TWI777946B - 附表面保護薄膜之偏光薄膜及偏光薄膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明為一種附表面保護薄膜之偏光薄膜，具有厚度100μm以下的偏光薄膜(A)、及已設於該偏光薄膜(A)之至少一面上的表面保護薄膜(B)，前述偏光薄膜(A)係於偏光件之至少單面上具有保護薄膜，前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下，前述偏光薄膜(A)之寬度WA 與前述表面保護薄膜(B)之寬度WB 的差值(WA -WB )為3mm以上，前述表面保護薄膜(B)對前述偏光薄膜(A)的剝離力為0.2N/25mm以下。依據本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜，在將表面保護薄膜剝離時可抑制偏光薄膜發生破裂。

Description

附表面保護薄膜之偏光薄膜及偏光薄膜之製造方法
本發明係關於附表面保護薄膜之偏光薄膜。又，本發明係關於一種偏光薄膜之製造方法，其包含一從前述附表面保護薄膜之偏光薄膜將表面保護薄膜剝離的步驟。已從本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜將表面保護薄膜剝離的偏光薄膜，可單獨使用或將其積層成光學積層體，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
液晶顯示裝置於時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦用顯示器、DVD播放器、TV等用途上的市場正急速地擴張。液晶顯示裝置是經由液晶之切換(Switching)使偏光狀態可視化，基於其顯示原理會使用偏光件。
作為偏光件，因具有高穿透率、高偏光度，故碘系偏光件最普遍廣為使用，其係例如令聚乙烯醇吸附碘並延伸而成之結構。這種偏光件具有機械性強度極端薄弱、且會因熱或水分而收縮致使偏光機能顯著降低的缺點。因此，所製得之偏光件是立即與已塗覆有接著劑之保護薄膜透過接著劑相貼合而作成偏光薄膜來使用。
另一方面，液晶顯示裝置等影像顯示裝置已朝薄型化發展，在偏光薄膜方面亦正要求薄型化。因此，針對偏光件的薄型化亦正進行中(例如參考專利文獻1)。又，亦可藉由使用單面保護偏光薄膜來進行薄型化，其僅於偏光件單側設置保護薄膜，另一側未設置保護薄膜。此類單面保護偏光薄膜，相較於偏光件兩面均設保護薄膜的兩面保護偏光薄膜，由於少了一層保護薄膜故可求薄型化。
又，偏光薄膜在製造影像顯示裝置等步驟中，以保護其表面為目的往往會貼付表面保護薄膜，此類表面保護薄膜已知有各式種類(例如參考專利文獻2)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利第4751481號說明書 專利文獻2：日本專利公開案第2010-1360號公報
發明欲解決之課題 如專利文獻2所記載般，偏光薄膜以保護其表面為目的常會貼合表面保護薄膜進行作業，惟在偏光薄膜實際使用時，一旦將表面保護薄膜從偏光薄膜(尤其是單面保護偏光薄膜)剝離，就會有偏光薄膜發生破裂的狀況。又，此種偏光薄膜的破裂問題，在專利文獻1等所記載的薄型偏光薄膜上相當顯著。
因此，本發明之目的在於提供一種附表面保護薄膜之偏光薄膜，其可在剝離表面保護薄膜時抑制偏光薄膜發生破裂。又，本發明之目的亦在於提供一種偏光薄膜之製造方法，其包含一從前述附表面保護薄膜之偏光薄膜將表面保護薄膜剝離的步驟。
用以解決課題之手段 經本發明人等精心探究，結果發現可藉由下述附表面保護薄膜之偏光薄膜之製造方法來解決上述課題，而終至完成本發明。
即，本發明係關於一種附表面保護薄膜之偏光薄膜，特徵在於其具有厚度100μm以下的偏光薄膜(A)、及已設於該偏光薄膜(A)之至少一面上的表面保護薄膜(B)，並且 前述偏光薄膜(A)係於偏光件之至少單面上具有保護薄膜， 前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下， 前述偏光薄膜(A)之寬度WA 與前述表面保護薄膜(B)之寬度WB 的差值(WA -WB )為3mm以上， 前述表面保護薄膜(B)對前述偏光薄膜(A)的剝離力為0.2N/25mm以下。
較佳的是，前述偏光薄膜(A)為僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，而前述表面保護薄膜(B)至少設於前述單面保護偏光薄膜的偏光件面上。
前述表面保護薄膜(B)的寬度WB 宜為1100~2000mm。
又，本發明是有關於一種偏光薄膜之製造方法，特徵在於包含下述步驟：步驟(1)，在厚度100μm以下之偏光薄膜(A)之至少一面貼合表面保護薄膜(B)，形成前述附表面保護薄膜之偏光薄膜，及 步驟(2)，從前述附表面保護薄膜之偏光薄膜將表面保護薄膜(B)剝離。
在前述步驟(1)之前可包含步驟(3)，其係對厚度100μm以下之偏光薄膜(A)的兩端部進行細縫加工。
發明效果 本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜所使用的表面保護薄膜(B)，由於寬度較偏光薄膜(A)狹窄並且對偏光薄膜(A)有特定的剝離力，故在將表面保護薄膜(B)從偏光薄膜(A)剝離時，可抑制偏光薄膜(A)發生破裂。因此，本發明之偏光薄膜之製造方法可提供一種破裂等缺陷量明顯較低的偏光薄膜，而該偏光薄膜可適合使用在影像顯示裝置等。
1. 附表面保護薄膜之偏光薄膜 本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜，特徵在於其具有厚度100μm以下的偏光薄膜(A)，及已設於該偏光薄膜之至少一面上的表面保護薄膜(B)，並且 前述偏光薄膜(A)係於偏光件之至少單面上具有保護薄膜， 前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下， 前述偏光薄膜(A)之寬度WA 與前述表面保護薄膜(B)之寬度WB 的差值(WA -WB )為3mm以上， 前述表面保護薄膜(B)對前述偏光薄膜(A)的剝離力為0.2N/25mm以下。
邊參照圖1，邊就本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜予以說明。但本發明不受該等圖式所限定。
本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜10，係於前述偏光薄膜(A)3之至少一面上具有表面保護薄膜(B)6。
本發明所用之偏光薄膜(A)3，係於偏光件1之至少單面上具有保護薄膜2。前述偏光件1與保護薄膜2可隔著如接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層(未圖示)而積層。圖1中，雖圖示出僅於偏光件1單面具有保護薄膜2的單面保護偏光薄膜，惟亦可為於偏光件1兩面均具保護薄膜2的雙面保護偏光薄膜。
在前述偏光薄膜(A)3為單面保護偏光薄膜的情形時，表面保護薄膜(B)6係如圖1所示般，至少貼合在單面保護偏光薄膜的偏光件1上。又，在前述偏光薄膜(A)3為雙面保護偏光薄膜的情形時，係於至少一個保護薄膜2上貼合表面保護薄膜(B)6。表面保護薄膜(B)6通常具有基材薄膜4及黏著劑層5，並會隔著該黏著劑層5來保護偏光薄膜(A)3。
本發明中，如圖1所示般，前述偏光薄膜(A)3的寬度WA 大於前述表面保護薄膜(B)6的寬度WB ，且其差值(WA -WB )為3mm以上。具體態樣係如圖1所示，表面保護薄膜(B)6之寬度方向的一端，是存在於較偏光薄膜(A)3之寬度方向的一端往內側距離C1 處；表面保護薄膜(B)6之寬度方向的另一端，則是存在於較偏光薄膜(A)3之寬度方向的另一端往內側距離C2 處，而C1 與C2 合計只要為3mm以上即可。C1 與C2 宜均超過1mm，並宜以使C1 與C2 為相同程度的方式將表面保護薄膜(B)貼合於偏光薄膜(A)。在此，所謂偏光薄膜(A)3的寬度方向，意指與偏光薄膜(A)之偏光件1的延伸方向(輸送方向)垂直相交的方向。
前述距離C1 、C2 宜分別為前述偏光薄膜(A)3之寬度WA 的3%以下左右，且0.05~3%左右較佳，0.1~2%左右更佳。
前述偏光薄膜(A)3之寬度WA 與前述表面保護薄膜(B)6之寬度WB 的差值(WA -WB )為3mm以上，且5mm以上為佳，8mm以上較佳，10mm以上更佳。藉著讓差值(WA -WB )在前述範圍內，即便偏光薄膜端部有偏光件裂痕存在，仍能抑制表面保護薄膜剝離時偏光薄膜的破裂。又，差值(WA -WB )的上限値雖無特別限制，惟從表面保護(在單面保護偏光薄膜情形時尤其要避免結塊(已捲取之薄膜彼此密著))的觀點來看，以100mm以下為佳，50mm以下較佳。
又，前述表面保護薄膜(B)6對前述偏光薄膜(A)3的剝離力為0.2N/25mm以下，且0.1N/25mm以下為佳，0.05N/25mm以下較佳。藉由讓剝離力在前述範圍，就能夠在將表面保護薄膜(B)6從偏光薄膜(A)3剝離時抑制偏光薄膜(A)3發生破裂。
以下就本發明所用各材料予以說明。
(1)偏光薄膜(A) 本發明所用之偏光薄膜(A)3，係於偏光件1之至少單面上具有保護薄膜2。
偏光薄膜(A)的厚度為100μm以下，且80μm以下為佳，60μm以下較佳。藉由讓偏光薄膜(A)的厚度為前述範圍，便能夠薄型化並且顯著展現本發明之效果故為佳。
偏光薄膜(A)3的寬度沒有特別限定，可因應使用目的來適當決定，舉例來說，以1150~2000mm左右為佳，1250~1600mm左右較佳。
(1-1)偏光件 本發明係使用厚度10μm以下的偏光件1。偏光件1的厚度以8μm以下為佳，7μm以下較佳，6μm以下更佳。另一方面，偏光件1的厚度係2μm以上為佳，3μm以上較佳。這樣的薄型偏光件1，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
偏光件1係採用使用了聚乙烯醇系樹脂之物。作為偏光件1，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇薄膜浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或可含硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均缺陷的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，復亦可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
就延伸穩定性或光學耐久性而言，偏光件1宜含有硼酸。又，偏光件1所含硼酸的含量，從抑制貫通裂紋及奈米細縫的發生及抑制擴張的觀點來看，相對於偏光件總量宜為25重量%以下，且20重量%以下較佳，18重量%以下更佳，16重量%以下尤佳。當偏光件1所含硼酸含量超過20重量%時，即便將偏光件1的厚度控制在10μm以下，偏光件1的收縮應力仍高而變得容易發生貫通裂紋，故並不適宜。另一方面，從偏光件1的延伸穩定性或光學耐久性之觀點來看，相對於偏光件總量之硼酸含量宜為10重量%以上，而12重量%以上較佳。
作為薄型偏光件，代表性地可舉如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等所記載的薄型偏光件，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光件。
前述偏光件1宜構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4-1)×100(惟T＜42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)。經構造成滿足前述條件的偏光件，會毫無疑問地具有在使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器方面所需要的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2 以上。在其他用途方面，則例如可貼合於有機EL顯示裝置之觀視側。
作為前述薄型偏光件，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜，可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟的製法來獲得。若為此種製法，則即便聚乙烯醇系樹脂層很薄，仍可藉由以延伸用樹脂基材支撐而在不發生延伸所致斷裂等不良情況下進行延伸。
(1-2)保護薄膜 本發明係於偏光件1之至少單面具有保護薄膜2，可為僅於偏光件1的單面具有保護薄膜2的單面保護偏光薄膜，亦可為於偏光件1兩面均具保護薄膜2的雙面保護偏光薄膜，惟從偏光薄膜薄型化的觀點來看，以單面保護偏光薄膜為佳。
構成上述保護薄膜2之材料，宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等方面優異者。可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二醋酸纖維素及三醋酸纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可舉如下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
此外，保護薄膜2中亦可含有1種類以上的任意適當添加劑。作為添加劑，可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顔料、著色劑等。保護薄膜中上述熱可塑性樹脂的含量係以50~100質量%為佳，50~99質量%較佳，60~98質量%更佳，70~97質量%尤佳。保護薄膜中上述熱可塑性樹脂的含量低於50質量%時，可能會有熱可塑性樹脂原具有之高透明性等無法充分展現的狀況。
前述保護薄膜2亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如將熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
前述保護薄膜2的厚度可適當設定，但一般而言，從諸如強度或操作性等作業性以及薄層性等觀點來看宜為3~90μm，更宜為3~80μm。尤其，前述保護薄膜(在預先形成薄膜的情形時)的厚度以輸送性的觀點來說宜為15~80μm，更宜為20~60μm。另一方面，前述保護薄膜(經由塗佈硬化而形成時)的厚度就輸送性而言宜為3~25μm，更宜為3~20μm。前述保護薄膜可使用多片或多層。
前述保護薄膜2之不與偏光件1接著之面，可設置硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層及抗眩層等機能層。此外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層除了可設在保護薄膜2本身以外，亦可與保護薄膜分設而另為其他個體。
(1-3)中介層 前述保護薄膜2與偏光件1可隔著接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer)等中介層來積層。此時，理想的是利用中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。此外，偏光件1與保護薄膜2之中介層並未顯示於圖中。
接著劑層係由接著劑所形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係以水溶液所構成之接著劑的形式使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子束、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子束硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在將光自由基硬化型的活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型來使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
接著劑的塗覆方式，是依接著劑的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗覆方式例可舉例如：逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。此外在塗覆方面可適當使用浸漬法等方式。
又，前述接著劑之塗覆在使用水系接著劑等時，宜以使最終形成之接著劑層厚度呈30~300nm的方式進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~150nm。另一方面，使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度為0.2~20μm的方式進行。
此外，在積層偏光件1與保護薄膜2時，可在保護薄膜與接著劑層之間設置易接著層。易接著層舉例來說，可由具有下述骨架的各種樹脂來形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，在易接著層的形成方面亦可加入其他添加劑。具體上可舉如黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等等。
易接著層通常是預先設在保護薄膜上，並利用接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光件積層。易接著層的形成，是藉由將易接著層的形成材以習知技術塗覆在保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層的形成材通常會調製成溶液，其係在考量乾燥後的厚度、塗覆之圓滑性等而稀釋成適當濃度。易接著層乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。此外，易接著層可設置多層，惟此情形時仍宜使易接著層的總厚度在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑方面可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽氧烷系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可因應前述黏著劑的種類來選擇黏著性基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性優異、展現適當的濕潤性、凝聚性及接著性等黏著特性並且耐候性及耐熱性等優異此點來看，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
底塗層(底漆層)是為了使偏光件1與保護薄膜2的密著性提升而形成。構成底漆層的材料，只要是可對偏光件1與保護薄膜2兩者發揮一定程度的強密著力的材料即可，並無特別限定。例如，可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優良的熱可塑性樹脂等等。作為熱可塑性樹脂，可舉例如丙烯醯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
(2)表面保護薄膜(B) 本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜10，係於前述偏光薄膜(A)3之至少一面上具有表面保護薄膜(B)6。
在前述偏光薄膜(A)3為單面保護偏光薄膜的情形時，表面保護薄膜(B)6係如圖1所示般，至少貼合在前述單面保護偏光薄膜的偏光件1之面上。藉此，在暫時將單面保護偏光薄膜捲取時，可防止偏光件造成的結塊(已捲取之薄膜彼此密著)。又，在前述偏光薄膜(A)3為雙面保護偏光薄膜的情形時，係於至少一個保護薄膜2上貼合表面保護薄膜(B)6。
表面保護薄膜(B)6通常具有基材薄膜4及黏著劑層5，並會隔著該黏著劑層5來保護偏光薄膜(A)3。
表面保護薄膜(B)6的基材薄膜4，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯醯系樹脂般透明的聚合物。其等當中又以聚烯烴系樹脂為宜。基材薄膜4亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。
前述聚烯烴系樹脂可舉例如烯烴單體的同元聚合物、烯烴單體的共聚物等。聚烯烴系樹脂具體上可舉例如高密度聚乙烯(HDPE)、中密度聚乙烯、低密度聚乙烯(LDPE)、直鏈狀低密度聚乙烯(LLDPE)等聚乙烯系樹脂；聚丙烯；以乙烯成分為共聚成分的嵌段系、無規系、接枝系等丙烯系共聚物；反應器直製TPO(R-TPO)；乙烯-醋酸乙烯酯共聚物，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等乙烯系共聚物等，其等當中又以聚乙烯系樹脂為宜。
基材薄膜4的厚度沒有特別限定，惟通常為200μm以下，而10~150μm為佳。
形成表面保護薄膜(B)6之黏著劑層5的黏著劑沒有特別限定，可適宜使用本發明領域會使用的黏著劑。
黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)係經設計以使其對偏光薄膜(A)3的剝離力在前述範圍內，並以1~100μm左右為佳，5~50μm較佳。
此外，表面保護薄膜(B)6中，可在基材薄膜4之設有黏著劑層5之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料來設置剝離處理層。
前述表面保護薄膜(B)亦可適宜使用市售物，例如可適宜使用東麗薄膜加工(股)製的TORETEC 7832C ＃30等。
表面保護薄膜(B)6的寬度WB ，可因應偏光薄膜(A)3的寬度WA 來作適當決定，惟舉例來說以1100~2000mm左右為佳，1147~1997mm左右較佳，1197~1597mm左右更佳。
偏光薄膜(A)3的寬度WA 與表面保護薄膜(B)6的寬度WB 之比(WA /WB )沒有特別限定，舉例來而以超過1且1.2以下左右為佳、超過1且1.1以下左右較佳、超過1且1.05以下左右更佳。
2.偏光薄膜之製造方法 本發明之偏光薄膜之製造方法，特徵在於其包含：步驟(1)，在厚度100μm以下之偏光薄膜(A)之至少一面貼合表面保護薄膜(B)，形成前述附表面保護薄膜之偏光薄膜；及 步驟(2)，從前述附表面保護薄膜之偏光薄膜將表面保護薄膜(B)剝離。
厚度100μm以下的偏光薄膜(A)6、表面保護薄膜(B)、附表面保護薄膜之偏光薄膜10係如同前述。
在前述偏光薄膜(A)貼合表面保護薄膜(B)時，可以表面保護薄膜(B)的黏著劑層5面與前述偏光薄膜(A)的偏光件面(單面保護偏光薄膜時)相接、或與前述偏光薄膜(A)之保護薄膜面(雙面保護偏光薄膜時)相接的方式進行貼合。
又，附表面保護薄膜之偏光薄膜10係於偏光薄膜(A)3供實際使用為止的期間保護偏光薄膜(A)3，在實際使用偏光薄膜(A)3時則被剝離。
本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜10，由於表面保護薄膜(B)6有特定的尺寸及剝離力，故在將該表面保護薄膜(B)6從偏光薄膜(A)3剝離時，可抑制偏光薄膜(A)3發生破裂。尤其在將單面保護偏光薄膜暫時捲取成卷狀的情形時，為了防止偏光件造成的結塊，必須在單面保護偏光薄膜的偏光件面貼合表面保護薄膜(B)，結果在將已捲取的附表面保護薄膜之偏光薄膜輸出並從單面保護偏光薄膜之偏光件面將表面保護薄膜剝離時，單面保護偏光薄膜發生破裂的風險高。依據本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜，在如上述的情形時，能有效降低所述破裂的發生風險。
剝離條件並無特別限定，可採用通常在本發明領域中常用的條件。
又，在前述步驟(1)前亦可包含步驟(3)，其係對偏光薄膜的兩端部進行細縫加工的步驟。細縫加工可藉由本發明領域中一般採取的方法來進行。又，細縫加工宜以平行於偏光件延伸方向(輸送方向)的方式進行。
一般來說，在偏光薄膜的兩端部施行細縫加工，會讓前述偏光薄膜(尤其是單面保護偏光薄膜)的破裂問題變得更為顯著，但本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜，即便在進行了細縫加工的情況下仍可抑制偏光薄膜發生破裂。
3. 使用方法 已從本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜10將表面保護薄膜(B)6剝離的偏光薄膜，可安裝於影像顯示裝置等中來使用。又，亦可與光學構件貼合作成光學積層體，安裝於影像顯示裝置中。
可隔著黏著劑層進行對光學構件的貼合。
黏著劑層之形成方面可使用適當的黏著劑，就其種類並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又宜使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
形成黏著劑層的方法，係可藉由例如下述方法來製作：將前述黏著劑塗佈在已作剝離處理的分離件等上，乾燥去除聚合溶劑等而形成了黏著劑層後，轉印至偏光薄膜(A)3上的方法；或是在偏光薄膜(A)3塗佈前述黏著劑，乾燥去除聚合溶劑等而在偏光薄膜(A)3上形成黏著劑層的方法等等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
宜使用聚矽氧剝離襯材作為經剝離處理的分離件。於此種襯材上塗佈黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，可因應目的而採用適宜且適切的方法來作為使黏著劑乾燥之方法。較佳是使用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，較佳為50℃~180℃，更佳為70℃~170℃。可藉由將加熱溫度設成上述範圍，而獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適當適切的時間。上述乾燥時間以5秒~20分為佳、5秒~10分較佳、10秒~5分更佳。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度沒有特別限制，舉例來說為1~100μm左右，並以2~50μm為佳，2~40μm較佳，5~35μm更佳。
前述黏著劑層露出時，在供實際使用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片物等等，惟從表面平滑性優良此點來看，宜採用塑膠薄膜。
作為該塑膠薄膜，只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm左右，並以5~100μm左右為佳。亦可視需要對前述分離件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高從前述黏著劑層離開的剝離性。
前述光學構件並無特別限定，可使用1層或2層以上之諸如反射板或半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等的光學構牛。作為光學積層體，尤佳的是在由本發明之製造方法所得偏光薄膜上再積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半透過型偏光薄膜、在由本發明之製造方法所得偏光薄膜上再積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、在由本發明之製造方法所得偏光薄膜上再積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或是在由本發明之製造方法所得偏光薄膜上再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
於本發明之偏光薄膜積層有上述光學構件的光學積層體，雖可在液晶顯示裝置等的製造過程中以依序個別積層的方式形成，但預先積層成光學薄膜者在品質穩定性與組裝作業等方面較具優勢，有改善液晶顯示裝置等之製程的優點。在積層2層以上光學構件的情形時，可使用黏著劑層等適當的接著手段。在接著前述偏光薄膜時，其等之光學軸可因應目標相位差特性等而設置成適當的配置角度。
由本發明之製造方法所得之偏光薄膜或光學積層體，可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等等。液晶顯示裝置的形成可依循習知來進行。即，液晶顯示裝置一般係藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，在本發明中，除使用由本發明之製造方法所得偏光薄膜或光學積層體此點以外無特別限定，可依習知為準。液晶單元方面可使用例如IPS型、VA型等任意類型，惟以IPS型尤為適宜。
可形成如下述之適當的液晶顯示裝置：在液晶單元的單側或兩側配置有由本發明之製造方法所得之偏光薄膜或光學積層體的液晶顯示裝置；照明系統使用背光或反射板者等適當的液晶顯示裝置。此情形時，由本發明之製造方法所得偏光薄膜或光學積層體，可設置於液晶單元的單側或兩側。於兩側配置由本發明之製造方法所得偏光薄膜或光學積層體時，其等可為相同，亦可為相異。此外，在形成液晶顯示裝置時，可以將例如擴散板、抗眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。
實施例 以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃ 65%R.H.。
製造例1(偏光件的製作) 於吸水率0.75%且玻璃轉移溫度(Tg)75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-co -PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上，施加電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度：4200 / 皂化度：99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(商品名：Gohsefimer Z200 / 聚合度：1200 / 乙醯乙醯基改質度：4.6% / 皂化度：99.0莫耳%以上 / 日本合成化學工業(股)製)的水溶液並進行乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作出積層體。 將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。 接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達所欲的穿透率。在本實施例中是使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水，摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 經由上述，獲得含厚度5μm寬度1300mm之偏光件的光學薄膜積層體。
製造例2(單面保護偏光薄膜的製作) 使用易接著處理面已施以電暈處理之厚度40μm且具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜，作為保護薄膜。
將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光起始劑(商品名：IRGACURE　819，BASF公司製)3重量份摻混，調製紫外線硬化型接著劑。將其作為保護薄膜用接著劑。
在製造例1所得光學薄膜積層體的偏光件表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使其硬化後接著劑層厚度成為1μm的方式進行塗布，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射作為活性能量線的紫外線使接著劑硬化。紫外線的照射，是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light　HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，而紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。
在平行於延伸方向(輸送方向)下，藉由刀具對所得積層體(保護薄膜/接著劑層/偏光件/非晶性PET基材)的兩端施以細縫加工。
接著，從已施以細縫加工的前述積層體將非晶性PET基材剝離，製出使用了薄型偏光件的單面保護偏光薄膜(總厚度46μm)。所得單面保護偏光薄膜之光學特性為單體穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜單體穿透率T及偏光度P＞ 使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所(股)之Dot-3c)，測定所得單面保護偏光薄膜的單體穿透率T及偏光度P。 此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的穿透率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。 偏光度P(%)＝｛(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)｝1/2×100 各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。
製造例3(表面保護薄膜的製造) 在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，投入57份丙烯酸-2-乙基己酯、40份醋酸乙烯酯、3份丙烯酸的混合溶液，0.15份之作為聚合引發劑的2,2´-偶氮雙異丁腈及300份甲苯，在60℃下進行12小時的聚合，獲得聚合物的溶液。所得聚合物之重量平均分子量Mw為46萬，分散度Mw/Mn為11.5。相對於100份之聚合物的固體成分，添加2.0份的環氧系交聯劑(商品名：TETRAD C，三菱瓦斯化學(股)製)作成混合溶液，將該混合溶液塗佈在單面已施作電暈處理的低密度聚乙烯基材(厚度60μm)上並進行乾燥，以使其乾燥後的黏著劑層厚度成為15μm，製出表面保護薄膜。
製造例4(表面保護薄膜的製造) 將190℃時熔流速率2.0g/10min且密度0.924g/cm3 的低密度聚乙烯所構成的的基材層、與由230℃時熔流速率10.0g/10min且密度0.86g/cm3 之丙烯-丁烯共聚物(丙烯：丁烯質量比=85：15，雜排結構)所構成的黏著層，分別供給至模溫200℃的吹膜成形機，進行共擠出成形，獲得基材層厚度30μm、黏著層厚度6μm之與黏著劑層構成的表面保護薄膜。
實施例1 在製造例2所得之單面保護偏光薄膜的偏光件面(未設保護薄膜之偏光件面)上，貼合作為表面保護薄膜的聚乙烯薄膜(商品名：PROTECT FILM TORETEC ＃30-7832C，東麗薄膜加工(股)製)，製出附表面保護薄膜之偏光薄膜。所用單面保護偏光薄膜的寬度(WA )為1300mm，表面保護薄膜的寬度(WB )為1290mm，表面保護薄膜之寬度方向的兩端，分別較單面保護偏光薄膜之寬度方向的兩端更靠內側5mm。
實施例2 將表面保護薄膜的寬度(WB )改成1250mm，而且表面保護薄膜之寬度方向的兩端改成分別較單面保護偏光薄膜之寬度方向的兩端更靠內側25mm，此外以和實施例1相同方式製得附表面保護薄膜之偏光薄膜。
實施例3 使用製造例3所得表面保護薄膜作為表面保護薄膜，此外以和實施例2相同的方式製得附表面保護薄膜之偏光薄膜。
比較例1 將表面保護薄膜的寬度(WB )改成1330mm，而且表面保護薄膜之寬度方向的兩端改成分別較單面保護偏光薄膜之寬度方向的兩端更靠外側15mm，此外以和實施例1相同方式製得附表面保護薄膜之偏光薄膜。
比較例2 使用製造例3所得表面保護薄膜作為表面保護薄膜，並將表面保護薄膜的寬度(WB )改成1300mm(亦即表面保護薄膜之寬度方向的兩端與單面保護偏光薄膜之寬度方向的兩端對齊)，此外以和實施例1相同的方式製得附表面保護薄膜之偏光薄膜。
比較例3 使用製造例4所得表面保護薄膜作為表面保護薄膜，並將表面保護薄膜的寬度(WB )改成1330mm，表面保護薄膜之寬度方向的兩端改成分別較單面保護偏光薄膜之寬度方向的兩端更靠外側15mm，此外以和實施例1相同的方式製得附表面保護薄膜之偏光薄膜。
使用實施例及比較例所得附表面保護薄膜之偏光薄膜，進行以下的評價。評價結果係示於表1。
＜剝離力＞ 將實施例及比較例所得附表面保護薄膜之偏光薄膜切成寬度25mm、長100mm的試樣，將其放置在23℃×50%RH的環境下30分鐘以上後，以萬能拉伸試驗機在剝離速度0.3m/分(低速剝離)及剝離角度180°下進行剝離，測定此時的低速剝離力(N/25mm)。測定係於23℃×50%RH的環境下進行。
＜破裂次數＞ 將附表面保護薄膜之偏光薄膜一邊剝離表面保護薄膜一邊輸送，計算此時的破裂次數。前述破裂次數，是表示進行10次前述輸送試驗的期間，偏光薄膜發生破裂而變得無法輸送的次數。
表1
Figure 02_image001
1‧‧‧偏光件2‧‧‧保護薄膜3‧‧‧偏光薄膜(A)4‧‧‧基材薄膜5‧‧‧黏著劑層6‧‧‧表面保護薄膜(B)10‧‧‧附表面保護薄膜之偏光薄膜WA‧‧‧偏光薄膜(A)之寬度WB‧‧‧表面保護薄膜(B)之寬度C1、C2‧‧‧自偏光薄膜(A)之寬度方向之兩端起至表面保護薄膜(B)之寬度方向之兩端為止的距離
圖1為本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧保護薄膜
3‧‧‧偏光薄膜(A)
4‧‧‧基材薄膜
5‧‧‧黏著劑層
6‧‧‧表面保護薄膜(B)
10‧‧‧附表面保護薄膜之偏光薄膜
WA‧‧‧偏光薄膜(A)之寬度
WB‧‧‧表面保護薄膜(B)之寬度
C1、C2‧‧‧自偏光薄膜(A)之寬度方向之兩端起至表面保護薄膜(B)之寬度方向之兩端為止的距離

Claims (4)

  1. 一種附表面保護薄膜之偏光薄膜，特徵在於其具有：厚度100μm以下的偏光薄膜(A)、及已設於該偏光薄膜(A)之至少一面上的表面保護薄膜(B)，並且前述偏光薄膜(A)係僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，而前述表面保護薄膜(B)至少設於前述單面保護偏光薄膜的偏光件面上；前述表面保護薄膜(B)具有基材薄膜及黏著劑層，且前述黏著劑層設於前述基材薄膜之單面的整面上；前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下，前述偏光薄膜(A)之寬度WA與前述表面保護薄膜(B)之寬度WB的差值(WA-WB)為3mm以上，前述表面保護薄膜(B)對前述偏光薄膜(A)的剝離力為0.2N/25mm以下。
  2. 如請求項1之附表面保護薄膜之偏光薄膜，其中前述表面保護薄膜(B)的寬度WB為1100~2000mm。
  3. 一種偏光薄膜之製造方法，特徵在於包含下述步驟：步驟(1)，在厚度100μm以下之偏光薄膜(A)之至少偏光件面貼合表面保護薄膜(B)，形成如請求項1或2之附表面保護薄膜之偏光薄膜；及步驟(2)，從前述附表面保護薄膜之偏光薄膜將表面保護薄膜(B)剝離。
  4. 如請求項3之偏光薄膜之製造方法，其於前述步驟(1)之前包含步驟(3)，係對厚度100μm以下之偏光薄膜(A)的兩端部進行細縫加工。
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