JPH08141481A - 処理液循環装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】フィルターの頻繁な交換等を不要とすると共
に、未溶解成分のガラス基板への再付着を防止する。 【構成】処理液が噴霧装置３から噴霧されると、ガラス
基板Ｇにおいては現像やエッチング等の所定の処理が行
なわれる。一方、これらの処理の際に未溶解成分（異
物）が処理液に混入されるが、該処理液は処理槽１１に
溜められると共に、未溶解成分は傾斜部１１ｂに沿って
処理液中を落下して筒状部１１ｃに沈殿する。この状態
で蓋部１１ｄを水平方向に開くと、沈殿した未溶解成分
は処理液と共に外部に排出される。なお、処理槽１１に
溜められた処理液は、ポンプ装置Ｐによってパイプ１
２，…を介して汲み上げられ、噴霧装置３から再び噴霧
されるが、処理液中に残存している未溶解成分はフィル
ター（不図示）によって除去される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、一般的には、処理液を
循環させながら被処理部材に塗布する処理液循環装置に
係り、詳しくはフォトリソグラフィ法に用いる現像装置
や剥離装置として好適な装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、薄膜を所定形状にパターニン
グする方法としてフォトリソグラフィ法が用いられてお
り、この方法は、例えば液晶パネルのガラス基板に所定
形状の透明電極やカラーフィルターを形成する際に利用
されている。以下、このフォトリソグラフィ法につい
て、ガラス基板上に透明電極を形成する場合を例にし
て、簡単に説明する。

【０００３】フォトリソグラフィ法は、成膜工程、露光
工程、現像工程、エッチング工程、剥離工程等からなっ
ている。このうち、成膜工程においては、ガラス基板の
表面にスパッタ法等によってＩＴＯ膜を形成し、該形成
したＩＴＯ膜の表面にはフォトレジストを塗布してお
く。そして、露光工程においては、フォトマスクを使用
してフォトレジストの表面に所定パターンの露光を行な
う。さらに、現像工程においては、露光後のフォトレジ
ストの表面に現像液を噴霧し、フォトレジストの不必要
な部分を除去してレジストパターンを形成する。その
後、エッチング工程においては、エッチング液を噴霧し
て、レジストパターンに沿ってＩＴＯ膜のエッチングを
行なう。次の剥離工程においては、剥離液を噴霧して、
残っているフォトレジストを除去する。これにより、レ
ジストパターンの部分だけにＩＴＯ膜が残されることと
なり、該ＩＴＯ膜によって所望形状の透明電極が形成さ
れることとなる。

【０００４】ところで、上述した現像工程、剥離工程及
びエッチング工程においては、いずれも所定の液体（以
下、“処理液”とする）を循環させ、その循環過程にお
いて処理液を被処理部材であるガラス基板に対して噴霧
し、現像やエッチング等の種々の処理を行なっている
が、そのために各工程において処理液循環装置１が使用
されている。以下、該装置の構造を、図１に沿って具体
的に説明する。

【０００５】この処理液循環装置１はコンベヤ装置２を
備えており、被処理部材としてのガラス基板Ｇを搬送す
るように構成されている。また、このコンベヤ装置２の
上方には噴霧装置３が配設されており、搬送されるガラ
ス基板Ｇに対して処理液を噴霧するように構成されてい
る（詳細は後述）。さらに、この噴霧装置３の下方並び
に側方は、箱型の形状をした処理槽５によって覆われて
おり、噴霧された処理液が回収されるように構成されて
いる。また、この処理槽５の下部にはパイプ６が取り付
けられており、噴霧された処理液が処理槽５の外部に排
出されるように構成されている。さらに、パイプ６の下
流側にはタンク７が取り付けられており、処理液を一時
的に蓄えるように構成されている。また、このタンク７
と上述した噴霧装置３とはポンプ装置Ｐを介して接続さ
れており、回収された処理液が噴霧されるように構成さ
れている。

【０００６】ところで、このような処理液循環装置１を
用いて現像やエッチングを行なった場合には、フォトレ
ジストやＩＴＯ膜が未溶解成分となって処理液中に混合
される。これらの未溶解成分は、基板Ｇに付着すると種
々の問題を引き起こすことから、タンク７の下流側のパ
イプ６にはフィルター９が介装されて未溶解成分を除去
するように構成されていた。

【０００７】なお、この処理液循環装置１は、上述した
ようなフォトリソグラフィ法だけではなく、様々な分野
で使用されていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のよう
な処理液循環装置１においては、フィルター９が未溶解
成分によって直に詰まってしまい、処理液の円滑な噴霧
が妨げられるという問題があった。また、これを回避す
るためには、フィルターを頻繁に交換したりフィルター
や処理槽５を頻繁に掃除しなければならず、その作業に
手間がかかると共に、該作業中においては装置を稼働で
きないため生産効率が悪くなって製造コストが増加する
という問題もあった。

【０００９】また、目詰まりの頻度を低下させる方法と
してはフィルター９の目を粗くする方法が考えられる
が、未溶解成分が完全に除去されずにガラス基板Ｇに付
着して種々の問題を引き起こすという問題があった。

【００１０】そこで、本発明は、処理槽に開閉自在な蓋
部を設けることにより、濾過装置の頻繁な目詰まりを防
止する処理液循環装置を提供することを目的とするもの
である。

【００１１】また、本発明は、処理槽の下部に傾斜した
傾斜部を形成することにより、未溶解成分を一か所に集
中した状態で沈殿せしめ、該未溶解成分の効率的な排出
を可能とする処理液循環装置を提供することを目的とす
るものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、被処理部材に処理液を塗布す
る塗布装置と、該塗布装置を覆うように配設されて処理
液を回収する処理槽と、該処理槽に接続されて該処理槽
に溜められた処理液を前記塗布装置に汲み上げるポンプ
装置と、を備え、処理液を循環させながら被処理部材を
処理する処理液循環装置に関し、特に、前記処理槽と前
記塗布装置との間に配設されて処理液中の未溶解成分を
除去する濾過装置、を備え、前記処理槽が、該処理槽の
下部にて傾斜して形成された傾斜部と、該傾斜部の下部
に設けられた開閉自在な蓋部と、を有し、かつ、前記処
理槽内部に沈殿する未溶解成分が前記蓋部を開くことに
より排出される、ようにしたことを特徴とする。この場
合、前記塗布装置が、処理液を被処理部材に吹き付ける
噴霧装置である、ようにしてもよい。また、前記塗布装
置が、前記ポンプ装置によって汲み上げられた処理液が
注入される浸漬槽と、該浸漬槽の内部に配設されて超音
波振動を引き起こす超音波振動部と、を有するものであ
ってもよい。さらに、前記処理槽と前記塗布装置との間
に配設されて処理液を一時的に蓄える貯蔵槽、を備え、
かつ、該貯蔵槽が、該貯蔵槽の下部にて傾斜して形成さ
れた傾斜部と、該傾斜部の下部に設けられた開閉自在な
蓋部と、を有する、ようにすると好ましい。

【００１３】

【作用】以上構成に基づき、ポンプ装置を駆動すると、
処理槽に溜められた処理液は塗布装置に汲み上げられて
被処理部材に塗布され、これによって被処理部材は現像
やエッチング等の種々の処理が施される。そして、処理
液は処理槽に回収され、再びポンプ装置によって汲み上
げられる。一方、この処理に伴って未溶解成分が処理液
中に混入すると、未溶解成分は、処理槽の下部に形成さ
れた傾斜部に沿って落下し、蓋部の近傍に沈殿する。そ
して、該蓋部を開くと未溶解成分は処理液と共に外部に
排出される。また、この未溶解成分は、濾過装置によっ
ても除去される。

【００１４】

【実施例】以下、図面に沿って、本発明の実施例につい
て説明する。

【００１５】まず、本発明の第１実施例について、図２
に沿って説明する。なお、図１に示すものと同一部分は
同一符号を付して説明を省略する。

【００１６】本実施例に係る処理液循環装置１０は、図
２に示す形状の処理槽１１を備えている。この処理槽１
１は、噴霧装置（塗布装置）３を囲繞するように配設さ
れた縦壁部１１ａを備えており、この縦壁部１１ａの下
方には、約３０度の傾斜をもつ漏斗状の傾斜部１１ｂが
連続して形成されている。さらに、この傾斜部１１ｂの
下方には筒状部１１ｃが形成されており、該筒状部１１
ｃの下端開口には蓋部１１ｄが取り付けられている。な
お、この蓋部１１ｄは水平方向に移動自在に支持され
て、開閉自在に構成されている。また、この傾斜部１１
ｂの中程にはパイプ１２が取り付けられて、処理槽中の
処理液を排出するようになっており、該パイプ１２はポ
ンプ装置Ｐに接続されている。さらに、このポンプ装置
Ｐの下流側にもパイプ１３が延設されており、これらの
パイプ１２，…によって処理液の循環経路が構成されて
いる。なお、この循環経路中にはフィルター（濾過装
置、不図示）が介装されており、処理液に混入している
未溶解成分を取り除くように構成されている。

【００１７】また、両側の縦壁部１１ａ，１１ａには、
コンベヤ装置２とほぼ同じ高さに開口部１１ｅ，１１ｅ
が形成されており、ガラス基板（被処理部材）Ｇの搬送
路が確保されている。

【００１８】ついで、上述実施例の作用について説明す
る。

【００１９】いま、コンベヤ装置２を駆動すると、該装
置上に載置されたガラス基板Ｇは処理槽１１の内部に搬
送される。そして、ポンプ装置Ｐを駆動すると、搬送さ
れるガラス基板Ｇに対して処理液が噴霧装置３から噴霧
され、現像やエッチング等の所定の処理が行なわれる。
なお、ガラス基板Ｇはコンベヤ装置２によって処理槽１
１の外部に搬出されるが、この際、不図示の装置によっ
てエアーが噴射され、ガラス基板Ｇに付着している処理
液が可能な限り除去される。また、ガラス基板Ｇに噴霧
された処理液は、そのまま処理槽１１に溜められ、ポン
プ装置Ｐによってパイプ１２，…を介して汲み上げられ
る。そして、汲み上げられた処理液は噴霧装置３から再
び噴霧される。

【００２０】ところで、ガラス基板Ｇに処理液を噴霧す
ると、ＩＴＯ膜やフォトレジスト等が未溶解成分となっ
て処理液中に混入される。そして、これらの未溶解成分
は、処理液と共に処理槽１１に溜り、その際、傾斜部１
１ｂに沿って処理液中を落下して筒状部１１ｃに沈殿す
る。この状態で蓋部１１ｄを水平方向に開くと、沈殿し
た未溶解成分は処理液と共に外部に排出される。なお、
処理液と共にポンプ装置Ｐに汲み上げられた未溶解成分
はフィルターによって除去される。

【００２１】上述した処理液循環装置１０は、フォリソ
グラフィ法における現像装置や、剥離装置や、エッチン
グ装置として使用される他、フォトリソグラフィ法以外
においても使用される。また、その場合には、処理液と
しては、現像液や剥離液や腐食液が用いられる。

【００２２】次に、本実施例の効果について説明する。

【００２３】本実施例によれば、処理槽１１の底部に蓋
部１１ｄを設けたためポンプ装置Ｐに汲み上げられる前
の段階で未溶解成分を排出できると共に、パイプ１２は
傾斜部１１ｂの中程に開口させたため処理槽１１に溜め
られた液の上澄みを汲み上げることができる。したがっ
て、パイプ１２，…に送られる処理液中の未溶解成分の
量を少なくでき、フィルターの交換頻度や掃除の頻度を
低減できる。その結果、装置のメンテナンスが簡単にな
ると共に、装置の稼働時間を増大して生産効率を高めて
製造コストを低減することができる。

【００２４】また、処理槽１１の傾斜部１１ｂは漏斗状
をしているため未溶解成分を一か所に集中して沈殿させ
ることができる。したがって、蓋部１１ｄを短時間開く
だけで多量の未溶解成分を効率的に排出でき、反対に未
溶解成分の排出に伴う処理液の排出量を少なくして無駄
を省くことができる。

【００２５】さらに、本実施例によれば、未溶解成分
は、蓋部１１ｄから排出されると共にフィルターによっ
て除去されるため、ガラス基板Ｇへの付着が防止され、
未溶解成分の付着に伴う欠陥の発生も解消できる。ま
た、処理槽１１の傾斜部１１ｂ等によってタンクの機能
を持たせるため、別置きのタンクを必要とせず、装置の
構造を簡素化できる。

【００２６】ついで、図３に沿って、本発明の第２実施
例について説明する。なお、図２に示すものと同一部分
は同一符号を付して説明を省略する。

【００２７】本実施例に係る処理液循環装置２０におい
ては、処理槽１１の内部には浸漬槽（塗布装置）２１が
配設されて、処理液を溜めるように構成されている。こ
の浸漬槽２１の両壁部には扉部２１ａ，２１ｂ（以下、
ガラス基板搬送方向上流側の扉部２１ａを“左扉部２１
ａ”とし、下流側の扉部２１ｂを“右扉部２１ｂ”とす
る）がコンベヤ装置２と同じ高さに形成されており、こ
れらの扉部２１ａ，…は、不図示の駆動手段により開閉
されるように構成されている。また、浸漬槽２１の内部
下方には超音波振動部（塗布装置）２２が配置されてお
り、超音波振動を引き起こすように構成されている。

【００２８】一方、この処理槽１１の傾斜部１１ｂの中
程にはパイプ１２を介してタンク（貯蔵槽）２３が接続
されており、処理液を一時的に蓄えるように構成されて
いる。このタンク２３は、処理槽１１とほぼ同様の形状
をしており、傾斜部２３ａと、筒状部２３ｂと、蓋部２
３ｃとを有している。また、このタンク２３には、パイ
プ２５を介してポンプ装置Ｐが接続されており、該ポン
プ装置Ｐの下流側には、上述した浸漬槽２１に開口する
パイプ２６が接続されている。そして、これらのパイプ
１２，２５，２６によって処理液の循環経路が構成され
ている。

【００２９】次に、本実施例の作用について説明する。

【００３０】いま、コンベヤ装置２によってガラス基板
Ｇが搬送されてくると、左扉部２１ａが自動的に開か
れ、ガラス基板Ｇは浸漬槽２１の内部に搬送・停止され
る。そして、左扉部２１ａが閉じられ、ポンプ装置Ｐの
駆動に伴い処理液が浸漬槽２１に注入され、ガラス基板
Ｇは処理液中に浸漬される。このとき、超音波振動部２
２が起動されて、ガラス基板Ｇに対して、現像やエッチ
ング等の所定の処理が行なわれる。所定時間が経過する
と、右扉部２１ｂが開かれると共にコンベヤ装置２が駆
動され、ガラス基板Ｇは処理槽１１の外部に搬出され
る。この際、不図示の装置によってエアーが噴射され、
ガラス基板Ｇに付着している処理液が可能な限り除去さ
れる。

【００３１】一方、浸漬槽２１からあふれ出た処理液
は、そのまま処理槽１１に溜められ、一部はタンク２３
に排出される。そして、タンク２３に排出された処理液
は、ポンプ装置Ｐによってパイプ２６を介して汲み上げ
られ、浸漬槽２１に注入される。

【００３２】また、処理液中に混入された未溶解成分
は、処理槽１１の筒状部１１ｃ及びタンク２３の筒状部
２３ｂに沈殿するが、蓋部１１ｄ及び２３ｃを水平方向
に開くと未溶解成分は処理液と共に外部に排出される。
なお、処理液と共にポンプ装置Ｐに汲み上げられた未溶
解成分はフィルター（濾過装置、不図示）によって除去
される。

【００３３】上述した処理液循環装置２０は、フォリソ
グラフィ法における現像装置や、剥離装置や、エッチン
グ装置として使用される他、フォトリソグラフィ法以外
においても使用される。また、その場合には、処理液と
しては、現像液や剥離液や腐食液等が用いられる。

【００３４】次に、本実施例の効果について説明する。

【００３５】本実施例によれば、上述実施例と同様の種
々の効果を得ることができる。すなわち、処理槽１１の
底部に蓋部１１ｄを設けたためポンプ装置Ｐに汲み上げ
られる前の段階で未溶解成分を排出できると共に、パイ
プ１２は傾斜部１１ｂの中程に開口させたため処理槽１
１に溜められた液の上澄みを汲み上げることができる。
したがって、パイプ１２，…に送られる処理液中の未溶
解成分の量を少なくでき、フィルターの交換頻度や掃除
の頻度を低減できる。その結果、装置のメンテナンスが
簡単になると共に、装置の稼働時間を増大して生産効率
を高めて製造コストを低減することができる。また、処
理槽１１の傾斜部１１ｂは漏斗状をしているため未溶解
成分を一か所に集中して沈殿させることができる。した
がって、蓋部１１ｄを短時間開くだけで多量の未溶解成
分を効率的に排出でき、反対に未溶解成分の排出に伴う
処理液の排出量を少なくして無駄を省くことができる。

【００３６】さらに、本実施例によれば、処理槽１１の
下流側に、処理槽１１と同形状のタンク２３を設けたた
め、該タンク２３においても未溶解成分の除去ができ
る。したがって、未溶解成分の除去が完全なものとな
り、ガラス基板Ｇへの未溶解成分の付着が防止され、該
付着に伴う欠陥の発生も解消できる。

【００３７】なお、上述実施例においては傾斜部１１ｂ
の傾斜を約３０度としたが、もちろんこれに限る必要は
ない。また、上述実施例は、透明電極のパターニングに
適用してもよく、カラーフィルターのパターニングに適
用してもよい。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
処理槽の下部に開閉自在な蓋部を設けたため、処理液中
に未溶解成分が混入していても、ポンプ装置に汲み上げ
られる前の段階で未溶解成分を排出できる。したがっ
て、濾過装置に送られる処理液中の未溶解成分の量を少
なくでき、濾過装置の交換頻度や掃除の頻度を低減でき
る。その結果、処理液循環装置のメンテナンスが簡単に
なると共に、処理液循環装置の稼働時間を増大して生産
効率を高めて製造コストを低減することができる。ま
た、処理槽の下部には傾斜した傾斜部が形成されている
ため、未溶解成分を一か所に集中して沈殿させることが
できる。したがって、蓋部を短時間開くだけで多量の未
溶解成分を効率的に排出できる。さらに、未溶解成分
は、蓋部から排出されると共に濾過装置によって除去さ
れるため、その除去が完全なものとなり、未溶解成分の
被処理部材への再付着が防止される。

【００３９】一方、前記処理槽と前記塗布装置との間に
貯蔵槽を配設すると共に、該貯蔵槽を前記処理槽と同様
の構造にした場合には、貯蔵槽においても未溶解成分の
除去ができる。その結果、未溶解成分の除去が完全なも
のとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の処理液循環装置の構成を示す模式図。

【図２】第１実施例に係る処理液循環装置の構成を示す
模式図。

【図３】第２実施例に係る処理液循環装置の構成を示す
模式図。

【符号の説明】

３ 噴霧装置（塗布装置） ９ フィルター（濾過装置） １０ 処理液循環装置 １１ 処理槽 １１ｂ 傾斜部 １１ｄ 蓋部 ２０ 処理液循環装置 ２１ 浸漬槽（塗布装置） ２２ 超音波振動部（塗布装置） ２３ タンク（貯蔵槽） ２３ａ 傾斜部 ２３ｃ 蓋部 Ｇ ガラス基板（被処理部材） Ｐ ポンプ装置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理部材に処理液を塗布する塗布装置
   と、該塗布装置を覆うように配設されて処理液を回収す
   る処理槽と、該処理槽に接続されて該処理槽に溜められ
   た処理液を前記塗布装置に汲み上げるポンプ装置と、を
   備え、処理液を循環させながら被処理部材を処理する処
   理液循環装置において、 前記処理槽と前記塗布装置との間に配設されて処理液中
   の未溶解成分を除去する濾過装置、を備え、 前記処理槽が、該処理槽の下部にて傾斜して形成された
   傾斜部と、該傾斜部の下部に設けられた開閉自在な蓋部
   と、を有し、かつ、 前記処理槽内部に沈殿する未溶解成分が前記蓋部を開く
   ことにより排出される、 ことを特徴とする処理液循環装置。
2. 【請求項２】 前記塗布装置が、処理液を被処理部材に
   吹き付ける噴霧装置である、 ことを特徴とする請求項１記載の処理液循環装置。
3. 【請求項３】 前記塗布装置が、前記ポンプ装置によっ
   て汲み上げられた処理液が注入される浸漬槽と、該浸漬
   槽の内部に配設されて超音波振動を引き起こす超音波振
   動部と、を有する、 ことを特徴とする請求項１記載の処理液循環装置。
4. 【請求項４】 前記処理槽と前記塗布装置との間に配設
   されて処理液を一時的に蓄える貯蔵槽、を備え、かつ、 該貯蔵槽が、該貯蔵槽の下部にて傾斜して形成された傾
   斜部と、該傾斜部の下部に設けられた開閉自在な蓋部
   と、を有する、 ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の
   処理液循環装置。