JPH05267273A - 浸漬式ウェット処理装置 - Google Patents
浸漬式ウェット処理装置Info
- Publication number
- JPH05267273A JPH05267273A JP5864192A JP5864192A JPH05267273A JP H05267273 A JPH05267273 A JP H05267273A JP 5864192 A JP5864192 A JP 5864192A JP 5864192 A JP5864192 A JP 5864192A JP H05267273 A JPH05267273 A JP H05267273A
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- JP
- Japan
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- carrier
- chemical liquid
- chemical solution
- wafer
- tank
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Abstract
(57)【要約】
【目的】パーティクルの再付着することなくウェハ６面
が一様に処理される。 【構成】底面に薬液を供給する開口を有し、ウェハ６を
収納するとともに薬液が洩れることない外壁で囲む箱状
のキャリア８にし、このキャリア８の開口より薬液を一
定速度で供給してキャリア外に薬液をオバーフローさせ
て処理する。このように薬液の供給を一方向に一定速度
に供給することによって、薬液の澱みを無くし、パーテ
ィクルの再付着を防止している。
が一様に処理される。 【構成】底面に薬液を供給する開口を有し、ウェハ６を
収納するとともに薬液が洩れることない外壁で囲む箱状
のキャリア８にし、このキャリア８の開口より薬液を一
定速度で供給してキャリア外に薬液をオバーフローさせ
て処理する。このように薬液の供給を一方向に一定速度
に供給することによって、薬液の澱みを無くし、パーテ
ィクルの再付着を防止している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程に適用
される半導体基板を化学薬液によって処理する浸漬式ウ
ェット処理装置に関する。
される半導体基板を化学薬液によって処理する浸漬式ウ
ェット処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の浸漬式ウェット処理装置の
一例における構成を示す図、図５はウェハを収納するキ
ャリアを示す斜視図である。従来、この種の浸漬式ウェ
ット処理装置は、例えば、図４に示すように、ウェハ処
理を行う処理槽１と、処理槽１からオーバーフローした
薬液を貯める処理槽外槽２と、処理槽外槽２に貯える薬
液をフィルター３を通過させ、処理槽１に流入させるポ
ンプ４と、薬液を温調する電子冷熱器５とを有してい
る。
一例における構成を示す図、図５はウェハを収納するキ
ャリアを示す斜視図である。従来、この種の浸漬式ウェ
ット処理装置は、例えば、図４に示すように、ウェハ処
理を行う処理槽１と、処理槽１からオーバーフローした
薬液を貯める処理槽外槽２と、処理槽外槽２に貯える薬
液をフィルター３を通過させ、処理槽１に流入させるポ
ンプ４と、薬液を温調する電子冷熱器５とを有してい
る。
【０００３】次に動作について説明する。処理槽１内の
薬液はオーバーフローされ、処理槽外槽２に貯まる。そ
してポンプ４により、貯められ薬液は処理槽外槽２から
電子冷熱器５及びフィルター３を通過して処理槽１に戻
る。このような一連の動作により、処理槽１内で薬液を
アップフローしている。ウェハ６を処理する時には、ウ
ェハ６とこのウェハ６が収納された図５に示すキャリア
７とともに処理槽１内に浸漬することにより処理を行っ
ていた。
薬液はオーバーフローされ、処理槽外槽２に貯まる。そ
してポンプ４により、貯められ薬液は処理槽外槽２から
電子冷熱器５及びフィルター３を通過して処理槽１に戻
る。このような一連の動作により、処理槽１内で薬液を
アップフローしている。ウェハ６を処理する時には、ウ
ェハ６とこのウェハ６が収納された図５に示すキャリア
７とともに処理槽１内に浸漬することにより処理を行っ
ていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の浸漬式
ウェット処理装置では、処理槽内に部分的によどみが発
生するため、パーティクルがオーバーフローせずに処理
槽内を浮遊し、ウェハに再付着する事態を招いていた。
また、キャリアを処理槽内に入れるためキャリアによっ
ても薬液の対流が妨げられ、ウェハ表面に接する液の流
れに不均一を起しウェハの処理ムラが発生していた。
ウェット処理装置では、処理槽内に部分的によどみが発
生するため、パーティクルがオーバーフローせずに処理
槽内を浮遊し、ウェハに再付着する事態を招いていた。
また、キャリアを処理槽内に入れるためキャリアによっ
ても薬液の対流が妨げられ、ウェハ表面に接する液の流
れに不均一を起しウェハの処理ムラが発生していた。
【０００５】本発明の目的は、処理槽内の薬液の流れ円
滑にし、ウェハ表面に触れる薬液の流れを均一にし一様
に処理できる浸漬式ウェット処理装置を提供することで
ある。
滑にし、ウェハ表面に触れる薬液の流れを均一にし一様
に処理できる浸漬式ウェット処理装置を提供することで
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の浸漬式ウェット
処理装置は、底面に薬液が供給される開口を有し、複数
の半導体基板を収納するとともに前記半導体基板を前記
薬液が洩れない外壁で囲う箱状のキャリアと、前記開口
を介して薬液を一方向に圧送するポンプと、前記キャリ
アよりオーバフローする薬液を貯える外槽と、この外槽
から流出する薬液をろ過するフィルタとを備えている。
処理装置は、底面に薬液が供給される開口を有し、複数
の半導体基板を収納するとともに前記半導体基板を前記
薬液が洩れない外壁で囲う箱状のキャリアと、前記開口
を介して薬液を一方向に圧送するポンプと、前記キャリ
アよりオーバフローする薬液を貯える外槽と、この外槽
から流出する薬液をろ過するフィルタとを備えている。
【０００７】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００８】図１は本発明の浸漬式ウェット処理装置の
一実施例における構成を示す図である。この浸漬式ウェ
ット処理装置は、図１に示すように、フィルタ３から伸
びる薬液供給管の処理液噴出部１３と継ながる開口を底
面に有し、ウェハ６を案内す溝が形成されるとともにウ
ェハ６を包み収納する箱状のキャリア８と、このキャリ
ア８を載置するキャリア受台９と、このキャリア受台９
及びキャリア８を包みキャリア８よりオーバフローする
薬液を貯える外槽１１を設けたことである。すなわち、
従来の処理槽の代りにキャリア自身を処理槽としたこと
である。
一実施例における構成を示す図である。この浸漬式ウェ
ット処理装置は、図１に示すように、フィルタ３から伸
びる薬液供給管の処理液噴出部１３と継ながる開口を底
面に有し、ウェハ６を案内す溝が形成されるとともにウ
ェハ６を包み収納する箱状のキャリア８と、このキャリ
ア８を載置するキャリア受台９と、このキャリア受台９
及びキャリア８を包みキャリア８よりオーバフローする
薬液を貯える外槽１１を設けたことである。すなわち、
従来の処理槽の代りにキャリア自身を処理槽としたこと
である。
【０００９】このようにキャリア自身を処理槽にし、キ
ャリア８に薬液を供給し、キャリア８内に薬液満たして
オーバーフローさせ、ウェハ６を処理すれば、ウェハ６
面と接触する薬液の流れは、ポンプ３の薬液の供給速度
になり、速度が均一になるとともにパーティクルはよど
むことなくオーバフローされ、外槽１１に排出される。
ャリア８に薬液を供給し、キャリア８内に薬液満たして
オーバーフローさせ、ウェハ６を処理すれば、ウェハ６
面と接触する薬液の流れは、ポンプ３の薬液の供給速度
になり、速度が均一になるとともにパーティクルはよど
むことなくオーバフローされ、外槽１１に排出される。
【００１０】図２は図１のキャリアを示す斜視図であ
る。また、キャリア８は、図２に示すように、ウェハの
周囲を囲むような箱体であり、底面に薬液が供給される
開口１４が形成されている。
る。また、キャリア８は、図２に示すように、ウェハの
周囲を囲むような箱体であり、底面に薬液が供給される
開口１４が形成されている。
【００１１】図３は、本発明の浸漬式ウェット処理装置
の他の実施例の構成を示す図である。この浸漬式ウェッ
ト処理装置は、図３に示すように、外槽１１よりポンプ
１２で薬液を吸引して処理液噴出部１０より処理液を供
給しキャリア８内に処理液が満たされるまでウェハ６に
向けて噴出する処理液噴出部１３を設けたことである。
それ以外は前述の実施例と同じである。この処理液噴出
部１３は、ウェハに付着するパーティクルの除去を促す
ものの、前述の実施例とも比べ、ウェハ６と薬液と接す
る時間の相違は無い。
の他の実施例の構成を示す図である。この浸漬式ウェッ
ト処理装置は、図３に示すように、外槽１１よりポンプ
１２で薬液を吸引して処理液噴出部１０より処理液を供
給しキャリア８内に処理液が満たされるまでウェハ６に
向けて噴出する処理液噴出部１３を設けたことである。
それ以外は前述の実施例と同じである。この処理液噴出
部１３は、ウェハに付着するパーティクルの除去を促す
ものの、前述の実施例とも比べ、ウェハ６と薬液と接す
る時間の相違は無い。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、底面に薬
液を供給する開口を有し、ウェハを収納するとともに薬
液が洩れないように外壁で包むような、箱状のキャリア
にし、このキャリア自身を処理槽とし、前記開口から一
方向に向って薬液が流れるようにすることによって、ウ
ェハ面と接触する薬液の流速を均一にし、一様にウェハ
面内処理できるという効果がある。また、常に一定速度
で薬液を供給するので薬液は澱むことなくキャリア外に
排出され、パーティクルはウェハに再付着することなく
槽外に排出されるという効果がある。
液を供給する開口を有し、ウェハを収納するとともに薬
液が洩れないように外壁で包むような、箱状のキャリア
にし、このキャリア自身を処理槽とし、前記開口から一
方向に向って薬液が流れるようにすることによって、ウ
ェハ面と接触する薬液の流速を均一にし、一様にウェハ
面内処理できるという効果がある。また、常に一定速度
で薬液を供給するので薬液は澱むことなくキャリア外に
排出され、パーティクルはウェハに再付着することなく
槽外に排出されるという効果がある。
【図１】本発明の浸漬式ウェット処理装置の一実施例の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図２】図１のキャリアを示す斜視図である。
【図３】本発明の浸漬式ウェット処理装置の他実施例の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図４】従来の浸漬式半導体製造ウェット処理装置の一
例における構成を示す図である。
例における構成を示す図である。
【図５】図４のキャリアを示す斜視図である。
１ 処理槽 ２ 処理槽外槽 ３ フィルタ ４，１２ ポンプ ５ 電子冷熱器 ７，８ キャリア ９ キャリア受台 １１ 外槽 １０，１３ 処理液噴出部
Claims (1)
- 【請求項１】 底面に薬液が供給される開口を有し、複
数の半導体基板を収納するとともに前記半導体基板を前
記薬液が洩れない外壁で囲う箱状のキャリアと、前記開
口を介して薬液を一方向に圧送するポンプと、前記キャ
リアよりオーバフローする薬液を貯える外槽と、この外
槽から流出する薬液をろ過するフィルタとを備えること
を特徴とする浸漬式ウェット処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5864192A JPH05267273A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 浸漬式ウェット処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5864192A JPH05267273A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 浸漬式ウェット処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05267273A true JPH05267273A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13090210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5864192A Withdrawn JPH05267273A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 浸漬式ウェット処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05267273A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120261332A1 (en) * | 2009-12-22 | 2012-10-18 | Toray Industries, Inc. | Semipermeable membrane and manufacturing method therefor |
| US20130126419A1 (en) * | 2010-08-11 | 2013-05-23 | Toray Industries, Inc. | Separation membrane element and method for producing composite semipermeable membrane |
-
1992
- 1992-03-17 JP JP5864192A patent/JPH05267273A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120261332A1 (en) * | 2009-12-22 | 2012-10-18 | Toray Industries, Inc. | Semipermeable membrane and manufacturing method therefor |
| US20130126419A1 (en) * | 2010-08-11 | 2013-05-23 | Toray Industries, Inc. | Separation membrane element and method for producing composite semipermeable membrane |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |