JPH04207030A - 超音波洗浄方法および装置 - Google Patents
超音波洗浄方法および装置Info
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- JPH04207030A JPH04207030A JP34013090A JP34013090A JPH04207030A JP H04207030 A JPH04207030 A JP H04207030A JP 34013090 A JP34013090 A JP 34013090A JP 34013090 A JP34013090 A JP 34013090A JP H04207030 A JPH04207030 A JP H04207030A
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- pure water
- ultrasonic cleaning
- ultrasonic
- cleaning tank
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
゛ 半導体装置の製造に使用される器具、部品、治具な
どの超音波洗浄方法および装置に関し、超音波発振時洗
浄水中に発生する窒素酸化物の発生を防ぐことを目的と
し、 被洗浄物品を超音波洗浄槽を使用して洗浄する方法にお
いて、該超音波洗浄槽に給水する純水をあらかじめ脱気
し、更に該超音波洗浄槽内の純水表面をアルゴンカーテ
ンで覆って純水への窒素の熔解を防ぐことにより、純水
中での窒素酸化物の生成を防ぎつつ洗浄を行うように構
成する。
どの超音波洗浄方法および装置に関し、超音波発振時洗
浄水中に発生する窒素酸化物の発生を防ぐことを目的と
し、 被洗浄物品を超音波洗浄槽を使用して洗浄する方法にお
いて、該超音波洗浄槽に給水する純水をあらかじめ脱気
し、更に該超音波洗浄槽内の純水表面をアルゴンカーテ
ンで覆って純水への窒素の熔解を防ぐことにより、純水
中での窒素酸化物の生成を防ぎつつ洗浄を行うように構
成する。
［産業上の利用分野］
本発明は、半導体装置の製造に使用される器具、部品、
治具などの超音波洗浄方法に関する。
治具などの超音波洗浄方法に関する。
近年の半導体の微細化に伴い製造プロセスにおける洗浄
でも高品質が要求されている。マスク、レチクルなどの
洗浄でも高品質な洗浄を行うためにＩ Ｍ Ｈｚ程度の
超音波の振動を水に加えて行う超音波洗浄が採用されて
いるが、この際高周波の周波数や出力によっては超音波
の発振により窒素酸化物が生成され、これが洗浄品に付
着し、洗浄品を使用して作られる半導体に悪影響を与え
ている。したがって、半導体の品質を向上させるために
はこの窒素酸化物の発生を防ぐことが必要である。
でも高品質が要求されている。マスク、レチクルなどの
洗浄でも高品質な洗浄を行うためにＩ Ｍ Ｈｚ程度の
超音波の振動を水に加えて行う超音波洗浄が採用されて
いるが、この際高周波の周波数や出力によっては超音波
の発振により窒素酸化物が生成され、これが洗浄品に付
着し、洗浄品を使用して作られる半導体に悪影響を与え
ている。したがって、半導体の品質を向上させるために
はこの窒素酸化物の発生を防ぐことが必要である。
〔従来の技術Ｊ
従来、洗浄に使う純水は化学的な脱イオン処理などは施
されていたが、脱気されておらず、また超音波洗浄槽中
の純水表面は空気と接触していた。
されていたが、脱気されておらず、また超音波洗浄槽中
の純水表面は空気と接触していた。
ところが、従来の超音波洗浄法では、給水される純水中
の溶存空気及び水面に接触する空気から窒素が純水中に
取り込まれ、また超音波の発振時の駿化作用によって溶
存窒素と酸素の反応により窒素酸化物が発生することが
わかった。
の溶存空気及び水面に接触する空気から窒素が純水中に
取り込まれ、また超音波の発振時の駿化作用によって溶
存窒素と酸素の反応により窒素酸化物が発生することが
わかった。
したがって、本発明は超音波発振時洗浄水中に発生する
窒素酸化物の発生を防ぐことを目的とする。
窒素酸化物の発生を防ぐことを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る超音波洗浄方法は、超音波洗浄槽に給水す
る純水をあらかじめ脱気し、更に該超音波洗浄槽内の純
水表面をアルゴンカーテンで覆って純水への窒素の熔解
を防ぐことにより、純水中での窒素酸化物の生成を防ぎ
つつ洗浄を行うことを特徴とする。
る純水をあらかじめ脱気し、更に該超音波洗浄槽内の純
水表面をアルゴンカーテンで覆って純水への窒素の熔解
を防ぐことにより、純水中での窒素酸化物の生成を防ぎ
つつ洗浄を行うことを特徴とする。
第１図は本発明の原理説明図である。ｌは洗浄槽、２は
アルゴン吹き出し口、３は純水、４はアルゴン、５は超
音波振動子を多数組み込んだ超音波装置である。上記し
た従来の超音波洗浄法の問題は洗浄槽１に給水される前
の純水がガスを含んでいることに因るので、あらかじめ
純水中の溶存空気を脱気した純水を洗浄沿う１に供給す
る。脱気の方法は種々採用できるが、純水を真空槽中で
攪拌する方法、純水を真空槽中に注入する方法、タンク
と真空槽中純水を循環する方法などが好ましい。
アルゴン吹き出し口、３は純水、４はアルゴン、５は超
音波振動子を多数組み込んだ超音波装置である。上記し
た従来の超音波洗浄法の問題は洗浄槽１に給水される前
の純水がガスを含んでいることに因るので、あらかじめ
純水中の溶存空気を脱気した純水を洗浄沿う１に供給す
る。脱気の方法は種々採用できるが、純水を真空槽中で
攪拌する方法、純水を真空槽中に注入する方法、タンク
と真空槽中純水を循環する方法などが好ましい。
本発明においては、さらに超音波洗浄槽１中の純水３の
表面上に化学反応が起こりにくいアルゴンを噴射してガ
スカーテンをつくり、純水表面上に接する窒素を遮断す
る。ガスカーテンは純水液面上をアルゴンガスを一定方
向あるいは互い違いの方向に流すことによって、形成す
る。アルゴンガスのカーテンを作ることにより、純水の
液面を波立たせず、空気の巻き込みを防ぎつつ純水を空
気から純水を遮断することができる。
表面上に化学反応が起こりにくいアルゴンを噴射してガ
スカーテンをつくり、純水表面上に接する窒素を遮断す
る。ガスカーテンは純水液面上をアルゴンガスを一定方
向あるいは互い違いの方向に流すことによって、形成す
る。アルゴンガスのカーテンを作ることにより、純水の
液面を波立たせず、空気の巻き込みを防ぎつつ純水を空
気から純水を遮断することができる。
また本発明に係る超音波洗浄装置は、純水の液面とほぼ
平行に向けられたアルゴンガス吹出し口を、該液面の直
上に、多数有する超音波洗浄槽と、該超音波洗浄槽に設
けられた純水供給管に接続された脱気手段とを、有する
ことを特徴とする。
平行に向けられたアルゴンガス吹出し口を、該液面の直
上に、多数有する超音波洗浄槽と、該超音波洗浄槽に設
けられた純水供給管に接続された脱気手段とを、有する
ことを特徴とする。
すなわち、アルゴンガス吹出し口は純水液面を波立たせ
ないように、純水液面とほぼ平行に設け、かつアルゴン
ガスが直接純水と接触するように、アルゴンガス吹出し
口は純水液面の直上に設けた。
ないように、純水液面とほぼ平行に設け、かつアルゴン
ガスが直接純水と接触するように、アルゴンガス吹出し
口は純水液面の直上に設けた。
本発明では第１図の如く、純水を脱気し更にアルゴンの
エアカーテンによっ−て液面空気との接触を遮断してい
るので槽内の純水に含まれる窒素の量は極めて少なく、
超音波発振による窒素酸化物の発生を最小限にすること
ができる。
エアカーテンによっ−て液面空気との接触を遮断してい
るので槽内の純水に含まれる窒素の量は極めて少なく、
超音波発振による窒素酸化物の発生を最小限にすること
ができる。
第２図および第３図は本発明の一実施例構成図であり、
マスクブランクスの洗浄槽のそれぞれ縦断面図及び平面
図を示している。
マスクブランクスの洗浄槽のそれぞれ縦断面図及び平面
図を示している。
第１図で示したものと同一の物は同一の記号で示してい
る。図中、６は内部が例えば０．６５ｔｏｒｒの真空に
減圧され、純水を真空中にてスプレーするように構成さ
れた脱気塔、７は超音波発振板、８は超音波発振のため
の高周波発振器、９は超音波振動子である。
る。図中、６は内部が例えば０．６５ｔｏｒｒの真空に
減圧され、純水を真空中にてスプレーするように構成さ
れた脱気塔、７は超音波発振板、８は超音波発振のため
の高周波発振器、９は超音波振動子である。
通常での超音波発振による窒素酸化物の発生量はＮｏｗ
４．９ ［ｐｐｂｌ 、ＮＯｓ ４．７ ［ｐｐｂｌ
である。
４．９ ［ｐｐｂｌ 、ＮＯｓ ４．７ ［ｐｐｂｌ
である。
これに対して第２図及び第３図の装置を使用し、純水を
脱気し、更に３ （ｃｍ〕間隔のアルゴン吹き出し口か
ら、５ｏ［ρ／ｍ１ｎｌでアルゴンを噴射し、エアーカ
ーテンを作ることによって、超音波を発振した際にも窒
素酸化物の発生量をＮ Ｏｚ Ｏｌｌ ［ｐｐｂｌ Ｎ
ｏｉ ｏ、１［ｐｐｂ）に抑える事が出来る。
脱気し、更に３ （ｃｍ〕間隔のアルゴン吹き出し口か
ら、５ｏ［ρ／ｍ１ｎｌでアルゴンを噴射し、エアーカ
ーテンを作ることによって、超音波を発振した際にも窒
素酸化物の発生量をＮ Ｏｚ Ｏｌｌ ［ｐｐｂｌ Ｎ
ｏｉ ｏ、１［ｐｐｂ）に抑える事が出来る。
以上説明したように本発明によれば、超音波の酸化作用
による窒素酸化物の発生を防ぎ、洗浄品の品質向上に寄
与するところが大きい。
による窒素酸化物の発生を防ぎ、洗浄品の品質向上に寄
与するところが大きい。
第１図は本発明の原理説明図、
第２図は本発明の一実施例の縦断面図、第３図はその平
面図である。 第１図において １：洗浄槽 ２：アルゴン吹き畠し口 ３：純水 ４：アルゴン ５：超音波装置 第２図において ６：脱気塔 ７：超音波発振板 ８：高周波発振器 ９：超音波振動子 特許出願人 富士通株式会社
面図である。 第１図において １：洗浄槽 ２：アルゴン吹き畠し口 ３：純水 ４：アルゴン ５：超音波装置 第２図において ６：脱気塔 ７：超音波発振板 ８：高周波発振器 ９：超音波振動子 特許出願人 富士通株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、被洗浄物品を超音波洗浄槽を使用して洗浄する方法
において、 該超音波洗浄槽に給水する純水をあらかじめ脱気し、更
に該超音波洗浄槽内の純水表面をアルゴンカーテンで覆
って純水への窒素の溶解を防ぐことにより、純水中での
窒素酸化物の生成を防ぎつつ洗浄を行うことを特徴とす
る超音波洗浄方法。 ２、純水の液面とほぼ平行に向けられたアルゴンガス吹
出し口を、該液面の直上に、多数有するる超音波洗浄槽
と、該超音波洗浄槽に設けられた純水供給管に接続され
た脱気手段とを、有することを特徴とする超音波洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34013090A JPH04207030A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 超音波洗浄方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34013090A JPH04207030A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 超音波洗浄方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04207030A true JPH04207030A (ja) | 1992-07-29 |
Family
ID=18334013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34013090A Pending JPH04207030A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 超音波洗浄方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04207030A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5494063A (en) * | 1994-03-30 | 1996-02-27 | Nec Corporation | Ultrasonic degreasing apparatus |
| WO1996021242A1 (fr) * | 1995-01-06 | 1996-07-11 | Tadahiro Ohmi | Procede de nettoyage |
| US5762084A (en) * | 1994-07-15 | 1998-06-09 | Ontrak Systems, Inc. | Megasonic bath |
| US6279590B1 (en) * | 1997-09-19 | 2001-08-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Cleaning method and cleaning apparatus |
| US6352084B1 (en) * | 1996-10-24 | 2002-03-05 | Steag Microtech Gmbh | Substrate treatment device |
| CN104889103A (zh) * | 2015-05-11 | 2015-09-09 | 成都中牧生物药业有限公司 | 注射用粉针剂试剂瓶的清洗工艺 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP34013090A patent/JPH04207030A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5494063A (en) * | 1994-03-30 | 1996-02-27 | Nec Corporation | Ultrasonic degreasing apparatus |
| US5762084A (en) * | 1994-07-15 | 1998-06-09 | Ontrak Systems, Inc. | Megasonic bath |
| WO1996021242A1 (fr) * | 1995-01-06 | 1996-07-11 | Tadahiro Ohmi | Procede de nettoyage |
| US5954885A (en) * | 1995-01-06 | 1999-09-21 | Ohmi; Tadahiro | Cleaning method |
| US6352084B1 (en) * | 1996-10-24 | 2002-03-05 | Steag Microtech Gmbh | Substrate treatment device |
| US6279590B1 (en) * | 1997-09-19 | 2001-08-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Cleaning method and cleaning apparatus |
| CN104889103A (zh) * | 2015-05-11 | 2015-09-09 | 成都中牧生物药业有限公司 | 注射用粉针剂试剂瓶的清洗工艺 |
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