TW201727264A - 單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明之僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，係於前述偏光件的至少一面具有透明樹脂層，前述保護薄膜是隔著或不隔著設在前述偏光件至少一面之透明樹脂層來設置，並且，前述透明樹脂層含有自鹼金屬無機鹽及鹼土類金屬無機鹽中選出之任意至少1者。該單面保護偏光薄膜有耐裂紋性並可減抑加熱加濕試驗時光學特性的降低及色相的偏藍現象。

Description

單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置
發明領域 本發明係有關於一種僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜。又本發明係有關於一種使用了前述單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜。前述單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜，可單獨應用或將其積層以作為光學薄膜，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等之影像顯示裝置。
液晶顯示裝置因其影像形成方式，在形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜是必要而不可或缺的。偏光薄膜一般而言是使用：在聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料所構成的偏光件單面或兩面，以聚乙烯醇系接著劑等貼合保護薄膜而成之物。
又，偏光薄膜在熱衝撃(例如在95℃250小時之高溫下試驗)的嚴苛環境下，會因為偏光件收縮應力的變化，而有容易在偏光件吸收軸方向上整體性發生裂紋的問題。亦即，偏光薄膜在前述嚴苛環境下對熱衝撃的耐裂紋性並不足夠。尤其從薄型化的觀點來看，就僅於偏光件單面設了保護薄膜的單面保護偏光薄膜而言，由於設有保護薄膜側之偏光件收縮應力與保護薄膜相反側之偏光件收縮應力的落差，偏光件內部會有過剩應力產生，而有容易在偏光件的吸收軸方向上發生各種裂紋的問題，其係從數百μm之微小裂紋乃至於猶如貫通整面般之貫通裂紋等各種裂紋。
為能抑制前述裂紋的發生，例如已有一種附黏著劑層之偏光薄膜獲提出，其係於單面保護偏光薄膜上設有拉張彈性模數100MPa以上的保護層、又在該保護層上設有黏著劑層(專利文獻1)。此外，亦已提出一種附黏著劑層之偏光薄膜，其係於厚度25μm以下之偏光件的單面上具有以硬化型樹脂組成物之硬化物構成的保護層、在偏光件另一面上具有保護薄膜、並在前述保護層的外側具有黏著劑層(專利文獻2)。前述專利文獻1、2所記載的附黏著劑層之偏光薄膜，從抑制裂紋發生此點來看是有效的。又，從抑制裂紋發生並同時薄層化、輕量化的觀點出發，已有提出可在偏光件之至少一面上設置由水溶性皮膜形成性組成物(聚乙烯醇系樹脂組成物)構成的保護層(專利文獻3)。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利公開案第2010-009027號公報 專利文獻2：日本專利公開案第2013-160775號公報 專利文獻3：日本專利公開案第2005-043858號公報
發明概要 發明欲解決之課題 根據前述專利文獻1至3，藉由前述保護層可對前偏光件往吸收軸方向的收縮有某種程度的抑制，而能夠抑制前述裂紋的發生。在前述保護層的形成上，例如從對偏光件的密著性或塗佈穩定性、生產性等觀點來看，理想的是含有聚乙烯醇系樹脂的形成材。特別是在專利文獻3記載了宜於聚乙烯醇系樹脂中混入水溶性環氧樹脂、二醛(如乙二醛)、異氰酸酯以及如鐵離子、鈷離子、鎳離子、銅離子、鋅離子、鋁離子、鋯離子之類的金屬離子等硬化性成分乃至於交聯劑。
然而，含聚乙烯醇系樹脂的保護層有在加熱加濕試驗中光學特性降低率大的問題。並且，具前述保護層的單面保護偏光薄膜和無保護層者相比，在加熱加濕試驗時有泛藍(色相呈現藍感)的問題。偏光薄膜泛藍是人眼容易識別的，因此希望偏光薄膜有穩定的色相。
又，前述保護層對前述裂紋的抑制效果是保護層的膜厚越大越良好，不過保護層的膜厚變得越大，加熱加濕試驗時的光學特性降低率就會越大，益趨泛藍。又，偏光件也正朝著薄型化發展。使用於偏光薄膜之偏光件薄化時，偏光件收縮應力的變化會縮小。但也因著偏光件本身薄型化，就算施加較習知技術更弱的力，偏光件仍會破裂，因此即便利用薄型偏光件耐裂紋性乃不充分。
本發明的目的在於提供一種單面保護偏光薄膜，其僅於偏光件的單面具有保護薄膜並且在偏光件至少一面具有透明樹脂層，而且具有耐裂紋性並能夠抑減加熱加濕試驗時光學特性的降低以及泛藍。
又，本發明之目的在於提供一種使用了前述偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜。又本發明係有關於一種具有前述偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。 用以解決課題之手段
經本案發明人等精心探究，結果發現可藉由下述單面保護偏光薄膜等來解決上述課題，遂完成本發明。
即本發明係有關於一種僅於偏光件的單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，其特徵在於： 前述偏光件的至少一面具有透明樹脂層， 前述保護薄膜是隔著或不隔著設在前述偏光件至少一面的透明樹脂層而設置，並且， 前述透明樹脂層含有自鹼金屬無機鹽及鹼土類金屬無機鹽中選出之任意至少一者。
前述單面保護偏光薄膜中，前述無機鹽宜為碘化物。再者，前述碘化物宜為碘化鉀。
前述單面保護偏光薄膜中，前述偏光件中所含碘成分的含量(a：離子強度)與前述透明樹脂層所含無機鹽成分的含量(b：離子強度)之比值(b/a)宜為0.08以上。
前述單面保護偏光薄膜中，前述透明樹脂層宜由含水溶性樹脂之形成材形成。前述水溶性樹脂宜為聚乙烯醇系樹脂。
前述單面保護偏光薄膜中，前述透明樹脂層之厚度宜為0.2μm以上。又，前述透明樹脂層厚度宜為6μm以下。
前述單面保護偏光薄膜中，前述偏光件宜使用厚度在15μm以下者。
前述單面保護偏光薄膜中，前述偏光件之利用單體穿透率T及偏光度P表示的光學特性宜在下式所示的範圍內： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，及， P≧99.9(惟T≧42.3)。
又本發明是有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於具有前述單面保護偏光薄膜以及黏著劑層。
又本發明係有關於一種影像顯示裝置，其具有前述單面保護偏光薄膜或前述附黏著劑層之偏光薄膜。 發明效果
本發明之單面保護偏光薄膜係於偏光件上設有透明樹脂層，可利用該透明樹脂層抑制裂紋發生。
另一方面，設了透明樹脂層的單面保護偏光薄膜中，前述透明樹脂層係直接設在偏光件上。因此，於加熱加濕試驗時，偏光件中的碘成分(碘、碘化物還有其等之錯合物)或鉀成分(源自碘化物)已知會移到透明樹脂層。又已知因該等移到透明樹脂層的碘成分或鉀成分，會引發單面保護偏光薄膜光學特性的降低或泛藍等。
本發明之單面保護偏光薄膜中，係令透明樹脂層含有鹼金屬之無機鹽及/或鹼土類金屬之無機鹽。前述無機鹽是偏光件中所含之碘化物或其類似化合物。吾人認為前述偏光件中的碘成分、鉀成分與前述透明樹脂層中的無機鹽可維持一定程度的平衡関係。因此，可想見前述偏光件中的碘成分、鉀成分往透明樹脂層的遷移會受到抑制。同樣地，可想見前述透明樹脂層偏中間的無機鹽並未發生往偏光件中移動的情形。其結果，可想見本發明之單面保護偏光薄膜儘管設了透明樹脂層，仍可抑減加熱加濕試驗時光學特性的降低及泛藍。
又，本發明之單面保護偏光薄膜適合用於薄型偏光件(例如作成厚度15μm以下時)的情況。薄型偏光件的偏光件收縮應力變化會變小，但因偏光件本身薄型化故耐裂紋性並不充分。根據本發明之偏光薄膜，即便是使用薄型偏光件的情形，也會因為具有透明樹脂層而能提高耐裂紋性。
較佳實施例之詳細說明 以下，邊參照圖1至圖3邊說明本發明之單面保護偏光薄膜10。單面保護偏光薄膜10僅於偏光件1的一面上具有保護薄膜3，並於偏光件1之至少一面上具有透明樹脂層2。透明樹脂層2係(直接)設在偏光件1上。圖1中，僅於偏光件1的一側具有透明樹脂層2，而在未設該透明樹脂層2側的偏光件1上設有保護薄膜3。圖2中，係於偏光件1的兩側具有透明樹脂層2，而在該透明樹脂層2側其中一側設有保護薄膜3。圖3中，僅於偏光件1的一側有透明樹脂層2，而該透明樹脂層2之側設有保護薄膜3。
雖未圖示，前述保護薄膜3亦可積層2片以上來使用。又，雖未圖示，但偏光件1或透明樹脂層2係與保護薄膜3透過如接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層而積層。又雖未圖示，但可在保護薄膜3上設置易接著層或施加活性化處理，使該易接著層與接著劑層積層。
又，雖未圖示，但可在本發明之單面保護偏光薄膜10上設置黏著劑層。再者，可在黏著劑層上設置分離件。又可在本發明之單面保護偏光薄膜10上設置表面保護薄膜。
＜偏光件＞ 偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸著碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。該等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。該等偏光件的厚度沒有特別限制，但一般為2~25μm。
以碘將聚乙烯醇系薄膜染色並單軸延伸而成的偏光件，例如可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液而染色並將其延伸成原長之3~7倍來製成。亦可因應需求將其浸漬於碘化鉀等水溶液中，該水溶液亦可含硼酸或硫酸鋅或氯化鋅等。此外亦可因應需求於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中予以水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此以外藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又亦可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
可使用厚度15μm以下的薄型偏光件來作為前述偏光件。偏光件的厚度從薄型化及熱衝撃所致裂紋之抗性的觀點來看，是以12μm為佳，進一步宜為10μm以下，更宜為8μm以下，更宜為7μm以下，更宜為6μm以下。另一方面，偏光件的厚度宜為2μm以上，進一步宜為3μm以上。這樣的薄型偏光件，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
作為厚度15μm以下的薄型偏光件，代表性地可舉如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、日本專利第5587517號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等所記載的薄型偏光膜(偏光件)，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光膜(偏光件)。
宜構成為前述偏光件之利用單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)及P≧99.9(惟T≧42.3)。所謂構成滿足前述條件的偏光膜，毫無疑義地是具有使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器所求的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2 以上。其他用途方面，則例如貼合在有機EL顯示裝置的可見側。
作為前述薄型偏光膜，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜可藉由含有下述步驟之製法製得：將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層及延伸用樹脂基材以積層體之狀態予以延伸的步驟及進行染色的步驟。若為該製法，PVA系樹脂層再薄，仍可藉由被延伸用樹脂基材所支持而在沒有延伸所致之破斷等無不良情況下進行延伸。
＜樹脂基材＞ 此外，前述樹脂基材(延伸用樹脂基材)可使用適用於前述薄型偏光膜之製造之物。樹脂基材的形成材料可使用各種熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、其等之共聚樹脂等。其等之中以易於製造及減輕成本的觀點來看，係以酯系樹脂為佳。酯系熱可塑性樹脂基材可使用非晶性酯系熱可塑性樹脂基材或結晶性酯系熱可塑性樹脂基材。
前述延伸步驟宜例如以使PVA系樹脂層之總延伸倍率成為總延伸倍率3~10倍之範圍的方式來進行。總延伸倍率宜為4~8倍，更佳的是5~7倍。總延伸倍率以成為5倍以上的方式進行較為理想。前述延伸步驟亦可在染色步驟或其他步驟中實施。在延伸步驟以外的步驟中伴隨進行延伸的情形時，前述總延伸倍率是指包含該等步驟時的延伸的累積延伸倍率。
前述染色步驟是經由令二色性染料或碘吸附於PVA系樹脂層並使其配向來進行。染色步驟可與延伸步驟並行。染色步驟一般可藉由例如浸漬於前述碘溶液任意時間而實施。作為碘溶液使用的碘水溶液可採用藉由碘及碘化合物溶解助劑而含有碘離子的水溶液等。碘化合物可用例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。碘化合物理想為碘化鉀。本發明所用碘化合物在其他步驟使用時亦與上述相同。
前述碘溶液中的碘濃度為0.01~10重量%左右，並宜為0.02~5重量%，更佳為0.02~0.5重量%。碘化合物濃度為0.1~10重量%左右，進而宜使用0.2~8重量%者。碘染色期間，碘溶液的溫度通常為20~50℃左右，並宜為25~40℃。浸漬時間通常10~300秒左右，並宜為20~240秒之範圍。
又，上述步驟以外可施加例如不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(水分率的調節)步驟等。
不溶化步驟、交聯步驟中可使用硼化合物作為交聯劑來進行。該等步驟的順序沒有特別限制。交聯步驟可與染色步驟、延伸步驟並行。不溶化步驟、交聯步驟可多次實施。硼化合物可舉如硼酸、硼砂等。硼化合物一般係以水溶液或水-有機溶劑混合溶液的形態使用。通常會使用硼酸水溶液。硼酸水溶液的硼酸濃度為1~10重量%左右，並宜為2~7重量%。在利用交聯度提供耐熱性方面，宜作成前述硼酸濃度。硼酸水溶液等中可含有碘化鉀等碘化合物。在硼酸水溶液中含有硼化合物的情形時，硼化合物濃度為0.1~10重量%左右，進而宜使用0.5~8重量%者。
如前述般，偏光件係經由對PVA系樹脂等施以染色步驟等而獲得。其結果，偏光件含有色相調整用的碘化鉀等碘化物、控制偏光特性用的碘等。偏光件中的前述碘成分(碘、碘化物、還有其等之錯合物)、鉀成分(源於碘化物)的含量通常為1~10重量%，並宜為5~8重量%。
＜保護薄膜＞ 作為構成上述保護薄膜之材料，以透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等優異者為宜。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯醯系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。 該等保護薄膜通常經由接著劑層貼合於偏光件上。又，前述保護薄膜可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯醯基胺甲酸酯系、環氧基系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂，藉由將其等塗佈於偏光件並使其硬化來形成。
此外，保護薄膜中亦可含有1種類以上的任意適當添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，有熱可塑性樹脂無法充分顯現原本所具之高透明性等之虞。
前述保護薄膜可使用相位差薄膜。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如將熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
前述保護薄膜的厚度可適當決定，惟一般由強度及操作性等作業性、薄層性等觀點係以3~200μm為佳，進而以3~100μm為佳。尤其，前述保護薄膜(在預先形成薄膜的情形時)的厚度以輸送性的觀點來說係以10~60μm為佳，進而以10~45μm為佳。另一方面，前述保護薄膜(在利用塗佈、硬化來形成的情形時)的厚度以輸送性的觀點來說係以3~25μm為佳，進而以3~20μm為佳。前述保護薄膜可使用多片或多層。
在前述保護薄膜未接著偏光件的面上，可設置硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層乃至抗眩層等機能層。此外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層，除可設置於保護薄膜本身以外，亦可另外設成與保護薄膜為個別體。
＜中介層＞ 前述保護薄膜與偏光件係透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層來積層。此時，理想的是利用中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。
接著劑層係由接著劑形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑一般係作成由水溶液所構成之接著劑來使用，通常會令其含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子射線、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子線硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在將光自由基硬化型的活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型來使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
接著劑的塗佈方式，是依接著劑的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗佈方式之例，可舉例如逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。其他在塗佈方面，可適當使用浸塗法等方式。
又，前述接著劑的塗佈，在使用水系接著劑等的情形時宜以使最終形成的接著劑層厚度呈30~300nm的方式來進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~250nm。另一方面，在使用活性能量線硬化型接著劑的情形時，宜以使前述接著劑層的厚度成為0.1~200μm的方式進行。較佳為0.5~50μm，更佳為0.5~10μm。
此外，在偏光件與保護薄膜的積層時，保護薄膜與接著劑層之間，可設置易接著層。易接著層可由具有例如下述骨架的各種樹脂所形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，在易接著層的形成上亦可添加其他的添加劑。具體而言亦可進一步使用黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等等。
易接著層，通常預先設在保護薄膜上，該保護薄膜之易接著層側與偏光件藉著接著劑層而積層。易接著層的形成，是經由將易接著層的形成材以習知技術塗佈在保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層的形成材，通常會經過調整，考量乾燥後的厚度、塗佈的圓滑性等而稀釋成適當濃度的溶液。易接著層乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更佳為0.02~2μm，更佳為0.05~1μm。而且，易接著層雖可設置多層，但此時仍宜使易接著層的總厚度在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。因應前述黏著劑的種類而選擇黏著性基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝聚性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異此點來看，以使用丙烯醯系黏著劑為佳。
底塗層(底漆層)是為了使偏光件與保護薄膜的密著性提升而形成。構成底漆層的材料，只要是對基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層兩者發揮一定程度的強密著力的材料即可，並無特別限定。例如，可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優良的熱可塑性樹脂等等。作為熱可塑性樹脂，可舉例如丙烯醯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
＜透明樹脂層＞ 透明樹脂層可由各種形成材形成。透明樹脂層可藉由將前述形成材以例如塗於偏光件的方式來形成。透明樹脂層係設在偏光件之至少單面上。透明樹脂層的厚度為0.2μm以上，利用該厚度的透明樹脂層可抑制裂紋發生。前述透明樹脂層的厚度宜為0.4μm以上，進一步宜為0.5μm以上，進一步宜為0.7μm以上。另一方面，一旦透明樹脂層變得過厚，光學可靠度與耐水性就會低落，故透明樹脂層的厚度宜為6μm以下，進一步宜在5μm以下，進一步宜在3μm以下。
透明樹脂層的形成材料可舉例如聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、丙烯酸系樹脂等。該等樹脂材料可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，前述樹脂的形態係水系、溶劑系均可。
作為形成前述透明樹脂層的樹脂宜為水溶性樹脂。水溶性樹脂係作成水溶液使用，與偏光件形成材料間的親和性佳。水溶性樹脂成分的代表例可舉例如聚乙烯醇系樹脂、聚丙烯酸、聚丙烯醯胺、羥甲基化三聚氰胺樹脂、羥甲基化尿素樹脂、可溶酚醛型苯酚樹脂、聚環氧乙烷、羧甲基纖維素等。其等可單獨使用、亦可組合多個來使用。前述樹脂成分理想上係使用聚乙烯醇系樹脂、聚丙烯酸、羥甲基化三聚氰胺。尤以聚乙烯醇系樹脂為理想。以下就使用了聚乙烯醇系樹脂的情形予以說明。
前述聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇。聚乙烯醇是藉由將聚醋酸乙烯皂化而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉如醋酸乙烯與具共聚性之單體的共聚物之皂化物。前述具共聚性之單體為乙烯時，係獲得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚性之單體可舉如：馬來酸(酐)、延胡索酸、巴豆酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼鹽、N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯吡咯啶酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。從滿足耐濕熱性、耐水性的觀點來看，宜為將聚醋酸乙烯酯皂化而獲得的聚乙烯醇。
前述聚乙烯醇系樹脂的皂化度係例如使用96莫耳%以上之物。從滿足耐濕熱性、耐水性的觀點來看，皂化度以99莫耳%以上為佳，更以99.3莫耳%以上為佳，更以99.7莫耳%以上為佳。皂化度是表示在可因皂化而轉換成乙烯醇單元的單元中實際上皂化成乙烯醇單元的單元比率，殘基為乙烯酯單元。皂化度係以JIS K 6726-1994為準而求得。
前述聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可使用例如500以上之物，惟由滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，平均聚合度宜為1000以上,更以1500以上為佳,更以2000以上為佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係以JIS-K6726為準進行測定。
又前述聚乙烯醇系樹脂可使用前述聚乙烯醇或其共聚物的側鏈上具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基，可舉例如乙醯乙醯基、羰基等。其他方面，可使用將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺甲酸乙酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成的改質聚乙烯醇。
≪無機鹽≫ 本發明之透明樹脂層含有自鹼金屬之無機鹽及鹼土類金屬之無機鹽中選出之任意至少1者。鹼金屬可舉如鋰、鈉、鉀等，鹼土類金屬可舉如鈣、鍶、鋇等。另一方面，無機鹽的種類可舉如鹵化物(氟化物、氯化物、溴化物、碘化物等)、硫化物、碳酸鹽、硫酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽、鈦酸鹽等。
本發明之鹼金屬之無機鹽的具體例可舉例如碳酸鋰、氯化鋰、硫化鋰、碘化鋰；碘化鈉、氯化鈉、氟化鈉、溴化鈉、磷酸三鈉；硼酸鈉、碳酸鈉；碘化鉀、氯化鉀等。
又，鹼土類金屬之無機鹽的具體例可舉例如磷酸鈣、氯化鈣、碘化鈣、碳酸鈣、硝酸鈣；碘化鍶、碳酸鍶、鈦酸鍶、硫酸鍶、氯化鍶；硫酸鋇、碳酸鋇、鈦酸鋇、氟化鋇等。
前述無機鹽係以鹼金屬之無機鹽為佳，其中又以鉀鹽為佳。另一方面，有關無機鹽的種類係以碘化物為佳。由前述觀點來看，無機鹽尤以碘化鉀為佳。碘化物特別是碘化鉀係用於偏光件的製造過程中，為偏光件所含有的材料，將和該材料相同的材料作為摻混在透明樹脂中的無機鹽來使用，偏光件中的碘化鉀成分就抑制往透明樹脂層中移動的現象方面是適宜的。
此外，前述無機鹽和專利文獻3中形成偏光件保護層之摻混於聚乙烯醇系樹脂中的金屬離子等硬化性成分乃至交聯劑等有明顯差別。前述無機鹽在摻混於使用了聚乙烯醇系樹脂的透明樹脂層時，並不會使聚乙烯醇系樹脂交聯。又，就算使用了鹼金屬的有機鹽及/或鹼土類金屬的有機鹽來代替前述無機鹽，仍無法充份抑制偏光件中碘成分往透明樹脂層的遷移，故無法抑減加熱加濕試驗中光學特性的降低、泛藍。
前述無機鹽之在透明樹脂層中的比率，相對於100重量份透明樹脂層的形成材(例如聚乙烯醇系樹脂)，通常以1~25重量份之範圍為宜。前述無機鹽的含量以2~15重量份為佳，進而以5~15重量份為佳。藉由將前述無機鹽的含量增多，可使泛藍受抑。進而，短波長側、長波長側的穿透率會變小，亦可抑制偏光件的劣化。然而，若前述無機鹽的含量變得太多，則在透明樹脂層的成膜方面就會發生阻礙，從降低耐裂紋性的觀點來看並不適宜。另一方面，若前述無機鹽的含量變得太少，則從使加熱加濕試驗時光學特性的降低和泛藍抑減的觀點來說並不適宜。
前述無機鹽對偏光件中的碘、碘化鉀遷移到透明樹脂中的現象有抑制作用。因此，前述無機鹽的含量宜考量偏光件中的碘成分含量來決定。例如，前述偏光件中所含碘成分的含量(a：離子強度)與前述透明樹脂層所含無機鹽成分的含量(b：離子強度)之比值(b/a)宜控制為0.08以上。從抑制偏光件泛藍的觀點來看，前述比值(b/a)宜為0.08以上，更宜為0.4以上。另一方面，從耐裂紋性的觀點來看，前述比值(b/a)宜為2以下，更宜為1.2以下。此外，用於計算比值(b/a)的碘成分含量(a)、及透明樹脂層所含無機鹽之含量(b)，是利用實施例所記載之測定方法獲得的離子強度。
透明樹脂層可由不含硬化性成分的形成材來形成。例如，可由含有前述聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)作為主成分的形成材來形成。
前述包含聚乙烯醇系樹脂以作為主成分的形成材中，可含有硬化性成分(交聯劑)等。透明樹脂層或形成材(固體成分)中的聚乙烯醇系樹脂比率，宜為80重量%以上，更宜為90重量%以上，更宜為95重量%以上。然而，前述形成材中以不含硬化性成分(交聯劑)為宜。
從提升耐水性的觀點來看可使用前述硬化性成分(交聯劑)，惟其比率宜相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份而為20重量份以下、10重量份以下、5重量份以下。
前述形成材，係調整成使前述聚乙烯醇系樹脂溶解於溶劑而成的溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺-N-甲基吡咯啶酮、各種二醇類、三羥甲基丙烷等多價醇類、乙二胺、二乙烯三胺等胺類。其等可單獨使用，或組合二種以上來使用。此等之中，宜採用使用了水為溶劑的水溶液。前述形成材(例如水溶液)之中，前述聚乙烯醇系樹脂的濃度雖無特別限制，但若考量塗佈性及存放穩定性等，係為0.1~15重量%，較佳為0.5~10重量%。
此外，前述形成材(例如水溶液)中，作為添加劑可舉例如可塑劑、界面活性劑等。可塑劑可舉例如乙二醇及丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。此外亦可搭配矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、各種黏著賦與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等等。
前述透明樹脂層可藉由在偏光件上塗佈並乾燥前述形成材而形成。前述形成材的塗佈，係以使乾燥後厚度在0.2μm以上的方式實施。塗佈操作沒有特別限制，可以採用任意的適當方法。例如可採用輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模具塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗形刮刀式塗佈法等)等各種手段。
前述透明樹脂層係可藉由將前述形成材塗佈在偏光件的另一面(沒有保護薄膜的面)並進行乾燥而形成。前述形成材的塗佈，宜以使乾燥後厚度在0.2μm以上的方式實施。塗佈操作沒有特別限制，可以採用任意的適當方法。例如可採用輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模具塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗形刮刀式塗佈法等)等各種手段。乾燥溫度通常以60~120℃為佳，進而以70~100℃為佳。乾燥時間以10~300秒為佳，進而以20~120秒為佳。
＜黏著劑層＞ 可在前述單面保護偏光薄膜上設置黏著劑層，作為附黏著劑層之偏光薄膜來使用。黏著劑層可因應單面保護偏光薄膜的形態設在透明樹脂層、保護薄膜或偏光件之側。附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層上可以設置分離件。
黏著劑層之形成方面可使用適當的黏著劑，就其種類並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又適合使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝聚性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，以使用丙烯醯系黏著劑為佳。
就形成黏著劑層之方法而言，例如可藉由下述方法來製作：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理的分離件等，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，轉印至單面保護偏光薄膜的方法；或將前述黏著劑塗佈於單面保護偏光薄膜，乾燥去除聚合溶劑等而於偏光件形成黏著劑層的方法等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
經剝離處理之分離件，宜使用聚矽氧剝離襯材。於此種襯材上塗佈本發明之黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，可因應目的而採用適宜且適切的方法來作為使黏著劑乾燥之方法。理想係使用將上述令塗佈膜過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。可藉由將加熱溫度設成上述範圍，而獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適宜且適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分，更佳為5秒~10分，尤佳為10秒~5分。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等等方法。
黏著劑層的厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較佳為2~40μm，更佳為5~35μm。
前述黏著劑層露出時，在供實用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片物等等，惟從表面平滑性優良此點來看，宜採用塑膠薄膜。
就其塑膠薄膜方面，只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm，宜為5~100μm左右。對於前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高自前述黏著劑層之剝離性。
＜表面保護薄膜＞ 又可在單面保護偏光薄膜上設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並透過該黏著劑層來保護偏光件。
表面保護薄膜的基材薄膜，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯醯系樹脂般透明的聚合物。此等之中以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。基材薄膜的厚度，通常為500μm以下，宜為10~200μm。
形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑方面，可適當選擇並使用以(甲基)丙烯醯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等的聚合物作為基底聚合物的黏著劑。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，宜為以丙烯醯系聚合物作為基底聚合物的丙烯醯系黏著劑。黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)，係因應所需黏著力來決定。通常為1~100μm左右，宜為5~50μm。
此外，表面保護薄膜中，可以在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料，來設置剝離處理層。
＜其他光學層＞ 本發明之單面保護偏光薄膜，在實際使用時可使用已與其他光學層積層的光學薄膜。該光學層方面並無特別限定，可使用1層或2層以上之例如反射板及半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等的某種光學層。尤為理想的是，本發明之單面保護偏光薄膜再積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜、單面保護偏光薄膜再積層相位差板而成的楕圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、單面保護偏光薄膜再積層視角補償薄膜而成的廣視野角偏光薄膜、或是單面保護偏光薄膜再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
在單面保護偏光薄膜之偏光薄膜上積層有上述光學層的光學薄膜，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序個別積層之方式形成，惟預先積層製成光學薄膜者，則具有品質穩定性及組裝作業等優良而能提升液晶顯示裝置等之製程的優點。積層方面可使用黏著層等適當的接著手段。上述單面保護偏光薄膜及其他光學層在接著時，其等之光學軸可因應作為目的之相位差特性等製成適當的配置角度。
本發明之單面保護偏光薄膜或光學薄膜，可適宜使用在液晶顯示裝置各種裝置的形成等等。液晶顯示裝置的形成，可依據習知技藝來實施。即，液晶顯示裝置一般係藉由將液晶胞與單面保護偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，而在本發明中，除使用本發明之單面保護偏光薄膜或光學薄膜此點以外無特別限定，可依習知為準。液晶胞方面可使用例如IPS型、VA型等等任意類型。
可形成下述的液晶顯示裝置：在液晶胞的單側或兩側配置有單面保護偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置；或於照明系統使用背光或反射板者等之適當的液晶顯示裝置。此情形時，本發明之單面保護偏光薄膜或光學薄膜可設置在液晶胞的單側或兩側。於兩側設置單面保護偏光薄膜或光學薄膜時，該等可相同亦可互異。此外，於液晶顯示裝置之形成時，可以將例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。 實施例
以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃65%RH。
＜偏光件的製作＞ 於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上，施加電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作積層體。 將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。 接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達所定的穿透率。本實施例中，使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水，摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)(洗淨處理)。 經由上述，獲得含厚度5μm偏光件的光學薄膜積層體。
(保護薄膜的製作) 保護薄膜：在厚度40μm具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施以電暈處理而使用。
(適用於保護薄膜之接著劑的製作) 將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光起始劑「IRGACURE　819」(BASF公司製)3重量份摻混，調製紫外線硬化型接著劑。
(聚乙烯醇樹脂的評價方法) 聚乙烯醇樹脂的聚合度、皂化度係依據JISK6726來測定。
(活性能量線照射) 活性能量線係使用可見光線(鎵封入金屬鹵素燈)，照射裝置：Fusion　UV　Systems,Inc公司製的Light　HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)。此外，可見光線的照度係使用Solatell公司製Sola-Check系統來測定。
比較例1 ＜單面保護偏光薄膜的製作＞ 在上述光學薄膜積層體之偏光膜的表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使硬化後接著劑層厚度達0.5μm的方式塗佈，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射活性能量線，使接著劑硬化。接著，將非晶性PET基材剝離，製作使用了薄型偏光膜的單面保護偏光薄膜。所得單面保護偏光薄膜的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
比較例2、3 ＜聚乙烯醇系形成材的調製＞ 將聚合度2500、皂化度99.7莫耳%的聚乙烯醇樹脂溶解於純水，調製固體成分濃度4重量%的水溶液。
＜附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的製作：對應於圖1＞ 在比較例1所得之上述單面保護偏光薄膜的偏光膜(偏光件)的面(沒有設置保護薄膜的偏光件面)上，以乾燥後厚度成為1.2μm或3.3μm的方式以線棒塗佈機塗佈已調整成25℃之上述聚乙烯醇系形成材後，在60℃下熱風乾燥1分鐘，製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
比較例4 ＜聚乙烯醇系形成材的調製＞ 將聚合度2500、皂化度99.7莫耳%的聚乙烯醇樹脂100份及醋酸鈉1份溶解於純水，調製固體成分濃度4重量%的水溶液。
＜附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的製作：對應於圖1＞ 在比較例1所得之上述單面保護偏光薄膜的偏光膜(偏光件)的面(沒有設置保護薄膜的偏光件面)上，以乾燥後厚度成為1.2μm的方式以線棒塗佈機塗佈已調整成25℃之上述聚乙烯醇系形成材後，在60℃下熱風乾燥1分鐘，製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
比較例5~7、實施例1~15 ＜聚乙烯醇系形成材的調製＞ 於比較例4中，將添加劑(有機鹽或無機鹽)的種類或摻混量變成如表1所示者，除此之外以和比較例4相同方式調製固體成分濃度4重量%的聚乙烯醇樹脂水溶液。
＜附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的製作：對應於圖1＞ 在比較例1所得之上述單面保護偏光薄膜的偏光膜(偏光件)的面(沒有設置保護薄膜的偏光件面)上，以乾燥後厚度成為表1的方式以線棒塗佈機塗佈已調整成25℃之上述聚乙烯醇系形成材後，在60℃下熱風乾燥1分鐘，製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
對上述比較例及實施例所得單面保護偏光薄膜進行下述評價。結果顯示於表1。就所得之單面保護偏光薄膜、或依下述方式作成之附黏著劑層之偏光薄膜來作評價。
＜丙烯酸系聚合物的調製＞ 在配有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中投入含有99份丙烯酸丁酯及1份丙烯酸4-羥丁酯的單體混合物。然後，將0.1份之作為聚合起始劑的2,2´-偶氮雙異丁腈與醋酸乙酯一起投入100份的前述單體混合物(固體成分)中，一邊慢慢攪拌一邊導入氮氣進行氮置換後，將燒瓶內的液溫維持在60℃左右，進行7小時聚合反應。然後，在所得反應液中加入醋酸乙酯，調製固體成分濃度調配為30%且重量平均分子量140萬的丙烯酸系聚合物之溶液。
(黏著劑組成物的調製) 對上述丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份，摻混三羥甲基丙烷伸二甲苯基二異氰酸酯(三井化學公司製：TAKENATE D110N)0.1份、二苯甲醯基過氧化物0.3份、與γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.075份，調製丙烯酸系黏著劑溶液。
＜黏著劑層的形成＞ 接著，在經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜)的表面上，以噴注式塗佈機均勻塗覆上述丙烯酸系黏著劑溶液，在155℃的空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於分離薄膜的表面上形成厚度20μm的黏著劑層。
＜附黏著劑層之偏光薄膜的製作＞ 接著，將形成在上述離型片(分離件)之剝離處理面上的黏著劑層貼合在各例所得之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層(惟比較例1是在偏光件側)上，製作附黏著劑層之偏光薄膜。
＜耐久性：偏光度的變化率(光學可靠度試驗)＞ 將所得之附黏著片單面保護偏光薄膜裁切成25mm×50mm的尺寸(吸收軸方向為50mm)。將該附黏著片之單面保護偏光薄膜(試樣)投入85℃/85%RH的恆溫恆濕機150小時。使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)來測定投入前與投入後之單面保護偏光薄膜的偏光度，求出： 偏光度的變化率（%）=（1－（投入後的偏光度／投入前的偏光度））。 此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的透射率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。偏光度P(%)＝｛(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)｝1/2 ×100 各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。 於表1中記載偏光度的變化率並依下述基準判斷該變化率。 〇：偏光度變化率低於0.4%。 △：偏光度變化率為0.4%以上且低於0.5%。 ×：偏光度變化率為0.5%以上。
＜耐久性：正交色相(光學可靠度試驗)＞ 將所得之單面保護偏光薄膜裁切成25mm×50mm的尺寸(吸收軸方向為50mm)。將該附黏著劑片單面保護偏光薄膜(試樣)投入85℃/85%RH的恆溫恆濕機150小時。使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)來測定投入前與投入後之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜的正交a值(紅色方向)與正交b值(藍色方向)。 於表1中記載正交b值(藍色方向)並依下述基準判斷。 〇：正交b値大於-2.4。 △：正交b値大於―3並在-2.4以下。 ×：正交b値為-3以下。
＜透明樹脂層中無機鹽的含量與偏光件中碘含量的相對比率＞ 透明樹脂層的無機鹽含量與偏光件中的碘含量是利用搭載氣體團簇離子槍的TOF-SIMS (ULVAC-PHI製 TRIFT V)來測定。 測定時的條件如下所示。 蝕刻離子：Ar氣團簇離子 照射之一次離子：Bi3 2 ＋ 一次離子加速電壓：30kV 測定極性：負離子 從單面保護偏光薄膜的透明樹脂層側朝偏光件側以氬團簇蝕刻同時一邊觀察縱深剖面，分別抓出源自偏光件的碘成分「I- (m/z　127)」(離子強度a)與源自透明樹脂層的無機鹽成分「ex：KI2 - (m/z　293)」(離子強度b)，計算其比值(b/a)。 此外，關於上述源自透明樹脂層的無機鹽成分，是使用了碘化鉀作為無機成分的情形。m/z為「質量電荷比」(相當於原子量/分子量除以電荷之値的數)，對於無機鹽成分係檢測作為二次離子的KI2 - (m/z 293)。 離子強度b是依無機鹽成分利用下述指示導出。 氯化鈉的情形：Cl- (m/z　35) 硫酸鈉及硫酸鋅的情形：SO3 - (m/z　80) 氯化鈣的情形：Cl- (m/z　35)
＜耐裂紋性＞ 將所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成縱400mm×橫708mm的尺寸(吸收軸方向為400mm)與縱708mm×橫400mmの尺寸(吸收軸方向為708mm)，於縱402mm×橫710mm×厚度1.3mm的無鹼玻璃的兩面以正交偏光方向貼合，作成試樣。將該試樣投入95℃的烘箱250小時後取出，目視確認附黏著劑層之偏光薄膜是否有裂紋發生。該試驗每1試樣作10片，計算有裂紋發生的試樣片數，同時依下述基準判斷。 〇：0片。 △：1~3片。 ×：4片以上。
[表1]
由表1可判知，實施例具有耐裂紋性、光學可靠度，並能夠抑減色相的偏藍。尤其在使用碘化鉀作為透明樹脂層所含無機鹽(鹼金屬之無機鹽、鹼土類金屬、無機鹽)的情形時，泛藍抑制效果較同摻混量之其他無機鹽更佳。可想見由於碘化鉀是和偏光件中所含鉀成分、碘成分相同的成分，故更容易抑制滲出。另一方面，比較例1中由於沒有透明樹脂層故無法滿足耐裂紋性。比較例2、3方面，由於透明樹脂層中沒有摻混任何有機鹽、無機鹽，故光學可靠度不足、無法減抑色相的偏藍現象。於比較例4、5可知，透明樹脂層雖摻混了有機鹽，但光學可靠度並不充足。又如比較例6、7所示，使用了鋅鹽等無機鹽(鹼金屬無機鹽及鹼土類金屬以外的無機鹽)作為無機鹽的情形並無法充份抑制泛藍。又，鋅鹽等無機鹽的金屬離子有令透明樹脂層之聚乙烯醇系樹脂交聯的功能，故會有減損折射性並降低耐裂紋性的傾向。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧透明樹脂層
3‧‧‧保護薄膜
10‧‧‧單面保護偏光薄膜
圖1為本發明偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。 圖2為本發明偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。 圖3為本發明偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧透明樹脂層
3‧‧‧保護薄膜
10‧‧‧單面保護偏光薄膜

Claims (12)

  1. 一種單面保護偏光薄膜，其僅於偏光件的單面具有保護薄膜，該單面保護偏光薄膜特徵在於： 於前述偏光件之至少一面具有透明樹脂層， 前述保護薄膜是隔著或不隔著前述偏光件至少一面之透明樹脂層來設置，並且， 前述透明樹脂層含有自鹼金屬無機鹽及鹼土類金屬無機鹽中選出之任意至少一者。
  2. 如請求項1之單面保護偏光薄膜，其中前述無機鹽為碘化物。
  3. 如請求項2之單面保護偏光薄膜，其中前述碘化物為碘化鉀。
  4. 如請求項1至3中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述偏光件中所含碘成分的含量(a：離子強度)與前述透明樹脂層所含無機鹽成分的含量(b：離子強度)之比值(b/a)為0.08以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述透明樹脂層是由含水溶性樹脂之形成材形成。
  6. 如請求項5之單面保護偏光薄膜，其中前述水溶性樹脂為聚乙烯醇。
  7. 如請求項1至6中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述透明樹脂層厚度為0.2μm以上。
  8. 如請求項1至7中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述透明樹脂層厚度為6μm以下。
  9. 如請求項1至8中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述偏光件厚度為15μm以下。
  10. 如請求項1至9中任一項之單面保護偏光薄膜，其構成為前述偏光件之利用單體穿透率T及偏光度P表示的光學特性滿足下式之條件： 　P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，及 　P≧99.9(惟T≧42.3)。
  11. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於具有如請求項1至10中任一項之單面保護偏光薄膜以及黏著劑層。
  12. 一種影像顯示裝置，具有如請求項1至10中任一項之單面保護偏光薄膜或如請求項11之附黏著劑層之偏光薄膜。
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