TW201630790A - 具有順應材料之模製氟聚合物破壞性密封件 - Google Patents

Abstract

一種破壞性密封件，其提供所需順應特性以用於一液體分配器之配件與該破壞性密封件之間的一可靠密封。一順應材料設置於破壞性密封件之未潤濕面上，以達成破壞性密封件在一潤濕面上之順應性，進而在密封破壞性密封件與配合組件之間進行密封。破壞性密封件亦可在破裂後分離之段上包含凸起特徵，以用於防止或減輕在探針插入時對O形環密封件之劃刻。一擦拭特徵亦可併入破壞性密封件中，該擦拭特徵在破壞性密封件與一配合帽或其他配合連接部之間提供冗餘密封。破壞性密封件亦可在一外周邊上包含一平面，該平面可用作注射成型之一澆口，使得來自模製製程之任何澆口殘餘皆不會突出超過破壞性密封件之外徑而造成破壞性密封件與配合連接部之間非所欲之干涉。

Description

具有順應材料之模製氟聚合物破壞性密封件 【優先權聲明】

本申請案主張以下臨時專利申請案之權利：於2014年7月22日提出申請之美國臨時專利申請案第62/027,486號；於2014年10月14日提出申請之美國臨時專利申請案第62/063,772號；於2014年10月29日提出申請之美國臨時專利申請案第62/072,206號；於2014年11月25日提出申請之美國臨時專利申請案第62/084,203號；以及於2014年12月23日提出申請之美國臨時專利申請案第62/095,947號。該等相關申請案之揭露內容以引用方式全文併入本文中。

本發明概言之係關於控制破裂之膜，且更具體而言係關於用於運送及分配系統之破壞性密封件。

在許多行業中，使用容器系統來儲存、運送及/或分配具有各種黏度之材料。舉例而言，諸多製造製程需要使用超純液體，例如酸、溶劑、鹼、光阻劑、漿料、清潔配方、摻雜劑、無機溶液、有機溶液、金屬有機溶液及生物溶液、藥物製劑、以及放射性化學品。此等應用需要使超純液體中微粒之數目及尺寸最小化。具體而言，由於超純液體用於微電子製造製程之許多態樣中，因此半導體製造商已針對製程化學品及化學品 操縱設備(chemical-handling equipment)建立了嚴格之微粒濃度規範。需要此等規範之原因在於：當在製造製程期間所用之液體包含足夠水準之微粒或氣泡時，該等微粒或氣泡可能會沈積於矽之固體表面上。此繼而可導致產品失效或降低品質及可靠性。在某些情形中，一容器之內容物可係為昂貴的，且因此由於儲存於容器系統中之液體受到污染而造成之終端製程(例如一半導體製程)中之缺陷可具有顯著之不良且代價高昂之後果。

為有助於保護此等容器之內容物，通常，在通往此等容器之一口部或其他開口處，可設置一保護性密封件以例如將容器之內容物密封並且防止污染物或光被引入容器中且因而進入儲存於容器中之材料中。密封件可係為一可破裂密封件或膜，抑或通常所稱之一「破壞性密封件」。一破壞性密封件通常被設計成使該破壞性密封件不因在容器之運輸及搬運期間通常出現之撞擊或壓力而破裂或破壞，但在藉由例如一分配系統連接器施加之一力而被刺穿時易於破裂以用於分配容器之內容物。

破壞性密封件亦用於保護操作人員。在破壞性密封件就位時，一撕拉片(tear tab)通常被移除。在移除撕拉片之後，以一探針使破壞性密封件破裂以耦合至一瓶及工具。破壞性密封件防止苛性液體進入破壞性密封件腔，以免傷害或損害移除撕拉片之操作人員。破壞性密封件亦用於保護操作人員不受與工具耦合期間出現之溢出物、飛濺物及蒸汽傷害。

已發現先前技術破壞性密封件之某些缺點。此等缺點包括在雙層式結構中所用之泡棉之「脫落」。在雙層式破壞性密封件結構中，一第一層之層壓式低密度聚乙烯(laminated low-density polyethylene；LDPE)泡棉與一第二層之聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene；PTFE)膜利用一黏著劑黏合於一起。在破壞性密封件之一中心部中，撕裂線(tear line)或劃刻 線(score line)自中心沿徑向延伸，俾當一分配系統連接器被壓抵於破壞性密封件上以與容器連接時，該等撕裂線容許撕裂破壞性密封件。層壓式低密度聚乙烯泡棉以及用於此等破壞性密封件中之黏著劑可因泡棉之「脫落」(即，當經歷摩擦時產生微粒)而導致不期望之污染。在某些製造製程中可進而造成下游缺陷。此外，用於黏合該二個層之黏著劑材料可被引入儲存於儲存容器內之材料中，進而降低材料純度且在下游製程中造成問題。

需要提供使一容器系統中之內容物之污染減少及/或最小化 之一破壞性密封件。具體而言，需要提供用於運送及分配系統(例如通常用於儲存、運輸、及分配在半導體製造行業中所用之感光性試劑或其他超純化學品之系統)中之破壞性密封件及製造該等破壞性密封件之方法。本發明係關於可克服傳統破壞性密封件之缺點之破壞性密封件實施例，並闡述可以相對低之成本並藉由較傳統破壞性密封件簡單之製程及/或會更強地防止對一容器系統之內容物造成污染之製程來生產之破壞性密封件實施例。

本發明之各種實施例包含一種破壞性密封件，該破壞性密封 件提供所需順從特性以提供一液體分配器之配件(fitment)與破壞性密封件之間的一可靠密封。在某些實施例中，揭露一種破壞性密封件，該破壞性密封件包含一擦拭特徵以提供該破壞性密封件與一配合帽或其他配合連接部之間的冗餘密封。

在各種實施例中，揭露一種破壞性密封件，該破壞性密封件 包含一撓性定心結構以易於安裝。此外，各種實施例會防止可因破壞性密封件破裂而產生之鋒利邊緣在探針之柔軟、易碎O形環材料穿過破裂之破壞 性密封件時接觸O形環，藉此防止該等銳利邊緣損壞O形環及造成洩漏。在各種實施例中，破壞性密封件在一外周邊上包含一平面，該平面可用作注射成型之一澆口，俾使來自模製製程之任何澆口殘餘皆不會突出超過破壞性密封件之外徑而在破壞性密封件與配合連接部之間引起非所欲之干涉或錯位。此外，藉由此種配置，澆口殘餘位於破壞性密封件外部，使得來自該殘餘之任何脫落皆不可能進入液體及製程流。

頒予ERE材料有限公司(ERE Materials,Inc.)且名稱為「一 層式破壞性密封件(One Layer Break Seal)」之韓國專利20-0452250(「KR‘250」)闡述了一種破壞性密封件構型，該韓國專利除其中所包含之申請專利範圍及明確定義外以引用方式全文併入本文中。大體而言，KR‘250之破壞性密封件具有由一單層注射成型低密度聚乙烯(LDPE)製成之一圓形板形狀，如下文第1圖所示及所述。KR‘250宣稱此種破壞性密封件消除了背景技術中所述之傳統破壞性密封件之缺點。

然而，此種破壞性密封件並非沒有瑕疵，其中包括易於下沉 性。「下沉」係在固化製程期間材料遠離一模具腔之壁收縮時出現，並且常常與一模具之較厚區段相關聯。下沉對破壞性密封件之結構完整性產生不利影響，此繼而對模製產品用作一保護性密封件之能力產生不利影響。此外，KR‘250之破壞性密封件較其他先前技術破壞性密封件可能製造起來更為困難並且可能需要更長時間，此皆會抬高製造成本。

在結構上，為解決該等缺點其中之一或多者，在本文中揭露 一改良破壞性密封件之各種實施例，該改良破壞性密封件包含一外緣部及一中心密封部，該外緣部與該中心密封部二者以一中心軸線為中心同心，該外緣部界定一外邊緣。一內圓形肋可設置於該外緣部與該中心密封部之 間的一接合部處，該內圓形肋係為連續的並且自該破壞性密封件之一未潤濕面沿平行於該中心軸線的一第一方向延伸。該內圓形肋亦可被配置成包含面對該中心軸線之一內表面與背對該中心軸線之一外表面，該圓形肋之該外表面包含一漸縮部，該漸縮部相對於該中心軸線界定一預定角度。在一個實施例中，複數個劃刻槽(score groove)在該中心密封部之厚度內形成至一深度，俾使該中心密封部被配置成當在該中心密封部上施加高於一預定臨限值之一力或壓力時，該中心密封部大致均勻地破裂。

在各種實施例中，揭露一種模製破壞性密封件，該模製破壞性密封件包含一外緣部及一中心密封部，該外緣部與該中心密封部二者以一中心軸線為中心同心，該外緣部界定一外邊緣。一內圓形肋可設置於該外緣部與該中心密封部之間的一接合部處，該內圓形肋係為連續的且自該破壞性密封件之一未潤濕面沿平行於該中心軸線的一第一方向延伸。在某些實施例中，一外圓形肋設置於該內圓形肋與該外緣部之該外邊緣之間，該外圓形肋係為連續的且自該破壞性密封件之該未潤濕面沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸。該內圓形肋、該外圓形肋、及該外緣部共同界定一溝槽；該外緣部更界定一撓性定心結構，該撓性定心結構沿徑向延伸超過該外圓形肋而到達該外邊緣。此外，數個劃刻槽形成於該中心密封部上。在一個實施例中，該等劃刻槽形成於該破壞性密封件之該未潤濕面上。

該破壞性密封件之某些實施例可更包含一外肋，該外肋自該破壞性密封件之該外邊緣沿平行於該中心軸線之一第一方向延伸，該外肋係為連續的並且在該外肋之一部分上界定一平面。在某些實施例中，該破壞性密封件更包含至少一個圓形中間肋，該圓形中間肋以該中心軸線為中心同心且自該內圓形肋沿徑向向外設置，該至少一個圓形中間肋自該破壞 性密封件之該未潤濕面沿平行於該中心軸線之一第一方向延伸。該內圓形肋可較該至少一個圓形中間肋進一步沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸。該至少一個圓形中間肋可包含一第一中間肋及一第二中間肋，該第二中間肋自該第一中間肋沿徑向向外設置以在該未潤濕面上在該第二中間肋與該第一中間肋之間界定一連續溝槽。

在各種實施例中，一順應材料設置於該連續溝槽中。該順應材料可係為一O形環，並且可選自由乙烯-丙烯-二烯單體(ethylene propylene diene monomer；EPDM)、CHEMRAZ®及KALREZ®組成之群組。CHEMRAZ®係為美國特拉華州威明頓市(Wilmington,Delaware,U.S.A)之格林特威德技術有限公司(Greene,Tweed Technologies,Inc.)之一注冊商標。KALREZ®係為美國特拉華州威明頓市之杜邦性能彈性體有限責任公司(DuPont Performance Elastomers,LLC)之一注冊商標。在一個實施例中，該破壞性密封件係由全氟烷氧化合物(perfluoroalkoxy；PFA)形成。在某些實施例中，對該順應材料利用四氟乙烯與丙烯(tetrafluoroethylene and propylene；TFE/P)之一交替共聚物，例如AFLAS®。AFLAS®係為日本東京(Tokyo,Japan)旭硝子玻璃有限公司(Asahi Glass Co.,Ltd.)之一注冊商標

在某些實施例中，該破壞性密封件可更包含自該破壞性密封件之一潤濕面懸垂之一對準特徵。該對準特徵可自該破壞性密封件之該外緣部懸垂。在一個實施例中，該對準特徵包含面對該中心軸線之一內表面，該內表面包含沿遠離該潤濕面之一方向遠離該中心軸線漸縮的一漸縮部。視需要或另外，該內表面之尺寸可適以與一配件干涉配合。

在各種實施例中，該破壞性密封件係注射成型的。在一個實 施例中，該破壞性密封件係由全氟烷氧化合物(PFA)形成。該中心密封部可被配置成當施加介於約15牛頓(Newton；N)與約70牛頓之間的一力時，該中心密封部大致均勻地破裂。在一個實施例中，該等劃刻槽在該中心軸線處相交。該等劃刻槽亦可形成於該破壞性密封件之該未潤濕面。

在某些實施例中，該撓性定心結構界定複數個釋放狹槽 (relief slot)，各該釋放狹槽自該外邊緣沿徑向向內延伸。該破壞性密封件亦可在該破壞性密封件之該未潤濕面上鄰近該等劃刻槽包含複數個凸起特徵。該等劃刻槽可在該中心軸線處相交以界定複數個餡餅狀段(pie-shaped segment)，各該餡餅狀段界定一頂點，且其中各該凸起特徵設置於該等餡餅狀段其中之一對應餡餅狀段上並鄰近該頂點。

在本發明之各種實施例中，揭露一種實作如上所述之一模製破壞性密封件之一容器系統，該容器系統包含一配件，該配件包含一本體部，該本體部界定一存取埠並具有以該存取埠之一埠軸線為中心同心之一連續凸起面。該模製破壞性密封件接觸該配件之該連續凸起面，該模製破壞性密封件之該中心軸線係實質對準於該存取埠之該埠軸線。該凸起面界定一接觸半徑，該接觸半徑係與該連續環形溝槽對準地接觸該模製破壞性密封件之一潤濕面。一順應材料設置於該模製破壞性密封件之該溝槽中。在某些實施例中，一襯墊附裝至該配件。該襯墊可被配置成包含一光阻劑。在某些實施例中，該容器系統更包含一外包裝(overpack)，該外包裝包含一頸部，該頸部界定一開口，該配件設置於該頸部中。該容器系統可更包含一帽，該帽可拆卸地耦合至該頸部，該帽固定該模製破壞性密封件。

在某些實施例中，該模製破壞性密封件之該外緣部界定一撓性定心結構，該撓性定心結構沿徑向延伸超過該外圓形肋而到達該外邊 緣。該帽可更界定一凹槽，該凹槽具有一外壁，該外壁之尺寸適以以一輕的干涉配合容置該撓性定心結構之該外緣部。

在本發明之各種實施例中，揭露一種在插穿過一破壞性密封 件期間保護一探針之方法，該方法包含：提供一破壞性密封件，該破壞性密封件包含一中心密封部；在一有形媒體上提供操作說明，其中該等說明包含：以該探針對該破壞性密封件施加一力，以使該破壞性密封件沿該等劃刻槽破裂，以界定該等餡餅狀段之複數個暴露邊緣；以及在該施加力之步驟之後推動該探針穿過該破壞性密封件，以使該探針在該等凸起特徵上滑動，藉此防止該等暴露邊緣與該探針接觸。該中心密封部界定複數個劃刻槽，該等劃刻槽在該中心密封部之一中心軸線處相交以界定複數個餡餅狀段，各該餡餅狀段界定一頂點，該破壞性密封件包含設置於該破壞性密封件之一未潤濕面上之複數個凸起特徵，各該凸起特徵設置於該等餡餅狀段其中之一對應餡餅狀段上並鄰近該頂點。

20‧‧‧傳統破壞性密封件

20a‧‧‧破裂之傳統破壞性密封件

22‧‧‧厚外環部

24‧‧‧薄中心部

26‧‧‧劃刻線

28‧‧‧厚度

32‧‧‧外面

40‧‧‧探針

42‧‧‧O形環密封件

44‧‧‧邊緣

46‧‧‧尖端

110‧‧‧破壞性密封件

112‧‧‧外緣部

114‧‧‧隔膜/中心密封部

116‧‧‧中心軸線

118‧‧‧外邊緣

122‧‧‧內圓形肋

124‧‧‧未潤濕面

126‧‧‧第一方向

128‧‧‧潤濕面

132‧‧‧內表面

134‧‧‧外表面

136‧‧‧漸縮部

138‧‧‧劃刻線/劃刻槽

142‧‧‧外肋

144‧‧‧平面

146‧‧‧圓形中間肋

148‧‧‧圓形中間肋

152‧‧‧連續環形溝槽

154‧‧‧順應材料

200‧‧‧帽總成

202‧‧‧帽

204‧‧‧保持器

206‧‧‧頸部

208‧‧‧外包裝

210‧‧‧襯墊

211‧‧‧存取埠

212‧‧‧配件

213‧‧‧埠軸線

214‧‧‧撕拉片

216‧‧‧柄部

217‧‧‧撕拉片腔

218‧‧‧喉部

220‧‧‧內壁

222‧‧‧凹槽

232‧‧‧凸緣部

234‧‧‧裙邊部

236‧‧‧領部

238‧‧‧內肩部

242‧‧‧本體部

244‧‧‧凸緣部

246‧‧‧連續凸起面

248‧‧‧圓角輪廓

249‧‧‧液體

258‧‧‧子總成

260‧‧‧破壞性密封件

262‧‧‧對準特徵

264‧‧‧內表面

266‧‧‧外表面

268‧‧‧第二方向

272‧‧‧外徑向面

274‧‧‧漸縮部

280‧‧‧傳統玻璃容器

290‧‧‧分配系統

310‧‧‧破壞性密封件

310a‧‧‧破裂之破壞性密封件

312‧‧‧外緣部

314‧‧‧中心密封部

316‧‧‧中心軸線

318‧‧‧外邊緣

322‧‧‧內肋

324‧‧‧未潤濕面

326‧‧‧第一方向

328‧‧‧潤濕面

330‧‧‧第二方向

332‧‧‧內表面

334‧‧‧外表面

338‧‧‧劃刻線/劃刻槽

340‧‧‧餡餅狀段

341‧‧‧頂點

342‧‧‧外肋

343‧‧‧凸起特徵

344‧‧‧平面

346‧‧‧撓性定心結構

347‧‧‧軸向偏移

348‧‧‧撓性外凸緣

349‧‧‧偏移表面

350‧‧‧釋放狹槽

351‧‧‧圓角或倒角隅角

352‧‧‧連續環形溝槽

354‧‧‧順應材料

400‧‧‧帽總成

402‧‧‧帽

404‧‧‧保持器

406‧‧‧頸部

408‧‧‧外包裝

410‧‧‧襯墊

411‧‧‧存取埠

412‧‧‧配件

413‧‧‧埠軸線

414‧‧‧撕拉片

416‧‧‧柄部

417‧‧‧撕拉片腔

418‧‧‧喉部

420‧‧‧內壁

422‧‧‧凹槽

423‧‧‧唇緣

424‧‧‧外壁

425‧‧‧頂面

432‧‧‧凸緣部

434‧‧‧裙邊部

436‧‧‧領部

438‧‧‧內肩部

442‧‧‧本體部

444‧‧‧凸緣部

446‧‧‧連續凸起面

448‧‧‧圓角輪廓

449‧‧‧液體

450‧‧‧帽總成

452‧‧‧埠

454‧‧‧頸

456‧‧‧孔口

458‧‧‧插塞

460‧‧‧嵌件

462‧‧‧中心本體

464‧‧‧凸緣

466‧‧‧定心環

468‧‧‧O形環

469‧‧‧上端

470‧‧‧探針

472‧‧‧外表面

474‧‧‧O形環密封件

476‧‧‧尖端

478‧‧‧暴露邊緣

500‧‧‧說明

502‧‧‧有形媒體

504~506‧‧‧步驟

508~506‧‧‧步驟

D‧‧‧內徑

F‧‧‧插入力

L1‧‧‧軸向長度

L2‧‧‧軸向長度

L3‧‧‧最小厚度

R‧‧‧接觸半徑

Ri‧‧‧半徑

θ‧‧‧預定角度

第1圖係為一傳統破壞性密封件之一立體圖。

第2A圖及第2B圖係為第1圖所示傳統破壞性密封件在操作中之剖視圖。

第3圖係為在本發明一實施例中一破壞性密封件之立體圖。

第4圖係為第3圖所示破壞性密封件之平面圖。

第5圖係為第4圖所示破壞性密封件之剖視圖。

第6圖係為在本發明一實施例中利用第3圖所示破壞性密封件之一帽及瓶中套袋總成之局部剖視圖。

第7圖係為第6圖所示帽及瓶總成之局部放大剖視圖。

第8圖係為在本發明一實施例中在具有一配件之子總成中之一破壞性密封件之剖視圖。

第8A圖係為第8圖所示子總成之局部放大剖視圖。

第9圖係為在本發明一實施例中，利用第3圖所示破壞性密封件之一帽及傳統玻璃瓶總成之局部剖視圖。

第10圖係為在本發明一實施例中，利用第3圖所示破壞性密封件之一帽及用於三維適形襯墊(three dimensional conformal liner)之容器之局部剖視圖。

第11圖係為在本發明一實施例中之一破壞性密封件之立體圖。

第12圖係為第11圖所示破壞性密封件之平面圖。

第13圖係為第12圖所示破壞性密封件之剖視圖。

第14圖係為在本發明一實施例中，利用第11圖所示破壞性密封件之一帽及瓶總成之局部剖視圖。

第15圖係為第14圖所示帽及瓶總成之局部放大剖視圖。

第16圖係為在本發明一實施例中之一帽總成之一局部剖視圖。

第17圖係為在本發明一實施例中，具有凸起特徵之一破壞性密封件在操作中在插入一探針期間之剖視圖。

第18圖係為在本發明一實施例中一種利用一破壞性密封件之方法之流程圖表示。

參見第1圖，其繪示一傳統破壞性密封件20。傳統破壞性密封件20包含圍繞一薄中心部24之一厚外環部22，薄中心部24包含劃刻線26。外環部22之一厚度28提供堅固性(stoutness)以使外環部22呈現出剛性。厚度28亦界定具有與厚度28實質相同之高度之一外面32。

傳統破壞性密封件20之幾何結構在將破壞性密封件20組裝至一帽系統中期間在與一帽(未示出)對準時需要一定程度之謹慎。外面32形成實質上一支承面，該支承面緊貼於該帽內。若在帽內未充分對準接收表面，則在某些情況下，傳統破壞性密封件20可在帽內變成傾斜的。該傾斜會在傳統破壞性密封件20之對角尺寸與帽之接收表面之間有效地形成一干涉配合。此外，若外環部22係為一堅固材料，則在某些情況下，外環部22可能不會屈服於干涉力。因此，對於許多材料，傾斜問題可能與外環部之厚度及堅固性有關。

參見第2A圖及第2B圖，其繪示一探針40插穿過一破裂之傳統破壞性密封件20a。所示探針40包含O形環密封件42，此對於許多分配系統而言係常見的。傳統破壞性密封件20之破裂使得劃刻線26(第1圖)被撕裂，進而在破裂之傳統破壞性密封件20a內界定邊緣44及尖端46。對於某些材料，該等邊緣44及尖端46可為相當鋒利的。材料之回彈力亦可使邊緣44及尖端46緊貼於O形環密封件42上並且在O形環密封件42穿過破裂之傳統破壞性密封件20a時對該等O形環密封件42施加一力。該力可導致鋒利邊緣44及尖端46劃刻O形環密封件42，進而在操作期間導致分配系統洩漏。

本發明之以下實施例旨在除本申請案之背景技術中所述之 其他問題問題外，亦解決該等問題。

參見第3圖至第5圖，在本發明之一實施例中，繪示一破壞性 密封件110。破壞性密封件110包含一外緣部112及一隔膜或中心密封部114，外緣部112與隔膜或中性密封部114二者以一中心軸線116為中心同心。外緣部112界定一外邊緣118。一內圓形肋122設置於外緣部112與中心密封部114之間的一接合部處。內圓形肋122自破壞性密封件110之一未潤濕面124沿平行於中心軸線116之一第一方向126延伸。破壞性密封件110更包含與未潤濕面124相對之一潤濕面128。在某些實施例中，內圓形肋122係為連續的。

對於本申請案之目的而言，一「潤濕面」係為一破壞性密封 件之包含可能被一容器中所含納之一液體潤濕之部分的整個面；亦即，「潤濕面」並非僅限於該破壞性密封件之實際上被該容器之液體內容物潤濕之部分，而是包含含有該潤濕面之整個面。一「未潤濕面」係為破壞性密封件之與潤濕面相對之面。

內圓形肋122包含面對中心軸線116之一內表面132以及背離 中心軸線116之一外表面134。在一或多個實施例中，內圓形肋122之外表面134包含相對於中心軸線116界定一預定角度θ之一漸縮部136。在一個實施例中，破壞性密封件110係為由全氟烷氧化合物(PFA)形成之一模製組件。 破壞性密封件110之各種組件可係為一單一整體式組件(例如，整體地形成於一模製製程中)。

在各種實施例中，複數個劃刻線或劃刻槽138形成於未潤濕 面124上並到達延伸入中心密封部114之一深度處。每一劃刻槽138穿透中心密封部114之厚度以界定中心密封部114之一最小厚度L3，最小厚度L3界定 於劃刻槽138之深度極限與相對的面(例如，第5圖所示潤濕面128)之間。中心密封部114之最小厚度L3被配置成當在中心密封部114上施加高於一預定臨限值之一力或壓力時，中心密封部114沿劃刻槽138大致均勻地破裂。在某些實施例中，該等劃刻槽138在中心軸線116處相交。

在各種實施例中，中心密封部114具有介於0.5毫米至1.0毫米且包含0.5毫米及1.0毫米之範圍內之一標稱厚度。(本文中，被稱為「包含」之範圍係包含該範圍之端點值。)在某些實施例中，中心密封部114之標稱厚度介於0.5毫米至0.8毫米且包含0.5毫米及0.8毫米之範圍內；在某些實施例中，中心密封部114之標稱厚度介於0.55毫米至0.7毫米且包含0.55毫米及0.7毫米之範圍內；在某些實施例中，中心密封部114之標稱厚度介於0.58毫米至0.66毫米且包含0.58毫米及0.66毫米之範圍內。

在某些實施例中，劃刻槽138被形成為界定介於0.1毫米至0.7毫米且包含0.1毫米及0.7毫米之範圍內之最小厚度L3；在某些實施例中，劃刻槽138被形成為界定介於0.1毫米至0.4毫米且包含0.1毫米及0.4毫米之範圍內之最小厚度L3；在某些實施例中，劃刻槽138被形成為界定介於0.12毫米至0.25毫米且包含0.12毫米及0.25毫米之範圍內之最小厚度L3。在某些實施例中，中心密封部114被配置成當在中心密封部114上施加介於15牛頓(N)至70牛頓且包含15牛頓及70牛頓之範圍內之一力時，中心密封部114大致均勻地破裂。

破壞性密封件110可更包含一外肋142，外肋142自破壞性密封件110之外邊緣118沿平行於中心軸線116之第一方向126延伸，外肋142係為連續的並且在外肋142之一部分上方界定一平面144。在某些實施例中，破壞性密封件110更包含圓形中間肋146及148，圓形中間肋146及148以中心 軸線116為中心同心並自內圓形肋122沿徑向向外設置。圓形中間肋146及148自破壞性密封件110之未潤濕面124沿平行於中心軸線116之第一方向126延伸，以在未潤濕面124上在其之間界定一連續環形溝槽152。在一個實施例中，內圓行肋122較圓形中間肋146及148及/或外肋142進一步沿第一方向126延伸。亦即，在此實施例中，內圓形肋122界定較圓形中間肋146、148及/或外肋142之軸向長度L2大之一軸向長度L1，其中「軸向長度」係被定義為平行於中心軸線116之一尺寸。

在各種實施例中，連續環形溝槽152被配置成容置一順應材 料154(第7圖)。順應材料154包含一非脫落性材料(即，抵抗摩擦時微粒之產生之材料)，該非脫落性材料與經由破壞性密封件110分配之液體相容。在各種實施例中，此等相容非脫落性材料包含乙烯-丙烯-二烯單體(EPDM)或一全氟彈性體聚合物(例如CHEMRAZ®或KALREZ®)。在各種實施例中，順應材料154係呈一順應構件(例如一O形環(第7圖)或墊圈)之形式。在某些實施例中，順應材料154可由裝填至溝槽152中之一鬆散材料(例如一裝填物)構成。各種裝填材料係為自黏性的且因此抗脫落。

參見第6圖及第7圖，在本發明之一實施例中，繪示利用破壞 性密封件110之一帽總成200。帽總成200包含一帽202並且可包含安裝至一外包裝208(例如一瓶或罐)之一頸部206上的一保持器(retainer)204。在某些實施例中，一配件212設置於保持器204中並且被帽202捕獲，配件212提供通往例如一襯墊210之入口。配件212界定以一埠軸線213為中心同心之一存取埠211。在組裝中，破壞性密封件之中心軸線116與配件212之埠軸線213係實質對準，且帽202、保持器204、頸部206及配件212係實質以軸線116及213為中心同心。

在某些實施例中，帽202包含一撕拉片214及柄部216，在撕 拉片214與破壞性密封件110之間界定撕拉片腔217。帽202可更界定一喉部218，喉部218具有界定一內徑D之一內壁220，喉部218係被撕拉片214阻斷。 帽202亦可界定環繞喉部218之一凹槽222，凹槽222之尺寸適以容置破壞性密封件110之外緣部112。在一個實施例中，凹槽222係為一環形凹槽。

保持器204可包含一凸緣部232，凸緣部232具有延伸入外包 裝208之頸部206中之一裙邊部234以及延伸出頸部206之一領部236。凸緣部232自中心軸線116沿徑向延伸超過裙邊部234並且倚靠於形成於外包裝208之頸部206中之一內肩部238上。

配件212包含一本體部242並可包含自本體部242沿徑向向外 延伸之一凸緣部244。本體部242設置於領部236內並且延伸穿過領部236，且配件212之凸緣部244嚙合領部236並且處於領部236與帽202之間。在一個實施例中，配件212之凸緣部244包含一連續凸起面246，連續凸起面246自本體部242(例如，凸緣部244)沿平行於中心軸線116之第一方向126延伸。 在所示實施例中，凸起面246界定一圓角輪廓248。在一個實施例中，凸起面246之中心相對於中心軸線116位於一接觸半徑R處，接觸半徑R位於圓形中間肋146與148之間；亦即，凸起面246以與連續環形溝槽152對準之一半徑接觸破壞性密封件110之潤濕面128，使得凸起面246接觸破壞性密封件110之外緣部112的界定環形溝槽152之段。可實作除圓角輪廓248以外之其他輪廓，例如多邊形(例如，三角形)輪廓。

在組裝中，保持器204及配件212設置於外包裝208之頸部206 中，且保持器204之凸緣部232安置於頸部206之內肩部238上。順應材料154被裝載至破壞性密封件110之連續環形溝槽152中，且經裝載之破壞性密封 件110設置於帽202中，以使外緣部112耦合凹槽222。在實施一供應過程(例如，對附裝至配件212之襯墊210填充以一液體249)之後，將其中安裝有破壞性密封件110之帽202耦合至外包裝208之頸部206，以使破壞性密封件110之潤濕面128接觸配件212之凸起面246。然後將帽202固定至頸部206以經由順應材料154對破壞性密封件110施加一壓縮力。在一個實施例中，將帽202固定至頸部206係藉由螺紋嚙合來達成，且該壓縮力係藉由將帽202旋轉(扭轉)至頸部206上來達成。

在各種實施例中，內圓形肋122之外表面134之漸縮部136之 尺寸適以嚙合喉部218之內壁220。當帽202壓縮破壞性密封件110時，在內圓形肋122之漸縮部136喉部218之內壁220之間形成一干涉配合。

在功能上，當將破壞性密封件110壓縮於凸起面246上時，凸 起面246起到一應力集中器之作用，用於使破壞性密封件110圍繞凸起面246之圓角輪廓248變形。順應材料154之順應性在直接增加破壞性密封件110與凸起面246之間的壓縮力之同時能夠使外緣部112撓曲並適形於凸起面246之形狀，藉此形成破壞性密封件110與配件212之間的一密封。此外，藉由此種配置，順應材料154不接觸所含納之液體249且因此不需要與液體249相容。

在各種實施例中，內圓形肋122之漸縮部136用作一擦拭特 徵，以提供破壞性密封件110與撕拉片腔217之間的一額外液體密封。當液體打破破壞性密封件110與配件212之凸起面246之間介面處的密封時，此擦拭特徵防止液體進入撕拉片腔217。

在各種實施例中，擦拭特徵保護順應材料154以免暴露於化 學品並且防止隨後被污染之化學品進入瓶中(第3圖至第5圖)。亦即，在某 些情況下，插穿過破壞性密封件之探針仍被來自先前瓶之化學品潤濕。擦拭特徵在破壞性密封件破裂時防止化學品接觸破壞性密封件並接著進入容器中。

平面144為用於注射成型之一澆口提供一區域。在平面144 處，來自模製製程之任何澆口殘餘皆不會突出超過破壞性密封件110之外徑，且因此不會造成破壞性密封件110與帽202之間非所欲之干涉或錯位。

參見第8圖及第8A圖，在本發明之一實施例中，在具有配件 212之一子總成258中繪示一破壞性密封件260。子總成258包含許多與上述破壞性密封件110及配件212類似之態樣及特性，該等態樣及特性係以編號相同之參考編號來指示。所示破壞性密封件260更包含一對準特徵262。對準特徵262包含面對中心軸線116之一內表面264以及背離中心軸線116之一外表面266。在所示實施例中，對準特徵262在破壞性密封件260之潤濕面128上自外緣部112懸垂，沿與第一方向126相對之一第二方向268延伸。內表面264設置於一半徑Ri處，半徑Ri之尺寸適以提供與配件212之凸緣部244之一外徑向面272之一緊密容差或一干涉配合。在一個實施例中，對準特徵262包含沿第二方向268遠離中心軸線116漸縮之一漸縮部274。

在功能上，當帽202組裝至外包裝208時(第6圖)，對準特徵 262提供破壞性密封件260與配件212之自動對準。當帽202被旋擰至瓶上時，對準特徵262之漸縮部274將在配件212之本體部242上方(例如，凸緣部244之外徑向面272上方)用作一導引件，以使破壞性密封件260在配件212上方居中。當帽202緊固至外包裝208時，對準特徵262亦可提供與配件212之一緊密容差或一干涉配合，此會起到一第二密封之作用。

在被稱為「瓶中套袋」(bag-in-bottle；BIB)或「罐中套袋」 (bag-in-can；BIC)構型(例如由英特格有限公司(Entegris,Inc)製造之NOWPak®)之背景中繪示及闡述上述各種破壞性密封件實施例。在例如於1999年3月23日提出申請且名稱為「加壓之液體化學品分配系統(Liquid Chemical Dispensing System with Pressurization)」之頒予本申請案擁有者之美國專利第6,206,240號中更詳細地闡述此類瓶中套袋及罐中套袋構型，該美國專利之揭露內容除其中包含之明確定義及專利申請範圍外以引用方式全文併入本文中。

本文所揭露之各種破壞性密封件實施例並非僅限於瓶中套 袋或罐中套袋構型。舉例而言，在某些實施例中，破壞性密封件110被配置成在本發明之一實施例中用於例如第9圖所示之一傳統玻璃容器280中。破壞性密封件260同樣地可被配置成應用於傳統玻璃容器280中。本文所揭露之各種破壞性密封件實施例亦可被配置成利用三維適形襯墊及/或剛性可塌縮襯墊之一分配系統290，例如由英特格有限公司製造之BrightPak®液體封裝含納、儲存及遞送系統。

在本發明之一實施例中，在第10圖中繪示破壞性密封件 110，破壞性密封件110被繪示成與分配系統290一起配置。破壞性密封件260同樣地可被配置成應用於分配系統290中。利用三維適形襯墊及/或剛性可塌縮襯墊之分配系統以及傳統玻璃瓶之其他細節繪示及闡述於以下國際專利申請案中：於2011年10月10日提出申請、名稱為「實質剛性可塌縮襯墊、容器及/或用於更換玻璃瓶之襯墊、以及增強撓性之襯墊(Substantially Rigid Collapsible Liner,Container and/or Liner for Replacing Glass Bottles,and Enhanced Flexible Liners)」、頒予本申請案之擁有者、且作為國際公開案第WO 2012/051093號公開之國際專利申請案第PCT/US2011/055558號，該國際 專利申請案之揭露內容除其中包含之明確定義及專利申請範圍外以引用方式全文併入本文中。

參見第11圖至第13圖，在本發明之一實施例中繪示一破壞性 密封件310。破壞性密封件310包含一外緣部312及一中心密封部314，外緣部312與一中心密封部314二者以一中心軸線316為中心同心。外緣部312界定一外邊緣318。一內肋322設置於外緣部312與中心密封部314之間的一接合部處，內肋322自破壞性密封件310之一未潤濕面324沿平行於中心軸線316之一第一方向326延伸。在某些實施例中，內肋322係為連續的。破壞性密封件310更包含與未潤濕面324相對之一潤濕面328，潤濕面328面對與第一方向326相對之一第二方向330。內肋322包含面對中心軸線316之一內表面332以及背離中心軸線316之一外表面334。在一個實施例中，破壞性密封件310係為由全氟烷氧化合物(PFA)形成之一模製組件。破壞性密封件310之各種組件可係為一單一整體式組件(例如，整體地形成於一模製過程中)。

在各種實施例中，複數個劃刻線或劃刻槽338形成於未潤濕 面324上而到達延伸入中心密封部314中之一深度處。每一劃刻槽338皆穿透中心密封部314之厚度以界定中心密封部314之一最小厚度(近似於第5圖所示L3)，該最小厚度係界定於劃刻槽338之深度極限與相對面(例如，第13圖所示潤濕面328)之間。中心密封部314之最小厚度係被配置成當在中心密封部314上施加高於一預定臨限值之一力或壓力時，中心密封部314沿劃刻槽338大致均勻地破裂。在某些實施例中，該等劃刻槽338在中心軸線316處相交。

在各種實施例中，中心密封部314具有介於0.5毫米至1.0毫米 且包含0.5毫米及1.0毫米之範圍內之一標稱厚度；在某些實施例中，中心密 封部314之標稱厚度介於0.5毫米至0.8毫米且包含0.5毫米及0.8毫米之範圍內；在某些實施例中，中心密封部314之標稱厚度介於0.55毫米至0.7毫米且包含0.55毫米及0.7毫米之範圍內；在某些實施例中，中心密封部314之標稱厚度介於0.58毫米至0.66毫米且包含0.58毫米及0.66毫米之範圍內。

在某些實施例中，劃刻槽338被形成為界定介於0.1毫米至0.7 毫米且包含0.1毫米及0.7毫米之範圍內之最小厚度L3；在某些實施例中，劃刻槽338被形成為界定介於0.1毫米至0.4毫米且包含0.1毫米及0.4毫米之範圍內之最小厚度L3；在某些實施例中，劃刻槽338被形成為界定介於0.12毫米至0.25毫米且包含0.12毫米及0.25毫米之範圍內之最小厚度L3。在某些實施例中，中心密封部314被配置成當在中心密封部314上施加介於15牛頓(N)至70牛頓且包含15牛頓及70牛頓之範圍內之一力時，中心密封部314大致均勻地破裂。

在各種實施例中，破壞性密封件310包含設置於未潤濕面324 上之複數個凸起特徵343。在一個實施例中，各該凸起特徵343設置於該等餡餅狀段340其中之一對應餡餅狀段340上並鄰近各頂點341。破壞性密封件310可更包含一外肋342，外肋342設置於破壞性密封件310之外緣部312上並位於內肋322與外邊緣318中間。在某些實施例中，外肋342係為連續的並圍繞內肋322。內肋322及外肋342自破壞性密封件310之未潤濕面324沿平行於中心軸線316之第一方向326延伸，以在內肋322與外肋342之間在未潤濕面324上界定一連續環形溝槽352。在一個實施例中，內肋322較外肋342進一步沿第一方向326延伸。亦即，內肋322之一軸向長度L1可大於外肋342之軸向長度L2，其中「軸向長度」被定義為平行於中心軸線316之一尺寸。

在各種實施例中，破壞性密封件310界定一撓性定心結構346 (例如一撓性外凸緣348)，撓性定心結構346沿徑向延伸超過外肋342而到達外邊緣318。在一個實施例中，撓性定心結構346在潤濕面328與撓性定心結構346之一偏移表面349之間界定面對第二方向330之一軸向偏移347。藉由此種配置，撓性定心結構346自外肋342沿徑向向外延伸。在一個實施例中，撓性定心結構346界定複數個釋放狹槽(relief slot)350，各該釋放狹槽350自外邊緣318沿徑向向內延伸。撓性定心結構346可包含與釋放狹槽350鄰近之圓角或倒角隅角351。在各種實施例中，外緣部312與中心密封部314二者標稱軸向厚度(即，潤濕面328與未潤濕面324之間的厚度)係為實質相同之厚度。在某些實施例中，內肋322與外肋342之軸向厚度係實質相同於中心密封部314及/或外緣部312之標稱軸向厚度。

在各種實施例中，連續環形溝槽352被配置成容置一順應材 料354(第14圖及第15圖)。順應材料354包含一非脫落性材料(即，抵抗摩擦時微粒之產生)，該非脫落性材料係與經由破壞性密封件310分配之液體相容。在各種實施例中，此類相容非脫落性材料包含乙烯-丙烯-二烯單體(EPDM)或一全氟彈性體聚合物(例如CHEMRAZ®或KALREZ®)。在各種實施例中，順應材料354係呈一順應構件(例如一O形環(第15圖)或墊圈)之形式。在某些實施例中，順應材料354可由裝填至環形溝槽352中之一鬆散材料(例如一裝填物)構成。

參見第14圖及第15圖，在本發明之一實施例中，繪示利用破 壞性密封件310之一帽總成400。帽總成400包含一帽402並且亦可包含安裝至一外包裝408(例如一瓶或小罐)之一頸部406之一保持器404。在某些實施例中，一配件412設置於保持器404中並且被帽402捕獲，配件412提供通往例如一襯墊410之入口。配件412界定以一埠軸線413為中心同心之一存取 埠411。在組裝中，破壞性密封件310之中心軸線316與配件412之埠軸線413係實質對準，且帽402、保持器404、頸部406及配件412係實質以軸線316及413為中心同心。

在某些實施例中，帽402包含一撕拉片414及柄部416，在撕 拉片414與破壞性密封件310之間界定撕拉片腔417。帽402可更界定一喉部418，喉部418具有界定一內徑D之一內壁420，喉部418係被撕拉片414阻斷。 帽402亦可界定環繞喉部418之一凹槽422，凹槽422係部分地由一外壁424及一頂面425界定。在各種實施例中，一唇緣423設置於凹槽422之一口425處。 唇緣423可具有一或多個不連續段或係為連續的。在一個實施例中，凹槽422係為一環形凹槽。

此外，另外或作為另一選擇，破壞性密封件310之撓性定心 結構346之外緣部312之尺寸可適以以一輕的干涉配合嚙合外壁424。在一「輕的干涉配合」中，外緣部312相對於外壁424尺寸具有超出尺寸(oversized)(例如，具有大於外壁424之一直徑)，使得外緣部312以足夠之摩擦而配合於凹槽422之外壁424內以暫時地將破壞性密封件310固持於定位上，同時仍能夠使破壞性密封件310在一組裝製程期間進一步滑動至凹槽422中。達成輕的干涉配合的此種超出尺寸之非限制性實例可介於0.0175英吋至0.025英吋且包含0.0175英吋及0.025英吋之範圍內。輕的干涉配合可足以將破壞性密封件310保持於帽402內，並且除唇緣423之外可被提供作為保持破壞性密封件310之一途徑。

在一個實施例中，保持器404包含一凸緣部432，凸緣部432 具有延伸入外包裝408之頸部406中之一裙邊部434以及延伸出頸部406之一領部436。凸緣部432自中心軸線316沿徑向延伸超過裙邊部434並且倚靠於 形成於外包裝408之頸部406中之一內肩部438上。

在各種實施例中，配件412包含一本體部442及一凸緣部 444，凸緣部444自本體部442沿徑向向外延伸。本體部442設置於領部436內並且延伸穿過領部436，且配件412之凸緣部444嚙合領部436並且處於領部436與帽402之間。在一個實施例中，配件412之凸緣部444包含一連續凸起面446，連續凸起面446自本體部442(例如，凸緣部444)沿平行於中心軸線316之第一方向326延伸。凸起面446可被配置成界定一圓角輪廓448。在一個實施例中，凸起面446居中於相對於中心軸線316為一接觸半徑R處，該接觸半徑R位於內肋322與外肋342之間；亦即，凸起面446係與連續環形溝槽352徑向對準，使得凸起面446接觸潤濕面328之外緣部312的界定環形溝槽352之段。可實作除圓角輪廓448以外之其他輪廓，例如多邊形(例如，三角形)輪廓。

在組裝中，保持器404及配件412設置於外包裝408之頸部406 中，且保持器404之凸緣部432安置於頸部406之內肩部438上。順應材料354被裝載至破壞性密封件310之連續環形溝槽352中，且經裝載破壞性密封件310設置於帽402中以使外緣部312耦合至凹槽422之外壁424。如上所述，此耦合可以一輕的干涉配合來達成。在實施一供應過程(例如，對附裝至配件412之襯墊410填充以一液體449)之後，將其中安裝有破壞性密封件310之帽402耦合至外包裝408之頸部406，以使破壞性密封件310之潤濕面328接觸配件412之凸起面446。帽402然後被固定至頸部406使得凸起面446接觸破壞性密封件310並對破壞性密封件310施加一向上的力，以使破壞性密封件310進一步向上平移至凹槽422中。當帽402被緊固至頸部406時，由破壞性密封件310在凹槽422內向上攜帶之順應材料354接觸凹槽422之頂面425。當 帽402進一步被緊固時，順應材料354被壓縮於破壞性密封件310與凹槽422之頂面425之間，藉此在配件412之凸起面446與破壞性密封件310之間施加一壓縮力。在一個實施例中，將帽402固定至頸部406係藉由螺紋嚙合來達成，且該壓縮力係藉由將帽402旋轉(扭轉)至頸部406上來達成。

在功能上，即使破壞性密封件310未完全或未接近完全地對 準於凹槽422內，撓性定心結構346仍能夠使破壞性密封件310在安置破壞性密封件310期間滑動至定位上而不黏著於凹槽422內。撓性定心結構346之撓性能夠因應於外壁424與撓性定心結構346之間的局部「卡合(grabbing)」而發生局部變形，因此能夠使破壞性密封件310繼續滑動並且自動對準於凹槽422內。此外，能形成撓性定心結構346之所需撓性特性之厚度尺寸係為有限厚度，藉此降低撓性定心結構346與凹槽422之間原本需要更加謹慎對準之相互支承作用。撓性定心結構346之厚度(即，沿軸向方向之尺寸)之非限制性實例介於0.015英吋至0.1英吋且包含0.015英吋及0.1英吋之範圍內。在一個實施例中，撓性定心結構346之厚度範圍係介於0.02英吋至0.075英吋且包含0.02英吋及0.075英吋之間。

軸向偏移347可更有助於組裝製程。為將破壞性密封件310 安裝成在完全安置於凹槽422內時具有一壓縮效應，順應材料354延伸高於內肋322及外肋342。已發現，對於與破壞性密封件310之潤濕面328齊平之撓性對準結構，在將破壞性密封件310初始插入凹槽422中期間需要抵靠凹槽422之頂面425對順應材料354施加某一壓縮，以使撓性對準結構完全嚙合凹槽422之外壁424。對順應材料354之該壓縮有時會使破壞性密封件310被推出凹槽422，進而使得將破壞性密封件310初始安裝至凹槽422中會成為問題且煩瑣。

藉由將撓性定心結構346定位成相對於潤濕面328偏移，撓性 定心結構346易於對齊於凹槽422之外壁424而無需在初始插入期間壓縮順應材料354。藉由消除或大大減少對順應材料354之壓縮，在初始安裝期間便不再存在足以使破壞性密封件310脫位之後推力。

當將破壞性密封件310壓縮於凸起面446上時，凸起面446起 到一應力集中器之作用，以用於使破壞性密封件310圍繞凸起面446之圓角輪廓448變形。順應材料354之順應性在直接增加破壞性密封件310與凸起面446之間的一壓縮力之同時能夠使外緣部312撓曲並適形於凸起面446之形狀，藉此形成破壞性密封件310與配件412之間的一密封。此外，藉由此種配置，順應材料354不接觸所含納之液體249，且因此不需要與液體249相容。

平面344為用於注射成型之一澆口提供一區域。在平面344 處，來自模製過程之任何澆口殘餘皆不會突出超過密封件310之外徑，且因此不會造成破壞性密封件310與帽402之間非所欲之干涉或錯位。

參見第16圖，在本發明之一實施例中，繪示一替代帽總成 450。帽總成450包含許多與帽總成400相同之組件及屬性，該等組件及屬性係藉由編號相同之參考編號來指示。帽總成450之帽402包含一埠452，埠452具有一頸454並界定一孔口456。一插塞458耦合至埠452。在所示實施例中，頸454及插塞458包含互補螺紋以達成螺紋嚙合。

在一個實施例中，帽總成450包含用於保持一導管或探針(二 者均未示出)並使導管或探針居中之一嵌件460。嵌件460可包含一中心本體462、一凸緣464、及一定心環466。在一個實施例中，定心環466包含一O形環468，O形環468在配件412之一內表面上提供一密封。

中心本體462包含與破壞性密封件310嚙合之一上端469。上 端469可包含與配件412之凸緣部444相同之結構，即，近似於凸起面446之一凸起面，當將破壞性密封件310壓縮於該凸起面上時，該凸起面起到一應力集中器之作用。參見根據第15圖所述。帽402之凹槽422可在帽總成400及450二者中以相同之方式加以配置並以相同之方式嚙合破壞性密封件310。

在功能上，移除插塞458(而非一撕拉片)以提供通往破壞 性密封件310之入口。嵌件460使破壞性密封件310能夠與較大容器一起使用。

參見第17圖，在本發明之一實施例中，繪示凸起特徵343之 運作。具有一外表面472並包含O形環密封件474之一探針470被繪示為滑動穿過一破裂之破壞性密封件310a，該破裂係由探針470在破裂之破壞性密封件310a之未潤濕面324上施加之一插入力F而造成。餡餅狀段340斷開以界定位於頂點341(第11圖)處之尖端476以及沿著破裂之劃刻槽338之暴露邊緣478。尖端476及暴露邊緣478常常呈現鋒利及/或鋸齒狀表面或特徵。在某些情況下，當探針470穿過破裂之破壞性密封件310a時，餡餅狀段340之回彈力可使餡餅狀段340對O形環密封件474施加一力。

凸起特徵343在探針470穿過餡餅狀段340時緊貼於探針470 上，以藉由彎曲餡餅狀段之回彈力而被保持抵靠於探針470上。當O形環密封件474穿過破裂之破壞性密封件310a時，凸起特徵343緊貼於O形環密封件474上方，以將尖端476及暴露邊緣478提離O形環密封件474。如此一來，防止或減少O形環密封件474與鋒利尖端476及暴露邊緣478之間的接觸，進而大大降低對O形環密封件474造成損壞之風險。

相似於破壞性密封件110及260，破壞性密封件310可被配置 成應用於第9圖所示傳統玻璃容器280及/或分配系統(例如利用三維適形襯墊及/或剛性可塌縮襯墊之分配系統290(例如，BrightPak®液體封裝含納、儲存及遞送系統))中。

參見第18圖，在本發明之一實施例中，繪示在一有形媒體502 上提供關於將探針470插穿過破壞性密封件310之說明500。說明500包含方法步驟，該等方法步驟包含：提供一破壞性密封件(504)；在一有形媒體上提供操作說明(506)；利用一探針對破壞性密封件施加一力以使破壞性密封件破裂(508)；以及推動探針穿過破壞性密封件(512)。

在某些實施例中，有形媒體502係為一文檔、一電腦可讀取 儲存媒體(computer readable storage medium)或其他合適有形媒體其中之一或多者。在某些實施例中，電腦可讀取儲存媒體係為一種用於保持及儲存由一說明執行裝置所用之說明的有形裝置。

在某些實施例中，電腦可讀取儲存媒體包含但不限於一硬 碟、一隨機存取記憶體(random access memory；RAM)、一唯讀記憶體(read-only memory；ROM)、一可擦可程式化唯讀記憶體(erasable programmable read-only memory；EPROM或快閃記憶體)、一靜態隨機存取記憶體(static random access memory；SRAM)、一可攜式光碟唯讀記憶體(compact disc read-only memory；CD-ROM)、一數位多功能碟(digital versatile disk；DVD)、一記憶棒(memory stick)、及上述之任意適宜組合。 在一個實施例中，電腦可讀取儲存媒體包含可使用一掃描儀讀取之一QR碼。

本文所述之一「有形媒體」本身不應被理解為暫時性訊號，例如無線電波或其他自由傳播之電磁波、傳播穿過一波導或其他傳輸媒體之電磁波(例如，穿過一光纖纜線之光脈波)或傳輸穿過一線材之電訊號。

在某些實施例中，本文所述說明自一電腦可讀取儲存媒體下 載至各計算/處理裝置、抑或經由一網路(例如網際網路、一局部區域網路、一廣域網路及/或一無線網路)下載至一外部電腦或外部儲存裝置。

操作說明500僅提供作為獨立的或處於組合件中的破壞性密 封件之一實例，該破壞性密封件被提供作為包含操作說明、安裝說明及/或製造說明之一套件或一套件之部分。本申請案所支持之其他操作步驟及方法被設想為包含於在一有形媒體上提供之一說明集合中。

如國際公開案第WO 2012/051093號(上文以引用方式併入) 中所揭露，本文所揭露襯墊之實例性用途可包含但不限於儲存、運輸及/或分配酸、溶劑、鹼、光阻劑、化學品及用於OLED之材料(例如發出例如綠色光之磷光摻雜劑)、噴墨油墨、漿料、洗滌劑及清潔配方、摻雜劑、無機溶液、有機溶液、金屬有機溶液、TEOS溶液及生物溶液、DNA及RNA溶劑及試劑、藥物製劑、危險廢物、放射性化學品、及奈米材料(包含例如富勒烯(fullerene)、無機奈米微粒、溶膠-凝膠及其他陶瓷)、以及液晶，例如但不限於4-甲氧基苯亞甲基-4’-丁苯胺(4-methoxylbenzylidene-4'-butylaniline；MBBA)或4-氰基苯亞甲基-4’-n-辛氧基苯胺(4-cyanobenzylidene-4’-n-octyloxyaniline；CBOOA)。本文所揭露之襯墊可更在其他行業中用於運輸及分配其他產品，例如但不限於塗料、油漆、聚氨酯、食品、軟飲料、食用油、農用化學品、工業化學品、化妝化學品(例如，粉底(foundation)、固色劑(base)、及乳霜)、石油及潤滑油、黏著劑(例如但不限於環氧、黏著劑環氧、環氧及聚氨酯著色顏料、聚氨酯鑄塑樹脂、氰基丙烯酸酯及厭氧黏著劑、反應性合成黏著劑，包含但不限於間苯二酚、聚氨酯、環氧及/或氰基丙烯酸酯)、密封劑、健康 及口腔衛生產品、以及盥洗產品。

熟習此項技術者在閱讀本發明揭露內容之後，該等實施例之 各種潤飾將顯而易見。此項技術中之通常知識者將知，針對不同實施例所述之各種特徵可單獨地或以不同組合方式與其他特徵適宜地組合、拆分、及重新組合。舉例而言，設想可將撓性定心結構346、內圓形肋122及隨附擦拭特徵、以及凸起特徵343組合於一破壞性密封件中，儘管圖式中並未呈現出此種組合或並未作為一單一實施例來論述此種組合。因此，所揭露之實施例皆應被視為實例，而非對本發明範圍或精神之限制。

作為國際公開案第WO 2014/066723號所公開、由本申請案之申請人擁有且亦係關於破壞性密封技術之國際申請案第PCT/US2013/066746號除其中所包含之明確定義及申請專利範圍外以引用方式併入本文中。

上述任何以引用方式併入之文檔皆被限制成不會併入與本文之明確揭露內容相反之主題。任何以引用方式併入之文檔更被限制成使包含於該等文檔中之申請專利範圍不會以引用方式併入本文中。上述任何以引用方式併入之文檔亦被限制成使在該等文檔中所提供之任何定義不會以引用方式併入本文中，除非明確地包含於本文中。

為提供改良之裝置以及用於製造及使用該等改良之裝置之方法，可單獨使用或結合其他特徵及方法來使用本文所揭露之每一附圖及方法。因此，本文中所揭露之特徵及方法之組合可能並非係在最廣意義上實踐本發明所必需的，而是僅為具體闡述代表性及較佳實施例而揭露的。

此項技術中之通常知識者將知，各種實施例可包含較上述任 何各別實施例中所例示者更少之特徵。本文所述各實施例並非旨在對各種特徵可進行組合之方式進行詳盡描述。因此，此項技術中之通常知識者應理解，各實施例並非為相互排斥之特徵組合；而是申請專利範圍可包含選自各別不同實施例之各別不同特徵之一組合。

在本文中提及之「實施例」、「揭露內容」、「本發明」、「本發明之實施例」、及「所揭露之實施例」等係指本專利申請案的不被視為先前技術之說明書(文本，包括申請專利範圍及圖)。

為解釋申請專利範圍，明確指出，除非相應之請求項中引用特定用語「用於...之手段(means for)」或「用於...之步驟(step for)」，否則不援引35 U.S.C.112(f)之規定。

110‧‧‧破壞性密封件

112‧‧‧外緣部

114‧‧‧隔膜/中心密封部

116‧‧‧中心軸線

118‧‧‧外邊緣

122‧‧‧內圓形肋

124‧‧‧未潤濕面

126‧‧‧第一方向

132‧‧‧內表面

134‧‧‧外表面

136‧‧‧漸縮部

138‧‧‧劃刻線/劃刻槽

142‧‧‧外肋

144‧‧‧平面

146‧‧‧圓形中間肋

148‧‧‧圓形中間肋

152‧‧‧連續環形溝槽

Claims (51)

1. 一種模製破壞性密封件，包含：一外緣部及一中心密封部，該外緣部與該中心密封部二者以一中心軸線為中心同心，該外緣部界定一外邊緣；一內圓形肋，設置於該外緣部與該中心密封部之間的一接合部處，該內圓形肋自該破壞性密封件之一未潤濕面沿平行於該中心軸線的一第一方向延伸；一外圓形肋，設置於該外緣部處並自該破壞性密封件之該未潤濕面沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸，其中該內圓形肋、該外圓形肋、及該外緣部共同界定一溝槽；以及複數個劃刻槽(score groove)，形成於該中心密封部上。
2. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，其中該外圓形肋設置於該內圓形肋與該外緣部之該外邊緣之間，該外緣部更界定一撓性定心結構(flexible centering structure)，該撓性定心結構沿徑向延伸超過該外圓形肋而到達該外邊緣。
3. 如請求項2所述之模製破壞性密封件，其中該撓性定心結構界定複數個釋放狹槽(relief slot)，各該釋放狹槽自該外邊緣沿徑向向內延伸。
4. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，在該破壞性密封件之該未潤濕面上鄰近該等劃刻槽包含複數個凸起特徵。
5. 如請求項4所述之模製破壞性密封件，其中該等劃刻槽在該中心軸線處相交以界定複數個餡餅狀段(pie-shaped segment)，各該餡餅狀段界定一頂點，且其中各該凸起特徵設置於該等餡餅狀段其中之一對應餡餅狀 段上並鄰近該頂點。
6. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，其中該內圓形肋、該外圓形肋、及該溝槽係為連續的。
7. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，更包含設置於該溝槽中之一順應材料。
8. 如請求項7所述之模製破壞性密封件，其中該順應材料係為一O形環。
9. 如請求項7所述之模製破壞性密封件，其中該順應材料係為一全氟彈性體聚合物(perfluoroelastomer polymer)與一乙烯-丙烯-二烯單體(ethylene propylene diene monomer)其中之一。
10. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，其中該破壞性密封件係由全氟烷氧化合物(perfluoroalkoxy；PFA)形成。
11. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，其中該等劃刻槽係形成於該破壞性密封件之該未潤濕面。
12. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，其中該撓性定心結構係相對於該破壞性密封件之一潤濕面沿軸向偏置。
13. 如請求項1所述之模製破壞性密封件，其中該中心密封部與該撓性定心結構部具有同一標稱軸向厚度。
14. 如請求項1至13中任一項所述之模製破壞性密封件，其中該破壞性密封件係為一單一整體式組件。
15. 一種模製破壞性密封件，包含：一外緣部及一中心密封部，該外緣部與該中心密封部二者以一中心軸線為中心同心，該外緣部界定一外邊緣； 一內圓形肋，設置於該外緣部與該中心密封部之間的一接合部處，該內圓形肋自該破壞性密封件之一未潤濕面沿平行於該中心軸線的一第一方向延伸，該內圓形肋包含面對該中心軸線之一內表面與背對該中心軸線之一外表面；以及複數個劃刻槽，界定進入該中心密封部內之一軸向深度，俾使該中心密封部被配置成當在該中心密封部上施加高於一預定臨限值力之一力時，該中心密封部大致均勻地破裂。
16. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，包含一外肋，該外肋自該破壞性密封件之該外邊緣沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸。
17. 如請求項16所述之模製破壞性密封件，其中該外肋係為連續的
18. 如請求項17所述之模製破壞性密封件，其中該外肋在該外肋之一部分上界定一平面。
19. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，包含至少一個圓形中間肋，該圓形中間肋以該中心軸線為中心同心且自該內圓形肋沿徑向向外設置及自該外邊緣沿徑向向內設置，該至少一個圓形中間肋自該破壞性密封件之該未潤濕面沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸。
20. 如請求項19所述之模製破壞性密封件，其中該內圓形肋較該至少一個圓形中間肋進一步沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸。
21. 如請求項19所述之模製破壞性密封件，其中該至少一個圓形中間肋包含一第一中間肋及一第二中間肋，該第二中間肋自該第一中間肋沿徑向向外設置以在該未潤濕面上在該第二中間肋與該第一中間肋之間界定一溝槽。
22. 如請求項21所述之模製破壞性密封件，其中該第一中間肋、該第二中間肋、及該溝槽係為連續的。
23. 如請求項21所述之模製破壞性密封件，更包含設置於該溝槽中之一順應材料。
24. 如請求項22所述之模製破壞性密封件，其中該順應材料係為一O形環。
25. 如請求項23所述之模製破壞性密封件，其中該順應材料係為一全氟彈性體聚合物與一乙烯-丙烯-二烯單體其中之一。
26. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，其中該破壞性密封件係由全氟烷氧化合物(PFA)形成。
27. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，其中該中心密封部被配置成當在該中心密封部上施加介於約15牛頓與約70牛頓之間的一力時，該中心密封部大致均勻地破裂。
28. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，其中該等劃刻槽在該中心軸線處相交。
29. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，其中該等劃刻槽係形成於該破壞性密封件之該未潤濕面上。
30. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，更包含自該破壞性密封件之一潤濕面懸垂之一對準特徵。
31. 如請求項30所述之模製破壞性密封件，其中該對準特徵自該破壞性密封件之該外緣部懸垂。
32. 如請求項30所述之模製破壞性密封件，其中該對準特徵包含面對該中心軸線之一內表面，該內表面包含沿遠離該潤濕面之一方向遠離該中心軸 線漸縮的一漸縮部。
33. 如請求項30所述之模製破壞性密封件，其中該對準特徵包含面對該中心軸線之一內表面，該內表面之尺寸適以與一配件(fitment)干涉配合。
34. 如請求項33所述之模製破壞性密封件，其中該內表面包含沿遠離該潤濕面之一方向遠離該中心軸線漸縮之一漸縮部。
35. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，其中該內圓形肋係為連續的。
36. 如請求項35所述之模製破壞性密封件，其中該內圓形肋之該內表面平行於該中心軸線，且該內圓形肋之該外表面界定一漸縮部，該漸縮部相對於該中心軸線界定一預定角度。
37. 如請求項15所述之模製破壞性密封件，其中該中心密封部與該撓性定心結構部具有同一標稱軸向厚度。
38. 如請求項15至37中任一項所述之模製破壞性密封件，其中該破壞性密封件係為一單一整體式組件。
39. 一種容器系統，包含：一配件，包含一本體部，該本體部界定一存取埠並具有以該存取埠之一埠軸線為中心同心之一連續凸起面；一模製破壞性密封件，包含：一外緣部及一中心密封部，該外緣部與該中心密封部二者以一中心軸線為中心同心，該外緣部界定一外邊緣；一內圓形肋，設置於該外緣部與該中心密封部之間的一接合部處，該內圓形肋自該破壞性密封件之一未潤濕面沿平行於該中心軸線的一第一方向延伸； 一外圓形肋，設置於該外緣部處並自該破壞性密封件之該未潤濕面沿平行於該中心軸線之該第一方向延伸，其中該內圓形肋、該外圓形肋、及該外緣部共同界定一溝槽；以及複數個劃刻槽，形成於該中心密封部上；其中該模製破壞性密封件之該中心軸線係實質對準於該存取埠之該埠軸線，該凸起面界定一接觸半徑，該接觸半徑係與該連續環形溝槽對準地接觸該模製破壞性密封件之一潤濕面；以及一順應材料，設置於該模製破壞性密封件之該溝槽中。
40. 如請求項39所述之容器系統，包含附裝至該配件之一襯墊(liner)。
41. 如請求項40所述之容器系統，其中該襯墊被配置成含有一光阻劑。
42. 如請求項39所述之容器系統，包含一外包裝(overpack)，該外包裝包含一頸部，該頸部界定一開口，該配件設置於該頸部中。
43. 如請求項42所述之容器系統，包含一帽，該帽可拆卸地耦合至該頸部，該帽固定該模製破壞性密封件。
44. 如請求項43所述之容器系統，其中：該模製破壞性密封件之該外緣部界定一撓性定心結構，該撓性定心結構沿徑向延伸超過該外圓形肋而到達該外邊緣；該帽界定一凹槽，該凹槽具有一外壁，該外壁之尺寸適以以一輕的干涉配合而容置該撓性定心結構之該外緣部。
45. 如請求項44所述之容器系統，其中該帽包含一撕拉片(tear tab)。
46. 如請求項39所述之容器系統，其中該等劃刻槽係形成於該破壞性密封件之該未潤濕面上。
47. 如請求項39所述之容器系統，在該破壞性密封件之該未潤濕面上鄰近該等劃刻槽包含複數個凸起特徵。
48. 如請求項47所述之容器系統，其中該等劃刻槽在該中心軸線處相交以界定複數個餡餅狀段，各該餡餅狀段界定一頂點，且其中各該凸起特徵設置於該等餡餅狀段其中之一對應餡餅狀段上並鄰近該頂點。
49. 如請求項39所述之模製破壞性密封件，其中該中心密封部與該撓性定心結構部具有同一標稱軸向厚度。
50. 如請求項39至49中任一項所述之模製破壞性密封件，其中該破壞性密封件係為一單一整體式組件。
51. 一種在插穿過一破壞性密封件期間保護一探針之方法，包含：提供一破壞性密封件，該破壞性密封件包含一中心密封部，該中心密封部界定複數個劃刻槽，該等劃刻槽在該中心密封部之一中心軸線處相交以界定複數個餡餅狀段，各該餡餅狀段界定一頂點，該破壞性密封件包含設置於該破壞性密封件之一未潤濕面上之複數個凸起特徵，各該凸起特徵設置於該等餡餅狀段其中之一對應餡餅狀段上並鄰近該頂點；在一有形媒體上提供操作說明，該等說明包含：以該探針對該破壞性密封件施加一力，以使該破壞性密封件沿該等劃刻槽破裂，以界定該等餡餅狀段之複數個暴露邊緣；以及在該施加力之步驟之後推動該探針穿過該破壞性密封件，以使該探針在該等凸起特徵上滑動，藉此防止該等暴露邊緣與該探針接觸。