TW201704129A - 可降低擾流之槽盤式液體循環系統 - Google Patents
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Abstract
一種槽盤式液體循環系統包含有一槽體、一進液裝置以及一輸送裝置，該槽體包含有一底壁以及一環繞側壁，該環繞側壁突出於該底壁，該環繞側壁與該底壁共同定義一容置空間及連通於該容置空間之一開口，其中該容置空間用以容置一液體，該進液裝置設置於該槽體之上方，該進液裝置沿一第一方向經由該開口提供一補充液體至位於該容置空間內之該液體，該輸送裝置設置於該槽體之該容置空間內，該輸送裝置用以沿一第二方向輸送一平板構件通過該液體。
Description
本發明關於一種液體循環系統，尤指一種可降低擾流之槽盤式液體循環系統。
近來，玻璃基材大量地使用在不同的產品上，尤其是顯示器面板，因此各製造廠商紛紛引進不同的自動化流程以及自動化設備以提升產能，藉此應付日益增加的需求量，然而於浸鍍玻璃基材時，若浸鍍液擾流過大則會導致玻璃基材表面平整度降低，因此如何提供一種可降低擾流之槽盤式液體循環系統以提升玻璃基材表面平整度便成為業界努力的課題之一。
因此，本發明提供一種可降低擾流之槽盤式液體循環系統，以解決上述問題。
為達成上述目的，本發明揭露一種可降低擾流之槽盤式液體循環系統，其包含有一槽體、一進液裝置以及一輸送裝置，該槽體包含有一底壁以及一環繞側壁，該環繞側壁突出於該底壁，該環繞側壁與該底壁共同定義一容置空間及連通於該容置空間之一開口，其中該容置空間用以容置一液體，該進液裝置設置於該槽體之上方，該進液裝置沿一第一方向經由該開口提供一補充液體至位於該容置空間內之該液體，該輸送裝置設置於該槽體之該容置空間內，該輸送裝置用以沿一第二方向輸送一平板構件通過該液體。
根據本發明其中之一實施例，該環繞側壁上形成有連通於該容置空間之一入口，且該平板構件由該入口進入該容置空間。
根據本發明其中之一實施例，該槽盤式液體循環系統另包含一入口輸送裝置，設置於該入口相對該容置空間之一側，該輸送裝置與該入口輸送裝置共同將該平板構件經由該入口送入該容置空間。
根據本發明其中之一實施例，該槽盤式液體循環系統另包含一入口閘門，樞接於該環繞側壁鄰近該入口處，用以選擇性地封閉該入口。
根據本發明其中之一實施例，位於該容置空間之該液體具有一液面，該液面與該底壁之一第一距離大於該入口之一上端緣與該底壁之一第二距離，且該第一距離相距該第二距離一第一距離差。
根據本發明其中之一實施例，該第一距離差大於或等於20公厘。
根據本發明其中之一實施例，該環繞側壁上形成有連通於該容置空間之一出口，且該平板構件由該出口離開該容置空間。
根據本發明其中之一實施例，該槽盤式液體循環系統另包含一出口輸送裝置，設置於該出口相對該容置空間之一側，該輸送裝置與該出口輸送裝置共同將該平板構件經由該出口送出該容置空間。
根據本發明其中之一實施例，該槽盤式液體循環系統另包含一出口閘門，樞接於該環繞側壁鄰近該出口處，用以選擇性地封閉該出口。
根據本發明其中之一實施例，位於該容置空間之該液體具有一液面，該液面與該底壁之一第三距離大於該出口之一上端緣與該底壁之一第四距離，且該第三距離相距該第四距離一第二距離差。
根據本發明其中之一實施例，該第二距離差大於或等於20公厘。
根據本發明其中之一實施例，該環繞側壁上形成有一入口及一出口，該入口與該出口分別連通於該容置空間，該平板構件由該入口進入該容置空間且由該出口離開該容置空間，該進液裝置以一流入量經由該開口提供該補充液體至位於該容置空間內之該液體，該入口以一入口流出量將該液體由該槽體排出，該出口以一出口流出量將該液體由該槽體排出，且該流入量大於或等於該入口流出量與該出口流出量的和。
根據本發明其中之一實施例，該槽盤式液體循環系統另包含有一控制單元，耦接於該進液裝置，該控制單元依據該液體之一液面位置控制該進液裝置提供該補充液體至位於該容置空間之該液體。
根據本發明其中之一實施例，該第一方向垂直於該第二方向。
根據本發明其中之一實施例，該環繞側壁上形成有連通於該容置空間之一入口與一出口，且該槽盤式液體循環系統另包含一入口輸送裝置以及一出口輸送裝置，該入口輸送裝置設置於該入口相對該容置空間之一側，該入口輸送裝置與該輸送裝置共同將該平板構件經由該入口送入該容置空間，該出口輸送裝置設置於該出口相對該容置空間之一側，該出口輸送裝置與該輸送裝置共同將該平板構件經由該出口送出該容置空間，其中該輸送裝置、該入口輸送裝置以及該出口輸送裝置分別為一滾輪裝置。
綜上所述，本發明槽盤式液體循環系統利用入口輸送載具、輸送載具與出口輸送載具共同驅使平板構件沿第二方向經由入口送入槽體之容置空間，再經由出口送出槽體之容置空間，以達到自動化浸鍍平板構件之目的。此外本發明槽盤式液體循環系統另利用進液裝置係由液體的液面的上方提供補充液體，因此當進液裝置所提供的補充液體進入液體的液面時，上述液體的液面與平板構件的上表面間保持有一定距離的設計，可防止補充液體於進入液體的液面時所產生的擾流影響平板構件的上表面，進而確保平板構件的上表面的平面完整度。有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。
以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。請參閱第1圖及第2圖，第1圖為本發明實施例一槽盤式液體循環系統1之示意圖，第2圖為本發明實施例槽盤式液體循環系統1之功能方塊示意圖。如第1圖及第2圖所示，槽盤式液體循環系統1包含有一槽體10、一進液裝置11、一輸送裝置12、一入口輸送裝置13、一入口閘門14、一出口輸送裝置15、一出口閘門16以及一控制單元17，槽體10包含有一底壁101以及一環繞側壁102，環繞側壁102突出於底壁101，環繞側壁102與底壁101共同定義一容置空間103及連通於容置空間103之一開口104，其中容置空間103用以容置一液體L，且環繞側壁102上形成有連通於容置空間103之一入口105以及一出口106。於此實施例中，入口105與出口106位於環繞側壁102的相對兩側，但本發明不受此限。
此外，進液裝置11設置於槽體10之上方，進液裝置11沿一第一方向D1經由開口104提供一補充液體S至位於容置空間103內之液體L，使位於容置空間103內之液體L藉由補充液體S的補充而維持穩定。輸送裝置12設置於槽體10之容置空間103內且浸泡於液體L內，入口輸送裝置13設置於入口105相對容置空間103之一側，即入口輸送裝置13與輸送裝置12位於入口105的相對兩側，出口輸送裝置15設置於出口106相對容置空間103之一側，即出口輸送裝置15與輸送裝置12位於出口106的相對兩側，入口閘門14樞接於環繞側壁102鄰近入口105處，出口閘門16樞接於環繞側壁102鄰近出口106處。於此實施例中，輸送裝置12、入口輸送裝置13以及出口輸送裝置15可分別為一滾輪裝置，而本發明並不侷限於此。
此外，如第1圖以及第2圖所示，液體L具有一液面C，控制單元17耦接於進液裝置11、入口閘門14以及出口閘門16，而本發明槽盤式液體循環系統1另可包含一液位偵測裝置(未繪示於圖中)，該液位偵測裝置耦接於控制單元17，用以偵測位於容置空間103之液體L之液面C的一液面位置，控制單元17依據液體L之該液面位置控制進液裝置11提供補充液體S至位於容置空間103之液體L，且控制單元17另分別控制入口閘門14以及出口閘門16選擇性地封閉入口105以及出口106。
另外，入口輸送裝置13與輸送裝置12可共同用以將一平板構件2沿一第二方向D2經由入口105送入容置空間103並通過液體L，且出口輸送裝置15與輸送裝置12共同將平板構件2沿第二方向D2經由出口106送出容置空間103。於此實施例中，第一方向D1可實質上垂直於第二方向D2，即本發明進液裝置11所提供之補充液體S的液體補充方向(即第一方向D1)係實質上垂直於平板構件2的輸送方向(即第二方向D2)。當欲浸鍍平板構件2時，首先將平板構件2放置於入口輸送裝置13上，入口輸送裝置13即可沿第二方向D2輸送平板構件2，當平板構件2位於靠近槽體10之入口105處時，控制單元17控制入口閘門14敞開於入口105，以使入口輸送裝置13可順利地將平板構件2經由入口105送入槽體10之容置空間103內的輸送裝置12，於上述過程中，當入口閘門14不封閉入口105時(即當入口105呈敞開狀態時)，位於容置空間103內之液體L則會由入口105排出，接著，當入口輸送裝置13與輸送裝置12共同驅使平板構件2完全進入槽體10之容置空間103內後，控制單元17控制入口閘門14封閉入口105。
當平板構件2浸鍍完畢時，平板構件2隨著輸送裝置2由槽體10之容置空間103內靠近入口105處沿第二方向D2送至靠近出口106處，此時控制單元17控制出口閘門16敞開於出口106，以使輸送裝置12可順利地將平板構件2經由出口106送至出口輸送裝置15，於上述過程中，當出口閘門16不封閉出口106時(即當出口106呈敞開狀態時)，位於容置空間103內之液體L則會由出口106排出，接著，當出口輸送裝置15與輸送裝置12共同驅使平板構件2完全離開槽體10之容置空間103後，控制單元17控制出口閘門16封閉出口106。
值得一提的是，如第1圖所示，位於容置空間103之液體L的液面C與底壁101之一第一距離X1大於入口105之一上端緣與底壁101之一第二距離X2，且第一距離X1相距第二距離X2一第一距離差Y1，即液體L的液面C與入口105之該上端緣相距第一距離差Y1，以確保平板構件2的上表面與液體L的液面C保持一定的距離。於此實施例中，第一距離差Y1可大於或等於20公厘，但本發明不受此限。此外，由於本發明進液裝置11係由液體L的液面C的上方提供補充液體S，因此當進液裝置11所提供的補充液體S進入液體L的液面C時，上述液體L的液面C與平板構件2的上表面間保持有一定距離的設計，可防止補充液體S於進入液體L的液面C時所產生的擾流影響平板構件2的上表面，進而確保平板構件2的上表面的平面完整度。
另外，當控制單元17控制入口閘門14敞開於入口105時，液體L會以一入口流出量Q1經由入口105由槽體10排出，此時位於容置空間103內之液體L之液面C便會降低，當液位偵測裝置偵測位於容置空間103內之液體L之液面C低於一預設位置時，控制單元17便會控制進液裝置11提供補充液體S至位於容置空間103之液體L，以維持液體L的液面C與入口105之該上端緣相距第一距離差Y1(即20公厘)，進而避免液體L於進液裝置11提供補充液體S時所產生的液面擾動影響平板構件2的上表面的平整度。
同理，如第1圖所示，液面C與底壁101之一第三距離X3大於出口106之一上端緣與底壁101之一第四距離X4，且第三距離X3相距第四距離X4一第二距離差Y2，即液體L的液面C與出口106之該上端緣相距第二距離差Y2，以確保平板構件2的上表面與液體L的液面C保持一定的距離。於此實施例中，第三距離X3等於第一距離X1，第四距離X4等於第二距離X2，且第二距離差Y2可等於第一距離差Y1（即第二距離差Y2大於或等於20公厘），但本發明不受此限。
當控制單元17控制出口閘門16敞開於出口106時，液體L以一出口流出量Q2經由出口106由槽體10排出，此時位於容置空間103內之液體L之液面C便會降低，當液位偵測裝置偵測位於容置空間103內之液體L之液面C低於一預設位置時，控制單元17便會控制進液裝置11提供補充液體S至位於容置空間103之液體L，以維持液體L之液面C與出口106之該上端緣相距第二距離差Y2（即20公厘），進而避免液體L於進液裝置11提供補充液體S時所產生的液面擾動影響平板構件2的上表面的平整度
相較於先前技術，本發明槽盤式液體循環系統利用入口輸送載具、輸送載具與出口輸送載具共同驅使平板構件沿第二方向經由入口送入槽體之容置空間，再經由出口送出槽體之容置空間，以達到自動化浸鍍平板構件之目的。此外本發明槽盤式液體循環系統另利用進液裝置係由液體的液面的上方提供補充液體，因此當進液裝置所提供的補充液體進入液體的液面時，上述液體的液面與平板構件的上表面間保持有一定距離的設計，可防止補充液體於進入液體的液面時所產生的擾流影響平板構件的上表面，進而確保平板構件的上表面的平面完整度。以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。
1‧‧‧槽盤式液體循環系統
10‧‧‧槽體
101‧‧‧底壁
102‧‧‧環繞側壁
103‧‧‧容置空間
104‧‧‧開口
105‧‧‧入口
106‧‧‧出口
11‧‧‧進液裝置
12‧‧‧輸送裝置
13‧‧‧入口輸送裝置
14‧‧‧入口閘門
15‧‧‧出口輸送裝置
16‧‧‧出口閘門
17‧‧‧控制單元
2‧‧‧平板構件
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
L‧‧‧液體
S‧‧‧補充液體
X1‧‧‧第一距離
X2‧‧‧第二距離
X3‧‧‧第三距離
X4‧‧‧第四距離
Y1‧‧‧第一距離差
Y2‧‧‧第二距離差
10‧‧‧槽體
101‧‧‧底壁
102‧‧‧環繞側壁
103‧‧‧容置空間
104‧‧‧開口
105‧‧‧入口
106‧‧‧出口
11‧‧‧進液裝置
12‧‧‧輸送裝置
13‧‧‧入口輸送裝置
14‧‧‧入口閘門
15‧‧‧出口輸送裝置
16‧‧‧出口閘門
17‧‧‧控制單元
2‧‧‧平板構件
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
L‧‧‧液體
S‧‧‧補充液體
X1‧‧‧第一距離
X2‧‧‧第二距離
X3‧‧‧第三距離
X4‧‧‧第四距離
Y1‧‧‧第一距離差
Y2‧‧‧第二距離差
第1圖為本發明實施例槽盤式液體循環系統之示意圖。 第2圖為本發明實施例槽盤式液體循環系統之功能方塊示意圖。
1‧‧‧槽盤式液體循環系統
10‧‧‧槽體
101‧‧‧底壁
102‧‧‧環繞側壁
103‧‧‧容置空間
104‧‧‧開口
105‧‧‧入口
106‧‧‧出口
11‧‧‧進液裝置
12‧‧‧輸送裝置
13‧‧‧入口輸送裝置
14‧‧‧入口閘門
15‧‧‧出口輸送裝置
16‧‧‧出口閘門
2‧‧‧平板構件
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
L‧‧‧液體
S‧‧‧補充液體
X1‧‧‧第一距離
X2‧‧‧第二距離
X3‧‧‧第三距離
X4‧‧‧第四距離
Y1‧‧‧第一距離差
Y2‧‧‧第二距離差
Claims (15)
- 一種可降低擾流之槽盤式液體循環系統，其包含有： 一槽體，包含有： 一底壁；以及 一環繞側壁，突出於該底壁，該環繞側壁與該底壁共同定義一容置空間及連通於該容置空間之一開口，其中該容置空間用以容置一液體； 一進液裝置，設置於該槽體之上方，該進液裝置沿一第一方向經由該開口提供一補充液體至位於該容置空間內之該液體；以及 一輸送裝置，設置於該槽體之該容置空間內，該輸送裝置用以沿一第二方向輸送一平板構件通過該液體。
- 如請求項1所述之槽盤式液體循環系統，其中該環繞側壁上形成有連通於該容置空間之一入口，且該平板構件由該入口進入該容置空間。
- 如請求項2所述之槽盤式液體循環系統，另包含： 一入口輸送裝置，設置於該入口相對該容置空間之一側，該輸送裝置與該入口輸送裝置共同將該平板構件經由該入口送入該容置空間。
- 如請求項2所述之槽盤式液體循環系統，另包含： 一入口閘門，樞接於該環繞側壁鄰近該入口處，用以選擇性地封閉該入口。
- 如請求項2所述之槽盤式液體循環系統，其中位於該容置空間之該液體具有一液面，該液面與該底壁之一第一距離大於該入口之一上端緣與該底壁之一第二距離，且該第一距離相距該第二距離一第一距離差。
- 如請求項5所述之槽盤式液體循環系統，其中該第一距離差大於或等於20公厘。
- 如請求項1所述之槽盤式液體循環系統，其中該環繞側壁上形成有連通於該容置空間之一出口，且該平板構件由該出口離開該容置空間。
- 如請求項7所述之槽盤式液體循環系統，另包含： 一出口輸送裝置，設置於該出口相對該容置空間之一側，該輸送裝置與該出口輸送裝置共同將該平板構件經由該出口送出該容置空間。
- 如請求項7所述之槽盤式液體循環系統，另包含： 一出口閘門，樞接於該環繞側壁鄰近該出口處，用以選擇性地封閉該出口。
- 如請求項8所述之槽盤式液體循環系統，其中位於該容置空間之該液體具有一液面，該液面與該底壁之一第三距離大於該出口之一上端緣與該底壁之一第四距離，且該第三距離相距該第四距離一第二距離差。
- 如請求項10所述之槽盤式液體循環系統，其中該第二距離差大於或等於20公厘。
- 如請求項1所述之槽盤式液體循環系統，其中該環繞側壁上形成有一入口及一出口，該入口與該出口分別連通於該容置空間，該平板構件由該入口進入該容置空間且由該出口離開該容置空間，該進液裝置以一流入量經由該開口提供該補充液體至位於該容置空間內之該液體，該入口以一入口流出量將該液體由該槽體排出，該出口以一出口流出量將該液體由該槽體排出，且該流入量大於或等於該入口流出量與該出口流出量的和。
- 如請求項1所述之槽盤式液體循環系統，另包含有： 一控制單元，耦接於該進液裝置，該控制單元依據該液體之一液面位置控制該進液裝置提供該補充液體至位於該容置空間之該液體。
- 如請求項1所述之槽盤式液體循環系統，其中該第一方向垂直於該第二方向。
- 如請求項1所述之槽盤式液體循環系統，其中該環繞側壁上形成有連通於該容置空間之一入口與一出口，且該槽盤式液體循環系統另包含： 一入口輸送裝置，設置於該入口相對該容置空間之一側，該入口輸送裝置與該輸送裝置共同將該平板構件經由該入口送入該容置空間；以及 一出口輸送裝置，設置於該出口相對該容置空間之一側，該出口輸送裝置與該輸送裝置共同將該平板構件經由該出口送出該容置空間； 其中該輸送裝置、該入口輸送裝置以及該出口輸送裝置分別為一滾輪裝置。
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| CN201521016453.XU CN205205020U (zh) | 2015-07-27 | 2015-12-09 | 可降低扰流的槽盘式液体循环系统 |
| CN201510905707.1A CN106396423A (zh) | 2015-07-27 | 2015-12-09 | 可降低扰流的槽盘式液体循环系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201562197105P | 2015-07-27 | 2015-07-27 |
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| TW104217353U TWM515418U (zh) | 2015-07-27 | 2015-10-30 | 用來清洗平板構件之槽體 |
| TW104135695A TWI571320B (zh) | 2015-07-27 | 2015-10-30 | 用來清洗平板構件之槽體 |
| TW104218819U TWM519645U (zh) | 2015-07-27 | 2015-11-24 | 可降低擾流之槽盤式液體循環系統 |
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| TW104219574U TWM522082U (zh) | 2015-07-27 | 2015-12-07 | 用來清洗平板構件之自動化系統 |
| TW104140900A TWI571321B (zh) | 2015-07-27 | 2015-12-07 | 用來清洗一平板構件之自動化系統 |
| TW105100094A TWI561452B (en) | 2015-07-27 | 2016-01-04 | Cassette body capable of reducing liquid turbulence when soaking into a liquid |
| TW105100047A TWI574895B (zh) | 2015-07-27 | 2016-01-04 | 用以承載平板構件之卡匣本體 |
| TW105200022U TWM520515U (zh) | 2015-07-27 | 2016-01-04 | 用以承載平板構件之卡匣本體 |
| TW105100030A TWI572533B (zh) | 2015-07-27 | 2016-01-04 | 用以承載平板構件之卡匣結構 |
| TW105200045U TWM521064U (zh) | 2015-07-27 | 2016-01-04 | 可於浸入浸泡液時降低液面擾流之卡匣本體 |
| TW105200012U TWM523187U (zh) | 2015-07-27 | 2016-01-04 | 用以承載平板構件之卡匣結構 |
Family Applications Before (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| TW104217353U TWM515418U (zh) | 2015-07-27 | 2015-10-30 | 用來清洗平板構件之槽體 |
| TW104135695A TWI571320B (zh) | 2015-07-27 | 2015-10-30 | 用來清洗平板構件之槽體 |
| TW104218819U TWM519645U (zh) | 2015-07-27 | 2015-11-24 | 可降低擾流之槽盤式液體循環系統 |
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