓 1 0 0 9之前設有一具有一弧形開口之光圏1 〇 1 2，確 保只使用這狹窄弧形區加以曝光。爲了確信傳送在整個矩 形光罩表面上之圖案。當同時掃描反射式光罩1 〇 〇 7及 晶圓1 0 0 9時實施曝光程序。 投影光學系統1 0 0 8是由複多層膜鏡所構成，且其 如此構成使得光罩1 0 0 7之圖案以一縮小尺寸投射在晶 圓1 0 0 9表面上。經常，它包含一影像端，以電訊爲中 心系統。關於物件端（反射式光罩端），它經常具有非以 電訊爲中心之結構，避免實際干擾到影響光罩1 0 0 7之 照明光線。 以雷射聚光系統1 0 1 4將來自雷射光源1 0 1 3之 雷射光收集在位於光線放射點之標的（未示出）上，因此 產生高溫電漿光源。由熱輻射從這電漿光源所照射之 E U V光線1 0 0 2被旋轉拋物面鏡1 0 0 4所反射，因 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） —. 裝 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -6 - 594847 A7 B7 五、發明説明（4) 此產生平行E U V光線。這平行光束是由反射式整合器 1 0 0 5所反射，因此產生許多第二光源。 來自第二光源之E U V光線是由第二旋轉拋物面鏡 1 0 0 6所反射，照射反射式光罩1 0 0 7。此處，將從 第二光源至第二旋轉拋物面鏡1 0 0 6之距離以及從第二 旋轉拋物面鏡1 0 0 6至反射式光罩1 〇 0 7之距離設成 等於第二旋轉拋物面鏡1 0 0 6之焦距。 因第二旋轉拋物面鏡1 0 0 6之焦點位在第二光源位 置，從一第二光源所照射之E U V光線則如平行光線照射 光罩1 0 0 7。因此，滿足庫勒（koehler )照明條件。 另言之，藉分別重疊從所有第二光源所照射之E U V光線 加以界定照射在反射式光罩上某單一點之E U V光線。 如第1 9圖中所不，光罩表面上之照明區1 〇 1 5類 似於反射式整合器1 0 0 5組成之凸面鏡或凹面鏡反射表 面之平面形狀。如鏡片形狀爲矩形，則它變成大槪爲矩形 區，該區包含當中實際上實施曝光之弧形區1 0 1 6。投 影光學系統1 0 0 8被設計成將第二光源之影像投射在投 影光學系統1 〇 〇 8之入口瞳孔上。 光罩1 0 0 7上之弧形區必須被照得無不規則亮度。 此外，影響弧形區之光線強度之重力中心必須與光線射線 中心重合。然而，在習知E U V降低投影曝光設備中，不 是經常可滿足這些條件。結果，如果在弧形區內之某一點 上，光線射線之重力中心不與其中心重合，該結果像是投 射照射光線之主要射線而偏離一預期方向之情況。這導致 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公麓） -----裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（5) 正確光罩圖案曝光之失敗。 而且，如第1 9圖中所示，在光罩1 0 0 7表面上， 將E U V光線投射在矩形區1 〇 1 5上，該區包含實際上 實施曝光之弧形區。因此，未促成曝光之E U V光線是浪 費的且在晶圓1 0 0 9前爲弧形光圈1 0 1 2所遮住，即 ，在習知E U V降低投影曝光設備中，曝光量之損失非常 大，這造成曝光時間之延長及低總處理量。 而且，在如以1 0 0 0所示之習知E U V降低投影曝 光設備中，有來自光罩1 0 0 7之反射光線矽光軸與投影 光學系統1 0 0 8之光軸不重合的另一問題，使得反射光 線被投影光學系統1 0 0 8所遮蔽。 而且，在如以1 0 0 〇所示之習知E U V降低投影曝 光設備中，難以如預期般調整如凝聚因子σ之照明條件， σ等於例如根據預期解析度線寬或總處理量之照明光學系 統之光罩端Ν Α (數値光圏）與投影光學系統之光罩端 N A間的比率。 此外，在如以1 0 〇 〇所示之習知E U V降低投影曝 光設備中，雖然使用短波長之E U V光線改善了解析度， 但仍有將裝置進一步加以迷你化之需要。 發明槪要 因此本發明之一項目的在提供一種照明系統及/或其 曝光設備，藉由該系統可以均勻亮度照射一照明區，而且 ，影響照明區之光線的強度重力中心可與光線射線中心重 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝_ 、1Τ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -8 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 __ B7 五、發明説明（6 ) 合。本發明之另一項目的在提供一種使用如上述之曝光設 備的裝置製法。 本發明之一項目的在提供一種照明系統，及其曝光設 備及/或裝置製法，藉由該系統能降低光量之損耗、縮短 曝光時間’及放大總處理量。 本發明進一步之目的在提供一種照明系統，及其曝光 設備及/或裝置製法，藉由該系統，來自一光罩之反射光 線之光軸能與一投影光學系統之光軸重合。 本發明還有進一步之目的在提供一種照明系統，及其 曝光設備及/或裝置製法，藉由該系統，利用從極紫外線 區或X -射線區之光源所照射光線能改變照明條件。 本發明仍有進一步之目的在提供一種照明系統，及其 曝光設備及/或裝置製法，藉由該系統，利用從極紫外線 區或X -射線區之光源所照射光線能完成相較於習知解析 度之較尚解析度。 根據本發明一觀點，設有一種以來自一光源之光線加 以照射一表面之照射系統，其特徵爲··一第一反射式整合 器；一第一聚光鏡系統，係用以使一來自該第一反射式整 合器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上；一 佈置在光源與該第一反射式整合器間之第二反射式整合器 ;以及一第二聚光鏡系統，係用以將來自該第二反射式整 合器之光束成一光束重疊另一光源在該第一反射式整合器 上。 在一較佳形式中’該第一反射式整合器具一由各爲圓 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規^Τ^_χ297公釐)_ , 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 _B7 五、發明説明（7 ) 柱形表面一部位之區段所界定之反射表面。該區段被佈置 成實質上爲彼此平行，使得要照射表面上之一照明區爲弧 形。 在一較佳形式中，該第二反射式整合器具一由各爲圓 柱形表面一部位之區段所界定之反射表面，該區段被佈置 成實質上爲彼此平行，其中，在該第一和第二反射式整合 器中之圓柱形表面動線實質上爲彼此垂直。 在一較佳形式中，該第二反射式整合器具一由各爲球 面一部位之區段所界定之反射表面，該區段佈置成二度空 間。 在一較佳形式中，圓柱表面爲凸面形，凹面形及凸凹 面形組合形中之一種形狀。 在一較佳形式中，將該照明系統建構成使得要照射之 表面是以關於子午線部位之關鍵亮度加以照射，而關於矢 形部位則以庫勒照明加以照射。 在一較佳形式中，照明系統更包含（i ) 一擋板，係 佈置在該第一聚光鏡系統與要照射之表面之間，並具一光 圏加以界定要照射之表面上的照明區，及（i i ) 一反射 光學系統，係利用穿過該光圈之光線，使該擋板之該光圈 成像在要照射之表面上。 在一較佳形式中，照明系統更包含一以偏心及/或旋 轉方式移動該反射光學系統中之至少一鏡片之調整單元， 因此加以調整影響要照射表面之光線的入射角。 在一較佳形式中，照明系統更包含一具有一光圈之擋 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -10- 594847 A7 B7 五、發明説明（8) 板，用以界定要照射表面上之一照明區。 在一較佳形式中，照明系統更包含一以偏心及/或旋 轉方式移動該第一聚光鏡系統中之至少一鏡片之調整單元 ’因此加以調整影響要照射表面之光線的入射角。 根據本發明進一步觀點，設有一種以來自一光源之光 線加以照射一表面之照明系統，其特徵爲：一第一反射式 整合器；一第一光學系統，係用以將來自光源之光線投射 在該第一反射式整合器上；以及一第二光學系統，係用以 使一來自該第一反射式整合器之光束成一光束重疊另一光 源在要照射之表面上；其中，該第一光學系統包含一變更 單元，係用以改變影響該第一反射式整合器之光源直徑及 /或形狀。 在一較佳形式中，該變更單元包含至於光圈形狀及/ 或大小上彼此不同之眾多擋板，以及一驅動系統，用以選 擇性地將該擋板其中之一置放在或近鄰該第一反射式整合 器之反射表面。 在一較佳形式中，各光圏之形狀是沿著投射在該第一 反射式整合器上光線之入射平面方向加以伸長。 在一較佳形式中，該變更單元包含（i ) 一第二反射 式整合器，一聚光鏡系統，係用以使一來自該第二反射式 整合器之光束成一光束重疊另一光束在該第一反射式整合 器上，以及（i i ) 一擋板，係具有一可變光圈直徑並佈 置在或近鄰該第二反射式整合器之一反射表面。 在一較佳形式中，該變更單元包含（i )眾多第二反 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ----------批衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 594847 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（9) 射式整合器，彼此具不同之放射光線的放射角，（i i ) 一聚光鏡系統，係用以使一來自該第二反射式整合器之光 束成一光束重疊另一光束在該第一反射式整合器上，以及 (i i i ) 一驅動系統’用以將該第二反射式整合器其中 之一選擇性地置放在來自光源之光線路徑上。 在一較佳形式中，照明系統更包含一擋板，係具有一 可變光圈並佈置在或近鄰該第二反射式整合器之一反射表 面。 根據本發明之仍進一步觀點，設有一種以來自一光源 之光線加以照射要照射之表面的照明系統，其特徵爲：一 第一反射式整合器，係具有一佈置在一瞳孔位置之反射表 面；一第一光學系統，係用以將來自光源之光線歪曲地投 射在該第一反射式整合器上面；一第二光學系統，係用以 使來自該第一反射式整合器之光束成一光束重疊另一光束 在要照射之表面上；以及一擋板，係佈置在或近鄰該第一 反射式整合器之一反射表面，該擋板之光圈形狀是沿著歪 曲地投射在該第一反射式整合器上光線之入射平面方向加 以伸長。 在一較佳形式中，形狀要照射之表面上之一照明區實 施變形照射是有效的。 在一較佳形式中，該形狀像是環狀。 在一較佳形式中，該形狀爲四重極形。 在一較佳形式中，來自光源之光線波長不大於2 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝- 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 594847 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7 _ 五、發明説明（1〇) 根據本發明還進一步之觀點，設有一曝光設備，利用 如上述之照明系統，加以照射形成在一 3個線或光罩上之 圖案，並利用一投影光學系統將該圖案投射在一作品上。 根據本發明還進一步之觀點，設有一種裝置製法，該 製法包含利用如上述之一曝光設備，以一裝置圖案曝曬一 作品之步驟，及對曝光作品實施一預定程序之一步驟。

申請專利範圍中所說明之裝置製法具保護範圍，該範 圍延伸至作爲一中介產品或一最終產品之裝置。該裝置， 例如可爲一半導體晶片（如L S I或V L S I ) 、C C D 、L C D、一磁性感測器，或一薄膜磁頭。 一考慮到結合隨圖之本發明較佳實施例之以下說明’ 本發明之這些和其它目的，特性及優點將變得更加明顯。 圖示簡單說明 第1圖爲根據本發明一第一實施例之一曝光設備之槪 要圖。 第2 A圖爲一凸面式整合器之一槪要和透視圖，該整 合器適用於第1圖中所示曝光設備之反射式整合器。 第2 B圖爲一凹面式整合器之一槪要和透視圖，該整 合器適用於第1圖中所示曝光設備之反射式整合器。 第3圖爲一用以說明反射式整合器作業之槪要圖，該 整合器具有如第2 A和2 B圖中所示之凸面圓柱形表面。 第4 A圖爲一用以說明光線反射在如第3圖中所示之 反射式整合器圓柱形表面上的透視圖。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐1 " -13- 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 594847 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（ 11) 1 I 第 4 B 圖 爲 一 用 以 說 明 光 線 反 射在 如 第 3 圖 中 所 示 之 1 1 反 射 式 整 合 器 圓 柱 形 表 面 上 的 向 量 圖 〇 1 | 第 5 圖 爲 一 用 以 說 明 如 第 4 A 圖 中 之 圓 柱 形 表 面 所 反 請 1 1 I 射 之 光 線 角 度 分佈 之 槪 要 圖 〇 先 閱 讀 1 1 1 第 6 圖 爲 一 用 以 說 明 由 第 1 圖 中 所 示 曝 光 設 備 之 兩 整 背 ιέ 之 1 1 合 器 所 界 定 之 弧 形 照 明 的 放 大 圖 〇 注 意 1 1 事 1 第 7 圖 爲 —^ 第 1 圖 中 所 示 一 修 飾 光 源 端 反 射 式 整 合 器 項 再 1 填 1 實 例 之 槪 要 和 透 視 圖 0 寫 本 裝 頁 1 第 8 圖 爲 根 據 本 發 明 第 二 實 施 例 曝 光 設 備 之 槪 要 圖 1 1 第 9 圖 爲 一 根 據 本 發 明 第 二 實 施 例 曝 光 設 備 之 槪 要 圖 1 1 I 〇 1 訂 I 第 1 0 圖 爲 一 用 以 說 明 第 9 圖 中 所 設 曝 光 設 備 其 中 之 1 1 I 一 光 源 端 整 合 器 的 槪 要 圖 〇 1 1 第 1 1 圖 爲 — 用 以 說 朋 第 9 圖 中 所 設 曝 光 設 備 另 一 光 1 | 源 端 整 合 器 的 槪 要 圖 〇 線 I 第 1 2 圖 爲 藉 由 交 換 在 第 9 圖 曝 光 設 備 中 之 光 源 丄山 贿 整 1 1 I 合 器 用 以 說 明 照 明 光 學 系 統 之 數 値 光 圏 切 換 步 驟 的 槪 要 1 1 圖 〇 1 1 第 1 3 圖 爲 藉 由 交 換 在 第 9 圖 曝 光 設 備 中 之 光 源 觸 整 1 | 合 器 用 以 說 明 照 明 光 學 系 統 之 數 値 光 圈 切 換 步 驟 類 似 1 1 於 第 1 2 圖 之 槪 要 圖 0 1 1 第 1 4 A 圖 爲 — 使 用 於 第 9 圖 中 所 示 曝 光 設 備 一 光 罩 1 1 端 整 合 器 之 —* 擋 板 實 例 的 平 面 圖 〇 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -14- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 _____B7 五、發明説明（12) 第14B圖爲一使用於第9圖中所示曝光設備一光罩 端整合器之另一擋板實例的平面圖。 第1 4 C圖爲一使用於第9圖中所示曝光設備一光罩 端整合器之一進一步擋板實例的平面圖。 第1 5圖爲一用以說明在第9圖曝光設備中一光罩端 整合器，一旋轉拋物面鏡及一遮罩片之槪要圖。 第1 6圖爲一用以說明例如爲半導體晶片（I c或 L S I ) 、L C D、C C D之裝置製程的流程圖。 第1 7圖爲一用以說明第1 6圖中步驟4 一晶圓製程 細節之流程圖。 第1 8圖爲一習知曝光設備之槪要圖。 第1 9圖爲一用以說明一光罩上照明區與一供曝光使 用區之間關係的平面圖。 主要元件對照表 1 0 0 0 e u v降低投影曝光設備 10 0 1 Ε ϋ V光放射點 1002 EUV光束 1 0 0 3 濾、光器 1 0 0 4 旋轉拋物面鏡 1005 反射式整合器 1 0 0 6 旋轉拋物面鏡 1007 反射式光罩 1〇〇8 複鏡系統 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ；297公釐） I---------裝------—訂------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -15- 594847 A7 B7 五、發明説明（13) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 〇 〇 9 晶 圓 1 〇 1 〇 光 罩 枱 1 〇 1 1 晶 圓 枱 1 〇 1 2 光 圈 1 〇 1 3 雷 射 光 源 1 〇 1 4 雷 射 聚 光 系 統 1 〇 1 7 真 空 容 器 1 〇 1 5 眧 明 1 〇 〇 8 投 影 光 學 系 統 1 〇 1 6 弧 形 區 1 〇 1 5 矩 形 區 1 〇 曝 光 設 備 1 〇 〇 光 源 單 元 2 〇 〇 照 明 光 學 系 統 3 〇 〇 光 罩 4 〇 〇 投 影 光 學 系 統 5 〇 〇 作 品 3 5 〇 光 罩 枱 5 5 〇 晶 圓 枱 1 2 真 空 容 器 1 4 真 空 容 器 2 〇 〇 — 5 5 〇 零 組 件 1 2 0 電 漿 光 線 放 射 點 1 3 〇 噴 嘴 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16- 594847 A7 B7 五、發明説明（14) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 4 〇 液 滴 收 集 裝 置 1 5 〇 旋轉 式 橢 圓 鏡 片 1 7 〇 濾 光 器 1 1 〇 雷 射 光 1 6 〇 E U V 光 束 2 1 〇 窗 □ 2 2 〇 旋 轉 拋 物 面 鏡 2 6 〇 旋 轉 拋 物 面 鏡 2 4 〇 拋 物 面 鏡 2 3 〇 反 射 式 整 合 器 2 5 〇 反 射 式 整 合 器 2 7 0 遮 罩 片 2 8 2 — 2 8 6 中 繼 光學系統 2 9 〇 調 整 □ α 早 元 2 2 2 光 束 2 3 2 圓 柱 形 表 面 2 3 〇 A 蠅 眼 鏡 片 2 5 2 圓 柱 形 表 面 2 5 2 A 圓 柱 形 表 面 2 5 〇 A 整 合 器 2 3 5 直 線 方 向 2 5 5 直 線 方 向 2 3 1 反 射 表 面 2 5 1 反 射 表 面 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝·

、1T 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17- 594847 A7 B7 五、發明説明（15) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 7 4 光 圏 2 7 2 遮 光 部 2 8 〇 中 繼 光 學 系 統 3 5 〇 光 罩 枱 2 8 8 鏡 片 2 3 6 擋 板 2 5 6 擋 板 2 3 8 擋 板 馬區 動 系 統 2 5 8 擋 板 馬區 動 系 統 2 3 7 a 遮 光 部 2 3 7 b 開 □ 2 5 7 a 遮 光 部 2 5 7 b 開 □ 2 5 6 a 擋 板 2 5 6 b 擋 板 2 5 6 c 擋 板 2 5 9 rm. 似 分 佈 2 6 2 陰 影 2 6 4 陰 影 2 9 5 瞳 孔 平 面 位 置 5 〇 〇 作 品 較 佳 實 施 例 說 明 現將參考附圖說明本發明之較佳實施例。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -18- 594847 A7 B7 五、發明説明（16) 爹考圖不’將S羊細說明根據本發明第一^實施例之一'曝 光設備1 0。 本實施例之曝光設備1 0爲一種步進-及一掃描曝光 式之投影曝光設備，它使用E U V光源（例如，波長二 1 3 · 4 n m )作爲曝光用之照明光線。如第1圖中所示 ，曝光設備1 0包含一光源單元1 〇 〇，一照明光學系統 200 ，一光罩300，一投影光學系統4〇〇及一要加 以曝光之作品5 0 0。而且’曝光設備1 〇包含一光罩枱 3 5 0，用以在上面承載一光罩3 0 0。及一晶圓枱 5 5 0，用以在上面承載一作品5 0 0。將光罩枱3 5 0 和晶圓枱5 5 0連接至一控制單元（未示出），藉由該控 制單元加以驅動控制光罩枱與晶圓枱。光源單元1 〇 〇和 照明光學系統2 0 0協同構成一照明系統。此處，第1圖 爲一曝光設備之槪要圖。 E U V光線對大氣之透射率爲低。在曝光設備1 〇中 考慮到這個，將光源單元1 0 〇容納在一真空容器1 2中 ，並將剩下之零組件2 0 0 - 5 5 0容納在另一真空容器 1 4中。此處應注意到的是本發明涵蓋至少將e U V光線 之路徑保持在一真空環境中之情況。 在光源單元1 0 0中，從一電漿光線照射點1 2 0產 生E UV光線。光源單元1 〇 〇包含一用以釋出爲電漿製 造提出一標的之液滴的噴嘴1 3 0，供其重用，用以收集 尙未被激發雷射光所照射之液滴的液滴收集裝置1 4 0， 一旋轉式橢圓鏡片1 5 0，及一濾光器1 7 0。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I---------扯衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 __ B7 五、發明説明（17) 從一包含一激發雷射光源和一聚光系統之激發雷射單 元（未示出）照射一高功率之激發脈衝雷射光1 1 0。這 脈衝雷射光被佈置成可在光線放射點1 2 0位置加以收集 。從噴嘴1 3 0連續以固定時距釋出作爲雷射電漿光源標 的之液滴（例如，X e )，且他們通過光線收集點1 2 0 。當這般釋出之液滴剛來到在1 2 〇之位置時，所激發之 雷射脈衝光線照射液滴，藉由該液滴產生高溫之電漿光線 放射點1 2 0。隨著自電獎之熱輻射，以放射狀照射 E U V光線。 雖然在本實施例中使用X e液滴爲一標的，另外可從 一噴嘴釋放X e氣體作爲標的進入一真空且可使用由隔熱 擴張所產生之集叢。作爲進一步之替代選項，可使用如金 屬表面所冷卻及凝固之X e氣體，或者可選取使用如c u 金屬之帶子。而且，雖然這實施例使用雷射電漿方法產生 Ε ϋ V光線，卻可使用一波動器作爲E U V光源。而且， 關於E U V光線產生方法。可使用Z夾子法或諸如中空陰 極觸發Z -夾子，毛細管作用釋放，電漿焦點等之釋放方 法。 以旋轉式橢圓鏡片1 5 0收集從電漿放射點1 2 〇所 放射之E U V光線。因此產生E U V光束1 6 0。旋轉式 橢圓鏡片1 5 0上面形成一反射多層膜，確定反射效率佳 。因它吸收來自高溫電漿1 2 0之一部分輻射能量，故在 曝光程序期間其溫度變高。由此之故，因此材料應爲一種 具良好熱導係數之金屬。此外，可使用適當之冷卻裝置（ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I批衣 訂 务 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -20 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 _ B7 五、發明説明（18) 未示出）連續冷卻該材料。濾光器1 7 0之作用在從電漿 或區域四周阻擋散粒（碎片），且濾光器亦攔截不爲 EUV曝光所需之波長。從設在容器12和14間介面之 窗口2 1 0將EUV光束導入真空容器1 4內部之照明光 學系統2〇〇。窗口 2 1 〇之作用在使EUV光線1 6〇 通過而保持真空。 隨相當於反射式降低投影光學系統1 〇 〇之一弧形視 野的弧形E U V光線，照明光學系統2 〇 〇作用在均勻地 照射光罩3 0 0。這包含旋轉拋物面鏡2 2 0和2 6〇， 一拋物面鏡2 4 0，反射式整合器2 3 0和2 5 0，一遮 罩片2 7 0，中繼光學系統2 8 2 - 2 8 6 (除非另有指 定，係以280表75)，及一調整單元290。 旋轉拋物面鏡2 2 0作用在反射經由窗口 2 1 0所導 入之E U V光線1 6 0，加以產生平行光束2 2 2。這般 設置平行E U V光線2 2 2影響具眾多凸面形圓柱表面 2 3 2之反射式凸面形圓柱表面整合器2 3 0。整合器 2 3 0之這些圓柱形表面2 3 2產生第二光源，並由拋物 面鏡2 4 0收集由這些第二光源所放射之E U V光線射射 並將它重疊另一光線，使得具眾多凸面形圓柱表面2 5 2 之反射式整合器2 5 0關於一方向實質上爲均勻之強度分 佈加以照射，其中，整合器2 5 0之圓柱形表面沿著該方 向加以排列。 反射式整合器2 3 0具眾多圓柱形表面，該圓柱形表 面與旋轉拋物面鏡2 4 0 —起，作用在均勻地照射反射式 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇><297公釐） " — -21 - I 裝 釘 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 五、發明説明（19) 整合器2 5 0 (即，實質上爲稍後會說明之庫勒照明）。 隨此佈置，可使針對放射方向，在一弧形照明區（稍後會 說明）內部之光線強度分佈實質上是均勻的。同時，可使 由反射式整合器所提供之有效光源分佈爲均勻的。反射式 整合器2 3 0與2 5 0可由一具有如第7圖中所示重複週 期之蠅眼鏡片2 3 Ο A所取代，在該蠅眼鏡片中可以兩度 空間加以排列大量之小凸面形或凹面形球面’。 反射式整合器2 5 0具眾多圓柱形表面，且它的作用 在均勻地照射光罩表面。此處，參考第2 A - 4 B圖將詳 細說明藉由整合器2 5 0之弧形區之均勻照明原理。第 2 A圖爲一用以說明平行光線投射在具有眾多反射式凸面 圓柱表面2 5 2之整合器2 5 0上情況之槪要及透視圖。 入射光線方向說明整合器2 5 0之情況。第2 B圖爲一具 有眾多反射式凹面形圓柱表面2 5 2A之整合器2 5 0A 之槪要及透視圖，提供如第2 A圖之類似效果。而且，整 合器2 3 0與具有反射式凸面形圓柱表面2 5 2之整合器 2 5 0具一類似結構。兩整合器2 3 0和2 5 0可以第 2 B圖中所示，具反射式凹面形圓柱表面2 5 2A之整合 器2 5 Ο A所取代。另外，他們可爲凸面形和凹面形圓柱 表面之組合。 如第2 A圖中所示，當大槪平行之E U V光線投射在 具有眾多圓柱形表面2 5 2之反射式整合器2 5 0上時， 整合器2 5 0產生第二光源。此外，從這些第二光源所放 射E U V光線之角度分佈形狀爲圓錐形。然後，利用焦點 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'〆297公釐） I--------1¾衣------1T------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -22- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 五、發明説明（2〇) 位在第二光源位置之反射鏡加以反射E U V光線，且隨後 以反射之E U V光線照射光罩3 0 0或與光罩3 0 0結合 之平面可完成弧形照明。 第3圖爲一具有反射式凸面形圓柱表面2 5 2之整合 器2 5 0的碎片放大圖。第4 A和4 B圖分別爲說明反射 在整合器2 5 ◦ —圓柱形表面2 5 2上EUV光線之透視 圖和向量圖，其中之整合器2 5 0具有反射式凸面形之圓 柱形表面2 5 2。第5圖爲一用以說明由整合器2 5 0 — 圓柱形表面2 5 2所反射E U V光線之角度分佈之槪要圖 ，其中之整合器2 5 0具有反射式凸面形之圓柱表面 2 5 2° 爲了說明具眾多圓柱形表面2 5 2之反射式整合器 2 5 0之作業，首先參考第4A和4 B圖將說明當平行光 線投射在一單一圓柱形反射鏡上時所造成之反射光作用。 現在，如第4 A圖中所示，考慮平行光線相對垂直於 2軸（圓柱表面之中心軸）之平面（X - y平面）以β角 投射在一單一圓柱形表面上之情況。在入射平行光線之光 線射線向量爲Ρ 1且圓柱形反射表面之正常直線向量爲η 處則可以下列向量方程式加以界定Ρ 1和η。此處，爲方 便起見，除了那些以下實際附加者外，省略代表向量，附 加至Ρ1 ，η，等之箭頭。 ^ 0 ' PI = -cos0 < sin0 一 _ — ..(3) __ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — -23- ---------^------1T------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 594847 A7 B7 五、發明説明（ 2r •-sina cosa .0…⑷參考第4 B圖，如η至- P 1之垂直投射向量爲 〃則v' a 〃可以下列方程式表示：=lplI *{(-P1-n)/( I-PI I |η|}-η =-(?1·η)η ...(5)而且，假定反射光線Ρ 2之光線射線向量爲： Ρ2 = a+b = a+(Pl+a) = Pl+2a 從方程式（3 )和（4 )，假定P 2爲： -V P2 = Pl-2(Ρ1·η)η …（6) • 0 — •-sina" 〜cos0sin2a · -COS0 +2cos0cosoc cosa = cos0cos2a isin0 ， .〇 · ► sin0 ^ I I I I ;批衣 n 訂 I .....I n線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -..(7)如投射在X - y平面上之反射光線P 2之光線射線向 爲Q，則可以下列方程式加以界定： • -cos0sin2oc， • -sin2aΊ --sin2a · Q = =cosG· =R * cos0cos2oc · .cos2a , ，cos2a . ...(8)因此，當畫在第5圖中所示之相位空間時，Q存在於 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -24- 594847 A7 B7 五、發明説明（22) 半徑R = c os ι9之外圍且範圍爲—2φ<2 a α<2φ。 即反射光線Ρ 2爲圓錐形之放射光線，且第二光源位在圓 錐峯（頂點）位置。在圓柱形表面爲凹面處，第二光源以 實像存在於反射表面外。如爲凸面形，則第二光源以一虛 像存在於反射表面內。 而且，在只以如第3圖中所75之一部分圓柱形表有限 界定反射表面且其中心角爲處，如第5圖中所示，反 射光線Ρ 2之光線射線向量爲弧形，在X - y平面上具中 心角爲4 φ。 隨後，考慮平行光線投射在包含一部分圓柱形鏡片之 反射鏡上的情況及設有焦點位在第二光源位置且焦距爲f 之旋轉拋物面反射鏡，另一方面，將要照射之表面置放在 距這旋轉拋物面反射鏡爲f之位置的情況。從第二光源所 放射之光線爲圚錐形發散光線，並在焦距爲f之反射鏡所 反射後轉爲平行光線。此時之反射光線是半徑爲f X c 〇 s 0而中心角爲4 φ，切面爲弧形之薄片似光束。因 此，只能照射半徑爲f X C 〇 s 0而中心角爲4 φ之弧形 區。 雖然前項說明與一單一圓柱形反射表面有關，接著， 如第2 Α圖中所示，將會考慮寬面整合器2 5 0有許多圓 柱形表面2 5 2彼此平行排列及厚度爲D之平行光線沿所 圖示方向投射在整合器之情況。如將旋轉拋物面反射鏡和 一光罩3 0 0佈置成像前例，則由具有許多圓柱形表面彼 此平行排列之反射鏡所反射之光線的角度分佈和前例不變 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---------批衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -25- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 Α7 Β7 五、發明説明（23) 。因此，在光罩3 0 0上可照射半徑爲f X c 〇 s 0而中 心角爲4 φ之弧形區。而且，影響光罩3 0 0上一單一點 之光線射線來自具有許多排成列之圓柱形表面之反射鏡上 的整個照射區，故其角度延伸爲D / f。假定數値光圈 N A爲s i η Θ ，且因此照明光學系統2 0 0之數値光圏 爲D/2 f。如在光罩3 0 0端之投影光學系統4 0 0之 數値光圈爲N A P 1 ，則凝聚因子σ爲σ = D / ( 2 f N A ρ 1 )。因此，根據影響整合器2 5 0之平行光 線厚度，可設定最適宜之凝聚因子σ。 根據利用上述整合器2 5 0及額外利用整合器2 3 0 之照射一弧形區原理，本實施例確保一弧形區之照明更有 效且均勻。現在參考尤其表面第1圖中整合器2 3 0和 2 5 0之第6圖，將更加詳細說明本實施例之結構。 在第6圖中，整合器2 3 0之眾多凸面圓柱形反射表 面2 3 2之直線方向2 3 5 (產生直線方向）垂直於圖片 。圖中之2 3 3表示整合器2 3 0之底面。而且，整合器 2 5 0之眾多凸面圓柱形反射表面2 5 2之直線方向 2 5 5平行於圖片。圖中之2 5 3表示整合器2 5 0之頂 面。 如在此之前之說明，本實施例一重要特性爲，有關兩 整合器2 3 0和2 5 0之佈置是將凸面圓柱形反射表面 2 3 2陣列方向和凸面形反射表面2 5 2之陣列方向佈置 成彼此垂直。以下要說明的是這種佈置確保弧形照明之均 句〇 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） 批衣 訂 I線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -26- 594847 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（24) 當一大槪平行之E U V光束2 2 2投射在如第6圖中 所示整合器2 3 0之反射表面2 3 1上時，那就是，與方 向2 3 5垂直，則在整合器2 3 0內部產生第二光源之一 虛像，並以一相當小之預定發散角0 1，從各別第二光源 反射E U V光線射線。這種發散E U V光線是由一拋物面 鏡2 4 0所反射的，因此，它是以平行光線投射在整合器 250之反射表面251上。 將拋物面鏡2 4 0佈置成使其焦點位置實質上與整合 器2 3 0之反射表面2 3 1重合，且將來自反射表面 2 3 1上各別圓柱形表面2 3 2之反射光線射線成一光線 重疊另一光線在整合器2 5 0之反射表面2 5 1上。因拋 物面鏡2 4 0足以使整合器2 5 0之圓柱形反射表面 2 5 1上之光線強度分佈相對於長度方向（產生直線方向 )爲均勻的，而鏡片應具拋物面部位’因此’並非永遠需 要使用一旋轉拋物面鏡。因此將拋物面鏡2 4 0佈置成與 整合器2 5 0之反射表面2 5 1有關加以大槪滿足庫勒照 明。以這種佈置，在整合器2 5 0之反射表面2 5 1上， 尤其是對於方向2 5 5，完成更均勻之強度分佈。 如參考第2 A - 5圖已說明者’以旋轉拋物面鏡 2 6 0收集由具有眾多凸面圓柱形反射表面所反射之 EUV光束，並在佈置於其焦距爲丨位置之遮罩片2 7 0 上界定一均勻之弧形照明區。 如第6圖一部分中所圖解前視圖所說明’最適合曝光 的是，遮罩片2 7 0具一由吸收E u V光線之材料所製成 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝·

、1T 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇Χ297公釐） -27- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 五、發明説明（25) 之遮光部272，以及一弧形光圈274。遮罩片270 之作用在阻擋無法對弧形照明起作用之不想要雜散光線， 且其亦有一項作用在與一狹縫寬度變更機構（未示出）協 同。設立一預期狹縫寬度，而且藉局部變更狹縫寬度加以 修正照明之非均勻度。 隨上述結構，在弧形照明區中，至於沿著弧拱角度方 向（即Θ方向），使來自整合器2 5 0之眾圓柱形表面 2 5 2之眾光束成一光束重疊另一光束，藉此確保均勻度 。至於垂直於弧拱之輻射方向（即r方向），使來自整合 器2 3 0之光束成一光束重疊另一光束，藉此確保均勻度 。結果’效率變成甚高於習知結構，並完成非常均勻之弧 形照明。 通過遮罩片2 7 0之弧形開口之E U V光線由一中繼 光學系統2 8 0轉換成預期倍率，且之後，界定承接在光 罩枱3 5 0之反射式光罩3 0 〇上之弧形照明區，因此實 施弧形之照明。中繼光學系統2 8 0包含眾多鏡片表面。 具其作用在以預定倍率放大或降低弧形大小。 調整單元2 9 0爲一主要射線（光軸）調整機構。其 主要作用在藉產生中繼光學系統2 8 0鏡片位置之細小偏 移及旋轉移動加以調整來自反射式光罩3 〇 〇之反射光線 ’使令人滿意地與投影光學系統4 0 0之光線入口端光軸 重合。 而且，如第8圖中所示，可將遮罩片2 7 0佈置在光 罩3 0 0近鄰，並可減小中繼光學系統2 8 0。第8圖爲 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇χ297公釐） 裝 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -28- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 五、發明説明（26) 第1圖曝光設備1 0 —修飾實例主要部位的槪要圖，並指 定類似之編號給對應元件。重複之說明將予以省略。 包含光罩3 0 0之各鏡片之表面在它上面形成一多層 膜’在該膜中’具有大折射率差及小吸收率之兩種形式之 材料，以一相當於一半曝光波長之期間，交錯並重複地形 成層膜。這在對於大槪以正常投射，投射在那上面之 E U V光線可確保高反射率。爲了較高之反射率，經常使 用Μ 〇或S i作爲材料。然而，甚至在那種情況，可得到 之反射率約6 0至最佳7 0 %。 因爲這理由，在照明光學系統2 0 ◦中，爲了抑制反 射光強度之損耗，必須將使用之鏡片數降至最低。根據本 發明之這實施例，具弧形開口之遮罩片是佈置在反射式光 罩3 0 0之反射表面近鄰。這能省略第1圖中之中繼光學 系統2 8 2和2 8 4，且因此增進照明光學系統2 0 ◦之 效率。而且在第8圖之情況中，應注意到可使用未示出之 一主射線（光軸）調整單元加以產生鏡片2 8 8之細小偏 移和旋轉偏移。因此，調整來自反射式光罩之反射光源， 使其與投影光學系統4 0 0之光線入口端光軸充分重合。 接著，參考第9圖，將說明能設定預期照明條件之本 發明另一實施例。第9圖爲根據本發明第三實施例一曝光 設備1 Ο B之槪要圖。 與第1圖中所示之曝光設備1 0比較，曝光設備 1 Ο B包含可根據一預期照明條件交換使用之兩反射式整 合器230和23〇B，以及擋板236和256 ，及隨 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -29- 594847 A7 B7 五、發明説明（27) 其相關之擋板驅動系統2 3 8與2 5 8。 反射式整合器2 3 0和2 3 Ο B各爲具有眾多凸面圓 柱形表面之反射式整合器，但對於圚柱形表面之曲度半徑 (且因此階數），他們彼此不同。藉由交換整合器2 3〇 和2 3 Ο B，可調整凝聚因子σ，那就是照明系統之數値 光圏爲一預期値。這將詳述如下。 第1 0圖爲一具有眾多凸面圓柱形表面2 3 2之整合 器2 3 0表面之槪要圖，而第1 1圖爲整合器2 3 0Β表 面之槪要圖。在這實例中，將整合器2 3 0和2 3 0Β之 圓柱形表面2 3 2和2 3 2 Β的曲度半徑r 1和τ 2設成 滿足r 1 < r 2之關係。 現在，從以上將考慮將一平行光束投射並入射在整合 器2 3 0之凸面圓柱形反射表面上的情況。在該情況中， 雖然光線由凸面圓柱形之反射表面2 3 1加以發散，但是 在凸表面內部，距曲度中心◦ r 1 / 2距離位置卻有一作 爲虛像之光線滙聚點存在。因此，以下列方程式所假定之 放射角Θ 1 ，將反射光線反射爲發散光線： 0 « 2 W / r 1 ( 9 ) 類似地，在整合器2 3 Ο B中，在距凸面圓柱形表面 2 3 2 B之曲度中心〇 r 1 / 2距離位置，有一作爲虛線 之光線匯聚點存在。因此，以下列方程式所假定之發散角 Θ 2將反射光線加以發散： 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 、\-口 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -30- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 ______B7 ____ 五、發明説明（28) Θ 2 ^ 2 Ψ / I 2 (10) 此處，從r 1 < r 2之關係，有滿足θ 1 > Θ 2之關 係。即，由整合器2 3 0所反射光線之發散角0 1大於由 整合器2 3 0 B所反射光線之發散角β 2。 第1 2和1 3福藉由交換整合器2 3 0和2 3〇Β， 用以說明照明光學系統2 0 0數値光圈之切換程序。在第 1 2圖中，如圖解說明，當通過擋板2 3 6之大槪平行 EUV光束2 2 2投射到整合器2 3 0之反射表面2 3 1 上時，在整合器2 3 0內部產生第二光源之虛線，且 Ε ϋ V光線並以一預定發散角θ 1從各別之第二光源加以 反射。由焦距爲f 1之拋物面鏡2 4 0加以收集這般發散 之Ε ϋ V光束。然後，經由一擋板2 5 6，將光線投射在 整合器2 5 0之反射表面2 5 1上，成爲大槪平行之光線 〇 以一旋轉拋物面鏡2 6 0收集由具有眾多凸面圓柱形 反射表面2 5 1之整合器2 5 0所反射之EUV光束，使 得依據佈置在其焦距f 2位置處之遮罩片2 7 0加以界定 一均勻弧形照明區。此處，以下列方程式假定在遮罩片 2 7 0之照明光學系統2 0 0之數値光圈N A 1 : NAl-01^/2^(fl-01)/2f2 (11) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 裝 訂 線 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -31 _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 五、發明説明（29) 數値光圈N A 1等於與在反射式光罩3 0 0之照明光 學系統2 0 0之數値光圈成正比例之量，且其與發散角 Θ 1成正比例。 如第1 3圖中所示，當利用一切換機構（未示出）， 使整合器2 3 0改爲整合器2 3 Ο B時，類似地，由下列 方程式加以界定在遮罩片2 7 0之照明光學系統2 0 0之 數値光圈N A 2 : NA2 = 02^/2-(fl-02)/2f2 (12) 從θ 1 > Θ 2之關係，看到當使用整合器2 3 0時， 與使用整合器2 3 Ο B之情況比較，可得到較大之照明光 學系統2 0 0之數値光圏，且那凝聚因子σ較大。 雖然以上已說明可交換使用兩整合器2 3 0和2 3〇 Β之一實例，爲了逐步改變凝聚因子σ，例如，使用旋轉 枱可交換使用兩個以上之具不同發散角之整合器。另外回 應整合器2 3 0之切換，藉交換擋板2 5 6，可控制入射 光束直徑爲一預期大小。這確保控制σ之更佳精確度。 擋板2 3 6是設在反射式整合器2 3 0或2 3 Ο Β前 方，且它具一遮光部2 3 7 a和一開口 2 3 7b。擋板 2 3 6是由擋板驅動系統2 3 8所驅動，藉由該擋板驅動 系統。可連續變換開口 2 3 7 b之光圈直徑。而且，擋板 2 3 6可被佈置在整合器2 3 0或2 3 Ο B之表面上或近 鄰。在那情況下，光線一旦通過擋板2 3 6可再通過擋板 本紙張尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4規格（210X297公釐）""" 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -32- 594847 A7 B7 五、發明説明（30) 2 3 6而不會被遮蔽。回應從一控制系統（未示出）施加 至擋板驅動系統2 3 8之一訊號加以調整開口 2 3 7 b之 光圏直徑。擋板驅動系統2 3 8可包含該技術中所熟知之 任一結構，例如爲虹膜擋板機構。 而且，可這麼調整整合器位置，使得整合器之切換不 致造成當中界定第二光源之平面的移位。如因整合器之切 換，產生照射中表面上照明之不均勻性，則可調整，例如 遮罩片之形狀加以修正這種照明之不均勻性。 如圖中之虛線說明，藉改變擋板2 3 6之光圈直徑， 可調整沿平行於圖片之方向，投射在整合器2 5 0上之延 伸光束。即，如在第9圖中，擋板2 3 6之光圈直徑變大 ’則在第9圖中，可調整在其徑向之弧形狹縫寬度，該狹 縫界定遮罩片2 7 0上之一照明區。而且，不只是切換整 合器230和230B，而且亦可經由擋板256之調整 而調整影響整合器2 5 0之光束厚度D。以這步驟，可調 整凝聚因子σ爲一預期位準，且因此可修正照明之不均勻 性。 擋板2 5 6是設置在反射式整合器2 5 0之前。這是 由擋板驅動系統2 5 8驅動加以連續改變其光圏直徑，藉 由光圈直徑可界定一預期之有效光源分佈。擋板2 5 6具 一遮光部2 5 7 a和一開口 2 5 7 b。可將擋板2 5 6佈 置在整合器2 5 0表面上或近鄰。在那情況下，一旦通過 擋板2 5 6之光線可再通過擋板2 5 6而不會被遮蔽。 以一旋轉拋物面鏡2 6 0收集通過擋板2 5 6並由具 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） —---------裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -33- 594847 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（31) 有眾多凸面圓柱形反射表面之整合器2 5 0所反射之 E UV光束，因此在佈置於鏡片焦點位置之遮罩片2 7 〇 上加以界定一均勻之弧形照明區。 現在參考第1 4 A - 1 4 C和1 5圖，將說明例如藉 切換擋板2 5 6加以實施如環狀變形照明之步驟。第1 4 A - 1 4 C圖爲可被應用至擋板2 5 6之擋板平面圖。第 1 4 A圖表示供一般照明用之擋板2 5 6 A。第1 4 B圖 表示稱爲環狀照明之擋板2 5 6 B。第1 4 C表示可稱爲 四重極照明之擋板2 5 6 C。例如，如第9圖中之擋板 2 5 6所示，可以旋轉枱形式備置如所圖解說明之數個圖 案，且可由擋板驅動系統2 5 8旋轉旋轉枱加以回應來自 一控制系統（未示出）之訊號，選取使用一預期之光圏形 狀。不使用一旋轉枱，可使用任何其它之機械步驟，例如 爲依序交換眾擋板。 如第9圖中所示，將擋板2 5 6佈置在整合器2 5〇 之反射表面2 5 1近鄰。因此，如影響整合器2 5 0之光 線的入射角爲Θ，在整合器250之反射表面251，光 束直徑是沿整合器2 5 0上，入射光線平面之方向（平行 於圖片之方向）加以延伸，且倍率爲1 / c 〇 s (9。考慮 到此，擋板2 5 6之光圏2 5 7 b形狀必須以倍率1 / c 〇 s 0，在相同方向上加以延伸。第1 4 A圖中，例如 雖然使用擋板2 5 6 A限制入射光束直徑成圓形，這橢圓 體縱橫比爲1 / c 〇 s Θ。這同樣適用於第1 4 B之擋板 256B和第14C圖之擋板256C。 :本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝* 訂 線_ -34- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A7 B7 五、發明説明（32) 接著，取擋板2 5 6 B (用以設定環狀照明模式）爲 例將說明裉據擋板2 5 6之變形照明原則。變形之照明方 法爲超解析度技術步驟之一，那就是R E T (解析度增強 技術），該R E T是以降低方程式（1 )中比例常數k 1 之値爲依據。 第1 5圖表示從第9圖中所示結構所抽取之整合器 2 5 0，旋轉拋物面鏡2 6 〇和遮罩片2 7 0。第1 5 ( a )(上半）圖爲以正發射中之鏡片2 6 0觀之之側視圖 ，而第1 5 ( b )(下半）圖爲上視圖。界定環狀照明模 式之擋板2 5 6 B之佈置如第1 5 A圖中所示，但爲簡化 說明起見，在第1 5 B圖中未加以圖解說明。 關於投射在反射式整合器2 5 0上之光束，其光軸中 心部位及其外徑部位爲擋板2 5 6所阻擋，因此，光線以 橢圓形之環似分佈2 5 9加以反射。分佈形狀2 5 9等於 擋板2 5 6 B之光圈形狀。以旋轉拋物面反射鏡2 6 0收 集這般產生之光線，因此，在遮罩片2 7 0位置界定一均 勻照明區，將該遮罩片放在焦距f 2位置。因光線之中心 部位被加以阻襠，所收集到之光線爲如第1 5圖中陰影 2 6 2所描繪之光束。 這亦爲第1 5 ( b )圖之情況，且所設置之光線爲由 陰影2 6 4所描繪之光束。以此方式，反射式整合器 2 5 0之作用在照明光罩3 0 0 (經由關鍵性照明），使 得關於弧形區之角度方向，第二光源是以一光束重疊在另 一光束之上，但關於弧形區之徑向，將所有光線射線收集 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -35- 594847 A7 B7 五、發明説明（33) 在~單一點。迫意爲’在主要射線和光軸間之交叉位置， 那就是，在瞳孔平面位置2 9 5，實施如2 7 8所描繪之 分佈，即環似照明。 回頭參考第1圖，將說明根據這實施例之曝光方法。 而且在第8和9圖中，光罩3 0 〇後之結構相同。 反射式光罩3 0 0包含一多層膜反射鏡，在該反射鏡 上形成例如由E U V吸收性材料所製成之非反射部加以界 定一種傳輸圖案。以一種弧形狀加以照射反射式光罩 3 0 〇，且從它所反射之E U V反射光線帶有關於光罩 3 0 〇電路圖案之資訊。然後以適於曝光之一適當倍率， 以投影光學系統4 0 0將E U V光線投射並成像在對那有 施加一感光材料之作品5 0 0上，因此，完成電路圖案之 曝光。這實施例之投影光學系統4 0 0包含一具有六鏡片 之反射式投影光學系統，但鏡片數不限於6。可使用預期 之鏡片數，例如爲4、5或8。 作品5 0 0由晶圓枱5 5 0所固定加以承接。它在沿 圖片之縱向和橫向中具有平移移動之作用。其移動是利用 如雷射干擾儀（未示出）之雷射測量裝置加以控制。如投 影光學系統4 0 0之倍率爲Μ，則可以速度V，以平行於 圖片之方向掃描式地移動，例如，反射式光罩3 0 0，且 同時隨其以速度V /Μ，以平行於圖片之方向加以移動作 品5 0 0。經由這種同步掃描，實施全表面之曝光。 雖然本實施例與晶圓曝光有關，所曝光之作品5 0 0 不限於晶圓。例如，這可爲一液晶基底，或要處理之任何 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格(210X297公釐1 ~ — -36 - (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 Α7 Β7 五、發明説明（34) 聋-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其它構件。作品5 0 0被塗覆一抗蝕材料。抗蝕塗覆程序 可包含一前製程，粘著增強劑塗覆程序，抗鈾劑塗覆程序 ，及一預烘序程。前製程可包含沖洗、吹乾之類者。粘著 增強劑塗覆程序爲一種用以增進表面品質之程序（利用一 種介面活性劑之拋物面處理）’且可塗覆或以蒸氣沈積如 Η M D S (六甲基-二矽氯烷）之有機膜。預烘爲卸除溶 解劑之烘乾步驟（燒結），但與顯影程序後要做之類似步 驟比較，預烘是溫和的。 晶圓枱5 5 0支撐作品5 0 0。關於晶圓枱，可將這 技術中所熟知之任何結構應用到這晶圓枱。例如，可使用 一線性馬達，在X、Υ和Ζ方向中移動作品5 0 0。利用 未示出之一控制單元同步彼此移動光罩3 0 0和作品 5 0 0。而且，例如利用雷射干擾儀加以監視光罩枱 3 5 0和晶圓枱5 5 0之位置，並以一定速比移動這些架 枱。 接著，參考第1 6和1 7圖，將說明使用上述一曝光 設備之裝置製法之一實施例。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第1 6圖爲說明各種微裝置之製造步驟流程，該微裝 置例如爲半導體晶片（例如，I C或L S I )，液晶面板 ，或C C D。此處將以半導體之生產爲例如加以說明。步 驟1爲用以設計一半導體裝置電路之設計程序。步驟2爲 根據電路圖案設計，用以製造光罩之程序。步驟3爲利用 如矽材料，用以配製晶圓之程序。步驟4爲稱爲前製程之 一種晶圓程序，其中，利用這般配製之光罩和晶圓，根據 本紙張尺度適用中.國國家標準( CNS ) Α4規格（ 210X297公釐） -37- 594847 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 __ 五、發明説明（35) 蝕刻術，實際上在晶圓上形成一電路。隨後之步驟5爲稱 爲後製程之組裝步驟，其中，將在步驟4中已處理之晶圓 加以形成半導體晶片。這步驟包含一組裝（晶圓切割和打 線）程序及一封裝（晶片密封）程序。步驟6爲一種檢視 步驟，其中，對由步驟5所產製之半導體裝置實施操作檢 核’耐用性檢核等。以這些程序加以生產半導體裝置並加 以出貨（步驟7 )。 第1 7圖爲用以說明晶圓程序細節之流程圖。步驟 1 1爲將晶圓表面加以氧化之氧化程序。步驟1 2爲在晶 圓表面上形成一絕緣膜之C V D程序。步驟1 3爲以蒸氣 沈積法在晶圓上形成電極之電極形成程序。步驟1 4爲將 離子植入晶圓之一種離子植入程序。步驟1 5爲對晶圓塗 覆一抗蝕刻（感光材料）之抗蝕程序。步驟1 6爲藉由曝 光，經由上述之曝光設備在晶圓上印製光罩之電路圖案的 曝光程序。步驟1 7爲將所曝光之晶圓加以顯像之顯像程 序。步驟1 8爲用以移除所顯像之抗蝕影像以外部位的蝕 刻程序。步驟1 9爲受到蝕刻程序後，用以分離晶圓上所 留存抗蝕材料之抗蝕刻分離程序。利用重覆這些程序，在 晶圓上重疊地形成電路圖案。 以這些程序可製造高密度之微裝置。 這實施例之裝置製法確保生產較高品質之裝置。因此 ’本發明階段性地包含使用如說明之曝光設備1 〇的裝置 製法及以方法之合成所生產之裝置本身。 雖然已經參考此處所發表之結構加以說明本發明，但 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（ 210X297公釐） ' 一 - -38- I---------裝--------訂------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 594847 A7 B7 五、發明説明（36) 不限於所說明之細節並預期本申請案要涵蓋可隨在以下申 請專利增進目的或範圍內之這種修飾或變更。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I 裝—._ 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公漦） -39-

Claims (1)

1. 594847 ABCD 修 月正 曰 六、申請專利範圍 1 附件4: 第91116593號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國93年4月30日修正 1 · 一種照明系統，以來自一光源之光線加以照射要 照射之表面，其特徵爲： 一第一反射式整合器； 一第一聚光鏡系統，該系統是使來自該第一反射式整 合器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上； 一第二反射式整合器，該整合器是佈置在光源和該第 一反射式整合器之間；以及 一第二聚光鏡系統，該系統是使來自該第二反射式整 合器之光束成一光束重疊另~光束在該第一反射式整合器 上。 2 ·如申請專利範圍第1項之照明系統，其中，該第 一反射式整合器具有由各爲一圓柱形表面一部位之區段所 界定之反射表面，該區段被佈置成實質上爲彼此平行，使 (請先閲讀背面之注意事 1·. 項再填I 裝— :寫本頁) 、言 .曹 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第 該 中 其 統 系 明 照 。 之 形項 瓜 1—I 爲第 區圍 明範 照利 之專 上請 面申 表如 射· 照 3 要 得 所且 段， 區行 之平 位此 部彼 一 爲 面上 表質 形實 柱成 圚置 1 佈 爲被 各段 由區 有該 具 ， 器面 合表 整射 式反 射之 反定 二界 線 第 動 該 面 ， 表 中 形 其 柱 ， 圓 統 之 系 中 明 器 照 合 之 整 項 式 2 射 第 反 圍 二 範 第。利 和直專 一 垂請 第此申 該彼如 在爲· ， 上 4 中質 其實 I張 -紙 本 準 樣 家 國 國 中 一用 I適 I釐 公 7 9 2 594847 經齊部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 2 一反射式整口益具有由各爲一*球形表面~'部位之區段所界 定之反射表面，該區段被佈置成二度空間。 5 ·如申請專利範圍第2項之照明系統，其中，圓柱 形表面爲凸面形、凹面形和凹凸面形組合形中之一種形狀 〇 6 ·如申請專利範圍第1項之照明系統，其中，將該 照明系統建構成使得要照射之表面是以關於子午線部位之 關鍵亮度加以照射，而關於矢形部位則以庫勒照明加以照 7 ·如申請專利範圍第1項之照明系統，其中更包含 (i ) 一擋板，該擋板被佈置在該第一聚光鏡系統和要照 射之表面之間，並具一光圏，加以界定要照射之表面上的 一照明區’以及（i i ) 一反射光學系統，該系統利用通 過該光圈之光線，使該擋板之該光圈成像在要照射之表面 上。 8 ·如申請專利範圍第7項之照明系統，其中更包含 一調整單元，以偏心及/或旋轉方式移動該反射光學系統 中之至少一鏡片，因此加以調整影響要照射表面之光線的 入射角。 9 ·如申請專利範圍第1項之照明系統，其中更包含 一具有一光圏之擋板，用以界定要照射表面上之一照明區 0 1 0 .如申請專利範圍第1項之照明系統，其中更包 含一調整單元，以偏心及/或旋轉方式移動該第一聚光鏡 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210χ297公釐） ^--------IT----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 594847 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 _______ 08六、申請專利範圍 3 系統中之至少一鏡片，因此加以調整影響要照射表面之光 線的入射角。 1 1 · ~種照明系統，用以照射一要照射之表面的照 明系統，其特徵爲： 一鏡片系統，該系統用以將來自光源之光線導向要照 射之表面；以及 一調整單元’該單元以偏心及/或旋轉方式移動該鏡 片系統中至少一鏡片，因此加以調整影響要照射表面光線 之入射角。 1 2 · —種照明系統，以來自一光源之光線加以照射 要照射之表面，其特徵爲： 一第一反射式整合器； 一第一光學系統，該系統將來自光源之光線投射在該 第一反射式整合器上面；以及 一第二光學系統，該系統是使來自該第一反射式整合 器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上； 其中’該第一光學系統包含一變更單元，該單元是用 以改變影響該第一反射式整合器之光源直徑及/或形狀。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之照明系統，其中， 該變更單元包含至於光圈形狀及/或大小彼此不同之眾多 擋板’及一驅動系統，該系統將該擋板之一選擇性地置放 在或近鄰該第一反射式整合器之反射表面。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之照明系統，其中， 使各光圏形狀沿投射在該第一反射式整合器上光線之X射 ^^張尺度適用中國國家標準（€叫八4賴>(210\297公董) ~ " (請先閱讀背面之注意事 4 •項再填· 裝— :寫本頁) 、1T -t 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594847 A8 B8 C8 __________ D8 六、申請專利範圍 4 ^ 平面之方向加以伸長。 1 5 ·如申請專利範圍第1 2項之照明系統，其中， 變更單兀包含（i ) 一第二反射式整合器，一聚光鏡系統 ’用以使自該第二反射式整合器之光束成一光束重疊另— 光束在該第一反射式整合器上，以及（i 一擋板，該 撑板具一可變光圈直徑，且被佈置在或近鄰該第二反射式 整口益之反射表面。 1 6 ·如申請專利範圍第1 2項之照明系統，其中， 該變更單元包含（i )眾多第·二反射式整合器，該整合器 彼此具不同所放射光線之放射角，（i i ) 一聚光鏡系統 ’用以使來自該第二反射式整合器之光束成一光束重疊另 一光束在該第一反射式整合器上，以及i i) 一驅動 系統，用以將該第二反射式整合器其中之一選擇性地置放 在來自光源之光源路徑上。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之照明系統，其中更 包含一具有可變光圏之擋板且該擋板被佈置在或近鄰該第 二反射式整合器之反射表面。 1 8 · —種照明系統，以來自一光源之光線加以照射 要照射之表面，其特徵爲： 一第一反射式整合器，該整合器有一佈置在一瞳孔位 置之反射表面； 一第一光學系統，用以將來自光源之光線歪斜地投射 在該第一反射式整合器之上面； I 一第二光學系統，用以使來自該第一反射式整合器之 本紙適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ —- --------0^------訂-----镛 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 594847 8 8 8 8 ABCD 六、申請專利範圍 5 光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上；以及 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一擋板，該擋板被佈置在或近鄰該第一反射式整合器 之反射表面，該擋板光圏形狀沿歪斜地投射在該第一反射 式整合器上光線之入射平面之方向加以伸長。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之照明系統，其中之 形狀在要照射之表面上之一照明區實施變形照射是有效的 〇 2 0 ·如申請專利範圍第1 8項之照明系統，其中之 形狀像是環狀。 • 2 1 ·如申請專利範圍第1 8項之照明系統，其中之 形狀爲四重極形。 2 2 ·如申請專利範圍第1 — 2 1項中任一項之照明 系統，其中，來自光源之光線波長不大於2 0 n m。 2 3 · —種曝光設備，使用照明系統加以照射形成在 一網線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖 案投射在一工件上， 其中，該照明系統以來自光源的光照射要照射的表面 ，且其特徵在於： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一第一反射式整合器； 一第一聚光鏡系統，該系統是使來自該第一反射式整 合器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上； 一第二反射式整合器，該整合器是佈置在光源和該第 一反射式整合器之間；以及 一第一聚光鏡系統，該系統是使來自該第二反射式整 本紙張尺度適财賴家料（CNS ) A4祕（210X297公釐) : '" 594847 ABCD 六、申請專利範圍 6 合器之光束成一光束重疊另一光束在該第一反射式整合器 上。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 4 . —種設有要曝光的圖案的裝置之製造方法，該 方法包含使用曝光設備以使具有裝置圖案之工件曝光的步 驟，以及對曝光的工件實施預定程序之步驟， 其中，該曝光設備使用照明系統加以照射形成在一網 線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖案投 射在一工件上，_ 其中，該照明系統以來自光源的光照射要照射的表面 ，且其特徵在於： 一第一反射式整合器； 一第一聚光鏡系統，該系統是使來自該第一反射式整 合器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上； 一第二反射式整合器，該整合器是佈置在光源和該第 一反射式整合器之間；以及 一第二聚光鏡系統，該系統是使來自該第二反射式整 合器之光束成一光束重疊另一光束在該第一反射式整合器 上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 5 · —種曝光設備，使用照明系統加以照射形成在 一網線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖 案投射在一工件上， .其中，該照明系統用於照射要照射的表面，且其特徵 在於： 一鏡片系統，該系統用以將來自光源之光線導向要照 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 594847 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 7 射之表面；以及 一調整單元，該單元以偏心及/或旋轉方式移動該鏡 片系統中至少一鏡片，因此加以調整影響要照射表面光線 之入射角。 2 6 · —種曝光設備，使用照明系統加以照射形成在 一網線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖 案投射在~工件上， 其中，該照·明系統以來自光源的光照射要照射的表面 ，且其特徵在於 一第一反射式整合器； 一第一光學系統，該系統將來自光源之光線投射在該 第一反射式整合器上面；以及 一第二光學系統，該系統是使來自該第一反射式整合 器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上； 其中，該第一光學系統包含一變更單元，該單元是用 以改變影響該第一反射式整合器之光源直徑及/或形狀。 2 7 · —種曝光設備，使用照明系統加以照射形成在 一網線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖 案投射在一工件上， 其中’該照明系統以來自光源的光照射要照射的表面 ’且其特徵在於： .一第一反射式整合器，該整合器有一佈置在一瞳孔位 置之反射表面； 一第一光學系統，用以將來自光源之光線歪斜地投射 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公董） --------裝-------訂----- (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 594847 A8 B8 C8 _ D8 六、申請專利範圍 8 在該第一反射式整合器之上面； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一弟一光學系統’用以使來自該第一反射式整合器之 光束成一*光束重豐另一光束在要照射之表面上；以及 一擋板，該擋板被佈置在或近鄰該第一反射式整合器 之反射表面，該擋板光圈形狀沿歪斜地投射在該第一反射 式整合器上光線之入射平面之方向加以伸長。 28 ·—•種設有要曝光的圖案的裝置之製造方法，該 方法包含使用曝光設備以使具有裝置圖案之工件曝光的步 驟，以及對曝光的工件實施預定程序之步驟， 其中，該曝光設備使用照明系統加以照射形成在一網 線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖案投 射在一工件上， 其中，該照明系統照射要照射的表面，且其特徵在於 一鏡片系統，該系統用以將來自光源之光線導向要照 射之表面；以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一調整單元，該單元以偏心及/或旋轉方式移動該鏡 片系統中至少一鏡片，因此加以調整影響要照射表面光線 之入射角。 2 9 ，一種設有要曝光的圖案的裝置之製造方法，該 方法包含使用曝光設備以使具有裝置圖案之工件曝光的步 驟，.以及對曝光的工件實施預定程序之步驟， 其中，該曝光設備使用照明系統加以照射形成在一網 線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖案投 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） β 594847 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 9 射在一工件上， 裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其中，該照明系統以來自光源的光照射要照射的表面 ，且其特徵在於： 一第一反射式整合器； 一第一光學系統，該系統將來自光源之光線投射在該 第一反射式整合器上面；以及 一第二光學系統，該系統是使來自該第一反射式整合 器之光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上； 其中，該第一光學系統包含一變更單元，該單元是用 以改變影響該第一反射式整合器之光源直徑及/或形狀。 3 ◦•—種設有要曝光的圖案的裝置之製造方法，該 方法包含使用曝光設備以使具有裝置圖案之工件曝光的步 驟，以及對曝光的工件實施預定程序之步驟， 豐 其中，該曝光設備使用照明系統加以照射形成在一網 線或光罩上之圖案，以及使用一投影光學系統將該圖案投 射在一工件上， 其中，該照明系統以來自光源的光照射要照射的表面 ，且其特徵在於： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一第一反射式整合器，該整合器有一佈置在一瞳孔位 置之反射表面； 一第一光學系統，用以將來自光源之光線歪斜地投射 在該第一反射式整合器之上面； 一第二光學系統，用以使來自該第一反射式整合器之 光束成一光束重疊另一光束在要照射之表面上；以及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -9- 594847 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1Q 一擋板，該擋板被佈置在或近鄰該第一反射式整合器 之反射表面，該擋板光圏形狀沿歪斜地投射在該第一反射 式整合器上光線之入射平面之方向加以伸長。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經齊部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐）