JPH0418907A - 化学処理液の循環ろ過装置 - Google Patents
化学処理液の循環ろ過装置Info
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- JPH0418907A JPH0418907A JP2125147A JP12514790A JPH0418907A JP H0418907 A JPH0418907 A JP H0418907A JP 2125147 A JP2125147 A JP 2125147A JP 12514790 A JP12514790 A JP 12514790A JP H0418907 A JPH0418907 A JP H0418907A
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Landscapes
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、高清浄度な化学処理を要する化学処理装置
特に化学処理液の循環ろ過装置に関するものである。
特に化学処理液の循環ろ過装置に関するものである。
［従来の技術］
第２図は例えば刊行物（湿式処理技術の最近の進歩（３
）（社）金属表面処理技術協会編 昭和６３年１１月刊
）に示された従来の化学処理液の循環ろ過装置の構成図
であり１図において、（１）は化学処理槽、（２）循環
ポンプ、（３）はフィルタであり、図中の矢印は化学処
理液の流動方向を示す。
）（社）金属表面処理技術協会編 昭和６３年１１月刊
）に示された従来の化学処理液の循環ろ過装置の構成図
であり１図において、（１）は化学処理槽、（２）循環
ポンプ、（３）はフィルタであり、図中の矢印は化学処
理液の流動方向を示す。
次に動作について説明する。化学処理４５Ｆ（］）内の
化学処理液は循環ポンプ（２）によりフィルタ（３）を
通過して化学処理ｆ！（１）の底部に送液される。化学
処理！（１）からあふれでた化学処理液は循環ポンプ（
２）によりフィルタ（３）を通り、化学処理！ （１）
へと循環される。この動作を繰り返すことにより、当循
環系内の化学処理液は幾度もフィルタ（３）を通過する
ため化学処理液内にダストが混入してもフィルタ（３）
により除去され、化学処理４９（１）内の化学処理液は
高清浄度が維持される。
化学処理液は循環ポンプ（２）によりフィルタ（３）を
通過して化学処理ｆ！（１）の底部に送液される。化学
処理！（１）からあふれでた化学処理液は循環ポンプ（
２）によりフィルタ（３）を通り、化学処理！ （１）
へと循環される。この動作を繰り返すことにより、当循
環系内の化学処理液は幾度もフィルタ（３）を通過する
ため化学処理液内にダストが混入してもフィルタ（３）
により除去され、化学処理４９（１）内の化学処理液は
高清浄度が維持される。
［発明が解決しようとする課ｇ］
従来の化学処理装置は以」−のように構成されているの
で、化学処理液を循環することにより、化学処理！ （
１）内の化学処理液の新しい液面は、たえず空気と接触
する。この為、空気と接触することにより劣化する化学
処理液例えばアルカリ溶液などは長時間の循環を避けね
ばならず、高清浄度で使用することが困難であるという
課題があった。
で、化学処理液を循環することにより、化学処理！ （
１）内の化学処理液の新しい液面は、たえず空気と接触
する。この為、空気と接触することにより劣化する化学
処理液例えばアルカリ溶液などは長時間の循環を避けね
ばならず、高清浄度で使用することが困難であるという
課題があった。
この発明は、かかる課題を解決するためになされたもの
で、化学処理液の劣化を防止できると共に、高清浄度を
維持できる化学処理液の循環ろ過装置を得ることを目的
とするものである。
で、化学処理液の劣化を防止できると共に、高清浄度を
維持できる化学処理液の循環ろ過装置を得ることを目的
とするものである。
［課題を解決するための手段コ
この発明の化学処理液の循環ろ過装置は、化学処理液を
含有する化学処理槽、上記化学処理液をろ過して清浄す
るフィルタ、上記化学処理液を循環させて上記フィルタ
を繰り返し通過させる循環ポンプ、および］二泥化学処
理液と空気との接触を防止するために、上記化学処理槽
に空気より比重の大きいガスを導入するガス導入手段を
備えたものである。
含有する化学処理槽、上記化学処理液をろ過して清浄す
るフィルタ、上記化学処理液を循環させて上記フィルタ
を繰り返し通過させる循環ポンプ、および］二泥化学処
理液と空気との接触を防止するために、上記化学処理槽
に空気より比重の大きいガスを導入するガス導入手段を
備えたものである。
［作用コ
この発明において、空気と接触することにより劣化する
化学処理液を空気から遮断して循環ろ過することにより
、化学処理液の劣化を防止できると共に、高清浄度を維
持できる。
化学処理液を空気から遮断して循環ろ過することにより
、化学処理液の劣化を防止できると共に、高清浄度を維
持できる。
［実施例コ
第１図はこの発明の一実施例の化学処理液の循環ろ過装
置の構成図であり５図において、（１）は化学処理槽、
（２）循環ポンプで例えばベローズポンプ、（３）はフ
ィルタで例えばメンブランフィルタ、（４）は化学処理
槽（１）の上方の端に取り付けられた、空気より比重の
大きいガスを噴射するノズル、（５）は化学処理槽（１
）の上方に取り付けられた酸素センサ、（６）は酸素セ
ンサ（５）と接線したバルブコントローラ、（７）はガ
スが通るパイプ、（８）はバルブ、（９）は化学処理液
を劣化させない空気よりも比重の大きいガス例えば高清
浄度のアルゴンガスを充填したガスボンベである。なお
５上記ノズル（４）、バルブコントローラ（６）、ガス
が通るパイプ（７）、バルブ（８）および化学処理液を
劣化させない空気よりも比重の大きいガスを充填したガ
スボンベ（９）によりガス導入手段（１００）を構成す
る。
置の構成図であり５図において、（１）は化学処理槽、
（２）循環ポンプで例えばベローズポンプ、（３）はフ
ィルタで例えばメンブランフィルタ、（４）は化学処理
槽（１）の上方の端に取り付けられた、空気より比重の
大きいガスを噴射するノズル、（５）は化学処理槽（１
）の上方に取り付けられた酸素センサ、（６）は酸素セ
ンサ（５）と接線したバルブコントローラ、（７）はガ
スが通るパイプ、（８）はバルブ、（９）は化学処理液
を劣化させない空気よりも比重の大きいガス例えば高清
浄度のアルゴンガスを充填したガスボンベである。なお
５上記ノズル（４）、バルブコントローラ（６）、ガス
が通るパイプ（７）、バルブ（８）および化学処理液を
劣化させない空気よりも比重の大きいガスを充填したガ
スボンベ（９）によりガス導入手段（１００）を構成す
る。
次に動作および作用について説明する。循環ろ過装置の
化学処理槽（１）内に混入したダストは循環ポンプ（２
）により化学処理液を循環させフィルタ（３）によりろ
過を行うことにより連続的に除去され清浄化されてゆく
、この動作において、化学処理液と空気とに接触を防ぐ
ためにガスボンベ（９）に充填されているガス例えば高
清浄度のアルゴンガスを噴射し、化学処理液をｍ環して
いる間または循環を止めて化学処理液を保存している間
、化学処理ｆｆ（１，）内に、化学処理液と空気との接
触を防ぐためのガスが充填されている状態で使用する。
化学処理槽（１）内に混入したダストは循環ポンプ（２
）により化学処理液を循環させフィルタ（３）によりろ
過を行うことにより連続的に除去され清浄化されてゆく
、この動作において、化学処理液と空気とに接触を防ぐ
ためにガスボンベ（９）に充填されているガス例えば高
清浄度のアルゴンガスを噴射し、化学処理液をｍ環して
いる間または循環を止めて化学処理液を保存している間
、化学処理ｆｆ（１，）内に、化学処理液と空気との接
触を防ぐためのガスが充填されている状態で使用する。
このガスはガスボンベ（９）よりバルブ（８）、パイプ
（７）を通ってノズル（４）より噴射される。化学処理
槽（１）内に上記ガスが充填されているどうかは酸素セ
ンサ（５）によって確認され、酸素センサ（５）が酸素
を感知するとバルブコントローラ（６）によってバルブ
（８）が開かれ上記のガスが化学処理ｆｆ（１）内に補
充される。そして、上記のようにノズルから噴射される
化学処理液を劣化させない空気よりも比重の大きいガス
は化学処理槽内に充填され、循環ろ過により空気との接
触面積が多くなるために劣化が進行しやすい化学処理液
が空気と接触することを防止する。
（７）を通ってノズル（４）より噴射される。化学処理
槽（１）内に上記ガスが充填されているどうかは酸素セ
ンサ（５）によって確認され、酸素センサ（５）が酸素
を感知するとバルブコントローラ（６）によってバルブ
（８）が開かれ上記のガスが化学処理ｆｆ（１）内に補
充される。そして、上記のようにノズルから噴射される
化学処理液を劣化させない空気よりも比重の大きいガス
は化学処理槽内に充填され、循環ろ過により空気との接
触面積が多くなるために劣化が進行しやすい化学処理液
が空気と接触することを防止する。
なお上記実施例ではオーバフロー型循環ろ過槽を用いた
が、ダウンフロー型循環ろ過槽やカスケードや循環ろ過
摺等でもよい、しかし一般に高清浄度を維持するには、
オーバフロー型循環ろ過槽を用いるほうが望ましい、循
環ポンプ（２）にベローズポンプを用いたが、マグネッ
トポンプ等でもよい、フィルタ（３）にメンブランフィ
ルタを用いたが、デイプスフィルタ等でもよい、ガスの
種類としてアルゴンガスを用いたが化学処理液を劣化さ
せない空気よりも比重が大きいガスであれば基本的には
どんなガスでもよい、ノズル（４）は化学処理槽（１）
の上方に２つ取り付けたが１つでもよく、２つ以りでも
よい。
が、ダウンフロー型循環ろ過槽やカスケードや循環ろ過
摺等でもよい、しかし一般に高清浄度を維持するには、
オーバフロー型循環ろ過槽を用いるほうが望ましい、循
環ポンプ（２）にベローズポンプを用いたが、マグネッ
トポンプ等でもよい、フィルタ（３）にメンブランフィ
ルタを用いたが、デイプスフィルタ等でもよい、ガスの
種類としてアルゴンガスを用いたが化学処理液を劣化さ
せない空気よりも比重が大きいガスであれば基本的には
どんなガスでもよい、ノズル（４）は化学処理槽（１）
の上方に２つ取り付けたが１つでもよく、２つ以りでも
よい。
［発明の効果コ
以上説明した通り、この発明は化学処理液を含有する化
学処理槽、上記化学処理液をろ過して清浄するフィルタ
、上記化学処理液を循環させて上記フィルタを繰り返し
通過させる循環ポンプ、および上記化学処理液と空気と
の接触を防止するために、上記化学処理槽に空気より比
重の大きいガスを導入するガス導入手段を備えたものを
用いることにより、化学処理液の劣化を防止できると共
に、高清浄度を維持できる化学処理液の循環ろ過装置を
得ることができる。
学処理槽、上記化学処理液をろ過して清浄するフィルタ
、上記化学処理液を循環させて上記フィルタを繰り返し
通過させる循環ポンプ、および上記化学処理液と空気と
の接触を防止するために、上記化学処理槽に空気より比
重の大きいガスを導入するガス導入手段を備えたものを
用いることにより、化学処理液の劣化を防止できると共
に、高清浄度を維持できる化学処理液の循環ろ過装置を
得ることができる。
第１図は、この発明の一実施例の化学処理液の循環ろ過
装置の構成図、第２図は、従来の化学処理液の循環ろ過
装置の構成図である。 図において、（１）は化学処理槽、（２）循環ポンプ。 （３）はフィルタ、（１００）はガス導入手段である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
装置の構成図、第２図は、従来の化学処理液の循環ろ過
装置の構成図である。 図において、（１）は化学処理槽、（２）循環ポンプ。 （３）はフィルタ、（１００）はガス導入手段である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 化学処理液を含有する化学処理槽、上記化学処理液をろ
過して清浄するフィルタ、上記化学処理液を循環させて
上記フィルタを繰り返し通過させる循環ポンプ、および
上記化学処理液と空気との接触を防止するために、上記
化学処理槽に空気より比重の大きいガスを導入するガス
導入手段を備えた化学処理液の循環ろ過装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2125147A JP2745777B2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 化学処理液の循環ろ過装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2125147A JP2745777B2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 化学処理液の循環ろ過装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0418907A true JPH0418907A (ja) | 1992-01-23 |
| JP2745777B2 JP2745777B2 (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=14903032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2125147A Expired - Lifetime JP2745777B2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 化学処理液の循環ろ過装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2745777B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01236937A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-21 | Fujitsu Ltd | 薬液を用いた試料の処理方法 |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP2125147A patent/JP2745777B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01236937A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-21 | Fujitsu Ltd | 薬液を用いた試料の処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2745777B2 (ja) | 1998-04-28 |
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