TW201947734A - 扇出型半導體封裝 - Google Patents

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金漢
朴盛燦
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Abstract

一種扇出型半導體封裝包括：連接構件，包括絕緣層及重佈線層；半導體晶片，設置於所述連接構件上；包封體，包封所述半導體晶片；以及電磁輻射阻擋層，設置於所述半導體晶片上方，且包括其中形成有多個排氣孔的基底層及填充於所述多個排氣孔中的多孔阻擋部分。

Description

扇出型半導體封裝
本揭露是有關於一種半導體封裝，且更具體而言，有關於一種電性連接結構可朝向設置有半導體晶片的區域之外延伸的扇出型半導體封裝。
與半導體晶片相關的技術發展中的近期重大趨勢為減小半導體晶片的尺寸。因此，在封裝技術領域中，隨著對於小尺寸半導體晶片等的需求快速增加，需要實現在包括多個引腳的同時具有緊湊尺寸的半導體封裝。
被建議來滿足上述技術需求的半導體封裝技術的一種類型是扇出型半導體封裝。此種扇出型封裝具有緊湊尺寸，並可藉由將連接端子朝設置有半導體晶片的區域之外進行重佈線而實現多個引腳。
在半導體封裝中，當電磁輻射影響半導體晶片等時，可能出現問題。因此，在半導體封裝中需要有效的電磁輻射阻擋結構。
本揭露的態樣可提供一種電磁輻射阻擋效率可為高且可能在產品中產生的氣體可被有效地移除的扇出型半導體封裝。
根據本揭露的態樣，一種扇出型半導體封裝可包括：連接構件，包括絕緣層及重佈線層；半導體晶片，設置於所述連接構件上；包封體，包封所述半導體晶片；以及電磁輻射阻擋層，設置於所述半導體晶片上方，且包括其中形成有多個排氣孔的基底層及填充於所述多個排氣孔中的多孔阻擋部分。
多孔阻擋部分可具有多個顆粒凝聚的形式。
多孔阻擋部分可為多孔鍍覆層。
基底層可具有金屬薄膜形式。
基底層可為鍍銅層。
電磁輻射阻擋層可包括第一區域及第二區域，且所述排氣孔的密度可在所述第一區域中較在所述第二區域中高。
第二區域可設置於與半導體晶片對應的區域中。
所述扇出型半導體封裝可更包括核心構件，所述核心構件包括容置所述半導體晶片的貫穿孔及覆蓋形成所述貫穿孔的壁的金屬層。
所述核心構件的所述金屬層與所述電磁輻射阻擋層可藉由貫穿所述包封體的導電通孔彼此連接。
所述扇出型半導體封裝可更包括設置於所述連接構件上的多個被動組件。
第一區域可設置於與所述多個被動組件中的至少一些被動組件對應的區域中。
自所述多個被動組件中的至少一些被動組件的上表面至所述包封體的上表面的距離可彼此不同，且所述排氣孔的密度可在與所述多個被動組件中自其上表面至所述包封體的上表面的距離較大的被動組件對應的區域中較高。
所述多個被動組件可包括電容器及電感器，且所述排氣孔的密度可在與所述電容器對應的區域中較在與所述電感器對應的區域中高。
根據本揭露的另一態樣，一種扇出型半導體封裝可包括：連接構件，包括絕緣層及重佈線層；半導體晶片，設置於所述連接構件上；包封體，包封所述半導體晶片；以及電磁輻射阻擋層，設置於所述半導體晶片上方，且具有多孔結構。
電磁輻射阻擋層可具有多個顆粒凝聚的形式。
電磁輻射阻擋層可為多孔鍍覆層。
在下文中，將參照附圖闡述本揭露中的各例示性實施例。在附圖中，為清晰起見，可誇大或縮小組件的形狀、尺寸等。
在本文中，下側、下部分、下表面等是用來指代相對於圖式的剖面的朝向扇出型半導體封裝之安裝表面的方向，而上側、上部分、上表面等是用來指代與所述方向相反的方向。然而，定義該些方向是為了方便闡釋，且本申請專利範圍並不受如上所述所定義的方向特別限制。
在說明中，組件與另一組件的「連接」的意義在概念上包括經由黏合層的間接連接以及在兩個組件之間的直接連接。另外，「電性連接」在概念上包括物理連接及物理斷接（disconnection）。應理解，當以例如「第一」及「第二」等用語來指代元件時，所述元件並不因此受到限制。使用「第一」及「第二」可能僅用於將所述元件與其他元件區分開的目的，且可不限制所述元件的順序或重要性。在一些情形中，在不背離本文中所提出的申請專利範圍的範圍的條件下，第一元件可被稱作第二元件。相似地，第二元件亦可稱作第一元件。
本文中所使用的用語「例示性實施例」並不意指同一例示性實施例，而是提供來強調與另一例示性實施例的特定特徵或特性不同的特定特徵或特性。然而，本文中所提供的例示性實施例被認為能夠藉由彼此整體地或部分地組合而實現。舉例而言，即使並未在另一例示性實施例中闡述在特定例示性實施例中闡述的一個元件，除非在另一例示性實施例中提供了相反或矛盾的說明，否則所述元件亦可被理解為與另一例示性實施例相關的說明。
本文中所使用的用語僅為闡述例示性實施例使用，而非限制本揭露。在此種情形中，除非在上下文中另有解釋，否則單數形式包括複數形式。
電子裝置
圖1為示出電子裝置系統的實例的示意性方塊圖。
參照圖1，電子裝置1000中可容置主板1010。主板1010可包括物理連接至或電性連接至主板1010的晶片相關組件1020、網路相關組件1030以及其他組件1040等。該些組件可連接至以下將闡述的其他組件以形成各種訊號線1090。
晶片相關組件1020可包括：記憶體晶片，例如揮發性記憶體（例如，動態隨機存取記憶體（dynamic random access memory，DRAM））、非揮發性記憶體（例如，唯讀記憶體（read only memory，ROM））、快閃記憶體等；應用處理器晶片，例如中央處理器（例如，中央處理單元（central processing unit，CPU））、圖形處理器（例如，圖形處理單元（graphics processing unit，GPU））、數位訊號處理器、密碼處理器（cryptographic processor）、微處理器、微控制器等；以及邏輯晶片，例如類比至數位轉換器（analog-to-digital converter，ADC）、應用專用積體電路（application-specific integrated circuit，ASIC）等。然而，晶片相關組件1020並非僅限於此，而是亦可包括其他類型的晶片相關組件。另外，晶片相關組件1020可彼此組合。
網路相關組件1030可包括例如以下的協定：無線保真（wireless fidelity，Wi-Fi）（電氣及電子工程師學會（Institute of Electrical And Electronics Engineers，IEEE）802.11家族等）、全球互通微波存取（worldwide interoperability for microwave access，WiMAX）（IEEE 802.16家族等）、IEEE 802.20、長期演進（long term evolution，LTE）、僅支援資料的演進（evolution data only，Ev-DO）、高速封包存取+（high speed packet access +，HSPA+）、高速下行封包存取+（high speed downlink packet access +，HSDPA+）、高速上行封包存取+（high speed uplink packet access +，HSUPA+）、增強型資料GSM環境（enhanced data GSM environment，EDGE）、全球行動通訊系統（global system for mobile communications，GSM）、全球定位系統（global positioning system，GPS）、通用封包無線電服務（general packet radio service，GPRS）、分碼多重存取（code division multiple access，CDMA）、分時多重存取（time division multiple access，TDMA）、數位增強型無線電訊（digital enhanced cordless telecommunications，DECT）、藍芽、3G協定、4G協定、5G協定以及繼上述協定之後指定的任何其他無線協定及有線協定。然而，網路相關組件1030並非僅限於此，而是亦可包括各種其他無線標準或協定或者有線標準或協定。另外，網路相關組件1030可與上文所述的晶片相關組件1020一起彼此組合。
其他組件1040可包括高頻電感器、鐵氧體電感器（ferrite inductor）、功率電感器（power inductor）、鐵氧體珠粒（ferrite beads）、低溫共燒陶瓷（low temperature co-fired ceramic，LTCC）、電磁干擾（EMI）濾波器、多層陶瓷電容器（multilayer ceramic capacitor，MLCC）等。然而，其他組件1040並非僅限於此，而是亦可包括用於各種其他目的的被動組件等。另外，其他組件1040可與上文所述的晶片相關組件1020或網路相關組件1030一起彼此組合。
端視電子裝置1000的類型而定，電子裝置1000可包括可物理連接至或電性連接至主板1010的其他組件，或可不物理連接至或不電性連接至主板1010的其他組件。該些其他組件可包括例如照相機模組1050、天線1060、顯示器裝置1070、電池1080、音訊編解碼器（圖中未示出）、視訊編解碼器（圖中未示出）、功率放大器（圖中未示出）、羅盤（圖中未示出）、加速度計（圖中未示出）、陀螺儀（圖中未示出）、揚聲器（圖中未示出）、大容量儲存單元（例如，硬碟驅動機）（圖中未示出）、光碟（compact disk，CD）驅動機（圖中未示出）、數位多功能光碟（digital versatile disk，DVD）驅動機（圖中未示出）等。然而，該些其他組件並非僅限於此，而是亦可端視電子裝置1000的類型等而包括用於各種目的的其他組件。
電子裝置1000可為智慧型電話、個人數位助理（personal digital assistant，PDA）、數位攝影機、數位照相機（digital still camera）、網路系統、電腦、監視器、平板個人電腦（tablet PC）、筆記型個人電腦、隨身型易網機個人電腦（netbook PC）、電視、視訊遊戲機（video game machine）、智慧型手錶、汽車組件等。然而，電子裝置1000並非僅限於此，而是亦可為處理資料的任何其他電子裝置。
圖2為示出電子裝置的實例的示意性立體圖。
參照圖2，半導體封裝可於上文所述的各種電子裝置1000中用於各種目的。舉例而言，主板1110可容置於智慧型電話1100的本體1101中，且各種電子組件1120可物理連接至或電性連接至主板1110。另外，可物理連接至或電性連接至主板1010或可不物理連接至或不電性連接至主板1010的其他組件（例如照相機模組1130）可容置於本體1101中。電子組件1120中的一些電子組件可為晶片相關組件，且半導體封裝100可例如為晶片相關組件之中的應用處理器，但並非僅限於此。所述電子裝置不必僅限於智慧型電話1100，而是可為如上所述的其他電子裝置。
半導體封裝
一般而言，在半導體晶片中整合有許多精細的電路。然而，半導體晶片自身可能不能充當已完成的半導體產品，且可能因外部物理或化學影響而受損。因此，半導體晶片可能無法單獨使用，但可以封裝狀態在電子裝置等中封裝並使用。
此處，由於半導體晶片與電子裝置的主板之間存在電性連接方面的電路寬度差異，因而需要半導體封裝。詳言之，半導體晶片的連接墊的尺寸及半導體晶片的各連接墊之間的間隔極為精細，但電子裝置中所使用的主板的組件安裝墊的尺寸及主板的各組件安裝墊之間的間隔顯著大於半導體晶片的連接墊的尺寸及間隔。因此，可能難以將半導體晶片直接安裝於主板上，而需要用於緩衝半導體晶片與主板之間的電路寬度差異的封裝技術。
藉由封裝技術所製造的半導體封裝可端視半導體封裝的結構及目的而分類為扇入型半導體封裝或扇出型半導體封裝。
將在下文中參照圖式更詳細地闡述扇入型半導體封裝及扇出型半導體封裝。
扇入型 半導體封裝
圖3A及圖3B為示出扇入型半導體封裝在封裝前及封裝後的狀態的示意性剖視圖。
圖4為示出扇入型半導體封裝的封裝製程的示意性剖視圖。
參照圖3及圖4，半導體晶片2220可例如是處於裸露狀態下的積體電路（integrated circuit，IC），半導體晶片2220包括：本體2221，包含矽（Si）、鍺（Ge）、砷化鎵（GaAs）等；連接墊2222，形成於本體2221的一個表面上且包含例如鋁（Al）等導電材料；以及鈍化層2223，例如氧化物層、氮化物層等，形成於本體2221的一個表面上且覆蓋連接墊2222的至少部分。在此種情形中，由於連接墊2222可為顯著小的，因此可能難以將積體電路（integrated circuit，IC）安裝於中級印刷電路板（printed circuit board，PCB）以及電子裝置的主板等上。
因此，可端視半導體晶片2220的尺寸而在半導體晶片2220上形成連接構件2240以對連接墊2222進行重佈線。連接構件2240可藉由以下步驟來形成：利用例如感光成像介電（photoimagable dielectric，PID）樹脂等絕緣材料在半導體晶片2220上形成絕緣層2241，形成敞露連接墊2222的通孔孔洞2243h，並接著形成配線圖案2242及通孔2243。接著，可形成保護連接構件2240的鈍化層2250，可形成開口2251，且可形成凸塊下金屬層2260等。亦即，可藉由一系列製程來製造包括例如半導體晶片2220、連接構件2240、鈍化層2250及凸塊下金屬層2260的扇入型半導體封裝2200。
如上所述，扇入型半導體封裝可具有半導體晶片的所有連接墊（例如輸入/輸出（input/output，I/O）端子）皆設置於半導體晶片內的一種封裝形式，且可具有優異的電性質並可以低成本進行生產。因此，已以扇入型半導體封裝的形式製造諸多安裝於智慧型電話中的元件。詳言之，已開發出諸多安裝於智慧型電話中的元件以在具有緊湊尺寸的同時進行快速的訊號傳輸。
然而，由於扇入型半導體封裝中的所有輸入/輸出端子皆需要設置在半導體晶片內，因此扇入型半導體封裝具有顯著的空間限制。因此，難以將此結構應用於具有大量輸入/輸出端子的半導體晶片或具有緊湊尺寸的半導體晶片。另外，由於上述缺點，扇入型半導體封裝可能無法在電子裝置的主板上直接安裝並使用。原因在於，即使在藉由重佈線製程增大半導體晶片的輸入/輸出端子的尺寸及半導體晶片的各輸入/輸出端子之間的間隔的情形中，半導體晶片的輸入/輸出端子的尺寸及半導體晶片的各輸入/輸出端子之間的間隔可能仍不足以使扇入型電子組件封裝直接安裝於電子裝置的主板上。
圖5為示出扇入型半導體封裝安裝於中介基板上且最終安裝於電子裝置的主板上之情形的示意性剖視圖。
圖6為示出扇入型半導體封裝嵌入中介基板中且最終安裝於電子裝置的主板上之情形的示意性剖視圖。
參照圖5及圖6，在扇入型半導體封裝2200中，半導體晶片2220的連接墊2222（亦即，輸入/輸出端子）可經由中介基板2301進行重佈線，且扇入型半導體封裝2200可在扇入型半導體封裝2200安裝於中介基板2301上的狀態下安裝於電子裝置的主板2500上。在此種情形中，可藉由底部填充樹脂2280等來固定焊球2270等，且半導體晶片2220的外側面可以模製材料2290等覆蓋。或者，扇入型半導體封裝2200可嵌入單獨的中介基板2302中，半導體晶片2220的連接墊2222（亦即，輸入/輸出端子）可在扇入型半導體封裝2200嵌入中介基板2302中的狀態下，由中介基板2302進行重佈線，且扇入型半導體封裝2200可最終安裝於電子裝置的主板2500上。
如上所述，可能難以在電子裝置的主板上直接安裝並使用扇入型半導體封裝。因此，扇入型半導體封裝可安裝於單獨的中介基板上，並接著藉由封裝製程安裝於電子裝置的主板上，或者扇入型半導體封裝可在扇入型半導體封裝嵌入中介基板中的狀態下在電子裝置的主板上安裝並使用。
扇出型 半導體封裝
圖7為示出扇出型半導體封裝的示意性剖視圖。
參照圖7，在扇出型半導體封裝2100中，舉例而言，半導體晶片2120的外側面可由包封體2130保護，且半導體晶片2120的連接墊2122可藉由連接構件2140而朝半導體晶片2120之外進行重佈線。在此種情形中，可在連接構件2140上進一步形成鈍化層2150，且可在鈍化層2150的開口中進一步形成凸塊下金屬層2160。可在凸塊下金屬層2160上進一步形成焊球2170。半導體晶片2120可為包括本體2121、連接墊2122、鈍化層（圖中未示出）等的積體電路（IC）。連接構件2140可包括絕緣層2141、形成於絕緣層2141上的重佈線層2142以及將連接墊2122與重佈線層2142彼此電性連接的通孔2143。
如上所述，扇出型半導體封裝可具有其中半導體晶片的輸入/輸出端子藉由形成於半導體晶片上的連接構件朝半導體晶片之外進行重佈線並設置的一種形式。如上所述，在扇入型半導體封裝中，半導體晶片的所有輸入/輸出端子皆需要設置於半導體晶片內。因此，當半導體晶片的尺寸減小時，需減小球的尺寸及間距，進而使得標準化球佈局（standardized ball layout）可能無法在扇入型半導體封裝中使用。另一方面，扇出型半導體封裝具有如上所述的其中半導體晶片的輸入/輸出端子藉由形成於半導體晶片上的連接構件朝半導體晶片之外進行重佈線並設置的形式。因此，即使在半導體晶片的尺寸減小的情形中，標準化球佈局亦可照樣用於扇出型半導體封裝中，使得扇出型半導體封裝無需使用單獨的中介基板即可安裝於電子裝置的主板上，如下所述。
圖8為示出扇出型半導體封裝安裝於電子裝置的主板上之情形的示意性剖視圖。
參照圖8，扇出型半導體封裝2100可經由焊球2170等安裝於電子裝置的主板2500上。亦即，如上所述，扇出型半導體封裝2100包括連接構件2140，連接構件2140形成於半導體晶片2120上且能夠將連接墊2122重佈線至半導體晶片2120的尺寸之外的扇出區域，進而使得標準化球佈局可照樣用於扇出型半導體封裝2100中。因此，扇出型半導體封裝2100無需使用單獨的中介基板等即可安裝於電子裝置的主板2500上。
如上所述，由於扇出型半導體封裝無需使用單獨的中介基板即可安裝於電子裝置的主板上，因此扇出型半導體封裝可被實施成具有較使用中介基板的扇入型半導體封裝的厚度小的厚度。因此，可使扇出型半導體封裝小型化且薄化。另外，扇出型電子組件封裝具有優異的熱特性及電特性，進而使得扇出型半導體封裝尤其適合用於行動產品。因此，扇出型電子組件封裝可以較使用印刷電路板（PCB）的一般疊層封裝（package-on-package，POP）類型的形式更緊湊的形式實施，且可解決因翹曲（warpage）現象出現而產生的問題。
同時，扇出型半導體封裝是指一種封裝技術，如上所述用於將半導體晶片安裝於電子裝置的主板等上且保護半導體晶片免受外部影響，並且扇出型半導體封裝是與例如中介基板等印刷電路板（PCB）的概念不同的概念，印刷電路板具有與扇出型半導體封裝的規格、目的等不同的規格、目的等，且有扇入型半導體封裝嵌入其中。
以下將參照圖式闡述根據本揭露中的例示性實施例的扇出型半導體封裝。
圖9及圖10分別為示出根據本揭露中的例示性實施例的扇出型半導體封裝的示意性剖視圖及示意性平面圖。圖11為示出可在圖9及圖10所示例示性實施例中使用的電磁輻射阻擋層的形式的圖。
首先，參照圖9及圖10，根據例示性實施例的扇出型半導體封裝100可包括半導體晶片120、包封體130、連接構件140及電磁輻射阻擋層131。電磁輻射阻擋層131可具有多孔結構以提供氣體排放通路。另外，扇出型半導體封裝100可包括核心構件110、額外的被動組件121及被動組件122、鈍化層150及鈍化層180、凸塊下金屬層160、電性連接結構170等。
連接構件140可對半導體晶片120的連接墊120P進行重佈線。另外，當設置被動組件121及被動組件122時，連接構件140可將半導體晶片120與被動組件121及被動組件122彼此電性連接。為實施此功能，連接構件140可包括絕緣層141、設置在絕緣層141上的重佈線層142以及貫穿絕緣層141並將重佈線層142彼此連接的通孔143。連接構件140可由單層形成，或可由數目較圖式所示數目多的多個層形成。
構成絕緣層141的材料可為例如感光性絕緣材料。亦即，絕緣層141可為感光性絕緣層。當絕緣層141具有感光性性質時，絕緣層141可被形成為具有較小的厚度，且可更容易地達成通孔143的精細間距。絕緣層141可為包含絕緣樹脂及無機填料的感光性絕緣層。當絕緣層141為多層時，絕緣層141的材料可為彼此相同，且若需要則亦可為彼此不同。當絕緣層141為多層時，絕緣層141可端視製程而彼此整合，進而使得各絕緣層之間的邊界亦可為不明顯。
重佈線層142可用於對連接墊120P進行重佈線。重佈線層142中的每一者的材料可為導電材料，例如銅（Cu）、鋁（Al）、銀（Ag）、錫（Sn）、金（Au）、鎳（Ni）、鉛（Pb）、鈦（Ti）、或其合金。重佈線層142可端視對應層的設計而執行各種功能。舉例而言，重佈線層142可包括接地圖案、電源圖案、訊號圖案等。此處，訊號圖案可包括除接地圖案、電源圖案等之外的各種訊號，例如資料訊號等。另外，重佈線層142可包括通孔接墊、連接端子墊等。
通孔143可將形成於不同層上的重佈線層142、連接墊120P等彼此電性連接，從而在扇出型半導體封裝100中形成電性連接通路。通孔143中的每一者的材料可為導電材料，例如銅（Cu）、鋁（Al）、銀（Ag）、錫（Sn）、金（Au）、鎳（Ni）、鉛（Pb）、鈦（Ti）、或其合金。通孔143中的每一者可以導電材料完全填充，或者導電材料亦可沿著通孔中的每一者的壁形成。另外，通孔143中的每一者可具有相關技術中已知的任何形狀，例如錐形形狀、圓柱形狀等。
半導體晶片120可設置於連接構件140上，且可為積體電路（IC）。半導體晶片120可例如為處理器晶片（更具體而言，應用處理器（application processor，AP）），例如中央處理器（例如，CPU）、圖形處理器（例如，GPU）、場域可程式化閘陣列（field programmable gate array，FPGA）、數位訊號處理器、密碼處理器（cryptographic processor）、微處理器、微控制器等，但並非僅限於此。
半導體晶片120可以主動晶圓為基礎形成。在此種情形中，半導體晶片120的本體的基礎材料（base material）可為矽（Si）、鍺（Ge）、砷化鎵（GaAs）等。可在本體上形成各種電路。連接墊120P可將半導體晶片120電性連接至其他組件。連接墊120P中的每一者的材料可為例如鋁（Al）等導電材料。可在本體上形成暴露出連接墊120P的鈍化層，且鈍化層可為氧化物層、氮化物層等或氧化物層與氮化物層所構成的雙層。亦可在其他需要的位置中進一步設置絕緣層等。半導體晶片120可為裸晶粒，但若需要則可更包括形成於其主動面上的重佈線層。
除半導體晶片120之外，被動組件121及被動組件122可設置於連接構件140上，且被動組件121及被動組件122的實例可包括電感器121、電容器122等。在此種情形中，被動組件121及被動組件122中的一些可具有不同的尺寸。舉例而言，電感器121的尺寸可大於電容器122的尺寸。除此種尺寸的差異外，由於組件的特性而使阻擋電磁輻射的必要性在電感器121中較在電容器122中大。因此，在本例示性實施例中，電磁輻射阻擋層131被設計成適用於電感器121，且以下將闡述相關的內容。同時，除了電感器121及電容器122以外，被動組件121及被動組件122可包括電阻器元件。
包封體130可包封半導體晶片120、被動組件121及被動組件122等。包封體130可包含絕緣材料。所述絕緣材料可為包括無機填料及絕緣樹脂的材料，舉例而言，熱固性樹脂，例如環氧樹脂；熱塑性樹脂，例如聚醯亞胺樹脂；具有浸入於熱固性樹脂中及熱塑性樹脂中的加強材料（例如無機填料）的樹脂，例如味之素構成膜（Ajinomoto Build up Film，ABF）、FR-4、雙馬來醯亞胺三嗪（Bismaleimide Triazine，BT）等。另外，可使用任何已知的模製材料，例如環氧模製化合物（epoxy molding compound，EMC）等，且若需要，則可使用感光成像包封體（photoimagable encapsulant，PIE）。或者，亦可使用將例如熱固性樹脂或熱塑性樹脂等絕緣樹脂浸入無機填料及/或例如玻璃纖維（或玻璃布，或玻璃纖維布）等核心材料中的材料作為所述絕緣材料。
核心構件110可設置於連接構件140上，且可具有容置半導體晶片120等的貫穿孔。在此種情形中，可在核心構件110中設置多個貫穿孔。核心構件110可進一步提高扇出型半導體封裝100的剛性，且用於確保包封體130的厚度均勻性。核心構件110的材料無特別限制。舉例而言，可使用絕緣材料作為核心構件110的材料。在此種情形中，所述絕緣材料可為熱固性樹脂，例如環氧樹脂；熱塑性樹脂，例如聚醯亞胺樹脂；將熱固性樹脂或熱塑性樹脂與無機填料一起浸入於例如玻璃纖維（或玻璃布或玻璃纖維布）等核心材料中的樹脂，例如預浸體（prepreg）、味之素構成膜、FR-4、雙馬來醯亞胺三嗪等。或者，亦可使用PID樹脂作為所述絕緣材料。
核心構件110可包括覆蓋形成貫穿孔的壁的金屬層111。金屬層111可有效地阻擋自半導體晶片120以及被動組件121及被動組件122發射的電磁輻射。如圖式所示形式，金屬層111可延伸至核心構件110的上表面及下表面，且可藉由貫穿包封體130的導電通孔112連接至電磁輻射阻擋層131。
電磁輻射阻擋層131可設置於半導體晶片120等上方，且可具有多孔結構。電磁輻射阻擋層131可包含有效地執行電磁輻射阻擋功能的材料，例如金屬組份（例如Cu、Ag、Ti等）。當電磁輻射阻擋效果藉由在半導體晶片120等附近設置金屬層111及電磁輻射阻擋層131而得到增強時，可能難以將在包封體130等中產生的氣體向外部排放。在本例示性實施例中，電磁輻射阻擋層131可被形成為多孔結構以有效地排放氣體。如圖11所示形式，電磁輻射阻擋層可具有多個顆粒P凝聚的形式，可在顆粒P之間形成空隙V，且氣體可經由空隙進入或離開。電磁輻射阻擋層131的多孔結構可藉由控制顆粒的尺寸、數量等以使得所述多個顆粒形成凝聚體來達成，且若需要則可在顆粒P之間夾置黏結劑。除此種方法外，電磁輻射阻擋層131可藉由鍍覆製程來實施以具有多孔鍍覆層的形式。如在本例示性實施例中，電磁輻射阻擋層131可被形成為多孔結構以顯著抑制自半導體晶片120等發射的電磁輻射的阻擋效率降低，且提供有效的氣體排放通路，從而在驅動扇出型半導體封裝100時提高扇出型半導體封裝100的穩定性。
鈍化層150可保護連接構件140不受外部物理或化學損害。鈍化層150可具有暴露連接構件140的重佈線層142的至少部分的開口。在鈍化層150中形成的開口的數目可為數十至數千個。鈍化層150可包含絕緣樹脂及無機填料，且可不包含玻璃纖維。舉例而言，鈍化層150可由ABF形成，但並非僅限於此。
凸塊下金屬層160可提高電性連接結構170的連接可靠性，以提高扇出型半導體封裝100的板級可靠性。凸塊下金屬層160可連接至被鈍化層150的開口所暴露的連接構件140的重佈線層142。可藉由任何已知金屬化方法，使用任何已知導電材料（例如金屬）在鈍化層150的開口中形成凸塊下金屬層160，但並非僅限於此。
可另外配置電性連接結構170以在外部物理連接或電性連接扇出型半導體封裝100。舉例而言，扇出型半導體封裝100可經由電性連接結構170安裝於電子裝置的主板上。電性連接結構170中的每一者可由導電材料（例如焊料等）形成。然而，此僅為實例，且電性連接結構170中的每一者的材料不特別受限於此。電性連接結構170中的每一者可為接腳（land）、球、引腳等。電性連接結構170可被形成為多層結構或單層結構。當電性連接結構170被形成為多層結構時，電性連接結構170可包含銅（Cu）柱及焊料。當電性連接結構170被形成為單層結構時，電性連接結構170可包含錫-銀焊料或銅（Cu）。然而，此僅為實例，且電性連接結構170並非僅限於此。電性連接結構170的數目、間隔、設置形式等無特別限制，而是可由熟習此項技術者端視設計特定細節而進行充分地修改。舉例而言，電性連接結構170可根據連接墊120P的數目而設置為數十至數千的數量，亦或可設置為數十至數千或更多的數量或是數十至數千或更少的數量。
電性連接結構170中的至少一者可設置於扇出區域中。所述扇出區域是指除設置有半導體晶片120的區域之外的區域。扇出型封裝相較於扇入型封裝而言可具有優異的可靠性，可實施多個輸入/輸出（I/O）端子，且可有利於三維（3D）內連線。另外，相較於球柵陣列（ball grid array，BGA）封裝、接腳柵陣列（land grid array，LGA）封裝等而言，扇出型封裝可被製造成具有小的厚度，且可具有價格競爭力。
鈍化層180可設置於電磁輻射阻擋層131上，且保護電磁輻射阻擋層131免受外部物理或化學損害。鈍化層180可包含絕緣樹脂及無機填料，且可不包含玻璃纖維。舉例而言，鈍化層180可由ABF形成，但並非僅限於此。
圖12為示出根據本揭露中的另一例示性實施例的扇出型半導體封裝的剖視圖。圖13及圖14為示出可在圖12所示另一例示性實施例中使用的電磁輻射阻擋層的形式的圖。在本例示性實施例中，扇出型半導體封裝200可包括半導體晶片120、包封體130、連接構件140及電磁輻射阻擋層231。電磁輻射阻擋層231可包括基底層132及多孔阻擋部分131。另外，扇出型半導體封裝200可包括核心構件110、額外的被動組件121及被動組件122、鈍化層150及鈍化層180、凸塊下金屬層160、電性連接結構170等。由於扇出型半導體封裝200在電磁輻射阻擋層231的形式方面與根據上述例示性實施例的扇出型半導體封裝100不同，因此將主要闡述電磁輻射阻擋層231，且將省略對其他組件的重複說明。
電磁輻射阻擋層231可包括基底層132。可在基底層132中形成多個排氣孔。另外，基底層132的排氣孔可以多孔阻擋部分131填充。如在上述例示性實施例中闡述的具有多孔結構的電磁輻射阻擋層中，多孔阻擋部分131可具有多孔結構以有效地排放氣體。詳言之，多孔阻擋部分131可被實施成多個顆粒凝聚的形式、多孔鍍覆層的形式等。基底層132可具有不具有多孔結構的金屬薄膜形式，可例如為鍍銅層，且可不提供氣體排放通路，但可有利於阻擋電磁輻射。因此，電磁輻射阻擋效率可相較於整個電磁輻射阻擋層131具有多孔結構的上述例示性實施例提高，且電磁輻射阻擋層231可用於電磁輻射阻擋效率較氣體排放效率更重要的情形。基底層132的排氣孔可藉由物理方法、蝕刻方法、圖案鍍覆方法等來實施。
如圖14所示形式，電磁輻射阻擋層231可包括排氣孔的密度彼此不同的第一區域A1及第二區域A2。在此種情形中，排氣孔的密度可能在第一區域A1中較在第二區域A2中高。此處，電磁輻射阻擋層231的排氣孔可處於排氣孔以多孔阻擋部分131填充的狀態下。在阻擋電磁輻射的必要性大的區域中，排氣孔的密度可降低或可不形成排氣孔。類似地，在阻擋電磁輻射的必要性不大或需要提高氣體排放效率的區域中，排氣孔的密度可被設計成在電磁輻射阻擋層231的每一區域中彼此不同，以增大排氣孔的密度。
排氣孔的密度可指電磁輻射阻擋層231中的每單位面積的排氣孔所佔用的面積。舉例而言，當第一區域A1及第二區域A2中的排氣孔的尺寸彼此相同時，第一區域A1中的每單位面積的排氣孔的數目可多於第二區域A2中的每單位面積的排氣孔的數目。另外，在本例示性實施例中，排氣孔可被精細地形成以顯著抑制電磁輻射阻擋效率的降低。電磁輻射阻擋層231中的排氣孔的密度相對低的第二區域A2可設置於與半導體晶片120對應的區域中，且自圖10所示平面圖可確認此區域。換言之，如圖14所示形式，慮及相對大量的電磁輻射是自半導體晶片120發射的事實，因此排氣孔的密度低的第二區域A2可被設置成對應於半導體晶片120。另外，慮及阻擋電磁輻射的必要性在被動組件121及被動組件122中相對低的事實，可在被動組件121及被動組件122附近設置多個排氣孔以提高氣體排放效率。詳言之，電磁輻射阻擋層231的第一區域A1可設置於與多個被動組件121及被動組件122中的至少一些對應的區域中。在此種情形中，電磁輻射阻擋層231的對應區域中的排氣孔的密度可端視被動組件121及被動組件122的尺寸、種類等來控制。
詳言之，如圖12所示形式，自所述多個被動組件121及被動組件122中的至少一些被動組件的上表面至包封體130的上表面的距離可彼此不同，且排氣孔的密度可能在與自其上表面至包封體130的上表面的距離較大的被動組件122對應的區域中較高。換言之，第一區域A1可設置於與具有相對較小尺寸的被動組件122對應的區域中，且第二區域A2可設置於與具有相對較大尺寸的被動組件121對應的區域中。在與具有相對較小尺寸的被動組件122對應的區域中，包封體130的厚度可能較大，因而使得所排放的氣體量可能為大。因此，在與具有相對較小尺寸的被動組件122對應的區域中，可形成較高數目的排氣孔。另一方面，在與具有相對較大尺寸的被動組件121對應的區域中，可形成較少數目的排氣孔。
另外，如上所述，所述多個被動組件121及被動組件122可包括電感器121、電容器122等，且排氣孔的密度可在與電容器122對應的區域中較在與電感器121對應的區域中高。換言之，第一區域A1可對應於電容器122，且第二區域A2可對應於電感器121。在與發射相對較大量的電磁輻射的電感器121對應的區域中，排氣孔的密度可降低，因而使得電磁輻射阻擋效率可不被降低。在本例示性實施例中示出了電感器121的尺寸大於電容器122的尺寸的情形，但電感器121不必大於電容器122。另外，在本例示性實施例中示出了排氣孔存在於第二區域A2中並以多孔阻擋部分121填充的結構，但排氣孔可不存在於第二區域A2中以進一步提高電磁輻射阻擋效率。
如上所述，根據本揭露中的例示性實施例，可實施一種電磁輻射阻擋效率可為高且可能在產品中產生的氣體可被有效地移除的扇出型半導體封裝。
儘管以上已示出並闡述了例示性實施例，然而對於熟習此項技術者而言將顯而易見的是，在不背離由隨附申請專利範圍所界定的本發明的範圍的條件下，可作出修改及變型。
100、200、2100‧‧‧扇出型半導體封裝
110‧‧‧核心構件
111‧‧‧金屬層
112‧‧‧導電通孔
120、2120、2220‧‧‧半導體晶片
120P、2122、2222‧‧‧連接墊
121‧‧‧被動組件/電感器
122‧‧‧被動組件/電容器
130、2130‧‧‧包封體
131‧‧‧電磁輻射阻擋層/多孔阻擋部分
132‧‧‧基底層
140、2140、2240‧‧‧連接構件
141、2141、2241‧‧‧絕緣層
142、2142‧‧‧重佈線層
143、2143、2243‧‧‧通孔
150、180、2150、2223、2250‧‧‧鈍化層
160、2160、2260‧‧‧凸塊下金屬層
170‧‧‧電性連接結構
231‧‧‧電磁輻射阻擋層
1000‧‧‧電子裝置
1010、1110、2500‧‧‧主板
1020‧‧‧晶片相關組件
1030‧‧‧網路相關組件
1040‧‧‧組件
1050、1130‧‧‧照相機模組
1060‧‧‧天線
1070‧‧‧顯示器裝置
1080‧‧‧電池
1090‧‧‧訊號線
1100‧‧‧智慧型電話
1101、2121、2221‧‧‧本體
1120‧‧‧電子組件
1121‧‧‧半導體封裝
2170、2270‧‧‧焊球
2200‧‧‧扇入型半導體封裝
2242‧‧‧配線圖案
2243h‧‧‧通孔孔洞
2251‧‧‧開口
2280‧‧‧底部填充樹脂
2290‧‧‧模製材料
2301、2302‧‧‧中介基板
A‧‧‧部分
A1‧‧‧第一區域
A2‧‧‧第二區域
P‧‧‧顆粒
V‧‧‧空隙
結合附圖閱讀以下詳細說明，將更清晰地理解本揭露的以上及其他態樣、特徵及優點，在附圖中：
圖1為示出電子裝置系統的實例的示意性方塊圖。
圖2為示出電子裝置的實例的示意性立體圖。
圖3A及圖3B為示出扇入型半導體封裝在封裝前及封裝後的狀態的示意性剖視圖。
圖4為示出扇入型半導體封裝的封裝製程的示意性剖視圖。
圖5為示出扇入型半導體封裝安裝於中介基板上且最終安裝於電子裝置的主板上之情形的示意性剖視圖。
圖6為示出扇入型半導體封裝嵌入中介基板中且最終安裝於電子裝置的主板上之情形的示意性剖視圖。
圖7為示出扇出型半導體封裝的示意性剖視圖。
圖8為示出扇出型半導體封裝安裝於電子裝置的主板上之情形的示意性剖視圖。
圖9及圖10分別為示出根據本揭露中的例示性實施例的扇出型半導體封裝的示意性剖視圖及示意性平面圖。
圖11為示出可在圖9及圖10所示例示性實施例中使用的電磁輻射阻擋層的形式的圖。
圖12為示出根據本揭露中的另一例示性實施例的扇出型半導體封裝的剖視圖。
圖13及圖14為示出可在圖12所示另一例示性實施例中使用的電磁輻射阻擋層的形式的圖。

Claims (16)

  1. 一種扇出型半導體封裝，包括： 連接構件，包括絕緣層及重佈線層； 半導體晶片，設置於所述連接構件上； 包封體，包封所述半導體晶片；以及 電磁輻射阻擋層，設置於所述半導體晶片上方，且包括其中形成有多個排氣孔的基底層及填充於所述多個排氣孔中的多孔阻擋部分。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的扇出型半導體封裝，其中所述多孔阻擋部分具有多個顆粒凝聚的形式。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的扇出型半導體封裝，其中所述多孔阻擋部分為多孔鍍覆層。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的扇出型半導體封裝，其中所述基底層包括金屬薄膜。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的扇出型半導體封裝，其中所述基底層包括鍍銅層。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的扇出型半導體封裝，其中所述電磁輻射阻擋層包括第一區域及第二區域，且所述排氣孔的密度在所述第一區域中較在所述第二區域中高。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的扇出型半導體封裝，其中所述第二區域設置於與所述半導體晶片對應的區域中。
  8. 如申請專利範圍第6項所述的扇出型半導體封裝，更包括核心構件，所述核心構件包括容置所述半導體晶片的貫穿孔及覆蓋形成所述貫穿孔的壁的金屬層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的扇出型半導體封裝，其中所述核心構件的所述金屬層與所述電磁輻射阻擋層藉由貫穿所述包封體的導電通孔彼此連接。
  10. 如申請專利範圍第6項所述的扇出型半導體封裝，更包括設置於所述連接構件上的多個被動組件。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的扇出型半導體封裝，其中所述第一區域設置於與所述多個被動組件中的至少一些被動組件對應的區域中。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的扇出型半導體封裝，其中自所述多個被動組件中的至少一些被動組件的上表面至所述包封體的上表面的距離彼此不同，且所述排氣孔的密度在與所述多個被動組件中自其上表面至所述包封體的上表面的距離較大的被動組件對應的區域中較高，所述上表面是對應的組件與包封體的遠離所述連接構件的表面。
  13. 如申請專利範圍第10項所述的扇出型半導體封裝，其中所述多個被動組件包括電容器及電感器，且所述排氣孔的密度在與所述電容器對應的區域中較在與所述電感器對應的區域中高。
  14. 一種扇出型半導體封裝，包括： 連接構件，包括絕緣層及重佈線層； 半導體晶片，設置於所述連接構件上； 包封體，包封所述半導體晶片；以及 電磁輻射阻擋層，設置於所述半導體晶片上方且具有多孔結構。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的扇出型半導體封裝，其中所述電磁輻射阻擋層具有多個顆粒凝聚的形式。
  16. 如申請專利範圍第14項所述的扇出型半導體封裝，其中所述電磁輻射阻擋層為多孔鍍覆層。
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