TW202000447A - 偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種偏光薄膜，其具有缺口部及/或貫通孔，且即使在熱衝擊之嚴酷環境下，前述缺口部及貫通孔仍不易產生裂痕。本發明之偏光薄膜於偏光件之單面或兩面隔著接著劑層設有保護薄膜；前述偏光薄膜之外緣的長邊L為60~400mm及短邊W為30~300mm，並且前述偏光薄膜具有1個以上異形部，且該異形部選自於缺口部及貫通孔之至少1種； 前述缺口部設於前述偏光薄膜之外緣，且 前述缺口部之形狀由直線、曲線或該等之組合構成； 構成前述缺口部之形狀的2條前述直線形成之角度θ1 為90°以上且小於180°，且 構成前述缺口部之形狀的前述曲線之曲率半徑R1 為0.2mm以上； 前述貫通孔設於前述偏光薄膜之平面內部，且 前述貫通孔之形狀由直線、曲線或該等之組合構成； 構成前述貫通孔之形狀的2條前述直線形成之角度θ2 為90°以上且小於180°，且 構成前述貫通孔之形狀的前述曲線之曲率半徑R2 為0.2mm以上； 設於偏光件的前述保護薄膜中之至少一者滿足下述式(1)： Y≦1.36×lnX+4.5　　　(1) Y：保護薄膜的線膨脹係數(×10-5 /K) X：保護薄膜的斷裂伸度(%)。

Description

偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置
本發明係有關於偏光薄膜、及具有該偏光薄膜與黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。又，本發明係有關於包含前述偏光薄膜或前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。
發明背景 在各種影像顯示裝置中，為了顯示影像係使用偏光薄膜。譬如液晶顯示裝置(LCD)由其影像形成方式來看，於形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜係必要不可或缺的。而在有機EL顯示裝置上，為了遮蔽在金屬電極的外光的鏡面反射，會於有機發光層的視辨側配置積層有偏光薄膜與1/4波長板之圓偏光薄膜。
前述偏光薄膜一般係使用於由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料構成之偏光件單面或兩面透過聚乙烯醇系接著劑等而貼合有保護薄膜者。
前述偏光薄膜在熱衝擊(例如反覆以-40℃與85℃之溫度條件進行的熱衝擊試驗)之嚴酷環境下，會因偏光件的收縮應力之變化，而有易於偏光件之吸收軸方向整體產生裂痕(貫穿性裂痕)之問題。
專利文獻1中，以提供一種即使在冷熱衝擊環境下耐久性仍優異的偏光板為目的而提出了一種偏光板，該偏光板係於偏光薄膜之兩面配置透明保護薄膜而成者且特徵在於：前述偏光薄膜之與吸收軸正交的方向之線膨脹係數、及配置在前述偏光薄膜之至少一面的前述透明保護薄膜之與偏光板之吸收軸正交的方向之線膨脹係數之差為1.3×10-4 /℃以下。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開2011-203571號公報
發明概要 發明欲解決之課題 以往智慧型手機等行動終端的畫面一般為矩形形狀。然而近年來，由畫面擴大及設計性之觀點，異形形狀之液晶面板漸成趨勢。液晶面板之異形部可以設置主畫面按鈕及相機鏡頭等，預期今後異形形狀之液晶面板的需求會愈來愈高。為了製造具有異形部之液晶面板，必須要有具有異形部之偏光薄膜。
然而，具有異形部之偏光薄膜在熱衝擊之嚴酷環境下基於膨脹、收縮而生之應力會容易集中於異形部，而有該異形部容易產生裂痕之問題。
本發明之目的在於提供一種偏光薄膜，其具有缺口部及/或貫通孔，且即使在熱衝擊之嚴酷環境下前述缺口部及貫通孔仍不易產生裂痕。
又，本發明之目的在於提供一種具有前述偏光薄膜及黏著劑層之附黏著劑之偏光薄膜、及包含前述偏光薄膜或前述附黏著劑之偏光薄膜的影像顯示裝置。
用以解決課題之方法 經本發明人等積極檢討，結果發現藉由下述偏光薄膜可解決上述課題，遂完成本發明。
亦即，本發明係有關於一種偏光薄膜，其於偏光件之單面或兩面隔著接著劑層設有保護薄膜，該偏光薄膜之特徵在於： 前述偏光薄膜之外緣的長邊L為60~400mm及短邊W為30~300mm，並且 前述偏光薄膜具有1個以上異形部，且該異形部選自於缺口部及貫通孔之至少1種； 前述缺口部設於前述偏光薄膜之外緣，且 前述缺口部之形狀由直線、曲線或該等之組合構成； 構成前述缺口部之形狀的2條前述直線形成之角度θ1 為90°以上且小於180°，且 構成前述缺口部之形狀的前述曲線之曲率半徑R1 為0.2mm以上； 前述貫通孔設於前述偏光薄膜之平面內部，且 前述貫通孔之形狀由直線、曲線或該等之組合構成； 構成前述貫通孔之形狀的2條前述直線形成之角度θ2 為90°以上且小於180°，且 構成前述貫通孔之形狀的前述曲線之曲率半徑R2 為0.2mm以上； 設於偏光件的前述保護薄膜中之至少一者滿足下述式(1)： Y≦1.36×lnX+4.5　　　(1) Y：保護薄膜的線膨脹係數(×10-5 /K) X：保護薄膜的斷裂伸度(%)。
前述缺口部宜設於前述短邊W及前述外緣角落中之至少1處。
又，前述缺口部在前述短邊W上之長度W1 宜為2mm以上。
又，前述缺口部距離前述短邊W之最大深度D宜為2~25mm。
又，前述貫通孔宜為圓形、橢圓形、圓角長方形、四角形或五角以上的多角形。
又，前述偏光薄膜中，前述Y(×10-5 /K)宜為4以下。
又，前述偏光件的厚度宜為10μm以下。
又本發明係有關於一種具有前述偏光薄膜及黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。
又本發明係有關於一種影像顯示裝置，其中於影像顯示單元配置有前述偏光薄膜或前述附黏著劑層之偏光薄膜。
發明效果 本發明之偏光薄膜的異形部由於具有上述特定形狀，因此在熱衝擊之嚴酷環境下，基於膨脹、收縮而生之應力不易集中至該異形部。因此，於該異形部不易產生裂痕。且，藉由使用至少1個滿足前述式(1)之保護薄膜作為設於偏光件之單面或兩面的保護薄膜，可緩和因保護薄膜基於膨脹、收縮而生之應力造成偏光件膨脹、收縮而生之應力，因此可更有效抑制偏光件之異形部產生裂痕。
藉由使用線膨脹係數Y(×10-5 /K)為4以下的保護薄膜，可更有效緩和因偏光件膨脹、收縮而生之應力，因此可更有效抑制偏光件之異形部產生裂痕。
又，近年隨著液晶顯示裝置等影像顯示裝置之薄型化發展，偏光件亦有薄型化之需求。然，厚度10μm以下之薄型偏光件有於加濕環境下(因水分)而光學特性容易降低之問題。為了抑制薄型偏光件因水分而劣化，吾等考慮使用透濕度低的(具體而言為100g/(m2 ・day)以下的)樹脂薄膜，來作為貼合於薄型偏光件的保護薄膜。在使用透濕度低的樹脂薄膜作為保護薄膜時，可抑制偏光件在加濕環境下劣化。然而，透濕度低的保護薄膜有線膨脹係數大之傾向，而會難以緩和因偏光件膨脹、收縮而生之應力，因此偏光件之異形部會有容易產生裂痕之傾向。不過即使是線膨脹係數大的保護薄膜，只要為斷裂伸度大且滿足前述式(1)的保護薄膜，即可有效緩和因偏光件膨脹、收縮而生之應力，故偏光件之異形部不易產生裂痕。因此，本發明之偏光薄膜可兼顧抑制偏光件因加濕造成之劣化(提升加濕可靠性)與抑制裂痕之產生。
用以實施發明之形態 1.偏光薄膜 本發明之偏光薄膜於偏光件之單面或兩面隔著接著劑層設有保護薄膜，且前述偏光薄膜之外緣的長邊L為60~400mm及短邊W為30~300mm(另外，長邊L＞短邊W)。長邊L及短邊W的長度可因應偏光薄膜的用途適當調整。例如長邊L可為100~200mm、短邊W可為50~100mm。又，前述偏光薄膜具有1個以上異形部，且該異形部選自於缺口部及貫通孔之至少1種。
以下說明各構成要素。
(1)偏光件 偏光件可無特別限制地使用公知之物，惟由薄型化及抑制裂痕發生之觀點，宜使用厚度為10μm以下之偏光件。偏光件之厚度更宜為8μm以下，7μm以下更佳，6μm以下又更佳。另一方面，偏光件之厚度為2μm以上，更宜為3μm以上。
偏光件係使用用了聚乙烯醇系樹脂者。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等之中又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等的二色性物質構成之偏光件較適宜。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並經單軸延伸的偏光件可藉由例如將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液中來進行染色，並延伸成原長的3~7倍來製成。視需要亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等，亦可浸漬於碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，或可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
由延伸穩定性及加濕可靠性之觀點，偏光件宜含有硼酸。又，由抑制裂痕產生之觀點，偏光件所含硼酸含量相對於偏光件總量宜為22重量%以下，更宜為20重量%以下。由延伸穩定性及加濕可靠性的觀點，硼酸含量相對於偏光件總量宜為10重量%以上，更宜為12重量%以上。
薄型偏光件代表上可舉如： 日本專利第4751486號說明書、 日本專利第4751481號說明書、 日本專利第4815544號說明書、 日本專利第5048120號說明書、 國際公開第2014/077599號公報手冊、 國際公開第2014/077636號公報手冊等所記載的薄型偏光件或由其等所記載之製造方法製得之薄型偏光件。
在包含以積層體之狀態下進行延伸之步驟及染色步驟的製法中，從可以高倍率延伸並提升偏光性能的觀點來看，前述薄型偏光件以諸如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法製得者為宜，且尤以如日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟的製法製得者為宜。該等薄型偏光件可藉由包含以下步驟之製法製得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟。只要為該製法，即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可延伸而不因延伸造成斷裂等不良狀況。
(2)保護薄膜 保護薄膜的材料宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性及各向同性等優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
保護薄膜中亦可含有1種以上任意且適當的添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。
保護薄膜中上述聚合物的含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，70~97重量%又更佳。保護薄膜中上述聚合物的含量低於50重量%時，恐有無法充分展現上述聚合物原本具有的高透明性等之虞。
前述保護薄膜亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。相位差薄膜可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，該相位差薄膜亦可發揮作為偏光件的保護薄膜的功能，故能謀求薄型化。
相位差薄膜可舉如將熱塑性樹脂薄膜進行單軸或雙軸延伸處理而成的雙折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差值、薄膜材料及厚度來作適當設定。
保護薄膜的厚度可適當決定，惟由強度及操作性等作業性、薄層性等觀點，為1~500μm左右。保護薄膜的厚度宜為1~300μm，較佳為5~200μm，且10~150μm更佳，15~100μm又更佳。
前述保護薄膜之不接著偏光件的面上可設置硬塗層、抗反射層、抗黏著層、擴散層乃至防眩層等機能層。另，上述硬塗層、抗反射層、抗黏著層、擴散層或防眩層等機能層除了可設置在保護薄膜其本身以外，還可另外設置成與保護薄膜分開的個體。
在本發明中，為了更有效抑制偏光件之異形部產生裂痕，設於偏光件之保護薄膜(亦可包含前述機能層)中之至少一者係使用滿足下述式(1)者。要於偏光件之兩面設置保護薄膜時，設於偏光件之兩面的保護薄膜宜分別滿足下述式(1)。藉此，可有效緩和因偏光件膨脹、收縮而生之應力，因此可更有效抑制偏光件之異形部產生裂痕。此外，保護薄膜的線膨脹係數及斷裂伸度的測定方法請參實施例之記載。 Y≦1.36×lnX+4.5　　　(1) Y：保護薄膜的線膨脹係數(×10-5 /K) X：保護薄膜的斷裂伸度(%)
保護薄膜的線膨脹係數與斷裂伸度會因使用之原料與厚度而改變，因此因應使用之原料適當調整厚度。滿足上述式(1)的保護薄膜舉例而言可藉由將環烯烴系聚合物薄膜延伸成厚度17~18μm左右來製造。
滿足上述式(1)的保護薄膜之市售品，可舉例如TJ25UL(富士軟片(Fujifilm)製，原料：三乙醯纖維素系聚合物，厚度：25μm)、ZT12(日本ZEON製，原料：環烯烴系聚合物，厚度：17μm)、KC2UA(Konica Minolta製，原料：三乙醯纖維素系聚合物，厚度：20μm)及KC2UGR-HC(Konica Minolta製，於三乙醯纖維素系聚合物薄膜上設有丙烯酸樹脂系硬塗層之薄膜，厚度：37μm)等。
滿足上述式(1)的保護薄膜之線膨脹係數Y(×10-5 /K)宜為4以下，且3.5以下為佳，更宜為3.1以下。
(3)接著劑層 接著劑層係由接著劑形成。接著劑種類並無特別限制，可使用各種物質。前述接著劑層只要在光學上呈透明即無特別限制，接著劑可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態者，惟以水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑為宜。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係以由水溶液構成之接著劑來使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑係利用電子射線、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線進行硬化之接著劑，譬如可以電子射線硬化型、紫外線硬化型之態樣作使用。活性能量線硬化型接著劑譬如可使用光自由基硬化型接著劑。將光自由基硬化型之活性能量線硬化型接著劑以紫外線硬化型作使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
接著劑之塗敷方式可按接著劑之黏度或目標厚度作適當選擇。塗敷方式之例可舉如：逆向塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或平版)、棒式逆向塗佈機、輥塗機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。除此之外，塗敷可適當使用浸漬方式等方式。
又，前述接著劑之塗敷使用水系接著劑等時，宜以最終形成之接著劑層厚度成為30~300nm的方式進行。前述接著劑層之厚度更宜為60~250nm。另一方面，在使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度成為0.1~200μm的方式進行。較宜為0.5~50μm，更宜為0.5~10μm。
此外，積層偏光件與保護薄膜時，可在保護薄膜與接著劑層之間設置易接著層。易接著層可由具有例如下述骨架的各種樹脂所形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，亦可於形成易接著層時添加其他添加劑。具體上可使用增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等之穩定劑等。
易接著層通常會事先設於保護薄膜上，並藉由接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光件積層。易接著層之形成可利用公知技術將易接著層之形成材塗敷於保護薄膜上並加以乾燥來進行。易接著層之形成材通常會考慮乾燥後之厚度、塗敷的圓滑性等進行調整做成已稀釋成適當濃度之溶液。易接著層於乾燥後之厚度宜為0.01~5μm，較宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。又，易接著層可設置多層，此時亦宜使易接著層之總厚度落在上述範圍內。
(4)異形部 異形部係缺口部或貫通孔。
前述缺口部設於偏光薄膜之外緣。具體而言係如圖1所示，前述缺口部2設於偏光薄膜1的短邊W及外緣角落3的至少1處(在圖1中，缺口部2分別於短邊W及外緣角落3各設有1個)。要設置多個前述缺口部2時，該等可為相同形狀，亦可為不同形狀。前述缺口部2可於1個短邊W上設置2個以上，亦可分別於2個短邊W上各設置1個以上。又，前述缺口部2可設於有4處的外緣角落3的1處，亦可設於2處以上。另外，未設置前述缺口部2的外緣角落3可為方角，亦可為圓角。
前述缺口部2由直線、曲線或該等之組合構成。
在本發明中，係如圖1及2所示，構成前述缺口部2之形狀的2條直線形成之角度θ1 為90°以上且小於180°，且宜為90°以上且135°以下。角度θ1 在前述範圍外時，則在熱衝擊之嚴酷環境下，基於膨脹、收縮而生之應力會集中於2條直線相交之部分4，使該部分4容易產生裂痕。
又，在本發明中，係如圖1所示，構成前述缺口部2之形狀的曲線之曲率半徑R1 為0.2mm以上，宜為1mm以上，更宜為2mm以上，且3mm以上更佳，5mm以上又更佳。曲率半徑R1 小於0.2mm時，在熱衝擊之嚴酷環境下，基於膨脹、收縮而生之應力會集中於曲線部分，使該曲線部分容易產生裂痕。
如圖1所示，前述缺口部2在短邊W上之長度W1 宜為2mm以上，且4mm以上更佳，6mm以上又更佳，10mm以上又再更佳，30mm以上又再更佳，50mm以上又再更佳。長度W1 在前述範圍外時，則易產生裂痕。
如圖1所示，前述缺口部2距離短邊W之最大深度D宜為2~25mm，且2~13mm更佳，2~10mm又更佳。最大深度D在前述範圍外時，則易產生裂痕。
圖3係顯示缺口部2之形狀之另一具體例的概略圖。另外，缺口部2只要如前述係由直線、曲線或該等之組合構成，且角度θ1 為90°以上且小於180°或曲率半徑R1 為0.2mm以上的形狀即可，其他形狀並無特別限制，可因應偏光薄膜之用途、機能及設計等而製成任意形狀。
前述貫通孔設於偏光薄膜之平面內部。具體而言係如圖4所示，前述貫通孔5於偏光薄膜1之平面內部設有至少1個(在圖4中，貫通孔5設有2個)。要設置多個前述貫通孔5時，該等可為相同形狀亦可為不同形狀。
前述貫通孔5由直線、曲線或該等之組合構成。
本發明中，如圖4所示，構成前述貫通孔5之形狀的2條直線形成之角度θ2 為90°以上且小於180°，且宜為90°以上且在135°以下。角度θ2 在前述範圍外時，則在熱衝擊之嚴酷環境下，基於膨脹、收縮而生之應力會集中於2條直線相交之部分6，使該部分6容易產生裂痕。
又，本發明中，如圖4所示，構成前述貫通孔5之形狀的曲線之曲率半徑R2 為0.2mm以上，宜為1mm以上，且宜為2mm以上，更宜為3mm以上，且更宜為5mm以上；又宜為30mm以下，且宜為25mm以下，更宜為20mm以下，且更宜為10mm以下。曲率半徑R2 小於0.2mm時，則在熱衝擊之嚴酷環境下，基於膨脹、收縮而生之應力會集中於曲線部分，使該曲線部分容易產生裂痕。
前述貫通孔5只要如前述係由直線、曲線或該等之組合構成，且角度θ2 為90°以上且小於180°或曲率半徑R2 為0.2mm以上之形狀即可，其他形狀無特別限制，可因應偏光薄膜的用途、機能及設計等採用任意形狀。
前述貫通孔5之形狀可舉例如圓形、橢圓形(對稱軸有1條者、對稱軸有2條者)、圓角長方形、四角形(正方形、長方形)及五角以上的多角形等。為圓形時，半徑宜為0.2~30mm，且宜為2~10mm。為楕圓形時，長徑宜較下述短徑值更大且較短邊W更小，而短徑宜為0.2~30mm，且更宜為2~10mm。為圓角長方形時，圓角之曲率半徑宜為0.2~30mm，且2~10mm更佳，長軸之長度宜為10~200mm，且50~190mm更佳，110~190mm又更佳。為正方形時，邊長宜為10~200mm，且宜為50~100mm。為長方形時，長邊宜為10~200mm，且宜為50~190mm，更宜為110~190mm，而短邊宜為5~100mm，且宜為25~90mm，更宜為50~90mm。
本發明之偏光薄膜亦可具有前述缺口部2與前述貫通孔5各1個以上。
形成前述異形部之方法可舉例如沖裁加工、端銑刀加工及雷射加工等。前述異形部一般係在積層各層之後利用前述加工來形成。
2.附黏著劑層之偏光薄膜 本發明之附黏著劑層之偏光薄膜具有前述偏光薄膜及黏著劑層。
為偏光件兩面設有保護薄膜之雙面保護偏光薄膜時，係於雙面保護偏光薄膜之一面直接或隔著其他層設置黏著劑層。此外，亦可於雙面保護偏光薄膜之另一面直接或隔著其他層設置表面保護薄膜。
為僅偏光件單面設有保護薄膜之單面保護偏光薄膜時，係於單面保護偏光薄膜的偏光件側直接或隔著其他層設置黏著劑層。此外，亦可於單面保護偏光薄膜的保護薄膜側直接或隔著其他層設置表面保護薄膜。
前述其他層無特別限制，可舉設於偏光薄膜之公知的機能層或光學層等。光學層可舉例如反射板、半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等之波長板)、視角補償薄膜及增亮薄膜等。前述其他層可設置有1層亦可設置有2層以上。
前述黏著劑層係為了將偏光薄膜貼合於液晶單元等單元基板而設於偏光薄膜之單面。
前述黏著劑層之厚度並無特別限定，舉例而言可為1~100μm左右，宜為2~50μm，更宜為2~40μm，又更宜為5~35μm。
前述黏著劑層之形成可使用適當的黏著劑，關於其種類並無特別限制。作為黏著劑可舉橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又適宜使用光學透明性佳、展現適度的濕潤性、凝集性與接著性的黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就展現此種特徵者，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
形成黏著劑層之方法可舉例如：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理過之分離件等，並將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，將其轉印至偏光薄膜上之方法；或者塗佈前述黏著劑，並將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光薄膜上形成黏著劑層之方法等。另，於塗佈黏著劑時可適當另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
經剝離處理過之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。於所述襯材上塗佈黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，使黏著劑乾燥之方法可視目的採用適當且適切的方法。宜使用將上述塗佈膜進行過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。藉由將加熱溫度設定在上述範圍內，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。
黏著劑層之形成方法可採用各種方法。具體而言，可舉出例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刀式塗佈、氣動刮刀塗佈、簾塗佈、唇塗佈、利用模塗機等的擠製塗佈法等方法。
當前述黏著劑層露出時，可利用經剝離處理過的片材(分離件)保護黏著劑層直到供實際應用前。
作為分離件的構成材料，可以列舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片體等等，惟從表面平滑性優良此點來看，適宜採用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要為可保護前述黏著劑層之薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度通常為5~200μm，宜為5~100μm左右。對前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、二氧化矽粉等實行脫模及防污處理，及施行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高自前述黏著劑層剝離之剝離性。
前述表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，且係隔著該黏著劑層保護偏光薄膜。
由檢查性及管理性等觀點，前述表面保護薄膜之基材薄膜可選擇具有各向同性或近乎各向同性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂般透明的聚合物。其等之中又以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜可以1種或2種以上之薄膜材料的層合體型態作使用，或可使用前述薄膜之延伸物。基材薄膜的厚度通常為500μm以下，宜為10~200μm。
形成前述表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑可適當選擇以(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物的黏著劑來使用。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，以丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑為宜。黏著劑層之厚度(乾燥膜厚)可因應所需黏著力決定。通常為1~100μm左右，宜為5~50μm。
此外，對表面保護薄膜亦可在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面藉由聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料設置剝離處理層。
3.影像顯示裝置 本發明之影像顯示裝置只要有包含本發明之偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜即可，至於其餘構成，可舉與歷來之影像顯示裝置相同者。前述偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜可應用於影像顯示單元。舉例而言，當影像顯示裝置為液晶顯示裝置時，前述偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜可應用於影像顯示單元(液晶單元)之視辨側、背光側之任一側。而當影像顯示裝置是有機EL顯示裝置時，前述偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜可應用於影像顯示單元之視辨側。本發明之影像顯示裝置由於包含前述偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜，故具有高度可靠性。 實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。
(製作偏光件) 對吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面施加電暈處理，並對該電暈處理面於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度：4200，皂化度：99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度：1200，乙醯乙醯基改質度：4.6%，皂化度：99.0莫耳%以上，日本合成化學工業(股)製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，而製出積層體。 在120℃之烘箱內，使所獲得之積層體在周速相異的輥間往縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸2.0倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。 接著，使其浸漬於液溫30℃的染色浴中並同時調整碘濃度、浸漬時間以使偏光板成預定之透射率。本實施例係使其浸漬於相對於100重量份的水摻混0.2重量份的碘、1.0重量份的碘化鉀所得之碘水溶液中60秒(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混3重量份的硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4.5重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥間往縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份的碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 以上述方式製得了包含厚度5μm之偏光件的光學薄膜積層體。所製得之偏光件的硼酸含量為20重量%。
(製作應用於保護薄膜之接著劑) 摻混N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光引發劑「IRGACURE 819」(BASF公司製)3重量份，而調製出紫外線硬化型接著劑。
製造例1(製作附HC之25μmTAC薄膜) 於將主成分為胺甲酸酯丙烯酸酯之紫外線硬化型樹脂單體或寡聚物溶解於乙酸丁酯而成之樹脂溶液(DIC(股)製，商品名：UNIDIC 17-806，固體成分濃度：80%)中，相對於該溶液中之固體成分每100份，添加光聚合引發劑(BASF(股)製，商品名：IRGACURE 907)5份及調平劑(DIC(股)製，商品名：GRANDIC PC 4100)0.1份。並且，於前述溶液中以45：55之比率加入環戊酮與丙二醇單甲基醚以使前述溶液中之固體成分濃度成為36%，而製作出硬塗層形成材料。將所製作出之硬塗層形成材料以使硬化後之硬塗層厚度成為7μm之方式塗佈至TJ25UL(富士軟片(Fujifilm)製，原料：三乙醯纖維素系聚合物，厚度：25μm)上而形成塗膜。之後，於90℃下將塗膜乾燥1分鐘，並以高壓水銀燈對塗膜照射累積光量300mJ/cm2 之紫外線，使前述塗膜硬化形成硬塗層而製作出附HC之25μmTAC薄膜。
實施例1(製作具有缺口部之單面保護偏光薄膜) 於上述光學薄膜積層體的偏光件(厚度：5μm)之表面，以使硬化後之接著劑層的厚度成為0.5μm之方式塗佈上述紫外線硬化型接著劑，並同時貼合保護薄膜1(製造例1之附HC之25μmTAC薄膜)後，照射紫外線作為活性能量線使前述接著劑硬化。然後，剝離設於偏光件單面之非晶性PET基材而製作出單面保護偏光薄膜(長邊L：130mm，短邊W：65mm)。之後，藉由端銑刀加工於前述單面保護偏光薄膜形成如圖3(a)下部所示之曲率半徑R1 為2.5mm、長度W1 為5mm且最大深度D為6.5mm的缺口部，而製作出具有缺口部之單面保護偏光薄膜。此外，偏光件之吸收軸係設為與長邊L平行。
實施例2、3、6~8、11~14及比較例1~3、5(製作具有缺口部之單面保護偏光薄膜) 使用表1所記載之保護薄膜1，除此之外依與實施例1相同方法製作出具有缺口部之單面保護偏光薄膜。另外，在比較例5中，係於單面保護偏光薄膜形成曲率半徑R1 為0.1mm、長度W1 為0.2mm且最大深度D為6.5mm的缺口部。
實施例16(製作具有缺口部之單面保護偏光薄膜) 於單面保護偏光薄膜形成如圖3(a)上部所示之角度θ1 為90°、長度W1 為5mm且最大深度D為6.5mm的缺口部，除此之外依與實施例1相同方法製作出具有缺口部之單面保護偏光薄膜。
比較例6(製作具有缺口部之單面保護偏光薄膜) 於單面保護偏光薄膜形成如圖5所示之角度θ1 為60°、長度W1 為5mm且最大深度D為4.3mm的缺口部，除此之外依與實施例1相同方法製作出具有缺口部之單面保護偏光薄膜。
實施例4(製作具有缺口部之雙面保護偏光薄膜) 於上述光學薄膜積層體的偏光件(厚度：5μm)之表面，以使硬化後之接著劑層的厚度成為0.1μm之方式塗佈上述紫外線硬化型接著劑，並同時貼合保護薄膜1(製造例1之附HC之25μmTAC薄膜)後，照射紫外線作為活性能量線使前述接著劑硬化。之後，剝離設於偏光件單面之非晶性PET基材，並於剝離面上以使硬化後之接著劑層的厚度成為0.1μm之方式塗佈上述紫外線硬化型接著劑，同時貼合保護薄膜2(25μmTAC薄膜：TJ25UL(富士軟片(Fujifilm)製，原料：三乙醯纖維素系聚合物，厚度：25μm))後，照射紫外線作為活性能量線使前述接著劑硬化而製作出雙面保護偏光薄膜(長邊L：130mm，短邊W：65mm)。之後，藉由端銑刀加工於前述雙面保護偏光薄膜形成如圖3(a)下部所示之曲率半徑R1 為2.5mm、長度W1 為5mm且最大深度D為6.5mm的缺口部，而製作出具有缺口部之雙面保護偏光薄膜。此外，偏光件之吸收軸係設為與長邊L平行。
實施例5、9、10、15及比較例4(製作具有缺口部之雙面保護偏光薄膜) 使用表1所記載之保護薄膜1及2，除此之外依與實施例4相同方法製作出具有缺口部之雙面保護偏光薄膜。
實施例17、18(製作具有貫通孔之單面保護偏光薄膜) 藉由雷射加工將圖4所示之曲率半徑R2 為2mm的貫通孔、或角度θ2 為90°且邊長為2mm的正方形貫通孔形成於單面保護偏光薄膜，除此之外依與實施例1相同方法製作出具有貫通孔之單面保護偏光薄膜。
比較例7(製作具有貫通孔之單面保護偏光薄膜) 藉由雷射加工將圖4所示之曲率半徑R2 為0.1mm的貫通孔形成於單面保護偏光薄膜，除此之外依與實施例1相同方法製作出具有貫通孔之單面保護偏光薄膜。
比較例8(製作具有貫通孔之單面保護偏光薄膜) 藉由雷射加工將角度θ2 為60°且邊長為5mm之正三角形貫通孔形成於單面保護偏光薄膜，除此之外依與實施例1相同方法製作出具有貫通孔之單面保護偏光薄膜。
表1記載之保護薄膜1及2如下述。
17μmCOP薄膜：ZT12(日本ZEON製，環烯烴系聚合物薄膜經雙軸延伸之正面相位差116nm且厚度相位差81nm之相位差薄膜，厚度：17μm)
20μmTAC薄膜：KC2UA(Konica Minolta製，原料：三乙醯纖維素系聚合物，厚度：20μm)
20μm丙烯酸薄膜的製造方法 於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管、氮導入管的容量30L之釜型反應器中，饋入8,000g之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2,000g之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10,000g之4-甲基-2-戊酮(甲基異丁基酮，MIBK)、5g之正十二硫醇，並一邊使氮通過其中一邊升溫至105℃並回流後，添加5.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯(Kayakarubon BIC-7，KAYAKU AKZO CO., LTD.製)作為聚合引發劑，同時花費4小時滴下由10.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯與230g之MIBK構成之溶液，並在回流下，於約105~120℃下進行溶液聚合，再花費4小時進行熟成。 於所製得之聚合物溶液中加入30g之磷酸十八酯/磷酸二(十八基)酯混合物(Phoslex A-18，堺化學工業(股)製)，並於回流下在約90~120℃下進行5小時環化縮合反應。接著，將所製得之聚合物溶液以用樹脂量換算為2.0kg/h之處理速度導入套筒溫度260℃、旋轉數100rpm、減壓度13.3~400hPa(10~300mmHg)、後通氣孔數1個、前通氣孔數4個的通氣孔式雙螺桿擠製機(φ＝29.75mm、L/D＝30)中，並於該擠製機內，進一步進行環化縮合反應與去揮發並進行擠製，藉此製得含內酯環之聚合物的透明丸粒。 針對所製得之含內酯環之聚合物進行動態TG之測定後，檢測出0.17質量%之質量減損。又，該含內酯環之聚合物的重量平均分子量為133,000，熔流速率為6.5g/10min，且玻璃轉移溫度為131℃。 使用單軸擠製機(螺桿30mmφ)，將所製得之丸粒與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂(TOYO AS AS20，TOYO STYRENE CO., LTD.製)以質量比90/10進行捏合擠製，藉此製得透明丸粒。所得丸粒之玻璃轉移溫度為127℃。 使用50mmφ之單軸擠製機將該丸粒從400mm寬的衣架式T型模具進行熔融擠製，而製作出厚度80μm之薄膜。另外，係一邊供給相對於丸粒中之樹脂100重量份為0.66重量份的紫外線吸收劑(ADEKA公司製，商品名：LA-F70)一邊進行熔融擠製。使用雙軸延伸裝置將製作出之薄膜在150℃之溫度條件下延伸2.0倍，藉此製得厚度20μm之延伸薄膜(20μm丙烯酸薄膜)。測定該延伸薄膜之光學特性後，得全光線透射率為93%，面內相位差Δnd為0.8nm，厚度方向相位差Rth為1.5nm。
40μm丙烯酸薄膜(UV)的製造方法 將MS樹脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(莫耳比)=80/20之共聚物，新日鐵化學(股)製)以單甲胺進行醯亞胺化(醯亞胺化率：5%)。另，前述醯亞胺化是使用口徑15mm之咬合型同方向旋轉式雙軸擠製機。設擠製機之各溫度調節區之設定溫度為230℃、螺旋桿轉數為150rpm且以2.0kg/hr供給MS樹脂，單甲胺之供給量係相對於MS樹脂100重量份設為2重量份。從給料斗投入MS樹脂，以捏合塊熔融樹脂使其充滿後，從噴嘴注入單甲胺。於反應區之末端放入密封環並充滿樹脂。將排氣口之壓力減壓為-0.08MPa，以將反應後之副產物及過多的甲胺去揮發。將從設置於擠製機出口之模頭成形成束狀物送出之樹脂於水槽冷卻後，以製粒機使其丸粒化。將前述經醯亞胺化的MS樹脂進行熔融擠製並製膜。此時，相對於100重量份之MS樹脂，供給0.66重量份之紫外線吸收劑(ADEKA公司製，商品名：LA-F70)。接著，進行雙軸延伸成縱2倍、橫2倍而製出保護薄膜(40μm丙烯酸薄膜(UV)，厚度40μm，Re=2nm，Rth=2nm)。
包含交聯彈性體之30μm丙烯酸薄膜的製造方法 將具備以下組成的混合物饋入玻璃製反應器中，並在氮氣流中一邊攪拌一邊升溫至80℃後，一次性饋入甲基丙烯酸甲酯25份、甲基丙烯酸烯丙酯1份所構成之單體混合物與三級丁基過氧化氫0.1份的混合液中之25%，進行聚合45分鐘。 脫離子水　　　　　　　　　220份 硼酸　　　　　　　　　　　0.3份 碳酸鈉　　　　　　　　　　0.03份 N-月桂醯肌胺酸鈉　　　　　0.09份 甲醛次硫酸氫鈉　　　　　　0.09份 乙二胺四醋酸2-鈉　　　　　0.006份 硫酸亞鐵　　　　　　　　　0.002份 接著花費1小時連續添加該混合液的剩餘75%。添加完成後，於該溫度下維持2小時後結束聚合。又，期間追加了0.2份的N-月桂醯肌胺酸鈉。所製得之最內層交聯甲基丙烯酸系聚合物乳膠的聚合轉化率(聚合產量/單體饋入量)為98%。 將所製得之最內層聚合物乳膠在氮氣流中維持於80℃，並在添加過硫酸鉀0.1份後，花費5小時連續添加丙烯酸正丁酯41份、苯乙烯9份、甲基丙烯酸烯丙酯1份所構成之單體混合物。在此期間分3次添加油酸鉀0.1份。添加完單體混合物後，為了使聚合結束，再添加過硫酸鉀0.05份並保持2小時，而製得橡膠粒子。所製得之橡膠粒子的聚合轉化率為99%且粒徑為225nm。 將所製得之橡膠粒子乳膠維持於80℃，並在添加過硫酸鉀0.02份後花費1小時連續添加甲基丙烯酸甲酯14份、丙烯酸正丁酯1份的單體混合物。追加完單體混合物後保持1小時而製得接枝共聚物乳膠。聚合轉化率為99%。 將所製得之接枝共聚物乳膠維持於80℃，並花費0.5小時連續添加甲基丙烯酸甲酯5份、丙烯酸正丁酯5份的單體混合物。追加完單體混合物後保持1小時而製得含橡膠之接枝共聚物乳膠。聚合轉化率為99%。將所製得之含橡膠之接枝共聚物乳膠以氯化鈣進行鹽析凝固、熱處理、乾燥，而製得白色粉末狀的交聯彈性體。 將MS樹脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(莫耳比)=80/20之共聚物，新日鐵化學(股)製)以單甲胺進行醯亞胺化(醯亞胺化率：5%)。另，前述醯亞胺化是使用口徑15mm之咬合型同方向旋轉式雙軸擠製機。設擠製機之各溫度調節區之設定溫度為230℃、螺旋桿轉數為150rpm且以2.0kg/hr供給MS樹脂，單甲胺之供給量係相對於MS樹脂100重量份設為2重量份。從給料斗投入MS樹脂，以捏合塊熔融樹脂使其充滿後，從噴嘴注入單甲胺。於反應區之末端放入密封環並充滿樹脂。將排氣口之壓力減壓為-0.08MPa，以將反應後之副產物及過多的甲胺去揮發。將從設置於擠製機出口之模頭成形成束狀物送出之樹脂於水槽冷卻後，以製粒機使其丸粒化。將前述經醯亞胺化的MS樹脂進行熔融擠製並製膜。此時，相對於100重量份之MS樹脂，供給0.66重量份之紫外線吸收劑(ADEKA公司製，商品名：LA-F70)。接著，相對於MS樹脂100重量份供給10重量份之前述交聯彈性體。接著，將擠製所得之160μm的薄膜進行雙軸延伸成縱2倍、橫2倍，而製作出保護薄膜(包含交聯彈性體之30μm丙烯酸薄膜，厚度30μm，Re=2nm，Rth=2nm)。
附HC之37μmλ/4TAC薄膜：KC2UGR-HC(Konica Minolta製，三乙醯纖維素系聚合物薄膜上設有丙烯酸樹脂系硬塗層的薄膜，厚度：37μm)
13μmCOP薄膜：ZF-014(日本ZEON製，原料：環烯烴系聚合物，厚度：13μm)
附HC之20μmλ/4COP薄膜：ZD12(日本ZEON製，原料：環烯烴系聚合物、厚度：20μm)上設有丙烯酸樹脂系硬塗層的薄膜
附HC之40μm丙烯酸薄膜之製造方法 於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管、氮導入管的容量30L之釜型反應器中，饋入8,000g之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2,000g之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10,000g之4-甲基-2-戊酮(甲基異丁基酮，MIBK)、5g之正十二硫醇，並一邊使氮通過其中一邊升溫至105℃並回流後，添加5.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯(Kayakarubon BIC-7，KAYAKU AKZO CO., LTD.製)作為聚合引發劑，同時花費4小時滴下由10.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯與230g之MIBK構成之溶液，並在回流下，於約105~120℃下進行溶液聚合，再花費4小時進行熟成。 於所製得之聚合物溶液中加入30g之磷酸十八酯/磷酸二(十八基)酯混合物(Phoslex A-18，堺化學工業(股)製)，並於回流下在約90~120℃下進行5小時環化縮合反應。接著，將所製得之聚合物溶液以用樹脂量換算為2.0kg/h之處理速度導入套筒溫度260℃、旋轉數100rpm、減壓度13.3~400hPa(10~300mmHg)、後通氣孔數1個、前通氣孔數4個的通氣孔式雙螺桿擠製機(φ＝29.75mm、L/D＝30)中，並於該擠製機內，進一步進行環化縮合反應與去揮發並進行擠製，藉此製得含內酯環之聚合物的透明丸粒。 針對所製得之含內酯環之聚合物進行動態TG之測定後，檢測出0.17質量%之質量減損。又，該含內酯環之聚合物的重量平均分子量為133,000，熔流速率為6.5g/10min，且玻璃轉移溫度為131℃。 使用單軸擠製機(螺桿30mmφ)將所製得之丸粒與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂(TOYO AS AS20，TOYO STYRENE CO., LTD.製)以質量比90/10進行捏合擠製，藉此製得透明丸粒。所得丸粒之玻璃轉移溫度為127℃。 使用50mmφ之單軸擠製機將該丸粒從400mm寬的衣架式T型模具進行熔融擠製，而製作出厚度160μm之薄膜。使用雙軸延伸裝置將製作出之薄膜在150℃之溫度條件下延伸2.0倍，藉此製得厚度40μm之延伸薄膜。測定該延伸薄膜之光學特性後，得全光線透射率為93%，面內相位差Δnd為0.8nm，厚度方向相位差Rth為1.5nm。 塗敷液所含之樹脂係準備了固體成分70重量份之紫外線硬化型樹脂(新中村化學工業(股)製，商品名「NK oligomer UA-53H-80BK」固體成分濃度80%)及30重量份之紫外線硬化型樹脂(新中村化學(股)製，商品名「A-GLY-9E」固體成分濃度100%)。前述樹脂之樹脂固體成分每100重量份，添加5份光聚合引發劑(BASF(股)製，製品名「IRGACURE907」)及0.1份調平劑(DIC(股)製，製品名「GRANDIC PC4100」)。於上述摻混液中以80：20之比率加入甲苯與環戊酮而使上述溶液中之固體成分濃度成為40%。經由以上程序製做出硬塗層形成材料。 將所製作出之硬塗層形成材料以使硬化後之硬塗層厚度成為7μm之方式塗佈至前述延伸薄膜上而形成塗膜。之後，於90℃下將塗膜乾燥1分鐘，並以高壓水銀燈對塗膜照射累積光量300mJ/cm2 之紫外線，使前述塗膜硬化形成硬塗層而製作出附HC之40μm丙烯酸薄膜。
附HC之包含交聯彈性體之30μm丙烯酸薄膜的製造方法 混合15官能胺甲酸酯丙烯酸酯寡聚物(新中村化學公司製，商品名：NK Oligo UA-53H、重量平均分子量：2300)22份、新戊四醇三丙烯酸酯(大阪有機化學工業公司製，商品名：Viscoat#300)28份、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(新中村化學公司製，商品名：NK Ester A-GLY-9E)50份、光聚合引發劑(Ciba Japan公司製，商品名：IRGACURE 907)3份，並以甲基異丁基酮稀釋成固體成分濃度為40%，而製作出硬塗層形成材料。 將所製作出之硬塗層形成材料以使硬化後之硬塗層厚度成為10μm之方式，塗佈至前述包含交聯彈性體的30μm丙烯酸薄膜上而形成塗膜。之後，於90℃下將塗膜乾燥1分鐘，並以高壓水銀燈對塗膜照射累積光量200mJ/cm2 之紫外線，使前述塗膜硬化形成硬塗層而製作出附HC之包含交聯彈性體的30μm丙烯酸薄膜。
40μm丙烯酸薄膜之製造方法 於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管、氮導入管的容量30L之釜型反應器中，饋入8,000g之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2,000g之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10,000g之4-甲基-2-戊酮(甲基異丁基酮，MIBK)、5g之正十二硫醇，並一邊使氮通過其中一邊升溫至105℃並回流後，添加5.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯(Kayakarubon BIC-7，KAYAKU AKZO CO., LTD.製)作為聚合引發劑，同時花費4小時滴下由10.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯與230g之MIBK構成之溶液，並在回流下，於約105~120℃下進行溶液聚合，再花費4小時進行熟成。 於所製得之聚合物溶液中加入30g之磷酸十八酯/磷酸二(十八基)酯混合物(Phoslex A-18，堺化學工業(股)製)，並於回流下在約90~120℃下進行5小時環化縮合反應。接著，將所製得之聚合物溶液以用樹脂量換算為2.0kg/h之處理速度導入套筒溫度260℃、旋轉數100rpm、減壓度13.3~400hPa(10~300mmHg)、後通氣孔數1個、前通氣孔數4個的通氣孔式雙螺桿擠製機(φ＝29.75mm、L/D＝30)中，並於該擠製機內，進一步進行環化縮合反應與去揮發並進行擠製，藉此製得含內酯環之聚合物的透明丸粒。 針對所製得之含內酯環之聚合物進行動態TG之測定後，檢測出0.17質量%之質量減損。又，該含內酯環之聚合物的重量平均分子量為133,000，熔流速率為6.5g/10min，且玻璃轉移溫度為131℃。 使用單軸擠製機(螺桿30mmφ)將所製得之丸粒與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂(TOYO AS AS20，TOYO STYRENE CO., LTD.製)以質量比90/10進行捏合擠製，藉此製得透明丸粒。所得丸粒之玻璃轉移溫度為127℃。 使用50mmφ之單軸擠製機將該丸粒從400mm寬的衣架式T型模具進行熔融擠製，而製作出厚度160μm之薄膜。使用雙軸延伸裝置將製作出之薄膜在150℃之溫度條件下延伸2.0倍，藉此製得厚度40μm之延伸薄膜(40μm丙烯酸薄膜)。測定該延伸薄膜之光學特性後，得全光線透射率為93%，面內相位差Δnd為0.8nm，厚度方向相位差Rth為1.5nm。
APF：增亮薄膜(住友3M製，商品名：APF，厚度26μm)
附HC之APF：增亮薄膜(住友3M製，商品名：APF、厚度20μm)上設有丙烯酸樹脂系硬塗層的薄膜
附HC之26μmCOP薄膜：ZF12-HC：日本ZEON製，原料：於環烯烴系聚合物施有丙烯酸樹脂性硬塗敷者
實施例及比較例所使用之保護薄膜的線膨脹係數及斷裂伸度的測定方法如下述。並對實施例及比較例所製出之偏光薄膜進行下述評估。將結果列於表1。
>測定保護薄膜的線膨脹係數Y(×10-5 /K)> 使用TMA分析裝置(Hitachi High-Tech Science Co.製，TMA7100E)，以下述測定條件測定保護薄膜的尺寸變化量，並將所得之值代入下述式(A)中算出尺寸變化率。進行4次測定並以4次的平均值作為尺寸變化率。然後，將所得尺寸變化率的平均值代入下述式(B)而算出保護薄膜的線膨脹係數Y(×10-5 /K)。 試樣大小：20mm×5mm 測定環境：-40℃⇔85℃ 升溫、降溫速度：10℃/min 測定次數：4 尺寸變化率＝(ΔL/L)×100　　　(A) ΔL：測定時的尺寸變化量(於-40℃時之尺寸與於85℃時之尺寸的差) L：測定前的尺寸(於25℃時之尺寸) 線膨脹係數Y(×10-5 /K)＝(尺寸變化率/ΔT)/100　　　(B) ΔT：溫度變化幅度
>測定保護薄膜的斷裂伸度X(%)> 使用萬能試驗機(Autograph)(島津製作所製)在下述測定條件下以固定速度拉伸直至保護薄膜斷裂，並測定斷裂時之長度。將初始長度與斷裂時的長度代入下述式(C)中算出斷裂伸度X(%)。進行3次測定並以3次的平均值作為斷裂伸度X(%)。 試樣大小：100mm×10mm 拉伸速度：300mm/min 測定環境：溫度23℃、濕度50%RH 測定次數：3 斷裂伸度X(%)＝{(斷裂時的長度-初始長度)/初始長度}×100　　　(C)
>偏光薄膜之蝴蝶試驗(耐裂痕性試驗)> 將實施例及比較例中所製作出之偏光薄膜使用手動滾筒透過黏著劑貼合於玻璃板(松浪硝子工業股份有限公司製)，並將已貼合於玻璃板的試樣放置於50℃的高壓釜中15分鐘。之後，將貼合於玻璃板之試樣投入試驗槽中，以下述條件進行了熱衝擊試驗。每10循環將已貼合於玻璃板的試樣取出，並計數在偏光薄膜之異形部有1mm以上的裂痕或貫穿性裂痕產生時的熱衝擊循環數。循環數為100以上時評估為〇，少於100時評估為×。 (測定條件) 測定環境：-40℃(維持30分鐘)⇔85℃(維持30分鐘) 升溫、降溫速度：10℃/min
[表1]
Figure 02_image001
由表1可知，實施例1~18之偏光薄膜不易因熱衝擊而於缺口部或貫通孔產生裂痕，而耐裂痕性優異。另一方面，使用未滿足本發明之式(1)的保護薄膜的比較例1~4之偏光薄膜則因熱衝擊而馬上於缺口部產生裂痕。又，即使是使用滿足本發明之式(1)的保護薄膜時，不具有本發明之特定缺口部或貫通孔的比較例5~8之偏光薄膜仍因熱衝擊而馬上於缺口部或貫通孔產生裂痕。
產業上之可利用性 本發明之偏光薄膜可將其單獨、或以積層其而成之光學薄膜形式用於液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
1‧‧‧偏光薄膜 2‧‧‧缺口部 3‧‧‧外緣角落 4、6‧‧‧2條直線相交之部分 5‧‧‧貫通孔 L‧‧‧長邊 W‧‧‧短邊 W1‧‧‧缺口部在短邊W上之長度 D‧‧‧缺口部距離短邊W之最大深度 θ1、θ2‧‧‧2條直線形成之角度 R1、R2‧‧‧曲線的曲率半徑
圖1係顯示本發明之缺口部形狀之具體例的概略圖。 圖2係顯示本發明之缺口部形狀之另一具體例的概略圖。 圖3係顯示本發明之缺口部形狀之另一具體例的概略圖。 圖4係顯示本發明之貫通孔形狀之具體例的概略圖。 圖5係顯示比較例6之缺口部形狀的概略圖。
1‧‧‧偏光薄膜
2‧‧‧缺口部
3‧‧‧外緣角落
4‧‧‧2條直線相交之部分
L‧‧‧長邊
W‧‧‧短邊
W1‧‧‧缺口部在短邊W上之長度
D‧‧‧缺口部距離短邊W之最大深度
θ1‧‧‧2條直線形成之角度
R1‧‧‧曲線的曲率半徑

Claims (9)

  1. 一種偏光薄膜，於偏光件之單面或兩面隔著接著劑層設有保護薄膜，該偏光薄膜之特徵在於： 前述偏光薄膜之外緣的長邊L為60~400mm及短邊W為30~300mm，並且 前述偏光薄膜具有1個以上異形部，且該異形部係選自於缺口部及貫通孔之至少1種； 前述缺口部設於前述偏光薄膜之外緣，且 前述缺口部之形狀由直線、曲線或該等之組合構成； 構成前述缺口部之形狀的2條前述直線形成之角度θ1 為90°以上且小於180°，且 構成前述缺口部之形狀的前述曲線之曲率半徑R1 為0.2mm以上； 前述貫通孔設於前述偏光薄膜之平面內部，且 前述貫通孔之形狀由直線、曲線或該等之組合構成； 構成前述貫通孔之形狀的2條前述直線形成之角度θ2 為90°以上且小於180°，且 構成前述貫通孔之形狀的前述曲線之曲率半徑R2 為0.2mm以上； 設於偏光件的前述保護薄膜中之至少一者滿足下述式(1)： Y≦1.36×lnX+4.5　　　(1) Y：保護薄膜的線膨脹係數(×10-5 /K) X：保護薄膜的斷裂伸度(%)。
  2. 如請求項1之偏光薄膜，其中前述缺口部設於前述短邊W及前述外緣角落中之至少1處。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜，其中前述缺口部在前述短邊W上之長度W1 為2mm以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光薄膜，其中前述缺口部距離前述短邊W之最大深度D為2~25mm。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光薄膜，其中前述貫通孔為圓形、橢圓形、圓角長方形、四角形或五角以上的多角形。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光薄膜，其中前述Y(×10-5 /K)為4以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光薄膜，其中前述偏光件的厚度為10μm以下。
  8. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，具有如請求項1至7中任一項之偏光薄膜及黏著劑層。
  9. 一種影像顯示裝置，其中於影像顯示單元配置有如請求項1至7中任一項之偏光薄膜或如請求項8之附黏著劑層之偏光薄膜。
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