JP5803154B2 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
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少なくとも、超音波を超音波振動子から洗浄液に伝える振動部材と洗浄液の噴出口と吸引口と、を備えており、
前記振動部材は平板状の剛体であり、平板状の超音波振動子に接合されており、
前記洗浄液の噴出口と吸引口は、前記振動部材の表面または前記振動部材が、被洗浄物が載置された平面に形成する垂直投影の内側に配置されている超音波洗浄装置において、
接合された超音波振動子と振動部材に形成された貫通孔によって形成された噴出口または吸引口であって、前記振動部材の幾何学的な中心点から見て、前記噴出口が前記吸引口より前記中心点に近い位置に配置されており、
振動部材に形成された噴出口および吸引口の総面積が、前記噴出口および吸引口が形成されているのと同一面の前記振動部材の表面積の20%〜80%であり、
周波数950KHz〜5MHz、出力0.1W〜30W、時間10秒〜10分、振動部材の表面(超音波の発信面)と被洗浄物との間隔を0.1mm〜5mm、なる条件下で洗浄を行なうことを特徴とする。
振動部材の材質が、石英またはダイヤモンドまたはアルミナまたはチタンまたは窒化珪素またはステンレス鋼、のいずれかであることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置である。
振動部材と被洗浄物の距離を一定に保持する機構と前記振動部材を被洗浄物と並行に移動させる機構を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の超音波洗浄装置である。
、後述する実施形態は、本発明の具体的な構成を示す一例であり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
図1は本発明の超音波洗浄装置の例を示す俯瞰図である。
図に示されているとおり、超音波振動子2と振動部材1は平面状をしており、接合されている。そして、超音波振動子2と振動部材1の双方を貫通するように設けた複数の孔3(以下、洗浄液噴出口3とも言う)に、複数の洗浄液噴出用のノズル4(以下、洗浄液噴出ノズル4とも言う)を備え、さらに前記洗浄液噴出口3の外周に前記超音波振動子2と振動部材1の双方を貫通するように設けた複数の孔5(以下、洗浄液吸引口5とも言う)に、洗浄液吸引用のノズル6(以下、洗浄液吸引ノズル6とも言う)とが備えられている。
洗浄を行う際には、振動部材1のうち、超音波振動子2と接していない面と微小間隙を設けて対向するように被洗浄物9を支持する機構を備えている。また、振動部材1を被洗浄物9と並行して移動させる機構を備えることもできる。
この時、洗浄液噴出ノズル4から洗浄液を吐出しながら、超音波振動子2を発振させて、振動部材1を振動させ、被洗浄物9を洗浄し、洗浄液吸引ノズル6から,被洗浄物9から除去された異物と共に洗浄液を吸引し排出する。
より効果的な洗浄を行うためには,洗浄液噴出口3および洗浄液吸引口5の面積の和が、振動部材1の洗浄液噴出口3および洗浄液吸引口5と同一面の面積に対して、20%〜80%の範囲にある事が好ましい。その様にすると超音波振動が伝わり易く、洗浄を効果的に実施することができる。
また、超音波振動子2には各種の市販されているものを用いることができる。
超音波振動の出力や振動数は、フォトマスクの大きさや異物の種類によって、洗浄が効果的に行われるように設定されなければならない。例えば、周波数950KHz〜5MHz、出力0.1W〜30W、時間10秒〜10分、なる条件下で超音波洗浄を行うことが好ましい。この範囲外では、洗浄効果が不十分であるか、逆に洗浄効果が強過ぎるため、微細パターンを倒壊させる恐れがある。具体的な良好な洗浄条件を見出す為には、超音波の周波数、超音波出力、洗浄時間、被洗浄物との間隔、などを実験的に追及する必要があるのは言うまでも無い。振動部材1の表面(超音波の発信面7)と被洗浄物9との間隔(間隙)は、薬液で満たされていれば良いが、この間隔を0.1mm〜5mmとすることが好ましい。
まず、図1に示すような本発明の超音波洗浄装置を用い、本発明に係る超音波洗浄装置を用いた超音波洗浄方法で洗浄を行い、洗浄後の基板の洗浄不良について評価した。
この際、振動部材及び超音波振動子の双方の面に洗浄液噴出口を円状に5箇所形成し、さらにその外周に洗浄液吸引口を円状に5箇所形成し、その総面積は振動部材の面積(78.5cm2)に対して30%とし、基板と超音波発信面の隙間は1mmとした。超音波の発振周波数は2MHz、発振出力は4Wとした。また、洗浄液噴出ノズルから22℃の洗浄液(アンモニア過酸化水素水;NH4OH:H2O2:H2O=1:1:100)を毎分1.0Lで噴出し、洗浄液吸引ノズルから洗浄液(アンモニア過酸化水素水)を吸引し、基板全面の洗浄を2分間行った後、基板を回転させながら脱イオン水を3分間噴出し、乾燥窒素中で乾燥した。
コン)パターンが形成され、大きさが約300nmのSi3N4(窒化ケイ素)粒子を使用して強制的に汚染を行った評価用フォトマスクを用いた。
その結果、評価用フォトマスクの表面に残ったSi3N4粒子は強制的に汚染させたSi
3N4粒子の個数のうち0.4%となり、計測誤差範囲内であり、再付着なく洗浄できた。
また、図3(b)に示す従来の超音波洗浄装置を用い、実施例1と同じ評価用フォトマスクを用い、同じ条件の洗浄を行ったところ、強制的に汚染させたSi3N4粒子の個数のうち、27.2%が洗浄後の評価用フォトマスクの表面に残り、洗浄不十分と判定した。
例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
2・・・超音波振動子
3・・・洗浄液噴出口
4・・・洗浄液噴出ノズル
5・・・洗浄液吸引口
6・・・洗浄液吸引ノズル
7・・・超音波の発信面
8・・・本発明の超音波洗浄装置
9・・・被洗浄物
11・・・従来の振動部材
11a・・・膨大部
12・・・従来の超音波振動子
13・・・振動子ケース
14・・・パッキン
15・・・ケーブル
15a・・・コードa
16・・・従来の超音波洗浄装置
20・・・フォトマスク基板
21・・・MoSiパターン
22・・・評価用フォトマスク
23・・・Si3N4(窒化ケイ素)粒子
Claims (3)
- 少なくとも、超音波を超音波振動子から洗浄液に伝える振動部材と洗浄液の噴出口と吸引口と、を備えており、
前記振動部材は平板状の剛体であり、平板状の超音波振動子に接合されており、
前記洗浄液の噴出口と吸引口は、前記振動部材の表面または前記振動部材が、被洗浄物が載置された平面に形成する垂直投影の内側に配置されている超音波洗浄装置において、
接合された超音波振動子と振動部材に形成された貫通孔によって形成された噴出口または吸引口であって、前記振動部材の幾何学的な中心点から見て、前記噴出口が前記吸引口より前記中心点に近い位置に配置されており、
振動部材に形成された噴出口および吸引口の総面積が、前記噴出口および吸引口が形成されているのと同一面の前記振動部材の表面積の20%〜80%であり、
周波数950KHz〜5MHz、出力0.1W〜30W、時間10秒〜10分、振動部材の表面(超音波の発信面)と被洗浄物との間隔を0.1mm〜5mm、なる条件下で洗浄を行なうことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 振動部材の材質が、石英またはダイヤモンドまたはアルミナまたはチタンまたは窒化珪素またはステンレス鋼、のいずれかであることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 振動部材と被洗浄物の距離を一定に保持する機構と前記振動部材を被洗浄物と並行に移動させる機構を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の超音波洗浄装置。
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