TW494714B - Method of processing substrate and apparatus for processing substrate - Google Patents

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494714 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 _ B7 _ _五、發明説明（1 ) 〔發明之領域〕 本發明係與淨洗處理或顯像處理L C D用玻璃基板或 如半導體晶片之基板處理方法及基板處理裝置。 〔先前之技術〕 在製造LCD(液晶顯示裝置）時，爲了在玻璃基板 上面形成光蝕膜圖形，使用所謂石版印刷處理。石版印刷 處理含有基板淨洗，基板表面之光蝕膜塗布，塗布光蝕膜 之曝光及顯像等，各種處理工程。此種石版印刷處理中顯 像處理工程乃需最嚴密控制之工程之一。顯像處理工程時 ，將顯像液均勻不浪費供給塗布光蝕劑上，沿基板全面均 勻顯像塗布光蝕劑至爲重要。 通常，顯像處理工程中，光蝕劑使用酚醛清漆系樹脂 ，顯像液使用僅將氫氧化四甲銨（TMAH) 2. 38重 量％溶解於水中之TMAH水溶液。此種水溶液性顯像液 不易侵濕於排水性之光蝕膜，而光蝕膜將剝離顯像液。因 此，顯像液均勻沿光蝕膜全面擴大，在光蝕膜上出現顯像 液多之部分及少之部分，結果，成爲不均勻之現象。 又，將顯像液塗布於光蝕膜上之狀態放置時，因兩者 不易相容，致顯像液中產生氣泡。該氣泡產生部分招致顯 像不足，發生所謂顯像之久陷。 一方面，淨洗處理工程中，將如純水淨洗液加於旋轉 中之基板刷洗時，淨洗液時飛散於周圍致有污染旋轉夾具 及其周邊領域之問題。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項㈣填寫本頁) -裝_ 訂 線 ~ 4 一 494714 A7 __B7五、發明説明（2 ) 〔發明之目的〕 本發明之目的爲提出不產生顯像久陷可均勻顯像處理 之基板處理裝置及方法。 又本發明之目的爲提供處理液不致飛散至周圍，不污 染周邊領域之清潔之基板處理裝置及方法。 基板光蝕處理自先前已知有旋轉方式，浸清方式\噇 射方式等3種方式。旋轉方式係在杯內以馬達旋轉基板實 施光蝕膜之顯像，洗濯，淨洗，乾燥等。浸漬方式係將基 板浸漬於顯像液中，用基板振動及顯像液之攪拌實施均勻 顯像之方式。噴射方式係將以泵浦等加壓之顯像液成噴霧 狀吹於基板上之方式。上述方式中目前以旋轉方式爲主流 (請先閲讀背面之注意事填寫本頁) 裝· 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 〔發明之方法〕 1 本發明有關之基板處理方法，具備：將基板放置於放 置台上之裝載工程，及在放置於放置台上之基板之至少一 面之間形成間隙，將蓋覆蓋於某板之加蓋工程，及將處理 液導入前述間隙，將處理液接觸於基板之至少一面之處理 工程，及自基板拆下前述蓋之卸蓋工程’及自前述放置台 取出基板之卸載工程。 本發明有關之基板處理裝置’具備：放置搬入該室內 基板之放置台，及在放置於前述放置台上基板之至少一面 間形成間隙，覆蓋基板之蓋’及將顯像液供給前述間隙內 線 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 494714 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、 發明説明 (3 ) 之 顯 像 液 供 給 裝 置 > 及 排 出 刖 述 間 隙 內 處 理 液 之 處 理 液 排 出 裝 置 〇 本 發 明 有 關 之 基 板 處 理 方 法 y 具 備 ·· 將 基 板 放 置 於 放 置 台 上 之 裝 載 工 程 > 及 與 刖 述 放 置 台 一 同 使 基 板 傾 斜 之 工 程 J 及 將 處 理 液 白 該 傾 斜 基 板 高 側 沿 基 板 表 面 流 向 低 側 之 工 程 〇 本 發 明 有 關 之 基 板 處 理 裝 置 具 備 ·· 杯 及 設 於 該 杯 內 > 放 置 基 板 之 放 置 台 J 及 對 水 平 面 傾 斜 該 放 置 台 上 基 板 之 裝 置 及 白 傾 斜 狀 態 之 基 板 高 側 供 給 處 理 液 之 供 給 桶 ， 及 在 傾 斜 狀 態 之 基 板 低 側 承 受 處 理 液 之 承 受 桶 〇 在 光 蝕 膜 塗 布 裝 置 予 先 將 光 蝕 膜 塗 布 形 成 於 基 板 表 面 J 烘 烤 後 將 所 定 圖 形 曝 光 於 該 光 触 膜 0 本 發 明 係 該 曝 光 終 了 後 將 顯 像 液 以 層 狀 流 於 基 板 上 面 即 可 將 顯 像 液 均 勻 供 給 光 蝕 膜 上 〇 又 因 經 常 有 新 顯 像 液 繼 續 供 給 光 蝕 膜 上 故 顯 像 時 間 亦 縮 短 〇 因 此 > 依 本 發 明 可 維 持 顯 像 之 均勻 性 提 供 Arr m 欠 陷 清 淨 優 異 之 製 品 1 生 產 率 亦 提 高 〇 爲 了 將 顯 像 液 流 成 層 狀 y 與 基 板 上 面 形 成 一 定 間 隔 之 間 隙 裝 上 覆 蓋 基 板 上 面 全 體 之 蓋 ϊ 將 顯 像 液 注 入 其 間 隙 之 方 法 甚 爲 有 效 〇 又 將 基 板 傾 斜 利 用 其 傾 斜 赘 將 顯 像 液 注 基 板 上 面 之 方 法 亦 有 效 〇 利 用 此 等 任 何 方 法 均 勻 可 將 顯 像 液 以 層 狀 注 於 基 板 上 > 將 顯 像 液 均 等 供 給 光 蝕 膜 上 > 即 可 實 施 均 勻 > 且 生 產 率 尚 之 顯 像 處 理 〇 又 流 過 基 板 上 面 之 顯 像 液 以 泵 浦 等 動 力 再 注 於 基 板 上 面 t 再 循 環 使 用 構 成 即 可 節 省 顯 像 液 > 而 可 減 低 運 請· 先 閲 背 之 注 意 事- I· 馬 5 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐） 裝 494714 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印製 A7 ____B7五、發明説明（4 ) 轉成本。 更因以蓋覆蓋基板，故洗濯液及顯像液不致飛散於放 置台周圍，而可實現清潔之處理環境。 〔實施例〕 以下參照附圖說明本發明之良好之實施形態。 如圖1所示，光蝕處理系統1之一端側，具備卡匣站 3，該卡匣站3放置收容LCD用基板S之複數卡匣2。 卡匣站3之卡匣2正面側設於實施基板S之搬送及定位， 並保持基板S在主臂4之間支持用之補助臂5。二具主臂 4係以直線可向處理系統1中央部縱方向移動配置，在該 移送路兩，配置顯像裝置6 (50)及其他各種處理裝置 〇 在圖示之處理系統1 ，卡匣站3側之側方，並設刷洗 基板S用之刷子洗滌器7及f壓噴水實施清洗用之高壓嘖 射清洗機8等。又，在挾主臂4之移送路相反側並設工具 顯像液裝置，其旁邊重疊設二具加熱裝置9。 在此等機器側方，經連接用接口組件1 0，設塗布光 蝕膜於基板S前將基板S疏水處理之附著裝置11，在該 附著裝置1 1下方配置冷卻用冷卻裝置1 2。又，在該等 附著裝置1 1及冷卻裝置1 2側方重疊配置兩排之各2隻 加熱裝置1 3。在挾主臂4之移送路相反側並設二台將光 蝕液塗布於基板S將光蝕膜（感光膜）形成於基板S表面 之光蝕膜塗布裝置1 4。雖未圖示，惟在各該光蝕膜塗布 (請先閱讀背面之注意事項-S填寫本頁) .裝· 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X： 297公釐） 494714 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明（5 ) 裝置1 4側部，設有將所定微細圖形曝光於形成在基板S 上光蝕膜用之曝光裝置等。 如圖1 ，2所示，在顯像裝置6之室6 a略中央設有 杯2 2，而杯2 2中設置放置台2 1。該放置台2 1上面 開有真空吸著機構（未圖示）之吸引孔，將基板S吸住於 上面。放置台2 1下面係連接於第1空氣缸2 0之桿2 0 a ，可昇降支持放置台2 1。缸筒2 0之空氣供給源回路 連接控制部4 5，依感知器（未圖示）所送檢測信號，將 放置台21之昇降量控制爲最適量。 以包圍吸住於該放置台21之基板S周圍設置環狀杯 2 2，防止顯像液及洗淨水（洗濯液）之飛散。該杯2 2 係以耐蝕性樹脂或金屬製成。杯2 2上部2 3成縮束狀， 其上端開口部2 4之直徑，具有可充分自上方將基板S插 入杯22內之尺寸。 杯2之底部3 5係對水-面成若干傾斜，在底部2 5 之低處連通廢液管2 6。一方面，在底部2 5之高處連通 排放杯2 2內之氣體用排氣管2 7。自該底部2 5向上伸 出環狀壁2 8。在該環狀壁2 8上端設有整流板2 9。整 流板2 9，係靠近放置台2 1上之基板S背面設置’其同 緣部係向下傾斜。以此種整流板2 9將處理基板S之廢液 導向杯底部2 5。 在放置台2 1下方設有複數洗濯液噴嘴（未圖示）’ 將純水噴射於放置台21上之基板S背面以清洗基板S背 面。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項寫本頁) f填 裝- -\口 線· 494714 A/ B7 五、發明説明（6 ) 如圖2所示，將蓋40設於放置台21上方。該蓋 4 0係連接支持於空氣缸3 0之桿3 0 a ,可向Z軸方向 昇降。缸筒3 0之空氣供給源回路係連接於控制部4 5， 以控制部4 5控制缸筒3 0之動作。 在蓋4 0之下面周緣部形成複數突起4 0 P。當使蓋 40下降時，突起40p壓緊於放置台2 1上之基板S， 因此在蓋4 0下面與基板S上面間形成間隙4 1 A。該間 隙A以設定在〇· 5〜inmm夕範圍爲亩。將顯像液注 入間隙41A時，將間隙41A設定在〇. 5〜2mm之 範圍爲宜。一方面，將顯像液一時滯留於間隙4 1 A，將 基板S浸漬於顯像液中時，設定間隙4 1 A於2〜1 0 mm範圍爲宜。又該等突起4 0 p係以工程塑膠製作以避 免損傷基板S爲宜。 又，蓋4 0中埋進複數個超音波振動子4 4。各超音 波振動子4 4之電源（未圖示）係連接於控制部4 5。由 各該振動子4 4振盪之超音波，尤於淨洗處理經洗濯液傳 至基板表面增進淨洗效果。 如圖4所示，在蓋4 0兩側面部分別形成槽狀入口 42及出口 43。入口 42及出口 43分別連通於蓋40 之下部中央凹處40 c。以蓋40覆蓋放置台2 1上之基 板S時，基板S納入凹處4 0內，更在基板S上面與蓋 40間形成間隙41A。又，入口42及出口43之寬度 分別約爲0. 5〜2mm。 在蓋4 0下部周緣沿全周形成凸緣4 0 F。該凸緣 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 請· 先 閲 ik 背 ιέ 之 注 意 Ψ- f 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 9 - 494714 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 __B7五、發明説明（7 ) 4 0 F經0環（未圖示）壓緊基台8 9 ，具有流通間隙 41內之液體成一時滯留之液體不漏出下方之密封作用。 又，凸緣4 0 F之上面與基板S之上面略爲同一面。 在蓋40之入口 4 2，經第1流路4 2 a分別連通顯 像液供給源3 3及洗濯液洗濯液供給源3 4，更經第2流 路4 2 b連通乾燥氣體供給源3 6。顯像液供給源3 3收 容氫氧化四甲銨（TMAH)。洗濯液供給源3 4收容純 水。乾燥氣體供給源3 6收容乾燥空氣或乾燥氮氣。 一方面，在蓋4 0之出口 4 3，經流路4 3 a連通一 時保留部3 7。一時保留部3 7之容積十分比間隙4 1 A 之容積大。因此，一時保留部3 7具有氣液分離機能，氣 體成分經過排出通路3 8 a自排出裝置3 8排出清潔房外 部，而液體成分別經過再生通路3 9 a於再生裝置3 9去 除不純物。更經再生裝置3 9再生之液體即流回顯像液供 給源3 3。 又，由於將間隙4 1 A縮小至約0 . 5〜2 m m即可 使通過此處之顯像液及洗濯液成爲層流，而可以少量顯像 液或洗濯液均供給基板S上面之光蝕膜全面。又，處理液 之通流回路係以具有緩衝箱部（未圖示）及壓損產生部（ 未圖示）等之結合構件（未圖示）予以液密密封使處理液 可在間隙4 1 A內均勻流通。 如圖7所示，在第1流路4 2 a之分岐處設流路轉換 閥3 5，以流路轉換閥3 5轉換顯像液供給源3 3之連通 通路3 3 a與洗濯液供給源3 4之連通通路3 4 a。即， (請先閲讀背面之注意事項 d填寫本頁) .裝· 訂 線 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -10 - 494714 A7 __B7_ 五、發明説明（8 ) (請先閲讀背面之注意事項^填寫本頁) 流路轉換閥3 5具備形成2道流路3 5 b，3 5 c之旋轉 體3 5 A，旋轉該旋轉體3 5 A即可使流路3 5 b連通於 顯像液通路3 3 a，且將流路3 5 c連通於第1流路4 2 a ，或使流路35b連通於第1流路42a ，且將流路 35c連通於洗濯液通路34a。 如圖5，6所示，在放置台21下方設具有梢60之 基板上突機構，以複數支上突梢6 0自放置台2 1舉起基 板S。該等上突梢6 0係經板狀之共同構件4 9連接於第 2空氣缸48之桿48a，使上突梢60通過放置台21 之孔2 l a突出放置台2 1上方。由該等上突梢6 0自放 置台2 1舉起基板S，在主臂4與放置台2 1之間交接基 板S。又，主臂4分別具備X軸驅動機構，Y軸驅動機構 ，Z軸驅動機構，Q旋轉驅動機構，沿中央通路行駛，得 存取各處理組件6 (50) ，9，11〜13。而主壁4 ，可將基板· S搬入各處理組件6 ( 5 0 )’ 9，1 1〜 1 3，自各處理組件6 (50) 9，1 1〜1 3內搬出基 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 板s。將基板S搬入/搬出顯像組件6內時’自開口 6 b 將把持基板S之主臂4插入組件6內。 如圖8所示，將2具組件6疊成上下2段亦可。此種 組件6因有縮小上下厚度尺寸之必要，故使蓋4 0可在 XY面內，滑動，而無法向Z軸方向昇降。即，以X軸驅 動機構（未圖示）或Y軸驅動機構（未圖示）支持蓋4 0 在室6 a內向水平方向平行移動。 其次，用上述顯像裝置6說明顯像處理基板S之情形 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） ^ 494714 A7 __B7 五、發明説明（9 ) 〇

首先，以補助臂5自卡匣站3之卡匣2內取出基板S ’將其交給主臂4。以主臂4將基板S搬入刷子洗滌器7 (請先閲讀背面之注意事^填寫本頁) ，刷洗處理。更在加熱組件9內乾燥基板S。又，隨處理 程序在高壓噴射淨洗機8內以高壓噴射水清洗基板S亦可 〇 接著，在附著組件1 1將基板S附著處理。更在冷卻 組件1 2冷卻基板S後，於敷層組件1 4將光蝕膜塗布於 基板S表面。而將基板S以加熱組件1 3烘烤處理後，以 曝光裝置（未圖示）曝光處理光蝕膜。然後將曝光後之基 板S搬入顯像裝置6內。 在顯像裝置6內，首先放置台2 1上昇，自主臂4接 收基板S，吸住基板S使放置台21下降。，其次，將蓋 4 0覆蓋於基板S上。基板S上面與蓋4 0之間隔形成約 0 . 5〜1 m m之狹窄間隙# 1 A。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在蓋4 0安裝完成後，將顯’像液循環供給間隙4 1 A 內，顯像處理基板S之光蝕膜。顯像液自顯像供給源3 3 經入口 4 2入間隙4 1 A內，與基板S上面接觸流動，自 出口 4 3排出再流回顯像液供給源3 3。顯像液，在間隙 4 1 A內成爲層流，以少流量且均勻供給，實施良好之顯 像處理。因光蝕膜上經常繼續供給新顯像液，故亦可縮短 顯像時間。 顯像處理完成後，轉換轉換閥3 5之流路，自洗濯液 供給源3 4將洗濯液供給間隙4 1 A內。因此可洗掉殘留 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -12 - 494714 經濟部中央標準局員工消費合作社印製

A7 ____B7五、發明説明（l〇 ) 於基板S上之顯像液。又，供給該洗濯液之同時，自配置 下方之噴嘴（未圖示）向基板S背面噴洗淨水，清洗基板 s背面。 完成洗濯液處理後，自乾燥氣體供給源3 6將乾燥氣 體供給間隙41A內，以乾燥基板S。乾燥後，自基板S 拆下蓋40。又，拆下蓋40時，予先將乾燥氣體等吹進 間隙4 1 A內，則容易拆下蓋4 0。然後，以加熱組件9 加熱基板S，更收納於卡匣站3之卡匣2內。 依上述顯像裝置，由於將顯像液以層狀注於基板SI 面，即可將顯像液均勻供給光蝕膜上。又因經常將新顯像 液供給光蝕膜，故可縮短顯像時間，而提高高生產率。更 因上述裝置，無需旋轉機構，故可將裝置整體小型化。 其次說明上述實施形態之各種變形例。 如圖9所示，在蓋4 Ο A內使基板S兩面與處理液接 觸亦可。蓋4 Ο A具有下蓋構件4 0 a及上蓋構件4 0 b 。下蓋構件4 0 a之內側中央係成凹形。將基板S放在下 蓋構件4 0 a上時，使下蓋構件4 0 a與基板S間形成下 部間隙4 1 B。上蓋構件40b係以缸筒3 0之桿3 0 a 可昇降支持。將上蓋構件40b覆蓋下蓋構件40 a，使 上蓋構件4 0 b與基板S間形成上部間隙4 1 A。下蓋構 件4 0 a及上蓋構件4 0 b係於周緣部互相接觸形成，在 該接觸面設密封用〇環4 6。因此使導入上下間隙4 1 A ，4 1 B內之處理液不致漏出外部。 此種蓋4 0 A，不但將處理液流通於上下間隙4 1 A (請先閲讀背面之注意事 r本百〇 •裝·

、1T 線 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 一 13 - 494714 A7 _ B7 五、發明説明（11 ) ，4 1 B內，且可將處理液滯留於此中。即，因以蓋4 0 A，可將基板S浸漬於處理液中一定時間，故適於顯像處 理。 如圖1 0所示，以開閉式蓋4 Ο B使顯像液接觸於基 板S兩面亦可。蓋4 Ο B具有以鉸鏈4 7連接1邊之上下 蓋構件4 0 g，4 0 h。如圖1 1所示，將處理液向沿基 板S之短邊流通時，因處理液之通過距離縮短，處理液之 劣化減少，故更可提高處理效率。 又，基板S之洗濯處理，因以超音波振動子4 4將超 音波附加於間隙4 1 A，4 1 B內之洗濯液時，粒子易自 基板表面脫離，故大幅提高清洗之處理效率。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事寫本頁) 其次，參照圖1 2〜1 4說明本發明之第2實施例。 如圖1 2所示，在顯像裝置5 0之室中央設具有整流 板5 6之放置台5 2，將基板S放在整流板5 6及放置台 5 2上，更以真空吸著機構_(未圖示）將基板s吸在放置 台5 2上面。放置台5 2下面係’經軸5 1 a連接於驅動部 5 1之內部機構。該驅動部5 1內藏使放置台5 2昇降之 Z缸筒（未圖示）及使放置台5 2旋轉之Q馬達（未圖示 )〇 杯5 3係包圍吸在放置台5 2之基板S周圍。該杯 5 3底部5 4之設環狀壁5 5。環狀壁5 5之上端近傍沒 有整流板5 6。 整流板5 6係以鉸鏈部5 7爲中心可搖動支持於杯 53內。杯53底部54形成孔158，當梢60A通過 ^纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X；Z97公釐) ' ~ " 一 14 一 494714 Α7 Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（12 ) 該孔5 8向上突出時，以梢6 0A舉起整流板5 6之一側 。梢6 〇 A係由控制部4 5動作控制之推桿5 9支持。以 梢6 〇 A推舉整流板5 6時，基板S與整流板5 6 —同向 箭示61方向舉起，使基板S傾斜約1〇。。在傾斜狀態 之基板S之高側配置供給桶6 2，而基板S低側配置承受 桶6 3。供給桶6 2具有槽狀供給口。顯像液供給裝置 δ 4洗濯液供給裝置6 5係設於供給桶6 2及承受桶6 3 之液體流通回路。 顯像液係自顯像液供給裝置6 4供給，經供給桶6 2 自傾斜狀態之基板S高側均勻流入基板整體。顯像液更達 到基板S之低側，流進承受桶6 3，再回流至顯像液供給 裝置6 4。又，同樣亦可使用洗濯液供給裝置6 5洗濯處 理傾斜狀態之基板S。 如圖1 3所示，將顯像液注入基板S上面時，以使用 兩端具有導壁7 〇之導構件7 1爲宜。即將基板S與該導 構件7 1 —同放置於放置台5 2，上時，以導壁70引導顯 像液不致自基板S上面漏入側方，而流進於承受桶6 3。 又，如圖1 4所示，以主壁將基板S放置於放置台5 2上 〇 依上述實施例之裝置，因處理液不致飛散於周圍，而 杯22 (53)之內面及其周邊不易受污染，故可維持清 潔之環境，實質上可消除粒子附著於基板S。又，在裝置 保養上亦比先前方式之裝置有利。又，由於經常將新穎顯 像液供給光蝕膜上，即可縮短顯像時間，而可提高生產率 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項^^寫本頁) i 訂

-15 - 494714 A7 _____B7 五、發明説明（13 ) 。更因可再循環使用顯像液，故亦可減低運轉成本，而經 濟。 圖示之簡單說明： 圖1 :表示光蝕處理系統之整體概要之斜視圖。 圖2 :切開表示本發明之第1實施例有關之基板處理 裝置之一部份之斷面構成方塊圖。 圖3:第1實施例之基板處理裝置之平面圖。 圖4 :表示第1實施例之基板處理裝置之斜視構成方 塊圖。 圖5 :表示第1實施例之基板處理裝置之主要部分之 部分擴大圖。 圖6 :說明第1實施例之基板處理裝置之LCD用基 板搬送之斜視圖。 圖7:表示轉換處理液#路之流路轉換閥之部分擴大 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項^^寫本頁) 圖8:表示上下2段重疊型之基板處理裝置之內部透 視圖。 圖9:表示具有蓋昇降機構之浸漬方式之基板處理裝 置圖。 圖1 0 :表示具有蓋開閉機構之浸漬方式之基板處理 裝置圖。 圖11:具有蓋開閉機構之浸漬方式之基板處理裝置 之平面圖" 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -16 - 494714 A7 B7 五、發明説明（14 ) 圖12:表示本發明之第2實施例有關之光蝕處理方 法所用裝置概要之部分斷面圖。 圖13:說明第2實施例之LCD用基板之放置方法 之斜視圖。 圖14:說明第2實施例之LCD用基板搬送之斜視 圖。 (請先閱讀背面之注意事項^^寫本頁) -裝· 訂 線 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） - 17 -

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   附件1 : 六、申請專利範圍 第85104612號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國90年7月修正 1. 一種基板處理方法，針對令大型基板，使用顯像 液或洗淨液，進行液處理之基板處理方法中，其特#係， 具備：將基板放置於放置台上之裝載工程，及在放置於該 放置台上之基板之至少一面之間形成間隙，將蓋覆蓋於基 板上之加蓋工程，及將處理液自蓋之一側導入至前述間隙 ，處理液則對前述間隙內至少基板之單側形成平行層流地 加以流通，自前述間隙向蓋之另一側排出處理液，由此於 前記基板之至少單側流動接觸處理液之處理液接觸工程， 和將前述之蓋由基板脫離之卸蓋工程及將基板自前述載置 台取出之卸載工程者。 2 .如申請專利範圍第1項之方法，其中，前述處理 工程係自蓋之一方側將處理液導入間隙，流通於間隙內’ 自間隙排出蓋之另方側。 3 .如申請專利範圍第2項之方法，其中’前述處理 工程，係再生處理接觸過基板之處理液，將該經再生慮理 之處理液再注入前述間隙內。 4.如申請專利範圍第1項之方法，其中，前述處理 工程，係實質上將處理液以層流流通於間隙內。 5 .如申請專利範圍第1項之方法中’前述處理工程 ，係將處理液一時滯留於間隙內，基板之至少一面繼續與 處理液接觸一定時間。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐）-1 - -------------¾ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 11 47 ns C：b ns 申請專利範圍 6 工程， 以乾燥 7 形成光 .如申請專 更將處理液 氣體乾燥基 .如申請專 餓膜，使用 8. —種基板 該室內 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 少一面 述間隙 之處理 9 前述蓋 1 使前述 1 ，具有 1 ，具有 1 係形成 1 理液供 ，及將 像液供 基板之放置 之間形成間 內之處理液 液排出裝置 .如申請專 昇降之昇降 0 .如申請 放置台昇降 1 .如申請 將基板壓緊 2 .如申請 超音波振動 3 .如申請 短形狀。 4 .如申請 給裝置，具 洗濯液供給 給源流路與 利範圍 接觸於 板。 利範圍 前述處 處理裝 台，及 隙以覆 供給裝 〇 利範圍 裝置。 專利範 之昇降 專利範 於下面 專利範 子。 專利範 專利範 有將顯 間隙內 洗濯液 第1項之方法，其中，前述處理 基板後將乾燁氣·流通於間隙， 第1項之方法，其中，基板表面 理液將該光蝕膜顯像。‘ 置，具備：處理室，及放置搬入 在放置於前述放置台之基扼之至 蓋基板之蓋，及將處理液供給前 置，及排出前述間隙內之處理液 第8項之裝置，其中，更具有使 圍第8項之裝置，其中，更具有 裝置。 圍第8項之裝置，其中，前述蓋 周緣部之複數突起。 圍第8項之裝置，其中，前述i 圍第8項之裝置，其中，前述蓋 圍第8項之裝置，其中，前述處 像液供給間隙內之顯像液供給源 之洗濯液_供給源，及轉換此等顯 供給源流路之流路轉換閥。 請 先 閱 讀 背 之 注 t 事 項 再 t 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐）-2 -