TW202223553A - 積層體之製造方法、防反射構件、ｌｅｄ顯示器的前端構件、轉印膜 - Google Patents

Abstract

本發明的課題在於提供一種表面反射率低並且明度低的積層體之製造方法。又，本發明的課題在於提供一種防反射構件、LED顯示器的前端構件及轉印膜。本發明的積層體之製造方法具有：積層體準備步驟，準備具備著色層及厚度為5.0μm以上之感光性層之積層體；曝光步驟，使用遮罩對上述感光性層照射光；及顯影步驟，顯影上述感光性層，上述遮罩具有週期圖案，前述週期圖案包含以形成間隙為12.0μm以下之週期結構的方式配置之開口部。

Description

積層體之製造方法、防反射構件、LED顯示器的前端構件、轉印膜

本發明係關於一種積層體之製造方法、防反射構件、LED顯示器的前端構件及轉印膜。

在LED顯示器中，從對比度的提高、圖像顯示品質的提高之觀點考慮，降低圖像顯示部的表面反射率極其重要。 例如，作為防止LED顯示器的光的反射之防反射構件，已知有黑色的防反射構件。

作為習知之附黑色圖案之基板的形成方法，可舉出專利文獻1中所記載者。 專利文獻1中，記載有使用含有光聚合性化合物、特定的醯基肟酯系的光聚合起始劑及著色劑之感光性組成物來形成構成液晶顯示器之黑色矩陣圖案之方法。

[專利文獻1]日本特開2007-072035號公報

本發明人對專利文獻1中具體揭示之構件的反射特性研究之結果發現了，針對包含正規反射率及漫反射率之表面反射率以及明度存在進一步改善的餘地。

本發明的課題在於提供一種表面反射率低並且明度低的積層體之製造方法。又，本發明的課題在於提供一種防反射構件、LED顯示器的前端構件及轉印膜。

為了解決上述課題，本發明人進行深入研究之結果，發現了藉由以下構成能夠解決上述課題。

〔1〕一種積層體之製造方法，其具有：積層體準備步驟，準備具備著色層及厚度為5.0μm以上之感光性層之積層體；曝光步驟，使用遮罩對上述感光性層照射光；及顯影步驟，顯影上述感光性層，上述遮罩具有週期圖案，前述週期圖案包含以形成間隙為12.0μm以下之週期結構的方式配置之開口部。 〔2〕如〔1〕所述之積層體之製造方法，其中 在上述曝光步驟中照射之光的照射量相對於藉由後述之測量方法獲得之曝光量A為10.0倍以下。 〔3〕如〔1〕或〔2〕所述之積層體之製造方法，其中 上述遮罩進一步具有第2遮罩圖案，前述第2遮罩圖案具有至少1個比上述週期圖案的開口部的面積大的開口部，藉由上述顯影步驟，對應於上述週期圖案之圖案結構A1及對應於上述第2遮罩圖案之圖案結構A2形成於上述感光性層。 〔4〕如〔3〕所述之積層體之製造方法，其中 藉由上述顯影步驟，在上述圖案結構A2中的至少一部分中貫通上述感光性層。 〔5〕如〔4〕所述之積層體之製造方法，其中 藉由上述顯影步驟，對應於上述第2遮罩圖案之圖案結構B2形成於上述著色層。 〔6〕如〔5〕所述之積層體之製造方法，其中 藉由上述顯影步驟，在上述圖案結構B2中的至少一部分中貫通上述著色層。 〔7〕如〔1〕至〔6〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述間隙為0.10～12.0μm。 〔8〕如〔1〕至〔7〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 在上述曝光步驟中，上述遮罩與上述感光性層的距離為200μm以下。 〔9〕如〔1〕至〔8〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 在上述曝光步驟中，照射包含365nm的波長之光。 〔10〕如〔1〕至〔9〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.5以下，上述感光性層的厚度為5.0～30.0μm。 〔11〕如〔1〕至〔10〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述感光性層為正型感光性層。 〔12〕如〔1〕至〔11〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述感光性層含有聚合物及光酸產生劑，前述聚合物包含具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元。 〔13〕如〔1〕至〔12〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中上述著色層在400～700nm的波長區域中的光學濃度為1.0～6.0，上述著色層的厚度為2.0～100μm。 〔14〕如〔1〕至〔13〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述著色層為鹼溶性層或正型感光性層。 〔15〕如〔1〕至〔14〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述著色層包含選自包括碳黑及奈米碳管之群組中之至少1個。 〔16〕如〔1〕至〔15〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述積層體為防反射構件。 〔17〕如〔1〕至〔15〕之任一項所述之積層體之製造方法，其中 上述積層體為LED顯示器的前端構件。 〔18〕一種防反射構件，其具有藉由〔1〕至〔15〕之任一項所述之製造方法製造之積層體。 〔19〕一種LED顯示器的前端構件，其具有藉由〔1〕至〔15〕之任一項所述之製造方法製造之積層體。 〔20〕一種轉印膜，其依序具備偽支撐體、厚度為5.0μm以上之感光性層及著色層。 〔21〕如〔20〕所述之轉印膜，其中 上述感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.5以下，上述感光性層的厚度為5.0～30.0μm。 〔22〕如〔20〕或〔21〕所述之轉印膜，其中 上述著色層在400～700nm的波長區域中的光學濃度為1.0～6.0，上述著色層的厚度為2.0～100μm。 [發明效果]

依據本發明，能夠提供一種表面反射率低並且明度低的積層體之製造方法。又，依據本發明，能夠提供一種防反射構件、LED顯示器的前端構件及轉印膜。

以下，對本發明的內容進行詳細說明。以下所記載之構成要件的說明有時根據本發明的代表性的實施態樣來進行，但是本發明並不限定於這種實施態樣。 在本說明書中，2個以上的較佳態樣的組合為更佳的態樣。

本說明書中，表示數值範圍之“～”係指以將其前後所記載之數值作為下限值及上限值而包含之含義來使用。 在本說明書中階段性記載之數值範圍中，一個數值範圍內所記載之上限值或下限值可以替換成其他階段性記載的數值範圍內的上限值或下限值。又，在本說明書中所記載之數值範圍中，該數值範圍的上限值或下限值可以替換成實施例中所示之值。 本說明書中，組成物中存在複數個與各成分對應之物質之情況下，只要沒有特別說明，組成物中的各成分的量係指存在於組成物中之上述複數個物質的合計量。 本說明書中，“總固體成分”係指從組成物的所有組成中去除溶劑之後的成分的總質量。又，“固體成分”係指，如上述，為去除了溶劑之成分，例如，於25℃下可以為固體，亦可以為液體。

本說明書中的基團（原子團）的表述中，未記載經取代及未經取代之表述包含不具有取代基者，並且還包含具有取代基者。例如，“烷基”不僅包含不具有取代基之烷基（未經取代烷基），還包含具有取代基之烷基（取代烷基）。 本說明書中，“（甲基）丙烯酸”係包括丙烯酸及甲基丙烯酸這兩者之概念，“（甲基）丙烯酸酯”係包括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯這兩者之概念，“（甲基）丙烯醯基”係包括丙烯醯基及甲基丙烯醯基這兩者之概念。 本說明書中，只要沒有特別說明，樹脂中的構成單元的比例表示莫耳比例。 在本說明書中，只要無特別說明，有分子量分佈時的分子量表示重量平均分子量（Mw）。 又，只要無特別說明，本說明書中的重量平均分子量（Mw）及數量平均分子量（Mn）係將藉由作為管柱使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL及TSKgel G2000HxL（均為TOSOH Corporation製造的產品名）以及作為溶劑使用了THF（四氫呋喃）之凝膠滲透層析法（GPC）分析裝置並且藉由示差折射計來檢測之值，作為標準物質使用聚苯乙烯換算而得之分子量。 本說明書中，“步驟”這一用語，不僅包含獨立之步驟，而且即使在無法與其他步驟明確地進行區分之情況下，只要實現步驟的所期待的目的，則該步驟亦包含於本用語中。

[積層體之製造方法] 本發明之積層體之製造方法（以下，亦稱為“本製造方法”。）具有：積層體準備步驟，準備具備著色層及厚度為5.0μm以上之感光性層之積層體；曝光步驟，使用具備後述之特定的週期圖案之遮罩曝光感光性層；及顯影步驟，顯影感光性層。

以下，對本製造方法所具有之各步驟進行詳細說明。 另外，本說明書中，將藉由積層體準備步驟製作並且實施曝光步驟之前的積層體亦記載為“未曝光積層體”，將藉由包括曝光步驟及顯影步驟之本製造方法製造之積層體亦記載為“製造後的積層體”。

［積層體準備步驟］ 本製造方法具有準備具備著色層及感光性層之積層體（未曝光積層體）之積層體準備步驟。

作為積層體準備步驟，並無特別限制，例如可舉出使用至少具有偽支撐體及感光性層之轉印膜之方法。 更具體而言，可舉出使具有偽支撐體及感光性層之轉印膜及具有著色層之支撐體貼合以使感光性層及著色層彼此接觸之步驟、以及使依序具有偽支撐體、感光性層及著色層之轉印膜及支撐體貼合以使支撐體及著色層彼此接觸之步驟。藉由該等步驟，可獲得具有由偽支撐體/感光性層/著色層/支撐體構成之層構成之積層體。

＜轉印膜＞ 積層體準備步驟中所使用之轉印膜至少具有偽支撐體及配置於偽支撐體上之感光性層。轉印膜可以具有偽支撐體、配置於偽支撐體上之感光性層及配置於感光性層上之著色層。 以下，對構成轉印膜之各構件進行說明。

（偽支撐體） 轉印膜具有偽支撐體。偽支撐體為在轉印膜中支撐感光性層之構件，在製作未曝光積層體之後，至少在顯影步驟之前藉由剝離處理被去除。

偽支撐體為薄膜為較佳，樹脂薄膜為更佳。 作為偽支撐體，使用具有可撓性並且在加壓下或加壓及加熱下不會產生顯著的變形、收縮或伸長之薄膜為較佳。 作為上述薄膜，例如可舉出聚對酞酸乙二酯（PET）薄膜（例如雙軸拉伸PET薄膜）、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、三乙酸纖維素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚醯亞胺薄膜及聚碳酸酯薄膜。 其中，作為偽支撐體，PET薄膜為較佳。 又，用作偽支撐體之薄膜沒有褶皺等變形及劃痕為較佳。

從能夠經由偽支撐體進行圖案曝光之觀點考慮，偽支撐體的透明性高為較佳，365nm的透過率為60%以上為較佳，70%以上為更佳。 從經由偽支撐體之圖案曝光時的圖案形成性及偽支撐體的透明性的觀點考慮，偽支撐體的霧度小為較佳。具體而言，偽支撐體的霧度值為2%以下為較佳，0.5%以下為更佳，0.1%以下為進一步較佳。 從經由偽支撐體之圖案曝光時的圖案形成性及偽支撐體的透明性的觀點考慮，偽支撐體中所包含之微粒、雜質及缺陷的數量少為較佳。偽支撐體中的直徑1μm以上的微粒、雜質及缺陷的數量為50個/10mm ²以下為較佳，10個/10mm ²以下為更佳，3個/10mm ²以下為進一步較佳，0個/10mm ²為特佳。

偽支撐體的厚度並無特別限制，5～200μm為較佳，從操作容易性及通用性的觀點考慮，10～150μm為更佳，10～50μm為進一步較佳。 偽支撐體的厚度作為藉由基於掃描型電子顯微鏡（SEM：Scanning Electron Microscope）之截面觀察測量之任意5點的平均值來計算。

作為偽支撐體，例如可舉出膜厚16μm的雙軸拉伸聚對酞酸乙二酯薄膜、膜厚12μm的雙軸拉伸聚對酞酸乙二酯薄膜及膜厚9μm的雙軸拉伸聚對酞酸乙二酯薄膜。

作為偽支撐體的較佳的形態，例如可舉出日本特開2014-085643號公報的[0017]～[0018]段、日本特開2016-027363號公報的[0019]～[0026]段、國際公開第2012/081680號的[0041]～[0057]段及國際公開第2018/179370號的[0029]～[0040]段中所記載之偽支撐體，該等公報中所記載之內容被編入本說明書中。

從施加操作性之觀點考慮，可以在偽支撐體的表面設置包含微小的粒子之層（潤滑劑層）。潤滑劑層可以設置於偽支撐體的單面，亦可以設置於兩面。潤滑劑層中所包含之粒子的直徑為0.05～0.8μm為較佳。 又，潤滑劑層的膜厚為0.05～1.0μm為較佳。

（感光性層） 轉印膜具有配置於偽支撐體上之感光性層。 轉印膜所具有之感光性層只要為含有感光性樹脂並且未曝光積層體所具備之感光性層的厚度為5.0μm以上之層，則並無特別限制。 感光性層可以為含有正型感光性樹脂之正型感光性層，亦可以為含有負型感光性樹脂之負型感光性層。作為感光性層，從使用顯影液之去除處理更容易之觀點考慮，正型感光性層為較佳。 轉印膜所具有之感光性層的厚度為5.0～100μm為較佳，5.0～30.0μm為更佳。對感光性層的厚度的測量方法進行後述。

作為感光性層的形成方法並無特別限制，例如可舉出將感光性樹脂組成物塗佈於偽支撐體上並乾燥來形成感光性層之方法。藉此，能夠製造具有偽支撐體及形成於偽支撐體上之感光性層之轉印膜。

作為將感光性樹脂組成物塗佈於偽支撐體之方法，例如可舉出狹縫塗佈法、噴塗法、輥塗法、旋轉塗佈法、流延塗佈法、狹縫旋塗法及噴墨法等公知的方法。進而，可以適用如日本特開2009-145395號公報中所記載之所謂之預濕法。 作為乾燥感光性樹脂組成物的塗佈膜之方法，例如可舉出藉由加熱和/或減壓從塗佈膜去除溶劑並且在偽支撐體上形成感光性層之方法。加熱條件依據感光性樹脂組成物的組成及感光性層的厚度適當變更，例如在70～130℃下為30～300秒鐘左右。

作為感光性層中所包含之各成分，可舉出亦包括較佳的態樣在內，作為後述之感光性樹脂組成物中所包含之除了溶劑以外的各成分記載之化合物。又，關於感光性層的組成（各成分的含量）亦相同，能夠參閱相對於感光性樹脂組成物的總固體成分之各成分的含量。

（著色層） 轉印膜可以具有配置於感光性層上之著色層。 當轉印膜具有著色層之情況下，著色層為含有著色劑之層則並無特別限制。

除了著色劑以外，著色層還含有感光性樹脂為較佳。 著色層可以為包含正型感光性樹脂之正型感光性層，亦可以為包含負型感光性樹脂之負型感光性層。又，著色層可以為包含鹼可溶性樹脂之鹼溶性層。 著色層為正型感光性層或鹼溶性層為較佳，正型感光性層為更佳。

作為著色層的形成方法，並無特別限制，例如可舉出將含有著色劑及感光性樹脂之著色層形成用樹脂組成物塗佈於偽支撐體上所形成之感光性層的表面並乾燥來形成著色層之方法。藉此，能夠製造具有偽支撐體、形成於偽支撐體上之感光性層及形成於感光性層上之著色層之轉印膜。

將著色層形成用樹脂組成物塗佈於感光性層上之方法及乾燥所獲得之塗佈膜之方法並無特別限制，能夠按照在上述偽支撐體上形成感光性層之方法進行。

作為著色層中所包含之成分，可舉出亦包括較佳的態樣在內，作為後述之著色層形成用樹脂組成物中所包含之除了溶劑以外的各成分記載之化合物。又，關於著色層中所包含之各成分的含量亦相同，能夠參閱相對於著色層形成用樹脂組成物的總固體成分之各成分的含量。

（保護層） 轉印膜可以具有保護層，在具有感光性層或著色層之情況下，前述保護層用於保護著色層。 當轉印膜具有保護層之情況下，保護層在進行下述層壓處理之前從轉印膜剝離。 保護層為樹脂薄膜為較佳，能夠使用具有耐熱性及耐溶劑性之樹脂薄膜，例如可舉出聚丙烯薄膜及聚乙烯薄膜等聚烯烴薄膜及聚對酞酸乙二酯薄膜等聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜以及聚苯乙烯薄膜。又，作為保護層，亦可以使用由與上述偽支撐體相同的材料構成之樹脂薄膜。 其中，作為保護層，聚烯烴薄膜為較佳，聚丙烯薄膜或聚乙烯薄膜為更佳，聚乙烯薄膜為進一步較佳。

保護層的厚度並無特別限制，從機械強度優異之觀點考慮，1μm以上為較佳，從相對廉價之觀點考慮，100μm以下為較佳。保護層的厚度為5～50μm為更佳，5～40μm為進一步較佳，15～30μm為特佳。

又，保護層中，保護層中所包含之直徑80μm以上的魚眼數為5個/m ²以下為較佳。 另外，“魚眼”係指將材料熱熔融、混練、擠出並且藉由雙軸拉伸及澆鑄法等方法製造薄膜時材料的雜質、未溶解物及氧化劣化物等摻入薄膜中者。

保護層中所包含之直徑3μm以上的粒子的數量為30個/mm ²以下為較佳，10個/mm ²以下為更佳，5個/mm ²以下為進一步較佳。 藉此，能夠抑制因保護層中所包含之粒子而引起之凹凸轉印到感光性層或著色層而產生之缺陷。

從賦予捲繞性之觀點考慮，保護層的與和感光性層或著色層接觸之表面相反的一側的表面的算術平均粗糙度Ra為0.01μm以上為較佳，0.02μm以上為更佳，0.03μm以上為進一步較佳。上限並無特別限制，小於0.50μm為較佳，0.40μm以下為更佳，0.30μm以下為進一步較佳。 從轉印時的缺陷抑制的觀點考慮，保護層的與感光性層或著色層接觸之表面的表面粗糙度Ra為0.01μm以上為較佳，0.02μm以上為更佳，0.03μm以上為進一步較佳。上限並無特別限制，小於0.50μm為較佳，0.40μm以下為更佳，0.30μm以下為進一步較佳。

＜層壓處理＞ 作為積層體準備步驟，藉由使用上述轉印膜進行層壓處理來製作未曝光積層體為較佳。 其中，藉由對具有偽支撐體及感光性層之轉印膜及具有著色層之支撐體進行層壓處理以使感光性層及著色層彼此接觸之步驟或對依序具有偽支撐體、感光性層及著色層之轉印膜及支撐體進行層壓以使支撐體及著色層彼此接觸之步驟製作未曝光積層體為更佳。

使轉印膜與支撐體或附著色層之支撐體貼合之層壓處理能夠使用真空層壓機及自動切割層壓機等公知的層壓機來進行。 作為層壓條件，例如可舉出以下條件。 作為層壓溫度並無特別限制，80～150℃為較佳，90～150℃為更佳，100～150℃為進一步較佳。當使用具備橡膠輥之層壓機之情況下，層壓溫度係指橡膠輥溫度。 層壓時的基板溫度並無特別限制。作為層壓時的基板溫度，可舉出10～150℃，20～150℃為較佳，30～150℃為更佳。當作為基板使用樹脂基板之情況下，作為層壓時的基板溫度，10～80℃為較佳，20～60℃為更佳，30～50℃為進一步較佳。 又，作為層壓時的線壓並無特別限制，0.5～20N/cm為較佳，1～10N/cm為更佳，1～5N/cm為進一步較佳。 又，作為層壓時的傳送速度（層壓速度），0.5～5m/分鐘為較佳，1.5～3m/分鐘為更佳。

（支撐體） 藉由積層體準備步驟製作之未曝光積層體具備支撐體為較佳。藉由上述層壓處理使轉印膜與包含支撐體之對象物貼合來製作具備支撐體之未曝光積層體。 作為支撐體並無特別限制，能夠使用公知的基材，例如可舉出作為上述偽支撐體記載之薄膜（更佳為樹脂薄膜）、玻璃基板、陶瓷基板、金屬基板、半導體基板及具備LED元件之基板。 又，依據需要，支撐體可以具有配線、絕緣層、透光抑制層、不透光層及保護層等在LED顯示器等顯示裝置中公知的結構。又，支撐體的厚度並無特別限制，能夠依據所期望適當設定。

-附著色層之支撐體- 層壓處理中，當使用具有偽支撐體及感光性層且不具有著色層之轉印膜之情況下，能夠使用具有上述支撐體及配置於支撐體上之著色層之附著色層之支撐體製造依序具備偽支撐體、感光性層、著色層及支撐體之未曝光積層體。

製作附著色層之支撐體之方法並無特別限制，例如可舉出將含有上述著色劑及感光性樹脂之著色層形成用樹脂組成物塗佈於支撐體上並乾燥來形成著色層之方法。 將著色層形成用樹脂組成物塗佈於支撐體上並乾燥來形成著色層之方法並無特別限制，能夠按照在上述偽支撐體上形成感光性層之方法進行。 關於構成附著色層之支撐體之著色層的含有成分及組成，亦包括其較佳的態樣在內，如作為上述轉印膜可以具有之著色層已經說明的那樣。

積層體準備步驟可以為除了使用上述轉印膜之方法以外的方法。 作為這種方法，例如可舉出將著色層形成用樹脂組成物塗佈於支撐體上並乾燥來形成著色層之後將感光性樹脂組成物塗佈於所形成之著色層上並乾燥來形成感光性層之方法。

＜未曝光積層體＞ 藉由積層體準備步驟製作之提供於曝光步驟之未曝光積層體為具有著色層及感光性層之積層體則並無特別限制，藉由使用上述轉印膜之層壓處理製作之具有由偽支撐體/感光性層/著色層/支撐體構成之層構成之積層體為較佳。

未曝光積層體具備厚度為5.0μm以上之感光性層。未曝光積層體所具備之感光性層的厚度為5.0～100μm為較佳，5.0～30.0μm為更佳。 感光性層的厚度藉由以下的方法來測量。 首先，在未曝光積層體的感光性層側的表面上藉由進行30秒鐘濺鍍法來形成鉑（platinum）塗層。接著，使用掃描型電子顯微鏡（SEM：Scanning Electron Microscope）（例如JEOL Ltd.製造JSM-7200型FE-SEM）觀察沿著厚度方向切斷具有鉑塗層之積層體而獲得之截面。觀察圖像中，測量10個部位以上感光性層的厚度，計算所獲得之測量值的平均值，藉此求出感光性層的厚度。另外，積層體（未曝光積層體及製造後的積層體）所具備之各層的厚度亦能夠藉由上述方法來測量。

未曝光積層體所具備之感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.5以下為較佳，0.1以下為更佳。下限並無特別限制，多為0.001以上。 感光性層的光學濃度藉由使用UV分光光度計（例如Shimadzu Corporation製造、型號“UV-1800”）測量感光性層在波長550nm下的透過率並且換算成光學濃度來求出。 關於未曝光積層體所具備之除了感光性層的厚度及光學濃度以外的特徵，亦包括其較佳的態樣在內，如關於上述轉印膜所具有之感光性層已經說明的那樣。

未曝光積層體具備著色層。 著色層的厚度並無特別限制，2.0～100μm為較佳，5.0～30.0μm為更佳。 又，未曝光積層體所具備之著色層在400～700nm的波長區域中的光學濃度為1.0～6.0為較佳，1.8～3.0為更佳。著色層的光學濃度按照作為求出上述感光性層的光學濃度之方法記載之方法來求出。 上述著色層的光學濃度為依據ISO Visual（視覺）基準在400～700nm的波長區域測量之透過光學濃度。作為著色層的光學濃度的測量裝置，例如可舉出X-Rite 361T（V）（SAKATA INX CORPORATION製造）。 關於未曝光積層體所具備之除了著色層的厚度及光學濃度以外的特徵，亦包括其較佳的態樣在內，可以與上述轉印膜可以具有之著色層相同。

未曝光積層體具備保護感光性層之保護膜為較佳，作為保護膜具備偽支撐體為更佳。未曝光積層體具備偽支撐體時的偽支撐體亦包括其較佳的態樣在內，可以與上述轉印膜所具有之偽支撐體相同。 又，未曝光積層體在著色層側的表面具備支撐體為較佳。未曝光積層體具備支撐體時的支撐體亦包括其較佳的態樣在內，可以與上述層壓處理中作為貼合轉印膜之對象物說明之支撐體相同。

〔曝光步驟〕 曝光步驟為使用遮罩對未曝光積層體所具有之感光性層照射光使其曝光之步驟。藉由曝光步驟，感光性層以圖案狀、亦即以存在曝光部及非曝光部之方式進行曝光（以下，在本說明書中亦稱為“圖案曝光”。）。

當感光性層為包含正型感光性樹脂之正型感光性層之情況下，藉由圖案曝光感光性層，在曝光部中光酸產生劑分解而產生酸，藉由所產生之酸的作用提高曝光部在鹼水溶液中之溶解性。藉此，之後的顯影步驟中曝光部被去除（溶解），顯影步驟後在對應於曝光部之位置形成開口部。 尤其當正型感光性樹脂組成物為化學增幅型正型感光性樹脂組成物之情況下，感光性層的曝光部中所包含之酸分解性基被加水分解，產生羧基及酚性羥基等酸基。藉此，更進一步提高之後的顯影步驟中的曝光部在鹼水溶液中之溶解性。

曝光步驟中照射之曝光用光的波長並無特別限制，例如可舉出g射線（436nm）、i射線（365nm）及h射線（405nm）等具有300～450nm的波長之光。其中，照射具有365nm的波長之光為較佳。 作為曝光步驟中所使用之光源，例如可舉出各種雷射、發光二極體（LED）、超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈及金屬鹵化物燈。又，依據需要，亦可以通過長波長截止濾波器、短波長截止濾波器及帶通濾波器等分光濾波器調節照射光的波長。

曝光方式可舉出使曝光對象物與遮罩接觸而進行曝光之接觸式曝光方式以及不使曝光對象物與遮罩接觸而進行曝光之非接觸曝光方式之接近式曝光及投影曝光。上述曝光方式中，接近式曝光方式為在遮罩與曝光對象物（未曝光積層體）之間設置間隙而進行曝光之非接觸的曝光方式。 作為曝光方式，從能夠將遮罩及未曝光積層體的損傷及污染以及附著於遮罩之雜質對曝光的影響抑制得較低之觀點考慮，未曝光積層體不與遮罩接觸的非接觸的曝光方式為較佳。又，從曝光面積寬且生產效率高的觀點考慮，接觸式曝光方式或接近式曝光方式為較佳。

曝光步驟中，感光性層的遮罩側的表面與遮罩的距離為300μm以下為較佳，200μm以下為更佳。下限值並無特別限制，遮罩與感光性層可以接觸，但10μm以上為較佳，20μm以上為更佳。 曝光步驟中，作為形成上述間隙之情況，可舉出藉由接近式曝光方式曝光之情況及為接觸式曝光方式且未曝光積層體在感光性層的與著色層側的表面相反的一側的表面具有支撐體之情況。 又，曝光步驟中，藉由接近式曝光方式曝光之情況下，遮罩與未曝光積層體的表面的距離（以下，亦簡稱為“間隙”。）為10～200μm為較佳，20～50μm為更佳。

當未曝光積層體具有藉由使用上述轉印膜之層壓處理獲得之由偽支撐體/感光性層/著色層/支撐體構成之層構成之情況下，可以從該未曝光積層體剝離偽支撐體之後進行曝光步驟，亦可以以保護感光性層之目的經由偽支撐體曝光感光性層之後從積層體剝離偽支撐體。 為了防止因感光性層與遮罩的接觸而引起之污染及避免附著於遮罩之雜質對曝光的影響，曝光步驟中藉由接觸方式進行曝光之情況下經由保護膜曝光感光性層為較佳。當保護膜為偽支撐體之情況下，在藉由接觸方式的曝光步驟之後且顯影步驟之前進行從感光性層剝離設置於感光性層的與著色層側的表面相反的一側的表面之偽支撐體之步驟為較佳。

＜週期圖案＞ 曝光步驟中所使用之遮罩具有包含以形成間隙為12.0μm以下之週期結構的方式配置之開口部之週期圖案。

本發明人進行深入研究之結果，發現了在具有對具備著色層及感光性層之積層體使用遮罩而進行曝光之曝光步驟及顯影步驟之積層體之製造方法中，將感光性層的厚度設為5.0μm以上，並且使用具有間隙為12.0μm以下之週期圖案之遮罩，藉此獲得表面反射率低並且明度低的積層體。 藉由本發明之製造方法，獲得上述效果之詳細的機制等雖不明確，但是本發明人推測，在本發明之製造方法中，通過間隙為12.0μm以下之窄的週期圖案曝光具有5.0μm以上的厚度之感光性層，藉此產生在感光性層的內部通過繞射光柵之複數個1次繞射光發生干涉而產生週期性光強度分佈之類似於塔爾博特（Talbot）效應之現象之結果，在顯影後的感光性層上形成微細的圖案結構，將積層體的表面反射率及明度這兩者抑制得較低。

以下，參閱圖式對在本製造方法中所使用之遮罩所具有之週期圖案進行詳細說明。

圖1係表示在本製造方法的曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的一例之概略圖。 在圖1所示之週期圖案10中，複數個開口部12隔著既定間隔週期性排列，藉此形成有間隙p的週期結構。週期圖案10為正方形開口部12彼此交錯地配置之所謂之格子圖案，並且具有開口部12沿著在面內正交之2個方向週期性排列之二維週期結構。 本說明書中，“週期結構”係指沿著面內的至少1個方向形成之由凹凸形狀構成之重複結構。又，本說明書中，“間隙”係指週期圖案所具有之週期結構的週期。

圖1所示之週期圖案10所具有之週期結構的間隙p為12.0μm以下。 例如，如圖1所示，複數個開口部為沿著面內的不同之2個方向週期性排列而成之二維週期結構的情況下，週期圖案的間隙係指沿著開口部週期性排列之方向（以下，亦稱為“排列方向”）之直線上的開口部的大小與開口部之間（遮光部）的距離的總計。例如，開口部為圓形之情況下，間隙為開口部的直徑與相鄰之開口部之間的間隔之和。另外，依據排列方向間隙不同之情況下，遮罩滿足在至少1個排列方向上週期結構的間隙為12.0μm以下之條件。 又，週期圖案為細的帶狀開口部沿著面內的1個方向排列而成之線與空間圖案之情況下，週期圖案的間隙為開口部的寬度與相鄰之開口部之間的間隔之和。 從完成品的感光性層成為反射率低的形狀（表面平坦部少的形狀）之觀點考慮，週期圖案的間隙為0.10～12.0μm為較佳，0.8～10.0μm為更佳，0.8～5.0μm為進一步較佳，0.8～2.4μm為特佳。

遮罩所具有之週期圖案的結構為由開口部與除了開口部以外的區域（遮光部）構成之凹凸形狀以12μm以下的間隙週期性排列而成之結構，則並無特別限制，開口部的形狀及配置等的構成能夠任意選擇。週期圖案所具有之開口部可以全部具有相同的形狀，亦可以為形狀不同之2種以上的開口部。 圖2～圖6中示出本製造方法的曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的另一例。另外，在後述之實施例中對該等週期圖案的詳細的結構進行說明。

如上述，週期圖案可以為在遮罩的面內存在不同之2個排列方向之二維週期結構，亦可以為在遮罩的面內僅存在1個排列方向之一維週期結構（線與空間圖案），但是從反射率低的觀點考慮，具有二維週期結構為較佳。

週期圖案具有二維週期結構時的開口部的形狀並無特別限制，例如可舉出多邊形、圓形、橢圓形、十字狀、帶狀及該等的組合，多邊形或圓形為較佳。 開口部的尺寸並無特別限制，6.0μm以下為較佳，2.4μm以下為更佳。下限值並無特別限制，但是從製造適性的觀點考慮，0.4μm以上為較佳。又，開口部的尺寸與間隙的比率（開口部的尺寸：間隙）為0.4:6.0～6.0:0.4為較佳，1.2:4.8～4.8:1.2為更佳。另外，本說明書中，開口部的尺寸係指沿著排列方向之直線與開口部重複之區間的長度。

當週期圖案為線與空間圖案之情況下，開口部的寬度（空間）為2.0～6.0μm為較佳。又，開口部之間的間隔（線）與開口部的寬度（空間）的比率（線:空間）為0.4:6.0～6.0:0.4為較佳。

又，開口部的總計面積與週期圖案的總面積之比率（開口率）為20～80%為較佳，40～60%為更佳。

遮罩可以具有與上述週期圖案不同之第2遮罩圖案。遮罩具有上述週期圖案及第2遮罩圖案，藉此能夠藉由1次的處理在感光性層形成形狀及間隙等不同之圖案結構。

第2遮罩圖案的結構並無特別限制，具有開口面積比上述週期圖案的開口部寬的開口部為較佳。 作為第2遮罩圖案所具有之開口部的形狀，例如可舉出多邊形、圓形、橢圓形、十字狀、帶狀及該等的組合，從容易配置微型LED晶片（例如1個邊為20μm的四邊形）之觀點考慮，四邊形為較佳。 第2遮罩圖案所具有之開口部的大小（最大直徑）為20～1000μm為較佳，50～200μm為更佳。

遮罩上作為第2遮罩圖案可以形成複數個開口部，亦可以藉由該等複數個開口部形成週期結構。

又，當遮罩具有第2遮罩圖案之情況下，形成有上述週期圖案之區域與形成有第2遮罩圖案之區域分開為較佳，分開50μm以上為更佳。

本製造方法中所使用之遮罩的製作方法並無特別限制，能夠從能夠形成所期望的圖案結構之公知之製造方法適當選擇。作為遮罩的具體例，可舉出在石英玻璃及鈉玻璃等玻璃基板上形成有鉻膜（遮光膜）之光罩。在玻璃基板上形成鉻層，進一步設置抗蝕劑層之後，曝光抗蝕劑層，並且進行顯影，使用該抗蝕劑層去除鉻膜，藉此能夠製作具有包含所期望的週期圖案之圖案結構之遮罩。

曝光步驟中使用上述遮罩進行曝光時的曝光用光的照射量（曝光量）並無特別限制，以藉由後述之顯影步驟在感光性層形成所期望的圖案結構的方式，依據感光性層的組成及厚度、遮罩的週期圖案以及曝光用光的波長等條件適當選擇。

從上述觀點考慮，曝光步驟中的曝光量相對於藉由下述測量方法獲得之曝光量A為10.0倍以下為較佳，8倍以下為更佳，5.0倍以下為進一步較佳。下限並無特別限制，1.2倍以上為較佳，2倍以上為更佳。 曝光量A的測量方法：準備積層體A1，其具有由聚對酞酸乙二酯構成之支撐體A及設置於支撐體A上並且具有與在積層體準備步驟中準備之未曝光積層體所具有之感光性層相同的組成且厚度為20μm之感光性層A。對上述積層體A1隔著具有50μm見方的孤立之開口部之遮罩A使用超高壓水銀燈用波長365nm的曝光用光進行接觸式曝光。接著，將上述積層體A浸漬於液溫為25℃的碳酸鈉1質量%水溶液中60秒鐘，藉此進行顯影，進一步浸漬於液溫為25℃的純水中20秒鐘之後，對上述積層體A噴射空氣，藉此獲得顯影之積層體A2。改變曝光處理中的曝光量進行複數次上述積層體A2的製作，求出在製作之積層體A2中貫通感光性層A且露出支撐體A的一部分所需的波長365nm的曝光用光的曝光量的最小值，將其設為曝光量A（單位：mJ/cm ²）。 其原因在於，藉由將曝光量設為相對於上述曝光量A之既定比率的範圍內，藉由後續顯影步驟顯影之後的感光性層中經由上述週期圖案曝光之區域中，殘留有既定厚度的感光性層，能夠較低地抑制積層體的表面反射率。

又，曝光步驟中的曝光量為5～2,000mJ/cm ²為較佳，10～1,000mJ/cm ²為更佳。

〔顯影步驟〕 顯影步驟為顯影藉由曝光步驟圖案曝光之上述感光性層之步驟。 顯影步驟中所使用之顯影液並無特別限制，能夠使用日本特開平5-072724號公報中所記載之顯影液等公知的顯影液。

作為顯影液，可舉出鹼性水溶液及有機溶劑系顯影液，鹼性水溶液為較佳。 鹼性水溶液為含有鹼性化合物之水溶液。作為鹼性化合物，例如可舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨及膽鹼（2-羥基氫氧化乙基三甲基銨）。 作為鹼性水溶液在25℃下的pH，8～13為較佳，9～12為更佳，10～12為進一步較佳。 鹼性水溶液中的鹼性化合物的含量相對於鹼性水溶液總量為0.1%～5質量%為較佳，0.1%～3質量%為更佳。

鹼水溶液可以含有對水具有混和性之有機溶劑。 作為有機溶劑，例如能夠舉出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單-正丁基醚、苄基醇、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、ε-己內酯、γ-丁內酯、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內醯胺及N-甲基吡咯啶酮。 鹼水溶液中的有機溶劑的含量相對於鹼水溶液的總質量為0.1～30質量%為較佳。 顯影液可以含有公知的界面活性劑。界面活性劑的濃度為0.01～10質量%為較佳。

作為顯影的方式，例如可舉出浸漬顯影、噴淋顯影、噴淋及旋轉顯影以及旋覆浸沒顯影等方式。 在浸漬顯影中，藉由將具備圖案曝光後的感光性層之積層體浸漬於顯影液，去除對象部被去除。在噴淋顯影中，藉由對圖案曝光後的感光性層以噴淋狀噴射顯影液，去除對象部被去除。 顯影液的液體溫度為20～40℃為較佳。浸漬顯影中的浸漬時間為10～120秒鐘為較佳。

顯影步驟之後進行清洗步驟為較佳。 清洗步驟為藉由進行浸漬和/或噴射等處理使清洗液與顯影後的感光性層接觸並且依據需要用刷子擦拭來去除顯影殘渣之步驟。 作為清洗液，例如可舉出水及有機溶劑。

顯影步驟之後，亦可以進行對具有實施上述顯影步驟之感光性層之積層體進行加熱處理（以下，亦稱為“後烘烤”）之步驟。 當積層體作為偽支撐體和/或支撐體具備樹脂薄膜之情況下，後烘烤的溫度為100～160℃為較佳，130～160℃為更佳。

顯影步驟之後，亦可以進行對具有實施上述顯影步驟之感光性層之積層體進行曝光（以下，亦稱為“後曝光”。）之步驟。 當顯影步驟之後進行後曝光及後烘烤這兩者之情況下，依序實施後曝光及後烘烤為較佳。

關於曝光步驟及顯影步驟，例如能夠參閱日本特開2006-023696號公報的0035～0051段的記載，該記載被編入本說明書中。

積層體之製造方法可以包括除了上述之步驟以外的其他步驟。作為其他步驟，能夠無特別限制地適用光微影步驟中能夠實施之公知的步驟。

〔製造後的積層體〕 ＜圖案結構A1＞ 藉由包括上述曝光步驟及顯影步驟之本製造方法製造之積層體具備著色層及感光性層，在感光性層形成有對應於遮罩所具有之週期圖案之圖案結構A1。

本說明書中，形成於感光性層或著色層之圖案結構“對應於”遮罩所具有之遮罩圖案係指，沿著上述曝光步驟中的曝光用光的照射方向觀察積層體及遮罩時，該圖案結構為形成於與形成有遮罩圖案之區域重複之區域之結構。

圖案結構A1如已說明那樣具有藉由具有通過具有既定間隙之週期圖案進行曝光之曝光步驟及顯影步驟之本製造方法來形成之微細的凹凸形狀，並且具有將製造後的積層體的表面反射率及明度抑制得較低之功能。

圖案結構A1可以僅形成於上述感光性層的表面的一部分，亦可以形成於整個表面。 作為圖案結構A1，例如可舉出沿著面內的至少1個方向週期性地排列有突起或開口之週期結構。這種週期結構所具有之突起或開口的形狀並無特別限制，例如可舉出稜柱形狀、圓柱形狀、稜錐形狀、圓錐形狀、稜錐台形狀、圓錐台形狀及不規則形狀。 形成於感光性層的表面之圖案結構A1可以僅具有具備相同形狀之突起或開口，亦可以具有選自包括不同之形狀的突起及開口之群組中之2個以上。

從抑制正規反射率的觀點考慮，圖案結構A1的高度為0.5～50μm為較佳，1.0～20μm為更佳。又，從低反射的觀點考慮，圖案結構A1的週期結構的縱橫比為2.0以上為較佳。在此，圖案結構A1的週期結構的縱橫比係指圖案結構A1的高度與圖案結構A1的週期結構所具有之開口或突起的寬度之比率（高度/開口或突起的寬度）。 圖案結構A1的高度為藉由圖案結構A1形成之凹凸形狀的厚度方向上的高低差的最大值，作為形成有圖案結構A1之區域中的感光性層的厚度的最大值與最小值的差量來求出。

從抑制正規反射率的觀點考慮，圖案結構A1的間隙為0.4～12.0μm為較佳，0.8～10.0μm為更佳。 又，圖案結構A1的間隙相對於遮罩的週期圖案的間隙為25～75%為較佳，40～60%為更佳。 圖案結構A1的間隙為圖案結構A1所具有之週期結構的週期。關於圖案結構A1的間隙，選擇圖案結構A1中週期性排列之突起或開口，並且作為該突起或開口的中央部之間的距離（不包括厚度方向的成分）而求出。

從抑制表面反射率的觀點考慮，在形成有圖案結構A1之區域內不貫通感光性層（不存在感光性層的厚度為0之區域）為較佳。其中，形成有圖案結構A1之區域中的感光性層的厚度的最小值相對於曝光前的感光性層的厚度為5%以上為更佳，25%以上為進一步較佳。上限並無特別限制，相對於曝光前的感光性層的厚度為70%以下為較佳，50%以下為更佳。

感光性層的圖案結構A1的厚度、高度及間隙依據上述未曝光積層體的感光性層的厚度的測量方法觀察具有鉑塗層之製造後的積層體的表面及與厚度方向垂直的截面，從所獲得之觀察圖像測量10個部位以上形成有圖案結構A1之區域的感光性層的厚度及間隙，計算測量值的平均值，藉此求出圖案結構A1的厚度、高度及間隙。

＜圖案結構A2＞ 製造後的積層體所具備之感光性層可以具有對應於遮罩的第2遮罩圖案之圖案結構A2。 本製造方法中，當使用具有與週期圖案不同之第2遮罩圖案之遮罩之情況下，製造後的積層體所具備之感光性層上形成對應於第2遮罩圖案之圖案結構A2。

作為圖案結構A2，具有個數與第2遮罩圖案所具有之開口部相同且形狀亦類似之開口為較佳。 又，當第2遮罩圖案具有週期結構之情況下，圖案結構A2的間隙與第2遮罩圖案的間隙近似為較佳。更具體而言，圖案結構A2的間隙相對於第2遮罩圖案的間隙為95～105%為較佳，98～102%為更佳。

又，藉由顯影步驟形成有圖案結構A2之結果，在圖案結構A2中的至少一部分中貫通感光性層之態樣為較佳。顯影步驟中，藉由在圖案結構A2形成貫通感光性層之開口，能夠使用顯影液去除配置於下層之著色層。

圖案結構A2所具有之開口部的形狀為與第2遮罩圖案所具有之開口部的形狀相似的形狀，例如可舉出多邊形、圓形、橢圓形、十字狀、帶狀及該等的組合，從容易配置微型LED晶片之觀點考慮，四邊形為較佳。 圖案結構A2所具有之開口的大小（最大直徑）為20～200μm為較佳，50～100μm為更佳。又，圖案結構A2所具有之開口的大小相對於第2遮罩圖案所具有之開口部的大小為95～105%為較佳，98～102%為更佳。

＜著色層＞ 作為製造後的積層體所具備之著色層並無特別限制，從將表面反射率及明度抑制得較低之觀點考慮，不具有對應於遮罩所具有之週期圖案之圖案結構為較佳。亦即，藉由顯影步驟在形成有圖案結構A1之區域內不貫通感光性層為較佳。

製造後的積層體所具備之著色層依據目的亦可以具有對應於遮罩所具有之第2遮罩圖案之圖案結構B2。 本製造方法中，當藉由使用具有第2遮罩圖案之遮罩在感光性層上形成之圖案結構A2中的至少一部分中貫通感光性層之情況下，藉由顯影步驟在著色層形成上述圖案結構B2。

圖案結構B2具有個數與第2遮罩圖案所具有之開口部相同的開口為較佳。又，從製造後的積層體的厚度方向觀察時的圖案結構B2所具有之開口的形狀與第2遮罩圖案所具有之開口部的形狀類似為較佳。 又，當第2遮罩圖案具有週期結構之情況下，圖案結構B2的間隙與第2遮罩圖案的間隙近似為較佳。更具體而言，圖案結構B2的間隙相對於第2遮罩圖案的間隙為95～105%為較佳，98～102%為更佳。

又，藉由顯影步驟形成有圖案結構B2之結果，在圖案結構B2中的至少一部分中貫通著色層之態樣為較佳。顯影步驟中，藉由在圖案結構B2形成貫通著色層之開口，能夠使用顯影液對微型LED等發光元件去除配置於下層之著色層。

圖案結構B2所具有之開口部的形狀為與第2遮罩圖案所具有之開口部的形狀相似的形狀則並無特別限制，例如可舉出多邊形、圓形、橢圓形、十字狀、帶狀及該等的組合，四邊形為較佳。 關於圖案結構B2所具有之開口的大小，開口的離感光性層最遠之位置（下底）的大小（最大直徑）為10～200μm為較佳，20～100μm為更佳。又，圖案結構B2所具有之開口的下底的大小相對於第2遮罩圖案所具有之開口部的大小為90～110%為較佳，95～105%為更佳。

＜支撐體＞ 製造後的積層體具備支撐體為較佳。關於製造後的積層體所具備之支撐體，作為上述未曝光積層體所具備之支撐體如已說明那樣。

製造後的積層體可以具有除了感光性層、著色層及支撐體以外的其他層及結構。 作為其他層及結構，可舉出LED顯示器等顯示裝置及轉印構件中所使用之公知的層及結構。 積層體可以在感光性層上具有用於保護週期結構之保護層。作為保護層的材質並無特別限制，能夠使用公知的樹脂及其硬化物。 積層體可以在保護層與感光性層之間具有接著層。作為接著層的材質，能夠使用公知的接著劑及黏著劑。

＜物性等＞ （表面反射率） 從防反射性及用於顯示裝置時的顯示內容的可見性的觀點考慮，包含製造後的積層體的感光性層側的正規反射率之全反射率（SCI：Specular Component Include）及除了正規反射率之外的漫反射率（SCE：Specular Component Exclude）均為4.0%以下為較佳，2.0%以下為更佳，1.0%以下為進一步較佳。 SCI及SCE的下限值並無特別限制，可以為0.0%。

作為製造後的積層體的感光性層側的SCI及SCE的測量方法，可舉出使用分光測色計（例如Konica Minolta, Inc.製造“CM-700D”）從感光性層側的表面進行測量之方法。SCI及SCE的測量中，作為表面反射率的代表值將波長550nm下的測量值設為SCI及SCE的值。

（明度） 從防反射性及用於顯示裝置時的顯示內容的可見性的觀點考慮，製造後的積層體的感光性層側的明度L ^*為20以下為較佳，10以下為更佳，5以下為進一步較佳。明度L ^*的下限值並無特別限制，可以為0。 明度L ^*為藉由國際照明委員會（CIE）規定之L ^*a ^*b ^*色空間中的明度L ^*。

作為求出製造後的積層體的感光性層側的明度L ^*之方法，可舉出使用分光測色計（例如Konica Minolta, Inc.製造“CM-700D”）所具備之CIE標準光源D65測量來自感光性層側的表面之SCI或SCE並且依據所獲得之測量值計算之方法。在明度L ^*的測量中，360～740nm的波長範圍內以10nm刻度進行SCI及SCE的測量。依據SCI及SCE計算之明度L ^*均滿足上述範圍為較佳。

〔感光性樹脂組成物〕 以下，對用於形成感光性層之感光性樹脂組成物進行說明。 作為感光性樹脂組成物，可舉出包含正型感光性樹脂之正型感光性樹脂組成物及包含負型感光性樹脂之負型感光性樹脂組成物，正型感光性樹脂組成物為較佳。

＜正型感光性樹脂組成物＞ 作為正型感光性樹脂組成物，能夠從公知的正型感光性樹脂組成物適當選擇，並無特別限制。 作為正型感光性樹脂組成物，例如可舉出含有聚合物成分、光酸產生劑及溶劑之組成物。聚合物成分含有包含具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元之聚合物為較佳。

作為正型感光性樹脂組成物，含有包含具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元之聚合物及光酸產生劑之化學增幅型正型感光性樹脂組成物為較佳。 光酸產生劑中，與活性光線感應而產生之酸對於聚合物成分中的被保護之酸基的脫保護作為觸媒而發揮作用，因此藉由1個光量子的作用而產生之酸有助於多個脫保護反應，量子產率大於1，例如成為如10數次方那樣的較大的值，作為所謂之化學增幅的結果，可獲得高靈敏度。

（聚合物成分） 聚合物成分含有包含具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元之聚合物為較佳，含有滿足下述（1）及（2）中的至少一個之聚合物為更佳。 （1）包含具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元（構成單元（a1））及具有交聯性基之構成單元（構成單元（a2））之聚合物 （2）具有構成單元（a1）之聚合物及具有構成單元（a2）之聚合物 從硬化後的透明性（霧度）及未曝光部的殘膜率的觀點考慮，上述（1）為較佳，從分子設計的自由度的觀點考慮，上述（2）為較佳。

作為聚合物成分，加成聚合型樹脂為較佳，包含來自於（甲基）丙烯酸和/或其酯之構成單元之聚合物為更佳。另外，亦可以具有除了來自於（甲基）丙烯酸和/或其酯之構成單元以外的構成單元（例如來自於苯乙烯之構成單元及來自於乙烯基化合物之構成單元等）。 另外，將“來自於（甲基）丙烯酸和/或其酯之構成單元”亦稱為“丙烯酸系構成單元”。又，“（甲基）丙烯酸”係指“甲基丙烯酸和/或丙烯酸”。

聚合物成分含有至少包含（a1）具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元之聚合物為較佳。藉由聚合物成分含有包含構成單元（a1）之聚合物，能夠製成靈敏度極高的感光性樹脂組成物。 “酸基被酸分解性基保護之基團”中，作為酸基及酸分解性基能夠使用公知者，並無特別限定。作為具體的酸基，可較佳地舉出羧基及酚性羥基。又，作為酸分解性基，能夠使用藉由酸相對容易分解之基團（例如由後述之式（a1-10）等表示之基團、四氫吡喃基或四氫呋喃基等縮醛系官能基）以及藉由酸相對難以分解之基團（例如三級丁基等三級烷基、三級丁基碳酸酯基等三級烷基碳酸酯基）。

-具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元（構成單元（a1））- 構成單元（a1）為具有羧基被酸分解性基保護之保護羧基之構成單元或具有酚性羥基經酸分解性基保護之保護酚性羥基之構成單元為較佳。 以下，分別對具有被酸分解性基保護之保護羧基之構成單元（構成單元（a1-1））及具有經酸分解性基保護之保護酚性羥基之構成單元（構成單元（a1-2））進行說明。

作為具有構成單元（a1-1）中的羧基之構成單元並無特別限制，例如可舉出來自於不飽和單羧酸、不飽和二羧酸、不飽和三羧酸等在分子中具有至少1個羧基之不飽和羧酸等之構成單元（構成單元（a1-1-1））及同時具有乙烯性不飽和基及來自於酸酐之結構之構成單元（構成單元（a1-1-2））。

作為構成單元（a1-1-1）的不飽和羧酸，例如可舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸、2-（甲基）丙烯醯氧基乙基琥珀酸、2-（甲基）丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸及2-（甲基）丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸。又，作為不飽和二羧酸，例如可舉出順丁烯二酸、反丁烯二酸、衣康酸、檸檬酸及中康酸。不飽和多元羧酸可以為其酸酐。具體而言，可舉出順丁烯二酸酐、衣康酸酐及檸檬酸酐。 又，不飽和羧酸可以為多元羧酸的單（2-（甲基）丙烯醯氧基烷基）酯，例如可舉出丁二酸單（2-丙烯醯氧基乙基）酯、丁二酸單（2-甲基丙烯醯乙基）酯、鄰苯二甲酸單（2-丙烯醯氧基乙基）酯及鄰苯二甲酸單（2-甲基丙烯醯乙基）酯。進而，不飽和多元羧酸可以為其兩個末端二羧基聚合物的單（甲基）丙烯酸酯，例如可舉出ω-羧基聚己內酯單丙烯酸酯及ω-羧基聚己內酯單甲基丙烯酸酯。又，作為不飽和羧酸，亦能夠使用丙烯酸-2-羧基乙基酯、甲基丙烯酸-2-羧基乙基酯、順丁烯二酸單烷基酯、反丁烯二酸單烷基酯及4-羧基苯乙烯。 其中，從顯影性的觀點考慮，為了形成構成單元（a1-1-1），使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2-（甲基）丙烯醯氧基乙基琥珀酸、2-（甲基）丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-（甲基）丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸或不飽和多元羧酸的無水物等為較佳，使用丙烯酸、甲基丙烯酸或2-（甲基）丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸為更佳。 構成單元（a1-1-1）可以由單獨1種構成，亦可以由2種以上構成。

構成單元（a1-1-2）為來自於使存在於具有乙烯性不飽和基之構成單元中之羥基與酸酐進行反應而獲得之單體之單元為較佳。 作為酸酐，能夠使用公知者，具體而言，可舉出順丁烯二酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐及氯橋酸酐等二質子酸酐；以及偏苯三甲酸酐、1,2,4,5-苯四甲酸酐、二苯基酮四羧酸酐及聯苯四羧酸酐等酸酐。該等之中，從顯影性的觀點考慮，鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐或琥珀酸酐為較佳。 從顯影性的觀點考慮，酸酐相對於羥基之反應率為10～100莫耳%為較佳，30～100莫耳%為更佳。

作為能夠用於構成單元（a1-1）之酸分解性基，能夠使用上述酸分解性基。 從感光性樹脂組成物的基本物性、尤其靈敏度、圖案形狀、接觸孔的形成性及感光性樹脂組成物的保存穩定性的觀點考慮，該等酸分解性基中羧基為以縮醛的形式保護之保護羧基為較佳。進而，從靈敏度的觀點考慮，酸分解性基中羧基為以由下述式（a1-10）表示之縮醛的形式保護之保護羧基為更佳。另外，當羧基為以由下述式（a1-10）表示之縮醛的形式保護之保護羧基之情況下，作為保護羧基的整體，成為-（C=O）-O-CR ¹⁰¹R ¹⁰²（OR ¹⁰³）的結構。

【化學式1】

式（a1-10）中，R ¹⁰¹及R ¹⁰²分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基，其中，R ¹⁰¹與R ¹⁰²均為氫原子之情況除外。R ¹⁰³表示烷基或芳基。R ¹⁰¹或R ¹⁰²與R ¹⁰³可以連接而形成環狀醚。

由式（a1-10）表示之自由基聚合性單體可以使用市售者，亦可以使用藉由公知的方法合成者。例如，能夠藉由日本特開2011-221494號公報的0037～0040段中所記載之合成方法來合成。

作為構成單元（a1-1）的較佳的態樣，可舉出由下述式表示之構成單元。

【化學式2】

式中，R ¹及R ²分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R ¹及R ²中的任一個表示烷基或芳基，R ³表示烷基或芳基，R ¹或R ²與R ³可以連接而形成環狀醚，R ⁴表示氫原子或甲基，X表示單鍵或伸芳基。

【化學式3】

式中，R ¹²¹表示氫原子或碳數1～4的烷基，L ¹表示羰基或伸苯基，R ¹²²～R ¹²⁸分別獨立地表示氫原子或碳數1～4的烷基。

【化學式4】

式中，R表示氫原子或甲基。

構成單元（a1-2）中，具有酚性羥基之構成單元為具有藉由在以下說明之酸分解性基保護之保護酚性羥基之構成單元。

作為具有酚性羥基之構成單元，可舉出羥基苯乙烯系構成單元及酚醛清漆系的樹脂中的構成單元，從靈敏度的觀點考慮，來自於羥基苯乙烯或α-甲基羥基苯乙烯之構成單元為較佳。又，作為具有酚性羥基之構成單元，從靈敏度的觀點考慮，由下述式（a1-20）表示之構成單元亦較佳。

【化學式5】

式（a1-20）中，R ²²⁰表示氫原子或甲基，R ²²¹表示單鍵或2價的連接基，R ²²²表示鹵素原子或碳數1～5的直鏈或支鏈狀的烷基，a表示1～5的整數，b表示0～4的整數，a+b為5以下。另外，當R ²²²存在2個以上之情況下，該等R ²²²可以彼此不同亦可以相同。 R ²²¹表示單鍵或2價的連接基。

作為能夠用於構成單元（a1-2）之酸分解性基，與能夠用於構成單元（a1-1）之酸分解性基相同地，能夠使用公知者，並無特別限定。 又，作為為了形成具有酚性羥基以縮醛的形式保護之保護酚性羥基之構成單元而使用之自由基聚合性單體，例如可舉出日本特開2011-215590號公報的0042段中所記載者等。 該等之中，從透明性的觀點考慮，4-羥基苯基甲基丙烯酸酯的1-烷氧基烷基保護體、4-羥基苯基甲基丙烯酸酯的四氫吡喃保護體為較佳。

作為酚性羥基的縮醛保護基的具體例，可舉出1-烷氧基烷基，例如能夠舉出1-乙氧基乙基、1-甲氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基、1-（2-氯乙氧基）乙基、1-（2-乙基己氧基）乙基、1-正丙氧基乙基、1-環己氧基乙基、1-（2-環己基乙氧基）乙基、1-苄氧基乙基等，該等能夠使用單獨1種或組合2種以上而使用。

為了形成構成單元（a1-2）而使用之自由基聚合性單體可以使用市售者，亦能夠使用藉由公知的方法合成者。例如，能夠藉由在酸觸媒的存在下使具有酚性羥基之化合物與乙烯醚進行反應來合成。上述合成中亦可以使具有酚性羥基之單體預先與其他單體共聚，之後在酸觸媒的存在下與乙烯醚進行反應。

作為構成單元（a1-2）的較佳的具體例，能夠例示下述構成單元，但是本發明並不限定於該等。下述具體例中，R表示氫原子或甲基。

【化學式6】

當具有構成單元（a1）之聚合物實質上不具有構成單元（a2）之情況下，構成單元（a1）在聚合物中為20～100莫耳%為較佳，30～90莫耳%為更佳。 當具有構成單元（a1）之聚合物具有下述構成單元（a2）之情況下，從靈敏度的觀點考慮，構成單元（a1）在聚合物中為3～70莫耳%為較佳，10～60莫耳%為更佳。 另外，當以莫耳比規定“結構單元”的含量之情況下，該“結構單元”的含義與“單體單元”的含義相同。又，在本發明中，該“單體單元”可以在藉由高分子反應等聚合之後被修飾。以下亦相同。

-具有交聯性基之構成單元（構成單元（a2））- 聚合物成分進一步含有具有交聯性基之構成單元（構成單元（a2））為較佳。又，當聚合物成分不具有構成單元（a2）之情況下，正型感光性樹脂組成物含有具有構成單元（a2）之聚合物為較佳。 交聯性基為藉由加熱處理引起硬化反應之基團，則並無特別限定。作為構成單元（a2），例如可舉出含有選自包括環氧基、氧雜環丁基、由-NH-CH ₂-O-R（R表示氫原子或碳數1～20的烷基。）表示之基團及乙烯性不飽和基之群組中之至少1個之構成單元，選自包括環氧基、氧雜環丁基及-由NH-CH ₂-O-R（R表示氫原子或碳數1～20的烷基。）表示之基團之群組中之至少1種為較佳。其中，正型感光性樹脂組成物中，聚合物成分包含含有環氧基及氧雜環丁基中的至少1個之構成單元為更佳。更具體而言，可舉出以下者。

聚合物成分含有如下聚合物為較佳，前述聚合物包含具有環氧基和/或氧雜環丁基之構成單元（構成單元（a2-1））作為上述構成單元（a2）。3員環的環狀醚基亦稱為環氧基，4員環的環狀醚基亦稱為氧雜環丁基。 構成單元（a2-1）在1個構成單元中具有至少1個環氧基或氧雜環丁基。構成單元（a2-1）具有總計1～3個環氧基和/或氧雜環丁基為較佳，具有總計1或2個環氧基和/或氧雜環丁基為更佳，具有1個環氧基或氧雜環丁基為進一步較佳。

作為為了形成具有環氧基之構成單元而使用之自由基聚合性單體，例如可舉出環氧丙基丙烯酸酯、環氧丙基甲基丙烯酸酯、環氧丙基α-乙基丙烯酸酯、環氧丙基α-正丙基丙烯酸酯、環氧丙基α-正丁基丙烯酸酯、3,4-環氧丁基丙烯酸酯、3,4-環氧丁基甲基丙烯酸酯、3,4-環氧環己基甲基丙烯酸酯、3,4-環氧環己基甲基甲基丙烯酸酯、3,4-環氧環己基甲基α-乙基丙烯酸酯、鄰乙烯基苄基環氧丙醚、間乙烯基苄基環氧丙醚、對乙烯基苄基環氧丙醚及日本專利第4168443號公報的0031～0035段中所記載之含有脂環式環氧骨架之化合物（該內容被編入本說明書中）。 作為為了形成具有氧雜環丁基之構成單元而使用之自由基聚合性單體，例如可舉出日本特開2001-330953號公報的0011～0016段中所記載之具有氧雜環丁基之（甲基）丙烯酸酯等，該等內容被編入本說明書中。 作為為了形成構成單元（a2-1）而使用之自由基聚合性單體，含有甲基丙烯酸酯結構之單體或含有丙烯酸酯結構之單體為較佳。

作為構成單元（a2-1）的較佳的具體例，能夠例示下述構成單元。另外，R表示氫原子或甲基。

【化學式7】

作為構成單元（a2），可舉出具有乙烯性不飽和基之構成單元（a2-2）（構成單元（a2-2））。作為構成單元（a2-2），在側鏈上具有乙烯性不飽和基之構成單元為較佳，在末端上具有乙烯性不飽和基且具有碳數3～16的側鏈之構成單元為更佳。 關於構成單元（a2-2），能夠參閱日本特開2011-215580號公報的0072～0090段的記載及日本特開2008-256974號公報的0013～0031段的記載，該等內容被編入本說明書中。

作為構成單元（a2），亦可舉出具有由-NH-CH ₂-O-R（R表示氫原子或碳數1～20的烷基。）表示之基團之構成單元（a2-3）。藉由具有構成單元（a2-3），能夠藉由緩慢的加熱處理引起硬化反應，並且能夠獲得各種特性優異之硬化膜。 作為構成單元（a2-3），可舉出由下述式（a2-30）表示之構成單元。

【化學式8】

式中，R ³¹表示氫原子或甲基，R ³²表示碳數1～20的烷基。

當具有構成單元（a2）之聚合物實質上不具有構成單元（a1）之情況下，構成單元（a2）在聚合物中為5～90莫耳%為較佳，20～80莫耳%為更佳。 當具有構成單元（a2）之聚合物具有構成單元（a1）之情況下，從耐藥品性的觀點考慮，構成單元（a2）的含量在聚合物中為3～70莫耳%為較佳，10～60莫耳%為更佳。 進而，不論任何態樣，聚合物的總構成單元中含有3～70莫耳%的構成單元（a2）為較佳，含有10～60莫耳%為更佳。若在上述數值的範圍內，則從正型感光性樹脂組成物獲得之硬化膜的透明性及耐藥品性變得良好。

-其他構成單元（a3）- 除了構成單元（a1）和/或（a2）以外，聚合物還具有該等以外的其他構成單元（a3）。亦可以由聚合物成分（1）和/或（2）含有該等構成單元。 又，亦可以含有與聚合物成分（1）或（2）不同的聚合物成分，前述聚合物成分實質上不含有構成單元（a1）及構成單元（a2）而具有其他構成單元（a3）。該情況下，上述聚合物成分的配合量在總聚合物成分中為60質量%以下為較佳。

作為其他構成單元（a3）並無特別限制，例如可舉出具有選自單環或多環的環狀烷基、直鏈狀或支鏈狀的鏈狀烷基及芳香族基中之至少1個基團之構成單元。 作為成為其他構成單元（a3）之單體並無特別限制，例如能夠舉出苯乙烯類、（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸環狀烷基酯、（甲基）丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物類、順丁烯二醯亞胺化合物類、不飽和芳香族化合物、共軛二烯系化合物、不飽和單羧酸、不飽和二羧酸、不飽和二羧酸酐及其他不飽和化合物。又，如後述，可以含有具有酸基之構成單元。成為其他構成單元（a3）之單體能夠使用單獨1種或組合2種以上而使用。

作為其他構成單元（a3），具體而言可舉出來自於苯乙烯、三級丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、羥基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙醯氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、氯苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、4-羥基苯甲酸（3-甲基丙烯醯氧基丙基）酯、（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸正丙酯、（甲基）丙烯酸異丙酯、（甲基）丙烯酸2-羥乙酯、（甲基）丙烯酸2-羥丙酯、（甲基）丙烯酸苄酯、（甲基）丙烯酸異莰酯、丙烯腈及乙二醇單乙醯氧基乙酸酯單（甲基）丙烯酸酯之構成單元。此外，可舉出日本特開2004-264623號公報的0021～0024段中所記載之化合物。

聚合物成分中所包含之聚合物含有具有酸基之構成單元作為其他構成單元（a3）為較佳。藉由聚合物具有酸基，變得容易溶於鹼性顯影液。酸基係指pKa小於10.5的質子解離性基。酸基通常使用能夠形成酸基之單體併入到聚合物而作為具有酸基之構成單元。 作為酸基，可例示羧酸基、磺醯胺基、膦酸基、磺酸基、酚性羥基、磺醯胺基、磺醯基醯亞胺基等，羧酸基和/或酚性羥基為較佳。 具有酸基之構成單元為來自於苯乙烯之構成單元、來自於乙烯基化合物之構成單元或來自於（甲基）丙烯酸和/或其酯之構成單元為更佳。例如能夠使用日本特開2012-088459號公報的0021～0023段及0029～0044段中所記載之化合物，該內容被編入本說明書中。其中，來自於對羥基苯乙烯、（甲基）丙烯酸、順丁烯二酸或順丁烯二酸酐之構成單元為較佳。

作為具有酸基之構成單元的導入方法，亦能夠導入到與（a1-1）構成單元和/或（a1-2）構成單元相同的聚合物中，亦能夠作為與（a1-1）構成單元及（a1-2）構成單元不同之聚合物的構成單元而導入。 作為該等聚合物，在側鏈上具有羧基之樹脂為較佳。例如可舉出如日本特開昭59-044615號、日本特公昭54-034327號、日本特公昭58-012577號、日本特公昭54-025957號、日本特開昭59-053836號及日本特開昭59-071048號的各公報中所記載之甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物等以及在側鏈上具有羧基之酸性纖維素衍生物、在具有羥基之聚合物上加成酸酐者等，進而作為較佳者亦可舉出在側鏈上具有（甲基）丙烯醯基之高分子聚合物。

更具體而言，可舉出（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸共聚物、（甲基）丙烯酸2-羥乙酯/（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸共聚物、日本特開平7-140654號公報中所記載之（甲基）丙烯酸2-羥丙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-甲基丙烯酸羥乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物及2-甲基丙烯酸羥乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物。 此外，能夠使用日本特開平7-207211號公報、日本特開平8-259876號公報、日本特開平10-300922號公報、日本特開平11-140144號公報、日本特開平11-174224號公報、日本特開2000-056118號公報、日本特開2003-233179號公報及日本特開2009-052020號公報中所記載之公知的高分子化合物，該等內容被編入本說明書中。 該等聚合物可以僅含有1種，亦可以含有2種以上。 具有酸基之構成單元相對於總聚合物成分為1～80莫耳%為較佳，1～50莫耳%為更佳。

聚合物的分子量以聚苯乙烯換算重量平均分子量計較佳為1,000～200,000、更佳為2,000～50,000的範圍。若在上述數值的範圍內，則各種特性良好。數量平均分子量Mn與重量平均分子量Mw之比（分散度、Mw/Mn）為1.0～5.0為較佳，1.5～3.5為更佳。

聚合物之製造方法並無特別限制，例如可舉出使用自由基聚合起始劑在有機溶劑中聚合自由基聚合性單體混合物之方法，前述自由基聚合性單體混合物含有為了形成構成單元（a1）及構成單元（a3）而使用之自由基聚合性單體。又，亦能夠藉由所謂之高分子反應來合成。

正型感光性樹脂組成物中的聚合物成分的含量相對於正型感光性樹脂組成物的總固體成分為10～99.9質量%為較佳，25～98質量%為更佳，35～95質量%為進一步較佳。另外，正型感光性樹脂組成物的固體成分量表示去除溶劑等揮發性成分之量。

（光酸產生劑） 正型感光性樹脂組成物含有光酸產生劑為較佳。作為光酸產生劑，與波長300nm以上、較佳為波長300～450nm的光化射線感應而產生酸之化合物為較佳，但是其化學結構並不受限制。又，即便是不直接與波長300nm以上的光化射線感應之光酸產生劑，只要是藉由與增感劑併用來與波長300nm以上的光化射線感應並產生酸之化合物，則能夠與增感劑組合來較佳地使用。作為光酸產生劑，產生pKa為4以下的酸之光酸產生劑為較佳，產生pKa為3以下的酸之光酸產生劑為更佳，產生pKa為2以下的酸之光酸產生劑為進一步較佳。

作為光酸產生劑的例子，可舉出三氯甲基對稱三𠯤類、鋶鹽、錪鹽、四級銨鹽類、重氮甲烷化合物、醯亞胺磺酸鹽化合物及肟磺酸鹽化合物。該等之中，從絕緣性及靈敏度的觀點考慮，肟磺酸鹽化合物為較佳。作為光酸產生劑，可舉出日本特開2011-221494號公報的0083～0088段中所記載之化合物，該記載被編入本說明書中。 該等光酸產生劑能夠單獨使用1種或組合2種以上而使用。

作為肟磺酸鹽化合物亦即具有肟磺酸鹽結構之化合物，能夠較佳地例示含有由下述式（B1）表示之肟磺酸鹽結構之化合物。

【化學式9】

式（B1）中，R ²¹表示烷基或芳基，波線部分表示與其他基團的鍵結部位。式（B1）中，任意基團亦可以經取代，R ²¹中的烷基可以為直鏈狀亦可以為支鏈狀亦可以為環狀。

作為具有肟磺酸鹽結構之化合物，可較佳地例示日本特開2011-221494號公報的0092～0171段中所記載之化合物，但是並不限於該等。

正型感光性樹脂組成物中，光酸產生劑的含量相對於正型感光性樹脂組成物的聚合物成分的總質量為0.1～10質量%為較佳，0.5～10質量%為更佳。 光酸產生劑可以使用單獨1種，亦能夠併用2種以上。

（溶劑） 正型感光性樹脂組成物含有溶劑。正型感光性樹脂組成物作為將聚合物成分、光酸產生劑等成分溶解於溶劑而成之溶液來製備為較佳。

作為正型感光性樹脂組成物中所使用之溶劑，能夠使用公知的溶劑，能夠例示乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、酯類、酮類、醯胺類及內酯類等。又，作為正型感光性樹脂組成物中所使用之溶劑的具體例，亦可舉出日本特開2011-221494號公報的0174～0178段中所記載之溶劑及日本特開2012-194290公報的0167～0168段中所記載之溶劑，該等內容被編入本說明書中。

又，依據需要，該等溶劑中亦能夠進一步添加苄基乙基醚、二己基醚、乙二醇單苯基醚乙酸酯、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄基醇、苯甲醚、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、碳酸乙二酯及碳酸丙二酯等溶劑。 該等溶劑能夠使用單獨1種或混合2種以上而使用。

若將正型感光性樹脂組成物中的總成分設為100質量份，則正型感光性樹脂組成物中的溶劑的含量為50～95質量份為較佳，60～90質量份為更佳。

（交聯劑） 依據需要，可以在正型感光性樹脂組成物中添加交聯劑。藉由添加交聯劑，能夠將藉由正型感光性樹脂組成物獲得之硬化膜製成更牢固的膜。

作為交聯劑，只要藉由熱引起交聯反應則並無限制（但是，聚合物成分除外。）。作為交聯劑，例如可舉出以下敘述之在分子內具有2個以上的環氧基或氧雜環丁基之化合物、含烷氧基甲基之交聯劑、具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵之化合物及嵌段異氰酸酯化合物。 正型感光性樹脂組成物中的交聯劑的添加量相對於正型感光性樹脂組成物的總固體成分為0.01～50質量%為較佳，0.1～30質量%為更佳。藉由在該範圍內添加，可獲得機械強度及耐溶劑性優異之硬化膜。交聯劑亦能夠併用複數種，該情況下將交聯劑全部相加來計算含量。

作為在分子內具有2個以上的環氧基之化合物的具體例，可舉出雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂及茀型環氧樹脂。 其中，雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂或茀型環氧樹脂為較佳，雙酚A型環氧樹脂或茀型環氧樹脂為更佳。

作為在分子內具有2個以上的氧雜環丁基之化合物的具體例，可舉出Aron Oxetane OXT-121、OXT-221、OX-SQ及PNOX（以上為TOAGOSEI CO.,LTD.製造）。 又，含有氧雜環丁基之化合物單獨使用或與含有環氧基之化合物混合使用為較佳。

又，作為其他交聯劑，亦能夠較佳地使用日本特開2012-008223號公報的0107～0108段中所記載之含烷氧基甲基之交聯劑及具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵之化合物。作為含烷氧基甲基之交聯劑，烷氧基甲基化甘脲為較佳。

作為交聯劑所使用之嵌段異氰酸酯化合物只要為具有嵌段異氰酸酯基之化合物則並無特別限制，但是從硬化性的觀點考慮，在1分子內具有2個以上的嵌段異氰酸酯基之化合物為較佳。 另外，嵌段異氰酸酯基為能夠藉由熱量產生異氰酸酯基之基團，例如能夠較佳地例示使封端劑與異氰酸酯基進行反應而保護異氰酸酯基之基團。又，上述嵌段異氰酸酯基為能夠藉由90℃～250℃的熱量產生異氰酸酯基之基團為較佳。 又，作為嵌段異氰酸酯化合物，其骨架並無特別限定，只要在1分子中具有2個異氰酸酯基則可以為任何一種化合物，亦可以為脂肪族、脂環族或芳香族的聚異氰酸酯，例如能夠較佳地使用2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、1,3-三亞甲基二異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,9-九亞甲基二異氰酸酯、1,10-十亞甲基二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、2,2’-二乙基醚二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙（環己基異氰酸酯）、環己烷-1,3-二亞甲基二異氰酸酯、環己烷-1,4-二亞甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、對伸苯基二異氰酸酯、3,3’-亞甲基二甲苯-4,4’-二異氰酸酯、4,4’-二苯基醚二異氰酸酯、四氯伸苯基二異氰酸酯、降莰烷二異氰酸酯、氫化1,3-伸茬基二異氰酸酯及氫化1,4-伸茬基二異氰酸酯等異氰酸酯化合物以及由該等化合物衍生之預聚物型骨架的化合物。該等之中，甲苯二異氰酸酯（TDI）、二苯基甲烷二異氰酸酯（MDI）、六亞甲基二異氰酸酯（HDI）或異佛爾酮二異氰酸酯（IPDI）為較佳。

（界面活性劑） 依據需要，可以在正型感光性樹脂組成物中添加界面活性劑。 作為界面活性劑，亦能夠使用陰離子系、陽離子系、非離子系（非離子系）或兩性中的任一種，非離子界面活性劑為較佳。

作為非離子系界面活性劑，可舉出聚氧乙烯高級烷基醚類、聚氧乙烯高級烷基苯基醚類、聚氧乙二醇的高級脂肪酸二酯類、聚矽氧系及氟系界面活性劑。又，在以下產品名中可舉出KP（Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造）、POLYFLOW（KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.製造）、EFTOP（JEMCO CORPORATION製造）、MEGAFACE（DIC CORPORATION製造）、FLUORAD（Sumitomo 3M Limited製造）、ASAHI GUARD、SURFLON（ASAHI GLASS CO.,LTD.製造）、PolyFox（OMNOVA SOLUTIONS INC.製造）及SH-8400（Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造）等各系列。 又，作為界面活性劑，可舉出含有由下述式I-1表示之構成單元A及構成單元B並且將四氫呋喃（THF）設為溶劑時的藉由凝膠滲透層析法測量之聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）為1,000以上且10,000以下之共聚物。

【化學式10】

式（I-1）中，R ⁴⁰¹及R ⁴⁰³分別獨立地表示氫原子或甲基，R ⁴⁰²表示碳數1以上且4以下的直鏈伸烷基，R ⁴⁰⁴表示氫原子或碳數1以上且4以下的烷基，L表示碳數3以上且6以下的伸烷基，p及q為表示聚合比之質量百分率，p表示10質量%以上且80質量%以下的數值，q表示20質量%以上且90質量%以下的數值，r表示1以上且18以下的整數，s表示1以上且10以下的整數，*表示與其他結構的鍵結部位。s為1以上且6以下的整數為較佳，1以上且4以下的整數為更佳。 共聚物的重量平均分子量（Mw）為1,500～5,000為較佳。

此外，亦能夠使用日本專利第4502784號公報的0017段及日本特開2009-237362號公報的0060段～0071段中所記載之界面活性劑。 又，作為界面活性劑，從提高環境適性的觀點考慮，使用成為全氟辛酸（PFOA）及全氟辛烷磺酸（PFOS）等具有碳數為7以上的直鏈狀全氟烷基之化合物的代替材料之界面活性劑亦較佳。

界面活性劑可以使用單獨1種，亦可以併用2種以上。 界面活性劑的含量相對於總固體成分為10質量%以下為較佳，0.001～10質量%為更佳，0.01～3質量%為進一步較佳。

（聚合抑制劑） 正型感光性樹脂組成物可以含有至少1種聚合抑制劑。 作為聚合抑制劑，例如可舉出在日本專利第4502784號公報的0018段中記載之熱聚合抑制劑。其中，啡噻𠯤、啡噁𠯤或4-甲氧基苯酚為較佳。 當正型感光性樹脂組成物含有聚合抑制劑之情況下，聚合抑制劑的含量相對於總固體成分為0.01～3質量%為較佳。

（其他成分） 除了上述成分以外，依據需要，正型感光性樹脂組成物還可以含有增感劑、烷氧基矽烷化合物、鹼性化合物及抗氧化劑。 又，以調節機械性質、折射率及透光性等光學性質為目的，正型感光性樹脂組成物可以含有金屬氧化物粒子等粒子。當正型感光性樹脂組成物含有粒子之情況下，含有分散劑為較佳。 正型感光性樹脂組成物可以含有紫外線吸收劑、金屬鈍化劑、酸增殖劑、顯影促進劑、塑化劑、熱自由基產生劑、熱酸產生劑、增黏劑及有機或無機的防沉澱劑等公知的添加劑。又，作為該等化合物，例如亦能夠參閱日本特開2012-088459號公報的0201～0224段的記載，該等內容被編入本說明書中。 又，作為其他添加劑，亦能夠使用日本特開2012-008223號公報的0120～0121段中所記載之熱自由基產生劑、國際公開第2011/136074號中所記載之含氮之化合物及熱酸產生劑，該等內容被編入本說明書中。

＜負型感光性樹脂組成物＞ 作為負型感光性樹脂組成物，能夠從公知的負型感光性樹脂組成物適當選擇，並無特別限制。 作為負型感光性樹脂組成物，例如可舉出含有聚合物成分、聚合性單體、光聚合起始劑及溶劑之組成物。 以下，對負型感光性樹脂組成物中所含有之成分進行說明。

（聚合性單體） 聚合性單體能夠適當選擇適用於該種組成物者，其中乙烯性不飽和化合物為較佳。乙烯性不飽和化合物為具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵之聚合性化合物。

作為乙烯性不飽和化合物，例如可舉出不飽和羧酸（丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等）、其酯類及醯胺類，可較佳地使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯或不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類。 作為乙烯性不飽和化合物，可舉出日本特開2006-023696號公報的0011段中所記載之成分及日本特開2006-064921號公報的0031～0047段中所記載之成分，該等內容被編入本說明書中。

又，使用異氰酸酯與羥基的加成反應來製造之胺基甲酸酯加成聚合性化合物亦較佳，如日本特開昭51-037193號公報、日本特公平2-032293號公報或日本特公平2-016765號公報中所記載之胺基甲酸酯丙烯酸酯類或如日本特公昭58-049860號公報、日本特公昭56-017654號公報、日本特公昭62-039417號公報或日本特公昭62-039418號公報中所記載之具有環氧乙烷骨架之胺基甲酸酯化合物類亦較佳。 作為其他例，可舉出如日本特開昭48-064183號公報、日本特公昭49-043191號公報及日本特公昭52-030490號公報的各公報中所記載之聚酯丙烯酸酯類及使環氧樹脂與（甲基）丙烯酸進行反應而獲得之環氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。進而，亦能夠使用Journal of the Adhesion Society of Japan vol.20、No.7、300～308頁（1984年）中作為光硬化性單體及寡聚物介紹者。

關於該等乙烯性不飽和化合物，其結構、單獨使用或併用的選擇及添加量等使用方法的詳細內容能夠依據最終的感光性材料的性能設計任意設定。例如，從以下觀點選擇。

聚合性單體為多官能為較佳，3官能以上為更佳，4官能以上為進一步較佳。上限並無特別限制，實際上為10官能以下。進而，藉由併用具有不同之官能數和/或不同之聚合性基（例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯化合物及乙烯醚化合物）之化合物，對調節力學特性亦有效。 又，從調節顯影性的觀點考慮，含有羧基之聚合性化合物亦較佳。 進而，從與基板的密接性及與自由基聚合起始劑的相容性等觀點考慮，含有環氧乙烷（EO）改質體或胺基甲酸乙酯鍵亦較佳。

從以上的觀點考慮，新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、三（（甲基）丙烯醯氧基乙基）異氰酸酯、新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯EO改質體或二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯EO改質體為較佳。 作為市售品，KAYARAD DPHA（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造）、NK ESTER A-TMMT、NK ESTER A-TMPT、NK ESTER A-TMM-3、NK OLIGO UA-32P、NK OLIGO UA-7200或A-BPEF（以上為Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造）、ARONIX M-305、ARONIX M-306、ARONIX M-309、ARONIX M-450、ARONIX M-402或TO-1382（以上為TOAGOSEI CO.,LTD.製造）、V#802（OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.製造）或OGSOL EA-0200、OGSOL EA-F5003、OGSOL EA-F5503或OGSOL EA-F5510（以上為Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.製造）為較佳。

作為聚合性單體，由下述式（O-1）表示之化合物為較佳。

【化學式11】

式中，L表示2價以上的連接基。作為連接基，可舉出伸烷基、羰基、亞胺基、醚基（-O-）、硫醚基（-S-）或該等的組合。連接基的碳數並無特別限定，2～24為較佳，2～12為更佳。其中，上述碳數的支鏈伸烷基為較佳。 A表示聚合性官能基。作為聚合性官能基，乙烯基或含乙烯基之基團為較佳。作為含乙烯基之基團，可舉出丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、丙烯醯氧基及乙烯基苯基。 Ra表示取代基。作為取代基，可舉出烷基（較佳為碳數1～21）、烯基（較佳為碳數2～12）及芳基（較佳為碳數6～24）。 na表示1～10的整數，較佳為3～8的整數。nb表示0～9的整數，較佳為2～7的整數。na+nb為2～10，較佳為2～8。na或nb為2以上時，其中規定之複數個結構部位可以彼此不同。

聚合性單體的含量相對於負型感光性樹脂組成物的總固體成分為5～60質量%為較佳，10～50質量%為更佳。 與後述之鹼可溶性樹脂的關係中，聚合性單體與鹼可溶性樹脂之質量比率[聚合性單體/鹼可溶性樹脂比]為0.2～2.0為較佳。

（光聚合起始劑） 作為光聚合起始劑，藉由曝光用光進行感光並且開始或促進上述聚合性單體（乙烯性不飽和化合物）的聚合之化合物為較佳。

作為光聚合起始劑，例如可舉出肟酯化合物、有機鹵化化合物、噁二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化合物、氧雜萘鄰酮化合物、疊氮化合物、茂金屬化合物、六芳基雙咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、α-胺基酮化合物、鎓鹽化合物、醯基膦（氧化物）化合物。該等之中，從靈敏度的觀點考慮，肟酯化合物、α-胺基酮化合物或六芳基雙咪唑化合物為較佳，肟酯化合物或α-胺基酮化合物為更佳。 作為該等化合物的具體例，例如能夠參閱日本特開2011-186398號公報的0061～0073段的記載，該內容被編入本說明書中。

光聚合起始劑能夠使用1種或組合2種以上而使用。又，當使用在曝光波長下不具有吸收之起始劑之情況下，需要使用增感劑。 感光性樹脂組成物中的光聚合起始劑的總量相對於感光性樹脂組成物中的總固體成分100質量份為0.5～30質量份為較佳，2～20質量份為更佳。

除了光聚合起始劑以外，負型感光性樹脂組成物中亦能夠添加增感劑。作為增感劑，例如可舉出日本特開2011-186398號公報的0075段中所記載之化合物，該內容被編入本說明書中。 增感劑相對於光聚合起始劑以50～200質量%的比例添加為較佳。

（鹼可溶性樹脂） 作為負型感光性樹脂組成物中所使用之鹼可溶性樹脂，例如可舉出含有（q-1）具有酸基之構成單元之聚合物及含有（q-1）具有酸基之構成單元及（q-2）具有交聯性基之構成單元之共聚物。 （q-1）具有酸基之構成單元為具有羧基和/或酚性羥基之構成單元為較佳。又，（q-2）具有交聯性基之構成單元含有包含選自包括環氧基、氧雜環丁基及由-NH-CH ₂-O-R（R為氫原子或碳數1～20的烷基）表示之基團之群組中之至少1個之構成單元為較佳。 鹼可溶性樹脂可以與上述構成單元（q-1）及上述構成單元（q-2）一同進一步具有除了上述構成單元（q-1）及上述構成單元（q-2）以外的構成單元（q-3）。

作為鹼可溶性樹脂中所包含之（q-1）具有酸基之構成單元，能夠採用與正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之（a3）其他構成單元中的具有酸基之構成單元相同者，除了配合量以外，較佳的範圍亦相同。 作為鹼可溶性樹脂中所包含之（q-2）具有交聯性基之構成單元，能夠採用與正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之（a2）具有交聯性基之構成單元相同者，除了配合量以外，較佳的範圍亦相同。 作為鹼可溶性樹脂中所包含之構成單元（q-3），能夠採用除了正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之（a3）其他構成單元中的具有酸基之構成單元以外的構成單元及正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之構成單元（a1-1），除了配合量以外，較佳的範圍亦相同。

構成單元（q-1）相對於鹼可溶性樹脂的總構成單元之含量為1～100莫耳%為較佳，1～80莫耳%為更佳，10～50莫耳%為進一步較佳。 構成單元（q-2）相對於鹼可溶性樹脂的總構成單元之含量為3～70莫耳%為較佳，10～60莫耳%為更佳。 構成單元（q-3）相對於鹼可溶性樹脂的總構成單元之含量為1～80莫耳%為較佳，1～50莫耳%為更佳。

鹼可溶性樹脂的合成能夠與上述之第1態樣的（成分A）聚合物之製造方法相同地進行。

（溶劑） 負型感光性樹脂組成物含有溶劑。負型感光性樹脂組成物作為將各成分溶解於溶劑而成之溶液來製備為較佳。 作為溶劑，能夠使用公知的溶劑、例如上述之正型感光性樹脂組成物所含有之溶劑，較佳的範圍亦相同。 負型感光性樹脂組成物中的溶劑的含量相對於感光性樹脂組成物中的總質量為50～95質量%為較佳，60～90質量%為更佳。

（其他成分） 除了上述成分以外，依據需要，負型感光性樹脂組成物還可以含有選自包括粒子、分散劑、增感劑、交聯劑、烷氧基矽烷化合物、鹼性化合物及界面活性劑之群組中之成分。

＜物性＞ 從塗佈性的觀點考慮，感光性樹脂組成物的黏度（25℃）為1～50mPa·s為較佳，2～40mPa·s為更佳，3～30mPa·s為進一步較佳。 黏度例如使用VISCOMETER TV-22（TOKI SANGYO CO.,LTD.製造）來測量。 從塗佈性的觀點考慮，感光性樹脂組成物的表面張力（25℃）為5～100mN/m為較佳，10～80mN/m為更佳，15～40mN/m為進一步較佳。 表面張力例如使用Automatic Surface Tensiometer CBVP-Z（Kyowa Interface Science Co.,Ltd.製造）來測量。

＜感光性樹脂組成物的製備方法＞ 上述感光性樹脂組成物能夠藉由以既定的比例並且任意方法混合各成分並進行攪拌溶解來製備。例如，亦能夠藉由如下方式來製備樹脂組成物：將上述之成分分別預先溶解於溶劑而製成溶液之後，以既定的比例混合該等。關於如以上那樣製備之組成物溶液，例如使用孔徑0.2μm的過濾器等進行過濾之後亦能夠提供於使用。

〔著色層形成用樹脂組成物〕 作為為了形成著色層而使用之著色層形成用樹脂組成物並無特別限制，能夠使用用於本用途之公知的組成物。 作為著色層形成用樹脂組成物，可舉出至少含有著色劑、正型感光性樹脂或負型感光性樹脂之組成物，更具體而言，可舉出對用於形成上述之感光性層的正型或負型感光性樹脂組成物進一步添加著色劑而成之組成物。

＜著色劑＞ 著色層中所包含之著色劑並無特別限制，奈米碳管（CNT：Carbon Nano-Tube）或碳黑（CB：Carbon Black）為較佳，奈米碳管為更佳。

作為奈米碳管並無特別限制，能夠使用公知者。 奈米碳管具有將石墨烯（6員環網絡）片捲繞成筒型之形狀，其直徑為1～100nm為較佳，其長度為1nm～1μm為較佳。 奈米碳管不僅可以為石墨烯結構之6員環結構，亦可以在局部具有5員環結構或7員環結構，亦可以為奈米碳管的一部分被堵塞之碳奈米角。

奈米碳管可以為單層的奈米碳管，亦可以為多層的奈米碳管，但是從抑制表面反射率的觀點考慮，單層的奈米碳管為較佳。 又，奈米碳管可以為半導體型奈米碳管，亦可以為金屬型奈米碳管，但是從分散液中的分散穩定性及著色層中的分散性的觀點考慮，半導體型奈米碳管為較佳。

作為碳黑並無特別限制，能夠使用公知者。作為碳黑的市售品，可舉出C.I.顏料黑1等有機顏料及C.I.顏料黑7等無機顏料。

著色層形成用樹脂組成物可以含有單獨1種著色劑，亦可以含有2種以上的著色劑。 從抑制表面反射率的觀點考慮，上述著色層中的著色劑的含量相對於著色層的總質量為0.1～20質量%為較佳，0.5～10質量%為更佳。

關於除了著色層形成用樹脂組成物為上述之正型或負型感光性樹脂組成物中進一步添加著色劑而成之組成物時的著色劑以外的成分，亦包括其較佳的態樣在內，可以與上述之正型感光性樹脂組成物或負型感光性樹脂組成物相同。

＜鹼可溶性樹脂組成物＞ 著色層形成用樹脂組成物可以為含有上述著色劑、鹼可溶性樹脂及溶劑之鹼可溶性樹脂組成物。

（鹼可溶性樹脂） 作為鹼可溶性樹脂，例如可舉出含有（a3-1）具有酸基之構成單元及（a3-2）具有交聯性基之構成單元之聚合物。（a3-1）具有酸基之構成單元為具有羧基和/或酚性羥基之構成單元為較佳。（a3-2）具有交聯性基之構成單元含有包含選自包括環氧基、氧雜環丁基、由-NH-CH ₂-O-R（R為氫原子或碳數1～20的烷基）表示之基團及乙烯性不飽和基之群組中之至少1個之構成單元為較佳。 鹼可溶性樹脂可以進一步具有除了上述構成單元（a3-1）及上述構成單元（a3-2）以外的構成單元（a3-3）。 鹼可溶性樹脂佔鹼可溶性樹脂組成物的總固體成分的60質量%以上為較佳。

作為鹼可溶性樹脂中所包含之（a3-1）具有酸基之構成單元，能夠採用與正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之（a1-3）其他構成單元中的具有酸基之構成單元相同者，除了配合量以外，較佳的範圍亦相同。 作為鹼可溶性樹脂中所包含之（a3-2）具有交聯性基之構成單元，能夠採用與正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之具有交聯性基之構成單元（a2）相同者，除了配合量以外，較佳的範圍亦相同。 作為鹼可溶性樹脂中所包含之構成單元（a3-3），能夠採用除了正型感光性樹脂組成物的聚合物成分中敘述之（a1-3）其他構成單元中的上述（a2-1）具有酸基之構成單元以外者，除了配合量以外，較佳的範圍亦相同。

構成單元（a3-1）相對於鹼可溶性樹脂的總構成單元之含量為3～70莫耳%為較佳，10～60莫耳%為更佳。 構成單元（a3-2）相對於鹼可溶性樹脂的總構成單元之含量為3～70莫耳%為較佳，10～60莫耳%為更佳。 構成單元（a3-3）相對於鹼可溶性樹脂的總構成單元之含量為1～80莫耳%為較佳，1～50莫耳%為更佳。

關於鹼可溶性樹脂的合成，例如可舉出日本特開2012-088459號公報的0067～0073段中所記載之方法，該內容被編入本說明書中。

（溶劑） 鹼可溶性樹脂成物含有溶劑。作為鹼可溶性樹脂組成物中所使用之溶劑，可舉出上述之正型感光性樹脂組成物的溶劑，較佳的範圍亦相同。 鹼可溶性樹脂組成物中的溶劑的含量相對於鹼可溶性樹脂組成物中的總質量為50～95質量%為較佳，60～90質量%為更佳。

除了上述成分以外，鹼可溶性樹脂組成物還能夠含有選自粒子、分散劑、烷氧基矽烷化合物、鹼性化合物、界面活性劑、接著助劑、耐熱性改良劑及熱敏性酸產生劑中之任意成分。該等任意成分可以單獨使用亦可以混合2種以上而使用。上述任意成分與上述之正型感光性樹脂組成物的態樣相同，較佳的範圍亦相同。

作為著色層形成用樹脂組成物，包含著色劑及正型感光性樹脂之組成物或包含著色劑及鹼可溶性樹脂之組成物為較佳，正型感光性樹脂組成物為更佳。

著色層形成用樹脂組成物的黏度及表面張力等物性以及調整方法可以與上述之感光性樹脂組成物中所記載之內容相同。

〔積層體的用途〕 作為製造後的積層體的用途，例如可舉出設置於顯示器、透鏡等光學設備及感測器等設備之防反射構件。

製造後的積層體能夠用作LED（發光二極體、light emitting diode）顯示器的防反射構件，尤其能夠較佳地用作微型LED（μ-LED）顯示器的防反射構件。微型LED顯示器中的LED的大小（最大直徑）小於100μm為較佳。 製造後的積層體亦能夠用作除了LED顯示器以外的顯示裝置的防反射構件。

當將積層體用作LED顯示器的防反射構件之情況下，LED顯示器中的積層體的位置只要為不妨礙來自LED之發光的視覺辨認之位置，則並無特別限制，積層體為設置於LED顯示器的顯示側之前端構件為較佳。 作為LED顯示器的前端構件，例如可舉出日本特開2014-209198號公報的0032～0042段中所記載之LED顯示器中所使用之前端構件，該等記載內容被編入本說明書中。 又，LED顯示器的防反射構件亦能夠用作LED顯示器的光的雜散光去除用構件。 [實施例]

以下舉出實施例對本發明進行進一步詳細的說明。以下實施例所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等，只要不脫離本揭示的趣旨，則能夠適當進行變更。因此，本揭示的範圍並不限定於以下所示之具體例。另外，除非另有說明，則“份”、“%”為質量基準。

[實施例1] 〔轉印膜的製作〕 ＜感光性層塗佈液1的製備＞ 作為感光性層形成用塗佈液，混合下述各成分製備了固體成分濃度為30質量%之感光性層塗佈液1。 ·含有50質量%的四氫呋喃-2-基甲基丙烯酸酯（MA-THF）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）及丙烯酸乙酯（EA）的共聚物（MA-THF:MMA:EA=45:28:27（質量比）、Tg=53℃、Mw=40000）之甲基乙基酮稀釋液：193.9質量份 ·由下述式（A-1）表示之光酸產生劑：2.0質量份 ·由下述式（A-2）表示之添加劑：0.17質量份 ·由下述式（A-3）表示之添加劑：0.75質量份 ·含有30質量%的氟系界面活性劑（DIC Corporation製造“MEGAFACE F-552”）之甲基乙基酮稀釋液：0.45質量份 ·溶劑：甲基乙基酮：136質量份

【化學式12】

＜感光性層的形成＞ 使用狹縫狀噴嘴將感光性層塗佈液1塗佈於由厚度20μm的PET薄膜構成之偽支撐體上，乾燥所形成之塗佈膜。如此製作了在偽支撐體上設置乾燥膜厚為20.0μm之感光性層而成之轉印膜。 使用上述UV分光光度計測量所製作之轉印膜的透過率，減去預先測量之偽支撐體的透過率，藉此計算了感光性層的透過率。其結果，感光性層在波長550nm下的透過率為99.7%。又，感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.0013。

〔附著色層之支撐體的製作〕 ＜著色分散物K1的製備＞ 將奈米碳管（CNT、單層、平均纖維直徑20nm）2.0質量份、苯乙烯-丙烯酸系聚合物（S.C.Johnson Polymer製造、JONCRYL 683）6.0質量份及乙酸丁酯92.0質量份裝入玻璃瓶中，將直徑0.5mmφ的氧化鋯珠作為介質，使用塗料調節器進行1小時分散，獲得了著色分散物K1。

＜著色層塗佈液1的製備＞ 混合含有著色分散物K1之下述各成分，製成著色層形成用塗佈液，製備了著色層塗佈液1。 ·著色分散物K1：20質量份 ·乙酸丙酯：3.22質量份 ·含有50質量%的上述MA-THF、MMA及EA的共聚物之甲基乙基酮稀釋液：27.7質量份 ·由上述式（A-1）表示之光酸產生劑：0.554質量份 ·氟系界面活性劑（DIC Corporation製造“MEGAFACE （註冊商標）F-551”）：0.09質量份

＜著色層的形成＞ 使用狹縫狀噴嘴將著色層塗佈液1塗佈於由厚度75μm的聚對酞酸乙二酯（PET）薄膜構成之支撐體上，乾燥所形成之塗佈膜。如此製作了在支撐體上設置乾燥膜厚為10.0μm之著色層而成之附著色層之支撐體。

使用X-Rite 361T（V）（SAKATA INX CORPORATION製造）測量所製作之附著色層之支撐體的透過率，減去預先測量之支撐體的透過率，藉此計算了基於著色層的ISO Visual（視覺）基準之400～700nm的波長區域中的透過率。其結果，著色層在400～700nm的波長區域中的透過率為1.0%，同樣在400～700nm的波長區域中的光學濃度為2.0。

〔未曝光積層體的製作（積層體的準備步驟）〕 使用層壓機LamicII型（Hitachi Industrial Products, Ltd.製造），在線壓100N/cm、上輥100℃、下輥100℃的加壓加熱條件下以傳送速度4m/分鐘貼合所製作之附著色層之支撐體及轉印膜，製作了具有偽支撐體/感光性層/著色層/支撐體的層構成之未曝光積層體的樣品。

〔曝光步驟〕 作為曝光用遮罩，準備了具有如圖1所示那樣1邊為0.4μm（400nm）的正方形開口部以0.8μm（800nm）的間隙沿面內的縱向及橫向排列而成之格子狀的週期圖案（開口率：50%）及1邊為50μm的正方形開口部以100μm的間隙排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩1。 使用具有超高壓水銀燈之曝光機（USHIO INC.製造、對準曝光機MAP-1200），隔著遮罩從偽支撐體側曝光了上述中製作之未曝光積層體。曝光用光為i射線（波長365nm），曝光量為300mJ/cm ²，遮罩1與偽支撐體的間隙為0μm（接觸式曝光）。 曝光後，從積層體剝離偽支撐體。

〔顯影步驟〕 接著，將露出感光性層之積層體浸漬於作為顯影液的碳酸鈉1質量%水溶液（液溫：25℃）中60秒鐘（浸漬顯影）。 將顯影後的積層體浸漬於純水中20秒鐘之後，用純水進行噴淋清洗，噴吹空氣，形成了圖案像。 觀察製造後的積層體之結果，在通過週期圖案曝光之部分中著色層全部殘留，在其上的感光性層上形成有具有圓錐狀突起之週期結構（圖案結構A1）。又，在通過第2遮罩圖案曝光之部分中對應於第2遮罩圖案的開口部之開口（圖案結構A2及B2）分別形成於感光性層及著色層。 表1中示出形成於感光性層之圖案結構A1及形成於著色層之圖案結構B2。

[實施例2～5] 作為曝光用遮罩，分別使用了具有如圖1所示之正方形開口部沿面內的縱向及橫向排列而成之格子狀的週期圖案（開口率：50%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩2～5，除此以外，按照實施例1中所記載之方法，製造了積層體。 後述之表1中分別示出，在實施例2～5中分別使用之遮罩2～5中，構成週期圖案之正方形開口部的1邊的長度（單位：μm）及週期圖案的間隙（單位；μm）。

[實施例6～9] 形成具有後述之表1所示之厚度（乾燥膜厚）之感光性層來製作了未曝光積層體，除此以外，按照實施例3的方法，製造了積層體。

[實施例10～14] 形成具有後述之表1所示之厚度（乾燥膜厚）之著色層來製作了未曝光積層體，除此以外，按照實施例3的方法，製造了積層體。

[實施例15] ＜著色分散物K2的製備＞ 以下述的組成混合下述碳黑、分散劑、聚合物及溶劑，使用三輥及珠磨機進行分散處理，獲得了著色分散物K2。 ·按照日本專利第5320652號公報的[0036]～[0042]段的記載製作之樹脂包覆碳黑：13.1質量% ·分散劑（由下述結構式表示之分散劑1）：0.65質量% ·聚合物（甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28莫耳比的無規共聚物、重量平均分子量3.7萬）：6.72質量% ·溶劑（丙二醇單甲基醚乙酸酯）：79.53質量%

【化學式13】

代替著色分散物K1（20質量份），使用了上述方法中製備之著色分散物K2，除此以外，按照上述＜著色層塗佈液1的製備＞的方法，製備了著色層塗佈液2。 代替著色層塗佈液1使用了所獲得之著色層塗佈液2，除此以外，按照實施例3的方法，製造了積層體。

[實施例16～18] 曝光步驟中，以表1所示之曝光量進行了曝光，除此以外，按照實施例3的方法，製造了積層體。

[實施例19] ＜著色層塗佈液3的製備＞ 混合含有著色分散物K1之下述各成分，製成著色層形成用塗佈液，製備了包含負型感光性樹脂之著色層塗佈液3。 ·著色分散物K1：20質量份 ·乙酸正丙酯：17.38質量份 ·KAYARAD DPHA（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造）：5.63質量份 ·苯并甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯的共聚物（苯并甲基丙烯酸酯:甲基丙烯酸酯的莫耳比率=70:30、重量平均分子量Mw=5000、酸值=112mgKOH/g）：8.18質量份 ·IRGACURE（註冊商標）OXE 02（BASF公司製造）：0.55質量份 ·氟系界面活性劑（DIC Corporation製造“MEGAFACE F-551”）：0.09質量份

代替著色層塗佈液1使用了上述中製備之著色層塗佈液3，除此以外，按照實施例1的上述＜著色層的形成＞中所記載之方法，製作了附著色層之支撐體。 按照實施例1的上述＜著色層的形成＞中所記載之方法求出了所形成之著色層的透過率及光學濃度。其結果，著色層在400～700nm的波長區域中的透過率為1.0%，400～700nm的波長區域中的光學濃度為2.0。 使用所獲得之附著色層之支撐體，按照實施例3中所記載之方法製造了積層體。

[實施例20] 曝光步驟中，使用具有超高壓水銀燈之接近型曝光機（USHIO INC.製造、對準曝光機MAP-1200），進行在遮罩3與偽支撐體之間形成50μm的間隙之接近式曝光，曝光了未曝光積層體，除此以外，按照實施例3中所記載之方法，製造了積層體。

[實施例21] 準備了具有彼此交錯地排列1邊為4.8μm的正方形開口部以9.6μm的間隙沿面內的縱向排列而成之重複圖案及具有4.8μm的邊及14.4μm的邊之長方形開口部以19.2μm的間隙沿面內的縱向排列而成之重複圖案而形成之週期圖案（開口率：62.5%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩6。 圖2中示出遮罩6所具有之週期圖案的形狀。遮罩6上作為週期圖案形成有藉由2種重複圖案具有十字狀開口部之孔圖案。 曝光步驟中，代替遮罩3使用了上述遮罩6，除此以外，按照實施例3中所記載之方法，製造了積層體。

[實施例22] 準備了具有寬度4.8μm的帶狀開口部沿面內的縱向及橫向形成並且由1邊為4.8μm的正方形構成之遮光部以9.6μm的間隙沿面內的縱向及橫向排列而成之週期圖案（開口率：75.0%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩7。 圖3中示出遮罩7所具有之週期圖案的形狀。遮罩7上作為週期圖案形成有孤立之島狀突起排列而成之點圖案。 曝光步驟中，代替遮罩3使用了上述遮罩7，除此以外，按照實施例3中所記載之方法，製造了積層體。

[實施例23] 準備了具有直徑6.0μm的圓形開口部以10.0μm的間隙沿面內的縱向及橫向排列而成之週期圖案（開口率：28%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩8。 圖4中示出遮罩8所具有之週期圖案的形狀。遮罩8中作為週期圖案形成有圓形開口部排列而成之孔圖案。 曝光步驟中，代替遮罩3使用了上述遮罩8，除此以外，按照實施例3中所記載之方法，製造了積層體。

[實施例24] 準備了具有六邊形開口部以10.0μm的間隙沿面內的縱向及橫向排列而成之週期圖案（開口率：23%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩9。上述開口部的排列方向的寬度為6.0μm。 圖5中示出遮罩9所具有之週期圖案的形狀。遮罩9中作為週期圖案形成有六邊形開口部排列而成之孔圖案。 曝光步驟中，代替遮罩3使用了上述遮罩9，除此以外，按照實施例3中所記載之方法，製造了積層體。

[實施例25] 準備了具有寬度2.0μm的帶狀開口部沿面內的縱向及橫向形成並且由1邊為10.0μm的正方形構成之遮光部以12.0μm的間隙沿面內的縱向及橫向排列而成之週期圖案（開口率：31%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩10。 圖6中示出遮罩10所具有之週期圖案的形狀。遮罩10上作為週期圖案形成有孤立之島狀突起排列而成之點圖案。 曝光步驟中，代替遮罩3使用了上述遮罩10，除此以外，按照實施例3中所記載之方法，製造了積層體。

[比較例1] 以形成厚度（乾燥膜厚）為4.0μm的感光性層的方式調節感光性層塗佈液1的塗佈量，除此以外，藉由實施例1的＜感光性層的形成＞中所記載之方法製作了轉印膜。所製作之轉印膜所具有之感光性層在波長550nm下的透過率為99.9%，感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.0004。 接著，使用上述中獲得之轉印膜，按照實施例3中所記載之方法實施未曝光積層體的製作、曝光步驟及顯影步驟，製造了積層體。 其結果，藉由顯影步驟，感光性層全部被去除（感光性層的厚度為0），未形成圖案結構A1。

[比較例2] 作為曝光用遮罩，使用了具有如圖1所示之開口部的正方形1邊為15.0μm且正方形開口部沿面內的縱向及橫向排列而成之格子狀的週期圖案（開口率：50%）及1邊為50μm的正方形開口部排列2個而成之第2遮罩圖案之遮罩C2，除此以外，按照實施例1中所記載之方法，製造了積層體。

[評價] 〔表面反射率的評價〕 使用分光測色計（Konica Minolta, Inc.製造“CM-700D”），測量了積層體的形成有圖案結構A1之區域的來自感光性層側的表面反射率。作為表面反射率，評價了包含正規反射率之全反射率（SCI：Specular Component Include）及除了正規反射率之外的漫反射率（SCE：Specular Component Exclude）這兩者。測量在360nm～740nm的範圍，並且以10nm刻度進行了測量。作為反射率的代表值採用550nm的值，關於SCI及SCE中的各者，藉由以下的評價標準進行了評價。將評價結果示於後述之表1中。 另外，未對未形成感光性層的圖案結構A1之比較例1的積層體進行表面反射率及後述之明度的評價。

（SCI評價標準） A：SCI為1.0%以下 B：SCI超過1.0%且為2.0%以下 C：SCI超過2.0%且小於4.0% D：SCI為4.0%以上

（SCE評價標準） A：SCE為1.0%以下 B：SCE超過1.0%且為2.0%以下 C：SCE超過2.0%且小於4.0% D：SCE為4.0%以上

〔明度L ^*值的評價〕 測量上述表面反射率時，同時使用分光測色計（Konica Minolta, Inc.製造“CM-700D”）所具備之CIE標準光源D65，測量了積層體的形成有圖案結構A1之區域的來自感光性層側的明度L ^*值（D65）。依據所獲得之測量值，並基於下述評價標準，評價了積層體的明度L ^*值。另外，作為明度L ^*值，與表面反射率相同地，評價了SCI及SCE這兩者。將評價結果示於後述之表1中。

（明度L ^*值評價標準） A：L ^*值為5以下 B：L ^*值超過5且小於10 C：L ^*值為10以上

〔圖案結構的測量〕 關於實施例1～25，觀察製造後的積層體之結果，在通過週期圖案進行曝光之部分中著色層全部殘留，在感光性層的表面形成有由凹凸形狀構成之圖案。 又，關於實施例1～18及20～25，在通過第2遮罩圖案曝光之部分中對應於第2遮罩圖案的開口部之開口（圖案結構A2及B2）分別形成於感光性層及著色層。 該等之中，在實施例1～13、15～18及20～25中，構成著色層的圖案結構B2之開口貫通了著色層。該等貫通之開口的下底（著色層與支撐體的邊界面）的形狀從曝光方向觀察均為四邊形。另一方面，在實施例14中，構成圖案結構B2之開口未貫通著色層。又，在使用包含負型感光性樹脂之著色層塗佈液3形成有著色層之實施例19中，顯影步驟中，著色層未被去除。

在各實施例及各比較例中製造之積層體的感光性層側的表面，藉由進行30秒鐘濺鍍法形成了鉑塗層。接著，使用SEM（JEOL Ltd.製造“JSM-7200型FE-SEM”）觀察了沿著厚度方向切斷具有鉑塗層之積層體形成之截面及感光性層側的表面。從所獲得之觀察圖像測量了形成於感光性層之圖案結構A1的週期結構及圖案結構A1的厚度的最小值以及形成於著色層之圖案結構B2的形狀。

表1中示出各實施例及各比較例中的未曝光積層體的各層的構成、遮罩的週期圖案及第2遮罩圖案的結構、曝光步驟的條件、製造後的積層體中的感光性層的圖案結構A1的形狀及著色層的圖案結構B2的形狀以及各評價結果。

表1中，“感光性層”的“厚度（μm）”欄表示按照上述方法測量之未曝光積層體的感光性層的厚度。 “感光性層”的“透過率”欄及“光學濃度”欄分別表示感光性層在波長550nm下的透過率（單位：%）及光學濃度的值。

表1中，“著色層”的“著色劑種類”欄表示各實施例及各比較例中所使用之著色劑的種類。又，實施例19的“CNT（負）”的表述表示使用了包含負型感光性樹脂之著色層塗佈液。 “著色層”的“厚度（μm）”欄表示按照上述方法測量之未曝光積層體的感光性層的厚度。 “著色層”的“透過率”欄及“光學濃度”欄分別表示感光性層在波長550nm下的透過率（單位：%）及光學濃度的值。

表1中，“曝光步驟”的“曝光方式”欄及“曝光量”欄分別表示曝光步驟中所實施之曝光方式及曝光用光的照射量（單位：mJ/cm ²）。 又，“曝光步驟”的“曝光量A”欄表示按照上述“曝光量A的測量方法”求出各實施例及各比較例的感光性層之曝光量A的值（單位：mJ/cm ²）。 “曝光步驟”的“倍率”欄表示各實施例及各比較例的曝光步驟中的曝光量的值與上述中求出之曝光量A的值之比率（（曝光步驟中的曝光量）/（曝光量A））的值。

表1中，“感光性層的圖案結構A1”的“週期結構”欄中示出各實施例及比較例2中製造之積層體的感光性層中所形成之圖案結構A1的週期結構的特徵。 “週期結構”的“突起/開口”欄中的“突起”的表述係指複數個突起排列而成之週期結構，“開口”的標記係指複數個開口排列而成之週期結構。又，“週期結構”的“形狀”欄表示“突起/開口”欄中所記載之突起或開口的形狀。 例如，實施例25的積層體的感光性層中形成有如下開口：具有感光性層的表面側的形狀為大致三角形且隨著朝向著色層側以錐狀變細之三稜錐的形狀，並且表面的大致三角形的形狀以彼此交錯的方式排列而配置。藉由該等開口構成圖案結構A1。

“週期結構”的“高度（μm）”及“間隙（μm）”欄分別表示構成週期結構之凹凸形狀的厚度方向上的高低差的最大值（單位：μm）及間隙（單位：μm）。 “感光性層的圖案結構A1”的“膜厚最小值（μm）”欄表示形成有圖案結構A1之區域中的感光性層的厚度的最小值（單位：μm）。

表1中，“著色層的圖案結構B2”欄中示出各實施例及比較例2中製造之積層體的著色層中所形成之圖案結構B2的形狀的特徵。 “開口（下底）”的“形狀”欄表示從形成於圖案結構B2之開口的厚度方向觀察之形狀，“尺寸（μm）”欄表示四邊形的開口的離感光性層最遠之位置（下底）中的1邊的長度（單位：μm）。 “著色層的圖案結構B2”的“間隙（μm）”欄表示圖案結構B2的間隙、亦即形成於第2遮罩圖案之開口部的尺寸與2個開口部之間的距離的總計（單位：μm）。

【表1】

	感光性層	著色層	遮罩
厚度 （μm）	透過率	光學濃度	著色劑種類	厚度 （μm）	透過率	光學濃度	週期圖案	第2遮罩圖案
開口部	圖案形狀	間距 （μm）	開口部	間距 （μm）
形狀	尺寸 （μm）	形狀	尺寸 （μm）
實施例1	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	0.4	格子圖案	0.8	正方形	50	100
實施例2	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	0.6	格子圖案	1.2	正方形	50	100
實施例3	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例4	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	2.4	格子圖案	4.8	正方形	50	100
實施例5	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	4.8	格子圖案	9.6	正方形	50	100
實施例6	10	99.9%	0.0004	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例7	15	99.8%	0.0009	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例8	30	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例9	45	99.5%	0.0022	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例10	20	99.7%	0.0013	CNT	2	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例11	20	99.7%	0.0013	CNT	5	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例12	20	99.7%	0.0013	CNT	20	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例13	20	99.7%	0.0013	CNT	30	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例14	20	99.7%	0.0013	CNT	100	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例15	20	99.7%	0.0013	CB	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例16	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例17	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例18	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例19	20	99.7%	0.0013	CNT （負）	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例20	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
實施例21	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	十字狀	4.8	孔圖案	9.6	正方形	50	100
實施例22	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	帶狀	4.8	點圖案	9.6	正方形	50	100
實施例23	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	圓形	6.0	孔圖案	10.0	正方形	50	100
實施例24	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	六邊形	6.0	孔圖案	10.0	正方形	50	100
實施例25	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	帶狀	2.0	點圖案	12.0	正方形	50	100
比較例1	4	99.9%	0.0004	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	1.2	格子圖案	2.4	正方形	50	100
比較例2	20	99.7%	0.0013	CNT	10	1.0%	2.0	正方形	15.0	格子圖案	30.0	正方形	50	100

【表2】

表1 （續）	曝光步驟	製造後的積層體	評價
曝光方式	曝光量 （mJ/cm 2）	曝光量A （mJ/cm 2）	倍率	感光性層的圖案結構A1	著色層的圖案結構B2	表面反射率 （%）	明度 L *值
週期結構	膜厚最小值 （μm）	開口（下底）	間距 （μm）
突起/開口	形狀	高度 （μm）	間距 （μm）	形狀	尺寸 （μm）	SCI	SCE	SCI	SCE
實施例1	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	1.0	0.4	14.0	四邊形	30	100	0.95	0.80	7.0	6.5
實施例2	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	1.5	0.6	12.0	四邊形	30	100	0.73	0.64	6.5	5.7
實施例3	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	四邊形	30	100	0.27	0.24	2.4	2.4
實施例4	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	8.0	2.4	5.0	四邊形	30	100	0.35	0.30	2.7	2.6
實施例5	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	16.0	4.8	1.0	四邊形	30	100	0.80	0.76	3.5	3.4
實施例6	接觸式	300	38	8.0	突起	圓錐	0.5	1.2	3.0	四邊形	45	100	3.80	3.50	10.5	8.5
實施例7	接觸式	300	56	5.3	突起	圓錐	1.5	1.2	8.0	四邊形	40	100	0.80	0.70	6.8	5.9
實施例8	接觸式	300	113	2.7	突起	圓錐	2.0	1.2	20.0	四邊形	25	100	0.28	0.25	2.5	2.4
實施例9	接觸式	300	169	1.8	突起	圓錐	2.0	1.2	30.0	四邊形	20	100	0.40	0.35	2.9	2.6
實施例10	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	四邊形	40	100	1.10	0.90	4.2	3.8
實施例11	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	四邊形	40	100	0.40	0.35	3.5	3.4
實施例12	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	四邊形	20	100	0.27	0.24	2.4	2.4
實施例13	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	四邊形	10	100	0.28	0.25	2.6	2.5
實施例14	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	形成有開口，但未貫通	0.30	0.28	2.8	2.8
實施例15	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	四邊形	30	100	1.27	1.24	4.4	4.4
實施例16	接觸式	100	75	1.3	突起	圓錐	1.0	1.2	16.0	四邊形	5	100	1.50	1.40	4.6	4.5
實施例17	接觸式	150	75	2.0	突起	圓錐	2.0	1.2	12.0	四邊形	20	100	0.30	0.26	2.6	2.6
實施例18	接觸式	500	75	6.7	突起	圓錐	0.5	1.2	2.0	四邊形	45	100	3.80	3.70	8.5	7.5
實施例19	接觸式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	1.2	10.0	著色層未被去除	0.26	0.24	2.4	2.3
實施例20	接近式	300	75	4.0	突起	圓錐	2.0	0.8	10.0	四邊形	30	100	0.80	0.70	6.8	5.9
實施例21	接觸式	300	75	4.0	開口	圓錐	16.0	19.2	6.0	四邊形	30	100	1.05	1.00	9.35	9.0
實施例22	接觸式	300	75	4.0	開口	圓錐	16.0	9.6	2.0	四邊形	30	100	1.36	1.31	11.7	11.4
實施例23	接觸式	300	75	4.0	開口	圓錐	14.0	9.6	4.0	四邊形	30	100	0.83	0.69	7.5	6.3
實施例24	接觸式	300	75	4.0	開口	圓錐	16.0	9.6	2.0	四邊形	30	100	1.33	1.25	11.5	10.9
實施例25	接觸式	300	75	4.0	開口	三稜錐	18.0	24.0	6.0	四邊形	30	100	1.03	1.00	9.3	9.1
比較例1	接觸式	300	75	4.0	感光性層全部被去除且未形成圖案	四邊形	50	100	-	-	-	-
比較例2	接觸式	300	75	4.0	開口	圓柱	20.0	30.0	0.0	四邊形	50	100	4.60	1.30	14.0	13.0

從表1中所記載之結果確認到，與比較例1及2的積層體相比，實施例1～25的積層體中，包含漫反射率（SCE）及正規反射率之全反射率（SCI）均低，並且明度L ^*值亦抑制得較低，本發明的效果優異。

10:週期圖案 12:開口部 p:間隙

圖1係表示在曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的一例之概略圖。 圖2係表示在曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的另一例之概略圖。 圖3係表示在曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的另一例之概略圖。 圖4係表示在曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的另一例之概略圖。 圖5係表示在曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的另一例之概略圖。 圖6係表示在曝光步驟中所使用之遮罩所具有之週期圖案的構成的另一例之概略圖。

10:週期圖案

12:開口部

p:間隙

Claims (22)

1. 一種積層體之製造方法，其具有： 積層體準備步驟，準備具備著色層及厚度為5.0μm以上之感光性層之積層體； 曝光步驟，使用遮罩對前述感光性層照射光；及 顯影步驟，顯影前述感光性層， 前述遮罩具有週期圖案，前述週期圖案包含以形成間隙為12.0μm以下之週期結構的方式配置之開口部。
2. 如請求項1所述之積層體之製造方法，其中 前述曝光步驟中照射之光的照射量相對於藉由下述測量方法獲得之曝光量A為10.0倍以下， 曝光量A的測量方法：準備積層體A1，其具有由聚對酞酸乙二酯構成之支撐體A及設置於支撐體A上並且具有與在前述積層體準備步驟中準備之積層體所具有之感光性層相同的組成且厚度為20μm之感光性層A，對前述積層體A1隔著具有50μm見方的孤立之開口部之遮罩A使用超高壓水銀燈用波長365nm的曝光用光進行接觸式曝光，接著，將前述積層體A浸漬於液溫為25℃的碳酸鈉1質量%水溶液中60秒鐘，藉此進行顯影，進一步浸漬於液溫為25℃的純水中20秒鐘之後，對前述積層體A噴射空氣，藉此製作顯影之積層體A2，改變前述曝光中的曝光量進行複數次該積層體A2的製作，求出在製作之積層體A2中貫通感光性層A且露出支撐體A的一部分所需的波長365nm的曝光用光的曝光量的最小值，將其設為曝光量A（單位：mJ/cm ²）。
3. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述遮罩進一步具有第2遮罩圖案，前述第2遮罩圖案具有至少1個比前述週期圖案的開口部的面積大的開口部，藉由前述顯影步驟，對應於前述週期圖案之圖案結構A1及對應於前述第2遮罩圖案之圖案結構A2形成於前述感光性層。
4. 如請求項3所述之積層體之製造方法，其中 藉由前述顯影步驟，在前述圖案結構A2中的至少一部分中貫通前述感光性層。
5. 如請求項4所述之積層體之製造方法，其中 藉由前述顯影步驟，對應於前述第2遮罩圖案之圖案結構B2形成於前述著色層。
6. 如請求項5所述之積層體之製造方法，其中 藉由前述顯影步驟，在前述圖案結構B2中的至少一部分中貫通前述著色層。
7. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述間隙為0.10～12.0μm。
8. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 在前述曝光步驟中，前述遮罩與前述感光性層的距離為200μm以下。
9. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 在前述曝光步驟中，照射包含365nm的波長之光。
10. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.5以下， 前述感光性層的厚度為5.0～30.0μm。
11. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述感光性層為正型感光性層。
12. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述感光性層含有聚合物及光酸產生劑，前述聚合物包含具有酸基被酸分解性基保護之基團之構成單元。
13. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述著色層在400～700nm的波長區域中的光學濃度為1.0～6.0， 前述著色層的厚度為2.0～100μm。
14. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述著色層為鹼溶性層或正型感光性層。
15. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述著色層包含選自包括碳黑及奈米碳管之群組中之至少1個。
16. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述積層體為防反射構件。
17. 如請求項1或請求項2所述之積層體之製造方法，其中 前述積層體為LED顯示器的前端構件。
18. 一種防反射構件，其具有藉由請求項1至請求項15之任一項所述之製造方法製造之積層體。
19. 一種LED顯示器的前端構件，其具有藉由請求項1至請求項15之任一項所述之製造方法製造之積層體。
20. 一種轉印膜，其依序具備偽支撐體、厚度為5.0μm以上之感光性層及著色層。
21. 如請求項20所述之轉印膜，其中 前述感光性層在波長550nm下的光學濃度為0.5以下， 前述感光性層的厚度為5.0～30.0μm。
22. 如請求項20或請求項21所述之轉印膜，其中 前述著色層在400～700nm的波長區域中的光學濃度為1.0～6.0， 前述著色層的厚度為2.0～100μm。

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