JPH0969506A - 超音波洗浄システム - Google Patents

超音波洗浄システム

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JPH0969506A
JPH0969506A JP22307295A JP22307295A JPH0969506A JP H0969506 A JPH0969506 A JP H0969506A JP 22307295 A JP22307295 A JP 22307295A JP 22307295 A JP22307295 A JP 22307295A JP H0969506 A JPH0969506 A JP H0969506A
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JP
Japan
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pure water
ultrasonic
cleaning liquid
cleaning
cleaned
Prior art date
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Pending
Application number
JP22307295A
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English (en)
Inventor
Sadaaki Kurokawa
禎明 黒川
Akinori Iso
明典 磯
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Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Engineering Works Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】この発明は洗浄絵液に含まれる気体によって洗
浄効果の低下や振動板が発熱するのを防止した超音波洗
浄システムを提供することにある。 【解決手段】 ワ−ク24を超音波振動が付与された洗
浄液で洗浄するための超音波洗浄システムにおいて、上
記洗浄液の供給源1と、この供給源に一端が接続された
供給管路2と、この供給管路の他端に接続され上記供給
源から供給された洗浄液に超音波振動を付与してから上
記ワ−クに向けて噴射する超音波印加ノズル装置14
と、上記供給管路の中途部に設けられ上記超音波印加ノ
ズル装置へ供給される洗浄液に含まれる気体を除去する
脱気装置4とを具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はワ−クに付着した
微粒子を超音波振動が付与された洗浄液によって洗浄す
る超音波洗浄システムに関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、ワ−クとしての液晶用ガラス基板や
半導体ウエハなどの被洗浄基板を高い清浄度で洗浄する
ことが要求される工程がある。このような被洗浄基板を
洗浄する方式としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板
を浸漬するデイップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を
噴射して一枚ずつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高
い清浄度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉方
式が採用されることが多くなってきている。
【0003】枚葉方式の1つとして被洗浄基板に噴射さ
れる洗浄液に振動を付与し、その振動作用によって上記
被洗浄基板から微粒子を効率よく除去するようにした洗
浄方式が実用化されている。
【0004】洗浄液に振動を付与する洗浄方式におい
て、従来は20〜50kHz程度の超音波が用いられていた
が、最近では600 〜1.5 MHz程度の極超音波帯域の音
波を用いる超音波洗浄が開発されている。
【0005】振動が付与された洗浄液を被洗浄基板に噴
射すると、その振動の作用によって被洗浄基板に付着し
た微粒子の結合力が低下するため、振動を付与しない場
合に比べて洗浄効果を向上させることができるというこ
とがある。
【0006】上記洗浄液としては、通常、純水が用いら
れている。しかしながら、純水には飽和水蒸気圧に近い
レベルの酸素が溶存状態で含まれている。そのため、そ
のような酸素を含んだ純水をポンプなどで超音波印加ノ
ズル装置に圧送し、ここで超音波振動を付与すると、純
水中に含まれる酸素によって超音波振動の伝播効率が低
下するから、上記純水による洗浄効果も低下するという
ことがある。
【0007】さらに、純水に超音波振動が付与される
と、その純水に含まれる酸素が分離し、上記超音波印加
ノズル装置の超音波振動する振動板に気泡となって付着
する。振動板に気泡が付着すると、その気泡によって振
動板が純水により冷却されにくくなるから、気泡の付着
量が増大すると、振動板の温度上昇が大きくなり、その
振動板が熱損する虞がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、ワ−クを
超音波振動が付与された洗浄液で洗浄する場合、洗浄液
に気体が含まれていることで、その気体によって超音波
振動の伝播効率の低下を招き、洗浄効果の低下を招くと
いうことがあったり、洗浄液から気体が分離し、その気
体が超音波振動する振動板に気泡となって付着すること
で、その振動板が高温となり、熱損する虞があるなどの
ことがあった。
【0009】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、洗浄液に超音波振動が付
与される前に、その洗浄液から気体を取り除くことで、
超音波振動の伝播効率を向上させるとともに、気泡の付
着による発熱を防止した超音波洗浄システムを提供する
ことにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1の発明は、ワ−クを超音波振動が付与された
洗浄液で洗浄するための超音波洗浄システムにおいて、
上記洗浄液に含まれる気体を除去してからその洗浄液に
超音波振動を付与することを特徴とする。
【0011】請求項2の発明は、ワ−クを超音波振動が
付与された洗浄液で洗浄するための超音波洗浄システム
において、上記洗浄液の供給源と、この供給源に一端が
接続された供給管路と、この供給管路の他端に接続され
上記供給源から供給された洗浄液に超音波振動を付与し
てから上記ワ−クに向けて噴射する超音波印加ノズル装
置と、上記供給管路の中途部に設けられ上記超音波印加
ノズル装置へ供給される洗浄液に含まれる気体を除去す
る脱気装置とを具備したことを特徴とする。
【0012】請求項1と請求項2の発明によれば、洗浄
液は、超音波振動が付与される前に、それに含まれる気
体が除去されるため、洗浄液への超音波振動の伝播効率
を向上させることができるとともに、超音波振動する振
動板が気体の付着により発熱するのを防止できる。
【0013】
【実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面を参照
して説明する。図1に示す超音波洗浄システムは洗浄液
である、純水の供給源1を備えている。この供給源1に
は供給管路2の一端が接続されている。この供給管路2
には上記供給源1の純水を圧送する送水ポンプ3が設け
られている。この送水ポンプ3の吐出側、つまり供給管
路2の送水ポンプ3よりも下流側には脱気装置4が設け
られている。
【0014】上記脱気装置4は図2に示すように筒状の
ホルダ5を有する。このホルダ5の両端部内にはそれぞ
れ支持部材6が設けられている。各支持部材6には中空
糸状の複数の分離膜部材7が両端部を気密に保持されて
設けられている。上記ホルダ5の両端開口は端板5aに
よって閉塞され、その端板5aに上記供給管路2が接続
されている。
【0015】上記分離膜部材7は液体を遮断し、気体を
透過させる構造となっていて、その内部と外部とにガス
濃度差を与えることで、内部を流通する純水からそれに
含まれる気体(酸素)を除去できるようになっている。
【0016】分離膜部材7の内部と外部とにガス濃度差
を与える手段として上記ホルダ5には吸引ポンプ8が吸
引管路9を介して接続されている。上記吸引ポンプ8が
作動することで、上記ホルダ5の内部が減圧される。そ
れによって、上記分離膜部材7の内部と外部とにガス濃
度差を与えることができるから、分離膜部材7内を流通
する純水に含まれる気体を分離除去することができるよ
うになっている。
【0017】なお、上記吸引管路9には圧力計11が接
続され、この吸引管路9内の圧力を表示できるようにな
っている。上記供給管路2の上記脱気装置4の下流側に
は流量計12およびフィルタ13が順次接続され、さら
に下流側は超音波印加ノズル装置14に接続されてい
る。この超音波印加ノズル装置14は図3に示すように
ノズル体15を備えている。このノズル体15の下端部
は下方へゆくにつれて幅寸法が小さくなるテ−パ状をな
していて、その下端面にはノズル孔16が形成されてい
る。また、ノズル体15の内部空間15aに上記供給管
路2の下流端が連通している。
【0018】上記ノズル体15内の上部両側には段部1
7が形成されていて、この段部17には薄い金属板から
なる振動板18が幅方向両端部を係合させて設けられて
いる。つまり、振動板18はノズル体15の内部空間1
5aを閉塞している。
【0019】上記振動板18の上面にはたとえば圧電素
子などからなる振動子19が取着されている。この振動
子19には発振器21がケ−ブル22を介して電気的に
接続されている。上記発振器21が上記振動子19に給
電することで、この振動子19は超音波振動する。それ
によって、この振動子19が取着された振動板18も超
音波振動するようになっている。
【0020】上記ノズル体15の内部空間15aに上記
供給管路2から純水が供給されると、その純水には上記
振動子19によって超音波振動が付与される。超音波振
動が付与された純水は上記ノズル孔16から噴出するよ
うになっている。
【0021】上記超音波印加ノズル装置14の下方には
洗浄槽23が設けられている。この洗浄槽23内には液
晶用ガラス基板や半導体ウエハなどのワ−クとしての被
洗浄基板24がロ−ラからなる搬送機構25によって搬
入および搬出されるようになっている。したがって、上
記ノズル孔16から噴出される純水によって上記被洗浄
基板24が洗浄されるようになっている。
【0022】上記洗浄槽23には戻り管26の一端が接
続されている。この戻り管26の他端はフィルタ27を
介して上記供給源1に連通している。それによって、上
記洗浄槽23に噴射された純水は上記フィルタ27で浄
化されて回収されるようになっている。
【0023】つぎに、上記構成の超音波洗浄システムの
作用について説明する。洗浄槽23内に供給された被洗
浄基板24を洗浄するには、まず、送水ポンプ3を作動
させて供給源1の純水を供給管路2へ圧送させてから、
脱気装置4の吸引ポンプ8および発振器21を作動させ
る。
【0024】洗浄槽23から供給管路2へ供給された純
水は脱気装置4の中空糸状の分離膜部材7の内部へ流入
する。この分離膜部材7の内部と外部とは上記吸引ポン
プ8によってガス濃度差が与えられている。そのため、
純水が上記分離膜部材7の内部空間を通過することで、
その純水に含まれた気体が分離され、分離膜部材7の周
壁を通過して吸引ポンプ8に吸引されることになる。そ
の結果、上記脱気装置4の分離膜部材7を通過した純水
には気体が含まれていないことになる。
【0025】脱気装置4で脱気された純水は流量計12
およびフィルタ13を通過して超音波印加ノズル装置1
4のノズル体15の内部空間15aに流入する。内部空
間15aへ流入した純水は振動板18に接触して超音波
振動が付与され、上記ノズル体15の下端に開口形成さ
れたノズル孔16から被洗浄基板24に向かって噴射さ
れる。
【0026】したがって、上記被洗浄基板24は超音波
振動が付与された純水によって洗浄されることになる。
超音波印加ノズル装置14に供給される純水は、それに
含まれる気体が脱気装置4によって除去されている。そ
のため、気体の含まれない純水が超音波印加ノズル装置
14の振動板18に接触して超音波振動が付与される
際、気体が含まれている場合に比べて超音波振動を効率
よく伝播することができるから、上記純水を媒体として
被洗浄基板24に与える振動エネルギが増大する。つま
り、被洗浄基板24の洗浄効率の向上を計ることができ
る。
【0027】しかも、純水に気体が含まれていないこと
で、その純水が超音波振動する振動板18に接触して
も、その振動板18に気泡が付着するようなことがな
い。そのため、超音波振動する振動板18が気泡によっ
て冷却されにくくなるということがないから、上記振動
板18が超音波振動による発熱で変形したり、損傷する
などのことを防止することができる。
【0028】
【発明の効果】以上述べたように請求項1と請求項2の
発明によれば、ワ−クを超音波振動が付与された洗浄液
で洗浄する際、洗浄液に超音波振動を付与する前に、そ
の洗浄液に含まれる気体を除去するようにした。
【0029】そのため、気体が除去された洗浄液は、気
体が含まれる洗浄液に比べて超音波振動の伝播効率が向
上するから、ワ−クの洗浄効果も向上させることができ
る。さらに、気体が除去された洗浄液は超音波振動が付
与されることで気泡が発生することがないから、従来の
ように洗浄液から発生する気泡が超音波振動する振動板
に付着し、その振動板が洗浄液により冷却されずに発熱
し、熱損するということがないなどの利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態を示す全体構成図。
【図2】同じく脱気装置の断面図。
【図3】同じくノズル体の断面図。
【符号の説明】
1…純水の供給源、2…供給管路、4…脱気装置、14
…超音波印加ノズル装置、15…ノズル体、16…ノズ
ル孔、24…被洗浄基板(ワ−ク)。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワ−クを超音波振動が付与された洗浄液
    で洗浄するための超音波洗浄システムにおいて、 上記洗浄液に含まれる気体を除去してからその洗浄液に
    超音波振動を付与することを特徴とする超音波洗浄シス
    テム。
  2. 【請求項2】 ワ−クを超音波振動が付与された洗浄液
    で洗浄するための超音波洗浄システムにおいて、 上記洗浄液の供給源と、 この供給源に一端が接続された供給管路と、 この供給管路の他端に接続され上記供給源から供給され
    た洗浄液に超音波振動を付与してから上記ワ−クに向け
    て噴射する超音波印加ノズル装置と、 上記供給管路の中途部に設けられ上記超音波印加ノズル
    装置へ供給される洗浄液に含まれる気体を除去する脱気
    装置とを具備したことを特徴とする超音波洗システム。
JP22307295A 1995-08-31 1995-08-31 超音波洗浄システム Pending JPH0969506A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN115889280A (zh) * 2021-08-04 2023-04-04 东京毅力科创株式会社 基片水蒸气处理方法和基片水蒸气处理系统

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