TWI682198B - 偏光板 - Google Patents

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TWI682198B TW104130975A TW104130975A TWI682198B TW I682198 B TWI682198 B TW I682198B TW 104130975 A TW104130975 A TW 104130975A TW 104130975 A TW104130975 A TW 104130975A TW I682198 B TWI682198 B TW I682198B
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Abstract

本發明之課題在於提供一種具有光學機能薄膜及偏光膜(偏光件)的偏光板，其係一薄型且偏光膜之耐久性優異的偏光板。在解決手段上，本發明之偏光板係依序具有光學機能薄膜、黏著劑層、偏光膜及保護薄膜，其中，該偏光膜之厚度在15μm以下，該黏著劑層之厚度在15μm以下，該光學機能薄膜之透濕度在200g/m2/24h以下，且該保護薄膜之透濕度在1000g/m2/24h以下。

Description

偏光板 技術領域
本發明係有關於一種偏光板。
背景技術
近年來，於影像顯示裝置(特別是行動用途之影像顯示裝置)上薄型化係有所進展，而對該影像顯示裝置所使用的偏光板，亦提高了其薄型化的要求。將偏光板薄型化的手段可列舉：將偏光件(偏光膜)本身薄膜化、僅於偏光件單側配置用於保護偏光件之保護薄膜等手段(例如，專利文獻1、專利文獻2)。僅於單側配置保護薄膜之偏光板，亦即由偏光件與配置於該偏光件單側上的保護薄膜所構成之偏光板(以下亦稱作單側保護偏光板)，係在偏光件上直接形成黏著劑層而與其他構件積層來使用。
另一方面，將影像顯示裝置之亮度提升作為目的，而有使用積層吸收型偏光板與作為亮度提升薄膜發揮功能的反射型偏光板而構成的光學積層體之提案(例如，專利文獻3)。在如此的光學積層體中亦為了謀求薄型化，而考慮將單側保護偏光板作為吸收型偏光板使用。
習知技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本專利第4691205號
[專利文獻2]日本專利第5048120號
[專利文獻3]日本專利特開2003-149438號公報
發明概要
本發明人等觀察到，在如前述般的偏光板之情況中，用於黏著單側保護偏光板與反射型偏光板等其他構件之黏著劑層會吸收水分，特別是在偏光膜較薄時(例如，厚度在15μm以下)，經由黏著劑層而來之水分會破壞偏光膜(偏光件)中的碘-PVA錯合物，而使偏光膜劣化。所述偏光膜之劣化在偏光膜之角落部分會變得顯著，到了要求影像顯示裝置窄邊框化的近年來，開始特別形成一項問題。
本發明係用來解決前述習知課題所為者，其主要目的在於提供一種具有光學機能薄膜及偏光膜的偏光板，其係一薄型且偏光膜之耐久性優異的偏光板。
本發明之偏光板係依序具有光學機能薄膜、黏著劑層、偏光膜及保護薄膜，其中該偏光膜之厚度在15μm以下，該黏著劑層之厚度在15μm以下，該光學機能薄膜之透濕度在200g/m2/24h以下，且該保護薄膜之透濕度在1000g/m2/24h以下。
於1個實施形態中，前述黏著劑層之50μm換算透濕度在 1500g/m2/24h以下。
於1個實施形態中，前述黏著劑層之50μm換算透濕度係在前述光學機能薄膜之50μm換算透濕度以下。
於1個實施形態中，前述黏著劑層之厚度在5μm以下。
於1個實施形態中，前述偏光膜為碘系偏光膜。
於1個實施形態中，前述光學機能薄膜之厚度在40μm以下。
於1個實施形態中，前述保護薄膜之厚度在40μm以下。
於1個實施形態中，本發明之偏光板之厚度在150μm以下。
依據本發明，藉由依序具有光學機能薄膜、厚度在15μm以下之黏著劑層、偏光膜及保護薄膜，可得到能抑制尤其是在角落部分之偏光膜的水分劣化之偏光板。更詳而言之，藉由在偏光膜其中一面具有保護薄膜，可阻隔水分進入至該面，例如，即便在保護薄膜之外側形成其他黏著劑層，仍可抑制偏光膜之水分劣化。又，藉由在偏光膜之另一面透過預定厚度以下的黏著劑層來配置光學機能薄膜，可抑制水分進入該面及該黏著劑層端部。此外，藉由將光學機能薄膜及保護薄膜之透濕度設在預定值以下，可顯著地抑制偏光膜之水分劣化。
又，依據本發明，藉由具有厚度較薄的黏著劑層及偏光膜，且僅具有1片保護薄膜，即可得到薄型之偏光板。
10‧‧‧光學機能薄膜
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧偏光膜
40‧‧‧保護薄膜
50‧‧‧其他黏著劑層
100,100’‧‧‧偏光板
圖1(a)、(b)係藉由本發明1個實施形態而得之偏光板的截面示意圖。
圖2係顯示本發明之偏光板所用直線偏光分離薄膜之一範例的透視示意圖。
圖3(a)係顯示實施例8所得偏光板之角落部分的外觀之照片圖；圖3(b)係顯示比較例1所得偏光板之角落部分的外觀之照片圖。
用以實施發明之形態
A.偏光板之全體構成
圖1(a)係藉由本發明1個實施形態而得之偏光板的截面示意圖。此偏光板100依序具有光學機能薄膜10、黏著劑層20、偏光膜30及保護薄膜40。光學機能薄膜10可舉例如：直線偏光分離薄膜、相位差薄膜等薄膜。光學機能薄膜10亦能作為保護偏光膜30之薄膜發揮功能。黏著劑層20之厚度在15μm以下。偏光膜30具有以下功能：將入射光分離成正交的2個偏光成分，使其中一者之偏光成分透射，而使另一者之偏光成分被吸收。偏光膜30之厚度在15μm以下。保護薄膜40具有保護偏光膜30之功能，例如可透過接著劑層(未圖示)黏著在偏光膜而被配置。
前述直線偏光分離薄膜係具有透射軸及反射軸，且可透射特定偏光狀態(偏光方向)之偏光，並反射除此之外的偏光狀態之光，而可作為亮度提升薄膜發揮功能之薄膜。在使用直線偏光分離薄膜作為前述光學機能薄膜10 時，直線偏光分離薄膜及偏光膜，較佳係以直線偏光分離薄膜之透射軸與偏光膜之吸收軸實質正交的方式積層。於本說明書中，「實質正交」包含光學上2個軸所成角度為90°±2°之情況，且較佳為90°±1°。
於本發明中，藉由具有光學機能薄膜，而可得到適於各種用途之偏光板。舉例而言，若使用直線偏光分離薄膜來作為光學機能薄膜，在適用在影像顯示裝置時，可得到有助於提升來自背光源之光的利用效率之偏光板。又，由於光學機能薄膜會保護偏光膜，因此可採用僅具有1片保護薄膜的構成。如前所述般使用薄型的偏光膜(厚度15μm以下)，且藉由光學機能薄膜來承擔偏光膜之保護，而可得到具有適於各種用途的機能且非常薄的偏光板。本發明之偏光板的厚度係以150μm以下為佳，且以120μm以下更佳，並以60μm~100μm又更佳。
圖1(b)係藉由本發明之其他實施形態而得之偏光板的截面示意圖。此偏光板100’係在與保護薄膜40之偏光膜30相反側之面上，配置其他黏著劑層50。於本發明中，即便為如此地具備其他黏著劑層50之構成，藉由在偏光膜30之其中一個面(紙面下側之面)上配置保護薄膜40，仍可防止該其他黏著劑層50所吸收的水分與偏光膜30接觸。其結果會防止因偏光膜30因水分而造成的劣化。前述其他黏著劑層可藉由任意適當的黏著劑來形成。構成其他黏著劑層之材料可舉例如將下列聚合物作為基底聚合物之材料：丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚 醯胺、聚醚、氟系聚合物、橡膠系聚合物、異氰酸酯系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、明膠系聚合物、乙烯基系聚合物、乳膠系聚合物、水系聚酯等之聚合物。其中，從低透濕性的觀點來看，係以將丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之材料為佳。其他黏著劑層之厚度可例如1μm~50μm。
如圖1(a)及(b)所示，本發明之偏光板在偏光膜30之其中一面(紙面上側之面)上，透過厚度在15μm以下之黏著劑層20來配置光學機能薄膜10，藉此抑制水分進入至該面及該黏著劑層端部。其結果，可防止特別在角落部分之偏光膜30因水分所造成的劣化。
於本發明中，如前所述，由於在偏光膜30之兩面上抑制水分之進入，因此可防止偏光膜30因水分所造成的劣化。可發揮如此效果之本發明偏光板，可適於使用在預想在高溫高濕下使用的行動用途之顯示裝置。
於1個實施形態中，本發明之偏光板可形成為長條狀(例如，100m以上)。
B.偏光膜
前述偏光膜之厚度係在15μm以下，以7μm以下為佳，且以6μm以下更佳。藉由使用如此薄的偏光膜，可得到薄型之偏光板。另一方面，前述偏光膜之厚度以1μm以上為佳，且以2μm以上更佳。
前述偏光膜較佳係於波長380nm~780nm任一者之波長顯示吸收二色性。偏光膜之單體穿透率係以40.0%以上為佳，且以41.0%以上更佳，並以42.0%以上又更佳，又 以43.0%以上特佳。偏光膜之偏光度係以99.8%以上為佳，且以99.9%以上更佳，並以99.95%以上又更佳。
較佳地，前述偏光膜為碘系偏光膜。更詳而言之，前述偏光膜可由含碘的聚乙烯醇系樹脂(以下，稱為「PVA系樹脂」)薄膜構成。
形成前述PVA系樹脂薄膜之PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。可舉例如：聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，以95.0莫耳%~99.95莫耳%為佳，並以99.0莫耳%~99.93莫耳%更佳。皂化度可以JIS K 6726-1994為準來求得。藉由使用如此皂化度的PVA系樹脂，可得到耐久性優異的偏光膜。當皂化度過高時，恐有膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可因應目的適當地選擇。平均聚合度通常為1000~10000，且以1200~5000為佳，並以1500~4500更佳。再者，平均聚合度可以JIS K 6726-1994為準來求得。
前述偏光膜之製造方法可舉例如：將PVA系樹脂薄膜單獨物延伸、染色的方法(I)，以及將具有樹脂基材及聚乙烯醇系樹脂層之積層體(i)延伸、染色的方法(II)等。方法(I)由於是所屬技術領域中皆知慣用的方法，因此省略詳細的說明。前述製造方法(II)，較佳係包含：將具有樹脂基材及形成於該樹脂基材之至少單側上的聚乙烯醇系樹脂層 之積層體(i)進行延伸、染色，而在該樹脂基材上製作偏光膜之步驟。積層體(i)係可在樹脂基材上塗布包含聚乙烯醇系樹脂之塗布液，並使其乾燥而形成。又，積層體(i)亦可將聚乙烯醇系樹脂膜轉印在樹脂基材上而形成。前述製造方法(II)之詳細係可例如日本專利特開2012-73580號公報記載者，此公報係作為參考而被援用於本說明書中。
C.保護薄膜
前述保護薄膜可採用任意適當的樹脂薄膜。保護薄膜之形成材料可舉例如：三乙醯基纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂等之環烯烴系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等之烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等。再者，「(甲基)丙烯酸系樹脂」係指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
前述保護薄膜之厚度係以40μm以下為佳，且以5μm~35μm更佳，並以10μm~30μm又更佳。再者，前述保護薄膜亦可施以各種表面處理。
前述保護薄膜之透濕度係在1000g/m2/24h以下，且以140g/m2/24h以下為佳，且以100g/m2/24h以下更佳，並以90g/m2/24h以下又更佳。只要在如此的範圍內，即可防止偏光膜因水分所造成的劣化。保護薄膜之透濕度之下限可例如1g/m2/24h。再者，「透濕度」可為以JIS Z0208之透濕度試驗(杯式法)為準，在溫度40℃、濕度92%RH之環境氣體中，測量面積1m2之樣品在24小時內透過的水蒸氣量(g)而求得之值。
於1個實施形態中，前述保護薄膜亦可作為相位差薄膜發揮功能。舉例而言，在將本發明之偏光板適用在IPS模式的液晶顯示裝置時，可將折射率橢球為nx>ny>nz之相位差薄膜、折射率橢球為nz>nx>ny之相位差薄膜，或該等相位差薄膜之積層薄膜作為保護薄膜使用。再者，「nx」係薄膜面內之折射率成為最大時的方向(即慢軸方向)之折射率，「ny」係在薄膜面內與慢軸正交的方向之折射率，「nz」則為厚度方向之折射率。
D.光學機能薄膜
前述光學機能薄膜可使用任意適當的薄膜。可舉例如：可作為亮度提升薄膜發揮功能的直線偏光分離薄膜、相位差薄膜等。相位差薄膜可舉例如：由聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯系樹脂、環烯烴系樹脂等所構成的薄膜。相位差薄膜亦可為延伸薄膜。又，於1個實施形態中，相位差薄膜可作為λ/4板發揮功能。
前述光學機能薄膜之透濕度係在200g/m2/24h以下，且以100g/m2/24h以下為佳，且以80g/m2/24h以下更佳，並以50g/m2/24h以下又更佳。只要在如此的範圍內，即可防止偏光膜因水分所造成的劣化。於1個實施形態中，光學機能薄膜之透濕度在4g/m2/24h以上。其他實施形態中，光學機能薄膜之透濕度在20g/m2/24h以上。
前述光學機能薄膜之厚度係以50μm以下為佳，且以40μm以下更佳，並以10μm~40μm又更佳，並以20μm~40μm又更佳。只要在如此的範圍內，即可兼顧 水分透射性低的光學機能薄膜之形成及偏光板之薄型化。
D-1.直線偏光分離薄膜
於1個實施形態中，如前所述，使用直線偏光分離薄膜來作為光學機能薄膜。圖2係顯示直線偏光分離薄膜之一範例的透視示意圖。較佳地，直線偏光分離薄膜10為具有雙折射性之層A與實質不具有雙折射性之層B交互積層而成的多層積層體。舉例而言，在圖示例中，A層之X軸方向的折射率n(X)比Y軸方向的折射率n(Y)大，B層之X軸方向的折射率n(X)與Y軸方向的折射率n(Y)則是實質相同。因此，A層與B層之折射率差，在X軸方向很大，而在Y軸方向則實質為零。其結果，X軸方向會成為反射軸，Y軸方向則會成為透射軸。A層與B層之X軸方向上的折射率差係以0.2~0.3為佳。
前述A層較佳係以藉由延伸而顯現雙折射性之材料所構成。如此的材料之代表例可列舉：萘二羧酸聚酯(例如，聚萘二甲酸乙二酯)、聚碳酸酯及丙烯酸系樹脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯)。其中以低透濕性的觀點來看，以聚萘二甲酸乙二酯或聚碳酸酯為佳。前述B層較佳係以即便延伸仍會實質不顯現雙折射性之材料所構成。如此的材料之代表例可列舉：萘二羧酸與對苯二甲酸之共聚酯。
前述直線偏光分離薄膜，在A層與B層的界面，會透射具有第1偏光方向之光(例如，p波)，而會反射具有與第1偏光方向正交的第2偏光方向之光(例如，s波)。經反射的光，在A層與B層之界面，一部分會作為具有第1偏光方 向之光而透射，一部分則會作為具有第2偏光方向之光而反射。藉由在直線偏光分離薄膜之內部大量地重複如此的反射及透射，可提高光的利用效率。
較佳地，直線偏光分離薄膜，如圖2所示，包含反射層R來作為與偏光膜11相反側的最外層。藉由設置反射層R，可將最終未被利用而回到直線偏光分離薄膜最外部的光再進一步利用，因此可更為提高光的利用效率。反射層R代表性地係藉由聚酯樹脂層之多層構造來顯現反射機能。
前述直線偏光分離薄膜之全體厚度可因應目的、直線偏光分離薄膜所含層的合計數等來適當地設定。直線偏光分離薄膜之全體厚度係以50μm以下為佳，且以40μm以下更佳，並以10μm~40μm又更佳，又以20μm~40μm又更佳。只要在如此的範圍內，即可兼顧水分穿透性低的直線偏光分離薄膜之形成，及偏光板之薄型化。
前述直線偏光分離薄膜可使用例如日本專利特表平9-507308號公報所記載者。
前述直線偏光分離薄膜可直接使用市售品，亦可將市售品進行2次加工(例如，延伸)來使用。市售品可舉例如：3M公司製的商品名DBEF、3M公司製的商品名APF。
E.黏著劑層
前述偏光膜與光學機能薄膜係透過黏著劑層而被積層。
前述黏著劑層之厚度係在15μm以下。透過如此薄的黏著劑層來配置光學機能薄膜，可藉此防止偏光膜因 水分所造成的劣化。黏著劑層之厚度係以10μm以下為佳，且以5μm以下更佳。黏著劑層之厚度之下限值可為例如1μm。
前述黏著劑層之50μm換算透濕度係在1500g/m2/24h以下，以1200g/m2/24h以下為佳，且以1000g/m2/24h以下更佳，並以500g/m2/24h以下又更佳，並且以100g/m2/24h以下特佳，又以50g/m2/24h以下最佳。只要在如此的範圍內，即便在角落部分亦可防止偏光膜因水分所造成的劣化。黏著劑層之50μm換算透濕度之下限值可為例如1g/m2/24h。再者，在本說明書中，「50μm換算透濕度」可將以C項所說明的方法測量而得之透濕度，乘以(50μm/黏著劑層之厚度(μm))來算出。
於1個實施形態中，前述黏著劑層之50μm換算透濕度係在前述光學機能薄膜之50μm換算透濕度以下。如此的黏著劑層可具有防止因水分所造成的偏光膜劣化之機能，且在具有該黏著劑層之偏光板中，偏光膜之耐久性提升效果會變得顯著。黏著劑層之50μm換算透濕度，與光學機能薄膜之50μm換算透濕度之差(光學機能薄膜之50μm換算透濕度-黏著劑層之50μm換算透濕度)係以10g/m2/24以上為佳，且以50g/m2/24以上更佳，並以100g/m2/24以上且小於1400g/m2/24又更佳。
前述黏著劑層可藉由任意適當的黏著劑來形成。構成黏著劑層的材料可舉例如將下列聚合物作為基底聚合物之材料：丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系聚合物、橡膠系聚合物、異氰酸酯系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、明膠系聚合物、乙烯基系聚合物、乳膠系聚合物、水系聚酯等之聚合物。其中，從低透濕性之觀點來看，係以將丙烯酸系聚合物及/或橡膠系聚合物作為基底聚合物之材料為佳，且以將橡膠系聚合物作為基底聚合物之材料更佳。
較佳係使用非水溶性的黏著劑。若使用非水溶性的黏著劑，可形成透濕性低的黏著劑層，而可防止偏光膜因水分所造成的劣化。
F.偏光板之製造方法
前述偏光板可藉由任意適當的製造方法來製造。前述偏光板之製造方法可包含例如：積層偏光膜與保護薄膜而形成積層體I之步驟a；在光學機能薄膜上形成黏著劑層而得到積層體II之步驟b；及透過該黏著劑層貼合該積層體I之偏光膜與積層體II之光學機能薄膜之步驟c。當前述偏光板在與保護薄膜之偏光膜相反側的面上具有其他黏著劑層時，偏光板之製造方法可包含積層偏光膜與保護薄膜與其他黏著劑層之步驟a’，來代替步驟a。又，在將形成偏光膜時的樹脂基材作為保護薄膜時，亦即，將附有樹脂基材之偏光膜供至偏光板之製造方法時，係省略積層偏光膜及保護薄膜之步驟。
於1個實施形態中，在步驟a或步驟a’，偏光膜與保護薄膜之積層係藉由捲繞式製程(roll to roll process)來進行。較佳地，在B-1項所說明的偏光膜之製造方法中，透過 接著劑來積層經由MD(Machine Direction)延伸步驟而得且在縱向具有吸收軸的長條狀之偏光膜，與長條狀之保護薄膜，藉此得到積層體I。
較佳地，步驟a係在加熱下進行。加熱溫度係如後述般，在接著劑為水系接著劑或溶劑系接著劑時係接著劑乾燥的溫度，而在接著劑為活性能量線硬化型接著劑時係接著劑硬化的溫度。加熱溫度係以50℃以上為佳，且以55℃以上更佳，並以60℃以上又更佳。另一方面，加熱溫度係以80℃以下為佳。再者，在保護薄膜積層時進行的加熱，亦可兼有前述積層體之乾燥處理。
用於前述保護薄膜與偏光膜之積層之接著劑可採用任意適當的接著劑。具體而言，接著劑可為水系接著劑，亦可為溶劑系接著劑，且亦可為活性能量線硬化型接著劑。
前述活性能量線硬化型接著劑只要是可藉由照射活性能量線而硬化之接著劑，即可使用任意適當的接著劑。活性能量線硬化型接著劑可舉例如：紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。活性能量線硬化型接著劑之硬化型的具體例可列舉：自由基硬化型、陽離子硬化型、陰離子硬化型、其等之組合(例如，自由基硬化型與陽離子硬化型之混成物)。
前述活性能量線硬化型接著劑可舉例如：含有作為硬化成分之具有(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯醯胺基等自由基聚合性基的化合物(例如，單體及/或寡聚物)之接 著劑。
前述活性能量線硬化型接著劑及其硬化方法之具體例可例如日本專利特開2012-144690號公報所記載者。該記載係作為參考而被援用於本說明書中。
前述水系接著劑可採用任意適當的水系接著劑。較佳地，可使用包含PVA系樹脂之水系接著劑。從接著性之觀點來看，水系接著劑所含的PVA系樹脂之平均聚合度係以100~5500左右為佳，且以1000~4500更佳。從接著性的觀點來看，平均皂化度係以85莫耳%~100莫耳%左右為佳，並以90莫耳%~100莫耳%更佳。
前述水系接著劑所包含的PVA系樹脂較佳係含有乙醯乙醯基。此乃因可使PVA系樹脂層與保護薄膜之密著性優異，且可使耐久性優異。含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂可藉由例如以任意方法使PVA系樹脂與二乙烯酮(diketene)進行反應而得到。含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂的乙醯乙醯基改質度，代表性地為0.1莫耳%以上，且以0.1莫耳%~40莫耳%左右為佳，並以1莫耳%~20莫耳%更佳，且以1莫耳%~7莫耳%又更佳。再者，乙醯乙醯基改質度係藉由NMR測量而得之值。
前述水系接著劑之樹脂濃度係以0.1重量%~15重量%為佳，並以0.5重量%~10重量%更佳。
前述接著劑的塗布時之厚度可設定成任意適當的值。舉例而言，可設定成使得在硬化後或加熱(乾燥)後，得到所希望之厚度的接著劑層。接著劑層之厚度係以0.01 μm~7μm為佳，且以0.01μm~5μm更佳，並以0.01μm~2μm又更佳，並且以0.01μm~1μm最佳。
在前述步驟b中，在光學機能薄膜上塗布黏著劑，而在光學機能薄膜上形成黏著劑層。本發明之偏光板，藉由成為在光學機能薄膜與偏光膜之間配置黏著劑層如此般的構成，而在該偏光板製造時，可以卷之形態準備附有黏著劑層支光學機能薄膜(積層體I)。若以卷之形態準備積層體I，則可以捲繞式製程來進行積層體I與積層體II之貼合(步驟c)。
本發明之偏光板，如前所述，可以捲繞式製程來進行積層體I(保護薄膜/偏光膜)之製作、積層體II(黏著劑層/光學機能薄膜)及/或積層體I與積層體II之貼合，而使得生產性優異。若依據本發明，藉由具備黏著劑層，而可得到生產性優異且雖具備黏著劑層仍可防止偏光膜因水分所造成的劣化之偏光板。
實施例
以下，雖藉由實施例具體說明本發明，但本發明當不受該等實施例所限定。再者，各特性之測量方法係如以下所述。
1.厚度
使用數位式測微計(安立知(Anritsu)公司製，製品名「KC-351C」)來測量。
2.透濕度
以JIS Z0208之透濕度試驗(杯式法)為準，在溫度40℃、 濕度92%RH之環境氣體中，測量面積1m2之樣品在24小時內透過的水蒸氣量(g)。
再者，黏著劑層之50μm換算透濕度係將藉前述測量而得之測量值，乘以(50μm/黏著劑層之厚度(μm))來算出。
3.耐久性(角落部分之脫色)
所得之偏光板的耐久性係如以下般進行評定。在剝離分隔件之後，透過形成於偏光板最外側的黏著劑層(其他黏著劑層)來貼合偏光板與無鹼玻璃，而製作評定用樣品。將此評定用樣品進行50℃、5atm、15分鐘之熱壓爐處理後，放入65℃、90%RH之恆溫恆濕機中，並放置500小時。針對經過500小時後之評定用樣品，以光學顯微鏡觀察偏光膜之碘脫色的多少。於偏光膜之角落部產生的碘脫色部分，從該碘脫色部之內側端部與偏光膜之該角落部分之距離，來評定碘脫色之多少(亦即偏光板之耐久性)。再者，該距離越短則碘脫色越少，耐久性則越優異。
[實施例1] <積層體I(偏光膜/保護薄膜)之製造>
於空中輔助延伸(延伸溫度：130℃)在非晶性PET基材上製膜9μm厚之聚乙烯醇(PVA)層而得之積層體，而生成延伸積層體。接著，將延伸積層體浸漬於相對於水100重量份含有碘0.1重量份、碘化鉀0.7重量份之染色液中60秒，而生成著色積層體。再者，於硼酸水中延伸(延伸溫度：65℃)著色積層體。延伸處理之總延伸倍率係設為5.94倍。藉由前述操作，得到與包含非晶性PET基材一體延伸的4μm厚 PVA層之積層體(基材/偏光膜)。再者，一邊於該光學薄膜積層體的偏光膜之表面上塗布PVA系接著劑，一邊貼合20μm厚之保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜，透濕度：140g/m2/24h)之後，剝離非晶性PET基材，而得到具有薄型碘系偏光膜及配置該偏光膜之單側的保護薄膜之積層體I。
<積層體I’(偏光膜/保護薄膜/其他黏著劑層(/分隔件))之製造>
將丙烯酸丁酯99重量份、丙烯酸4-羥基丁酯1重量份，及相對於單體(固狀部分)100重量份為1重量份的作為起始劑之AIBN，與乙酸乙酯一起加入至具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，並在氮氣氣流下於60℃使反應其7小時後，將乙酸乙酯添加至該反應液中，而得到含有重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物的溶液(固狀部分濃度30重量%)。作為交聯劑，以前述丙烯酸系聚合物溶液之固狀部分每100重量份摻合0.1重量份之三羥甲基丙烷伸苯二甲基二異氰酸酯(三井化學公司製，商品名「Takenate D110N」)、二苯甲醯基過氧化物0.3重量份、γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業製，商品名「KBM-403」)0.1重量份至該溶液中，而得到黏著劑溶液a。
以噴注式塗布機將黏著劑溶液a均勻塗布至經矽酮系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分隔件)之表面上，並於155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而在分隔件之表面上形成厚度20μm之黏著劑層(其他黏著劑層)。接著，在前述積層體I之保護薄膜側上，黏著附分隔件 的黏著劑層(其他黏著劑層)，而得到積層體I’(偏光膜/保護薄膜/其他黏著劑層/分隔件)。
<積層體II(黏著劑層/直線偏光分離薄膜)之製造>
將丙烯酸丁酯100重量份、丙烯酸5重量份、丙烯酸羥基乙酯0.075重量份，及相對於單體(固狀部分)100重量份為1重量份的作為起始劑之AIBN，與乙酸乙酯一起加入至具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，並在氮氣氣流下於60℃使其反應7小時後，將乙酸乙酯添加至該反應液中，而得到含有重量平均分子量220萬之丙烯酸系聚合物的溶液(固狀部分濃度30重量%)。以前述丙烯酸系聚合物溶液之固狀部分每100重量份摻合0.6重量份之交聯劑(甲苯二異氰酸酯與三羥甲基丙烷之加成物，日本聚胺基甲酸酯工業公司製，商品名「Coronate L」)、γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製，「KBM-403」)0.075重量份至該溶液中，而得到黏著劑溶液b。
以噴注式塗布機將黏著劑溶液b均勻塗布至經矽酮系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分隔件)之表面上，並於155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而在分隔件之表面上形成厚度5μm之黏著劑層(50μm換算透濕度：1400g/m2/24h)。接著，在20μm之直線偏光分離薄膜(3M公司製，商品名「DBEF」，透濕度：45g/m2/24h)上貼合附分隔件的黏著劑層，而得到附分隔件的積層體II(黏著劑層/直線偏光分離薄膜)。
<偏光板之製作>
剝離前述積層體II之分隔件，貼合積層體II之黏著劑層及前述積層體I’之偏光膜，而得到偏光板(直線偏光分離薄膜(20μm)/黏著劑層(5μm)/偏光膜(4μm)/保護薄膜(20μm)/其他黏著劑層(/分隔件))。再者，以使偏光膜之透射軸與直線偏光分離薄膜之透射軸成為平行的方式積層積層體I’及積層體II。
將所得到的偏光板供至前述評定3(耐久性評定)。將結果示於表1。
[實施例2]
除了將積層體II中的黏著劑層之厚度設成12μm之外，與實施例1相同地進行，而得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
[實施例3]
除了使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：5μm，透濕度：140g/m2/24h)來代替直線偏光分離薄膜之外，與實施例1相同地進行，而得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
[實施例4]
除了使用13μm厚之保護薄膜(環烯烴系樹脂薄膜，透濕度：12g/m2/24h)來代替20μm厚之保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜，透濕度：140g/m2/24h)之外，與實施例1相同地進行，而得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
[實施例5]
除了使用下述黏著劑溶液c來代替黏著劑溶液b之外，與實施例1相同地進行，而得到偏光板。由黏著劑溶液c形成之黏著劑層，其厚度在5μm，且其50μm換算透濕度為50g/m2/24h。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
(黏著劑溶液c之製備)
以使固狀部分成為30重量%的方式調整對苯乙烯‧乙烯-丙烯共聚物‧苯乙烯之嵌段聚合物(Kuraray公司製，商品名「Septon 2063」，苯乙烯含量：13重量%)100重量份，摻合聚丁烯(JX日礦日石能源公司製，商品名「日石聚丁烯HV-300」)10重量份、萜烯酚增黏劑(Yasuhara Chemical公司製，商品名「YS POLYSTAR TH130」)40重量份及芳香族增黏劑(Eastman Chemical公司製，商品名「Piccolastic A5」)而成的甲苯溶液(黏著劑溶液)，而得到黏著劑溶液c。
[實施例6]
除了將黏著劑層之厚度設成12μm之外，與實施例5相同地進行，而得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
[實施例7]
除了使用13μm厚之保護薄膜(環烯烴系樹脂薄膜、透濕度：12g/m2/24h)來代替20μm厚之保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜、透濕度：140g/m2/24h)，並使用前述黏著劑溶液c來代替黏著劑溶液b，且將黏著劑層之厚度設成12μm之外， 與實施例1相同地進行來得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
[實施例8]
除了使用下述黏著劑溶液d來代替黏著劑溶液b，且將黏著劑層之厚度設成12μm之外，與實施例1相同地進行，而得到偏光板。由黏著劑溶液d形成之黏著劑層，其50μm換算透濕度為10g/m2/24h。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。又，以顯微鏡觀察所得到的偏光板之角落的外觀。所得到的顯微鏡照片係示於圖3(a)。
(黏著劑溶液d之製備)
以使固狀部分成為20重量%的方式調整對聚異丁烯(BASF公司製，商品名「Oppanol B80」)100重量份摻合氫化萜烯酚增黏劑(Yasuhara Chemical公司製，YS POLYSTAR UH115)10重量份而成的甲苯溶液(黏著劑溶液)，而得到黏著劑溶液d。
[比較例1]
與實施例1相同地進行，而得到積層體I。
與實施例1相同地進行，而得到黏著劑溶液a。以噴注式塗布機將黏著劑溶液a均勻塗布在經矽酮系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分隔件)之表面上，以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而在分隔件之表面上形成厚度20μm之黏著劑層(其他黏著劑層)。接著，在前述積層體I之偏光膜側，黏著附分隔件的黏著劑層(其他黏著劑 層)，而得到積層體C(保護薄膜/偏光膜/其他黏著劑層/分隔件)。
與實施例1相同地進行，而得到積層體II(黏著劑層/直線偏光分離薄膜)。
剝離前述積層體C之分隔件，將積層體II之黏著劑層與前述積層體C之保護薄膜貼合，而得到偏光板(直線偏光分離薄膜(20μm)/黏著劑層(5μm)/保護薄膜(20μm)/偏光膜(4μm)/其他黏著劑層(/分隔件))。再者，以使偏光膜之透射軸與直線偏光分離薄膜之透射軸成為平行的方式積層積層體C及積層體II。
將所得到的偏光板供於前述評定3(耐久性評定)。將結果示於表1。
又，以顯微鏡(與實施例8相等的倍率)觀察所得到的偏光板之角落的外觀。將所得到的顯微鏡照片示於圖3(b)。
[比較例2]
除了將積層體II中的黏著劑層之厚度設成20μm之外，與實施例1相同地進行而得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果示於表1。
[比較例3]
除了在形成積層體II時，使用黏著劑溶液a(實施例1中，積層體I’製造時所使用的黏著劑溶液，50μm換算透濕度：1400g/m2/24h)來代替黏著劑溶液b，並將黏著劑層之厚度設為20μm之外，與實施例1相同地進行而得到偏光板。將所得到的偏光板供以與實施例1相同的評定。將結果 示於表1。
Figure 104130975-A0202-12-0025-1
產業上之可利用性
本發明之偏光板適合用作液晶電視、液晶顯示器、行動電話、數位相機、視訊攝影機、可攜式遊戲機、車輛導航系統、影印機、印表機、傳真機、時鐘、微波爐等之液晶面板、有機EL裝置的抗反射板來使用。
10‧‧‧光學機能薄膜
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧偏光膜
40‧‧‧保護薄膜
50‧‧‧其他黏著劑層
100‧‧‧偏光板

Claims (7)

  1. 一種偏光板，係依序具有光學機能薄膜、黏著劑層、偏光膜及保護薄膜，其中，該偏光膜之厚度在15μm以下，該黏著劑層之厚度在15μm以下，該光學機能薄膜之透濕度在200g/m2/24h以下，該保護薄膜之透濕度在1000g/m2/24h以下，且前述黏著劑層之50μm換算透濕度在1500g/m2/24h以下。
  2. 如請求項1之偏光板，其中前述黏著劑層之50μm換算透濕度係在前述光學機能薄膜之50μm換算透濕度以下。
  3. 如請求項1之偏光板，其中前述黏著劑層之厚度在5μm以下。
  4. 如請求項1之偏光板，其中前述偏光膜為碘系偏光膜。
  5. 如請求項1之偏光板，其中前述光學機能薄膜之厚度在40μm以下。
  6. 如請求項1之偏光板，其中前述保護薄膜之厚度在40μm以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光板，其厚度在150μm以下。
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