JPH09213666A

JPH09213666A - 洗浄方法および洗浄装置

Info

Publication number: JPH09213666A
Application number: JP2122696A
Authority: JP
Inventors: Hiroya Watabe; 弘也渡部; Kuniaki Suzuki; 邦明鈴木; Yasuyuki Harada; 康之原田
Original assignee: FURONTETSUKU KK; PURETETSUKU KK; Frontec Inc
Current assignee: FURONTETSUKU KK; PURETETSUKU KK; Frontec Inc
Priority date: 1996-02-07
Filing date: 1996-02-07
Publication date: 1997-08-15

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶表示素子用基板の洗浄工程において、ブ
ラシを用いる洗浄や低周波の超音波振動を付与した純水
を用いた洗浄では、有機物や金属汚染物を有効に除去す
ることができない。【解決手段】オゾン水生成装置１８において純水にオ
ゾンを混合してオゾン水を生成する。気液分離装置１７
で前記オゾン水の過飽和の余剰ガスを分離させ、気液分
離後のオゾン水に対し吐出部１５にて超音波振動を与
え、被洗浄物Ｗに与える。オゾンの酸化力により有機物
や金属汚染物を除去でき、また超音波によりパーティク
ルを有効の除去できる。気液分離装置１７で余剰ガスを
分離させているため、オゾン水に超音波振動が与えられ
るときに気泡が形成されにくく、よって振動板の寿命低
下を防止でき、また洗浄室Ｂから多量のオゾンガスが発
生するのを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子用基板
の製造工程または半導体の製造工程などにおいて基板な
どの被洗浄物の表面の付着物を除去する洗浄方法および
洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子用基板を製造するプロセス
では、基板表面にアルミニウム（Ａｌ）などの金属をス
パッタして金属膜を形成する成膜工程、およびこの金属
膜の上にレジスト層を形成し、このレジスト層の上から
エッチング処理し金属膜を部分的に除去して電極を形成
する工程、さらに金属電極の上に配向膜を形成する工程
などがある。またＴＦＴを用いる液晶表示素子用基板に
おいては、ＴＦＴを形成するためのスパッタやＣＶＤに
よる金属膜の成膜工程、レジスト層を形成するコーティ
ング工程、金属膜の一部を除去するエッチング工程など
が含まれる。

【０００３】このような液晶表示素子用基板の製造工程
においては、基板表面に空気中の粒子が付着し、またエ
ッチング処理工程やレジスト層の形成工程において金属
や有機物が付着し、また、基板表面に自然酸化膜も形成
されることがある。このような汚染物質が基板と電極ま
たは電極と配向膜との界面などに付着していると、電極
間のコンタクトが悪くなり、抵抗の増大及び配線不良な
どが生じ、あるいは成膜する層の密着性の低下や剥離な
どが生じやすくなる。よって、このような付着物の除去
は高性能な素子を製造するために非常に重要な工程であ
り、基板の製造段階ごとに基板表面の洗浄を行い、付着
物を可能な限り取り除く必要がある。特にＴＦＴを形成
する工程では、各金属層を積層する面を高清浄界面とす
ることが必要であるため、付着物の確実な除去作業が必
要である。

【０００４】従来、基板表面の付着物の除去のために、
フロンガスを用いて基板表面を洗浄していたが、フロン
ガスは洗浄力が強いが自然環境へ悪影響を与えるため、
現在は使用されていない。そこで、純水を使用した洗浄
方法および洗浄装置が検討されている。従来の洗浄方法
および洗浄装置では、液晶表示素子用基板の表面に洗剤
を含む純水（または水）を滴下してブラシにより洗浄す
る作業や、純水に超音波振動を与え、この純水を基板表
面に滴下または噴射する作業が行われるものとなってい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄方法および
洗浄装置のうち、洗剤を滴下してブラシにより洗浄する
工程１では、１０μｍ以上の比較的大きいパーティクル
の除去については効果的であるが、微小なパーティクル
の除去には限界がある。また有機物の除去については十
分なものではなく、また基板表面に付着した金属汚染物
の除去が不可能である。さらに、基板表面がブラシによ
る損傷を受け、基板表面に形成した電極などが損傷を受
けやすい欠点がある。

【０００６】一方、従来の超音波振動を印加した純水に
よる洗浄では、４０ｋＨｚまたは５０ｋＨｚ程度の比較
的低周波の振動を使用したキャビテーション効果によ
り、基板表面の比較的大きなパーティクルを除去するこ
とが可能である。しかし、微細なパーティクルの除去に
は限界がある。さらに有機物の除去は不十分であり、ま
た、金属汚染物の除去はほとんど不可能である。

【０００７】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、液晶表示素子用基板などの被洗浄物に対し有機物
や金属汚染物の除去を可能とし、さらに微細なパーティ
クルの除去も可能とした洗浄方法および洗浄装置を提供
することを目的としている。

【０００８】また、酸化力を持つ洗浄水で且つ超音波振
動を用いた洗浄を可能とし、この超音波振動が洗浄水内
にて有効に伝播できるようにし、さらに前記酸化力が低
下しない時点で洗浄を行なうようにして、酸化力の洗浄
効果と超音波振動を用いた洗浄効果を有効に発揮できる
ようにした洗浄方法および洗浄装置を提供することを目
的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、純
水にオゾンを混合したオゾン水を生成し、このオゾン水
を滞留させてオゾン水内から余剰ガスを分離し、余剰ガ
スを分離した後のオゾン水に振動を与えながら被洗浄物
に吐出して、前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする
ものである。

【００１０】また本発明の洗浄装置は、オゾン生成部
と、純水供給部から供給される純水に前記オゾン生成部
で生成されたオゾンを混合する混合部と、前記混合部か
ら送られたオゾン水を滞留させて前記オゾン水から余剰
ガスを分離する気液分離装置と、被洗浄物が設置される
洗浄室と、前記気液分離装置から送られるオゾン水に振
動を与えながら前記洗浄室内の被洗浄物に吐出する吐出
部と、を有することを特徴とするものである。

【００１１】上記洗浄装置において、気液分離装置は、
洗浄室を有する装置本体内に設けられていることが好ま
しく、さらに、気液分離装置を出たオゾン水のオゾン濃
度を１００％としたときに、吐出部でのオゾン水のオゾ
ン濃度が２０％以上となるように、気液分離装置から吐
出部までの管路長が設定されていることが好ましい。

【００１２】本発明では、純水にオゾンを混合して酸化
力を有する洗浄水を生成し、さらにこのオゾン水に超音
波振動を与えて前記酸化力に加えて超音波振動による洗
浄効果を発揮できるようにした。酸化力のある洗浄水を
用いた洗浄では、金属がオゾンにより酸化され金属のプ
ラスイオンになり、純水中に溶解しやすくなる。またオ
ゾンを含んだ酸化力のある純水を用いた洗浄では、被洗
浄物に付着している有機物がオゾンにより酸化されて例
えばＣＯ₂とＯ₂とに分解されるなどし、有機物に対する
除去効果が高くなる。

【００１３】さらに、オゾンが混合された酸化力を持つ
洗浄水に対し超音波振動が与えられるが、この超音波振
動は、１００ｋＨｚ以下の例えば７０ｋＨｚまたは５０
ｋＨｚあるいは４０ｋＨｚの比較的低周波の振動、ある
いは１ＭＨｚ以上の例えば１．５ＭＨｚの比較的高周波
の振動である。

【００１４】１００ｋＨｚ以下の低周波の振動が純水に
与えられると、振動が液内を伝播し液と空気との界面で
反射され液面内に振動波長に基づいて分布する粗密が形
成される。この密の部分に空洞が形成され（キャビテー
ション）、キャビテーション効果により、被洗浄物に付
着しているパーティクルが剥がされて除去される。ただ
し、キャビテーション効果により除去可能なパーティク
ルの大きさは、純水内の振動の周波数に反比例するた
め、１００ｋＨｚ以下の低周波の振動を与えた洗浄水で
は１０μｍ以上の比較的大きなパーティクルの除去に効
果的である。ただし１０μｍ未満の大きさのパーティク
ルの除去では効果がやや低下し、２μｍ以下の微細なパ
ーティクルは除去が困難である。

【００１５】これに対し、１ＭＨｚ以上の高周波の超音
波振動は、液中内を伝播したときに、液と空気との界面
から空気中へ逃げやすく低周波のようなキャビテーショ
ン効果は発揮できない。しかし、純水中を伝播する振動
が被洗浄物の表面に過大な加速度または衝撃波を与え、
この加速度や衝撃波により被洗浄物の表面の汚染を除去
できる効果を生じる。高周波の超音波を用いた汚染の除
去は比較的小さいパーティクルに対して有効であり、１
０μｍ以下の大きさのパーティクルの除去効果が高く、
２μｍ以下の微小なパーティクルを除去することも充分
に可能である。

【００１６】このように、超音波振動の周波数を選択す
ることにより、比較的大きなパーティクルの除去に有効
な場合と、比較的小さなパーティクルの除去に有効な場
合がある。したがって、オゾン水に与えられる超音波振
動の周波数は、被洗浄物の汚染状態すなわち被洗浄物に
付着しているパーティクルの大きさおよび種類により選
択することが好ましい。あるいは、高周波の超音波を用
いた洗浄と、低周波の超音波を用いた洗浄とを併用する
ことが好ましい。

【００１７】本発明では、オゾンが混合された酸化力の
ある洗浄水を用いることにより、有機物や金属の汚染物
の除去に効果的であり、さらに超音波振動を付与するこ
とによりパーティクルの除去効果を発揮できる。したが
って、この洗浄方法および洗浄装置では、多種の汚染物
の除去に有効であり、きわめて洗浄効果の高いものとな
る。

【００１８】次に、オゾンを純水に混合する際に、純水
内に溶解しているオゾンが過飽和状態となり、純水内に
オゾンおよびオゾン以外の酸素などの余剰ガスが含まれ
やすい。過飽和状態で余剰ガスが含まれていると、超音
波振動が与えられるときの洗浄水内に気泡が形成されや
すい。この気泡が形成されまたは気泡が形成されやすい
状態の洗浄水に超音波振動が与えられると、超音波を与
える振動板に悪影響を与え、振動板の寿命を低下させる
原因になる。さらに過飽和状態の洗浄水が洗浄室内に吐
出されると、洗浄水から多量のオゾンガスが分離されて
大気中に放出され、環境汚染の問題が生じる。

【００１９】そこで、本発明では、混合部において純水
にオゾンが混合された後に、このオゾン水が気液分離装
置に送られる。この気液分離装置ではオゾン水が滞留し
または流速が減速され、オゾン水内の余剰ガスが分離さ
れ、この余剰ガスが管路を経て収集され処理されるもの
となっている。したがって、超音波振動が与えられる時
点でのオゾン水は過飽和状態ではなく気泡が形成されに
くく、振動板に影響を与えにくいものとなる。また洗浄
室内から多量のオゾンガスが排出されることもなくな
る。

【００２０】ただし、気液分離装置を設けてオゾン水か
ら余剰ガスを分離させると、この気液分離装置からノズ
ルなどの吐出部に至る管路内で、洗浄水内のオゾンの濃
度が低下し酸化力が低下しやすくなる。その原因は、管
路内でのオゾンガスの自己分解、管路内での圧力の低下
によるオゾンガスの分離、または管路内の有機物などと
オゾンとの反応などである。そこで本発明では、気液分
離装置を洗浄装置の装置本体側または装置本体内に設
け、気液分離装置からノズルなどの吐出部に至るまでの
管路を可能な限り短くし、被洗浄物に与えられる洗浄水
のオゾン濃度の低下を防止できるようにしている。この
管路長の設定により被洗浄物に与えられる洗浄水のオゾ
ン濃度を調整することができるが、ノズルなどの吐出部
に至った洗浄水のオゾン濃度が、気液分離装置を経た直
後のオゾン濃度に対し少なくとも２０％以上であること
が好ましく、また５０％以上さらには７０％以上である
ことが好ましい。被洗浄物の洗浄では、オゾン濃度が２
０％以上であれば、その酸化力により金属や有機物の汚
染物質を除去するのに効果を発揮できる。またオゾン濃
度の高い方が酸化力が強くなり、濃度が５０％以上さら
には７０％以上であると、有機物および金属の除去効果
がさらに高くなる。

【００２１】また、前記洗浄水が被洗浄物に与えられる
洗浄部（洗浄室）内を例えば窒素ガスなどの不活性ガス
で充満させておくと、洗浄後の被洗浄物の表面に空気中
の汚染物が付着しにくくなり、被洗浄物の表面の清浄化
を保つことができる。

【００２２】なお、洗浄室での洗浄方法としては、洗浄
室内を移動する被洗浄物に対して、前記洗浄水が吐出部
から滴下されまたは噴射される。あるいは被洗浄物が回
転テーブルに支持されて回転させられ、この回転してい
る被洗浄物に対して、吐出部から洗浄水が滴下されある
いは噴射される。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は本発明の洗浄装置の構成を
示す構成ブロック図、図２は超音波振動が与えられるオ
ゾン水を用いた洗浄部（洗浄室）の構造の一例を示す断
面図、図３は吐出部（ノズル）の構造の一例を示す断面
図、図４は純水とオゾンとの混合部の構造の一例を示す
説明図、図５（Ａ）（Ｂ）は気液分離装置の構造例を示
す断面図である。図１にて鎖線で囲まれている部分が洗
浄装置の装置本体Ｅである。この装置本体Ｅ内には複数
の室が連接して配置されている。各室は、導入部（導入
室）Ａ、洗浄部（洗浄室）Ｂ、乾燥部（乾燥室）Ｃ、導
出部（導出室）Ｄの順に並んでいる。

【００２４】前記各部（各室）を隔てている隔壁１０に
は連絡口１１が形成されて、前記各部（各室）Ａないし
Ｄは、隣接するものどうしが連通している。導入部Ａか
ら導出部Ｄにかけて被洗浄物Ｗを保持した移送部材が連
続的に移動し、または隣接する室間を移送部材が往復移
動し、これにより、液晶表示素子用基板などの被洗浄物
Ｗが導入部Ａから導出部Ｄへ順に移送される。

【００２５】図２に示す洗浄部（洗浄室）Ｂでは、図示
右側の隔壁１０の連絡口１１から被洗浄物Ｗである液晶
表示素子用基板が導入され、この被洗浄物Ｗが回転テー
ブル１２に設置されて回転させられる。回転テーブル１
２の上方に移動ノズル１３が設けられ、この移動ノズル
１３は移動機構１４により左右に移動させられ、回転テ
ーブル１２により回転させられる被洗浄物Ｗに対し洗浄
水が噴射され、またその噴射位置が図示左右方向へ移動
するものとなっている。被洗浄物Ｗが回転して洗浄水が
噴射されるため、被洗浄物Ｗに対して洗浄水が均一に与
えられる。また洗浄水の噴射が完了した後に被洗浄物Ｗ
を高速回転させて水切りすることもできる。

【００２６】また洗浄部（洗浄室）Ｂ内は、不活性ガス
として窒素ガスが充満しており、洗浄が完了した被洗浄
物Ｗの表面に酸化物が付着しにくいものとなっている。
洗浄部Ｂ内が不活性ガスの雰囲気とする場合には、前後
の隔壁１０の連絡口１１にエアーカーテンを形成し、ガ
スの隣室への流出を防止できるようにしておくことが好
ましい。またこのエアーカーテンを設けることにより、
洗浄部Ｂ内で噴射される洗浄水が隣室に飛散するのを防
止することもできる。

【００２７】前記移動ノズル１３の先部には、オゾン水
に超音波振動を与えて被洗浄物Ｗに噴射する吐出部（噴
射ノズルヘッド）１５が設けられている。また装置本体
Ｅ内には、前記吐出部１５内の振動板に高周波電力を与
える発振装置１６が設けられ、さらに、装置本体Ｅ内に
気液分離装置１７が設けられている。装置本体Ｅの外部
にはオゾン水生成装置１８が設けられ、オゾン水生成装
置１８にて生成されたオゾン水が管路Ｌ１を経て前記気
液分離装置１７に与えられる。また気液分離装置１７に
より気液分離された後のオゾン水は管路Ｌ２により前記
吐出部１５に与えられる。

【００２８】図３は前記吐出部１５の構造の一例を示し
ている。この吐出部（噴射ノズルヘッド）１５は、内部
に振動板２１が設けられ、この振動板２１に前記発振装
置１６から高周波電力が与えられて振動板２１が振動す
る。吐出部１５内では、入口２２ａから振動付与部２２
ｂ内へオゾン水が供給される。この振動付与部２２ｂ内
のオゾン水に対し前記振動板２１から超音波振動が与え
られ、吐出口２２ｃから洗浄水が吐出される。この構成
例では、前記振動板２１からオゾン水に対し１．５ＭＨ
ｚの高周波の超音波振動が与えられる。

【００２９】図４に示すように、前記オゾン水生成装置
１８には、純水供給部２５と、オゾン生成部２６が設け
られている。純水供給部２５には、限外ろ過膜や逆浸透
膜装置のような膜処理装置、イオン交換装置、紫外線照
射装置などが装備されており、水道水の微粒子、コロイ
ダル物質、有機物、金属、陰イオン、液存酸素などが極
低濃度まで除去される。

【００３０】オゾン生成部２６では、反応室内に酸素ガ
ス（Ｏ₂）が供給され、酸素ガスが充満した反応室内に
放電を与えることにより、オゾン（Ｏ₃）が生成され
る。なお反応室内にはオゾン（Ｏ₃）に若干の酸素ガス
（Ｏ₂）が混ざったものが生成される。なお、オゾン生
成部２６が、水を電気分解し、分解された酸素原子から
オゾンを生成するものであってもよい。オゾン水生成装
置１８では、純水供給部２５から混合管（混合部）２７
内へ純水が所定の流速で供給される。そして、オゾン生
成部２６により生成されたオゾンガス（若干の酸素ガス
も含まれる）が供給管２８により混合管２７の内部に供
給され、混合管２７内で、純水にオゾンガスが混合され
る。

【００３１】図５（Ａ）（Ｂ）に示すように、気液分離
装置１７には、滞留室２９が設けられ、前記オゾン水生
成装置１８にて生成されたオゾン水は管路Ｌ１から滞留
室２９に与えられて流速が急速に低下させられる。その
結果、純水内に過飽和状態で含まれていたオゾンガスお
よび一部酸素ガスを含む余剰ガスが分離される。分離さ
れた余剰ガスは図示しない処理装置に送られて酸素原子
または酸素分子に分解処理される。余剰ガスが分離され
た後のオゾン水は前記管路Ｌ２から吐出部１５に与えら
れる。

【００３２】気液分離装置１７において気液分離され、
純水内の余剰ガスが除かれると、純水内のオゾンの溶解
濃度がほぼ飽和状態となる。よって、図３に示す吐出部
１５内で振動板２１から超音波振動が与えられるとき
に、オゾン水内に気泡が形成されにくく、振動板２１の
寿命を低下させることがない。また洗浄部（洗浄室）Ｂ
内に噴射された洗浄水からオゾンガスが発生しにくく、
大気汚染の問題も生じにくくなる。

【００３３】なお、気液分離装置１７を経たオゾン水に
は余剰ガスが含まれておらず、ほぼ飽和状態であるた
め、吐出部１５へ至る管路内で、オゾンが自己分解さ
れ、または圧力の低下で純水から分離され、または管路
内壁の不純物と反応すると、管路長に応じてオゾン水内
のオゾン濃度が低下していく。図７はその状態を示した
ものであり、管路Ｌ２が長くなるにしたがってオゾン濃
度が低下していく。吐出部１５から吐出される洗浄水の
酸化力を維持し、液晶表示素子用基板などの被洗浄物Ｗ
の表面の有機物や金属汚染物を有効に除去できるように
するためには、吐出部１５において少なくともオゾン水
内のオゾンの濃度を２０％以上（気液分離装置１７を経
た直後の濃度を１００％とする）にすることが好まし
く、さらに５０％以上あるいは７０％以上にすることが
好ましい。

【００３４】前記構成例では、気液分離装置１７が、オ
ゾン水生成装置１８側ではなく洗浄装置の装置本体Ｅ内
に設けられているため、前記管路Ｌ２の管路長を短くで
き、吐出部でのオゾン濃度を２０％以上または４０％や
５０％以上にすることが可能であり、７０％以上とする
ことも十分に可能である。

【００３５】図５（Ａ）に示す気液分離装置１７から１
（リットル／分）の流量でオゾン水を供給し、気液分離
装置１７を経た直後のオゾン濃度を実際に測定すると１
０ＰＰＭ程度である。液晶表示素子用基板表面の有機物
または金属汚染物を除去するためには吐出部１５から被
洗浄物Ｗに与えられる洗浄水のオゾン濃度が２ＰＰＭ以
上であれば効果があることを確認できた。したがって、
前記管路Ｌ２内を経たオゾン水のオゾン濃度の低下は２
０％が下限である。

【００３６】上記構成例では、オゾンが混合された洗浄
水を用いているために、被洗浄物Ｗに付着した有機物や
金属汚染物を酸化力により分解して除去することができ
る。また洗浄水に超音波振動を与えているために、被洗
浄物Ｗの表面のパーティクルを除去できる。特に１ＭＨ
ｚ以上の高周波の振動を与えているために、洗浄水内を
伝播する超音波振動の加速度により２μｍ以下の微細な
パーティクルを除去することが可能である。なお吐出部
１５の振動板２１から与えられる超音波振動を１００ｋ
Ｈｚ以下の比較的低周波とすると、キャビテーション効
果により、比較的大きなパーティクルの除去を効果的に
行なえるようになる。したがって、洗浄水に与えられる
超音波振動の周波数は、被洗浄物Ｗの汚染状態に応じて
選択すればよい。また低周波の振動を与えて洗浄を行な
う洗浄室と、高周波の振動を与えて洗浄を行なう洗浄室
を隣接して設けるようにしてもよい。

【００３７】図６は洗浄部（洗浄室）Ｂの他の構造例を
示している。この洗浄部Ｂでは、被洗浄物Ｗが搬送路に
沿って図示右側から左側に向かって移動し、移動中の被
洗浄物Ｗに対し上部吐出部３１および下部吐出部３２か
ら洗浄液が与えられる。図６の例では、吐出部３１およ
び３２から被洗浄物Ｗの上下両面に対し洗浄水が噴射さ
れまたは滴下される。

【００３８】前記吐出部３１と３２には、超音波振動の
発振部が設けられ、オゾン水に対し１．５ＭＨｚの高周
波の振動が与えられ、または１００ｋＨｚ以下の低周波
の振動が与えられる。また吐出部３１と３２には、図２
に示した気液分離装置１７から管路Ｌ２を経てオゾン水
が供給される。なお、被洗浄物Ｗは、液晶表示素子用基
板に限られず、半導体製造工程での基板や中間製品など
であってもよい。

【００３９】

【発明の効果】以上のように本発明では、オゾンが混合
された酸化力のある純水に超音波が印加され、この洗浄
水により洗浄が行われるため、酸化力により有機物や金
属汚染物を有効に除去でき、且つ超音波振動によりパー
ティクルを除去することもできる。

【００４０】またオゾンが混合された純水が気液分離さ
れて余剰ガスが除去されるため、超音波振動が与えられ
るときに気泡が形成されず、振動板の寿命低下や洗浄室
からのオゾンガスの排出による大気汚染の問題が生じな
い。

【００４１】また気液分離装置を洗浄装置の装置本体側
に設けて、気液分離装置から吐出部までの管路長を短く
しておくことにより、洗浄時での洗浄水のオゾン濃度を
高く維持できるものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄装置を示す構成ブロック図、

【図２】洗浄部（洗浄室）の構成の一例を示す断面図、

【図３】吐出部（噴射ノズルヘッド）の構造の一例を示
す断面図、

【図４】オゾン水生成装置の構成例を示す説明図、

【図５】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ気液分離装置の構成例
を示す断面図、

【図６】洗浄部（洗浄室）の他の構成例を示す断面図、

【図７】気液分離装置から吐出部までの管路長とオゾン
濃度との関係を示す線図、

【符号の説明】

Ａ導入部Ｂ洗浄部Ｃ乾燥部Ｄ導出部Ｅ装置本体Ｗ被洗浄物１２回転テーブル１３移動ノズル１４移動機構１５吐出部１６発振装置１７気液分離装置１８オゾン水生成装置２１振動板２７混合部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者原田康之東京都府中市府中町２−１−14 株式会社プレテック内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】純水にオゾンを混合したオゾン水を生成
し、このオゾン水を滞留させてオゾン水内から余剰ガス
を分離し、余剰ガスを分離した後のオゾン水に振動を与
えながら被洗浄物に吐出して、前記被洗浄物を洗浄する
ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】オゾン生成部と、純水供給部から供給さ
れる純水に前記オゾン生成部で生成されたオゾンを混合
する混合部と、前記混合部から送られたオゾン水を滞留
させて前記オゾン水から余剰ガスを分離する気液分離装
置と、被洗浄物が設置される洗浄室と、前記気液分離装
置から送られるオゾン水に振動を与えながら前記洗浄室
内の被洗浄物に吐出する吐出部と、を有することを特徴
とする洗浄装置。
【請求項３】気液分離装置は、洗浄室を有する装置本
体内に設けられている請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】気液分離装置を出たオゾン水のオゾン濃
度を１００％としたときに、吐出部でのオゾン水のオゾ
ン濃度が２０％以上となるように、気液分離装置から吐
出部までの管路長が設定されている請求項２または３記
載の洗浄装置。