TW202010559A - 處理裝置、處理系統以及處理方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種技術，當對黏度高的液體進行過濾時，在過濾器的使用開始時，抑制異物從過濾器的脫離。所述處理裝置1是用於對用來過濾高黏度處理液的過濾器100進行處理的處理裝置。處理裝置1包括：循環配管22，使處理液循環；送液機構23，使循環配管22內產生處理液的流動；以及安裝機構25及異物去除過濾器24，介插在循環配管22的流路途中。安裝機構25裝卸自如地安裝過濾器100。若使用如上所述的處理裝置1來進行過濾器100的時效處理，則循環使用處理液，從而能夠降低處理液的消耗量。而且，能夠利用與安裝過濾器100的裝置獨立的裝置來去除從過濾器100脫離的異物，因此不需要中斷安裝目標裝置中的處理。
Description
本發明是有關於一種對高黏度的液體進行過濾的過濾器（filter）的處理裝置。
以往，在液晶顯示裝置用玻璃基板、半導體基板、電漿顯示面板（Plasma Display Panel，PDP）用玻璃基板、光罩（photo mask）用玻璃基板、彩色濾光片（color filter）用基板、磁碟（disk）用基板、太陽能電池用基板、電子紙（paper）用基板等精密電子裝置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性（flexible）基板、有機電致發光（Electroluminescence，EL）用基板（以下簡稱作「基板」）的製造步驟中，使用有在基板的表面塗布光阻（photo resist）等液體的塗布裝置。關於以往的塗布裝置，例如在專利文獻1中有所記載。專利文獻1的塗布裝置針對由沿水平方向移動自如的載台（stage）所吸附保持的基板，從具有狹縫（slit）狀噴出口的縫模（slit die）噴出塗布液。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2018-43219號公報
[發明所欲解決之課題]
此種塗布裝置中配設有過濾器，所述過濾器用於在噴出及塗布塗布液之前，去除塗布液中所含的異物。但是，當對高黏度的塗布液進行過濾時，在從過濾器使用開始不久的期間，異物會從過濾器脫離。新的過濾器一般會預先利用清洗液進行清洗，因此即使對與清洗液為同程度的黏度的液體進行過濾，異物從過濾器脫離的可能性也低。但是，若使新的過濾器過濾黏度比清洗液高的液體，則異物會從過濾器脫離。
此種塗布裝置中，從新的過濾器使用開始，直至異物的排出量減少而可無問題地使用塗布液為止，常常需要耗費長時間例如一天至兩周等。因此，在此期間，供給至過濾器的塗布液被大量消耗，並且在過濾器更換後不久的期間，不得不中斷使用塗布裝置的製品的製造。
本發明是有鑑於此種情況而完成，其目的在於提供一種技術，當對黏度高的液體進行過濾時，在過濾器的使用開始時，抑制異物從過濾器的脫離。
[解決課題之手段]
為了解決所述問題，本申請的第一發明是一種處理裝置，用於對用來過濾高黏度處理液的過濾器進行處理，所述處理裝置包括：循環配管，使所述處理液循環；送液機構，使所述循環配管內產生所述處理液的流動；安裝機構，介插在所述循環配管的流路途中，裝卸自如地安裝所述過濾器；以及異物去除過濾器，介插在所述循環配管的流路途中。
本申請的第二發明是根據第一發明的處理裝置，其中，所述處理液是包含聚醯亞胺前驅物的清漆，所述過濾器是用於安裝在所述清漆的塗布裝置中的過濾器。
本申請的第三發明是根據第一發明或第二發明的處理裝置，其還包括：處理液貯存槽，介插在所述循環配管的流路途中；排液配管，一端連接於所述循環配管的流路途中；以及切換閥，配設在所述循環配管及所述排液配管的連接部位。
本申請的第四發明是根據第一發明至第三發明中任一發明的處理裝置，其中，所述過濾器包括：上下延伸的殼體（housing）；以及圓筒形的濾筒（filter cartridge），收容在所述殼體的內部，所述殼體包括：所述處理液的流入口；所述處理液的流出口，與所述濾筒的內部連通，且配置在所述殼體的下端部；以及氣體排出口，配置在所述殼體的上端部。
本申請的第五發明是一種處理系統，其包括：第一發明至第四發明中任一發明的處理裝置；以及塗布裝置，將經由經所述處理裝置處理的所述過濾器而供給的處理液塗布至基板的表面。
本申請的第六發明是一種處理方法，用於對用來過濾高黏度處理液的過濾器進行處理，所述處理方法包括下述步驟： a）在介插於循環配管的流路途中的安裝機構中安裝所述過濾器；以及b）在所述步驟a）之後，使所述處理液在所述循環配管內循環，以將所述處理液供給至所述過濾器，在所述步驟b）中，在所述循環配管的流路途中介插與所述過濾器獨立的異物去除過濾器。
本申請的第七發明是根據第六發明的處理方法，其包括下述步驟：c）在所述步驟b）之後，從所述安裝機構拆卸所述過濾器；以及d）在所述步驟c）之後，將所述過濾器安裝至對基板表面塗布所述處理液的塗布裝置中。
[發明的效果]
根據本申請的第一發明至第七發明，通過在過濾器的使用開始前對過濾器進行處理，從而能夠在過濾器的使用開始時，抑制異物從過濾器的脫離。尤其，因為循環使用處理液，能夠抑制異物從過濾器的脫離減少之前的處理液的消耗量。而且，能夠利用與安裝過濾器的裝置獨立的裝置來去除從過濾器脫離的異物，因此不需要中斷安裝目標裝置中的處理。
以下，參照圖式來說明本發明的實施方式。
＜1.關於塗布裝置的結構＞
首先，作為利用本發明的第一實施方式的過濾器100的處理裝置1進行處理後，使用過濾器100的裝置的一例，對塗布裝置9進行說明。圖1是表示塗布裝置9的結構的概略圖。圖2是塗布裝置9的塗布部90的立體圖。另外，以下，為了便於說明，將塗布裝置9中的狹縫噴嘴（slit nozzle）20的移動方向稱作「前後方向」，將與前後方向正交的水平方向稱作「左右方向」。
如圖1所示，塗布裝置9具有塗布部90、對塗布部90供給塗布液（被塗布材料）的供給部80及控制部900。所述塗布裝置9是在柔性元件（flexible device）的製造步驟中，對玻璃製的載體（carrier）基板W的上表面塗布高黏度液體即塗布液的裝置。對於塗布液，例如可使用包含作為黏度高的流體的聚醯亞胺前驅物的清漆等熔融樹脂。塗布液的黏度例如為千～一萬cP（1 Pa・s～10 Pa・s）左右。以下，所謂「高黏度」，表示千cP（1 Pa・s）以上。
由塗布裝置9塗布至基板W上表面的塗布液隨後固化成為薄膜。而且，在所述薄膜的表面形成電極等的圖案（pattern），並從基板W剝離所述薄膜，由此來形成柔性元件。
如圖2所示，所述塗布部90具有載台91、狹縫噴嘴92、噴嘴保持部93及行走機構94。
載台91是載置保持基板W的大致長方體狀的保持台。載台91例如是由一體的石材所形成。載台91的上表面成為平坦的基板保持面911。在基板保持面911上，設有多個真空吸附孔（圖示省略）。當將基板W載置於基板保持面911時，藉助真空吸附孔的抽吸力，基板W的下表面吸附於基板保持面911。由此，基板W以水平姿勢固定於載台91上。而且，在載台91的內部，設有多個起模針（lift pin）。當從載台91搬出基板W時，多個起模針突出至基板保持面911上。由此，從基板保持面911分離基板W。
狹縫噴嘴92是噴出塗布液的噴嘴。狹縫噴嘴92具有在左右方向上長的噴嘴主體（nozzle body）921。在噴嘴主體921的下端部，設有沿左右方向延伸的狹縫狀的噴出口923。噴出口923朝向下方。因此，當將狹縫噴嘴92配置於基板W的上方時，噴出口923朝向被載置於載台91上的基板W的上表面。當從供給部80向狹縫噴嘴92內供給塗布液時，從噴出口923朝向基板W的上表面噴出塗布液。
噴嘴保持部93是用於將狹縫噴嘴92保持於基板保持面911的上方的機構。噴嘴保持部93具有：架橋部931，在載台91的上方沿左右方向延伸；一對支撐部932，支撐架橋部的兩端；以及升降機構933，調節架橋部931的端部的高度。當使升降機構933動作時，狹縫噴嘴92的高度得到調節。
行走機構94是用於使狹縫噴嘴92沿前後方向移動的機構。行走機構94具有一對軌道（rail）941及一對線性馬達（linear motor）942。一對軌道941是在載台左右的側部附近沿前後方向延伸。一對軌道941作為在前後方向上限制一對支撐部932的移動方向的線性導軌（linear guide）發揮功能。一對線性馬達942分別使噴嘴保持部93的支撐部932相對於軌道941產生磁性動力而沿前後方向移動。
供給部80具有第一槽81、第二槽82、第一主配管83、第二主配管84、送液泵（pump）85、過濾器100、及在供給部80內去除塗布液中的溶解氣體的脫氣部70。
在第一槽81中，貯存未使用的塗布液、或者暫時使用後經再生處理的塗布液。第一主配管83是連接第一槽81與第二槽82的配管。貯存在第一槽81中的塗布液通過第一主配管83而供給至第二槽82。在第二槽82中，貯存經脫氣處理後的塗布液。第二主配管84是連接第二槽82與狹縫噴嘴92的配管。第二主配管84的下游側端部朝兩方向分支，分別連接於狹縫噴嘴92的兩個供給口。在第二主配管84中，介插有送液泵85。當使送液泵85驅動時，在由送液泵85產生的壓力下，貯存在第二槽82中的塗布液通過第二主配管84而供給至狹縫噴嘴92。並且，所述塗布液從狹縫噴嘴92的噴出口923噴出至基板W的上表面。
在第一主配管83中，介插有過濾器100。當從第一槽81供給的塗布液中含有異物時，在所述過濾器100中，所述異物被去除。
脫氣部70是在第一槽81與第二槽82之間，去除塗布液中所含的溶解氣體。所述塗布裝置9的脫氣部70具有脫氣配管71、排出槽（drain tank）72、第一排氣配管73、第二排氣配管74及減壓泵75。
脫氣配管71是用於捕集流經第一主配管83的塗布液中所含的氣泡的配管。脫氣配管71的一端連接於第一主配管83的水平延伸的部分。脫氣配管71從所述一端朝上方延伸。脫氣配管71的另一端連接於排出槽72的上部。在第一主配管83中，在較脫氣配管71的連接部位為下游側設有第一閥（valve）831。而且，在脫氣配管71中設有第二閥711。
排出槽72防止被抽吸至脫氣配管71的塗布液流入減壓泵75側。即使塗布液過剩地流入脫氣配管71，所述塗布液也會被回收至排出槽72內，而不會流入第一排氣配管73及減壓泵75。
在塗布裝置9的使用時，首先，在封閉第一閥831並開放第二閥711的狀態下驅動減壓泵75，使塗布液填滿脫氣配管71的一部分。隨後，當封閉第二閥711並開放第一閥831時，將塗布液從第一槽81供給至第二槽82。
當使減壓泵75驅動時，經由第一排氣配管73及第二排氣配管74，脫氣配管71、排出槽72及第二槽82的內部被減壓而成為負壓。由此，在第一主配管83內產生朝向第二槽82側的抽吸力，並且在脫氣配管71內產生朝向排出槽72側的抽吸力。
此時，第二槽82、第一主配管83及第一排氣配管73的內部成為壓力比大氣壓低的負壓狀態，因此在第二槽82、第一主配管83及第一排氣配管73的內部，塗布液中的溶解氣體成為氣泡而上浮。在第一主配管83內產生的氣泡滯留在第一主配管的上部，並流入第一排氣配管73內。如上所述，滯留在排氣配管73內的氣泡在開放第二閥711時，被抽吸至排出槽72側而從第一主配管83及第一排氣配管73內去除。而且，如圖1所示，在第二槽82內，設有攪拌機821。當攪拌機821旋轉時，貯存在第二槽82內的塗布液受到攪拌，能夠使塗布液內的氣泡上浮至塗布液的液面。第二槽82內的氣泡上浮至上部空間，並經由第二排氣配管74而被抽吸至減壓泵75側。
如上所述，脫氣部70將供給至狹縫噴嘴92的塗布液中所含的氣泡及溶解氣體去除。由此，能夠抑制從狹縫噴嘴92塗布至基板W上的塗布液中包含氣泡的現象。
在如上所述的塗布裝置9中，當使用新的過濾器100時，如前所述，在使用開始後有異物從過濾器脫離之虞。因此，當將新的過濾器100安裝於塗布裝置9時，在異物的排出量減少而可無問題地使用塗布液之前的期間，塗布液被白白地消耗，並且不得不中斷塗布裝置9中的塗布液向基板W的塗布處理。為了解決如上所述的問題，在處理裝置1中進行過濾器100的時效處理後，再將過濾器100設置（set）於所述塗布裝置9中。
控制部900是用於對塗布裝置9內的各部進行動作控制的部件。如圖1中概念性地所示，控制部900包含電腦（computer），所述電腦具有中央處理器（Central Processing Unit，CPU）等運算處理部901、隨機存取記憶體（Random Access Memory，RAM）等記憶體902以及硬碟驅動器（hard disk drive）等存儲部903。控制部900與所述起模針、升降機構933、線性馬達942等塗布部90內的各部分別電連接。而且，控制部900也與送液泵85、攪拌機821、第一閥831、第二閥711、減壓泵75等供給部80內的各部電連接。
控制部900將存儲在存儲部903中的電腦程式（computer program）或資料（data）暫時讀出到記憶體902中，基於所述電腦程式及資料，運算處理部901進行運算處理，由此來對塗布裝置9內的各部進行動作控制。由此來推進針對基板W的塗布處理。
＜2.關於過濾器處理裝置的結構＞
接下來，參照圖3來說明本發明的一實施方式的過濾器100的處理裝置1。圖3是表示處理裝置1的結構的概略圖。本實施方式的過濾器100是用於安裝在所述清漆的塗布裝置9中的過濾器。因此，在處理裝置1中使用的處理液是在所述塗布裝置9中使用的塗布液。即，在處理裝置1中使用的處理液是包含聚醯亞胺前驅物的高黏度的清漆。
如圖3所示，處理裝置1具有貯存槽21、循環配管22、送液泵23、異物去除過濾器24、安裝機構25、排出部30及控制部40。
在貯存槽21中，貯存用於過濾器100的時效處理的處理液。在處理裝置1中使用的處理液，是使用與在時效處理後使用過濾器100的裝置中供給至過濾器100的液體相同的液體。因此，在進行用於所述塗布裝置9的過濾器100的時效處理的情況下，對於在處理裝置1中使用的處理液，是使用在塗布裝置9中所用的塗布液。
而且，貯存槽21具有大氣開放部210。大氣開放部210具有大氣開放配管211、及介插在大氣開放配管211中的大氣開放閥212。大氣開放配管211的一端連接於貯存槽。而且，大氣開放配管211的另一端向大氣開放。藉助此種結構，當大氣開放閥212開放時，貯存槽21的上部空間向大氣開放。
循環配管22是用於使處理液循環的配管。循環配管22的一端連接於貯存槽21的下端部。而且，循環配管22的另一端連接於貯存槽的上端部附近。在循環配管22中，從連接於貯存槽21下端部的一端側開始，依序介插有送液泵23、異物去除過濾器24、安裝過濾器100的安裝機構25。
而且，在循環配管22中，介插有第一三通閥221及第二三通閥222。第一三通閥221是配置在異物去除過濾器24與安裝機構25之間。即，第一三通閥221在後述的處理液的回流方向上，配置於異物去除過濾器24的下游側且安裝機構25的上游側。第二三通閥222配置於安裝機構25與貯存槽21之間。即，第二三通閥222在後述的處理液的回流方向上，配置於安裝機構25的下游側且貯存槽21的上游側。
送液泵23是使循環配管22內產生處理液的流動的送液機構。對於送液泵23，例如較佳為使用隔膜泵（diaphragm pump）等在驅動時難以引起粉塵等異物的產生的泵。當送液泵23受到驅動時，貯存槽21內的處理液通過送液泵23、異物去除過濾器24及安裝於安裝機構25的過濾器100而回流至貯存槽21內。
異物去除過濾器24是用於去除處理液中所含的粉塵等異物的過濾器。通過異物去除過濾器24，對預先包含在投入貯存槽21內的處理液中的異物、在送液泵23及循環配管22等循環路徑內產生的異物、及從過濾器100脫離的異物進行捕集。另外，在將捕集從過濾器100脫離的異物作為主要目的的情況下，異物去除過濾器24介插在循環配管22的哪個位置皆可。
在安裝機構25中，可裝卸地安裝過濾器100。圖4是安裝機構25及過濾器100的一例的剖面圖。如圖4所示，安裝機構25具有底座部251、流入連接部252及流出連接部253。流入連接部252及流出連接部253是朝向底座部251的上表面開口的開口部。流入連接部252與循環配管22的上游側進行流路連接。流出連接部253與循環配管22的下游側進行流路連接。
過濾器100具有殼體11、濾筒12及罩13。殼體11是外形沿上下方向延伸的圓柱型狀的框體。殼體11具有收容濾筒12的內部空間。在殼體11的底部，設有對殼體11的內部空間與外部進行流路連接的流入口111及流出口112。而且，在殼體11的上部，設有用於排出滯留在殼體11上部的氣體的排氣口113。
當將過濾器100安裝於安裝機構25時，流入連接部252與流入口111相連接，流出連接部253與流出口112相連接。由此，當從循環配管22的上游側向過濾器100供給處理液時，處理液從流入連接部252經由流入口111而流入至過濾器100內。而且，當從過濾器100的流出口112排出處理液時，處理液經由流出連接部253而流出向循環配管22的下游側。
濾筒12具有過濾器本體121及上蓋122。過濾器本體121是上下延伸的圓筒形狀。過濾器本體121的內部空間成為上下延伸的流路120。過濾器本體121是由聚丙烯（polypropylene）、聚乙烯（polyethylene）等樹脂纖維所形成。另外，對於過濾器本體121，也可使用樹脂以外的材料。上蓋122覆蓋過濾器本體121的上部。由此，流路120的上端部由上蓋122予以封閉。
罩13覆蓋殼體11的外表面。罩13例如是由金屬等剛性比殼體11高的材料所形成。罩13抑制殼體的變形。
設在殼體11底部的流入口111是配置於濾筒12的外側。而且，設在殼體11底部的流出口112流路連接於濾筒12內部的流路120的下端部。由此，當處理液從流入口111流入殼體11內時，處理液流入濾筒12外側的空間。隨後，處理液填滿至殼體11的上部為止，並且處理液從濾筒12的外側向內側依次通過，經過濾的處理液流入流路120內。並且，流經流路120內的處理液從流出口112排出。
在將處理液填滿殼體11內部的步驟中，也可從設在殼體11上部的排氣口113排出聚集在殼體11上部的氣體。這樣，便能夠將處理液填滿至殼體11的最上部為止。
如上所述，圖4例的過濾器100是濾筒12被膠囊（capsule）狀的殼體11覆蓋，連同殼體11一起裝卸於裝置的一體型過濾器。但是，對於過濾器100，也可使用不具有殼體，而在罩的內部僅直接裝卸濾筒的類型的過濾器。
排出部30是用於排出循環配管22內的氣體及處理液的機構。排出部30具有排出配管31、排出槽32、第一排液配管33、第二排液配管34、第一排氣配管35及第二排氣配管36。
排出配管31的上游側端部連接於第一排液配管33、第二排液配管34、第一排氣配管35及第二排氣配管36各自的下游側端部。而且，排出配管31的下游側端部連接於排出槽32。在排出配管31中，介插有排出閥311。
第一排液配管33的上游側端部連接於第一三通閥221，下游側端部連接於排出配管31的上游側端部。即，第一三通閥221是配設在循環配管22及第一排液配管33的連接部位的切換閥。第一三通閥221可切換為循環配管22的上游側與下游側連通的通常狀態、和循環配管22的上游側（異物去除過濾器24側）與第一排液配管33連通的排出狀態。在進行過濾器100的時效處理的期間，第一三通閥221設為通常狀態。
第二排液配管34的上游側端部連接於第二三通閥222，下游側端部連接於排出配管31的上游側端部。即，第二三通閥222是配設在循環配管22及第二排液配管34的連接部位的切換閥。第二三通閥222可切換為循環配管22的上游側與下游側連通的通常狀態、和循環配管22的上游側（安裝機構25側）與第二排液配管34連通的排出狀態。在進行過濾器100的時效處理的期間，第二三通閥222設為通常狀態。
第一排氣配管35的上游側端部連接於設在異物去除過濾器24上部的排氣口（圖示省略），下游側端部連接於排出配管31的上游側端部。在第一排氣配管35中，介插有第一排氣閥351。當開始對異物去除過濾器24的通液時，通過開放第一排氣閥351及排出閥311，能夠排出滯留在異物去除過濾器24上部的氣體。由此，能夠向異物去除過濾器24的內部高效地填充處理液。
第二排氣配管36的上游側端部連接於安裝於安裝機構25的過濾器100的排氣口113，下游側端部連接於排出配管31的上游側端部。在第二排氣配管36中，介插有第二排氣閥361。當開始對過濾器100的通液時，通過開放第二排氣閥361及排出閥311，能夠排出滯留在過濾器100上部的氣體。由此，能夠向過濾器100的內部高效地填充處理液。
在過濾器100的時效處理結束後，從處理裝置1內排出處理液即塗布液時，安裝使安裝機構25的流入連接部252與流出連接部253連通的旁通（bypass）管。並且，將第二三通閥222設為排出狀態，開放排出閥311，並使送液泵23驅動。由此，能夠將貯存槽21及循環配管22內的處理液經由第二排液配管34及排出配管31而排出至排出槽32。
另外，此時，也可不使用旁通管而進行處理液的排出。此時，將第一三通閥221設為排出狀態，開放排出閥311，並使送液泵23驅動。由此，能夠將貯存槽21及循環配管22內的處理液經由第一排液配管33及排出配管31而排出至排出槽32。
控制部40是用於對處理裝置1內的各部進行動作控制的部件。如圖3中概念性地所示，控制部40包含電腦，所述電腦具有CPU等運算處理部41、RAM等記憶體42以及硬碟驅動器等存儲部43。控制部40與所述大氣開放閥212、第一三通閥221、第二三通閥222、送液泵23、排出閥311、第一排氣閥351及第二排氣閥361電連接。
控制部40將存儲在存儲部43中的電腦程式或資料暫時讀出至記憶體42中，基於所述電腦程式及資料，運算處理部41進行運算處理，由此來對處理裝置1內的各部進行動作控制。由此來推進針對安裝於安裝機構25中的過濾器100的時效處理。
假設在塗布裝置9中安裝新的過濾器100，並持續供給塗布液，直至不再產生異物從過濾器100的脫離為止，則塗布液的消耗量將變多。而且，在異物從過濾器100的脫離變得足夠少之前，無法進行塗布裝置9對基板W的塗布處理，不得不中斷使用塗布裝置的製品的製造。與此相對，若使用處理裝置1來進行過濾器100的時效處理，則循環使用處理液，因此處理液的消耗量只需少量，即，一開始投入貯存槽中的量。即，能夠降低處理液的消耗量。而且，由於能夠利用與塗布裝置9獨立的裝置來去除從過濾器100脫離的異物，因此不需要中斷塗布裝置9中的塗布步驟。
＜3.關於過濾器的時效處理以及塗布裝置中的過濾器的更換流程＞
繼而，對於在包含所述塗布裝置9及處理裝置1的處理系統中，進行使用處理裝置1的過濾器100的時效處理、與塗布裝置9中的過濾器更換時的流程，參照圖5來進行說明。圖5是表示處理裝置1中的過濾器100的時效處理、及塗布裝置9中的過濾器100的更換流程的流程圖。
如圖5所示，首先，進行塗布裝置9的驅動（步驟S901）。繼而，在塗布裝置9的驅動開始後，當經過固定時間後，達到塗布裝置9中的過濾器100的更換預定時間的24小時前（步驟S902）時，開始處理裝置1中的新的過濾器100的時效處理。
在時效處理中，首先，將新的過濾器100安裝於處理裝置1的安裝機構25，並且向貯存槽21中投入處理液（塗布裝置9中所用的塗布液）（步驟S101）。
繼而，將第一三通閥221及第二三通閥222設為通常狀態，並且使送液泵23驅動。由此，使處理液在循環配管22內循環，開始過濾器100的時效處理（步驟S102）。在時效處理的開始時，為了向異物去除過濾器24及過濾器100內高效地填充處理液，也可開放第一排氣閥351、第二排氣閥361及排出閥311，以使滯留在異物處理過濾器24及過濾器100上部的氣體排出。
隨後，進行時效處理直至塗布裝置9中的過濾器100的更換預定時間為止（步驟S103）。圖5的示例中，將時效處理進行24小時左右。時效處理的期限根據所使用的過濾器或處理液的種類而不同，例如進行3小時～48小時。
在達到更換預定時間，且進行了規定期限的時效處理後，停止送液泵23的驅動，停止處理液的循環（步驟S104）。繼而，從安裝機構25拆卸進行了時效處理的過濾器100（步驟S105）。
另一方面，當達到更換預定時間時，在塗布裝置9中也停止驅動（步驟S903）。繼而，從塗布裝置9中拆卸已使用的過濾器100（步驟S904）。
在進行了處理裝置1中的已處理的過濾器100的拆卸、與塗布裝置9中的已使用的過濾器100的拆卸之後，將在處理裝置1中經時效處理的過濾器100安裝至塗布裝置9（步驟S905）。隨後，再次開始塗布裝置9的驅動（步驟S906）。
在進行了時效處理的過濾器100被拆卸後，在處理裝置1中進行處理液的排出（步驟S106）。具體而言，在安裝機構25安裝旁通流路後，將第二三通閥222設為排出狀態，且開放排出閥311，並使送液泵23驅動。由此，貯存槽21及循環配管22內部的處理液被排出至排出槽32。當處理液的排出完成時，停止送液泵23。
當處理液的排出完成時，繼而，向貯存槽21內投入可使處理液溶解的溶劑。繼而，將第一三通閥221及第二三通閥222設為通常狀態並使送液泵23驅動，由此，投入至貯存槽21內的溶劑在循環配管22內循環（步驟S107）。由此，能夠將附著於貯存槽21或循環配管22的內壁的處理液溶解並去除。在處理液為所述塗布液的情況下，對於溶劑，例如使用NMP（N-甲基-2-吡咯烷酮）。另外，對於溶劑，也可使用蒸餾水或其他的有機溶劑。
隨後，將第二三通閥222設為排出狀態，且開放排出閥311，並使送液泵23驅動。由此，貯存槽21及循環配管22內部的溶劑被排出至排出槽32。此時，同時將在處理液的排出步驟（步驟S108）中附著於第二排液配管34及排出配管31的內壁的處理液溶解於溶劑中以予以去除。
如上所述，進行處理裝置1中的過濾器100的時效處理、與塗布裝置9中的過濾器100的更換。
另外，在所述中，對塗布裝置9中的過濾器100的更換時進行了說明，但使用本發明的處理裝置1來進行時效處理的過濾器100也可被用作在塗布裝置9的驅動前最初安裝的過濾器100。
＜4.變形例＞
以上，對本發明的一實施方式進行了說明，但本發明並不限定於所述實施方式。
所述實施方式中，在處理裝置1的安裝機構25中安裝一個過濾器100，但本發明並不限於此。也可為：可對一個安裝機構25並列地安裝多個（例如六個）過濾器100。此時，安裝機構25具有從循環配管22的上游側向各過濾器100的流入口分支的流入分支部、及從各過濾器100的流出口向循環配管22的下游側匯流的流出匯流部。這樣，便能夠利用一個處理裝置1來對多個過濾器100同時進行時效處理。其結果，在一個裝置（例如塗布裝置）中同時使用多個過濾器100的情況下，能夠對所使用的多個過濾器100同時且以同條件進行時效處理。
而且，所述實施方式的處理裝置1中，僅利用送液泵23的壓力來輸送處理液。但是，也可與送液泵23的驅動平行地向貯存槽21內導入經加壓的氣體，以促進處理液的流動。
而且，所述處理裝置1中所用的進行處理的過濾器100是被安裝於塗布裝置9中的過濾器100，所述塗布裝置9被用於製造柔性元件的基材自身的製程（process）中。但是，在本發明的處理裝置中進行處理的過濾器也可被安裝於在元件形成後的基材表面形成保護膜的塗布裝置。而且，在本發明的處理裝置中進行處理的過濾器也可被安裝於對貼合基板與基板時的黏合劑進行塗布的塗布裝置。而且，在本發明的處理裝置中進行處理的過濾器也可被安裝於柔性元件以外的液晶顯示裝置或半導體基板的製造步驟中所用的裝置。而且，在本發明的處理裝置中進行處理的過濾器也可被安裝於鋰離子（lithium ion）二次電池或燃料電池等電池的製造步驟中所用的裝置。即，本發明的處理裝置尤其適合於被安裝在對高黏度材料進行處理的裝置中的過濾器的時效處理。
而且，處理裝置的細節也可與本申請的各圖中所示的結構不同。而且，也可將在所述實施方式或變形例中出現的各要素在不產生矛盾的範圍內適當組合
1:處理裝置
9:塗布裝置
11:殼體
12:濾筒
13:罩
20、92:狹縫噴嘴
21:貯存槽
22:循環配管
23:送液泵
24:異物去除過濾器
25:安裝機構
30:排出部
31:排出配管
32、72:排出槽
33:第一排液配管
34:第二排液配管
35、73:第一排氣配管
36、74:第二排氣配管
40、900:控制部
41、901:運算處理部
42、902:記憶體
43、903:存儲部
70:脫氣部
71:脫氣配管
75:減壓泵
80:供給部
81:第一槽
82:第二槽
83:第一主配管
84:第二主配管
85:送液泵
90:塗布部
91:載台
93:噴嘴保持部
94:行走機構
100:過濾器
111:流入口
112:流出口
113:排氣口
120:流路
121:過濾器本體
122:上蓋
210:大氣開放部
211:大氣開放配管
212:大氣開放閥
221:第一三通閥
222:第二三通閥
251:底座部
252:流入連接部
253:流出連接部
311:排出閥
351:第一排氣閥
361:第二排氣閥
711:第二閥
821:攪拌機
831:第一閥
911:基板保持面
921:噴嘴主體
923:噴出口
931:架橋部
932:支撐部
933:升降機構
941:軌道
942:線性馬達
S101～S108、S901～S906:步驟
W:基板
圖1是表示塗布裝置的結構的概略圖。
圖2是塗布裝置的塗布部的立體圖。
圖3是表示處理裝置的結構的概略圖。
圖4是處理裝置的安裝機構及過濾器的一例的剖面圖。
圖5是表示處理裝置中的過濾器的時效（aging）處理及塗布裝置中的過濾器的更換流程的流程圖。
1:處理裝置
21:貯存槽
22:循環配管
23:送液泵
24:異物去除過濾器
25:安裝機構
30:排出部
31:排出配管
32:排出槽
33:第一排液配管
34:第二排液配管
35:第一排氣配管
36:第二排氣配管
40:控制部
41:運算處理部
42:記憶體
43:存儲部
100:過濾器
210:大氣開放部
211:大氣開放配管
212:大氣開放閥
221:第一三通閥
222:第二三通閥
311:排出閥
351:第一排氣閥
361:第二排氣閥
Claims (7)
- 一種處理裝置，用於對用來過濾高黏度處理液的過濾器進行處理，所述處理裝置包括： 循環配管，使所述處理液循環； 送液機構，使所述循環配管內產生所述處理液的流動； 安裝機構，介插在所述循環配管的流路途中，裝卸自如地安裝所述過濾器；以及 異物去除過濾器，介插在所述循環配管的流路途中。
- 如申請專利範圍第1項所述的處理裝置，其中， 所述處理液是包含聚醯亞胺前驅物的清漆， 所述過濾器是用於安裝在所述清漆的塗布裝置中的過濾器。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的處理裝置，更包括： 處理液貯存槽，介插在所述循環配管的流路途中； 排液配管，一端連接於所述循環配管的流路途中；以及 切換閥，配設在所述循環配管及所述排液配管的連接部位。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的處理裝置，其中， 所述過濾器包括： 上下延伸的殼體；以及 圓筒形的濾筒，收容在所述殼體的內部， 所述殼體包括： 所述處理液的流入口； 所述處理液的流出口，與所述濾筒的內部連通，且配置在所述殼體的下端部；以及 氣體排出口，配置在所述殼體的上端部。
- 一種處理系統，包括： 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的處理裝置；以及 塗布裝置，將經由經所述處理裝置處理的所述過濾器而供給的處理液塗布至基板的表面。
- 一種處理方法，用於對用來過濾高黏度處理液的過濾器進行處理，所述處理方法包括下述步驟： 步驟a）在介插於循環配管的流路途中的安裝機構中安裝所述過濾器；以及 步驟b）在所述步驟a）之後，使所述處理液在所述循環配管內循環，以將所述處理液供給至所述過濾器， 在所述步驟b）中，在所述循環配管的流路途中介插與所述過濾器獨立的異物去除過濾器。
- 如申請專利範圍第6項所述的處理方法，包括下述步驟： 步驟c）在所述步驟b）之後，從所述安裝機構拆卸所述過濾器；以及 步驟d）在所述步驟c）之後，將所述過濾器安裝至對基板表面塗布所述處理液的塗布裝置中。
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