JPH07155712A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理槽の内容積に対する処理液の循環量の割
合を適正な範囲とし、被処理基板の歩留まりの低下を防
止した基板処理装置を提供する。 【構成】 処理槽11の周囲に下方から覆うように外槽12
を設け、処理槽11には処理液13がオーバフロー可能な状
態で満たされ、オーバフローした処理液13を外槽12にて
回収する。処理槽11および外槽12間に配管14を設け、こ
の配管14に循環ポンプ15を配設して、外槽12から処理槽
11に処理液13を循環する。ガラス基板21をカセット22に
収容し、エッチングや洗浄などの所定の処理を施す際
は、カセット22ごと処理槽11内に挿入し、処理液13を外
槽12にオーバフローさせながら処理する。循環装置18に
より、外槽12から処理槽11に送液する処理液13の循環量
Ｂ〔ｌ／分〕を、処理槽11の内容積をＡ〔ｌ〕とした場
合、比Ｂ／Ａが０．６以上となるように設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、処理液をオーバフロー
しながら被処理基板を処理する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶デバイス用のガラス基板など
に対し、エッチングや洗浄などの処理を施す基板処理装
置は、処理液が満たされた処理槽を持っており、この処
理槽の内部に被処理用のガラス基板を挿入し、処理槽か
ら処理液をオーバフローさせながらガラス基板のエッチ
ングや洗浄などの処理を行なっている。また、処理槽か
らオーバフローした処理液は、処理槽の外側に設置した
外槽により受け止められ、この外槽の内部に蓄積された
オーバフロー処理液は循環ポンプにより処理槽に戻され
る。

【０００３】この循環の際、オーバフロー処理液中に含
まれるパーティクルは、循環パイプの処理槽近くの位置
に設けられたフィルタにより捕獲され、除去される。

【０００４】そして、このような基板処理装置におい
て、処理槽の内容積に対し、循環される処理液の循環量
の割合が少ないと、処理液中のパーティクル量が増加
し、被処理物に対するパーティクルの再付着が生じ、被
処理物の歩留まりが低下する。この歩留まりの低下を、
ガラス基板に対する処理としてエッチングする場合につ
いて説明する。

【０００５】一般に、ガラス基板をエッチングすると、
ガラスに含まれているエッチング不溶成分が処理液中に
溶出し、処理液中のパーティクルが増大する。そして、
このパーティクルの増大を防止するために、処理液をオ
ーバフローさせて、フィルタによりパーティクルを除去
しながら処理槽に戻す循環処理を行なっている。

【０００６】しかしながら、処理槽の内容積に対し、処
理液の循環量の割合が少ないと、処理槽内におけるパー
ティクルの残留率が大きくなり、処理液中のパーティク
ル量が増大する。このため、処理終了後にガラス基板を
処理槽から引き上げると、処理液中のパーティクルがガ
ラス基板に再付着し、歩留まりの低下を招くおそれがあ
る。すなわち、ガラス基板にパーティクルが付着する
と、後工程で薄膜を形成した場合、薄膜にピンホールが
生じてパターン異常を引き起こし、液晶表示パネルとし
ての歩留りの低下をきたしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、処理槽
の内容積に対する処理液の循環量の割合が適正でないと
被処理物の歩留まりの低下が生じる問題を有している。

【０００８】本発明の目的は、処理槽の内容積に対する
処理液の循環量の割合を適正な範囲とすることにより、
被処理基板の歩留まりの低下を防止した基板処理装置を
提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明による基板処理装
置は、処理液をオーバフローさせながら被処理基板に対
して所定の処理を行なう処理槽と、この処理槽からオー
バフローした処理液を上記処理槽に循環させる循環装置
とを備え、前記循環装置による処理液の循環量をＢ〔ｌ
／分〕とし、前記処理槽の内容積をＡ〔ｌ〕としたと
き、これらの比Ｂ／Ａが０．６以上であるものである。

【００１０】

【作用】本発明は、被処理基板に対して所定の処理を行
なう際に、処理槽から処理液をオーバフローさせ、循環
装置によって処理槽に循環される処理液の循環量Ｂ〔ｌ
／分〕を、処理槽の内容積Ａ〔ｌ〕に対し、比Ｂ／Ａが
０．６以上となるように設定したので、処理槽内におけ
るパーティクルなどの残留量が減少し、パーティクルの
再付着に起因する被処理基板の歩留まりの低下を防止で
きる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の基板処理装置の一実施例を図
面を参照して説明する。

【００１２】図１において、11は処理槽で、この処理槽
11の周囲にはこの処理槽11を下方から覆うように設けら
れた外槽12が設けられ、処理槽11には処理液13がオーバ
フロー可能な状態で満たされ、オーバフローした処理液
13は外槽12にて回収される。

【００１３】また、処理槽11の底部および外槽12の底部
の間には配管14が設けられ、この配管14には循環ポンプ
15が配設され、この循環ポンプ15により外槽12から処理
槽11に処理液13が循環され、戻される。さらに、循環ポ
ンプ15より処理槽11側の配管14上にはフィルタ16と流量
計17とが順次設置され、配管14および循環ポンプ15など
により、循環装置18が形成されている。

【００１４】さらに、被処理基板であるたとえば液晶デ
バイス用のガラス基板21はカセット22に収容されてお
り、エッチングや洗浄などの所定の処理を施す際は、こ
のガラス基板21はカセット22ごと処理槽11内に挿入さ
れ、処理液13を処理槽11から外槽12にオーバフローさせ
ながらこの処理槽11内で処理される。

【００１５】ここで、循環装置18により外槽12から処理
槽11に送液される処理液13の循環量をＢ〔ｌ／分〕と
し、処理槽11の内容積をＡ〔ｌ〕とした場合、これらの
比Ｂ／Ａが０．６以上となるように設定する。このよう
に大きな循環量に設定するためには、配管14の管径を大
きくしたり、循環ポンプ15の送液能力を大きくしたりし
て対応すればよい。

【００１６】次に、上記実施例の動作について説明す
る。

【００１７】まず、ガラス基板21に対してエッチングや
洗浄などの所定の処理を施す場合は、ガラス基板21をカ
セット22上に設置した後、ガラス基板21をカセット22ご
と処理槽11中に挿入し、この処理槽11内にて洗浄などの
処理を行なう。この場合、処理槽11内の処理液13はガラ
ス基板21およびカセット22が挿入されたことにより処理
槽11からオーバフローし、オーバフローした処理液13は
外槽12中に流れ落ちて蓄積される。

【００１８】また、外槽12内に流れ落ちて蓄積された処
理液13は配管14を通り、循環ポンプ15によりフィルタ16
および流量計17を経て処理槽11に返送される。したがっ
て、この循環ポンプ15により返送された流量分、処理槽
11からオーバフローすることとなり、以後、このオーバ
フローと循環ポンプ15による返送とが連続し、処理液13
の循環が行なわれる。

【００１９】そして、処理槽11内での処理、たとえばエ
ッチングにより、ガラス基板21からは、前述したよう
に、ガラスに含まれているエッチング不溶成分が処理液
中に溶出し、処理液13中のパーティクルを増加させる。
このパーティクルは、上述した処理液13の循環作用によ
り、処理液13とともに処理槽11からオーバフローして外
槽12に蓄積され、さらに、循環ポンプ15により処理液13
とともに処理槽11に返送される。しかし、この返送途中
にはフィルタ16が設けられており、パーティクルはこの
フィルタ16により捕獲され、処理液13から除去される。
したがって、処理液13の循環量が増えると、フィルタ16
を通過する処理液13の量も増大し、フィルタ16で捕獲さ
れるパーティクルも増え、処理槽11内に残留するパーテ
ィクルは減少する。

【００２０】なお、図２は処理液13の循環量とこの処理
液13中に残留するパーティクル数〔ケ／１０cc〕との関
係を示している。また、横軸は処理液13の循環量Ｂ〔ｌ
／分〕と処理槽11の内容積Ａ〔ｌ〕との比Ｂ／Ａを表し
ており、この比が０．６以上になると、縦軸で示した処
理液13中に残留するパーティクル数は、循環前に比べ約
１／３に低減する。すなわち、循環量が増加して所定量
である０．６以上になると、フィルタ16を通過する単位
時間当りの処理液量が増加し、フィルタ16によるパーテ
ィクルの捕捉効率が増加するため、上述のように処理液
13中に残留するパーティクル量が大幅に低減する。

【００２１】したがって、循環ポンプ15の送液能力を大
きくしたり、配管14の管径を大きくしたりして、処理液
13の循環量Ｂ〔ｌ／分〕を、処理槽11の内容積Ａ〔ｌ〕
に対し、これらの比Ｂ／Ａが０．６以上となるように設
定することにより、処理槽11内における処理液13中のパ
ーティクル量を大幅に低減できる。このため、ガラス基
板21を処理槽11から引き上げる際に、従来のように大量
のパーティクルがガラス基板21に再付着することはな
く、この後、ガラス基板21上に薄膜を形成してもピンホ
ールが殆ど発生せず、ピンホールに起因するパターン異
常を防止でき、液晶表示パネルの歩留りが向上する。

【００２２】

【発明の効果】本発明の基板処理装置によれば、処理槽
から処理液をオーバフローさせ、循環装置によって処理
槽に循環される処理液の循環量Ｂ〔ｌ／分〕を、処理槽
の内容積Ａ〔ｌ〕に対し、比Ｂ／Ａが０．６以上となる
ように設定したので、処理槽内のパーティクル量を減少
させることができ、被処理基板へのパーティクルの再付
着を防止し、その歩留りを向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板処理装置の一実施例を示す断面図
である。

【図２】処理液中のパーティクル数と処理液の循環量と
の関係を示す特性図である。

【符号の説明】

11 処理槽 13 処理液 18 循環装置 21 被処理基板としてのガラス基板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理液をオーバフローさせながら被処理
   基板に対して所定の処理を行なう処理槽と、この処理槽
   からオーバフローした処理液を上記処理槽に循環させる
   循環装置とを備え、 前記循環装置による処理液の循環量をＢ〔ｌ／分〕と
   し、前記処理槽の内容積をＡ〔ｌ〕としたとき、これら
   の比Ｂ／Ａが０．６以上であることを特徴とする基板処
   理装置。