JPH05326487A - ウェットエッチング処理槽 - Google Patents
ウェットエッチング処理槽Info
- Publication number
- JPH05326487A JPH05326487A JP4132191A JP13219192A JPH05326487A JP H05326487 A JPH05326487 A JP H05326487A JP 4132191 A JP4132191 A JP 4132191A JP 13219192 A JP13219192 A JP 13219192A JP H05326487 A JPH05326487 A JP H05326487A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- liquid
- pump
- filter
- overflow
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 槽内の薬液中のパーティクルを短時間で減ら
す。 【構成】 ウェハをオーバーフロー槽１１で処理した
後、循環フィルタリング用のポンプ１２を停止させ、オ
ーバーフロー槽の薬液をバルブ１５を開いて配管１４を
通して貯液槽１６に抜く。全て抜き終わった後、貯液槽
１６の薬液をポンプ１７によりフィルター１８を通して
オーバーフロー槽１１に投入する。投入後、ポンプ１２
を作動させ、循環フィルタリングを再び行う。これによ
り、短時間に薬液中のパーティクルを除去できる。
す。 【構成】 ウェハをオーバーフロー槽１１で処理した
後、循環フィルタリング用のポンプ１２を停止させ、オ
ーバーフロー槽の薬液をバルブ１５を開いて配管１４を
通して貯液槽１６に抜く。全て抜き終わった後、貯液槽
１６の薬液をポンプ１７によりフィルター１８を通して
オーバーフロー槽１１に投入する。投入後、ポンプ１２
を作動させ、循環フィルタリングを再び行う。これによ
り、短時間に薬液中のパーティクルを除去できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置のウェ
ットエッチング処理槽に関するものである。
ットエッチング処理槽に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】以下、従来のウェットエッチング処理に
ついて説明する。
ついて説明する。
【０００３】図３は、従来のウェットエッチング処理装
置の概略図を示すものである。１はオーバーフロー槽、
２は底板、３はポンプ、４はフィルター、５はカセッ
ト、６はウェハである。
置の概略図を示すものである。１はオーバーフロー槽、
２は底板、３はポンプ、４はフィルター、５はカセッ
ト、６はウェハである。
【０００４】従来、ウェットエッチング処理は、循環す
ると同時にフィルタリングしたエッチング液をオーバー
フロー槽１へウェハ６をセットしたカセット５を１カセ
ットもしくは複数投入して行なわれる。
ると同時にフィルタリングしたエッチング液をオーバー
フロー槽１へウェハ６をセットしたカセット５を１カセ
ットもしくは複数投入して行なわれる。
【０００５】ウェットエッチング処理槽について具体的
に説明する。オーバーフロー槽１の外槽の薬液をポンプ
３でフィルター４を通し内槽へ循環される。この内槽に
ウェハ６をセットしたカセット５を底板上２に投入し、
エッチングする。この処理が繰り返し行われ、ウェット
エッチング処理が終了する。
に説明する。オーバーフロー槽１の外槽の薬液をポンプ
３でフィルター４を通し内槽へ循環される。この内槽に
ウェハ６をセットしたカセット５を底板上２に投入し、
エッチングする。この処理が繰り返し行われ、ウェット
エッチング処理が終了する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ごとき従来のウェットエッチング処理オーバーフロー槽
１は、オーバーフロー槽１内へウェハ６をセットしたカ
セット５を投入して処理することにより、オーバーフロ
ー槽１内の液中パーティクルがウェハ６やカセット５か
ら脱離して増加する。すぐに次のウェハ６を処理すると
ウェハ６にオーバーフロー槽１内のパーティクルが付着
する。このため、循環フィルタリングによってオーバー
フロー槽１内の液中パーティクルが減少するまで長時間
処理を停止させなければならない欠点を有していた。
ごとき従来のウェットエッチング処理オーバーフロー槽
１は、オーバーフロー槽１内へウェハ６をセットしたカ
セット５を投入して処理することにより、オーバーフロ
ー槽１内の液中パーティクルがウェハ６やカセット５か
ら脱離して増加する。すぐに次のウェハ６を処理すると
ウェハ６にオーバーフロー槽１内のパーティクルが付着
する。このため、循環フィルタリングによってオーバー
フロー槽１内の液中パーティクルが減少するまで長時間
処理を停止させなければならない欠点を有していた。
【０００７】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、オーバーフロー槽内の薬液中のパーティクルを短時
間で減らすためのウェットエッチング処理槽を提供する
ことを目的とするものである。
で、オーバーフロー槽内の薬液中のパーティクルを短時
間で減らすためのウェットエッチング処理槽を提供する
ことを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のウェットエッチング処理槽は、オーバーフロ
ー槽の薬液を第１のポンプおよび第１のフィルターを介
して内槽に導入する第１の機構と、前記内槽および前記
オーバーフロー槽の薬液を貯める貯液槽を備え、前記貯
液槽の薬液を第２のポンプと第２のフィルターを介して
前記内槽に導入する第２の機構とを有する。
に本発明のウェットエッチング処理槽は、オーバーフロ
ー槽の薬液を第１のポンプおよび第１のフィルターを介
して内槽に導入する第１の機構と、前記内槽および前記
オーバーフロー槽の薬液を貯める貯液槽を備え、前記貯
液槽の薬液を第２のポンプと第２のフィルターを介して
前記内槽に導入する第２の機構とを有する。
【０００９】また、オーバーフロー槽の薬液を三方弁と
ポンプとフィルターを介して内槽に導入し、前記内槽お
よび前記オーバーフロー槽の薬液を貯める貯液槽を備
え、前記貯液槽の薬液を前記三方弁より取り出せるよう
にしてある。
ポンプとフィルターを介して内槽に導入し、前記内槽お
よび前記オーバーフロー槽の薬液を貯める貯液槽を備
え、前記貯液槽の薬液を前記三方弁より取り出せるよう
にしてある。
【００１０】
【作用】上記構成によれば、オーバーフロー槽内の薬液
を全て抜いて貯液槽に貯めた後、薬液をフィルタリング
してオーバーフロー槽に投入することにより、短時間で
薬液中のパーティクルを除去できる。
を全て抜いて貯液槽に貯めた後、薬液をフィルタリング
してオーバーフロー槽に投入することにより、短時間で
薬液中のパーティクルを除去できる。
【００１１】
【実施例】本発明の具体的な実施例を図面を用いて説明
する。図１は、本発明の第１の実施例におけるウェット
エッチング処理槽の概略図を示すものである。
する。図１は、本発明の第１の実施例におけるウェット
エッチング処理槽の概略図を示すものである。
【００１２】図１において、１０は内槽、１１は石英ま
たは弗素化合物により形成されたオーバーフロー槽、１
２はオーバーフロー槽１１の薬液を循環するためのポン
プ、１３はオーバーフロー槽１１の薬液を循環フィルタ
リングするためのフィルターで、このフィルター１３の
径は０．１〜０．２μｍである。１４はオーバーフロー
槽１１の薬液を貯液槽１６に投入するための配管、１５
はオーバーフロー槽１１の薬液を貯液槽１６に投入する
ためのバルブ、１６は石英または弗素化合物により形成
された貯液槽である。１７は貯液槽１６の薬液をオーバ
ーフロー槽内に投入するためのポンプ、１８は貯液槽１
６の薬液をオーバーフロー槽１１内に投入する時にフィ
ルタリングするためのフィルターである。このフィルタ
ー１８の径は０．０５〜０．１μｍである。
たは弗素化合物により形成されたオーバーフロー槽、１
２はオーバーフロー槽１１の薬液を循環するためのポン
プ、１３はオーバーフロー槽１１の薬液を循環フィルタ
リングするためのフィルターで、このフィルター１３の
径は０．１〜０．２μｍである。１４はオーバーフロー
槽１１の薬液を貯液槽１６に投入するための配管、１５
はオーバーフロー槽１１の薬液を貯液槽１６に投入する
ためのバルブ、１６は石英または弗素化合物により形成
された貯液槽である。１７は貯液槽１６の薬液をオーバ
ーフロー槽内に投入するためのポンプ、１８は貯液槽１
６の薬液をオーバーフロー槽１１内に投入する時にフィ
ルタリングするためのフィルターである。このフィルタ
ー１８の径は０．０５〜０．１μｍである。
【００１３】ウェハをオーバーフロー槽１１で処理した
後、循環フィルタリング用のポンプ１２を停止させ、オ
ーバーフロー槽１１の薬液をバルブ１５を開き配管１４
を通して貯液槽１６に抜く。全て貯液槽１６に抜き終わ
った後、貯液槽１６の薬液をポンプ１７によりフィルタ
ー１８を通してオーバーフロー槽１１に投入する。投入
後、ポンプ１２を作動させ、循環フィルタリングを再び
行う。１パス用のフィルター１８は循環用のフィルター
１３より径が小さいものを使っているのは、パーティク
ルの除去効果が大きくでき、循環用のフィルター１３と
比べてそこを流れる流量は少なくても問題ないからであ
る。このようにオーバーフロー槽１１内の薬液を全て抜
いて貯液槽１６に貯めた後、薬液をフィルタリングして
オーバーフロー槽１１に投入することにより、短時間で
薬液中のパーティクルを除去できる。
後、循環フィルタリング用のポンプ１２を停止させ、オ
ーバーフロー槽１１の薬液をバルブ１５を開き配管１４
を通して貯液槽１６に抜く。全て貯液槽１６に抜き終わ
った後、貯液槽１６の薬液をポンプ１７によりフィルタ
ー１８を通してオーバーフロー槽１１に投入する。投入
後、ポンプ１２を作動させ、循環フィルタリングを再び
行う。１パス用のフィルター１８は循環用のフィルター
１３より径が小さいものを使っているのは、パーティク
ルの除去効果が大きくでき、循環用のフィルター１３と
比べてそこを流れる流量は少なくても問題ないからであ
る。このようにオーバーフロー槽１１内の薬液を全て抜
いて貯液槽１６に貯めた後、薬液をフィルタリングして
オーバーフロー槽１１に投入することにより、短時間で
薬液中のパーティクルを除去できる。
【００１４】図２は、本発明の第２の実施例におけるウ
ェットエッチング処理槽の概略図を示すものである。図
２において、２０は内槽、２１は石英または弗素化合物
により形成されたオーバーフロー槽、２２はオーバーフ
ロー槽２１の薬液を循環するためのポンプ、２３はオー
バーフロー槽２１の薬液を循環フィルタリングするため
のフィルター、２４はオーバーフロー槽２１の薬液を貯
液槽２６に投入するための配管、２５はオーバーフロー
槽２１の薬液を貯液槽２６に投入するためのバルブ、２
６は石英または弗素化合物により形成された貯液槽であ
る。２７は貯液槽２６と三方弁をつなぐ配管、２８はオ
ーバーフロー槽２１の薬液の循環の流れと貯液槽２６か
らの薬液の流れを切り替える三方弁である。
ェットエッチング処理槽の概略図を示すものである。図
２において、２０は内槽、２１は石英または弗素化合物
により形成されたオーバーフロー槽、２２はオーバーフ
ロー槽２１の薬液を循環するためのポンプ、２３はオー
バーフロー槽２１の薬液を循環フィルタリングするため
のフィルター、２４はオーバーフロー槽２１の薬液を貯
液槽２６に投入するための配管、２５はオーバーフロー
槽２１の薬液を貯液槽２６に投入するためのバルブ、２
６は石英または弗素化合物により形成された貯液槽であ
る。２７は貯液槽２６と三方弁をつなぐ配管、２８はオ
ーバーフロー槽２１の薬液の循環の流れと貯液槽２６か
らの薬液の流れを切り替える三方弁である。
【００１５】オーバーフロー槽２１の内槽２０の薬液を
バルブ２５を開き配管２４を通して貯液槽２６に抜く。
全て貯液槽２６に抜き終わった後、三方弁２８を切り替
え貯液槽２６の薬液を配管２７を通してポンプ２２によ
りオーバーフロー槽２１に投入する。このときフィルタ
ー２３を通して内槽２６に投入する。貯液槽２６の薬液
を全て投入した後、三方弁を切り替え循環フィルタリン
グを再び行う。
バルブ２５を開き配管２４を通して貯液槽２６に抜く。
全て貯液槽２６に抜き終わった後、三方弁２８を切り替
え貯液槽２６の薬液を配管２７を通してポンプ２２によ
りオーバーフロー槽２１に投入する。このときフィルタ
ー２３を通して内槽２６に投入する。貯液槽２６の薬液
を全て投入した後、三方弁を切り替え循環フィルタリン
グを再び行う。
【００１６】以上のように構成された実施例では、第１
の実施例の効果にあわせてポンプ２２とフィルター２３
が各１個で構成できるのでコスト的に有利である。
の実施例の効果にあわせてポンプ２２とフィルター２３
が各１個で構成できるのでコスト的に有利である。
【００１７】従来例では、ウェハ処理した前後の槽内の
液中パーティクルを測定すると、内槽のパーティクル数
がウェハを処理する前のパーティクル数まで戻るのに２
０分以上かかるのに対して、本実施例による装置を使用
することにより１０分以内でパーティクル数を減少させ
ることができた。
液中パーティクルを測定すると、内槽のパーティクル数
がウェハを処理する前のパーティクル数まで戻るのに２
０分以上かかるのに対して、本実施例による装置を使用
することにより１０分以内でパーティクル数を減少させ
ることができた。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のウェット
処理装置によれば、オーバーフロー槽内の薬液を全て抜
いて貯液槽に貯めた後、薬液をフィルタリングしてオー
バーフロー槽に投入することにより、短時間で薬液中の
パーティクルを除去できる。
処理装置によれば、オーバーフロー槽内の薬液を全て抜
いて貯液槽に貯めた後、薬液をフィルタリングしてオー
バーフロー槽に投入することにより、短時間で薬液中の
パーティクルを除去できる。
【図１】本発明の第１の実施例におけるウェット処理装
置の概略図
置の概略図
【図２】本発明の第２の実施例におけるウェットエッチ
ング処理槽の概略図
ング処理槽の概略図
【図３】従来のウェットエッチング処理装置の概略図
１０ 内槽 １１ オーバーフロー槽 １２ ポンプ １３ フィルター １４ 配管 １５ バルブ １６ 貯液槽 １７ ポンプ １８ フィルター
Claims (2)
- 【請求項１】オーバーフロー槽の薬液を第１のポンプお
よび第１のフィルターを介して内槽に導入する第１の機
構と、前記内槽および前記オーバーフロー槽の薬液を貯
める貯液槽を備え、前記貯液槽の薬液を第２のポンプと
第２のフィルターを介して前記内槽に導入する第２の機
構とを有したことを特徴とするウェットエッチング処理
槽。 - 【請求項２】オーバーフロー槽の薬液を三方弁とポンプ
とフィルターを介して内槽に導入し、前記内槽および前
記オーバーフロー槽の薬液を貯める貯液槽を備え、前記
貯液槽の薬液を前記三方弁より取り出せるようにしたこ
とを特徴とするウェットエッチング処理槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4132191A JPH05326487A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | ウェットエッチング処理槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4132191A JPH05326487A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | ウェットエッチング処理槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05326487A true JPH05326487A (ja) | 1993-12-10 |
Family
ID=15075529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4132191A Pending JPH05326487A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | ウェットエッチング処理槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05326487A (ja) |
-
1992
- 1992-05-25 JP JP4132191A patent/JPH05326487A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090606 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |