JPH08141527A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JPH08141527A JPH08141527A JP31255894A JP31255894A JPH08141527A JP H08141527 A JPH08141527 A JP H08141527A JP 31255894 A JP31255894 A JP 31255894A JP 31255894 A JP31255894 A JP 31255894A JP H08141527 A JPH08141527 A JP H08141527A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】２種類の超音波振動を洗浄液に誘起し、被洗浄
物に付着した残渣を確実に剥離除去することのできる超
音波洗浄装置を提供する。 【構成】洗浄槽に貯液した洗浄液にワークを浸漬すると
共に、超音波振動子を構成する各第１振動子を約２８KH
z の低い周波数により超音波振動させ、各第２振動子を
約３９KHz の高い周波数により超音波振動させ、洗浄槽
に貯液した洗浄液に低い周波数の超音波振動と高い周波
数の超音波振動とを同時に誘起することで、各周波数で
振動する超音波振動の相乗作用により洗浄液による洗浄
が促進され、洗浄液のキャビテーション作用によりワー
クに付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を確実に剥離除
去することができる。
物に付着した残渣を確実に剥離除去することのできる超
音波洗浄装置を提供する。 【構成】洗浄槽に貯液した洗浄液にワークを浸漬すると
共に、超音波振動子を構成する各第１振動子を約２８KH
z の低い周波数により超音波振動させ、各第２振動子を
約３９KHz の高い周波数により超音波振動させ、洗浄槽
に貯液した洗浄液に低い周波数の超音波振動と高い周波
数の超音波振動とを同時に誘起することで、各周波数で
振動する超音波振動の相乗作用により洗浄液による洗浄
が促進され、洗浄液のキャビテーション作用によりワー
クに付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を確実に剥離除
去することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、電気部品、
電子部品、プレス部品、ゴム部品等の被洗浄物を超音波
洗浄する作業に用いられる超音波洗浄装置に関する。
電子部品、プレス部品、ゴム部品等の被洗浄物を超音波
洗浄する作業に用いられる超音波洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、上述例のような被洗浄物を洗浄す
る場合、例えば、洗浄槽に貯液された洗浄液に被洗浄物
を浸漬した後、同槽底部に配設した超音波振動子を予め
設定した単一周波数により超音波振動させ、洗浄槽に貯
液された洗浄液に超音波振動を誘起して、被洗浄物に付
着した油分や塵埃等の残渣を洗浄液のキャビテーション
作用により剥離除去する。
る場合、例えば、洗浄槽に貯液された洗浄液に被洗浄物
を浸漬した後、同槽底部に配設した超音波振動子を予め
設定した単一周波数により超音波振動させ、洗浄槽に貯
液された洗浄液に超音波振動を誘起して、被洗浄物に付
着した油分や塵埃等の残渣を洗浄液のキャビテーション
作用により剥離除去する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
超音波振動子を単一周波数により超音波振動させて被洗
浄物を洗浄するので、洗浄槽に貯液された洗浄液に対し
て単一周波数の超音波振動しか伝搬されず、洗浄液の伝
搬特性や振動波の打消し合いにより被洗浄物に伝搬され
る超音波振動が弱くなるため、洗浄液に浸漬した被洗浄
物に超音波振動が均一に伝搬されず、被洗浄物に付着し
た油分や溶剤、塵埃等の残渣を単一周波数の超音波振動
により剥離除去することが困難であるという問題点を有
している。
超音波振動子を単一周波数により超音波振動させて被洗
浄物を洗浄するので、洗浄槽に貯液された洗浄液に対し
て単一周波数の超音波振動しか伝搬されず、洗浄液の伝
搬特性や振動波の打消し合いにより被洗浄物に伝搬され
る超音波振動が弱くなるため、洗浄液に浸漬した被洗浄
物に超音波振動が均一に伝搬されず、被洗浄物に付着し
た油分や溶剤、塵埃等の残渣を単一周波数の超音波振動
により剥離除去することが困難であるという問題点を有
している。
【０００４】この発明は上記問題に鑑み、洗浄槽に貯液
した洗浄液に低い周波数の超音波振動と、高い周波数の
超音波振動とを同時に誘起することにより、被洗浄物が
周波数の異なる２種類の超音波振動により振動され、被
洗浄物に付着した残渣を確実に剥離除去する超音波洗浄
装置の提供を目的とする。
した洗浄液に低い周波数の超音波振動と、高い周波数の
超音波振動とを同時に誘起することにより、被洗浄物が
周波数の異なる２種類の超音波振動により振動され、被
洗浄物に付着した残渣を確実に剥離除去する超音波洗浄
装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
上記洗浄槽に設けた超音波振動子を、該洗浄槽に貯液し
た洗浄液に低い周波数の超音波振動を誘起する第１振動
子と、高い周波数の超音波振動を誘起する第２振動子と
で構成した超音波洗浄装置であることを特徴とする。
上記洗浄槽に設けた超音波振動子を、該洗浄槽に貯液し
た洗浄液に低い周波数の超音波振動を誘起する第１振動
子と、高い周波数の超音波振動を誘起する第２振動子と
で構成した超音波洗浄装置であることを特徴とする。
【０００６】請求項２記載の発明は、上記洗浄槽に設け
た超音波振動子を、該洗浄槽に貯液した炭化水素系溶剤
に低い周波数の超音波振動を誘起する第１振動子と、高
い周波数の超音波振動を誘起する第２振動子とで構成し
た超音波洗浄装置であることを特徴とする。
た超音波振動子を、該洗浄槽に貯液した炭化水素系溶剤
に低い周波数の超音波振動を誘起する第１振動子と、高
い周波数の超音波振動を誘起する第２振動子とで構成し
た超音波洗浄装置であることを特徴とする。
【０００７】請求項３記載の発明は、上記洗浄槽に設け
た超音波振動子を、該洗浄槽に貯液した有機系溶剤に低
い周波数の超音波振動を誘起する第１振動子と、高い周
波数の超音波振動を誘起する第２振動子とで構成した超
音波洗浄装置であることを特徴とする。
た超音波振動子を、該洗浄槽に貯液した有機系溶剤に低
い周波数の超音波振動を誘起する第１振動子と、高い周
波数の超音波振動を誘起する第２振動子とで構成した超
音波洗浄装置であることを特徴とする。
【０００８】
【作用】請求項１記載の超音波洗浄装置は、洗浄槽に貯
液した洗浄液に被洗浄物を浸漬し、同槽に設けた第１振
動子を予め設定した低い周波数により超音波振動させ、
第２振動子を予め設定した高い周波数により超音波振動
させ、洗浄槽に貯液された洗浄液に低い周波数の超音波
振動と、高い周波数の超音波振動とを同時に誘起するこ
とで、洗浄液が周波数の異なる２種類の超音波振動によ
り振動され、洗浄液に浸漬した被洗浄物を２種類の超音
波振動により同時振動して、被洗浄物に付着した油分や
溶剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
液した洗浄液に被洗浄物を浸漬し、同槽に設けた第１振
動子を予め設定した低い周波数により超音波振動させ、
第２振動子を予め設定した高い周波数により超音波振動
させ、洗浄槽に貯液された洗浄液に低い周波数の超音波
振動と、高い周波数の超音波振動とを同時に誘起するこ
とで、洗浄液が周波数の異なる２種類の超音波振動によ
り振動され、洗浄液に浸漬した被洗浄物を２種類の超音
波振動により同時振動して、被洗浄物に付着した油分や
溶剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
【０００９】請求項２記載の超音波洗浄装置は、洗浄槽
に貯液した炭化水素系溶剤に被洗浄物を浸漬し、同槽に
設けた第１振動子を低い周波数により超音波振動させ、
第２振動子を高い周波数により超音波振動させ、洗浄槽
に貯液された炭化水素系溶剤に低い周波数の超音波振動
と、高い周波数の超音波振動とを同時に誘起すること
で、炭化水素系溶剤が周波数の異なる２種類の超音波振
動により振動され、炭化水素系溶剤に浸漬した被洗浄物
を２種類の超音波振動により同時振動して、被洗浄物に
付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
に貯液した炭化水素系溶剤に被洗浄物を浸漬し、同槽に
設けた第１振動子を低い周波数により超音波振動させ、
第２振動子を高い周波数により超音波振動させ、洗浄槽
に貯液された炭化水素系溶剤に低い周波数の超音波振動
と、高い周波数の超音波振動とを同時に誘起すること
で、炭化水素系溶剤が周波数の異なる２種類の超音波振
動により振動され、炭化水素系溶剤に浸漬した被洗浄物
を２種類の超音波振動により同時振動して、被洗浄物に
付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
【００１０】請求項３記載の超音波洗浄装置は、洗浄槽
に貯液した有機系溶剤に被洗浄物を浸漬し、同槽に設け
た第１振動子を低い周波数により超音波振動させ、第２
振動子を高い周波数により超音波振動させ、洗浄槽に貯
液された有機系溶剤に低い周波数の超音波振動と、高い
周波数の超音波振動とを同時に誘起することで、有機系
溶剤が周波数の異なる２種類の超音波振動により振動さ
れ、有機系溶剤に浸漬した被洗浄物を２種類の超音波振
動により同時振動して、被洗浄物に付着した油分や溶
剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
に貯液した有機系溶剤に被洗浄物を浸漬し、同槽に設け
た第１振動子を低い周波数により超音波振動させ、第２
振動子を高い周波数により超音波振動させ、洗浄槽に貯
液された有機系溶剤に低い周波数の超音波振動と、高い
周波数の超音波振動とを同時に誘起することで、有機系
溶剤が周波数の異なる２種類の超音波振動により振動さ
れ、有機系溶剤に浸漬した被洗浄物を２種類の超音波振
動により同時振動して、被洗浄物に付着した油分や溶
剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
【００１１】
【発明の効果】この発明によれば、洗浄槽に貯液した洗
浄液に低い周波数の超音波振動と、高い周波数の超音波
振動とを同時に誘起することで、洗浄液全体に周波数の
異なる２種類の超音波振動が効率よく伝搬され、洗浄液
に浸漬した被洗浄物を２種類の超音波振動により同時振
動することができる。且つ、従来例のように単一周波数
の超音波振動により被洗浄物を洗浄するよりも高い洗浄
効果が得られ、２種類の超音波振動により被洗浄物に付
着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を確実に剥離除去する
ことができ、各超音波振動の相乗作用により洗浄液によ
る洗浄が促進される。
浄液に低い周波数の超音波振動と、高い周波数の超音波
振動とを同時に誘起することで、洗浄液全体に周波数の
異なる２種類の超音波振動が効率よく伝搬され、洗浄液
に浸漬した被洗浄物を２種類の超音波振動により同時振
動することができる。且つ、従来例のように単一周波数
の超音波振動により被洗浄物を洗浄するよりも高い洗浄
効果が得られ、２種類の超音波振動により被洗浄物に付
着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を確実に剥離除去する
ことができ、各超音波振動の相乗作用により洗浄液によ
る洗浄が促進される。
【００１２】
【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は被洗浄物の一例として洗浄槽に貯液した
洗浄液にワークを浸漬して超音波振動する超音波洗浄装
置を示し、図１に於いて、この超音波洗浄装置１は、例
えば、商品名＝ナフテゾール、ＮＳクリー等の炭化水素
系溶剤（ハイドロクロロ＝ＨＣ、ハイドロクロロフルオ
ロカーボン＝ＨＣＦＣ）を主成分とする洗浄液Ｈにより
ワークＷを洗浄処理する一次洗浄槽２と、有機系溶剤
（パーフルオロカーボン＝ＰＦＣ、ハイドロフルオロカ
ーボン＝ＨＦＣ）を主成分とする洗浄液Ｐによりワーク
Ｗを洗浄処理する二次洗浄槽３と、洗浄処理に使用され
る各洗浄液Ｈ，Ｐを蒸溜再生する溶剤再生装置４とを備
えている。
述する。図面は被洗浄物の一例として洗浄槽に貯液した
洗浄液にワークを浸漬して超音波振動する超音波洗浄装
置を示し、図１に於いて、この超音波洗浄装置１は、例
えば、商品名＝ナフテゾール、ＮＳクリー等の炭化水素
系溶剤（ハイドロクロロ＝ＨＣ、ハイドロクロロフルオ
ロカーボン＝ＨＣＦＣ）を主成分とする洗浄液Ｈにより
ワークＷを洗浄処理する一次洗浄槽２と、有機系溶剤
（パーフルオロカーボン＝ＰＦＣ、ハイドロフルオロカ
ーボン＝ＨＦＣ）を主成分とする洗浄液Ｐによりワーク
Ｗを洗浄処理する二次洗浄槽３と、洗浄処理に使用され
る各洗浄液Ｈ，Ｐを蒸溜再生する溶剤再生装置４とを備
えている。
【００１３】上述の一次洗浄槽２は、同槽下部にワーク
Ｗを超音波洗浄するための第１洗浄槽５と第２洗浄槽６
とを並設し、同第２洗浄槽６の一側部に汚れた洗浄液Ｈ
を貯溜するための溶剤貯溜槽７を連設すると共に、第２
洗浄槽６に貯液される洗浄液Ｈの液面レベルを第１洗浄
槽５の液面レベルよりも若干高くなるように設定し、第
１洗浄槽５に貯液される洗浄液Ｈの液面レベルを溶剤貯
溜槽７の液面レベルよりも若干高くなるように設定し
て、液面レベルの高位側から低位側に向けて各槽６，
５，７の順に洗浄液Ｈをオーバーフローさせる。
Ｗを超音波洗浄するための第１洗浄槽５と第２洗浄槽６
とを並設し、同第２洗浄槽６の一側部に汚れた洗浄液Ｈ
を貯溜するための溶剤貯溜槽７を連設すると共に、第２
洗浄槽６に貯液される洗浄液Ｈの液面レベルを第１洗浄
槽５の液面レベルよりも若干高くなるように設定し、第
１洗浄槽５に貯液される洗浄液Ｈの液面レベルを溶剤貯
溜槽７の液面レベルよりも若干高くなるように設定し
て、液面レベルの高位側から低位側に向けて各槽６，
５，７の順に洗浄液Ｈをオーバーフローさせる。
【００１４】且つ、各洗浄槽５，６の底部内壁面に洗浄
液Ｈを２種類の異なる周波数で超音波振動させるための
各超音波振動子８，８と、同洗浄液Ｈを所定温度に加熱
するための各加熱管９，９とを配設している。
液Ｈを２種類の異なる周波数で超音波振動させるための
各超音波振動子８，８と、同洗浄液Ｈを所定温度に加熱
するための各加熱管９，９とを配設している。
【００１５】上述の超音波振動子８は、図２及び図３に
示すように、同超音波振動子８を構成する振動子本体８
ａに各第１振動子８ｂ…と各第２振動子８ｃ…とを所定
間隔に離間して配設し、各第１振動子８ｂ…及び各第２
振動子８ｃ…に各発振器８ｄ，８ｅを接続して、各第１
振動子８ｂ…及び各第２振動子８ｃ…を各発振器８ｄ，
８ｅにより超音波振動させる。例えば、約２６KHz 〜約
３０KHz の低い周波数で各第１振動子８ｂ…を超音波振
動させ、約３７KHz 〜約３１KHz の高い周波数で各第２
振動子８ｃ…を超音波振動させ、各洗浄槽５，６に貯液
された洗浄液Ｈに超音波振動を誘起する。
示すように、同超音波振動子８を構成する振動子本体８
ａに各第１振動子８ｂ…と各第２振動子８ｃ…とを所定
間隔に離間して配設し、各第１振動子８ｂ…及び各第２
振動子８ｃ…に各発振器８ｄ，８ｅを接続して、各第１
振動子８ｂ…及び各第２振動子８ｃ…を各発振器８ｄ，
８ｅにより超音波振動させる。例えば、約２６KHz 〜約
３０KHz の低い周波数で各第１振動子８ｂ…を超音波振
動させ、約３７KHz 〜約３１KHz の高い周波数で各第２
振動子８ｃ…を超音波振動させ、各洗浄槽５，６に貯液
された洗浄液Ｈに超音波振動を誘起する。
【００１６】一方の加熱管９は、例えば、適宜温度に加
熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体を加熱管９に循環
供給して、各洗浄槽５，６に貯液された洗浄液Ｈを各加
熱管９，９により所定温度に加熱する。
熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体を加熱管９に循環
供給して、各洗浄槽５，６に貯液された洗浄液Ｈを各加
熱管９，９により所定温度に加熱する。
【００１７】且つ、第１洗浄槽５及び溶剤貯溜槽７の底
部壁面と、第１洗浄槽５の側部壁面とを、循環用ポンプ
１０と、濾過フィルタ１１と、各バルブ１２，１３，１
４とを介して液循環路１５で接続し、同循環用ポンプ１
０の移送力により各槽５，７に貯液された洗浄液Ｈを濾
過フィルタ１１で清浄濾過して循環供給する。第２洗浄
槽６の底部壁面と側部壁面とを、循環用ポンプ１６と、
濾過フィルタ１７と、バルブ１８とを介して液循環路１
９で接続し、同循環用ポンプ１６の移送力により第２洗
浄槽６に貯液された洗浄液Ｈを濾過フィルタ１７で清浄
濾過して循環供給する。
部壁面と、第１洗浄槽５の側部壁面とを、循環用ポンプ
１０と、濾過フィルタ１１と、各バルブ１２，１３，１
４とを介して液循環路１５で接続し、同循環用ポンプ１
０の移送力により各槽５，７に貯液された洗浄液Ｈを濾
過フィルタ１１で清浄濾過して循環供給する。第２洗浄
槽６の底部壁面と側部壁面とを、循環用ポンプ１６と、
濾過フィルタ１７と、バルブ１８とを介して液循環路１
９で接続し、同循環用ポンプ１６の移送力により第２洗
浄槽６に貯液された洗浄液Ｈを濾過フィルタ１７で清浄
濾過して循環供給する。
【００１８】且つ、第１洗浄槽５の側部壁面と、第２洗
浄槽６の上部壁面とを減圧蒸溜器２０を介して液循環路
２１で接続し、第１洗浄槽５に貯液された洗浄液Ｈを減
圧蒸溜器２０で蒸溜再生して第２洗浄槽６に返還する。
浄槽６の上部壁面とを減圧蒸溜器２０を介して液循環路
２１で接続し、第１洗浄槽５に貯液された洗浄液Ｈを減
圧蒸溜器２０で蒸溜再生して第２洗浄槽６に返還する。
【００１９】前述の二次洗浄槽３は、同槽下部にワーク
Ｗを仕上げ洗浄するための第１洗浄槽２２と第２洗浄槽
２３とを並設し、同第２洗浄槽２３の一側部に汚れた洗
浄液Ｐを貯溜するための溶剤貯溜槽２４を連設すると共
に、第２洗浄槽２３に貯液される洗浄液Ｐの液面レベル
を第１洗浄槽２２の液面レベルよりも若干高くなるよう
に設定し、第１洗浄槽２２に貯液される洗浄液Ｐの液面
レベルを溶剤貯溜槽２４の液面レベルよりも若干高くな
るように設定して、液面レベルの高位側から低位側に向
けて各槽２３，２２，２４の順に洗浄液Ｐをオーバーフ
ローさせる。
Ｗを仕上げ洗浄するための第１洗浄槽２２と第２洗浄槽
２３とを並設し、同第２洗浄槽２３の一側部に汚れた洗
浄液Ｐを貯溜するための溶剤貯溜槽２４を連設すると共
に、第２洗浄槽２３に貯液される洗浄液Ｐの液面レベル
を第１洗浄槽２２の液面レベルよりも若干高くなるよう
に設定し、第１洗浄槽２２に貯液される洗浄液Ｐの液面
レベルを溶剤貯溜槽２４の液面レベルよりも若干高くな
るように設定して、液面レベルの高位側から低位側に向
けて各槽２３，２２，２４の順に洗浄液Ｐをオーバーフ
ローさせる。
【００２０】且つ、各洗浄槽２２，２３の底部内壁面に
洗浄液Ｐを２種類の異なる周波数で超音波振動させるた
めの各超音波振動子２５，２５と、同洗浄液Ｐを所定温
度に加熱するための各加熱管２６，２６とを配設してい
る。なお、各超音波振動子２５，２５は、図２及び図３
に示す各超音波振動子８，８と同一構造であるため、そ
の詳細な説明及び図面を省略する。
洗浄液Ｐを２種類の異なる周波数で超音波振動させるた
めの各超音波振動子２５，２５と、同洗浄液Ｐを所定温
度に加熱するための各加熱管２６，２６とを配設してい
る。なお、各超音波振動子２５，２５は、図２及び図３
に示す各超音波振動子８，８と同一構造であるため、そ
の詳細な説明及び図面を省略する。
【００２１】上述の超音波振動子２５は、同超音波振動
子２５を構成する振動子本体２５ａに各第１振動子２５
ｂ…と各第２振動子２５ｃ…とを所定間隔に離間して配
設し、各第１振動子２５ｂ…及び各第２振動子２５ｃ…
に各発振器２５ｄ，２５ｅを接続して、各第１振動子２
５ｂ…及び各第２振動子２５ｃ…を各発振器２５ｄ，２
５ｅにより超音波振動させる。例えば、約２６KHz 〜約
３０KHz の低い周波数で各第１振動子２５ｂ…を超音波
振動させ、約３７KHz 〜約３１KHz の高い周波数で各第
２振動子２５ｃ…を超音波振動させ、各洗浄槽５，６に
貯液された洗浄液Ｐに超音波振動を誘起する。
子２５を構成する振動子本体２５ａに各第１振動子２５
ｂ…と各第２振動子２５ｃ…とを所定間隔に離間して配
設し、各第１振動子２５ｂ…及び各第２振動子２５ｃ…
に各発振器２５ｄ，２５ｅを接続して、各第１振動子２
５ｂ…及び各第２振動子２５ｃ…を各発振器２５ｄ，２
５ｅにより超音波振動させる。例えば、約２６KHz 〜約
３０KHz の低い周波数で各第１振動子２５ｂ…を超音波
振動させ、約３７KHz 〜約３１KHz の高い周波数で各第
２振動子２５ｃ…を超音波振動させ、各洗浄槽５，６に
貯液された洗浄液Ｐに超音波振動を誘起する。
【００２２】一方の加熱管２６は、例えば、適宜温度に
加熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体を加熱管２６に
循環供給して、各洗浄槽２２，２３に貯液された洗浄液
Ｐを各加熱管２６，２６により所定温度に加熱する。
加熱されたオイルや水溶液等の加熱媒体を加熱管２６に
循環供給して、各洗浄槽２２，２３に貯液された洗浄液
Ｐを各加熱管２６，２６により所定温度に加熱する。
【００２３】且つ、第１洗浄槽２２の液面部分と対応す
る上流側壁面に固定した噴射ノズル２７と、溶剤貯溜槽
２４の底部壁面とを、循環用ポンプ２８と、濾過フィル
タ２９とを介して液循環路３０で接続し、同循環用ポン
プ２８の移送力により溶剤貯溜槽２４に貯液された洗浄
液Ｐを濾過フィルタ２９で清浄濾過して噴射ノズル２７
に循環供給し、同噴射ノズル２７の吐出噴流により第１
洗浄槽２２から溶剤貯溜槽２４に向けて洗浄液Ｐをオー
バーフローさせる。第２洗浄槽２３の液面部分と対応す
る上流側壁面に固定した噴射ノズル３１と、同第２洗浄
槽２３の底部壁面とを、循環用ポンプ３２と、濾過フィ
ルタ３３とを介して液循環路３４で接続し、同循環用ポ
ンプ３２の移送力により第２洗浄槽２３に貯液された洗
浄液Ｐを濾過フィルタ３３で清浄濾過して噴射ノズル３
１に循環供給し、同噴射ノズル３１の吐出噴流により第
２洗浄槽２３から第１洗浄槽２２に向けて洗浄液Ｐをオ
ーバーフローさせる。
る上流側壁面に固定した噴射ノズル２７と、溶剤貯溜槽
２４の底部壁面とを、循環用ポンプ２８と、濾過フィル
タ２９とを介して液循環路３０で接続し、同循環用ポン
プ２８の移送力により溶剤貯溜槽２４に貯液された洗浄
液Ｐを濾過フィルタ２９で清浄濾過して噴射ノズル２７
に循環供給し、同噴射ノズル２７の吐出噴流により第１
洗浄槽２２から溶剤貯溜槽２４に向けて洗浄液Ｐをオー
バーフローさせる。第２洗浄槽２３の液面部分と対応す
る上流側壁面に固定した噴射ノズル３１と、同第２洗浄
槽２３の底部壁面とを、循環用ポンプ３２と、濾過フィ
ルタ３３とを介して液循環路３４で接続し、同循環用ポ
ンプ３２の移送力により第２洗浄槽２３に貯液された洗
浄液Ｐを濾過フィルタ３３で清浄濾過して噴射ノズル３
１に循環供給し、同噴射ノズル３１の吐出噴流により第
２洗浄槽２３から第１洗浄槽２２に向けて洗浄液Ｐをオ
ーバーフローさせる。
【００２４】且つ、二次洗浄槽３の上部内壁面に沿って
各冷却ジャケット３５，３５を配管し、同側壁面に連設
した滴下槽３７の上部蒸気領域に冷却コイル３６を配管
している。例えば、冷凍装置（図示省略）により適宜温
度に冷却された冷媒を各冷却ジャケット３５，３５及び
冷却コイル３６に循環供給して、同槽の上部空間に放出
された洗浄液Ｐの蒸気及び槽内部に侵入する大気中の水
分を各冷却ジャケット３５，３５及び冷却コイル３６に
より凝縮液化して滴下槽３７に滴下する。
各冷却ジャケット３５，３５を配管し、同側壁面に連設
した滴下槽３７の上部蒸気領域に冷却コイル３６を配管
している。例えば、冷凍装置（図示省略）により適宜温
度に冷却された冷媒を各冷却ジャケット３５，３５及び
冷却コイル３６に循環供給して、同槽の上部空間に放出
された洗浄液Ｐの蒸気及び槽内部に侵入する大気中の水
分を各冷却ジャケット３５，３５及び冷却コイル３６に
より凝縮液化して滴下槽３７に滴下する。
【００２５】上述の滴下槽３７は、同滴下槽３７の底部
壁面と水分離槽３８内に形成した第１分離槽３８ａの上
部壁面とを液回収路３９で接続し、二次洗浄槽３に設け
た第２洗浄槽２３の上部壁面と水分離槽３８内に形成し
た第２分離槽３８ｂの下部壁面とを返還用ポンプ４０を
介して液返還路４１で接続し、同返還用ポンプ４０の移
送力により、滴下槽３７に一旦滴下された溶剤を水分離
槽３８に供給して溶剤と水分とに比重分離し、分離され
た溶剤を第２洗浄槽２３に返還する。
壁面と水分離槽３８内に形成した第１分離槽３８ａの上
部壁面とを液回収路３９で接続し、二次洗浄槽３に設け
た第２洗浄槽２３の上部壁面と水分離槽３８内に形成し
た第２分離槽３８ｂの下部壁面とを返還用ポンプ４０を
介して液返還路４１で接続し、同返還用ポンプ４０の移
送力により、滴下槽３７に一旦滴下された溶剤を水分離
槽３８に供給して溶剤と水分とに比重分離し、分離され
た溶剤を第２洗浄槽２３に返還する。
【００２６】前述の溶剤再生装置４は、一次分離槽４２
と、二次分離槽４３と、溶剤蒸溜塔４４とから構成さ
れ、一次分離槽４２は、同槽内に形成した第１分離槽４
２ａの上部壁面と、溶剤貯溜槽２４の液面部分と対応す
る側部壁面とを液回収路４５で接続し、一次分離槽４２
内に形成した第１分離槽４２ａ及び第２分離槽４２ｂの
液面部分と対応する側部壁面と、二次分離槽４３内に形
成した第１分離槽４３ａの上部壁面とを液回収路４６で
接続して、一次分離槽４２に回収された溶剤を各槽４２
ａ，４２ｂで比重分離し、同各槽４２ａ，４２ｂの液面
部分に浮遊する溶剤を二次分離槽４３の第１分離槽４３
ａに供給する。且つ、一次分離槽４２内に形成した第３
分離槽４２ｃの側部壁面と溶剤蒸溜塔４４の下部壁面と
を回収用バルブ４７を介して液回収路４８で接続し、同
溶剤蒸溜塔４４の上部壁面と溶剤貯溜槽２４の上部壁面
とを液返還路４９で接続して、溶剤蒸溜塔４４により蒸
溜再生された溶剤を溶剤貯溜槽２４に返還する。
と、二次分離槽４３と、溶剤蒸溜塔４４とから構成さ
れ、一次分離槽４２は、同槽内に形成した第１分離槽４
２ａの上部壁面と、溶剤貯溜槽２４の液面部分と対応す
る側部壁面とを液回収路４５で接続し、一次分離槽４２
内に形成した第１分離槽４２ａ及び第２分離槽４２ｂの
液面部分と対応する側部壁面と、二次分離槽４３内に形
成した第１分離槽４３ａの上部壁面とを液回収路４６で
接続して、一次分離槽４２に回収された溶剤を各槽４２
ａ，４２ｂで比重分離し、同各槽４２ａ，４２ｂの液面
部分に浮遊する溶剤を二次分離槽４３の第１分離槽４３
ａに供給する。且つ、一次分離槽４２内に形成した第３
分離槽４２ｃの側部壁面と溶剤蒸溜塔４４の下部壁面と
を回収用バルブ４７を介して液回収路４８で接続し、同
溶剤蒸溜塔４４の上部壁面と溶剤貯溜槽２４の上部壁面
とを液返還路４９で接続して、溶剤蒸溜塔４４により蒸
溜再生された溶剤を溶剤貯溜槽２４に返還する。
【００２７】上述の二次分離槽４３は、同槽内に形成し
た第１分離槽４３ａの側部壁面と、一次洗浄槽２に設け
た第２洗浄槽６の上部壁面とを返還用ポンプ５０を介し
て液返還路５１で接続し、同返還用ポンプ５０の移送力
により再生溶剤を一次洗浄槽２の第２洗浄槽６に返還す
る。且つ、二次分離槽４３内に形成した第２分離槽４３
ｂの側部壁面と溶剤貯溜槽２４の上部壁面とを返還用ポ
ンプ５２を介して液返還路５３で接続し、同返還用ポン
プ５２の移送力により再生溶剤を溶剤貯溜槽２４に返還
する。
た第１分離槽４３ａの側部壁面と、一次洗浄槽２に設け
た第２洗浄槽６の上部壁面とを返還用ポンプ５０を介し
て液返還路５１で接続し、同返還用ポンプ５０の移送力
により再生溶剤を一次洗浄槽２の第２洗浄槽６に返還す
る。且つ、二次分離槽４３内に形成した第２分離槽４３
ｂの側部壁面と溶剤貯溜槽２４の上部壁面とを返還用ポ
ンプ５２を介して液返還路５３で接続し、同返還用ポン
プ５２の移送力により再生溶剤を溶剤貯溜槽２４に返還
する。
【００２８】前述の溶剤蒸溜塔４４は、同塔の下部壁面
とプールタンク５４の側部壁面とを返還用ポンプ５５を
介して液回収路５６で接続し、同プールタンク５４の底
部に接続した各液回収路５７，５８を、溶剤蒸溜塔４４
の側部壁面と、二次分離槽４３内に形成した第１分離槽
４３ａの側部壁面とに接続して、返還用ポンプ５５の移
送力によりプールタンク５４内に溶剤を一旦貯溜し、同
プールタンク５４に貯溜された一部の溶剤を溶剤蒸溜塔
４４に返還し、残りの溶剤を二次分離槽４３の第１分離
槽４３ａに供給する。
とプールタンク５４の側部壁面とを返還用ポンプ５５を
介して液回収路５６で接続し、同プールタンク５４の底
部に接続した各液回収路５７，５８を、溶剤蒸溜塔４４
の側部壁面と、二次分離槽４３内に形成した第１分離槽
４３ａの側部壁面とに接続して、返還用ポンプ５５の移
送力によりプールタンク５４内に溶剤を一旦貯溜し、同
プールタンク５４に貯溜された一部の溶剤を溶剤蒸溜塔
４４に返還し、残りの溶剤を二次分離槽４３の第１分離
槽４３ａに供給する。
【００２９】図示実施例は上記の如く構成するものとし
て、以下、超音波洗浄装置１によるワークＷの洗浄方法
を説明する。先ず、図１に示すように、一次洗浄槽２の
第１洗浄槽５及び第２洗浄槽６に貯液された洗浄液Ｈを
各加熱管９，９により所定温度（例えば、約６０℃）に
加熱し、ワークＷの搬入時及び搬出時に、一次洗浄槽２
の天井部を部分開放して未洗浄のワークＷを搬入し、第
１洗浄槽５に貯液された洗浄液Ｈと、第２洗浄槽６に貯
液された洗浄液Ｈとに未洗浄のワークＷを順次浸漬する
と共に、各洗浄槽５，６に設けた各超音波振動子８，８
を夫々振動させて、各洗浄槽５，６に貯液された洗浄液
Ｈに約２８KHz 及び約３９KHz の超音波振動を同時に誘
起し、例えば、約３０秒間振動させて超音波洗浄する。
て、以下、超音波洗浄装置１によるワークＷの洗浄方法
を説明する。先ず、図１に示すように、一次洗浄槽２の
第１洗浄槽５及び第２洗浄槽６に貯液された洗浄液Ｈを
各加熱管９，９により所定温度（例えば、約６０℃）に
加熱し、ワークＷの搬入時及び搬出時に、一次洗浄槽２
の天井部を部分開放して未洗浄のワークＷを搬入し、第
１洗浄槽５に貯液された洗浄液Ｈと、第２洗浄槽６に貯
液された洗浄液Ｈとに未洗浄のワークＷを順次浸漬する
と共に、各洗浄槽５，６に設けた各超音波振動子８，８
を夫々振動させて、各洗浄槽５，６に貯液された洗浄液
Ｈに約２８KHz 及び約３９KHz の超音波振動を同時に誘
起し、例えば、約３０秒間振動させて超音波洗浄する。
【００３０】つまり、超音波振動子８を構成する各第１
振動子８ｂ…と各第２振動子８ｃ…とを同時振動させ、
約２８KHz の低い周波数により各第１振動子８ｂ…を超
音波振動させ、約３９KHz の高い周波数により各第２振
動子８ｃ…を超音波振動させ、各洗浄槽５，６に貯液さ
れた洗浄液Ｈに約２８KHz の超音波振動と、約３９KHz
の超音波振動とを同時に誘起することで、洗浄液Ｈに浸
漬したワークＷが２種類の超音波振動により同時振動さ
れ、洗浄液Ｈのキャビテーション作用によりワークＷに
付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
振動子８ｂ…と各第２振動子８ｃ…とを同時振動させ、
約２８KHz の低い周波数により各第１振動子８ｂ…を超
音波振動させ、約３９KHz の高い周波数により各第２振
動子８ｃ…を超音波振動させ、各洗浄槽５，６に貯液さ
れた洗浄液Ｈに約２８KHz の超音波振動と、約３９KHz
の超音波振動とを同時に誘起することで、洗浄液Ｈに浸
漬したワークＷが２種類の超音波振動により同時振動さ
れ、洗浄液Ｈのキャビテーション作用によりワークＷに
付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を剥離除去する。
【００３１】次に、ワークＷに付着した洗浄液Ｈを剥離
除去する場合、二次洗浄槽３の第１洗浄槽２２及び第２
洗浄槽２３に貯液された洗浄液Ｐを各加熱管２６，２６
により所定温度（例えば、約５６℃）に加熱し、ワーク
Ｗの搬入時及び搬出時に、二次洗浄槽３の天井部を部分
開放して一次洗浄済みのワークＷを搬入し、第１洗浄槽
２２に貯液された洗浄液Ｐと、第２洗浄槽２３に貯液さ
れた洗浄液ＰとにワークＷを順次浸漬することで、ワー
クＷの表面部分に付着した洗浄液Ｈが洗浄液Ｐの表面張
力により剥離され、同ワークＷから剥離した洗浄液Ｈを
洗浄液Ｐ中に乳化させて、各洗浄槽２２，２３の液面部
分に比重の軽い洗浄液Ｈを自然浮上させる。
除去する場合、二次洗浄槽３の第１洗浄槽２２及び第２
洗浄槽２３に貯液された洗浄液Ｐを各加熱管２６，２６
により所定温度（例えば、約５６℃）に加熱し、ワーク
Ｗの搬入時及び搬出時に、二次洗浄槽３の天井部を部分
開放して一次洗浄済みのワークＷを搬入し、第１洗浄槽
２２に貯液された洗浄液Ｐと、第２洗浄槽２３に貯液さ
れた洗浄液ＰとにワークＷを順次浸漬することで、ワー
クＷの表面部分に付着した洗浄液Ｈが洗浄液Ｐの表面張
力により剥離され、同ワークＷから剥離した洗浄液Ｈを
洗浄液Ｐ中に乳化させて、各洗浄槽２２，２３の液面部
分に比重の軽い洗浄液Ｈを自然浮上させる。
【００３２】或いは、第１洗浄槽２２及び第２洗浄槽２
３に貯液された洗浄液Ｐに一次洗浄済みのワークＷを浸
漬したとき、各洗浄槽２２，２３に設けた各超音波振動
子２５，２５を夫々振動させ、各洗浄槽２２，２３に貯
液された洗浄液Ｐに約２８KHz 及び約３９KHz の超音波
振動を同時に誘起し、例えば、約３０秒間振動させて超
音波洗浄する。つまり、上述と同様にして、超音波振動
子２５を構成する各第１振動子２５ｂ…と各第２振動子
２５ｃ…を同時振動させ、各洗浄槽２２，２３に貯液さ
れた洗浄液Ｐに約２８KHz の超音波振動と、約３９KHz
の超音波振動とを同時に誘起することで、洗浄液Ｐに浸
漬したワークＷが２種類の超音波振動により同時振動さ
れ、洗浄液Ｐのキャビテーション作用によりワークＷに
付着した洗浄液Ｈを剥離除去する。
３に貯液された洗浄液Ｐに一次洗浄済みのワークＷを浸
漬したとき、各洗浄槽２２，２３に設けた各超音波振動
子２５，２５を夫々振動させ、各洗浄槽２２，２３に貯
液された洗浄液Ｐに約２８KHz 及び約３９KHz の超音波
振動を同時に誘起し、例えば、約３０秒間振動させて超
音波洗浄する。つまり、上述と同様にして、超音波振動
子２５を構成する各第１振動子２５ｂ…と各第２振動子
２５ｃ…を同時振動させ、各洗浄槽２２，２３に貯液さ
れた洗浄液Ｐに約２８KHz の超音波振動と、約３９KHz
の超音波振動とを同時に誘起することで、洗浄液Ｐに浸
漬したワークＷが２種類の超音波振動により同時振動さ
れ、洗浄液Ｐのキャビテーション作用によりワークＷに
付着した洗浄液Ｈを剥離除去する。
【００３３】同時に、各洗浄槽２２，２３の液面部分に
浮上した各洗浄液Ｈ，Ｐの乳化溶剤を溶剤貯溜槽２４側
にオーバーフローさせ、同溶剤貯溜槽２４に貯液された
溶剤を溶剤再生装置４の一次分離槽４２と、二次分離槽
４３と、溶剤蒸溜塔４４とに順次供給して、蒸溜再生さ
れた高純度の洗浄液Ｈを一次洗浄槽２の第２洗浄槽６に
返還し、再生された洗浄液Ｐを二次洗浄槽３の溶剤貯溜
槽２４に返還する。
浮上した各洗浄液Ｈ，Ｐの乳化溶剤を溶剤貯溜槽２４側
にオーバーフローさせ、同溶剤貯溜槽２４に貯液された
溶剤を溶剤再生装置４の一次分離槽４２と、二次分離槽
４３と、溶剤蒸溜塔４４とに順次供給して、蒸溜再生さ
れた高純度の洗浄液Ｈを一次洗浄槽２の第２洗浄槽６に
返還し、再生された洗浄液Ｐを二次洗浄槽３の溶剤貯溜
槽２４に返還する。
【００３４】以上のように、一次洗浄槽２の第１洗浄槽
５及び第２洗浄槽６に貯液した洗浄液Ｈと、二次洗浄槽
３の第１洗浄槽２２及び第２洗浄槽２３に貯液した洗浄
液ＰとにワークＷを浸漬して超音波洗浄するとき、各洗
浄槽５，６及び各洗浄槽２２，２３に貯液した各洗浄液
Ｈ，Ｐに低い周波数の超音波振動と、高い周波数の超音
波振動とを同時に誘起するので、各洗浄液Ｈ，Ｐに周波
数の異なる２種類の超音波振動が効率よく伝搬され、各
洗浄液Ｈ，Ｐに浸漬したワークＷを２種類の超音波振動
により同時振動することができる。且つ、従来例のよう
に単一周波数の超音波振動によりワークＷを洗浄するよ
りも高い洗浄効果が得られ、２種類の超音波振動により
ワークＷに付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を確実に
剥離除去することができ、各超音波振動の相乗作用によ
り各洗浄液Ｈ，Ｐによる洗浄が促進される。
５及び第２洗浄槽６に貯液した洗浄液Ｈと、二次洗浄槽
３の第１洗浄槽２２及び第２洗浄槽２３に貯液した洗浄
液ＰとにワークＷを浸漬して超音波洗浄するとき、各洗
浄槽５，６及び各洗浄槽２２，２３に貯液した各洗浄液
Ｈ，Ｐに低い周波数の超音波振動と、高い周波数の超音
波振動とを同時に誘起するので、各洗浄液Ｈ，Ｐに周波
数の異なる２種類の超音波振動が効率よく伝搬され、各
洗浄液Ｈ，Ｐに浸漬したワークＷを２種類の超音波振動
により同時振動することができる。且つ、従来例のよう
に単一周波数の超音波振動によりワークＷを洗浄するよ
りも高い洗浄効果が得られ、２種類の超音波振動により
ワークＷに付着した油分や溶剤、塵埃等の残渣を確実に
剥離除去することができ、各超音波振動の相乗作用によ
り各洗浄液Ｈ，Ｐによる洗浄が促進される。
【００３５】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明の洗浄液は、実施例の洗浄液Ｈ，Ｐ
に対応し、以下同様に、被洗浄物は、ワークＷに対応
し、洗浄槽は、一次洗浄槽２を構成する第１洗浄槽５及
び第２洗浄槽６と、二次洗浄槽３を構成する第１洗浄槽
２２及び第２洗浄槽２３とに対応し、超音波振動子は、
超音波振動子８を構成する第１振動子８ｂ及び第２振動
子８ｃと、超音波振動子２５を構成する第１振動子２５
ｂ及び第２振動子２５ｃとに対応するも、この発明は、
上述の実施例の構成のみに限定されるものではない。
において、この発明の洗浄液は、実施例の洗浄液Ｈ，Ｐ
に対応し、以下同様に、被洗浄物は、ワークＷに対応
し、洗浄槽は、一次洗浄槽２を構成する第１洗浄槽５及
び第２洗浄槽６と、二次洗浄槽３を構成する第１洗浄槽
２２及び第２洗浄槽２３とに対応し、超音波振動子は、
超音波振動子８を構成する第１振動子８ｂ及び第２振動
子８ｃと、超音波振動子２５を構成する第１振動子２５
ｂ及び第２振動子２５ｃとに対応するも、この発明は、
上述の実施例の構成のみに限定されるものではない。
【００３６】上述の実施例では、超音波振動子８を構成
する各第１振動子８ｂ…及び各第２振動子８ｃ…を一体
的に設けているが、例えば、各第１振動子８ｂ…及び各
第２振動子８ｃ…を独立して設けるもよく、各第１振動
子８ｂ…及び各第２振動子８ｃ…を同時に振動させて、
一次洗浄槽２の第１洗浄槽５及び第２洗浄槽６に貯液さ
れた洗浄液Ｈに低い周波数の超音波振動と、高い周波数
の超音波振動とを同時に誘起するので、実施例と同等の
作用効果が得られる。なお、上述と同様に、超音波振動
子２５を構成する各第１振動子２５ｂ…及び各第２振動
子２５ｃ…を独立して設けるもよい。
する各第１振動子８ｂ…及び各第２振動子８ｃ…を一体
的に設けているが、例えば、各第１振動子８ｂ…及び各
第２振動子８ｃ…を独立して設けるもよく、各第１振動
子８ｂ…及び各第２振動子８ｃ…を同時に振動させて、
一次洗浄槽２の第１洗浄槽５及び第２洗浄槽６に貯液さ
れた洗浄液Ｈに低い周波数の超音波振動と、高い周波数
の超音波振動とを同時に誘起するので、実施例と同等の
作用効果が得られる。なお、上述と同様に、超音波振動
子２５を構成する各第１振動子２５ｂ…及び各第２振動
子２５ｃ…を独立して設けるもよい。
【００３７】また、超音波振動子８の第１振動子８ｂ及
び超音波振動子２５の第１振動子２５ｂの周波数を約２
６KHz 〜約３０KHz に設定し、超音波振動子８の第２振
動子８ｃ及び超音波振動子２５の第２振動子２５ｃの周
波数を約３７KHz 〜約３１KHz に設定しているが、実施
例の周波数のみに限定されるものではなく、各第１振動
子８ｂ，２５ｂを低い周波数に設定し、各第２振動子８
ｃ，２５ｃを高い周波数に設定するればよい。
び超音波振動子２５の第１振動子２５ｂの周波数を約２
６KHz 〜約３０KHz に設定し、超音波振動子８の第２振
動子８ｃ及び超音波振動子２５の第２振動子２５ｃの周
波数を約３７KHz 〜約３１KHz に設定しているが、実施
例の周波数のみに限定されるものではなく、各第１振動
子８ｂ，２５ｂを低い周波数に設定し、各第２振動子８
ｃ，２５ｃを高い周波数に設定するればよい。
【００３８】さらにまた、一次洗浄槽２を構成する第１
洗浄槽５又は第２洗浄槽６の一方にワークＷを浸漬した
後、二次洗浄槽３を構成する第１洗浄槽２２又は第２洗
浄槽２３の一方にワークＷを浸漬して超音波洗浄するも
よく、且つ、一次洗浄槽２又は二次洗浄槽３の何れか一
方を利用してワークＷを超音波洗浄してもよい。
洗浄槽５又は第２洗浄槽６の一方にワークＷを浸漬した
後、二次洗浄槽３を構成する第１洗浄槽２２又は第２洗
浄槽２３の一方にワークＷを浸漬して超音波洗浄するも
よく、且つ、一次洗浄槽２又は二次洗浄槽３の何れか一
方を利用してワークＷを超音波洗浄してもよい。
【図１】超音波洗浄装置によるワークの洗浄方法を示す
全体構成図。
全体構成図。
【図２】超音波振動子を構成する第１振動子及び第２振
動子の配列状態を示す平面図。
動子の配列状態を示す平面図。
【図３】超音波振動子を構成する第１振動子及び第２振
動子の配列状態を示す側面図。
動子の配列状態を示す側面図。
Ｗ…ワーク Ｈ，Ｐ…洗浄液 １…超音波洗浄装置 ２…一次洗浄槽 ３…二次洗浄槽 ４…溶剤再生装置 ５，２２…第１洗浄槽 ６，２３…第２洗浄槽 ７，２４…溶剤貯溜槽 ８，２５…超音波振動子 ８ｂ，２５ｂ…第１振動子 ８ｃ，２５ｃ…第２振動子 ８ｄ，８ｅ，２５ｄ，２５ｅ…発振器
Claims (3)
- 【請求項１】洗浄槽に貯液した洗浄液を超音波振動子に
より超音波振動させ、該洗浄液に浸漬した被洗浄物を超
音波洗浄する超音波洗浄装置であって、上記洗浄槽に設
けた超音波振動子を、該洗浄槽に貯液した洗浄液に低い
周波数の超音波振動を誘起する第１振動子と、高い周波
数の超音波振動を誘起する第２振動子とで構成した超音
波洗浄装置。 - 【請求項２】洗浄槽に貯液した炭化水素系溶剤を超音波
振動子により超音波振動させ、該炭化水素系溶剤に浸漬
した被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置であっ
て、上記洗浄槽に設けた超音波振動子を、該洗浄槽に貯
液した炭化水素系溶剤に低い周波数の超音波振動を誘起
する第１振動子と、高い周波数の超音波振動を誘起する
第２振動子とで構成した超音波洗浄装置。 - 【請求項３】洗浄槽に貯液した有機系溶剤を超音波振動
子により超音波振動させ、該有機系溶剤に浸漬した被洗
浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置であって、上記洗
浄槽に設けた超音波振動子を、該洗浄槽に貯液した有機
系溶剤に低い周波数の超音波振動を誘起する第１振動子
と、高い周波数の超音波振動を誘起する第２振動子とで
構成した超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31255894A JPH08141527A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31255894A JPH08141527A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08141527A true JPH08141527A (ja) | 1996-06-04 |
Family
ID=18030664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31255894A Pending JPH08141527A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08141527A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913209A2 (en) * | 1997-10-31 | 1999-05-06 | Michael P. Pedziwiatr | Ultrasonic cleaning apparatus and method |
| US6085764A (en) * | 1997-07-22 | 2000-07-11 | Tdk Corporation | Cleaning apparatus and method |
| JP2009164214A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Toshiba Corp | 微細構造体の処理方法、微細構造体の処理システムおよび電子デバイスの製造方法 |
| CN102489470A (zh) * | 2011-12-07 | 2012-06-13 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板的清洗装置及清洗方法 |
| WO2012099126A1 (ja) | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 電気化学工業株式会社 | 超音波洗浄方法及び装置 |
| TWI571321B (zh) * | 2015-07-27 | 2017-02-21 | 盟立自動化股份有限公司 | 用來清洗一平板構件之自動化系統 |
| JP2019145672A (ja) * | 2018-02-21 | 2019-08-29 | 三菱電機株式会社 | 洗浄装置 |
| CN111889451A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-11-06 | 浙江红狮环保股份有限公司 | 一种超声波清洗塑料桶的方法 |
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1994
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