TW201621361A - 單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法 - Google Patents

單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明之課題係提供一種僅於偏光件單面具有透明保護薄膜之單面保護偏光薄膜，前述偏光件具有預定之光學特性，且即便厚度為10μm以下，仍能夠抑制貫通裂紋及奈米細縫的發生。 解決手段上，本發明之單面保護偏光薄膜，為僅於偏光件單面具有透明保護薄膜者，其特徵在於：前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂，且厚度在10μm以下，並構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，或，P≧99.9(惟T≧42.3)；並且，在前述偏光件的另一面具有由含聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成之厚度0.2μm以上的透明樹脂層。

Description

單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法 發明領域
本發明有關於僅於偏光件單面設有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，以及具有該單面保護偏光薄膜與黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。前述單面保護偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜，可單獨作為光學薄膜、或將其積層以作為光學薄膜，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
發明背景
液晶顯示裝置中，因其影像形成方式，在形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜是必要而不可或缺的。偏光薄膜一般而言是使用：在聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料所構成的偏光件單面或兩面，以聚乙烯醇系接著劑等貼合透明保護薄膜而成者。
在將前述偏光薄膜貼附於液晶單元等時，通常會使用黏著劑。又，由於具有可瞬間固定偏光薄膜、以及不需要乾燥步驟即令偏光薄膜固著等優點，黏著劑是作為黏著劑層預先設置於偏光薄膜的單面。亦即，在偏光薄膜的 貼著方面，通常使用附黏著劑層之偏光薄膜。
又，偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜等有下述問題：在熱衝撃(例如，重覆-30℃與80℃之溫度條件的熱震試驗或在100℃高溫下試驗)的嚴苛環境下，容易因為偏光件收縮應力的變化，而在偏光件吸收軸方向整體性產生裂紋(貫通裂紋)。亦即，附黏著劑層之偏光薄膜，在前述嚴苛環境下對熱衝撃的耐久性並不足夠。尤其，從薄型化的觀點來看，使用了僅於偏光件單面設有透明保護薄膜此種單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜，對前述熱衝撃的耐久性實不足夠。又，前述因熱衝撃而產生的貫通裂紋，在偏光薄膜尺寸變大時就會容易出現。
為能抑制前述貫通裂紋的發生，已有提出例如在單面保護偏光薄膜設有拉張彈性模數100MPa以上的保護層、又在該保護層設有黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜(專利文獻1)。又已提出在厚度25μm以下之偏光件的單面上具有以硬化型樹脂組成物之硬化物構成的保護層、在偏光件另一面上具有透明保護薄膜、並在前述保護層的外側具有黏著劑層此種附黏著劑層之偏光薄膜(專利文獻2)。前述專利文獻1、2所記載的附黏著劑層之偏光薄膜，從抑制貫通裂紋的發生此點來看是有效的。又，從抑制貫通裂紋的發生並同時由薄層化、輕量化的觀點出發，已有提出在偏光件之至少一面設置水溶性皮膜形成性組成物(聚乙烯醇系樹脂組成物)構成的保護層(專利文獻3)。又，薄型化在偏光件方面亦已進行中，例如，已有提出控制了單體穿透率 及偏光度之光學特性、展現高配向性的薄型偏光件(專利文獻4)。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利公開案第2010-009027號公報
專利文獻2：日本專利公開案第2013-160775號公報
專利文獻3：日本專利公開案第2005-043858號公報
專利文獻4：日本專利第4751481號說明書
發明概要
專利文獻1及2是藉由使用僅於偏光件單面具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜來謀求薄型化，同時另一方面藉由設置保護層來抑制因使用單面保護偏光薄膜而產生的朝偏光件吸收軸方向之貫通裂紋的發生。又，專利文獻3中，是藉由於偏光件設置保護層，來抑制朝偏光件吸收軸方向發生貫通裂紋。
另一方面，薄型化在偏光件方面亦正進行中。在偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜所用偏光件作成薄型的情況(例如，作成厚度10μm以下時)，偏光件的收縮應力變化會變小。因此，已了解到，若利用薄型化偏光件，則能夠抑制前述貫通裂紋的發生。
然而，前述貫通裂紋的發生已受到抑制的單面保 護偏光薄膜、或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜中，在如專利文獻4般控制光學特性並將偏光件作成薄型的情況時(例如，作成厚度10μm以下時)，單面保護偏光薄膜或使用了該薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜在負荷機械衝撃的時候(包括偏光件側有凸折所致負荷的情形)，已知在偏光件吸收軸方向會部分出現極細的細縫(以下亦稱為奈米細縫)。前述奈米細縫的產生係與偏光薄膜的尺寸無關此亦為已知。再者，亦已知在使用偏光件兩面具有透明保護薄膜的雙面保護偏光薄膜的情況時，前述奈米細縫並未發生。又，已知偏光件發生貫通裂紋的情形時，由於貫通裂紋周邊的應力被解放，貫通裂紋並不會鄰接而生，但奈米細縫除了單獨產生外亦鄰接而生。又已知，貫通裂紋具有朝向已產生裂紋之偏光件吸收軸方向延伸的進行性，但奈米細縫則無前述進行性。如此可知，前述奈米細縫，是在貫通裂紋的發生已受到抑制的單面保護偏光薄膜方面，於偏光件經薄化且光學特性已控制在預定範圍的情形下產生的新課題，和以往所知之前述貫通裂紋是由不同的現象產生的課題。
又，由於前述奈米細縫極細，故在一般環境下無法檢出。因此，即便設若偏光件已有奈米細縫發生，單面保護偏光薄膜及使用了該薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜的漏光所致缺陷，要僅憑一眼即予以確認仍是困難的。亦即，通常單面保護偏光薄膜是製成長條薄膜狀而以自動光學檢查來檢查缺陷，但要以該缺陷檢査來將奈米細縫檢出為缺陷則有困難。前述奈米細縫所致缺陷，亦已知在單面保護 偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜貼合於影像顯示面板的玻璃基板等再置於加熱環境下時，奈米細縫會往橫向擴展，因而變得能夠檢出(例如，前述漏光是有無)。
是以，偏光件厚度為10μm以下的單面保護偏光薄膜、或使用了該薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜方面，期望的是不僅止貫通裂紋，奈米細縫所致缺陷亦受到抑制。
本發明之目的在於提供一種單面保護偏光薄膜，其僅於偏光件單面具有透明保護薄膜，其中前述偏光件具有預定之光學特性，且即便厚度為10μm以下，仍能夠抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷。又，本發明之目的在於提供一種具有前述單面保護偏光薄膜與黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。
又，本發明之目的在於提供一種具有前述單面保護偏光薄膜或前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置，並進一步提供其連續製造方法。
本案發明人等鑽研檢討的結果，發現藉由下述單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜等能夠解決上述課題，遂而完成本發明。
即本發明是有關於一種單面保護偏光薄膜，係僅於偏光件單面具有透明保護薄膜者，其特徵在於：前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂，且厚度在10μm以下，並係構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件： P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，或者P≧99.9(惟T≧42.3)；並且，在前述偏光件的另一面具有厚度0.2μm以上的透明樹脂層，該透明樹脂層為含聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述透明樹脂層宜為結晶熔解熱30mj/mg以上者。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述透明樹脂層之厚度宜低於3μm。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述聚乙烯醇系樹脂宜為皂化度99.0%以上且平均聚合度1000以上者。又，前述單面保護偏光薄膜之中，前述形成材可由不含硬化性成分之物形成。前述聚乙烯醇系樹脂宜為聚乙烯醇樹脂。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述偏光件宜含有相對於偏光件總量為25重量%以下之硼酸。
又本發明是有關於一種特徵在於具有前述單面保護偏光薄膜及黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。
前述附黏著劑層之偏光薄膜，能夠以在前述單面保護偏光薄膜之透明樹脂層上設有前述黏著劑層的態樣作使用。又，前述附黏著劑層之偏光薄膜，能夠以在前述單面保護偏光薄膜之透明保護薄膜上設有前述黏著劑層的態樣作使用。又，前述附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層上可以設置分離件。設有分離件的附黏著劑層之偏光薄膜能夠作為捲繞物來使用。
又本發明係有關於一種具有前述單面保護偏光薄膜、或前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。
又本發明係有關於一種影像顯示裝置之連續製造方法，其包括下述步驟：從前述附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物輸出附黏著劑層之偏光薄膜並利用前述分離件輸送，且將前述附黏著劑層之偏光薄膜透過前述黏著劑層連續貼合於影像顯示面板的表面。
本發明之單面保護偏光薄膜、及附黏著劑層之偏光薄膜，係使用厚度10μm以下之偏光件，而呈薄型化。又，前述厚度10μm以下的薄型偏光件，相較於偏光件厚度高的情形，因熱衝撃而施予偏光件之收縮應力的變化小，故能夠抑制貫通裂紋的發生。
另一方面，具有所定光學特性之薄型偏光件，會容易在偏光件出現奈米細縫。奈米細縫被認為是在單面保護偏光薄膜的製造步驟、單面保護偏光薄膜上設置黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜的製造步驟、以及製造附黏著劑層之偏光薄膜後的各種步驟之中，當前述單面保護偏光薄膜、或使用了該偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜承受機械衝撃時所產生，且推想是由與熱衝撃所致之貫通裂紋不同的機制所產生。又，前述奈米細縫所致缺陷，在單面保護偏光薄膜、或附黏著劑層之偏光薄膜貼合於影像顯示面板的玻璃基板等上再置於加熱環境下的情形時，奈米細縫會往橫向擴大而變成能夠檢出(例如，是否有前述之漏 光)。
本發明之單面保護偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜，係於偏光件之另一面(沒有透明保護薄膜的面)設置厚度0.2μm以上的透明樹脂層，從而能夠抑制前述奈米細縫的發生。
如上述，本發明之單面保護偏光薄膜、及使用其之附黏著劑層之偏光薄膜，具有由含聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成的厚度0.2μm以上的透明樹脂層，藉此能夠在滿足薄型化的同時，抑制偏光件所生之貫通裂紋及奈米細縫的發生。
又，前述奈米細縫由於極細故在一般環境下無法檢出。因此，就算偏光件已發生奈米細縫，要確認單面保護偏光薄膜及使用其之附黏著劑層之偏光薄膜的漏光所致缺陷，僅憑一眼實屬困難。又已知前述奈米細縫所致缺陷在單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜已置於加熱環境下時，奈米細縫會往橫向擴大而變得能夠檢出(例如，前述漏光之有無)。藉由前述透明樹脂層，就算在設置透明樹脂層之前呈單面保護偏光薄膜狀態的偏光件已經有前述奈米細縫發生，也仍能抑制此種奈米細縫往橫向擴大所致缺陷的發生。
又，由於透明樹脂層構成單面保護偏光薄膜的一部份，故期望在高溫高濕的環境下或溫水環境下仍會維持偏光薄膜之偏光度的前述透明樹脂層，是由含有水溶性聚乙烯醇系樹脂以作為主成分的形成材所形成之層，惟藉由 將該透明樹脂層控制在結晶熔解熱30mj/mg以上，來抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷的發生，同時能夠滿足在高溫高濕環境下的耐濕熱性、或溫水環境下的耐水性等。
要將前述透明樹脂層控制在結晶熔解熱30mj/mg以上，例如在聚乙烯醇系樹脂方面就可使用皂化度99.0%以上且平均聚合度1000以上之物。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧透明保護薄膜
3‧‧‧透明樹脂層(聚乙烯醇系樹脂為主成分)
4‧‧‧黏著劑層
5、5a、5b‧‧‧分離件
6、6a、6b‧‧‧表面保護薄膜
10‧‧‧單面保護偏光薄膜
11‧‧‧單面保護偏光薄膜(附透明樹脂層)
12‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
20a、20b‧‧‧附黏著劑層之偏光薄 膜的捲繞物(卷材)
21a、21b‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜(附表面保護薄膜)
100‧‧‧影像顯示裝置的連續製造系統
101a、101b‧‧‧偏光薄膜供給部
151a、151b‧‧‧輸出部
152a、152b‧‧‧裁切部
153a、153b‧‧‧剝離部
154a、154b‧‧‧捲取部
201a、201b‧‧‧貼合部
300‧‧‧配置調換部
P‧‧‧影像顯示面板
X‧‧‧影像顯示面板的輸送部
圖1為本發明之單面保護偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。
圖2為本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。
圖3為對比生成於偏光件之奈米細縫與貫通裂紋的概念圖之一例。
圖4為單面保護偏光薄膜之剖面圖照片之一例，顯示奈米細縫是否發生、以及已生奈米細縫時依透明樹脂層之有無而使加熱所致奈米細縫的擴張不同。
圖5為說明實施例及比較例之奈米細縫相關評價項目的概略圖。
圖6為說明實施例及比較例之奈米細縫相關評價項目的概略圖。
圖7為顯示有關實施例及比較例評價之奈米細縫所致裂紋的照片之一例。
圖8為顯示有關實施例及比較例評價之貫通裂紋之進 行的照片之一例。
圖9為影像顯示裝置之連續製造系統的示意性剖面圖之一例。
用以實施發明之形態
以下，邊參照圖1及2邊說明本發明之單面保護偏光薄膜11、以及附黏著劑層之偏光薄膜12。單面保護偏光薄膜10(無透明樹脂層3的情形)是例如圖1所示般，僅於偏光件1的單面具有透明保護薄膜2。雖未圖示，但偏光件1與透明保護薄膜2係透過如接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層而積層。又雖未圖示，但單面保護偏光薄膜10可於透明保護薄膜2上或設置易接著層或施加活性化處理，而使該易接著層與接著劑層積層。本發明之單面保護偏光薄膜11(附有透明樹脂層3)係如圖1所示，在單面保護偏光薄膜10上，於前述偏光件1的另一面(沒有透明保護薄膜2的面)設置透明樹脂層3，其係由含聚乙烯醇系樹脂的形成材所形成。
又，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜12，係如圖2所示，具有單面保護偏光薄膜(附有透明樹脂層)11與黏著劑層4。黏著劑層4，在圖2(A)中是設在透明樹脂層3之側，而在圖2(B)則設於透明保護薄膜2之側。此外，在本發明之附黏著劑層之偏光薄膜12的黏著劑層4上可設置分離件5，其相反側可設置表面保護薄膜6。圖2的附黏著劑層之偏光薄膜12，是顯示分離件5與表面保護薄膜6均設置的情形。 至少具有分離件5的附黏著劑層之偏光薄膜12(進一步為具有表面保護薄膜6者)，可作為捲繞物來使用，並如後述有利於適用在例如將從捲繞物輸出並利用分離件5輸送的附黏著劑層之偏光薄膜12透過黏著劑層4貼合於影像顯示面板表面的方法(以下，亦稱為「卷材至面板法)」。代表性地如日本專利第4406043號說明書)。從貼合後抑制顯示面板的翹曲及抑制奈米細縫的發生抑制等觀點來看，附黏著劑層之偏光薄膜宜為如圖2(A)記載的態樣。表面保護薄膜6可設置於單面保護偏光薄膜10上、單面保護偏光薄膜(附有透明樹脂層)11上。
圖3是對比生成於偏光件之奈米細縫a與貫通裂紋b的概念圖。圖3(A)顯示生成於偏光件1的奈米細縫a；而圖3(B)顯示生成於偏光件1的貫通裂紋b。奈米細縫a是因機械衝撃而產生，於偏光件1之吸收軸方向部分地發生，奈米細縫a雖無法在已發生當時予以確認，但能夠在熱環境下(例如80℃或60℃下90%RH)，經由往橫向的擴大而予以確認。另一方面，奈米細縫a被認為並不具有沿偏光件吸收軸方向延伸的進行性。又，前述奈米細縫a被認為是在無關乎偏光薄膜尺寸下產生。奈米細縫a除了單獨生成外，也有鄰接而生者。另一方面，貫通裂紋b是因熱衝撃(例如，熱震試驗)而生。貫通裂紋具有沿著已生成裂紋之偏光件的吸收軸方向延伸的進行性。貫通裂紋b已發生時，周邊應力會被解放，故貫通裂紋並不會鄰接而生。
圖4為單面保護偏光薄膜10、或附透明樹脂層之 單面保護偏光薄膜11的剖面圖照片之一例，其係關於偏光件所生奈米細縫a的發生與擴張、修復。圖4(A)為僅於偏光件1單面透過接著劑層2a設有透明保護薄膜2的單面保護偏光薄膜10，在未發生奈米細縫時之一例。圖4(B)為單面保護偏光薄膜10發生奈米細縫a的情形之一例。圖4(A)與(B)均為加熱前。又，圖4(C)為將出現有奈米細縫a之單面保護偏光薄膜10進行加熱後的剖面圖照片之一例。就圖4(C)可知，偏光件1的奈米細縫a正由於加熱而擴張。另一方面，圖4(D)是在已發生奈米細縫a之單面保護偏光薄膜10上形成有透明樹脂層3(厚度1μm)的附透明樹脂層單面保護偏光薄膜11之剖面圖照片之一例。就圖4(D)可知，生成於偏光件1的奈米細縫a係經由透明樹脂層3而修復(a')。又，圖4(E)是已形成透明樹脂層3(厚度1μm)之附透明樹脂層單面保護偏光薄膜11經加熱後的剖面圖照片之一例。就圖4(E)可知，在加熱後，經修復(a')的奈米細縫沒有擴張。圖4(F)，是在已發生奈米細縫a之單面保護偏光薄膜10上形成有透明樹脂層3'(厚度0.1μm)的附透明樹脂層單面保護偏光薄膜11'的剖面圖照片之一例。就圖4(F)可知，雖設置透明樹脂層3'但厚度薄，偏光件1的奈米細縫a因加熱而擴張。圖4是垂直於試樣的吸收軸方向以剖面研磨機或切片機(microtome)作剖面切削，並以掃描式電子顯微鏡進行觀察。
<偏光件>
本發明中，是使用厚度10μm以下的偏光件。偏光件的厚度，從薄型化及抑制貫通裂紋發生的觀點來看，宜為8μm 以下，進一步宜為7μm以下，更甚為6μm以下。另一方面，偏光件的厚度宜為2μm以上，進一步宜為3μm以上。這樣的薄型偏光件，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
偏光件係採用使用了聚乙烯醇系樹脂之物。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸著碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。該等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
以碘將聚乙烯醇系薄膜染色並單軸延伸而成的偏光件，例如可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液而染色並將其延伸成原長之3~7倍來製作。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或亦可含硫酸鋅或氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。此外亦可因應需求於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中予以水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此以外藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
偏光件，從延伸安定性或光學耐久性此點而言，宜為含有硼酸者。又，偏光件所含硼酸含量，從抑制貫通 裂紋及奈米細縫的發生及抑制擴張的觀點來看，相對於偏光件總量宜為25重量%以下，進一步宜為20重量%以下，進一步為18重量%以下，更以16重量%以下為宜。當偏光件所含硼酸含量超過20重量%時，即便將偏光件厚度控制在10μm以下，偏光件的收縮應力仍高而變得容易發生貫通裂紋，故並不適宜。另一方面，從偏光件的延伸安定性或光學耐久性之觀點來看，相對於偏光件總量的硼酸含量宜為10重量%以上，進而宜為12重量%以上。
作為薄型偏光件，代表性地可舉如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等所記載的薄型偏光件，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光件。
前述偏光件，係構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)；或P≧99.9(惟T≧42.3)。所謂構造成滿足前述條件的偏光件，毫無疑義地是具有使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器所求的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2以上。其他用途方面，例如貼合在有機EL顯示裝置的可見側。
另一方面，構造成滿足前述條件的偏光件，由於構成的高分子(例如聚乙烯醇系分子)展示高配向性，故與厚度10μm以下此點相輔相成，而偏光件吸收軸方向之垂直方 向的拉張破裂應力顯著變小。其結果，例如在偏光薄膜製造過程中當承受超過該拉張破裂應力的機械衝撃時，奈米細縫沿偏光件吸收軸方向生成的可能性極高。因此，本發明尤適於採用了該偏光件的單面保護偏光薄膜(或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜)。
作為前述薄型偏光件，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜可藉由含有下述步驟之製法製得：將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層及延伸用樹脂基材以積層體之狀態予以延伸的步驟及進行染色的步驟。若為該製法，PVA系樹脂層再薄，仍可藉由被延伸用樹脂基材所支持而在無延伸所致之破斷等瑕疵下進行延伸。
<透明保護薄膜>
作為構成上述透明保護薄膜之材料，以透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮斷性、等向性等優異者為宜。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯醯系聚合物；聚苯乙烯及丙 烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成上述透明保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
此外，透明保護薄膜中亦可含有1種類以上的任意適當添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，有熱可塑性樹脂無法充分顯現原本所具之高透明性等之虞。
作為前述透明保護薄膜，可以也使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為透明保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏 光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如將熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差值、薄膜材料及厚度來作適當設定。
透明保護薄膜的厚度可適當決定，惟一般由強度及操作性等作業性、薄層性等觀點，係為1~500μm的程度。尤以1~300μm為佳，5~200μm較佳，進一步為5~150μm，特別是20~100μm之薄型尤為理想。
在前述透明保護薄膜未接著偏光件的面(尤其是圖1的態樣)上，可設置硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層乃至抗眩層等機能層。此外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層，除可設置於透明保護薄膜本身以外，亦可另外設成與透明保護薄膜為個別體。
<中介層>
前述透明保護薄膜與偏光件係透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層而積層。此情形時，期望經由中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。
接著劑層係由接著劑所形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑為理想。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著 劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑一般係作為由水溶液所構成之接著劑使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分而形成。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子射線、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子線硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在使用光自由基硬化型活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型之時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合起始劑。
接著劑的塗佈方式，是依接著劑的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗佈方式之例，可舉例如逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。其他方面，塗布可適當使用浸塗法等方式。
又，前述接著劑的塗佈，在使用水系接著劑等時，宜以使最終形成之接著劑層厚度呈30~300nm的方式進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~250nm。另一方面，在使用活性能量線硬化型接著劑的情形時，宜以使前述接著劑層的厚度呈0.1~200μm的方式進行。較佳為0.5~50μm，更佳為0.5~10μm。
此外，在偏光件與透明保護薄膜的積層時，透明保護薄膜與接著劑層之間，可設置易接著層。易接著層可由具有例如下述骨架的各種樹脂所形成：聚酯骨架、聚醚 骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，易接著層的形成方面亦可加入其他的添加劑。具體而言亦可進一步使用黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑等安定劑等等。
易接著層，通常預先設在透明保護薄膜上，該透明保護薄膜之易接著層側與偏光件藉著接著劑層而積層。易接著層的形成，是經由將易接著層的形成材以習知技術塗佈在透明保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層的形成材，通常會經過調整，考量乾燥後的厚度、塗佈的圓滑性等而稀釋成適當濃度的溶液。易接著層乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更佳為0.02~2μm，更佳為0.05~1μm。而且，易接著層雖可設置多層，但此時仍宜使易接著層的總厚度在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑所形成。作為黏著劑，可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。因應前述黏著劑的種類而選擇黏著性的基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝聚性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異此點來看，以使用丙烯醯系黏著劑為佳。
底塗層(底漆層)係為了使偏光件與保護薄膜的密 著性提升而形成。構成底漆層的材料，只要是對基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層兩者發揮一定程度的強密著力的材料即可，並無特別限定。例如，可使用透明性、熱安定性、延伸性等優良的熱可塑性樹脂等等。作為熱可塑性樹脂，可舉例如丙烯醯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
<透明樹脂層>
透明樹脂層，是由含有聚乙烯醇系樹脂的形成材所形成。形成透明樹脂層的聚乙烯醇系樹脂，限於「聚乙烯醇系樹脂」，可為與偏光件所含聚乙烯醇系樹脂相同，亦可相異。
透明樹脂層，係可將前述形成材藉由例如塗於偏光件的方式來形成。透明樹脂層，在僅於偏光件單面具透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜之中，是設在偏光件的另一面(沒有透明保護薄膜的面)。前述單面保護偏光薄膜在貼合於影像顯示面板後，於處理時有時會被賦與如同使偏光件朝影像顯示面板側凸起彎曲般的機械衝撃。此時，偏光件的凸側尖端處應力集中，偏光件裂開從而形成奈米細縫。前述透明樹脂層在以聚乙烯醇樹脂構成的形成材來構製的情形，係例如在偏光件的凸側形成透明樹脂層。前述透明樹脂層，由於是硼酸含量低的聚乙烯醇構成的層，故對於應力或彎曲不容易產生損害。即便應力集中在偏光件的凸部分，藉由前述透明樹脂層的形成，透明樹脂層緩和應力故能夠抑制偏光件之奈米細縫的發生。又，一旦使用 聚乙烯醇系樹脂作為作為透明樹脂層，在透明樹脂層的形成過程中偏光件所含硼酸部分滲出至透明樹脂層，從而降低偏光件中的硼酸含量，故偏光件本身亦難以有奈米細縫發生。若透明樹脂層的厚度在0.2μm以上，則能有效抑制如前所述之在貼合於影像顯示面板等後進行處理所致之奈米細縫的發生。前述透明樹脂層的厚度宜為0.5μm以上，進一步宜為0.7μm以上。另一方面，一旦透明樹脂層變得過厚，光學可靠度與耐水性就會低落，故透明樹脂層的厚度宜低於3μm，進一步宜在2μm以下。又，前述透明樹脂層亦能夠抑制，當置於加熱環境下時奈米細縫往橫向擴大的狀況發生。偏光件生成的奈米細縫係因機械衝撃而生，而在熱環境下奈米細縫往橫向擴大，惟前述由含聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成的透明樹脂層，即便在熱環境下透明樹脂層的機械保持能力仍能維持，而可抑制奈米細縫往橫向的擴大。
又，透明樹脂層宜控制在結晶熔解熱30mj/mg以上。透明樹脂層是由以水溶性聚乙烯醇系樹脂作為主成分的形成材所形成，惟藉由使透明樹脂層的結晶熔解熱在30mj/mg以上，可以滿足透明樹脂層的耐濕熱性及耐水性。前述透明樹脂層的結晶熔解熱，是根據實施例之記載所測定的值。前述透明樹脂層的結晶熔解熱宜為40mj/mg以上，進而宜為50mj/mg以上。透明樹脂層的結晶熔解熱，可依聚乙烯醇系樹脂的種類、聚乙烯醇系樹脂的皂化度、聚合度、還有可用於形成材的硬化性成分(交聯劑等的使用比率、是 否添加)等，來進行調整。
前述聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇。聚乙烯醇，是藉由將聚醋酸乙烯皂化而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉如，醋酸乙烯與具共聚性之單體的共聚體的皂化物。前述具共聚性之單體為乙烯時，係獲得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚性之單體可舉如：(無水)馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼鹽、N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯吡咯啶酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。從使前述透明樹脂層之結晶熔解熱控制在30mj/mg以上而滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，宜為醋酸乙烯皂化所得的聚乙烯醇。
前述聚乙烯醇系樹脂的皂化度，可使用例如在88%以上之物，惟宜使用95%以上之物。由前述將透明樹脂層的結晶熔解熱控制在30mj/mg以上而滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，皂化度在99%以上較佳，進而在99.7%以上為佳。皂化度是表示，在可因皂化而變換成乙烯醇單元的單元中，實際上皂化成乙烯醇單元的單元比率，殘基為乙烯酯單元。皂化度係以JIS K 6726-1994為準而求得。
前述聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，可使用例如500以上之物，惟由前述將透明樹脂層的結晶熔解熱控制在30mj/mg以上而滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，平均聚 合度宜為1000以上，更以1500以上為佳，更以2000以上為佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係以JIS-K6726為準進行測定。
又可使用在前述聚乙烯醇或其共聚物的側鏈具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂，作為前述聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基，可舉例如乙醯乙醯基、羰基等。其他方面，可使用將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺甲酸乙酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成的改質聚乙烯醇。
本發明之透明樹脂層，是由前述含聚乙烯醇系樹脂作為主成分之形成材所形成，惟前述形成材中可含有硬化性成分(交聯劑)等。透明樹脂層或形成材(固成分)中的聚乙烯醇系樹脂比率，宜為80重量%以上，更宜為90重量%以上，更宜為95重量%以上。不過，前述形成材中，從容易將透明樹脂層之結晶熔解熱控制在30mj/mg以上的觀點來看，宜不含硬化性成分(交聯劑)。
作為交聯劑，可使用具有至少2個反應性官能基(對聚乙烯醇系樹脂有反應性)的化合物。可舉例如，乙二胺、三乙二胺、己二胺等具有伸烷基及2個胺基的伸烷基二胺類；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯及其等的酮肟嵌段物或酚嵌段等異氰酸酯類；乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、丙三醇二或三環氧丙基醚、 1,6-己烷二元醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、二環氧丙基苯胺、二環氧丙基胺等環氧化物類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、酞二醛等二醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙醯胍胺、苯并胍胺與甲醛的縮合物等胺基-甲醛樹脂；己二酸二醯肼、草酸二醯肼、丙二酸二醯肼、琥珀酸二醯肼、戊二酸二醯肼、異苯二甲酸二醯肼、癸二酸二醯肼、馬來酸二醯肼、延胡索酸二醯肼、伊康酸二醯肼等二羧酸二醯肼；乙烯-1,2-二肼、丙烯-1,3-二肼、丁烯-1,4-二肼等水溶性二肼。其等之中，係以胺基-甲醛樹脂及水溶性二肼為佳。胺基-甲醛樹脂宜為具有羥甲基的化合物。其等之中以作為具羥甲基之化合物的羥甲基三聚氰胺尤為理想。
可由提升耐水性的觀點而使用前述硬化性成分(交聯劑)，惟其比率宜相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份而為20重量份以下、10重量份以下、5重量份以下。
前述形成材，係調整成使前述聚乙烯醇系樹脂溶解於溶劑而成的溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺-N-甲基吡咯啶酮、各種二醇類、醇類、乙二胺、二乙烯三胺等胺類。其等可單獨使用，或組合二種以上來使用。此等之中，宜採用使用了水為溶劑的水溶液。前述形成材(例如水溶液)之中，前述聚乙烯醇系樹脂的濃度雖無特別限制，但若考量塗佈性及放 置安定性等，係為0.1~15重量%，較佳為0.5~10重量%。
此外，前述形成材(例如水溶液)中，作為添加劑可舉例如可塑劑、界面活性劑等。可塑劑可舉例如乙二醇及丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。再者亦可搭配矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、各種黏著賦與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑、耐水解安定劑等安定劑等等。
可藉由將前述形成材塗佈在偏光件的另一面(沒有透明保護薄膜的面)並進行乾燥而形成前述透明樹脂層。前述形成材的塗布，係以使乾燥後厚度在0.2μm以上的方式實施。塗佈操作沒有特別限制，可以採用任意的適當方法。例如可採用輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模具塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗形刮刀式塗佈法等)等各種手段。
<黏著劑層>
黏著劑層之形成方面可使用適當的黏著劑，就其種類並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又適合使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝聚性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，以使用丙烯醯系黏著劑為佳。
就形成黏著劑層之方法而言，例如可藉由下述方法來進行製作：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理之分離件等，將聚合溶劑等乾燥除去形成黏著劑層後，就圖2(A)的態樣轉印至偏光件(或就圖2(B)的態樣是轉印至透明保護薄膜)的方法；或就圖2(A)的態樣而將前述黏著劑塗佈於偏光件(就圖2(B)的態樣是透明保護薄膜)，將聚合溶劑等乾燥除去而於偏光件形成黏著劑層的方法等等。而，在塗佈黏著劑時，可適當新加入聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
經剝離處理之分離件，宜使用聚矽氧剝離襯墊。於此種襯墊上塗佈本發明之黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，作為使黏著劑乾燥之方法，可因應目的而採用適宜且適切的方法。理想係使用將上述塗佈膜加熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。藉由將加熱溫度設成上述範圍，可獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適宜且適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分，更佳為5秒~10分，尤佳為10秒~5分。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等等方法。
黏著劑層的厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較佳為2~40μm，更佳為5~35μm。
前述黏著劑層露出時，在供給於實用前，亦可以經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可以列舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片物等等，惟從表面平滑性優良此點來看，適宜採用塑膠薄膜。
就其塑膠薄膜方面，只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm，宜為5~100μm左右。對於前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高自前述黏著劑層之剝離性。
<表面保護薄膜>
於單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜上可設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並隔著該黏著劑層保護偏光件。
表面保護薄膜的基材薄膜，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯醯系樹脂般透明的聚合物。此等之中以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。基材薄膜的厚度，通常為500μm以下，宜為10~200μm。
形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑方面，可適當選擇並使用以(甲基)丙烯醯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等的聚合物作為基底聚合物的黏著劑。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，宜為以丙烯醯系聚合物作為基底聚合物的丙烯醯系黏著劑。黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)，係因應所需黏著力來決定。通常為1~100μm左右，宜為5~50μm。
此外，表面保護薄膜中，可以在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料，來設置剝離處理層。
<其他光學層>
本發明之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜，在實際使用時可使用已與其他光學層積層的光學薄膜。該光學層方面並無特別限定，可使用1層或2層以上之例如反射板及半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長 板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等的某種光學層。尤為理想的是，本發明之單面保護偏光薄膜再積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜、偏光薄膜再積層相位差板而成的楕圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、偏光薄膜再積層視角補償薄膜而成的廣視野角偏光薄膜、或是偏光薄膜再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
在單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜上積層有上述光學層的光學薄膜，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序個別積層之方式形成，惟預先積層製成光學薄膜者，則具有品質穩定性及組裝作業等優良而能提升液晶顯示裝置等之製程的優點。積層方面可使用黏著層等適當的接著手段。上述附黏著劑層之偏光薄膜及其他光學層在接著時，其等之光學軸可因應作為目的之相位差特性等製成適當的配置角度。
本發明之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜，可適宜使用在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等等。液晶顯示裝置的形成，可依習知為準而實施。即，液晶顯示裝置一般係藉由將液晶胞與附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，而在本發明中，除使用本發明之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜此點以外無特別限定，可依習知為準。液晶胞方面亦可使用例如IPS型、VA型等等 任意類型，惟以IPS型尤為理想。
可形成下述的液晶顯示裝置：在液晶胞的單側或兩側配置有單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置；或於照明系統使用背光或反射板者等之適當的液晶顯示裝置。此情形時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜可設置在液晶胞的單側或兩側。於兩側設置單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜時，該等可相同亦可互異。此外，於液晶顯示裝置之形成時，可以將例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。
<影像顯示裝置之連續製造方法>
上述影像顯示裝置，宜以包含下述步驟的連續製造方法(卷材至面板法)來製造：從本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物(卷材)輸出附黏著劑層之偏光薄膜並利用前述分離件輸送，且將所輸送的前述附黏著劑層之偏光薄膜透過前述黏著劑層連續貼合於影像顯示面板表面。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜由於是非常薄的薄膜，故一旦利用切成片狀(薄片裁切)再每1片貼合於影像顯示面板上的方式(亦稱為「片材至面板法」)，在片材輸送及貼合至顯示面板時的操作就會很困難，且在該等過程中附黏著劑層之偏光薄膜(片材)受到大的機械衝撃(例如，吸著所致撓曲等)的風險會變高。為了降低此種風險，會變成另行需要例如使用基材薄膜厚度達50μm以上之厚的表面保護薄膜等對策。另 一方面，若以卷材至面板法，則附黏著劑層之偏光薄膜毋須切成片狀(薄片裁切)，藉由連續狀的分離件從卷材穩定輸送至影像顯示面板，就此貼合於影像顯示面板上，因此毋須使用厚的表面保護薄膜，能夠大幅降低上述風險。其結果，能夠高速連續生產一種影像顯示裝置，其不僅有效抑制了透明樹脂層形成前奈米細縫之發生所致缺陷，亦能有效抑制透明樹脂層形成後奈米細縫之發生所致缺陷。
圖9是顯示採用了卷材至面板法之液晶顯示裝置連續製造系統之一例的概略圖。
液晶顯示裝置之連續製造系統100，係如圖9所示，包含輸送液晶顯示面板P的一系列輸送部X、第1偏光薄膜供給部101a、第1貼合部201a、第2偏光薄膜供給部101b、以及第2貼合部201b。
此外，使用縱向具有吸收軸且為圖2(A)所記載態樣之物，作為第1附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物(第1卷材)20a以及第2附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物(第2卷材)20b。
(輸送部)
輸送部X係輸送液晶顯示面板P。輸送部X具有複數個輸送輥及吸著板等而構成。輸送部X，在第1貼合部201a與第2貼合部201b之間，包括一配置調換部300，其於相對於液晶顯示面板P的輸送方向將液晶顯示面板P的長邊與短邊的配置關係調換(例如，90°水平旋轉液晶顯示面板P)。藉此，可相對於液晶顯示面板P，使第1附黏著劑層之偏光薄 膜21a及第2附黏著劑層之偏光薄膜21b以正交偏光(cross nicol)的關係貼合。
(第1偏光薄膜供給部)
第1偏光薄膜供給部101a，是將從第1卷材20a輸出並利用分離件5a輸送的第1附黏著劑層之偏光薄膜(附表面保護薄膜)21a連續供給至第1貼合部201a。第1偏光薄膜供給部101a，具有第1輸出部151a、第1裁切部152a、第1剝離部153a、第1捲取部154a、及複數個輸送輥部、浮動輥等累積部等。
第1輸出部151a，具有設置第1卷材20a的輸出軸，從第1卷材20a輸出已設置分離件5a的帶狀附黏著劑層之偏光薄膜21a。
第1裁切部152a，具有切斷器、雷射裝置等裁切手段及吸著手段。第1裁切部152a，是持續留下分離件5a而將帶狀的第1附黏著劑層之偏光薄膜21a以所定長度橫向裁切。不過，在使用了已以所定長度橫向形成有複數個切痕線的帶狀附黏著劑層之偏光薄膜21a積層在分離件5a上之物(含切口的光學薄膜卷材)作為第1卷材20a的情形時，即變成不需要第1裁切部152a(後述的第2裁切部152b亦同)。
第1剝離部153a，藉由將分離件5a以內側折回，而將第1附黏著劑層之偏光薄膜21a從分離件5a剝離。作為第1剝離部153a可舉如楔型部件、輥等。
第1捲取部154a，是將第1附黏著劑層之偏光薄膜21a已剝離的分離件5a加以捲取。第1捲取部154a具有捲取 軸，其設置了用於捲取分離件5a的輥筒。
(第1貼合部)
第1貼合部201a，係將業經第1剝離部153a剝離的第1附黏著劑層之偏光薄膜21a，透過第1附黏著劑層之偏光薄膜21a的黏著劑層連續貼合在利用輸送部X輸送的液晶顯示面板P上(第1貼合步驟)。第1貼合部81具有一對貼合輥而構成，貼合輥之至少一者以驅動輥構成。
(第2偏光薄膜供給部)
第2偏光薄膜供給部101b，是將從第2卷材20b輸出並利用分離件5b輸送的第2附黏著劑層之偏光薄膜(附表面保護薄膜)21b連續供給至第2貼合部201b。第2偏光薄膜供給部101b，具有第2輸出部151b、第2裁切部152b、第2剝離部153b、第2捲取部154b、及複數個輸送輥部、浮動輥等累積部等等。此外，第2輸出部151b、第2裁切部152b、第2剝離部153b、第2捲取部154b，分別具有與第1輸出部151a、第1裁切部152a、第1剝離部153a、第1捲取部154a相同的構造及機能。
(第2貼合部)
第2貼合部201b，係將業經第2剝離部153b剝離的第2附黏著劑層之偏光薄膜21b，透過第2附黏著劑層之偏光薄膜21b的黏著劑層連續貼合在利用輸送部X輸送的液晶顯示面板P上(第2貼合步驟)。第2貼合部201b具有一對貼合輥而構成，貼合輥之至少一者以驅動輥構成。
實施例
以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃ 65%RH。
<單面保護偏光薄膜A>
(偏光件A0的製作)
於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上，施加電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作積層體。
將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。
接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。
接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達所定的穿透率。本實施例中，使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。
接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水， 摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。
然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。
然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)(洗淨處理)。
經由上述，獲得含厚度5μm偏光件的光學薄膜積層體。
(偏光件A0~A8的製作)
就上述偏光件A0的製作，將製造條件改變為如表1所示者，除此之外以和偏光件A0的製作相同方式來製作偏光件A1~A8。偏光件A1~A8的厚度、光學特性(單體穿透率、偏光度)、硼酸濃度顯示於表1。
[表1]
(透明保護薄膜的製作)
透明保護薄膜：在厚度40μm具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施以電暈處理而使用。
(適用於透明保護薄膜之接著劑的製作)
將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光起始劑「IRGACURE 819」(BASF公司製)3重量份混合，調製紫外線硬化型接著劑。
(單面保護偏光薄膜A的製作)
在上述光學薄膜積層體之偏光件A0~A8的表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使硬化後接著劑層厚度達0.5μm的方式塗佈，一邊貼合上述透明保護薄膜，然後，照射作為活性能量線的紫外線，使接著劑硬化。紫外線的照射，是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，而紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。接著，將非晶性PET基材剝離，製作使用了薄型偏光件的單面保護偏光薄膜A0~A8。將所得單面保護偏光薄膜A0~A8的光學特性(單體穿透率、偏光度)顯示於表2。
<單面保護偏光薄膜B>
(偏光件B(厚度23μm之偏光件)的製作)
將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度75μm的聚乙烯醇薄膜，浸漬於30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%的水溶液，一邊使 其延伸至3.5倍一邊將薄膜染色。然後，在65℃的硼酸酯水溶液中進行延伸以使總計延伸倍率達6倍。延伸後，以40℃烘箱進行3分鐘的乾燥，獲得PVA系偏光件(厚度23μm)。
(單面保護偏光薄膜B的製作)
在上述PVA系偏光件的單面，以和單面保護偏光薄膜A相同方式，透過上述紫外線硬化型接著劑貼合上述透明保護薄膜。所得單面保護偏光薄膜B的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
<單面保護偏光薄膜C>
(偏光件C的製作)
於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：130μm)基材的單面上，施加電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作積層體。
使用同時雙軸延伸機，在110℃下使所得的積層體於第1方向(MD)收縮30%收縮且同時於第2方向(TD)進行5.0倍空中延伸(延伸處理)。
接著，將積層體浸漬在25℃碘水溶液(碘濃度：0.2重量%，碘化鉀濃度：1.4重量%)中40秒(染色處理)。
將染色後的積層體浸漬在60℃硼酸水溶液(硼酸濃度：5 重量%，碘化鉀濃度：5重量%)80秒(交聯處理)。
交聯處理後，將積層體浸漬在25℃碘化鉀水溶液(碘化鉀濃度：5重量%)20秒(洗淨處理)。
經由上述，獲得含厚度3μm偏光件的光學薄膜積層體。
(單面保護偏光薄膜的製作)
在積層體的偏光件側透過乙烯醇系接著劑貼合保護薄膜(厚度：40μm，富士軟片公司製，商品名「Z-TAC ZRD40SL」)。接著，將非晶性PET基材剝離，製作使用了薄型偏光件的單面保護偏光薄膜C。所得單面保護偏光薄膜C的光學特性為穿透率38.4%、偏光度99.99%。
<單面保護偏光薄膜D的製作>
(偏光件D(厚度12μm之偏光件)的製作)
將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度30μm的聚乙烯醇薄膜浸漬在30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬在碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%的水溶液中，一邊使其延伸至3.5倍一邊將薄膜染色。然後，在65℃的硼酸酯水溶液中進行延伸以使總延伸倍率達6倍。延伸後，以40℃烘箱進行3分鐘的乾燥，獲得PVA系偏光件。所得偏光件的厚度為12μm。
(單面保護偏光薄膜D的製作)
在上述PVA系偏光件的單面，以和單面保護偏光薄膜A相同方式，透過上述紫外線硬化型接著劑貼合上述透明保護薄膜。所得單面保護偏光薄膜D的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
<透明樹脂層的形成材>
(聚乙烯醇系形成材A)
將聚合度2500、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JC-25)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材B)
將聚合度2500、皂化度99.7莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JC-25H)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材C)
將聚合度1700、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JC-17)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材D)
將聚合度1000、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JC-10)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材E)
將聚合度500、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JC-05)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材F)
將聚合度2500、皂化度98.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JF-2500)溶解於純 水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材G)
將聚合度2500、皂化度96.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JM-2500)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材H)
將乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」))溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材I)
將乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」))100份，與羥甲基三聚氰胺(DIC公司製，商品名「WATER SOL：S-695」)5份溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材J)
將乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」))100份、與羥甲基三聚氰胺(DIC公司製，商品名「WATER SOL：S-695」)20份溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材K)
將羰基改質聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司 製，商品名「DC-17」))溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材L)
將羰基改質聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名「DC-17」))100份、與二肼(己二酸二醯肼)10份溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材M)
將聚合度2000、皂化度99.4莫耳%的聚乙烯醇樹脂(日本合成化學工業公司製，商品名「NH-20」)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材N)
將聚合度1700、皂化度97.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(日本合成化學工業公司製，商品名「AH-17」)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材O)
將聚合度1700、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(Kuraray公司製，商品名「PVA117」)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材P)
將聚合度4000、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JC-40)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材Q)
將聚合度1700、皂化度96.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂 (JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JM-17)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材R)
將聚合度1400、皂化度88.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(日本合成化學工業公司製，商品名「GM-14」)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材S)
將聚合度1300、皂化度93.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(Kuraray公司製，商品名「PVA613」)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材T)
將聚合度1700、皂化度94.5莫耳%的聚乙烯醇樹脂(Kuraray公司製，商品名「PVA617」)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材U)
將聚合度3300、皂化度94.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JM-33)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
(聚乙烯醇系形成材V)
將聚合度500、皂化度94.5莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAN & POVAL公司製，商品名：JT-05)溶解於純水，調製固成分濃度4重量%的水溶液。
<黏著劑層的形成>
將丙烯酸丁酯100份、丙烯酸3份、丙烯酸2-羥乙酯0.1 份及2,2'-偶氮雙異丁腈0.3份與醋酸乙酯一起加入配備了冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器中，調製溶液。接著，一邊對該溶液灌入氮氣一邊攪拌，在55℃下使其反應8小時，獲得含有重量平均分子量220萬之丙烯醯系聚合物的溶液。進一步，在含有該丙烯醯系聚合物的溶液中加入醋酸乙酯，而獲得固成分濃度調整成30%的丙烯醯系聚合物溶液。
相對於前述丙烯醯系聚合物溶液之100份固成分，依序摻混作為交聯劑之0.5份的以具異氰酸酯基化合物為主成分的交聯劑(日本聚胺酯(股)公司製，商品名「CORONATE L」)、作為矽烷偶合劑之0.075部的γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股)製，商品名「KMB-403」)，調整黏著劑溶液。在經剝離處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度38μm)構成的離型片材(分離件)表面上，塗佈上述黏著劑溶液以使乾燥後厚度達25μm並乾燥，形成黏著劑層。
實施例1
<製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜>
在上述單面保護偏光薄膜A的偏光件面(沒有設置透明保護薄膜的偏光件面)上，以乾燥後厚度成為1μm的方式以線棒塗佈機塗佈已調整成25℃之上述形成材A後，在60℃下熱風乾燥1分鐘，製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
<附黏著劑層之偏光薄膜的製作>
接著，於單面保護偏光薄膜在已形成之透明樹脂層 上，則合上述離型片材(分離件)之已形成於剝離處理面的黏著劑層，製作附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~33、比較例1~7
針對實施例1，將單面保護偏光薄膜的種類、透明樹脂層的厚度、經使用作為形成材之聚乙烯醇系樹脂的種類、是否摻混交聯劑(交聯劑的摻混份量是相對於100份聚乙烯醇系樹脂之值)變換成如表2所示者，除此之外，以和實施例1相同方式，製作單面保護偏光薄膜、附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜。
對上述實施例及比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜進行下述評價。結果顯示於表2。
<偏光件之單體穿透率T及偏光度P>
使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)，測定所得單面保護偏光薄膜的單體穿透率T及偏光度P。
此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的透射率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。
<偏光件中硼酸含量之測定>
就實施例及比較例所得之偏光件，使用傅立葉轉換紅外線分光光度計(FTIR)(Perkin Elmer公司製，商品名「SPECTRUM 2000」)，經由以偏振光作為測定光之全反射衰減分光(ATR)測定法來測定硼酸峰(665cm-1)的強度及參照峰(2941cm-1)的強度。由所得硼酸峰強度及參照峰強度經由下式算出硼酸量指數，再由算出的硼酸量指數透過下式決定硼酸含量(重量%)。
(硼酸量指數)=(硼酸峰665cm-1的強度)/(參照峰2941cm-1的強度)
(硼酸含量(重量%))=(硼酸量指數)×5.54+4.1
<透明樹脂層結晶熔解熱的測定>
使用DSC裝置(SEIKO Instruments公司製，EXSTAR DSC6000)，在升溫速度10℃/min下測定結晶熔解熱(mj/mg)。
測定試樣亦可為原料本身的粉體，亦可為將PVA水溶液(固成分4%)塗佈於PET薄膜以使乾膜厚達數μm，並使其乾燥而得的PVA薄膜。測定試樣在23℃ 50%RH環境下進行24小時老化，將所得試樣3mg投入DSC的試樣盤，測定DSC。 測定條件表示如下。1stRun‧在-30℃下保持3分鐘，然後以10℃/min升溫至300℃‧以30℃/min從300℃降溫至-30℃；2ndRun‧在-30℃下保持3分鐘，然後以10℃/min升溫至300℃‧以30℃/min從300℃降溫至-30℃
經由測定所得的數據中2ndRun的升溫過程中，以從190℃至230℃觀測的吸熱峰作為結晶熔解熱量，由其面積算出 結晶熔解熱(mj/mg)。
<透明樹脂層之形成材的適用期(pot life)>
使用Rheometer RS1(Haake公司製)、型號222-1267之共軸圓筒，在23℃的液溫及氣溫下測定形成材(水溶液)的黏度(cps)。
測試形成材(水溶液)調製後即刻的黏度X以及調製後經過6小時時的黏度Y。以前述黏度X為基準，黏度Y在2倍以下時評價為「○」，超過2倍時評價為「×」。
<奈米細縫之發生抑制評價：吉他彈片試驗>
將所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm尺寸(吸收軸方向為50mm)作為試樣11。試樣11是在透明保護薄膜2側貼合以下述方法製作而成的表面保護薄膜6來使用。
(試驗用的表面保護薄膜)
將190℃時熔流速率2.0g/10min之密度0.924g/cm3的低密度聚乙烯構成的基材成形材料供給至共擠壓用吹膜成形機。
同時將230℃時熔流速率10.0g/10min密度0.86g/cm3的丙烯-丁烯共聚物(以質量比丙烯：丁烯=85：15，雜排結構)構成的黏著成形材料供給至模溫220℃的吹膜成形機，進行共擠出成形。藉此，製造由厚度33μm之基材層與厚度5μm之黏著劑層構成的表面保護薄膜。
接著，如圖5(A)之概念圖及圖5(B)之剖面圖所示 般，將離型片材(分離件)從該試樣剝離，透過已露出的黏著劑層4貼附在玻璃板20上。接著，對著試樣11(表面保護薄膜6側)的中央部，透過吉他彈片(HISTORY公司製，型號「HP2H(HARD)」)負載200g的荷重，在試樣11中偏光件1之吸收軸的直交方向於100mm的距離重覆進行來回50次的荷重負荷。前述荷重負荷係於1處進行。
接著，將試樣11放置在80℃的環境下1小時後，依下述基準，確認試樣11是否有漏光的裂紋。
A：未發生。
B：1~100個。
C：101個以上。
<奈米細縫的擴張抑制評價：搖滾(Rock and Roll)試驗>
進行此試驗之時，是在實施例及比較例製作單面保護偏光薄膜後，經由後述之方法，在形成透明樹脂層前的單面保護偏光薄膜10中的偏光件1製作裂痕。然後，製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜11。
而後，將該附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜11放置在80℃環境下1小時後，依下述基準，確認試樣11是否有漏光的裂紋。
A：未發生。
B：1~100個。
C：101~200個。
D：201個以上。
裂痕的製作方法
將所得單面保護偏光薄膜10裁切成50mm×150mm(吸收軸方向為50mm)的尺寸。試樣10係於透明保護薄膜2之側貼合上述試驗用表面保護薄膜6來使用。
如圖6(A)之概念圖及圖6(B)之剖面圖所示，在玻璃板20上，將寬25mm×高5mm的2個玻璃支持台21平行設置，以使其等之內側的間隔為15mm。配置試樣10，使得該2個玻璃支持台的縱向平行於前述經裁切之試樣10中偏光件1吸收軸的直交方向，並使試樣11的兩側平均架在2個玻璃支持台上。試樣10係將表面保護薄膜6配置在上側。
接著，對著試樣10(表面保護薄膜6側)的中央部，透過吉他彈片(HISTORY公司製，型號「HP2H(HARD)」)負擔100g荷重，在直交於試樣11中偏光件1吸收軸的方向於100mm的距離重覆來回10次進行荷重負荷，使偏光件1的表面產生裂痕。前述荷重負荷係於1處進行。以目視確認是否有奈米細縫發生。
比較例2及4之偏光件厚度超過10μm者，由於偏光件內部的收縮應力大，搖滾試驗的奈米細縫發生時薄膜破裂。故無法進行評價。
圖7係作為單面保護偏光薄膜10或附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜11在吉他彈片試驗、搖滾試驗中確認漏光裂紋(奈米細縫a)的下述指標，為偏光薄膜表面之顯微鏡照片之一例。圖7(A)中，並未確認有奈米細縫a所致漏光裂紋。如圖7(A)之狀態符合比較例之吉他彈片試驗的加熱 前、實施例之搖滾試驗的加熱前、實施例之搖滾試驗的加熱後(由於有擴張抑制效果故奈米細縫未致漏光)。另一方面，圖7(B)，是在偏光件吸收軸方向發生3個因加熱而由奈米細縫a所致之漏光裂紋的情形。如圖7(B)之狀態，是符合比較例之吉他彈片試驗的加熱後、比較例之搖滾試驗的加熱後。圖7，是以微分干渉顯微鏡對於有奈米細縫發生的試樣進行觀察。在為試樣攝影時，是將未發生奈米細縫的試樣設在有奈米細縫發生的試樣下側(穿透光源側)以使其呈正交偏光，並以穿透光進行觀察。
<貫通裂紋的確認：熱震試驗>
將所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm(吸收軸方向為50mm)與150mm×50mm(吸收軸方向為150mm)，於0.5mm厚之無鹼玻璃的兩面以正交偏光方向貼合，作成試樣。將該試樣投入進行-40~85℃熱震各30分鐘×100次的環境下後，取出並目視確認附黏著劑層之偏光薄膜是否有貫通裂紋(條數)發生。進行5次試驗。依下述進行評價。
○：無貫通裂紋。
×：有貫通裂紋。
圖8係作為單面保護偏光薄膜10或附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜11之確認貫通裂紋b的指標，為偏光薄膜表面之顯微鏡照片之一例。圖8是以微分干渉顯微鏡對發生貫通裂紋的試樣進行觀察。
<耐濕熱性：偏光度的變化率(光學可靠度試驗)>
將所得之單面保護偏光薄膜裁切成25mm×50mm的尺寸(吸收軸方向為50mm)。將該單面保護偏光薄膜(試樣)投入85℃/85%RH的恆溫恆濕機150小時。使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)來測定投入前與投入後之單面保護偏光薄膜的偏光度，求得偏光度的變化率(%)=(1-(投入後的偏光度/投入前的偏光度))。
此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的透射率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。
依下述進行評價。
◎：偏光度變化率低於0.50%。
○：偏光度變化率為0.50%以上且低於1.00%。
△：偏光度變化率為1.00%以上且低於2.00%。
×：偏光度變化率為2.00%以上且低於5.00%。
××：偏光度變化率為5.00%以上。
<耐水性：溫水試驗>
將所得單面保護偏光薄膜裁切成25mm×50mm的尺寸(吸收軸方向為50mm)。將該單面保護偏光薄膜(試樣)將該 單面保護偏光薄膜浸漬於60℃純水6小時後，從純水中取出並以乾布拭去後，對偏光薄膜拍照，將影像二值化，藉此測定未脫色之偏光薄膜的面積。若以下式表示之殘存面積率為70%以上，則可判斷耐水性為良好。殘存面積率(%)=投入後面積/投入前面積
[表2]
此外，如比較例6及7般，當以單體穿透率T及偏光度P所表示的光學特性不滿足下式條件時，P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟，T<42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)，本案之課題(貫通裂紋及奈米細縫的發生)並未出現。
實施例34
使用長條狀體作為單面保護偏光薄膜、使用微凹版塗佈機塗佈聚乙烯醇系形成材、並使用長條狀體作為上述離型片材(分離件)及下述表面保護薄膜，除此之外與實施例1相同。藉此，透明樹脂層側已積層分離件且透明保護薄膜側已積層表面保護薄膜的附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜(圖2(A)所記載的態樣)的捲繞物。此外，附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的捲繞物，是經由細縫加工來準備寬度各別對應32吋無鹼玻璃之短邊及長邊之物以作為套組，該細縫加工是透過連續輸送附透明樹脂層單面保護偏光薄膜來進行裁切。
(卷材至面板用表面保護薄膜)
在對附抗靜電處理層之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(商品名：Diafoil T100G38，三菱樹脂公司製，厚度38μm)的抗靜電處理面為相反的面上，塗佈形成丙烯醯系黏著劑以使其厚度為15μm，獲得表面保護薄膜。
接著，如圖9所示般使用卷材至面板法的連續製造系統，將從附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的捲繞物的套組連續供給出來的附透明樹脂層之單面保護偏光薄 膜，連續貼合在100片0.5mm厚之32吋無鹼玻璃的兩面以使其呈正交偏光的關係。
實施例35~37
分別以和實施例2、3和4相同製法來製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，除此之外和實施例34相同。
<確認奈米細縫之發生：加熱試驗>
將100片兩面貼合有附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的無鹼玻璃置入80℃烘箱中24小時，然後以目視確認是否有奈米細縫發生。實施例34~37無論任一者均未見有奈米細縫所致缺陷(漏光)的發生。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧透明保護薄膜
3‧‧‧透明樹脂層(聚乙烯醇系樹脂為主成分)
10‧‧‧單面保護偏光薄膜
11‧‧‧單面保護偏光薄膜(附透明樹脂層)

Claims (14)

  1. 一種單面保護偏光薄膜，係僅於偏光件單面具有透明保護薄膜者，其特徵在於：前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂，且厚度在10μm以下，並構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，或，P≧99.9(惟T≧42.3)；並且，在前述偏光件的另一面具有厚度0.2μm以上的透明樹脂層，該透明樹脂層為含聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物。
  2. 如請求項1之單面保護偏光薄膜，其中前述透明樹脂層係結晶熔解熱30mj/mg以上者。
  3. 如請求項1或2之單面保護偏光薄膜，其中前述透明樹脂層厚度低於3μm。
  4. 如請求項1至3中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度為99.0%以上，且平均聚合度為1000以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述形成材不含硬化性成分。
  6. 如請求項1至5中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述聚乙烯醇系樹脂為聚乙烯醇樹脂。
  7. 如請求項1至6中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述 偏光件含有相對於偏光件總量為25重量%以下之硼酸。
  8. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於具有如請求項1至7項中任一項之單面保護偏光薄膜及黏著劑層。
  9. 如請求項8之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層係設於前述單面保護偏光薄膜之透明樹脂層上。
  10. 如請求項8之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層係設於前述單面保護偏光薄膜之透明保護薄膜上。
  11. 如請求項8至10中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層上設有分離件。
  12. 如請求項11之附黏著劑層之偏光薄膜，其係捲繞物。
  13. 一種影像顯示裝置，其具有如請求項1~7中任一項之單面保護偏光薄膜、或如請求項8~10中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。
  14. 一種影像顯示裝置之連續製造方法，包含下述步驟：從如請求項12之前述附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物輸出附黏著劑層之偏光薄膜並利用前述分離件輸送，且將所輸送的前述附黏著劑層之偏光薄膜透過前述黏著劑層連續貼合於影像顯示面板的表面。
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