JPH0132046Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、半導体製造用のフオトマスクブラン
ク、フオトマスク等およびこれらのガラス基板等
の被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関し、特に被洗
浄物洗浄後の洗浄槽を効果的に洗浄し得るように
改良したものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の洗浄装置としては第４図に示す
ものが知られている。すなわち、この洗浄装置１
はタンク槽２内に貯蔵されている純水、アルコー
ル等の洗浄液３がポンプ４によつて供給される洗
浄槽５を備え、被洗浄物８の洗浄中この洗浄槽５
よりオーバーフロー槽６にオーバーフローした洗
浄液はドレンパイプ７を通つて再び前記タンク槽
２に戻されるように構成されている。

前記被洗浄物８はフオトマスクブランク等から
なり容器９内に複数個板厚方向に所定の間隔をお
いて略垂直に収納され、この容器９ごと前記洗浄
槽５内の洗浄液３中に浸漬され、一定時間洗浄さ
れた後、洗浄槽５から取り出されて次の工程（例
えば現像処理工程、エツチング処理工程、次の洗
浄処理工程等）に送られる。なお、この浸漬洗浄
のときは、エアバルブ１１が開いており、一方エ
アバルブ１２，１４は閉じている。

被洗浄物８の洗浄後ポンプ４を停止し、エアバ
ルブ１１を閉じ、エアバルブ１２を開くと、洗浄
槽５内の洗浄液３はパイプ１３を通つてタンク槽
２に戻されるが、洗浄槽５の内壁には、被洗浄物
８からの付着物または超音波印加装置１０を有す
る洗浄装置のときはその超音波振動により洗浄槽
５から溶出拡散して付着物が残る。そこで、この
付着物を除去するためにエアバルブ１１を閉じた
ままの状態にしておいてエアバルブ１４を開き、
ポンプ４によりタンク槽２内の洗浄液３を噴射装
置１５に導き、この噴射装置１５から洗浄液３を
噴射させることにより洗浄槽５の内壁に付着して
いる付着物を洗い落し、パイプ１３より排出する
ようにしている。

なお、図中１６，１７はフイルタである。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかるに、従来のかかる洗浄装置においては噴
射装置１５によつて洗浄液３を噴射させるように
しているので、そのミスト（霧状物）が周囲に飛
散し、特に洗浄装置が連続多槽式であつたり、洗
浄装置１の周囲に他種の洗浄液を収容した洗浄装
置が配設されていると、他種の洗浄液内に前記ミ
ストが混入し、例えば噴射装置１５から噴射され
る洗浄液３がイソプロピルアルコールであり、そ
の周囲の洗浄槽内の洗浄液が硫酸であると、イソ
プロピルアルコールが硫酸中に混入し、硫酸の清
浄度の劣化を助長し、かつ噴射式では槽全体を均
一に洗浄するために、その噴射角度、噴射装置１
５の位置、数量等の諸条件を決定することが極め
て難しいという欠点があつた。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案に係る洗浄装置は上述したような問題を
解決すべくなされたもので、洗浄槽の上端開口部
の周囲にオーバーフロー槽を設け、このオーバー
フロー槽に洗浄槽を洗浄するための液体を洗浄液
供給手段によつて供給し、前記洗浄槽内にオーバ
ーフローさせるように構成したものである。

〔作用〕

本考案においてはオーバーフロー槽からオーバ
ーフローする洗浄液が洗浄槽の内壁に沿つて流れ
落ち、該洗浄槽を洗浄する。

〔実施例〕

以下、本考案を図面に示す実施例に基づいて詳
細に説明する。

第１図は本考案に係る洗浄装置の一実施例を示
す構成図、第２図は洗浄槽の斜視図、第３図は同
洗浄槽の平面図である。なお、図中第４図と同一
構成部材のものに対しては同一符号を以つて示
し、その説明を省略する。これらの図において、
本実施例は洗浄槽５の洗浄時にタンク槽２内の洗
浄液３を洗浄液供給手段としてのポンプ４によつ
てオーバーフロー槽２０に供給し、このオーバー
フロー槽２０より洗浄液３を前記洗浄槽５内にオ
ーバーフローさせ、これによつて洗浄槽５を洗浄
するようにした点が第４図に示した従来装置と異
なつている。また、洗浄槽５の上端開口部には該
洗浄槽５の内部に向つて適宜角度で傾斜するエプ
ロン部２１が全周に亘つて設けられており、この
エプロン部２１の外側を前記オーバーフロー槽２
０が囲繞している。オーバーフロー槽２０の外壁
２０ａの高さは前記エプロン部２１より高く形成
され、該オーバーフロー槽２０とタンク槽２とを
接続しているドレンパイプ７の途中にはエアバル
ブ２４が配設されている。

前記エプロン部２１の上面各角部には異形四角
形からなる突部２６がそれぞれ突設され、また各
辺には略二等辺三角形からなる複数個（例えば３
つ）の突部２７が適宜な間隔をおいてそれぞれ突
設され、これら突部２６，２７との間および突部
２７同士の間の一段低い部分が洗浄槽５の内部に
向つて広がる略扇状の流路２８を構成している。

このような構成からなる洗浄装置において、被
洗浄物の洗浄は第４図に示した従来装置と全く同
様である。すなわち、エアバルブ１２，１４を閉
じポンプ４によりタンク槽２内の洗浄液３をエア
バルブ１１およびフイルタ１６を介して洗浄槽５
に供給し、この洗浄槽５内に被洗浄物を入れて一
定時間揺動洗浄もしくは超音波印加装置１０によ
り洗浄した後、被洗浄物を取り出す。この洗浄中
洗浄槽５内の洗浄液はオーバーフロー槽２０にオ
ーバーフローし、ドレンパイプ７を通つて前記タ
ンク槽２に排出される。そして、洗浄後ポンプ４
を停止し、エアバルブ１１を閉じ、エアバルブ１
２を開き、洗浄槽５内に残つている洗浄液をパイ
プ１３により前記タンク槽２に排出する。

洗浄槽５の洗浄に際してはエアバルブ１１，２
４が閉止され、エアバルブ１２，１４が開かれ
る。そして、前記被洗浄物の浸漬洗浄に使用した
と同一のポンプ４によりタンク槽２内の洗浄液３
をパイプ３０によつてオーバーフロー槽２０に供
給し、該オーバーフロー槽２０よりエプロン部２
１の各流路２８にオーバーフローさせる。する
と、このオーバーフローした洗浄液３は洗浄槽５
の内壁に沿つて流れ落ち、該内壁に付着している
付着物を完全に流い流す。そして、この付着物を
洗浄液はパイプ１３を通つてタンク槽２にドレン
される。したがつて、洗浄後次の被洗浄物を洗浄
するための洗浄液を洗浄槽５に供給しても前回の
洗浄による溶出付着物が残つていないため、洗浄
液が汚染されることがなく、高い清浄度を維持
し、次の被洗浄物の洗浄に供される。

また、実際洗浄した後の被洗浄物表面に光を照
射して検査した結果、3μｍ以上の付着物は検出
されず、極めて清浄な被洗浄物が得られることを
確認した。

なお、洗浄槽５の洗浄後、オーバーフロー槽２
０内に残つている洗浄液３はエアバルブ２４が開
成されることによりドレンパイプ７を通つてタン
ク槽２に排出される。

ここで、洗浄液３がエプロン部２１の流路２８
より洗浄槽５の内壁に沿つて流れ落ちる際、純水
等の表面張力（表面張力：室温で約73dyn／cm）
の大きい洗浄液においてはその表面張力により流
れの幅が下にいくほど徐々に狭くなる特性を有し
ている。したがつて、各内壁面の両側部分（第２
図斜線部分）に付着している付着物を洗い流すこ
とができないという不都合がある。この点、本実
施例装置においてはエプロン部２１の上面に複数
個の突部２６，２７を設け略扇状の流路２８を形
成することで、洗浄液を内壁に沿つて末広がり状
に流れ落すことができるので、表面張力の大なる
洗浄液であつても各内壁を全面に亘つて確実に洗
浄でき、洗浄効果を上げることができるという利
点を有している。

なお、本実施例はエプロン部２１の各角部と各
辺にそれぞれ突部２６，２７を設けたが、本考案
はこれに何ら特定されるものではなく、突部２７
については省略し、各辺に両端が末広がり状に開
いた１つの流路をそれぞれ設けてもよいことは勿
論である。

また、上記実施例は洗浄槽５内の洗浄液をドレ
ン用のパイプ１３によつて完全にドレンした後、
洗浄槽５を洗浄するための液体をオーバーフロー
槽２０にポンプ４によつて供給するようにした
が、ドレン開始直後より供給を開始してもよい。

また、上記実施例では、洗浄槽５の底部内壁
は、第１図に示すように平坦であるが、この内壁
の洗浄効果を高めるために、パイプ１３方向へ傾
斜していることが望ましい。また、オーバーフロ
ー槽２０からオーバーフローして洗浄槽５を洗浄
する洗浄液は、タンク槽２内の洗浄液でなく、別
の槽内の洗浄液であつてもよい。なお、このとき
は別の槽内の洗浄液を、ポンプ（ポンプ４とは別
のポンプ）によりエアバルブ１４、フイルター１
７及びパイプ３０を通つてオーバーフロー槽２０
に供給する。さらに、洗浄液が、室温において、
表面張力が約22dyn／cmのエチルアルコール、約
32dyn／cmのトリクロロエチレン等の表面張力が
ほぼ30又はそれ以下のもののときは、洗浄槽５の
上端開口部にエプロン部を設けなくてもよいが、
エプロン部を設けた方が一層洗浄効果が向上す
る。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案に係る洗浄装置は、
被洗浄物を洗浄するたびに、溶出付着物によつて
汚染される洗浄槽を、オーバーフロー槽より洗浄
液を該洗浄槽内にオーバーフローさせることによ
つて洗浄するように構成したので、洗浄槽内に供
給された被洗浄物洗浄用の洗浄液が前回の被洗浄
物洗浄による溶出付着物によつて汚染されること
がなく、したがつて高い清浄度の洗浄液による被
洗浄物の洗浄が可能であり、特に精密洗浄が要求
されるフオトマスクブランク、フオトマスク等の
各種半導体基板の洗浄に好適である。また、洗浄
液のミストが発生しないので、多槽式洗浄装置の
場合とか他種の洗浄液を収容した洗浄槽が近辺に
配設されていたとしても、ミストの混入がないた
め洗浄液または薬液の劣化を防ぐことができる。
したがつて、薬液交換頻度も少なくなり経済的で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す構成図、第２
図は洗浄槽の斜視図、第３図は同洗浄槽の平面
図、第４図は従来の洗浄装置の構成図である。 ２……タンク槽、３……洗浄液、４……ポン
プ、５……洗浄槽、６……オーバーフロー槽、８
……被洗浄物、１１，１２，１４，２４……エア
バルブ、１３……パイプ、１６，１７……フイル
タ、４０……オーバーフロー槽、２１……エプロ
ン部、２６，２７……突部、２８……流路。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 底部に洗浄液排出用のパイプを有し被洗浄物の
   洗浄時に洗浄液を収容する洗浄槽と、この洗浄槽
   の上端開口部の周囲に配設され該洗浄槽を洗浄す
   るための流体が供給され前記洗浄槽内にオーバー
   フローさせるオーバーフロー槽と、前記洗浄槽を
   洗浄するための流体を前記オーバーフロー槽に供
   給するための手段とを備えたことを特徴とする洗
   浄装置。