TW202117368A - 圓偏光板 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種圓偏光板,其即使在進行冷熱衝擊測試後液晶硬化相位差層的龜裂產生亦受到抑制且在圓偏光板的面內色相不均勻的情形亦受到抑制。
一種圓偏光板,其具備:直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,在將前述圓偏光板的前述液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,進行冷熱衝擊測試後,周緣部的前述液晶硬化相位差層與前述偏光片之間的相較於前述冷熱衝擊測試前之快軸方向的位移量為190μm以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環。
Description
本發明係關於圓偏光板,又關於包含該圓偏光板之圖像顯示裝置及可撓性圖像顯示裝置用積層體。
於專利文獻1提出一種將具有保護偏光片用膜的直線偏光板與光學異向性層隔著黏著劑層貼合的光學積層體。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 日本公開專利特開2019-7002號公報
具備具有厚度30μm以下的偏光片保護層的直線偏光板及液晶硬化相位差層的圓偏光板,在以圓偏光板的液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,若進行冷熱衝擊測試(以下也簡稱為「冷熱衝擊測試」),會有在液晶硬化相位差層產生龜裂,或在圓偏光板的面內色相不均勻的情形,其中該冷熱
衝擊測試係將冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘操作為1個循環,而重複測試300個循環。
本發明的目的在於提供一種圓偏光板,其即使進行上述冷熱衝擊測試後亦抑制液晶硬化相位差層的龜裂產生且在圓偏光板的面內抑制色相不均勻的情形。
本發明提供以下的態樣[1]至[7]。
[1]一種圓偏光板,其具備:
直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及
液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,
前述液晶硬化相位差層具有包含聚合性液晶化合物的硬化物的層;
在將前述圓偏光板的前述液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,進行冷熱衝擊測試後,周緣部的前述液晶硬化相位差層與前述偏光片之間的相較於前述冷熱衝擊測試前之快軸方向的位移量為190μm以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環。
[2]一種圓偏光板,其具備:
直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及
液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,
在將前述圓偏光板的前述液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,在冷熱衝擊測試中,相對於前述冷熱衝擊測試前的周緣部與中央部的反射色相差(△0a*b*),前述冷熱衝擊測試後的周緣部與中央部的反射色相差(△1a*b*)的變化量為0.65以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環。
[3]一種圓偏光板,其具備:
直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及
液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,
前述接著劑層的儲存彈性模數為46000Pa以上。
[4]如[1]至[3]中任一項記載的圓偏光板,其中,前述直線偏光板中,前述偏光片保護層係設置於前述偏光片的雙面。
[5]如[1]至[4]中任一項記載的圓偏光板,其係在前述液晶硬化相位差層側的最外表面更具有接著劑層。
[6]一種可撓性圖像顯示裝置用積層體,包括如[1]至[5]中任一項記載的圓偏光板、前面板及/或觸控感測器。
[7]一種圖像顯示裝置,具備如[1]至[5]中任一項記載的圓偏光板。
根據本發明,可提供一種圓偏光板,其即使在進行冷熱衝擊測試後液晶硬化相位差層的龜裂產生亦受到抑制且圓偏光板面內的色相不均勻的情形亦受到抑制。
10:直線偏光板
11:偏光片
12,13:偏光片保護層
20:接著劑層
30,40,70:液晶硬化相位差層(相位差層)
41:第1液晶硬化相位差層(第1相位差層)
42:第2液晶硬化相位差層(第2相位差層)
50:貼合層
60:直線偏光板
80:前面板
81:遮光圖形
90:觸控感測器
100,200:圓偏光板
300:可撓性圖像顯示裝置用積層體
圖1 係表示關於本發明的一態樣的圓偏光板的剖面示意圖。
圖2 係表示關於本發明的一態樣的圓偏光板的剖面示意圖。
圖3 係表示關於本發明的一態樣的可撓性圖像顯示裝置用積層體的剖面示意圖。
圖4 係表示快軸的位移量及反射色相的測定處。
圖5 為表示冷熱衝擊測試後的長邊側的偏離的光學顯微鏡照片。
以下,一邊參考圖式,一邊說明本發明的實施態樣,但本發明不限於以下的實施態樣。在以下全部的圖式,為了容易理解各構成要件,適當地調整比例尺表示,圖式所示的各構成要件的比例與實際的構成要件的比例未必相同。
〈圓偏光板〉
圖1係關於本發明的一態樣的圓偏光板的剖面示意圖。圖1所示的圓偏光板100具備直線偏光板10、及隔著接著劑層20積層於直線偏光板10的液晶硬化相位差層(以下也稱為相位差層)30。直線偏光板10具有偏光片11及偏光片保護層12。
相位差層30可為包含賦予λ/4相位差的層之層,例如可只由賦予λ/4相位差的層所構成,或者可為將賦予λ/4相位差的層與賦予λ/2相位差的層及/或正型C層的組合積層所得之層。作為組合液晶硬化相位差層所得之積層體
(以下亦稱為相位差層積層體),例如賦予λ/4相位差的層與賦予λ/2相位差的層的積層體、賦予λ/4相位差的層與正型C層的積層體等。藉由將包含賦予λ/4相位差的層的相位差層30積層於直線偏光板10上,可發揮作為圓偏光板的功能。
相位差層30可以使賦予λ/4相位差的層的慢軸與偏光片11的吸收軸成為既定的角度之方式積層於直線偏光板10。例如相位差層30的賦予λ/4相位差的層的慢軸與偏光片11的吸收軸所成的角度可為45°±10°。
於本說明書,所謂「賦予λ/4相位差的層」係指將特定波長的直線偏光轉換為圓偏光(或圓偏光改為直線偏光)的相位差層。
於本說明書,所謂「賦予λ/2相位差的層」係指將特定波長的直線偏光的偏光方位轉換為90°的相位差層。
於本說明書,所謂「正型C層」係指面內的慢軸方向的折射率為Nx、其面內的快軸方向的折射率為Ny、其厚度方向的折射率為Nz時,滿足Nz>Nx≧Ny的關係的層。Nx的值與Ny的值的差較理想為Ny的值的0.5%以內,更理想為0.3%以內。若是0.5%以內,實質上可視為Nx=Ny。
近年,為了圓偏光板的薄型化,有在直線偏光板使用厚度30μm以下的偏光片保護層的情況。將由包含如此的厚度薄的偏光片保護層的直線偏光板與液晶硬化相位差層所構成的圓偏光板,進行冷熱衝擊測試時,已知有在液晶硬化相位差層產生龜裂,或圓偏光板面內的色相不均勻的情形。這是近年強烈要求薄型化的圓偏光板產生的新課題。
本發明人等的研究結果,發現在冷熱測試環境下,起因於偏光片的膨脹或收縮而使液晶硬化相位差層變形的應力會產生作用,因而在液晶硬化相位差層產生龜裂。而且,圓偏光板面內的色相不均勻的情形,已知是起因於上
述偏光片的膨脹或收縮,使周緣部的反射色相的變化之緣故。
進一步研究的結果,發現進行冷熱衝擊測試後的圓偏光板的周緣部的液晶硬化相位差層與偏光片之間的相較於冷熱衝擊測試前之快軸方向的位移量(以下簡稱為「快軸方向的位移量」)為190μm以下的情況,即使進行冷熱測試的情況,亦可抑制相位差層的龜裂,而且抑制圓偏光板面內的色相不均勻的情形。所謂快軸方向係指與相位差層30的賦予λ/4相位差的層的快軸方向平行的方向。
從抑制液晶硬化相位差層的龜裂,而且抑制圓偏光板面內的色相不均勻的觀點,有關圓偏光板100,快軸方向的位移量較理想地為150μm以下,更理想地為100μm以下,更加理想地為80μm以下,特別理想地為50μm以下,格外理想地為20μm以下,另一方面,快軸方向的位移量通常為0μm以上,例如大於0μm或1μm以上。快軸方向的位移量可根據後述的實施例的欄說明的測定方法進行測定。
而且,本發明人等發現,相對於對上述冷熱衝擊測試前的周緣部與中央部的反射色相差(△0a*b*),上述冷熱衝擊測試後的周緣部與中央部的反射色相差(△1a*b*)的變化量(以下簡稱為「反射色相差的變化量」)為0.65以下的情況,即使在上述冷熱測試後,亦可抑制相位差層的龜裂,而且可抑制圓偏光板面內的色相不均勻的情形。
從抑制液晶硬化相位差層的龜裂,而且抑制圓偏光板面內的色相不均勻的觀點,有關圓偏光板100,反射色相差的變化量較理想地為0.5以下,更理想地為0.45以下。反射色相差的變化量通常為0以上,例如大於0,或0.1以上。反射色相差的變化量可根據後述的實施例的欄說明的測定方法進行測定。
再者,本發明人等檢討的結果,發現在如上述構成的圓偏光板,
藉由控制位於直線偏光板與液晶硬化相位差層之間的接著劑層的儲存彈性模數,可得到進行冷熱衝擊測試後的偏光片與液晶硬化相位差層之間的位移與伴隨其的相位差的龜裂的產生及反射色相的變化受到抑制的圓偏光板。亦即,在如上述構成的圓偏光板,藉狺將與液晶硬化相位差層相接的接著劑層的儲存彈性模數控制在46000Pa以上,得到可抑制施加於液晶硬化相位差層的應力的想法,完成了本發明。
圓偏光板100,從抑制液晶硬化相位差層的龜裂,而且抑制圓偏光板面內的色相不均勻的觀點,較理想地接著劑層20的儲存彈性模數為50000Pa以上,更理想地100000Pa以上。接著劑層20的儲存彈性模數例如可為未達5000MPa。接著劑層20的儲存彈性模數可根據後述的實施例的欄說明的測定方法進行測定。
作為將接著劑層20的儲存彈性模數設為46000Pa以上的方法,例如選擇接著劑層20所使用的黏著劑的種類的方法等。
從抑制液晶硬化相位差層的龜裂,而且抑制圓偏光板面內的色相不均勻的觀點,圓偏光板100較理想地滿足以下的(1)至(3)中至少2個,更理想地完全滿足(1)至(3)。
(1)在將偏光板的液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,進行冷熱衝擊測試後,周緣部的液晶硬化相位差層與偏光片之間的相較於冷熱衝擊測試前之快軸方向的位移量為190μm以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環;
(2)將偏光板的液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,在冷熱衝擊測試中,相對於對冷熱衝擊測試前的周緣部與中央部的反射色相差(△0a*b*),冷熱衝擊測試後的周緣部與中央部的反射色相差(△1a*b*)的變化量為0.65以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環;
(3)接著劑層的儲存彈性模數為46000Pa以上。
圓偏光板100的俯視的形狀,可為例如矩形形狀,較理想地為具有長邊與短邊的矩形形狀,更理想地為長方形。於圓偏光板100的俯視的形狀為長方形的情況,長邊的長度可為例如10mm以上1400mm以下,較理想為50mm以上600mm以下,更理想為50mm以上300mm以下,更加理想為100mm以上200mm以下。短邊的長度可為例如5mm以上800mm以下,較理想為10mm以上500mm以下,更理想為20mm以上300mm以下,更加理想為30mm以上100mm以下。構成圓偏光板100的各層中,角落部可經圓角加工,端部可經缺口加工或開孔加工。於本說明書,所謂俯視係指從層的厚度方向觀察。
圓偏光板100的厚度的上限可為例如200μm以下,較理想為180μm以下,更理想為150μm以下,更加理想為120μm以下,特別理想為100μm以下。圓偏光板100的厚度的下限可為例如10μm以上,較理想為20μm以上,更理想為45μm以上,更加理想為60μm以上。
圖2係關於本發明的另一態樣的圓偏光板的剖面示意圖。圖2所示的圓偏光板200具備直線偏光板10、隔著接著劑層20積層於直線偏光板10的液晶硬化相位差層40(以下也稱為相位差層40)。直線偏光板10具有偏光片保護層13、偏光片11及偏光片保護層12。相位差層40係積層有第1相位差層41
與第2相位差層42的相位差層積層體。圓偏光板200具有貼合於相位差層40側的貼合層50。
〈直線偏光板〉
直線偏光板10具有偏光片11及設置於偏光片11的至少一面的偏光片保護層12。於圖1,直線偏光板10中,只在偏光片11的單面配置偏光片保護層12,在偏光片11的與相位差層30為相反側處配置偏光片保護層12,但亦可在偏光片11的相位差層30側具有偏光片保護層,如圖2所示,在偏光片11的雙面可具有偏光片保護層12及偏光片保護層13。於圖2,偏光片保護層12及偏光片保護層13可為相同種類的熱塑性樹脂膜,亦可為不同種類的熱塑性樹脂膜。直線偏光板10可更具有後述的基材、配向膜及保護層。
偏光片保護層為用以保護偏光片特別是偏光片的表面的層,該偏光片保護層係只隔著接著劑層或直接配置在偏光片的單面或在雙面。
直線偏光板10的厚度例如為2μm以上100μm以下,較理想為10μm以上60μm以下。
〈偏光片〉
作為偏光片11,例如吸附有具有吸收異向性的色素的延伸膜或延伸層,或者塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜。作為具有吸收異向性的色素,例如二色性色素。作為二色性色素,具體地使用碘、二色性有機染料。於二色性有機染料包括包含C.I.DIRECT RED39等二偶氮化合物的二色性直接染料、包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料。
作為塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜,例如塗佈包含具有液晶性的二色性色素的組成物或包含二色性色素及聚合性液晶的組成物後使其
硬化所得之層等包含聚合性液晶化合物的硬化物的膜等。
(1)吸附有具有吸收異向性的色素的延伸膜或延伸層的偏光片
首先,說明吸附有具有吸收異向性的色素的延伸膜(以下也簡稱為「延伸膜」)的偏光片。吸附有具有吸收異向性的色素的延伸膜通常可經過下述步驟而製造:一軸延伸聚乙烯醇系樹脂膜的步驟;將聚乙烯醇系樹脂膜藉由二色性色素染色,使其吸附該二色性色素的步驟;將吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜藉由硼酸水溶液處理的步驟;以及藉由硼酸水溶液在處理後進行水洗的步驟。在該偏光片的單面或雙面貼合後述的偏光片保護層12者,可使用作為直線偏光板10。該偏光片的厚度較理想為2μm以上40μm以下。
聚乙烯醇系樹脂可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂,除屬於乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯外,可使用乙酸乙烯酯及可與該乙酸乙烯酯共聚合的其他單體的共聚物。作為可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體,例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類或具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳%,較理想為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改性,可使用例如經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮乙醛。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上10000以下,較理想為1500以上5000以下。
將如此的聚乙烯醇系樹脂製膜者,可使用作為偏光片的原料膜。聚乙烯醇系樹脂的製膜方法,無特別限制,可用習知的方法製膜。聚乙烯醇系原料膜的膜厚可為例如10至150μm左右。
聚乙烯醇系樹脂膜的一軸延伸可在藉由二色性色素的染色前、與
染色同時或染色後進行。在染色後進行一軸延伸的情況,該一軸延伸可在硼酸處理前進行,也可在硼酸處理中進行。而且,亦可在該等複數個階段中進行一軸延伸。一軸延伸時,可在轉速不同的滾輪間進行一軸延伸,亦可使用熱滾輪進行一軸延伸。而且,一軸延伸可為在大氣中進行延伸的乾式延伸,亦可為使用溶劑而在聚乙烯醇系樹脂膜膨潤的狀態下進行延伸的濕式延伸。延伸倍率通常為3至8倍左右。
聚乙烯醇系樹脂膜之藉由二色性色素的染色,例如可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素的水溶液的方法進行。作為二色性色素,具體地使用碘或二色性有機染料。於二色性有機染料包括包含C.I.DIRECT RED39等二偶氮化合物的二色性直接染料、包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料。聚乙烯醇系樹脂膜在染色處理前,先實施浸漬於水的處理較理想。
於使用碘作為二色性色素的情況,通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀的水溶液的方法。該水溶液的碘的含量相對於水每100質量份,通常為0.01至1質量份左右。而且,碘化鉀的含量相對於水每100質量份,通常為0.5至20質量份左右。染色所使用的水溶液的溫度通常為20至40℃左右。而且於該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為20至1,800秒左右。
另一方面,於使用二色性有機染料作為二色性色素的情況,通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有水溶性二色性染料的水溶液的方法。該水溶液的二色性有機染料的含量相對於水每100質量份,通常為1×10-4至10質量份左右,較理想為1×10-3至1質量份,更理想為1×10-3至1×10-2質量份。該水溶液亦可含有如硫酸鈉的無機鹽作為染色助劑。染色所使用的二色性染料水溶液的溫度通常為20至80℃左右。而且,於該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為
10至1,800秒。
藉由二色性色素的染色後的硼酸處理可藉由將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液的方法進行。該硼酸水溶液的硼酸的含量,相對於水每100質量份,通常為2至15質量份左右,較理想為5至12質量份。於使用碘作為二色性色素的情況,該硼酸水溶液含有碘化鉀較理想,於該情況的碘化鉀的含量相對於水每100質量份,通常為0.1至15質量份左右,較理想為5至12質量份。於硼酸水溶液的浸漬時間通常為60至1,200秒左右,較理想為150至600秒,更理想為200至400秒。硼酸處理的溫度通常為50℃以上,較理想為50至85℃,更理想為60至80℃。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜,通常進行水洗處理。水洗處理例如藉由將硼酸處理過的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水的方法進行。水洗處理的水的溫度通常為5至40℃左右。而且,浸漬時間通常為1至120秒左右。
水洗後實施乾燥,得到偏光片。乾燥處理可使用例如熱風乾燥機、遠紅外線加熱器進行。乾燥處理的溫度通常為30至100℃左右,較理想為50至80℃。乾燥處理的時間通常為60至600秒左右,較理想為120至600秒。藉由乾燥處理,偏光片的水分比例減少至實用的程度。該水分比例通常為5至20質量%,較理想為8至15質量%。水分比例低於5質量%時,偏光片失去可撓性,偏光片在乾燥後有損傷或破裂的情況。而且,水分比例高於20質量%時,偏光膜的熱安定性有變差的傾向。
如以上方式,對聚乙烯醇系樹脂膜進行一軸延伸、藉由二色性色素的染色、硼酸處理、水洗及乾燥所得之偏光片的厚度,較理想為5至40μm。
然後,說明吸附有具有吸收異向性的色素的延伸層(以下也簡稱為
「延伸層」)之偏光片。吸附有具有吸收異向性的色素的延伸層,通常可經過下述步驟而製造:將包含上述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材上的步驟;對所得之積層膜進行一軸延伸的步驟;將經一軸延伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層用二色性色素染色而使其吸附該二色性色素而作成偏光片的步驟;將吸附有二色性色素的膜用硼酸水溶液處理的步驟;以及,藉由硼酸水溶液在處理後進行水洗的步驟。
作為基材膜的例,可應用後述偏光片保護層12的說明例示者。基材膜可從偏光片剝離除去,基材膜可作為偏光片保護層12。基材膜的厚度例如可為5μm以上200μm以下。於基材被組裝於圓偏光板的情況,基材的厚度為30μm以下較理想。
(2)塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜之偏光片
說明關於塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜之偏光片。塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜,例如為將包含具有液晶性的二色性色素的組成物或包含二色性色素及液晶化合物的組成物塗佈於基材使其硬化所得之膜。該膜可剝離基材後用作為直線偏光板10或者與基材一起用作為直線偏光板10,亦可以只在其單面或在雙面具有偏光片保護層的構成作為直線偏光板10使用。
作為基材的例可應用後述偏光片保護層12的說明例示者。基材可從偏光片剝離除去,基材膜亦可作為偏光片保護層12使用。基材的厚度例如可為5μm以上200μm以下。於基材被組裝於圓偏光板的情況,基材的厚度為30μm以下較理想。基材可在至少一側的面具有硬塗層、抗反射層或抗靜電層。基材亦可只在沒有形成偏光片的側的表面形成硬塗層、抗反射層、抗靜電層等。基材亦可只在形成有偏光片的側的表面形成硬塗層、抗反射層、抗靜電層等。
塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜較理想為薄的,但是太薄的話,強度會降低,加工性有變差的傾向。該膜的厚度通常為20μm以下,較理想為5μm以下,更理想為0.5μm以上3μm以下。
作為塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜,具體地例如日本特開2013-37353號公報、日本特開2013-33249號公報等記載者。
(配向膜)
配向膜可配置於上述基材與包含具有液晶性的二色性色素的組成物或包含二色性色素及液晶性化合物的組成物的硬化物的層之間。配向膜具有使形成於其上方的液晶層往所期望的方向進行液晶配向的配向控制力。作為配向膜,例如申配向性聚合物形成的配向性聚合物層、由光配向聚合物形成的光配向性聚合物層、於層表面具有凹凸形狀或複數條溝槽(溝)的溝槽配向膜。配向膜的厚度可為例如10nm以上500nm以下,較理想為10nm以上200nm以下。
將配向性聚合物溶解於溶劑的組成物塗佈於基材並除去溶劑,依需要進行摩擦處理,可形成配向性聚合物層。於該情況,在由配向性聚合物所形成的配向性聚合物層中,配向控制力可藉由配向性聚合物的表面狀態、摩擦條件而任意調整。
光配向性聚合物層可藉由將包含具有光反應性基的聚合物或單體與溶劑的組成物塗佈於基材層,藉由照射偏光而形成。於該情況,在光配向性聚合物層中,配向控制力可藉由對配向性聚合物的偏光照射條件等而任意調整。
溝槽配向膜例如可藉由下述方法而形成:在感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖形形狀的狹縫的曝光用遮罩進行曝光、顯影等而形成凹凸圖形的方法;在表面具有溝槽的板狀母盤上形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化的層,
將該層轉印至基材而硬化的方法;在基材形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化的層,於該層壓入具有凹凸的捲筒狀的母盤等而形成凹凸後再使其硬化的方法等。
〈偏光片保護層〉
偏光片保護層係用以保護偏光片11特別是偏光片11的表面而使用的層。作為偏光片保護層,例如例示作為後述偏光片保護層12的材料的熱塑性樹脂膜。作為偏光片保護層,例如塗佈型偏光片保護層。塗佈型偏光片保護層例如可為下述的層:將後述硬塗層所使用的組成物、環氧樹脂等的陽離子硬化性組成物、(甲基)丙烯酸酯等自由基硬化性組成物等的塗佈組成物進行塗佈、硬化所成的層。塗佈型偏光片保護層亦可為下述的層:使用聚乙烯醇系樹脂等的水溶液作為塗佈組成物,將其塗佈於偏光片的表面,藉由乾燥所形成的層。塗佈組成物依需要可包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料、染料等的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱安定劑、光安定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑等。
偏光片保護層為塗佈型偏光片保護層的情況,其厚度例如可為30μm以下,較理想為25μm以下,更理想為20μm以下,更加理想為15μm以下,特別更理想為10μm以下。保護層的厚度例如為0.1μm以上。
(熱塑性樹脂膜)
可使用作為偏光片保護層12、13的熱塑性樹脂膜,可以貼合於偏光片11的單面或雙面的形態組裝於直線偏光板10。作為熱塑性樹脂膜,例如可為具有透光性(較理想為光學上透明)的熱塑性樹脂膜,作為其例,例如為:鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂;三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂;聚對苯二
甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚醚醯亞胺系樹脂;聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂;聚醯亞胺系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚碸系樹脂;聚氯乙烯系樹脂;聚偏二氯乙烯系樹脂;聚乙烯醇系樹脂;聚乙烯醇縮醛系樹脂;聚醚酮系樹脂;聚醚醚酮系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚醯胺醯亞胺系樹脂等。熱塑性樹脂可單獨或混合2種以上使用。其中,從強度、透光性的觀點,較理想為三乙醯基纖維系樹脂膜、環狀聚烯烴系樹脂膜及(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
熱塑性樹脂膜不僅可發揮作為保護偏光片用的膜的功能,也可發揮作為相位差膜的功能。在熱塑性樹脂膜的與偏光片為相反側的表面,可形成如硬塗層、抗反射層、抗靜電層的表面處理層(塗佈層)。
藉由在熱塑性樹脂膜上設置硬塗層,可成為硬度及抗刮性提高的樹脂膜。硬塗層可由包含活性能量線硬化型樹脂的硬塗層形成用組成物的硬化物形成。作為紫外線硬化型樹脂,例如丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度,硬塗層可包含添加劑。添加劑無特別限制,例如無機系微粒子、有機系微粒子或該等的混合物。
於偏光片保護層為熱塑性樹脂膜的情況,其厚度為30μm以下。從薄型化的觀點,較理想為25μm以下,更理想為20μm以下,而且通常為1μm以上,較理想為5μm以上,更理想為15μm以上。熱塑性樹脂膜可具有相位差,亦可不具有。
作為偏光片11與熱塑性樹脂膜貼合所使用的接著劑,例如紫外
線硬化性接著劑等活性能量線硬化性接著劑、聚乙烯醇系樹脂的水溶液或於其中調配交聯劑的水溶液、胺基甲酸酯系乳化接著劑等水系接著劑。於偏光片11的雙面貼合熱塑性樹脂膜的情況,形成2個接著劑層的接著劑,可為相同種類,可為不同種。例如於雙面貼合熱塑性樹脂膜的情況,可於一面使用水系接著劑貼合,另一面使用活性能量線硬化性接著劑貼合。紫外線硬化性接著劑可為自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物與光自由基聚合起始劑的混合物、陽離子聚合性環氧化合物與光陽離子聚合起始劑的混合物等。而且,可併用陽離子聚合性環氧化合物與自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物,亦可併用光陽離子聚合起始劑與光自由基聚合起始劑作為起始劑。
於使用活性能量線硬化性接著劑的情況,貼合後,藉由照射活性能量線使接著劑硬化。活性能量線的光源無特別限制,較理想為在波長400nm以下具有發光分佈的活性能量線(紫外線),具體地使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等較理想。
為了提高偏光片11與熱塑性樹脂膜的接著性,在偏光片11與熱塑性樹脂膜的貼合前,可在偏光片11及/或熱塑性樹脂膜的貼合面,實施電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線照射處理、底塗層塗佈處理、皂化處理等的表面處理。
〈液晶硬化相位差層〉
相位差層30係由包含聚合性液晶化合物的硬化物的層所構成。相位差層30較理想為具有包含以聚合性液晶化合物配向的狀態聚合而得的聚合物的硬化物的層。相位差層30可具有後述的配向層及/或基材,亦可分別具有2層以上的液
晶硬化相位差層、配向層及/或基材。於相位差層30具有基材的情況,基材通常在相位差層30貼合於直線偏光板時被除去。
聚合性液晶化合物為具有聚合性基的且可成為液晶狀態的化合物。藉由聚合性液晶化合物的聚合性基彼此反應使聚合聚合性液晶化合物,聚合性液晶化合物會硬化。
(基材)
包含聚合性液晶化合物的硬化物的層,例如可形成於基材所設置的配向層上。前述基材可為具有支撐配向層的功能,且形成為長條狀的基材。該基材可發揮作為離型性支撐體的功能,支撐轉印用的相位差層、配向層。再者,較理想為其表面具有可能剝離的程度的接著力者。作為前述基材,例如可為由下述樹脂所構成的膜:具有透光性(較理想為光學上透明)的熱塑性樹脂,例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)的聚烯烴系樹脂;如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素的纖維素系樹脂;如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯的聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;如甲基丙烯酸甲酯系樹脂的(甲基)丙烯酸系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚氯乙烯系樹脂;丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系樹脂;丙烯腈/苯乙烯系樹脂;聚乙酸乙烯酯系樹脂;聚偏二氯乙烯系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚縮醛系樹脂;改性聚苯醚系樹脂;聚碸系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚芳酯系樹脂;聚醯胺醯亞胺系樹脂;聚醯亞胺系樹脂;馬來醯亞胺系樹脂等。
再者,基材可實施各種抗黏處理。作為抗黏處理,例如易接著處理、混入填充物等的處理、壓花處理(輥紋處理)等。藉由對基材實施如此的防黏處理,在捲取基材時可以有效地防止基材彼此的黏附亦即所謂的黏著,有容易提
高生產性的傾向。
(配向層)
包含聚合性液晶化合物的硬化物的層,可以隔著配向層而形成於基材上。亦即,依序積層基材、配向層,在前述配向層上積層包含聚合性液晶化合物的硬化物的層。
再者,配向層不限於垂直配向層,可為使聚合性液晶化合物的分子軸水平配向的配向層,亦可為使聚合性液晶化合物的分子軸傾斜配向的配向層。作為配向層,較理想為具有不會因後述的包含聚合性液晶化合物的組成物的塗佈等而溶解的耐溶劑性,而且具有用以溶劑去除、液晶化合物配向的在加熱處理的耐熱性者。作為配向層,例如包含配向性聚合物的配向層、光配向膜及於表面形成有凹凸圖形或複數條溝槽的溝槽配向層。配向層的厚度通常為10nm以上10000nm以下的範圍。
而且,配向層可具有支撐液晶層的功能,而發揮作為離型性支撐體的功能。可支撐轉印用的液晶層,而且其表面可具有能夠剝離的程度的接著力者。
作為配向層所使用的樹脂可使用由聚合性化合物聚合的樹脂。聚合性化合物為具有聚合性基的化合物,通常為不會成為液晶狀態的非液晶性的聚合性非液晶性化合物。藉由聚合性化合物的聚合性基彼此的反應使聚合性化合物聚合而成為樹脂。作為如此的樹脂,在液晶層的形成階段,利用作為使聚合性液晶化合物配向用的配向層,不包含於液晶層的話,只要使用習知的配向層的材料,無特別限制,可使用傳統習知的單官能基或多官能基的(甲基)丙烯酸酯系單體在聚合起始劑下硬化而得的硬化物等。具體地,作為(甲基)丙烯酸酯系單體,
例如丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、二乙二醇單2-乙基己醚丙烯酸酯、二乙二醇單苯醚丙烯酸酯、四乙二醇單苯醚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異莰酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫呋喃甲酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸四氫呋喃甲酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸、胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯等。再者,作為樹脂可為該等的1種,亦可為2種以上的混合物。
在形成相位差層30後,與直線偏光板30等積層的步驟前後,配向層可與基材一起剝離除去。
而且,在與基材的剝離性的提高及賦予液晶層膜強度的目的,在液晶層可包含配向層。於液晶層包含配向層的情況,使用單官能基、2官能基的(甲基)丙烯酸酯系單體、醯亞胺系單體或乙烯醚系單體硬化而成的硬化物等,作為配向層所使用的樹脂較理想。
作為單官能基的(甲基)丙烯酸酯系單體,例如碳數為4到16的(甲基)丙烯酸烷酯、碳數為4到14的(甲基)丙烯酸β羧基烷酯、碳數為2到14的(甲基)丙烯酸烷基化苯酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等。
作為2官能基的(甲基)丙烯酸酯系單體,例如:1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯:1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯;1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯;乙二醇二(甲基)丙烯酸酯;二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯;新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯;三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯;四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯;聚乙二醇二丙烯酸酯;雙酚A的雙(丙烯醯氧基乙基)醚;乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯;丙氧基化新戊二醇
二(甲基)丙烯酸酯;乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
而且,作為醯亞胺系單體硬化而後的醯亞胺系樹脂,例如聚醯胺、聚醯亞胺等。再者,作為醯亞胺系樹脂可為該等的1種,亦可為2種以上的混合物。
而且,作為形成配向層的樹脂,可包含除了單官能基或2官能基的(甲基)丙烯酸酯系單體、醯亞胺系單體及乙烯醚系單體以外的單體,單官能基或2官能基的(甲基)丙烯酸酯系單體、醯亞胺系單體及乙烯醚系單體的含有比例,在全部單體中可為50質量%以上,較理想為55質量%以上,更理想為60質量%以上。
於配向層包含於相位差層30的情況,配向層的厚度通常為10nm以上10000nm以下的範圍,於相位差層30的配向性相對於膜面為面內配向的情況,配向層的厚度為10nm以上1000nm以下較理想,於相位差層30的配向性相對於膜面為垂直配向的情況,配向層的厚度為100nm以上10000nm以下較理想。相位差層30的厚度為上述範圍內時,可賦予基材的剝離性的提高及適度的膜強度。
(聚合性液晶化合物)
關於聚合性液晶性化合物的種類,無特別限制,從其形狀可分類為棒狀型(棒狀液晶化合物)與圓盤狀型(圓盤狀液晶化合物、碟狀液晶化合物)。再者,分別有低分子型與高分子型。再者,所謂高分子一般指聚合度100以上者(高分子物理/相變化動力學、土井正男著、第2頁、岩波書店、1992)。
於本實施態樣亦可使用任意的聚合性液晶化合物。再者,可使用2種以上的棒狀液晶化合物、2種以上的圓盤狀液晶化合物或棒狀液晶化合物與圓盤狀液晶化合物的混合物。
再者,作為棒狀液晶化合物,可適合使用例如日本特表平11-513019號公報的請求項1記載者。作為圓盤狀液晶化合物,可適合使用例如日本特開2007-108732號公報的段落[0020]至[0067]或日本特開2010-244038號公報的段落[0013]至[0108]記載者。
聚合性液晶化合物可併用2種以上。於該情況,至少有1種係在分子內具有2個以上的聚合性基者。亦即,前述聚合性液晶化合物硬化的層係藉由具有聚合性基的液晶化合物的聚合而固定形成的層較理想。於該情況,成為層後已不需要顯示液晶性。
聚合性液晶化合物具有可進行聚合反應的聚合性基。作為聚合性基,例如聚合性乙烯性不飽和基、環聚合性基等可進行加成聚合反應官能基較理想。更具體地,作為聚合性基,例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中較理想為(甲基)丙烯醯基。再者,所謂(甲基)丙烯醯基係指包含甲基丙烯醯基及丙烯醯基的概念。
聚合性液晶化合物所具有的液晶性,可為熱致性液晶,亦可為溶致液晶,以排列度分類熱致液晶時,可以是向列型液晶或層列型液晶。
包含聚合性液晶化合物的硬化物的層,如後述可藉由將包含聚合性液晶化合物的組成物(以下亦稱為相位差層形成用組成物)塗佈於例如配向層上,照射活性能量線而形成。於相位差層形成用組成物可包含上述的聚合性液晶化合物以外的成分。例如於相位差層形成用組成物係以包含聚合起始劑較理想。所使用的聚合起始劑,依據聚合反應的型式,例如選擇熱聚合起始劑或光聚合起始劑。例如作為光聚合起始劑,例如α-羰基化合物、醯偶姻醚(acyloin ether)、α-烴基取代芳香族醯偶姻化合物、多核醌化合物、三芳香基咪唑二聚物及對-胺基
苯基酮的組合等。聚合起始劑的使用量相對於前述塗佈液中的全部固形物,以0.01質量%以上20質量%以下較理想,0.5質量%以上5質量%以下更理想。再者,所謂「硬化物」係指所形成的層在單獨的情況不會變形、流動,可獨立地存在的狀態。
而且,從塗佈膜的均勻性及膜的強度的點,於相位差層形成用組成物也可包含聚合性單體。作為聚合性單體,例如自由基聚合性或陽離子聚合性的化合物。其中,較理想為多官能基性自由基聚合性單體。
再者,作為聚合性單體,較理想為可與上述聚合性液晶化合物共聚合者。聚合性單體的使用量相對於聚合性液晶化合物的全部質量,以1質量%以上50質量%以下較理想,2質量%以上30質量%以下更理想。
而且,從塗佈膜的均勻性及膜的強度的點,於相位差層形成用組成物也可包含界面活性劑。作為界面活性劑,例如傳統習知的化合物。其中特別是氟系化合物較理想。
而且,於相位差層形成用組成物亦可包含溶劑,使用有機溶劑較理想。作為有機溶劑,例如醯胺(例如N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如二甲基亞碸)、雜環化合物(例如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、鹵化烷(例如三氯甲烷、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮)、醚(例如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。其中鹵化烷、酮較理想。而且,可併用2種以上的有機溶劑。
而且,於相位差層形成用組成物可包含偏光片界面側垂直配向劑、空氣界面側垂直配向劑等垂直配向促進劑,以及偏光片界面側水平配向劑、空氣界面側水平配向劑等水平配向促進劑等的各種配向劑。再者,於相位差層形
成用組成物,除上述成分外,也可包含黏合改良劑、塑化劑、聚合物等。
上述活性能量線包含紫外線、可見光、電子線、X射線,較理想為紫外線。作為前述活性能量線的光源,例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、在波長範圍380至440nm發光的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
紫外線的照射強度通常在紫外線B波(波長區域280nm以上310nm以下)的情況為100mW/cm2以上3,000mW/cm2以下。紫外線的照射強度較理想地為陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑的活性化有效的波長區域的強度。照射紫外線的時間通常為0.1秒以上10分鐘以下,較理想為0.1秒以上5分鐘以下,更理想為0.1秒以上3分鐘以下,更加理想為0.1秒以上1分鐘以下。
紫外線可以1次或分為複數次照射。雖然依據使用的聚合起始劑,但在波長365nm的累積光量為700mJ/cm2以上較理想,1,100mJ/cm2以上更理想,1,300mJ/cm2以上更加理想。上述累積光量有利於提高構成液晶層的聚合性液晶化合物的聚合率,且提高耐熱性。在波長365nm的累積光量為2,000mJ/cm2以下較理想,1,800mJ/cm2以下更理想。上述累積光量可能導致液晶層的著色。
於本實施態樣,相位差層30的厚度為0.5μm以上較理想。而且,相位差層30的厚度為10μm以下較理想,5μm以下更理想。再者,上述的上限值及下限值可任意地組合,相位差層30的厚度為前述下限值以上時,可得到充分的耐久性。相位差層30的厚度為前述上限值以下時,可貢獻圓偏光板100的薄層化。可調整相位差層30的厚度,以使賦予λ/4相位差的層、賦予λ/2相位差的層或正型C層得到期望的面內相位差值及厚度方向的相位差值。
於相位差層30中,可包含分別積層具有不同的相位差特性的複數個液晶硬化相位差層者。各液晶硬化相位差層可使用接著劑積層,亦可在已經形成液晶層的表面塗佈包含聚合性液晶化合物的組成物而使其硬化。
(相位差層積層體)
圖2所示的圓偏光板200所包含的相位差層40係積層有第1液晶硬化相位差層41(以下亦稱為第1相位差層41)與第2液晶硬化相位差層42(以下亦稱為第2相位差層42)的相位差層積層體。第1相位差層41與第2相位差層42分別可為賦予λ/2相位差的層、賦予λ/4相位差的層或正型C層。相位差層40中,較理想係第1相位差層41及第2相位差層42中的任一者發揮作為賦予λ/4相位差的層的功能,而另一者發揮作為賦予λ/2相位差的層的功能,或者第1相位差層41及第2相位差層42中的任一者發揮作為賦予λ/4相位差的層的功能,而另一者發揮作為正型C層的功能。所以,可調整第1相位差層41及第2相位差層42的厚度以及構成該等的材料,以使賦予λ/4相位差的層、賦予λ/2相位差的層或正型C層得到期望的面內相位差值及厚度方向的相位差值。
於第1相位差層41作為賦予λ/2相位差的層的功能,第2相位差層42作為賦予λ/4相位差的層的功能的情況,第1相位差層41的厚度例如為1μm以上10μm以下,第2相位差層42的厚度例如為1μm以上10μm以下。於第1相位差層41發揮作為賦予λ/2相位差的層的功能,而第2相位差層42發揮作為正型C層的功能的情況,第1相位差層41的厚度例如為1μm以上10μm以下,第2相位差層42的厚度例如為1μm以上10μm以下。
第1相位差層41及第2相位差層42的形成所使用的透明基材、配向層及液晶化合物,可使用與上述相位差層30例示者相同者。第1相位差層
41及第2相位差層42的組成可為相同,亦可為不同。
第1相位差層41及第2相位差層42分別與上述相位差層3的說明同樣地,可依透明基材、配向層及相位差層的順序積層。透明基材及配向層可被剝離而組裝於圓偏光板,透明基材通常在將相位差層積層體組裝於圓偏光板時被剝離除去。
第1相位差層41及第2相位差層42通常可隔著接著劑貼合。接著劑係塗佈於第1相位差層41及第2相位差層42的任一者的接合面或兩者的接合面。
作為接著劑,例如水系接著劑及活性能量線硬化性接著劑。作為水系接著劑,例如將聚乙烯醇系樹脂溶解或分散於水的接著劑。作為活性能量線硬化性接著劑,例如含有藉由如紫外線、可見光、電子線的活性能量線的照射而硬化的硬化性化合物的接著劑。表示硬化後的活性能量線硬化性接著劑的硬度的指標之儲存彈性模數,大多的情況比水系接著劑的儲存彈性模數高。接著劑較理想地使用活性能量線硬化性接著劑。
作為活性能量線硬化性接著劑,由於要顯示良好的接著性,故以包含陽離子聚合性的硬化性化合物及自由基聚合性的硬化性化合物中的一者或兩者較理想。活性能量線硬化性接著劑可更包含用以使上述硬化性化合物引起硬化反應的陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑中的一者或兩者。
作為陽離子聚合性的硬化性化合物,例如環氧系化合物(分子內具有1個或2個以上的環氧基的化合物)、氧雜環丁烷系化合物(分子內具有1個或2個以上的氧雜環丁烷環的化合物)或該等的組合。
作為自由基聚合性的硬化性化合物,例如(甲基)丙烯酸系化合物
(分子內具有1個或2個以上的(甲基)丙烯醯氧基的化合物)、具有自由基聚合性的雙鍵的其他乙烯系化合物及該等的組合。
活性能量線硬化性接著劑可依需要含有陽離子聚合促進劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑、抗靜電劑、調平劑、溶劑等添加劑。
於相位差層積層體,使用接著劑貼合第1相位差層41及第2相位差層42的情況,首先將接著劑塗佈於第1相位差層41及第2相位差層42中的一者或兩者的接合面。
作為將接著劑塗佈於上述接合面的方法,若採用狹縫塗佈機、缺角輪塗佈機、反向滾輪塗佈機、凹版塗佈機、棒塗機、線棒塗佈機、刮刀塗佈機、空氣刮刀塗佈機等的通常的塗佈技術即可。
於使用水系接著劑的情況的乾燥方法,無特別限制,可採用熱風乾燥機、紅外線乾燥機進行乾燥的方法。
另一方面,於使用活性能量線硬化性接著劑的情況,照射如紫外線、可見光、電子線、X射線的活性能量線,使活性能量線硬化性接著劑硬化。作為活性能量線,較理想為紫外線,作為該情況的光源,可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
貼合第1相位差層41及第2相位差層42的接著劑的厚度為10μm以下較理想,5μm以下更理想。接著劑的厚度為前述上限值以下時,第1相位差層41與第2相位差層42間不易產生浮起或剝離。
〈接著劑層〉
直線偏光板10與液晶硬化相位差層30或40貼合用的接著劑層20,通常可為由感壓式黏著劑(以下亦稱為黏著劑)形成的黏著劑層。黏著劑層的儲存彈性模數為46000Pa以上較理想,更理想為50000Pa以上,更加理想為100000Pa以上。黏著劑層的儲存彈性模數通常為50MPa以下。黏著劑層的儲存彈性模數可根據後述實施例的欄說明的測定方法進行測定。
黏著劑層可為由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系的樹脂為主成分的黏著劑組成物所構成。其中,從透明性、耐候性、耐熱性及儲存彈性模數的觀點,較理想為以(甲基)丙烯酸系樹脂為基質聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
作為黏著劑組成物所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物),適合使用例如以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯的(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上為單體的聚合物或共聚物。基質聚合物以與極性單體共聚合較理想。作為極性單體,例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可以只包含上述基質聚合物,通常更含有交聯劑。作為交聯劑,例如屬於2價以上的金屬離子且在與羧基之間形成羧酸金屬鹽者;屬於多胺化合物且在與羧基之間形成醯胺鍵者;屬於聚環氧化合物、多元醇且在與羧基之間形成酯鍵者;屬於聚異氰酸酯化合物且在與羧基之間形成醯胺鍵者。其中,聚異氰酸酯化合物較理想。
黏著劑層的形成例如可藉由下述方發進行:於甲苯、乙酸乙酯等
的有機溶劑中溶解或分散黏著劑組成物,調製黏著劑液,將該黏著劑液直接塗佈於積層體的對象面而形成黏著劑層的方式;或者先在施以離型處理的分隔膜上形成片狀的黏著劑層,將其轉移到圓偏光板的對象面的方式等。
圓偏光板可以包含上述的分隔膜。分隔膜可為由聚乙烯等的聚乙烯系樹脂、聚丙烯等的聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯等的聚酯系樹脂所構成的膜。其中,較理想為聚對苯二甲酸乙二酯的延伸膜。
黏著劑層可以包含任意成分,例如玻璃纖維、玻璃珠、樹脂粒、由金屬粉或其他無機粉末所構成的填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑等。
作為抗靜電劑,例如離子性化合物、導電性微粒子,導電性高分子,使用離子性化合物較理想。
構成離子性化合物的陽離子成分可為無機陽離子或有機陽離子。
作為有機陽離子,例如吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子等,作為無機陽離子,例如鋰離子、鉀離子等。
另一方面,作為構成離子性化合物的陰離子成分可為無機陰離子或有機陰離子,由於可賦予良好的抗靜電功能的離子性化合物,包含氟原子的陰離子成分較理想。作為包含氟原子的陰離子成分,例如六氟磷酸根陰離子[(PF6 -)]、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]等。
接著劑層的厚度依據其接著力而決定,例如1μm以上50μm以下的範圍,較理想為2μm以上45μm以下,更理想為3μm以上40μm以下,
更加理想為5μm以上35μm以下。
(其他層)
圓偏光板可以更具有例如貼合層、觸控感測面板、圖像顯示元件等。作為圖像顯示元件,例如有機電激發光(EL)顯示元件、液晶顯示元件等。
(貼合層)
如圖2所示的圓偏光板200,在液晶硬化相位差層的最外表面可配置貼合層50。貼合層50可為用以將觸控感測面板、圖像顯示元件等貼合於圓偏光板200的層。貼合層50通常由黏著劑構成。作為構成貼合層50的黏著劑,可使用傳統習知的黏著劑,無特別限制,可使用具有丙烯酸系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚乙烯醚系聚合物等的基質聚合物的黏著劑。而且,可為活性能量線硬化型黏著劑或熱硬化型黏著劑等。
貼合層50的儲存彈性模數為10000Pa以上較理想,20000Pa以上更理想。貼合層50的儲存彈性模數通常為50MPa以下。
〈圓偏光板的用途〉
圓偏光板可以使用於圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置,無特別限制,例如有機電激發光(有機EL)顯示裝置、無機電激發光(無機EL)顯示裝置、液晶顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電場發光顯示裝置等。
〈可撓性圖像顯示裝置用積層體〉
圖像顯示裝置可為可撓性圖像顯示裝置。可撓性圖像顯示裝置係由可撓性圖像顯示裝置用積層體與有機EL顯示面板所構成,且於有機EL顯示面板的辨識側處配置可撓性圖像顯示裝置用積層體而構成可彎曲者。作為可撓性圖像顯示裝置用積層體,可包含本發明的圓偏光板、前面板及/或觸控感測器,該等的
積層順序為任意的,從辨識側起依序積層前面板(視窗)、本發明的圓偏光板、觸控感測器,或前面板、觸控感測器、本發明的圓偏光板較理想。觸控感測器的辨識側存在圓偏光板時,觸控感測器的圖形變得不易被辨識,顯示圖像的辨識性變好,因而較理想。各個構件可使用接著劑、黏著劑等積層。而且,可以具備形成於前面板、圓偏光板、觸控感測器中的至少一面的遮光圖形。
[前面板]
在直線偏光板的辨識側,可配置前面板。前面板可隔著接著層積層於偏光板。作為接著層,例如前述的黏著劑層、接著劑層。
作為前面板,例如在玻璃、樹脂膜的至少一面包含硬塗層而成者。作為玻璃,可使用例如高穿透性玻璃、強化玻璃。特別是使用薄透明面材的情況,實施化學強化過的玻璃較理想。玻璃的厚度可為例如100μm以上5mm以下。
樹脂膜的至少一面包含硬塗層而成的前面板,並不如現有的玻璃堅硬,可具有可撓特性。硬塗層的厚度無特別限制,可為例如5μm以上100μm以下。
作為樹脂膜,可以是由下述者所形成的膜:具有包含如降莰烯或多環降莰烯系單體的環烯烴的單體單元的環烯烴系衍生物、纖維素(二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素、乙醯基纖維素丁酸酯、異丁酯纖維素、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚環烯烴、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚丙烯酸、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮酮、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚胺基甲酸酯、
環氧樹脂等的高分子。樹脂膜可使用未延伸、1軸或2軸延伸膜。該等高分子可分別單獨或混合2種以上使用。作為樹脂膜,較理想為透明性及耐熱性佳的聚醯胺醯亞胺膜或聚醯亞胺膜、1軸或2軸延伸的聚酯膜、透明性及耐熱性皆佳且可對應膜的大型化的環烯烴系衍生物膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、無透明性及無光學上異向性的三乙醯基纖維素及異丁酯纖維素膜較理想。樹脂膜的厚度為5μm以上200μm以下,較理想為20μm以上100μm以下。
[遮光圖形]
遮光圖形(邊框)可形成於前面板的顯示元件側處。遮光圖形可隱藏顯示裝置的各配線而不被使用者識別。遮光圖形的顏色及材質無特別限制,可用具有黑色、白色、金色等各種顏色的樹脂物質形成。於一實施態樣,遮光圖形的厚度可為2μm以上50μm以下,較理想為4μm以上30μm以下,更理想為6μm以上15μm以下的範圍。而且,為了抑制遮光圖形與顯示部之間的階差造成的氣泡混入及邊界部的識別,可對遮光圖形賦予形狀。
[觸控感測器]
觸控感測器被使用作為輸入手段。作為觸控感測器,已有提出電阻膜方式、表面彈性波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電容方式等各種類型,任一種方式皆可。其中,較理想為靜電容方式。靜電容方式觸控感測器係區分為活性區域及位於前述活性區域的輪廓部的非活性區域。活性區域是在顯示面板鄉與顯示畫面的區域(顯示部)對應之區域,感測使用者的碰觸的區域,非活性區域是在顯示裝置中與不顯示畫面的區域(非顯示部)對應的區域。觸控感測器可包含:具有可撓性的基板;形成於前述基板的活性區域的感測圖形;以及形成於前述基板的非活性區域且隔著前述感測圖形及墊部而與外部的驅動電路連接的各感測
線。作為具有可撓性的基板,可使用與前述視窗的透明基板相同的材料。從抑制觸控感測器可能出現的龜裂的觀點,觸控感測器的基板的韌性為2,000MPa%以上較理想。更理想地韌性為2,000MPa%至30,000MPa%。此處,韌性係定義為通過高分子材料的拉伸測試所得之應力(MPa)-應變(%)曲線中達到斷裂點前的曲線的下部面積。
關於可撓性圖像顯示裝置用積層體的層構成,一邊參考圖3一邊加以說明。圖3所示的可撓性圖像顯示裝置用積層體300具備液晶硬化相位差層70及積層於其一側的直線偏光板60。可撓性圖像顯示裝置用積層體300更具備位於直線偏光板60的辨識側處的前面板80、位於液晶硬化相位差層70的與直線偏光板60為相反側處的觸控感測器90。前面板80在直線偏光板60側的面具有遮光圖形81。
〈圓偏光板的製造方法〉
圓偏光板可藉由包含下述步驟的方法而製造:將直線偏光板與液晶硬化相位差層隔著接著劑層貼合的步驟。於隔著接著劑層貼合層彼此的情況,為了提高黏合性,對貼合面的一者或兩者實施例如電暈處理等的表面活性化處理較理想。
於偏光片為吸附有具有吸收異向性的色素的延伸膜或延伸層的情況,偏光片的製造方法可如上述吸附有具有吸收異向性的色素的延伸膜或延伸層的說明所述地製造。
於偏光片為塗布具有吸收異向性的色素而硬化的膜的情況,偏光片可在基材上隔著配向膜形成。偏光片可藉由塗佈包含二色性色素及聚合性液晶化合物的偏光片形成用組成物,並使其硬化而形成。偏光片形成用組成物除了上述的二色性色素及聚合性液晶化合物外,更包含聚合起始劑、調平劑、溶劑較
理想,可更包含光增感劑、聚合抑制劑、調平劑等。
藉由在基材上及配向膜(在有配向膜存在的情形)上,塗佈包含聚合性液晶化合物的相位差層形成用組成物,使聚合性液晶化合物聚合,可製造液晶硬化相位差層。相位差層形成用組成物更包含溶劑、聚合起始劑,且可更包含光增感劑、聚合抑制劑、調平劑等。基材及配向膜可被組裝於液晶硬化相位差層,或者從液晶硬化相位差層剝離而不作為圓偏光板的構成要件。
偏光片形成用組成物及相位差層形成用組成物的塗佈、乾燥及聚合性液晶化合物的聚合,可藉由傳統習知的塗佈方法、乾燥方法及聚合方法進行。
例如作為偏光片形成用組成物及相位差層形成用組成物的塗佈方法,可採用線棒塗佈法、擠出塗佈法、直接凹版塗佈法、反向凹版塗佈法及狹縫塗佈法等。
聚合性液晶化合物的聚合方法若依據聚合性液晶化合物的聚合性基的種類選擇即可。前述聚合性基為光聚合性基的話,可藉由光聚合法聚合。前述聚合性基為熱聚合性基的話,可藉由熱聚合法聚合。本實施態樣的液晶硬化相位差層的製造方法,較理想為光聚合法。因為光聚合法不一定需要將透明基材加熱至高溫,故可使用耐熱性低的透明基材。光聚合法可藉由對由包含聚合性液晶化合物的偏光片形成用組成物或相位差層形成用組成物所成的膜,照射可見光或紫外光而進行。從容易處理的點,較理想為紫外線。
接著劑層可製備為黏著片。黏著片可藉由下述方式等而製作:在甲苯、乙酸乙酯等的有機溶劑中溶解或分散黏著劑組成物而調製黏著劑液,將該黏著劑液在施以離型處理的剝離膜上形成片狀的由黏著劑所構成的層,於該黏
著劑層上進一步貼合不同的剝離膜。藉由將剝離了一側的剝離膜的黏著片貼合於其中一層,然後剝離另一側的剝離膜,貼合另一層的方法,可貼合各層。
作為塗佈黏著劑液於剝離膜上的方法,可採用狹縫塗佈機、缺角輪塗佈機、反向滾輪塗佈機、凹版塗佈機、棒塗機、線棒塗佈機、刮刀塗佈機、空氣刮刀塗佈機等的通常的塗佈技術即可。
剝離膜較理想地由塑膠膜與剝離層構成。作為塑膠膜,例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯及聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯膜,或聚丙烯膜等的聚烯烴膜。而且,剝離層可由例如剝離層形成用組成物所形成。作為構成剝離層形成用組成物的主成分(樹脂),無特別限制,例如聚矽氧樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸樹脂及長鏈烷基樹脂等。
接著劑層的厚度可依據各黏著劑液的塗佈條件調整。為了減少接著劑層的厚度,使塗佈厚度變小為有效果的。
圓偏光板可藉由從將直線偏光板與液晶硬化相位差層隔著接著劑層貼合而成的長條狀膜中,裁切出既定的尺寸而製造。而且,圓偏光板亦可藉由將已裁切為既定的尺寸的直線偏光板與液晶硬化相位差層隔著接著劑層貼合而製造。
[實施例]
以下,藉由實施例,更詳細地說明本發明。
〈冷熱衝擊測試〉
對實施例及比較例所得之長邊尺寸(與第1液晶硬化相位差層的慢軸方向平行的邊的尺寸)為130mm且短邊尺寸(與第1液晶硬化相位差層的快軸方向平行
的邊的尺寸)為70mm的圓偏光板,進行冷熱衝擊測試,求出尺寸差的變化量的絕對值及反射色相差的變化量的絕對值。
冷熱衝擊測試係將隔著液晶硬化相位差層側的黏著劑層貼合於無機玻璃的圓偏光板,設置於熱衝擊測試槽,將冷卻至-40℃後並在-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃並在85℃保持30分鐘的操作為1個循環,重複冷熱測試300個循環。
冷熱衝擊測試後,藉由光學顯微鏡,以透過光觀察圓偏光板,確認是否發生龜裂。
[快軸方向的位移量的測定方法]
冷熱衝擊測試前的圓偏光板的兩長邊側的中央部,分別使用光學顯微鏡測量偏光片的端部位置對相位差層的端部位置的偏離量D1及D2[圖4],將偏離量D1及D2合計,求出冷熱衝擊測試前的快軸方向的合計偏離量。測定在300個循環結束後,將圓偏光板的溫度從85℃冷卻至室溫進行。偏離量係以相位差層的端部位置為基準,圓偏光板內側方向為正,圓偏光板外側方向為負。接著,對圓偏光板實施冷熱衝擊測試後,以同樣的方式求出冷熱衝擊測試後的快軸方向的合計偏離量。然後,根據下述式,求出快軸方向的位移量。此外,快軸方向為第1液晶硬化相位差層的快軸方向。
快軸方向的位移量(μm)=|[冷熱衝擊測試前的快軸方向的合計偏離量(μm)]-[冷熱衝擊測試後的快軸方向的合計偏離量(μm)]|
[反射色相差的變化量的測定方法]
將圖4所示的圓偏光板的與直線偏光板相反側的面與鋁板(反射板)隔著黏著劑層貼合,對其周緣部4處(1)至(4)與中央部(5),使用分光測色計(柯尼卡美能
達公司製、CM2600d、測定直徑:3 mm)測定反射色相(a*、b*)。從相對於周緣部4處(1)至(4)的反射色相的平均值(a0 *、b0 *)之中央部(5)的反射色相(a0 *’、b0 *’),根據下述式,求出冷熱衝擊測試前的周緣部與中央部的反射色相差(△0a*b*)。
反射色相差(△0a*b*)={[a0 *-a0 *’]2+[b0 *-b0 *’]2}1/2
然後,對圓偏光板實施冷熱衝擊測試後,與上述同樣地,從相對於周緣部4處(1)至(4)的反射色相的平均值(a1 *、b1 *)之中央部(5)的反射色相(a1 *’、b1 *’),根據下述式,求出冷熱衝擊測試後的周緣部與中央部的反射色相差(△1a*b*)。
反射色相差(△1a*b*)={[a1 *-a1 *’]2+[b1 *-b1 *’]2}1/2
由求出的冷熱衝擊測試前後的反射色相差,根據下述式,求出反射色相的變化量的絕對值。
反射色相差的變化量=|反射色相差(△1a*b*)-反射色相差(△0a*b*)|
〈儲存彈性模數的測定方法〉
接著劑層的儲存彈性模數係藉由下述方法測定。
將實施例及比較例所使用的黏著劑層以使其成為厚度0.2mm的方式積層複數片。從所得之黏著劑層沖出直徑8mm的圓柱體,將其作為儲存彈性模數的測定用樣品。根據JIS K7244-6,對上述樣品使用黏彈性測定裝置(Physica公司製、MCR300),藉由扭轉剪切法在以下條件下測定儲存彈性模數(Pa)。
[測定條件]
法向力FN:1N
變形γ:1%
頻率:1Hz
溫度:25℃
〈直線偏光板〉
[偏光片的製作]
將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%且厚度30μm的聚乙烯醇膜[Kuraray股份有限公司的商品名「VF-PE # 3000」]浸漬於37℃的純水後,在30℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.04/1.5/100的水溶液。然後,在56.5℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為12/3.6/100的水溶液。接著,以10℃的純水洗淨後,在85℃乾燥,製作碘吸附配向於聚乙烯醇的厚度約12μm的偏光片。延伸係在碘染色及硼酸處理的步驟進行。全部延伸倍率為4.8倍。
[第1保護膜]
使用厚度30μm的降莰烯系樹脂膜。於該膜的一側表面實施表面處理,另一側的面成為與偏光片的貼合面。
[第2保護膜]
使用厚度20μm的三乙醯基纖維素系樹脂膜。
[直線偏光板的製作]
於上述的偏光片隔著水系接著劑依序貼合第1保護膜及第2保護膜,製造偏光板。作為水系接著劑,係使用在水100份中溶解羧基改性聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司製的商品名「KL-318」)3份,於該水溶液添加水溶性環氧樹脂的聚醯胺環氧系添加劑〔田岡化學工業股份有限公司取得之商品名「SUMIREZ RESIN(註冊商標)650(30)」、固形物濃度30%的水溶液〕1.5份之環氧系接著劑。
〈液晶硬化相位差層〉
[第1液晶硬化相位差層]
作為第1液晶硬化相位差層,準備由向列型液晶化合物硬化而成的層、配向膜及透明基材所構成的賦予λ/4相位差的層。再者,向列型液晶化合物硬化而成的層與配向層的合計厚度為2μm。向列型液晶化合物硬化而成的層係藉由將含有向列型液晶化合物的相位差層形成用組成物塗佈於透明基材上所形成的配向膜上,使其硬化而形成。
[第2液晶硬化相位差層]
使用厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材作為透明基材,於其單面塗佈垂直配向層用組成物以使膜厚成為3μm,照射20mJ/cm2的紫外線,製作配向層。再者,作為該垂直配向層用組成物,使用將丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫呋喃甲酯、二季戊四醇三丙烯酸酯及雙(2-乙烯基氧基乙基)醚以1:1:4:5的比例混合,並添加4%比例的LUCIRIN(註冊商標)TPO作為聚合起始劑而得之混合物。
然後,在形成的配向層上,藉由狹縫塗佈機塗佈含有光聚合性向列型液晶(默克公司製、RMM28B)的相位差層形成用組成物於配向層上。此處,液晶組成物中,使用將甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)及沸點155℃的環己酮(CHN)以質量比(MEK:MIBK:CHN)35:30:35的比例混合的混合溶劑,作為溶劑。然後將固形物調製成1至1.5g所調製的相位差層形成用組成物,以塗佈量為4至5g(濕)地塗佈於配向層上。
於配向層上塗佈相位差層形成用組成物後,將乾燥溫度設為75℃,將乾燥時間設為120秒,實施乾燥處理。然後,藉由紫外線(UV)照射,使液晶化合物聚合,得到由光聚合性向列型液晶化合物硬化而成的層、配向層、透明基材所構成的正型C層。光聚合性向列型液晶化合物硬化而成的層與配向層的
合計厚度為4μm。
[相位差層積層體的製作]
將第1液晶硬化相位差層與第2液晶硬化相位差層,藉由紫外線硬化型接著劑,使各別的液晶硬化相位差層面(與透明基材為相反側的面)成為貼合面的方式進行貼合。然後,照射紫外線使紫外線硬化型接著劑硬化。紫外線硬化型接著劑硬化後的厚度為2μm。如此地製作由第1液晶硬化相位差層與第2液晶硬化相位差層的2層液晶硬化相位差層所構成的相位差層積層體。
〈接著劑層〉
[黏著劑層1]
使用在施以離型處理的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(剝離膜)的離型處理面上積層厚度5μm的丙烯酸系黏著劑層的市售黏著劑片。從黏著劑片除去剝離膜的黏著劑層的儲存彈性模數在25℃為125000Pa。
[黏著劑層2]
使用在施以離型處理的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(剝離膜)的離型處理面上積層厚度17μm的丙烯酸系黏著劑層的市售黏著劑片。從黏著劑片除去剝離膜的黏著劑層的儲存彈性模數在25℃為45200Pa。
[黏著劑層3]
使用在施以離型處理的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(剝離膜)的離型處理面上積層厚度25μm的丙烯酸系黏著劑層的市售黏著劑片。從黏著劑片除去剝離膜的黏著劑層的儲存彈性模數在25℃為25500Pa。
[黏著劑層4]
使用在施以離型處理的厚度38μm的聚對苯二甲酸二乙酯基材(剝離膜)的離型處理面上積層厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層的市售黏著劑片。從黏著劑片除去剝離膜的黏著劑層的儲存彈性模數在25℃為125000Pa。
〈實施例1〉
在上述的偏光板的第2保護膜(三乙醯基纖維素系樹脂膜)側面,轉移黏著劑層1。將積層於黏著劑層1的分隔膜剝離,再積層於上述由2層液晶硬化相位差層所構成的相位差層積層體的第1液晶硬化相位差層側的透明基材經剝離的面。將上述液晶硬化相位差層的與積層於偏光片的面為相反側的透明基材剝離。在剝離透明基材後露出的面,積層黏著劑層4。如此地,製作依序由第1保護膜、偏光片、第2保護膜、黏著劑層1、第1液晶硬化相位差層(賦予λ/4相位差的層)、接著劑層、第2液晶硬化相位差層(正型C層)及黏著劑層4構成的實施例1的圓偏光板。
將所得之附黏著劑層的圓偏光板裁切為130mm×70mm的大小,將黏著劑層4貼合於無機玻璃板,進行冷熱衝擊測試。冷熱衝擊測試前的快軸方向的合計偏離量為零。結果表示於表1。而且,圖5表示冷熱衝擊測試後的長邊側的偏光片與相位差層的偏離的光學顯微鏡照片。
〈實施例2〉
於實施例1,除了將黏著劑層替換成黏著劑層34以外,與實施例1同樣地,製作實施例2的圓偏光板,進行冷熱衝擊測試。結果表示於表1。
〈比較例1〉
於實施例1,除了將黏著劑層1替換成黏著劑層2以外,與實施例1同樣地,製作比較例1的圓偏光板,進行冷熱衝擊測試。於慢軸方向確認有長度50mm以上的龜裂的發生。結果表示於表1。
Claims (7)
- 一種圓偏光板,其具備:直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,在將前述圓偏光板的前述液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,進行冷熱衝擊測試後,周緣部的前述液晶硬化相位差層與前述偏光片之間的相較於前述冷熱衝擊測試前之快軸方向的位移量為190μm以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環。
- 一種圓偏光板,其具備:直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,在將前述圓偏光板的前述液晶硬化相位差層側貼合於無機玻璃板的狀態下,在冷熱衝擊測試中,相對於前述冷熱衝擊測試前的周緣部與中央部的反射色相差(△0a*b*),前述冷熱衝擊測試後的周緣部與中央部的反射色相差(△1a*b*)的變化量為0.65以下,其中該冷熱衝擊測試係以冷卻至-40℃保持30分鐘後,加熱至85℃保持30分鐘的操作為1個循環,而重複測試300個循環。
- 一種圓偏光板,其具備:直線偏光板,係具有偏光片、及設置於前述偏光片的至少單面的厚度30μm以下的偏光片保護層;以及液晶硬化相位差層,係隔著接著劑層積層於前述直線偏光板;其中,前述接著劑層的儲存彈性模數為46000Pa以上。
- 如請求項1至3中任一項所述之圓偏光板,其中,前述直線偏光板中,前述偏光片保護層係設置於前述偏光片的雙面。
- 如請求項1至4中任一項所述之圓偏光板,其係在前述液晶硬化相位差層側的最外表面更具有接著劑層。
- 一種可撓性圖像顯示裝置用積層體,包括如請求項1至5中任一項所述之圓偏光板、前面板及/或觸控感測器。
- 一種圖像顯示裝置,具備如請求項1至5中任一項所述之圓偏光板。
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