CN111906077A - 清洗装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种清洗装置，清洗装置包括清洗槽和沉降槽，其中，沉降槽连通清洗槽，沉降槽最大横截面位置的横截面积大于沉降槽与清洗槽之间最大横截面位置的横截面积；清洗时清洗液从清洗槽水平流入沉降槽。本申请的清洗装置清洗待清洗物时，待清洗物上不易出现残胶等杂质挂壁的现象，可改善待清洗物的清洁效果，降低二次污染的概率。

Description

清洗装置

技术领域

本申请涉及清洗设备技术领域，特别是涉及清洗装置。

背景技术

显示面板在制作过程中，基板和盖板等的生产过程需经过切割制程、检测过程、周转和包装运输等物流过程，切割会产生玻璃屑溅射掉落在产品表面，检测工装治具接触或人员拿放接触会在接触位置引入残胶，周转和包装运输磕碰和承装亦会引入表面玻璃屑和残胶。切割制程后的清洗工序采用浸泡槽式进行上下抛洗，清洗槽清洗过程中，易造成基板或盖板出现挂壁现象，出现残胶的现象，从而造成产品二次污染。

发明内容

有鉴于此，本申请主要解决的技术问题是提供一种清洗装置，能够解决待清洗物清洗出现残胶挂壁的现象。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种清洗装置，包括清洗槽和沉降槽，其中，沉降槽连通清洗槽，沉降槽最大横截面位置的横截面积大于沉降槽与清洗槽之间最大横截面位置的横截面积；清洗时清洗液从清洗槽水平流入沉降槽。

其中，清洗装置还包括阶梯沉降器，阶梯沉降器设置于沉降槽中，阶梯沉降器的倾斜面朝向沉降槽中的清洗液的流入方向。

其中，沉降槽与阶梯沉降器可拆卸设置。

其中，清洗装置包括环形循环通道结构体，清洗槽、沉降槽位于环形循环通道结构体不同位置，且环形循环通道结构体的整个通道内壁在清洗液流动方向上顺滑延伸。

其中，环形循环通道结构体的整个通道内清洗液均总体水平流动、不溢出。

其中，包括第一流变通道和第二流变通道，分别位于沉降槽在清洗液流动方向前后，第一流变通道连通清洗槽和沉降槽，第二流变通道连通清洗槽和沉降槽，第一流变通道最大横截面位置的横截面积小于沉降槽与第一流变通道接触位置处的横截面的横截面积；第二流变通道最大横截面位置的横截面积小于沉降槽与第二流变通道接触位置处的横截面的横截面积，且第一流变通道和第二流变通道的横截面积分别在远离沉降槽的方向均逐渐减小。

其中，包括第三流变通道和第四流变通道，第三流变通道和第四流变通道分别位于清洗槽在清洗液流动方向前后，第三流变通道连通清洗槽和第二流变通道；第四流变通道连通第一流变通道和清洗槽；第三流变通道和第四流变通道的横截面积在远离清洗槽的方向均逐渐减小；第三流变通道最大横截面位置的横截面积小于清洗槽与第三流变通道接触位置处的横截面的横截面积；第四流变通道最大横截面位置的横截面积小于清洗槽与第四流变通道接触位置处的横截面的横截面积。

其中，环形循环通道结构体上设置泵体，以用于为环形循环通道结构体中的清洗液提供循环动力。

其中，在第三流变通道和/或第二流变通道上设置有过滤部件，以将从沉降槽中的流通至清洗槽中的清洗液过滤。

其中，清洗槽和沉降槽之间设置流通阀门。

其中，至少沉降槽设置盖板，盖板可打开以取出或放置阶梯沉降器。

其中，清洗槽设置鼓泡机构和/或超声波；清洗槽的环形循环通道结构体上设置固定件，固定件用于固定待清洗物。

本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请提供的清洗装置通过将清洗槽和沉降槽分开设置，使得清洗液在清洗待清洗物时能够在清洗槽中清洗，当清洗液在水平流动过程中含有清洗下来的残胶或其他杂质时，随着清洗液的水平流动，清洗液能够在沉降槽中沉降残胶等杂质，使得清洗槽中的清洗液保持杂质较少的状态，当待清洗物在清洗槽中清洗完毕后，从清洗槽中取出已经清洗完毕的待清洗物时，由于清洗槽中漂浮的杂质较少，使得取出待清洗物时，待清洗物上不易出现残胶等杂质挂壁的现象，从而可以提高待清洗物的清洁效果，降低二次污染的概率。清洗槽和沉降槽分开设置，可以避免清洗槽中的清洗液长时间使用，残胶等杂质在清洗液产生乳化作用所造成的表面张力大，所造成的加剧待清洗物取出时的残胶等杂质挂壁现象的发生。

清洗时清洗液从所述清洗槽水平流入沉降槽，可以避免非水平流通时所造成的清洗液的上下溢动所造成的残胶等杂质漂浮于清洗液表面难以沉降的现象的发生。

附图说明

图1是本申请清洗装置第一实施例的俯视结构示意图；

图2是图1中沿A-A’的一实施例的剖面结构示意图；

图3是本申请清洗装置第二实施例的俯视结构示意图；

图4是本申请清洗装置第三实施例的俯视结构示意图；

图5是本申请清洗装置第四实施例的俯视结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

请参阅图1，本申请实施例提供一种清洗装置，包括清洗槽11和沉降槽12，其中，沉降槽12连通清洗槽11，沉降槽12最大横截面位置的横截面积大于沉降槽12与清洗槽11之间最大横截面位置的横截面积；清洗时清洗液从清洗槽11水平流入沉降槽12。

其中本申请实施例中的“横截面”是指垂直于水平面的截面，如图1所示，“横截面”指沿B-B’线的截面。

以上为本申请实施的核心内容，清洗装置通过将清洗槽11和沉降槽12分开设置，使得清洗液在清洗待清洗物时能够在清洗槽11中清洗，当清洗液中含有清洗下来的残胶或其他杂质时，随着清洗液的水平流动，清洗液能够在沉降槽12中沉降残胶等杂质，使得清洗槽11中的清洗液保持杂质较少的状态，当待清洗物在清洗槽11中清洗完毕后，从清洗槽11中取出已经清洗完毕的待清洗物时，由于清洗槽11中漂浮的杂质较少，使得取出待清洗物时，清洗物上不易出现残胶等杂质挂壁的现象，从而可以提高待清洗物的清洁效果，降低二次污染的概率。本申请实施例中，清洗槽11和沉降槽12分开设置，可以避免清洗槽11中的清洗液长时间使用，残胶等杂质在清洗液产生乳化作用所造成的表面张力大从而造成的加剧清洗物取出时的残胶等杂质挂壁现象的发生。本申请实施例中，清洗时清洗液从所述清洗槽11水平流入所述沉降槽12，可以避免非水平流通时所造成的清洗液的上下溢动所造成的残胶等杂质漂浮于清洗液表面难以沉降的现象的发生。

作为本申请一优选实施例，清洗装置还包括阶梯沉降器13，阶梯沉降器13设置于沉降槽12中，如图2所示，阶梯沉降器13的倾斜面朝向沉降槽12中清洗液的流入方向，如图2所示的水流方向D1，台阶面所构成的倾斜面朝向水流方向。本申请实施例的沉降槽12可以用于放置阶梯沉降器13，当含有残胶等杂质的清洗液从清洗槽11流入沉降槽12中，残胶等杂质可以在阶梯沉降器13上沉淀；通过将沉降器设置为阶梯沉降器13，且阶梯沉降器13的倾斜面朝向沉降槽12的清洗液的流入方向，可以使得清洗液在流动的方向受到阶梯性逐渐增大的阻力，可以使得较大的残胶等杂质能够在阶梯沉降器13上沉降。

具体地，本申请实施例的阶梯沉降器13设置于沉降槽12的底部。

在清洗装置长时间的使用过程中，阶梯沉降器13易沉降较多残胶等杂质，为了便于除去沉降槽12中沉降的残胶等杂质，本申请实施例中，沉降槽12与阶梯沉降器13可拆卸设置，使得在清洗装置清洗使用的过程中，可以将阶梯沉降器13固定在沉降槽12，避免沉降槽12随着清洗液的流动而造成阶梯沉降器13的移动，确保阶梯沉降器13沉降的残胶等杂质不易出现晃动而造成的杂质漂浮；在阶梯沉降器13沉降的残胶等杂质较多时，可以拆卸阶梯沉降器13，取出阶梯沉降器13，去除阶梯沉降器13沉降的杂质。同时，当取出阶梯沉降器13时，也便于对阶梯沉降器13进行清洗，提升清洗装置的清洁度，提高清洗效果。

其中，本申请实施例中，清洗装置包括环形循环通道结构体10，清洗槽11、沉降槽12位于环形循环通道结构体10不同位置，且环形循环通道结构体10的整个通道内壁在清洗液流动方向上顺滑延伸。本申请通过设置环形循环通道结构体10，使得清洗槽11和沉降槽12中的清洗液可以循环使用，提高清洗液的利用率，降低清洗剂及水的消耗量；本申请实施例中，环形循环通道结构体10的整个通道内壁在清洗液流动方向上顺滑延伸，其中“顺滑延伸”指的是环形通道结构体内壁呈流线型，内壁上不会形成台阶面或突兀变化区域，清洗液在环形通道结构体内部流通时，不会形成涡流效应，清洗液流动循环且平稳，不会在台阶面等易形成涡流效应的区域周围形成杂质沉淀，不会造成清洗液中的杂质过于浑浊，可最大限度减少局部阻力及涡旋的产生，使循环更平稳，避免异物滞留、局部逆流造成交叉污染。本申请实施例中，环形循环通道结构体10的内壁呈弧型；或如图3所示的，直线型与弧型结合，且直线型与弧型流线性连接；或直线型与斜线型内壁流线性连接；或弧形与斜线型内壁流线性连接。

具体地，本申请实施例中，继续如图1和图3所示，清洗槽11和沉降槽12设置的位置对称，在其他实施例中，清洗槽11和沉降槽12的设置位置也可以不对称。

其中，本申请实施例中，环形循环通道结构体10的整个通道内清洗液均总体水平流动、不溢出。本申请实施例中，环形循环通道结构体10的整个通道内清洗液均总体水平流动，使得清洗液整体水平循环，利用清洗液的水平流通，可以加速对待清洗件的清洗，从而可以避免现有技术中为了清洗待清洗件所采用的将待清洗物进行上下抛动才能将待清洗件的杂质脱离至清洗液，从而可以节约能源。现有技术中的槽式清洗工艺中，为使杂质能够尽快流出槽体，清洗液要保持自下而上单向溢流，即清洗液液面保持溢动，但脱离待清洗物后的残胶等杂质随液面波动而无规则运动，液面以下附近处聚集了较多的残胶。待清洗物在漂洗完移出相应槽体经过清洗液液面时会带出一些残胶在表面，类似挂壁现象。而本申请实施例中的清洗装置通过设置具有清洗槽11和沉降槽12的环形循环通道结构，使得总体水平流通、不溢出，即可实现在沉降槽12处沉降残胶等杂质，在清洗槽11处清洗待清洗物，可以实现杂质流出清洗槽11，避免杂质对清洗槽11中的待清洗物取出时的污染，能够彻底清洗待清洗物。

具体地，本申请实施例中，所述环形循环通道结构体10包括第一流变通道14和第二流变通道15，分别位于沉降槽12在清洗液流动方向前后，第一流变通道14连通清洗槽11和沉降槽12，第二流变通道15连通清洗槽11和沉降槽12，第一流变通道14最大横截面位置的横截面积小于沉降槽12与第一流变通道14接触位置处的横截面的横截面积；第二流变通道15最大横截面位置的横截面积小于沉降槽12与第二流变通道15接触位置处的横截面的横截面积，且第一流变通道14和第二流变通道15的横截面积分别在远离沉降槽12的方向均逐渐减小。

本申请实施例，通过在沉降槽12的清洗液流动前方设置第一流变通道14，第一流变通道14在朝向沉降槽12的方向的横截面积逐渐增大，当清洗液从横截面较小的区域流通至横截面较大的区域时，清洗液的流速逐渐减小，到达沉降槽12时，流速缓慢，易将清洗液中的杂质在沉降槽12中沉降下来；在沉降槽12的清洗液流通后方设置第二流变通道15，第二流变通道15在远离沉降槽12的方向的横截面积逐渐减小，使得清洗液流通至第二流变通道15时，清洗液的流速逐渐增大，有利于清洗液的清水流通至清洗槽11。

本申请实施例中，第一流变通道14最大横截面位置的横截面积小于沉降槽12与第一流变通道14接触位置处的横截面的横截面积，使得第一流变通道14与沉降槽12之间顺滑延伸，确保清洗液在流通时不会形成涡流效应。同样，第二流变通道15最大横截面位置的横截面积小于沉降槽12与第二流变通道15接触位置处的横截面的横截面积，使得第二流变通道15与沉降槽12之间顺滑延伸，确保清洗液在流通时不会形成涡流效应。

具体地，本申请实施例中，如图1所示，清洗槽11和沉降槽12为弯管道，弯管道的横截面为圆形或椭圆形，弯管道为在环形循环通道结构体10的周向方向弯曲的管道，清洗槽11和沉降槽12的弯管道的弧心均朝向环形循环通道结构体10的中心。第一流变通道14和第二流变通道15的横截面也为椭圆或圆形，使得第一流变通道14和第二流变通道15内壁圆滑过渡，不易沉降杂质。在其他实施例中，如图3所示，清洗槽11和/或沉降槽12可以为直管道，直管道的横截面为圆形或椭圆形，第一流变通道14和第二流变通道15与直管道顺滑连接即可。在另一实施例中，清洗槽11和/或沉降槽12的横截面可以为四边形，第一流变通道14和第二流变通道15的横截面也可以为四边形。

在本申请一实施例中，为了使得能够一次清洗较多的待清洗物，或受待清洗物的尺寸的影响，需要设置体积较大的清洗槽11时，第一流变通道14和第二流变通道15不能直接与清洗槽11连接。本申请实施例中，环形循环通道结构体10包括第三流变通道16和第四流变通道17，第三流变通道16和第四流变通道17分别位于清洗槽11在清洗液流动方向前后，第三流变通道16连通清洗槽11和第二流变通道15；第四流变通道17连通第一流变通道14和清洗槽11；第三流变通道16和第四流变通道17的横截面积在远离清洗槽11的方向均逐渐减小；第三流变通道16最大横截面位置的横截面积小于清洗槽11与第三流变通道16接触位置处的横截面的横截面积；第四流变通道17最大横截面位置的横截面积小于清洗槽11与第四流变通道17接触位置处的横截面的横截面积。

本申请实施例，清洗槽11的横截面积较大，可以清洗较大的待清洗物或一次批量清洗较多待清洗物，从而可以提高清洗的普适性和清洗的效率。本申请通过设置第三流变通道16和第四流变通道17，可以使得清洗槽11与第二流变通道15和第三流变通道16之间形成较好的过渡，其中，第三流变通道16能够将经过沉降槽12沉降杂质后的清洗液回流至清洗槽11。第四流变通道17能够将清洗槽11中的清洗液经过第四流变通道17渐进增加流速。

在本申请另一实施例中，也可以不设置第三流变通道16和第四流变通道17，如图4所示，清洗槽11的横截面积小于沉降槽12的横截面积，且清洗槽11的横截面积与第一流变通道14和第二流变通道15远离沉降槽12一端的横截面积相同的情况下，第一流变通道14和第二流变通道15可以直接与清洗槽11连接。

其中，继续如图3所示，环形循环通道结构体10上设置泵体18，用于为环形循环通道结构体10中的清洗液提供循环动力。本申请实施例通过在环形循环通道结构体10上设置泵体18，可以为清洗液水平流动提供动力，由于本申请实施例的泵体18只需要克服清洗液水平流动的阻力即可，不需要克服清洗液的重力，因此，本申请实施例的泵体18负荷较小，可减轻泵体18的负担，节约能耗。本申请实施例中，清洗液水平流动的阻力分为摩擦阻力和局部阻力。摩擦阻力由流动的清洗液与环形循环通道结构体10内壁摩擦产生，又称为沿程阻力。局部阻力由流动的清洗液流经环形循环通道结构体10中的截面突变位置引起的阻力，又称形体阻力。在本申请实施例中，清洗液循环为层流流动，摩擦阻力可通过控制清洗液的循环速度、环形循环通道结构体10内壁粗糙度、清洗液流通路程长度、环形循环通道结构体10的横截面积来控制，本申请实施例中，清洗液循环速度优选控制在0.01m/s以内，选择内壁光滑的环形循环通道结构体10，减少环形循环通道结构体10的周长，降低清洗液单次循环的路程，从而尽可能减小摩擦阻力。本申请实施例的环形循环通道结构体10整体内壁顺滑延伸，使得流通的清洗液局部阻力较小，从而使得泵体18负荷更小，节约能耗。

作为本申请实施例的一优选方案，泵体18设置于第二流变通道15和第三流变通道16之间，在其他实施例中，泵体18也可以设置于第二流变通道15或第三流变通道16上。通过将泵体18设置于第二流变通道15和第三流变通道16之间，或第二流变通道15或第三流变通道16上，经过沉降槽12沉降后的清洗液中的杂质含量较少，对泵体18影响较小，减少杂质堵塞泵体18的情况的发生。

作为本申请一优选实施例，在第二流变通道15上设置有过滤部件30，以将从沉降槽12中的流通至清洗槽11中的清洗液过滤。经过沉降槽12沉淀，通过进一步设置过滤部件30，对清洗液进一步过滤，使得流入至清洗槽11中的清洗液杂质含量进一步减少，降低对待清洗物的二次污染的概率。本申请实施例的过滤部件30为过滤网，通过控制过滤网的网孔的孔径，可以实现过滤一定尺寸的杂质。本申请实施例的沉降槽12可以沉降尺寸较大的杂质，过滤网可以进一步过滤尺寸较小的杂质；而沉降槽12过滤较大尺寸的杂质，可以减轻过滤网过滤的负担，避免过滤网的网孔被尺寸较大的杂质堵塞，同时减少尺寸较大的杂质对过滤网的撞击所造成的过滤网的损伤，沉降槽12和过滤网两者相互协作以滤除杂质。

作为优选方案，本申请实施例中过滤部件30设置于沉降槽12与泵体18之间，过滤部件30对流经泵体18的清洗液进一步过滤，可以减小较小的杂质对泵体18的影响。具体地，本申请实施例中，过滤部件30设置于第二流变通道15和泵体18之间。本申请一优选实施例中，过滤部件30可拆卸安装于环形循环通道结构体10上，便于清洗更换过滤部件30。

本申请实施例中，清洗槽11和沉降槽12之间设置流通阀门40。具体地，本申请实施例中，流通阀门40设置于第一流变通道14和第四流变通道17之间，通过设置流通阀门40，可以使得清洗槽11和沉降槽12之间的清洗液处于流通或不流通的状态，以便于放置待清洗物、清洗待清洗物、更换过滤部件30或取出阶梯沉降器13。

本申请实施例中，沉降槽12设置盖板19，盖板19可打开以取出或放置阶梯沉降器13；盖上盖板19时，可以防止外界环境对清洗液的影响，例如灰尘、光照等因素对清洗液的影响。本申请实施例中，可以在清洗槽11上也设置盖板，盖板打开可以用于放置和取出待清洗物。

具体地，本申请实施例中，清洗槽11设置鼓泡机构90和超声波80，清洗作业时通过清洗剂的乳化作用，鼓泡机构90的爆破作用及超声波80的空化作用，将附着在待清洗物表面的异物杂质与待清洗物分离，使得待清洗物悬浮于清洗液中，达到较好的清洗效果。

作为优选，本申请实施例中，环形循环通道结构体10上设置加热机构70，加热机构70可以是加热丝，加热机构70可以设置于环形循环通道结构体10内的任意位置，只要不影响其他部件的使用即可。本申请实施例中，将加热机构70设置于第二流变通道15内，可以合理排布环形循环通道结构体10内的空间。

具体地，本申请实施例中，如图3-5所示，清洗槽11的环形循环通道结构体10上设置固定件111，固定件111用于固定待清洗物。通过设置固定件111，以便于待清洗物在清洗过程中不流动，避免待清洗物之间相互碰撞所造成的损伤，避免待清洗物与环形循环通道结构体10的内壁的碰撞所造成的待清洗件的损伤，具体地，本申请实施例中的固定件111可以是卡槽，便于卡固基板或盖板。

本申请实施例中，第二流变通道15设置出液口，出液口上设置排水管50，排水管50上设置排水阀51，打开排水阀51时，可以将环形循环通道结构体10内的清洗液排出，以方便更换清洗液。作为优选，本申请实施例中，出液口和排水管50设置于过滤部件30和沉降槽12之间，在其他实施例中，出液口和排水管50也设置于环形循环通道结构体10的其他位置；第三流变通道16设置进液口，进液口设置注水管60，注水管60上设置进水阀61，通过注水管60便于向环形循环通道结构体10内注入清洗液，便于添加清洗液。

本申请实施例的清洗装置的工作流程如下：1、使排水阀51、加热机构70、超声波80、鼓泡机构90、泵体18保持关闭状态，打开流通阀门40，开启进水阀61，将纯水与清洗剂形成的清洗液注入环形循环通道结构体10至所需液位。2、当清洗液达到所需液位时，开启循环泵、超声波80、鼓泡机构90、加热部件，将待清洗物浸入清洗槽11的清洗液中进行浸润清洗，清洗液流经沉降槽12，沉降杂质，经过清洗沉降槽12沉降杂质、过滤部件30过滤的清洗液回流至清洗槽11进行清洗。3、当需要清洁阶梯沉降器13或过滤部件30时，在关闭泵体18、超声波80、鼓泡机构90、加热部件，并关闭流通阀门40后，开启排水阀51，将清洗液排出，打开沉盖板19，取出过滤部件30或/和阶梯沉降器13进行更换或清洁。4、完成更换过滤部件30或/和阶梯沉降器13后，关闭排水阀51，打开流通阀门40、开启进水阀61，清洗液补充至所需液位，继续循环清洗液。5、清洗完成后，取出待清洗物。其中，在取出待清洗物之前也可以关闭泵体18、超声波80、鼓泡机构90、加热部件。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

清洗槽(11)；

沉降槽(12)，连通所述清洗槽(11)，所述沉降槽(12)最大横截面位置的横截面积大于所述沉降槽(12)与所述清洗槽(11)之间最大横截面位置的横截面积；

其中，清洗时清洗液从所述清洗槽(11)水平流入所述沉降槽(12)。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括阶梯沉降器(13)，所述阶梯沉降器(13)设置于所述沉降槽(12)中，所述阶梯沉降器(13)的倾斜面朝向所述沉降槽(12)中所述清洗液的流入方向。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述沉降槽(12)与所述阶梯沉降器(13)可拆卸设置。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括环形循环通道结构体(10)，所述清洗槽(11)、所述沉降槽(12)位于所述环形循环通道结构体(10)不同位置，且所述环形循环通道结构体(10)的整个通道内壁在所述清洗液流动方向上顺滑延伸。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述环形循环通道结构体(10)的整个通道内所述清洗液均总体水平流动、不溢出。

6.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述环形循环通道结构体(10)包括第一流变通道(14)和第二流变通道(15)，分别位于所述沉降槽(12)在所述清洗液流动方向前后，所述第一流变通道(14)连通所述清洗槽(11)和所述沉降槽(12)，所述第二流变通道(15)连通所述清洗槽(11)和所述沉降槽(12)，

其中，所述第一流变通道(14)最大横截面位置的横截面积小于所述沉降槽(12)与所述第一流变通道(14)接触位置处的横截面的横截面积；所述第二流变通道(15)最大横截面位置的横截面积小于所述沉降槽(12)与所述第二流变通道(15)接触位置处的横截面的横截面积，且所述第一流变通道(14)和所述第二流变通道(15)的横截面积分别在远离所述沉降槽(12)的方向均逐渐减小。

7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述环形循环通道结构体(10)包括第三流变通道(16)和第四流变通道(17)，所述第三流变通道(16)和所述第四流变通道(17)分别位于所述清洗槽(11)在所述清洗液流动方向前后，所述第三流变通道(16)连通所述清洗槽(11)和所述第二流变通道(15)；所述第四流变通道(17)连通所述第一流变通道(14)和所述清洗槽(11)；

其中，所述第三流变通道(16)和所述第四流变通道(17)的横截面积在远离所述清洗槽(11)的方向均逐渐减小；所述第三流变通道(16)最大横截面位置的横截面积小于所述清洗槽(11)与所述第三流变通道(16)接触位置处的横截面的横截面积；所述第四流变通道(17)最大横截面位置的横截面积小于所述清洗槽(11)与所述第四流变通道(17)接触位置处的横截面的横截面积。

8.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述环形循环通道结构体(10)上设置泵体(18)，以用于为所述环形循环通道结构体(10)中的清洗液提供循环动力。

9.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，在所述第三流变通道(16)和/或第二流变通道(15)上设置有过滤部件(30)，以将从所述沉降槽(12)中的流通至清洗槽(11)中的清洗液过滤。

10.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(11)和所述沉降槽(12)之间设置流通阀门(40)。

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