JPH0677206A - 液処理槽 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェット処理に用いる処理液を循環させ、ろ
過するフィルタの交換を容易化する。 【構成】 内槽１と外槽２の間にフィルタ３を設置し、
内槽１よりオーバーフーローした薬液を外槽２で受けて
フィルタ３を通して、外槽２の下側よりポンプ４により
配管５で内槽１へ循環させフィルタの交換を容易にする
液処理槽。 【効果】 フィルタが配管５の途中ではないので槽の薬
液を抜いてシャワー洗浄するだけで洗えるので容易に交
換をすることが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置の製造に
おけるウェット処理装置の構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程においては薬液に
より処理するいわゆるウェット処理工程がある。この工
程において、異物等が半導体ウェーハに付着するのを防
止するために薬液を循環させ、その間にフィルタを通し
て、ゴミ・異物を捕獲することが行われる。

【０００３】従来のこの種のウェットエッチング装置に
おけるエッチング槽を図２に示す。エッチング槽は内槽
１と外槽２でなり、内槽１と外槽２を配管５でつなぎ、
その配管中にフィルタ３’、ポンプ４を取付け、内槽１
をオーバーフローした薬液を外槽２で受け、それをポン
プ４で循環させ、フィルタ３’を介して内槽１をかえす
構造となっていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで上記の従来の
フィルタリング構造ではフィルタ交換時に内槽１および
外槽２の薬液を抜いてもポンプ４、フィルタ３’及び配
管５の内には薬液が残っているので、安全上の点からエ
ッチング槽に純水をため、循環させる作業を数回行わな
ければならず、フィルタの取り外し、取付けも容易でな
いためフィルタ交換に時間がかかった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明のフィルタリン
グは、内槽と外槽の隙間にフィルタを配置し、フィルタ
を通過した薬液をポンプで循環させる構造をとる。

【０００６】

【作用】上記の構造によりフィルタ交換作業槽内の薬液
を抜いてハンドシャワー（純水）洗浄するだけで容易に
出来る。

【０００７】

【実施例】以下この発明について図面を参照して説明す
る。

【０００８】図１は、この発明の一実施例の斜視図であ
る。図において１はエッチング槽内槽、２はエッチング
槽外槽、３はディスク状フィルタ（テフロン）、４はポ
ンプ、５は配管である。

【０００９】次に上記フィルタリング構造について説明
する。

【００１０】この実施例によれば、内槽１と外槽２の隙
間をディスク状のフィルタ（テフロン）３で埋め、従来
通り内槽よりオーバーフローした薬液を電磁弁式ポンプ
を利用し、外槽の下側より内槽へ循環させる。半導体ウ
ェーハの処理は内槽で行う。この実施例によればフィル
タ交換作業は薬液を抜いた後、ハンドシャワー（純水）
清掃するだけで容易にできるという利点もある。

【００１１】

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によればフ
ィルタの交換が容易となり生産性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明のフィルタリング構造の斜視図であ
る。

【図２】 従来のフィルタリング構造である。

【符号の説明】

１ エッチング槽（内槽） ２ エッチング槽（外槽） ３ ディスク状フィルタ（テフロン製） ４ ポンプ ５ 配管

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】処理を行う内槽と、内槽よりオーバーフロ
   ーする薬液を受ける外槽と、内槽と外槽との間に配置し
   たフィルタとでなり、前記外槽のフィルタの下側より内
   槽へポンプにより薬液を循環する配管を備えたことを特
   徴とする液処理槽。
2. 【請求項２】前記フィルタがディスクタイプのフィルタ
   であることを特徴とする請求項１に記載の液処理槽。
3. 【請求項３】内槽１と外槽２の間にフィルタ３を設置
   し、内槽１よりオーバーフローした薬液外槽２で受て、
   フィルタ３を通して外槽２の下側よりポンプ４により配
   管５で内槽１へ循環さフィルタの交換を容易にする液処
   理槽。