TW201726837A - 附黏著劑層之偏光薄膜、其製造方法及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其依序具有偏光件、含聚乙烯醇系樹脂之錨定塗覆層及黏著劑層，而前述黏著劑層即便不含異氰酸酯系交聯劑，前述錨定塗覆層與黏著劑層的投錨力仍然良好。 本發明為一種依序具有偏光件、錨定塗覆層及黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，前述錨定塗覆層是由水系樹脂組成物所形成，該水系樹脂組成物含有水系樹脂、及分子末端有至少一個可和羥基反應之一級醇的化合物(a)，前述黏著劑層是由黏著劑組成物所形成，該黏著劑組成物含有具羥基之基底聚合物、及含巰基之矽烷偶合劑。

Description

附黏著劑層之偏光薄膜、其製造方法及影像顯示裝置
發明領域 本發明是有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜及其製造方法。前述附黏著劑層之偏光薄膜可單獨或作為將其積層而成之光學薄膜來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
發明背景 液晶顯示裝置等因其影像形成方式，在液晶元件的兩側配置偏光元件是必要且不可或缺的，一般而言是貼附偏光薄膜。在將前述偏光薄膜貼附於液晶元件等時，通常會使用黏著劑。又，為了減低光的損失，偏光薄膜與液晶元件的接著通常是使用黏著劑將各別材料密著。在此情形時，由於有在固著偏光薄膜時不需要乾燥步驟等優點，一般會使用附黏著劑層之偏光薄膜，其為在偏光薄膜一側預先以黏著劑層的形式設置黏著劑而成者。在附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層上，通常貼附有離型薄膜。
前述黏著劑層的形成方面，通常是使用含有基底聚合物及交聯劑的黏著劑。前述基底聚合物推薦使用丙烯酸系聚合物，而作為交聯劑推薦使用異氰酸酯系交聯劑。
又，從薄型化的觀點，已提出一種附黏著劑層之偏光薄膜，其使用了僅於偏光件單面設有保護薄膜而成的單面保護偏光薄膜。然而，使用了單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜，在如熱衝撃(例如95℃的250小時試驗)般的嚴苛環境下，因其保護薄膜設置側之偏光件收縮應力與保護薄膜相反側之偏光件收縮應力的落差，會在偏光件內部產生過剩的應力，而有容易在偏光件的吸收軸方向上出現數百μm的微小裂紋乃至猶如貫通整面般之貫通裂紋等各種裂紋的問題。亦即，附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，在前述嚴苛環境下的耐久性並不足夠。
從抑制前述貫通裂紋的發生並同時由薄層化、輕量化的觀點出發，已有提出在偏光件之至少一面設置由水溶性皮膜形成性組成物(聚乙烯醇系樹脂組成物)構成的保護層(專利文獻1)。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利公開案第2005- 043858號公報
發明概要 發明欲解決之課題 如上所述，在設置了由聚乙烯醇系樹脂組成物形成之保護層(錨定塗覆層)並進一步在該保護層設置含異氰酸酯系交聯劑的黏著劑層時，透過保護層中源自聚乙烯醇系樹脂的羥基與黏著劑層中源自異氰酸酯系交聯劑的異氰酸酯基之間的反應，前述保護層與黏著劑層會具有良好的投錨力。
然而，含異氰酸酯系交聯劑的黏著劑層，為求具備對耐刻痕性及加工性等的硬度並為求確保投錨力，在形成黏著劑層後到出貨為止需要一定的老化時間。又，含異氰酸酯系交聯劑的黏著劑組成物由於不斷進行自我交聯反應，故作為黏著劑組成物有其使用期限，而在使用上有困難的一面。另一方面，不含異氰酸酯系交聯劑的黏著劑組成物，則無法充份滿足對聚乙烯醇系樹脂組成物所形成之錨定塗覆層的投錨性。
本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其依序具有偏光件、含水系樹脂之錨定塗覆層以及黏著劑層，而前述黏著劑層即便不含異氰酸酯系交聯劑，前述錨定塗覆層與黏著劑層之投錨力仍然良好。
又本發明之目的在於提供一種前述附黏著劑層之偏光薄膜的製造方法。又，本發明係有關於一種具有前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。 用以解決課題之手段
本案發明人經精心探究，結果發現可藉由下述附黏著劑層之偏光薄膜等來解決上述課題，而終至完成本發明。
即本發明是有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，特徵在於：該附黏著劑層之偏光薄膜依序具有偏光件、錨定塗覆層及黏著劑層， 前述錨定塗覆層是由水系樹脂組成物所形成，該水系樹脂組成物含有水系樹脂、以及於分子末端有至少一個可和羥基反應之一級醇的化合物(a)， 前述黏著劑層是由黏著劑組成物所形成，該黏著劑組成物含有具羥基之基底聚合物、及含巰基之矽烷偶合劑。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，可使用選自於聚乙烯醇系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂及含唑啉基之聚合物中至少1者來作為前述水系樹脂。前述水系樹脂宜為聚乙烯醇系樹脂。又，前述聚乙烯醇系樹脂宜皂化度為96莫耳%以上且平均聚合度為2000以上。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於100重量份之前述水系樹脂，前述水系樹脂組成物宜含有0.2~20重量份之前述化合物(a)。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述化合物(a)可適宜使用羥甲基三聚氰胺。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述錨定塗覆層之厚度宜為0.05μm以上且6μm以下。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述具羥基之基底聚合物可使用具羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於100重量份之具羥基之基底聚合物前述黏著劑組成物宜含有0.01~5重量份之前述含巰基之矽烷偶合劑。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑組成物可含有交聯劑。前述交聯劑宜含有不與羥基起反應的交聯劑(b)。前述不和羥基反應的交聯劑(b)宜為過氧化物。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑組成物，相對於100重量份之具羥基之基底聚合物，含有0.01~2重量份之前述不和羥基反應之交聯劑(b)。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述偏光件之厚度宜為15μm以下。
前述附黏著劑之偏光薄膜中，宜構造成使前述偏光件以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，及 P≧99.9(惟T≧42.3)。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，可於前述偏光件之至少一側具有保護薄膜。
前述附黏著劑層之偏光薄膜中，於前述黏著劑層可積層分離件(separator)。
又本發明是有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，即前述附黏著劑層之偏光薄膜的製造方法，特徵在於該方法具有下述步驟： 形成錨定塗覆層之步驟，係在偏光件上塗佈水系樹脂組成物然後進行乾燥而形成錨定塗覆層，其中該水系樹脂組成物包含水系樹脂、及於分子末端具有至少一個可和羥基反應之一級醇的化合物(a)， 形成黏著劑層之步驟，係在前述錨定塗覆層上由含有具羥基之基底聚合物及含巰基之矽烷偶合劑的黏著劑組成物來形成黏著劑層。
又，本發明係有關於一種具有前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。 發明效果
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，係依序具有偏光件、含水系樹脂之錨定塗覆層及黏著劑層。前述錨定塗覆層含有於分子末端有至少一個可和羥基反應之一級醇的化合物(a)，例如羥甲基三聚氰胺；前述黏著劑層含有具巰基之矽烷偶合劑。可想見，前述錨定塗覆層中羥甲基三聚氰胺等之末端的一級醇會與錨定塗覆層的水系樹脂(例如聚乙烯醇系樹脂)起反應，且另一方面會與黏著劑層中含巰基之矽烷偶合劑的矽醇基起反應。進一步可想見，當錨定塗覆層直接設在偏光件上時，錨定塗覆層中羥甲基三聚氰胺等之末端的一級醇，會與偏光件中源自於聚乙烯醇系樹脂的羥基起反應。又可想見，含巰基之矽烷偶合劑的矽醇基，會與黏著劑層中源自於基底聚合物的羥基起反應。又可想見，含巰基之矽烷偶合劑可利用在黏著劑層中巰基(-SH,硫醇基)彼此的反應而進行自縮合，從而形成硫化物鍵結，提升黏著劑層的交聯情形。如此可想見，藉由前述錨定塗覆層與前述黏著劑層中各材料發生反應並鍵結，前述黏著劑層即便不含異氰酸酯系交聯劑，前述錨定塗覆層與前述黏著劑層仍具有良好的投錨性。
較佳實施例之詳細說明 以下一邊參照圖1至圖3一邊說明本發明之附黏著劑層之偏光薄膜10、11、12。附黏著劑層之偏光薄膜10、11、12均依序含有偏光件1、含水系樹脂之錨定塗覆層2及黏著劑層3。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜10、11可如圖1和2所示般，在偏光件1上直接設置由含水系樹脂之水系樹脂組成物所形成的錨定塗覆層2。又可如圖2和圖3所示般，在偏光件1的一側或兩側設置保護薄膜5、5´。圖2是例示當附黏著劑層之偏光薄膜10中偏光件1之設有錨定塗覆層2側的相反側上具有保護薄膜5的情形。又，圖3是例示當附黏著劑層之偏光薄膜10中偏光件1兩側有保護薄膜5、5´且在保護薄膜5´側設有錨定塗覆層2的情形。另，雖未圖示於圖2圖3中，偏光件1與保護薄膜5可經由接著劑層、黏著劑層、下塗層(底漆層)等中介層來積層。又，雖未圖示，也可在保護薄膜5、5´設置易接著層或施加活性化處理等，再積層該易接著層與接著劑層。
又，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜10、11可如圖1至圖3所示般在黏著劑層3設置分離件4。此外，可如圖2和圖3所示般，在附黏著劑層之偏光薄膜11具有保護薄膜5時，在保護薄膜5設置表面保護薄膜。
＜偏光件＞ 偏光件並未特別受限，可使用各式種類。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。該等偏光件的厚度沒有特別限制，但一般為2~25μm。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：藉由將聚乙烯醇薄膜浸漬到碘之水溶液以進行染色，再延伸至原長的3~7倍。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或可含硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均現象的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，復亦可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
可使用厚度15μm以下的薄型偏光件來作為前述偏光件。偏光件之厚度從薄型化及對熱衝撃所致裂紋之耐受性的觀點來看宜為12μm，更宜為10μm以下，更宜於8μm以下，更宜為7μm以下，更宜為6μm以下。另一方面，偏光件的厚度宜為2μm以上，更宜為3μm以上。這樣的薄型偏光件，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
厚度15μm以下之薄型偏光件可代表性地列舉如記載於日本特許第4751486號說明書、日本特許第4751481號說明書、日本特許第4815544號說明書、日本特許第5048120號說明書、日本特許第5587517號說明書、國際公開第2014/077599號小冊、國際公開第2014/077636號小冊等之薄型偏光膜(偏光件)或是由其等所載之製造方法製得之薄型偏光膜(偏光件)。
前述偏光件宜構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)及P≧99.9(惟T≧42.3)。所謂構造成滿足前述條件的偏光件，毫無疑義地是具有使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器所求的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2 以上。就其他用途而言，例如可貼合於有機EL顯示裝置之觀視側。
作為前述薄型偏光膜，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜可藉由包含下述步驟之製法來製得：使聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材於積層體狀態下進行延伸之步驟以及染色步驟。若為此種製法，即使PVA系樹脂層很薄，仍可藉由以延伸用樹脂基材支撐，而在免於發生延伸所致斷裂等不良情況下進行延伸。
＜保護薄膜＞ 作為構成上述保護薄膜之材料，宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等方面優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二醋酸纖維素及三醋酸纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯醯系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可舉如下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。該等保護薄膜通常是經由接著劑層貼合於偏光件上。又，前述保護薄膜可藉由使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂並將其等塗佈於偏光件並使其硬化來形成。
前述保護薄膜可使用相位差薄膜。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如將熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
前述保護薄膜的厚度可適當決定，惟一般由強度及操作性等作業性、薄層性等觀點係以3~200μm為佳，進而以3~100μm為佳。尤其，前述保護薄膜(在預先形成薄膜的情形時)的厚度以輸送性的觀點來說係以10~60μm為佳，進而以10~45μm為佳。另一方面，前述保護薄膜(在利用塗佈、硬化來形成的情形時)的厚度以輸送性的觀點來說係以3~25μm為佳，進而以3~20μm為佳。前述保護薄膜可使用多片或多層。
前述保護薄膜之不與偏光件接著之面，可設置硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層及抗眩層等機能層。此外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層除了可設在保護薄膜本身以外，亦可與保護薄膜分設而另為其他個體。
＜中介層＞ 前述保護薄膜與偏光件係經由接著劑層、黏著劑層、下塗層(底漆層)等中介層來積層。此時，理想的是利用中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。
接著劑層係由接著劑所形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係以水溶液所構成之接著劑的形式使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子射線、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子線硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在將光自由基硬化型的活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型來使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
又，前述接著劑之塗佈在使用水系接著劑等時，宜以使最終形成之接著劑層厚度呈30~300nm的方式進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~250nm。另一方面，使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度為0.1~200μm的方式進行。較佳為0.5~50μm，更佳為0.5~10μm。
此外，在偏光件與保護薄膜的積層時，保護薄膜與接著劑層之間，可設置易接著層。
＜錨定塗覆層＞ 錨定塗覆層係含有水系樹脂。錨定塗覆層可經由例甘將含水系樹脂之水系樹脂組成物塗佈於偏光件上而形成。前述水系樹脂可使用例如選自於聚乙烯醇系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、及含唑啉基之聚合物中任意至少1者。其等之中，在如圖1和圖2般將錨定塗覆層直接形成於偏光件上的情形時，從抑制貫通裂紋發生的觀點來看，宜以聚乙烯醇系樹脂作為前述水系樹脂。另一方面，在如圖3般將錨定塗覆層形成於保護薄膜上的情形時，從對保護薄膜的塗膜形成性或濕潤性等觀點來看，宜以聚胺甲酸酯系樹脂、含唑啉基之聚合物作為前述水系樹脂。
前述聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇。聚乙烯醇是藉由將聚醋酸乙烯酯皂化而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉如醋酸乙烯酯與具共聚性之單體的共聚物之皂化物。前述具共聚性之單體為乙烯時，係獲得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚性之單體可列舉如順丁烯二酸(酐)、延胡索酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類、乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)丙烯磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。從使前述錨定層之結晶熔解熱控制在30mj/mg以上而滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，宜為聚醋酸乙烯酯皂化所得的聚乙烯醇。
前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度舉例來說可使用95莫耳%以上者，但從滿足耐濕熱性及耐水性之觀點來看，皂化度宜為96莫耳%以上，宜為99莫耳%以上，更宜為99.5莫耳%以上。皂化度是表示可因皂化而轉換成乙烯醇單元的單元中實際上皂化成乙烯醇單元的單元比率，殘基為乙烯酯單元。皂化度係以JIS K 6726-1994為準而求得。
前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度例如可使用500以上者，但從使前述錨定層滿足耐濕熱性及耐水性之觀點來看，平均聚合度宜為1000以上，更宜為1500以上，更宜為2000以上。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係以JIS-K6726為準進行測定。
又前述聚乙烯醇系樹脂可使用前述聚乙烯醇或其共聚物的側鏈上具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基，可舉例如乙醯乙醯基、羰基等。其他方面，可使用將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺甲酸乙酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成的改質聚乙烯醇。
聚胺甲酸酯系樹脂可使用聚胺甲酸酯系樹脂的乳液。又，聚胺甲酸酯之樹脂乳液可採用未使用乳化劑之自乳化而成者。
聚胺甲酸酯系樹脂可使用例如由高分子多元醇與異氰酸酯化合物之加成聚合反應所獲得之一液型樹脂。前述一液型聚胺甲酸酯系樹脂可使用例如聚醚系聚胺甲酸酯樹脂、聚酯系聚胺甲酸酯樹脂等。前述聚胺甲酸酯系樹脂宜為尚殘留羥基者。具體上可舉例如塗漆型聚胺甲酸酯系樹脂。前述聚胺甲酸酯系樹脂僅乾燥去除溶劑或水即可形成皮膜。
聚醚系聚胺甲酸酯樹脂一般是由聚醚多元醇與異氰酸酯化合物的加成聚合反應而得。聚醚多元醇是對1種或2種以上多元醇經由將環氧烷開環聚合來進行加成反應而得之物。聚酯系聚胺甲酸酯樹脂，一般是由聚酯多元醇與異氰酸酯化合物的加成聚合反應而得。聚酯多元醇是將多元醇與多元酸縮聚而得者。又，聚醚多元醇或聚醚多元醇等高分子多元醇之數量平均分子量以400~3000為佳，而500~2000較佳。聚醚多元醇、聚酯多元醇等高分子多元醇可單獨使用1種，亦可為使用了2種以上之共聚物。
異氰酸酯化合物通常可適宜使用聚胺甲酸酯所用之芳香族、芳香脂肪族、脂肪族或脂環族等的異氰酸酯。又，異氰酸酯化合物亦可使用上述異氰酸酯化合物的加成物、二聚物、三聚物及其等之聚合物等。還有，異氰酸酯化合物亦可使用將上述異氰酸酯之一部份經胺甲酸乙酯化、脲二酮化、碳二醯亞胺化等而成的改質異氰酸酯。
在將前述聚胺甲酸酯系樹脂分散於水中時，已知有使用乳化劑將該樹脂強制乳化分散而進行調製的方法。又可使用在前述樹脂中導入作為水分散性親水基的陰離子基、陽離子基或非離子基作成自乳化物者等等。又可使用離子性高分子錯合物。
聚胺甲酸酯的樹脂乳液可例示如不使用乳化劑經自乳化而成的旭電化工業股份公司製ADEKA BONTIGHTER HUX系列等。又，水系胺甲酸乙酯樹脂的具體例可舉如第一工業製藥公司製SUPERFLEX系列，三井化學聚胺酯(股)製Takelac W-6020等。
環氧系樹脂可使用環氧系樹脂的乳液。在將前述環氧系樹脂分散於水中時，已知有使用乳化劑將該樹脂強制乳化分散而進行調製的方法。環氧系樹脂可舉例如ADEKA(股)製之ADEKA RESIN EM系列，(股)DAICEL製Celloxide 2021P等。
含唑啉基之聚合物可舉例如含有由丙烯醯骨架或苯乙烯骨架構成之主鏈且該主鏈的側鏈有唑啉基的聚合物。前述之中又宜為含有由丙烯醯基骨架構成之主鏈且該主鏈之側鏈有唑啉基的含唑啉基之丙烯酸系聚合物。
唑啉基可舉例如2-唑啉基、3-唑啉基、4-唑啉基等，其等之中以2-唑啉基為宜。2-唑啉基一般以下述一般式(1)表示。
【化1】(式中，R1 ~R4 各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳烷基、苯基或經取代之苯基。)
又，前述含唑啉基之聚合物除了唑啉基以外亦可含有聚氧伸烷基。
含唑啉基之聚合物，其數量平均分子量以5,000以上為佳，而10,000以上較佳，並通常1,000,000以下為佳。數量平均分子量一旦低於5,000，就會有錨定層強度不足引發凝集破壞現象而使投錨力無法提升的狀況。數量平均分子量一旦高於1,000,000，就會有作業性差的狀況。又，含唑啉基之聚合物，其唑啉價係例如以1,500gsolid/eq.以下為佳，而1,200g solid/eq.以下較佳。唑啉價一旦較1,500g solid/eq.更大，就會有分子中所含唑啉基的量變少而投錨力無法提升的狀況。
含唑啉基之聚合物，其唑啉基與黏著劑組成物所含羥基是在相對低溫之下進行反應，故若令錨定塗覆層中含有含唑啉基之聚合物，就可與黏著劑層中的官能基等發生反應而強固地密著。
含唑啉基之聚合物具體上可舉如(股)日本觸媒製EPOCROS WS-300、EPOCROS WS-500、EPOCROS WS-700等含唑啉基之丙烯酸系聚合物，並可舉例如(股)日本觸媒製EPOCROS K-1000系列、EPOCROS K-2000系列等含唑啉基之丙烯酸系/苯乙烯系聚合物等等，且可單獨使用1種或合併使用2種以上。
本發明之錨定塗覆層是由含有前述水系樹脂以作為主成分的水系樹脂組成物所形成，而前述水系樹脂組成物中尚含有化合物(a)，其於分子末端具有至少一個可和羥基反應的一級醇。藉由將前述化合物(a)導入錨定塗覆層中，可如上述般促進其與可形成黏著劑層之黏著劑組成物中的含巰基之矽烷偶合劑及具羥基之基底聚合物之間的反應，而提升前述錨定塗覆層與黏著劑層的投錨力。
前述水系樹脂宜沒有對「前述化合物(a)所具有之可和羥基反應之一級醇」具反應性的官能基，前述例示之水系樹脂中亦以聚乙烯醇系樹脂為佳，尤佳的是使用未改質的聚乙烯醇樹脂。或者，在使用未改質之聚乙烯醇樹脂的情形時，和該改質相關的前述親水性官能基，在其與前述化合物(a)所具之可和羥基反應的一級醇的關係方面，該親水性官能基之反應性宜低於黏著劑組成物中含巰基之矽烷偶合劑所具官能基(矽醇基)。
前述化合物(a)相對於100重量份之水系樹脂宜以例如0.2重量份以上20重量份以下的比率摻混。前述化合物(a)的比率設在0.2重量份以上就提升前述投錨力而宜是適宜的。前述化合物(a)的比率宜為1重量份以上，更宜為3重量份以上。另一方面，前述化合物(a)的比率一旦變多，耐水性或外觀性(針對偏光薄膜確認不均缺陷的外觀性)等就會惡化，故前述化合物(a)的比率宜在20重量份以下，更宜為10重量份以下，而較佳為7重量份以下。前述化合物(a)的比率取決於黏著劑組成物所用的具羥基之基底聚合物、含巰基之矽烷偶合劑的種類。
前述錨定塗覆層或水系樹脂組成物(固體成分)中水系樹脂的比率宜為80重量%以上，更宜為90重量%以上，更宜為95重量%以上。
前述化合物(a)理想上可使用在分子末端有至少1個一級醇的化合物。該化合物可舉例如羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素與甲醛之縮合物等胺基-甲醛樹脂、乙二醇、丙三醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、脂肪族醇、聚乙二醇。其等之中以胺基-甲醛樹脂為宜，其中又以羥甲基三聚氰胺為宜。
又亦可使用前述化合物(a)以外之具有可和羥基反應之官能基的化合物。可舉例如於分子末端具有胺基的化合物。該化合物可舉例如乙二胺、三乙二胺、己二胺等具有伸烷基及2個胺基的伸烷基二胺類；肼；己二酸二醯肼、草酸二醯肼、丙二酸二醯肼、琥珀酸二醯肼、戊二酸二醯肼、異苯二甲酸二醯肼、癸二酸二醯肼、馬來酸二醯肼、延胡索酸二醯肼、伊康酸二醯肼等二羧酸二醯肼；乙烯-1,2-二肼、丙烯-1,3-二肼、丁烯-1,4-二肼等水溶性二肼等等。其等之中又以肼為合宜。於分子末端具有胺基的化合物，在例如黏著劑組成物的基底聚合物具有羥基時(即基底聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物時含有含羥基單體作為單體單元的情形)尤為合宜。
再者，前述化合物(a)以外之具有可和羥基反應之官能基的化合物可舉例如甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯及其等的酮肟嵌段物或酚嵌段等異氰酸酯類；乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、丙三醇二或三環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、二環氧丙基苯胺、二環氧丙基胺等環氧化物類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、酞二醛等二醛類；烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙醯胍胺、苯并胍胺與甲醛的縮合物等胺基-甲醛樹脂；還有鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬或三價金屬之鹽類及其氧化物。其等之中，係以胺基-甲醛樹脂及水溶性二肼為佳。
可由提高耐水性或控制彈性率的觀點來使用前述化合物(a)以外之具有可和羥基反應之官能基的化合物，而其比率相對於100重量份之前述水系樹脂宜為20重量份以下、10重量份以下，更宜為5重量份以下。
前述水系樹脂組成物係調製成將前述水系樹脂溶解於溶劑中而成的溶液。溶劑方面可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺-N-甲基吡咯啶酮。其等可單獨使用，或組合二種以上來使用。其等之中，宜採用使用了水為溶劑的水溶液。前述水系樹脂組成物(例如水溶液)之中，前述水系樹脂的濃度雖無特別限制，但若考量塗佈性及放置安定性等，係為0.1~15重量%，較佳為0.5~10重量%。
此外，前述水系樹脂組成物(例如水溶液)中亦可添加前述化合物(a)以外的物質。可舉例如界面活性劑等。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。再者亦可摻混各種黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑、耐水解安定劑等安定劑等等。
錨定塗覆層的厚度宜為0.05μm，更宜為0.2μm以上，前述錨定塗覆層的厚度宜為0.5μm以上，更宜為0.7μm以上。尤其在使用聚乙烯醇系樹脂作為前述水系樹脂的情形時，前述錨定塗覆層的厚度宜為0.2μm以上，藉由該厚度的錨定塗覆層可抑制熱衝撃所致裂紋的發生。另一方面，錨定塗覆層一旦變得過厚，光學可靠度與耐水性就會降低，故錨定塗覆層的厚度宜為6μm以下，更宜為5μm以下，更宜為3μm以下，更宜為2μm以下。
可藉由將前述水系樹脂組成物塗佈在偏光件的另一面(無保護薄膜之面)並進行乾燥而形成前述錨定塗覆層。前述水系樹脂組成物的塗佈是使乾燥後厚度為上述厚度(宜0.2μm以上6μm以下)來進行。塗佈操作沒有特別限制，可以採用任意的適當方法。例如可採用輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模具塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗形刮刀式塗佈法等)等各種手段。
＜黏著劑層＞ 黏著劑層是由黏著劑組成物所形成，其含有具羥基之基底聚合物、及含巰基之矽烷偶合劑。黏著劑層之形成方面可使用含羥基之適當黏著劑，就其種類而言並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可因應該等黏著劑而使用各種基底聚合物。
此外，前述黏著劑層或黏著劑組成物(固體成分)中前述具羥基之基底聚合物的比率宜為80重量%以上，而更宜為90重量%以上，更宜為95重量%以上。
該等黏著劑中，又適宜使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。丙烯酸系黏著劑的基底聚合物可使用(甲基)丙烯酸系聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常以單體單元形式含有(甲基)丙烯酸烷基酯以作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之「(甲基)」均為相同意義。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷酯，可例示如直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數為1~18者。例如，作為前述烷基，可例示如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異十四基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。其等可單獨使用或組合使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。
本發明所用之(甲基)丙烯酸系聚合物，宜以單體單元形式含有含羥基單體。含羥基單體係具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和性雙鍵之聚合性官能基、並具有羥基。作為含羥基單體的具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷酯，或丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物在總構成單體的重量比率中係以(甲基)丙烯酸烷酯作為主成分，而(甲基)丙烯酸系聚合物中前述含羥基單體的比率在總構成單體之重量比率中宜為0.01~15%，更宜為0.03~10%，更宜為0.05~7%。
又在前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，可以改善接著性或耐熱性等為目的，而藉由共聚合來導入1種以上具有聚合性官能基的共聚合單體，該聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵。
前述共聚單體可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸鹽/酯等含磷酸基單體等等。
又，作為改質目的之單體例亦可舉如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺烷酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基嗎福林等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等等。
進一步作為改質單體亦可使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯吡咯啶酮、甲基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌嗪、乙烯吡嗪、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯唑、乙烯嗎福林、N-乙烯羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、氟素(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等等。還可舉如異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
再者，上述以外之可共聚合單體，可舉如含有矽原子的矽烷系單體等。矽烷系單體可舉例如3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷及10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體亦可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物等具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體，或是在聚酯、環氧基、胺甲酸乙酯等骨架上加成了2個以上和單體成分相同官能基之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵而成的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物中前述共聚單體(含羥基單體以外)的比率沒有特別限制，惟在總構成單體的重量比率中宜為0~20%左右，0.1~15%左右，更宜為0.1~10%左右。
該等共聚單體(含羥基單體以外)中，從接著性及耐久性之觀點來看，宜使用含羧基單體。含有含羧基單體以作為共聚單體的情形時，其比率以0.05~10重量%為佳，0.1~8重量%較佳，0.2~6重量%尤佳。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物通常是使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮到耐久性，特別是耐熱性，則宜使用重量平均分子量為70萬~270萬者。進而宜為80萬~250萬。重量平均分子量一旦小於50萬，以耐熱性此點而言就不適宜。又，重量平均分子量一旦變得大於300萬，就會變成需要大量的稀釋溶劑以調整成塗佈所需黏度而會拉高成本故並不適宜。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法)測定且利用聚苯乙烯換算所算出之值。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物的製造方面，可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。此外，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
可用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑及乳化劑等並無特別限制，可適當地選擇使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑和鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
再者，本發明之黏著劑組成物除了前述具羥基之基底聚合物(例如(甲基)丙烯酸系聚合物)外，係含有含巰基之矽烷偶合劑。前述含巰基之矽烷偶合劑可舉如3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二乙氧基矽烷、β-巰基甲基苯基乙基三甲氧基矽烷、巰基甲基三甲氧基矽烷、6-巰基己基三甲氧基矽烷、10-巰基癸基三甲氧基矽烷等具有巰基的化合物等。
又，作為含巰基之矽烷偶合劑，宜為分子內有2個以上烷氧基矽基之寡聚物型的含巰基之矽烷偶合劑。具體上可舉例如信越化學工業(股)製X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810等。該等含巰基之矽烷偶合劑難以揮發並有多個烷氧基矽基，故在提升耐久性方面有效用而為適宜。在此，寡聚物型是指單體的2聚物以上未滿100聚物之程度的聚合物，而寡聚物型矽烷偶合劑的重量平均分子量以300~30000的程度為宜。
前述寡聚物型含巰基之矽烷偶合劑的烷氧基矽基數量是分子內有2個以上即可，未限其數。前述寡聚物型含巰基之矽烷偶合劑的烷氧基數量，以矽烷偶合劑中10~60重量%為佳，20~50重量%較佳，20~40重量%更佳。
烷氧基的種類並無限定，可舉例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基等碳數1~6之烷氧基。其等之中又以甲氧基、乙氧基為佳，而甲氧基較佳。又，一個分子中甲氧基與乙氧基兩者均含亦佳。
前述含巰基之矽烷偶合劑的巰基含量，在例如巰基(-SH)的情形時是巰基當量1000g/mol以下為佳，800g/mol以下較佳，500g/mol以下較佳。又，巰基當量的下限値沒有特別受限，惟以例如200g/mol以上為佳。
前述含巰基之矽烷偶合劑可單獨使用、又亦可混合2種以上使用，其整體含量相對於100重量份之前述具羥基之基底聚合物(例如(甲基)丙烯酸系聚合物)以0.001~5重量份為佳，0.01~3重量份較佳，0.02~2重量份更佳，0.05~1重量份尤佳。
又，本發明之黏著劑組成物中，亦可添加前述含巰基之矽烷偶合劑以外的矽烷偶合劑。其他的偶合劑可舉如3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；3-丙醯烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯烯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等等。
前述含巰基之矽烷偶合劑以外的矽烷偶合劑可在不損及本發明效果的範圍下添加，其使用量並未特別受限，惟例如從對被黏著物的密著性之觀點來看，可相對於100重量份之黏著劑組成物而在3重量份以下的範圍使用，進一步可在2重量份以下，進一步可在1重量份以下的範圍使用。可藉由使用巰基以外的矽烷偶合劑來提升密著性。但是，巰基以外的矽烷偶合劑也可能亦賦予可重工性，故添加量一旦較高就會有密著性變差的傾向。
再者，本發明之黏著劑組成物中可含有交聯劑。前述交聯劑可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用。交聯劑整體的含量，相對於100重量份之前述具羥基之基底聚合物宜為2重量份以下，更宜為1.5重量份以下，更宜為1重量份以下。
在本發明之黏著劑組成物中，作為前述交聯劑宜含有不和羥基反應的交聯劑(b)。前述不和羥基反應的交聯劑(b)，亦可與異氰酸酯系交聯劑併用，惟不含異氰酸酯系交聯劑的態樣係為適宜。本發明之黏著劑組成物在不含異氰酸酯系交聯劑的情況下，就沒有關於使用期限之處理面上的問題。不和羥基反應的交聯劑(b)在黏著劑層形成後，並不特別需要達到預定凝膠分率為止的老化，可製作從已形成黏著劑層之初期階段起，凝膠分率80%以上之硬化物。再者可想見，在黏著劑層中由於不和羥基反應的交聯劑(b)所致交聯反應是持續進行，故基底聚合物所具有的羥基可效率良好地與含巰基之矽烷偶合劑的矽醇基進行反應，而可使黏著劑層的凝膠分率從初期階段便硬化成80%以上。
前述交聯劑(b)可單獨使用1種亦可混合2種以上使用，惟其整體含量相對於100重量份之前述具羥基之基底聚合物，前述交聯劑(b)以0.01~2重量份為佳，更以0.04~1.5重量份為佳，更以0.05~1重量份為佳，更以0.4~0.6重量份較佳。可在此範圍內適當選擇以調整加工性、可重工性、交聯安定性、剝離性等。
前述交聯劑(b)可適宜使用過氧化物。
此外，作為反應處理後殘留之過氧化物分解量之測定方法，可例如以HPLC(高速液體層析法)來進行測定。
更具體而言，係例如將反應處理後之黏著劑逐次取出約0.2g，浸漬於醋酸乙酯10ml後於25℃下用振盪機、以120rpm振盪萃取3小時，之後於室溫下靜置3天。接著，添加乙腈10ml，於25℃下以120rpm振盪30分鐘，再將經膜過濾器(0.45μm)過濾所得之萃取液約10μl注入HPLC加以分析，即可令其作為反應處理後之過氧化物量。
作為過氧化物，只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行交聯者便能適宜使用，但考量作業性及穩定性，係以使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物為佳，而使用90℃~140℃之過氧化物較佳。
可使用之過氧化物可舉例如：二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二第二丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧異丁酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苄醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苄醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、第三丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，從交聯反應效率優異之觀點來看，尤以二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯基(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯基(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。
此外，過氧化物之半衰期是表示過氧化物分解速度的指標，意指過氧化物之殘留量變成一半為止的時間。關於用以於任意時間達半衰期之分解溫度或於任意溫度下之半衰期時間是揭示於製造商目錄等之中，例如揭示於日本油脂股份有限公司之「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
前述交聯劑(ｂ)以外的交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物呈共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可舉如Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中進行共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，有機化合物則可舉如烷酯類、醇類化合物、羧酸化合物、醚類化合物、酮類化合物等。
前述交聯劑(b)以外的交聯劑使用量，宜經控制以使其可製作從已形成黏著劑層之初期階段起的凝膠分率為80%以上之硬化物。例如，相對於黏著劑組成物100重量份可在2重量份以下的範圍使用前述交聯劑(b)以外的交聯劑，進而可含1重量份以下之範圍，進而可含0.5重量份以下。特別是在使用異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑(b)以外之交聯劑的情形時，要將其使用量控制在不需要進行老化的範圍。從確保對薄膜等被黏著物的投錨力此點來說，異氰酸酯系交聯劑係為適宜，又從黏著劑層變硬就可抑制偏光薄膜尺寸變化此點來說亦為適宜。再者，特別是將異氰酸酯系交聯劑與不和羥基反應的交聯劑(b)併用會得到更加強力的投錨力故為適宜。
進一步在本發明之黏著劑組成物中，亦可含有鹼金屬鹽、聚醚改性聚矽氧化合物、其他的公知添加劑，例如可視使用用途適當添加聚丙二醇等之聚烯烴二醇的聚醚化合物、著色劑、顔料等之粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、均染劑、軟化劑、抗氧化劑、老化防止劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。此外，在可控制之範圍內，也可採用添加了還原劑的氧化還原系統。
雖是利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，但在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑整體的添加量，並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。
利用所使用的交聯劑，可調整交聯處理溫度及交聯處理時間。交聯處理溫度宜為170℃以下。
又，該交聯處理可在黏著劑層之乾燥步驟時的溫度下進行，亦可在乾燥步驟後另設交聯處理步驟來進行。
又，關於交聯處理時間，可考量生產性及作業性來做設定，但通常為0.2~20分鐘左右，並宜為0.5~10分鐘左右。
形成黏著劑層的方法係例如可藉由下述方法來製作：將前述黏著劑組成物塗佈在經剝離處理的分離件等上，乾燥去除聚合溶劑等後形成黏著劑層，然後就圖1和2之態樣轉印至錨定塗覆層的方法；是就或圖1和2之態樣在錨定塗覆層塗佈前述黏著劑組成物，乾燥去除聚合溶劑等而在偏光薄膜上形成黏著劑層的方法等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
經剝離處理之分離件，宜使用聚矽氧剝離襯材。在此種襯材上塗佈本發明之黏著劑組成物，使其乾燥而形成黏著劑層之步驟中，可視目的採用適當適切的方法以作為使黏著劑組成物乾燥的方法。理想的是採用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。藉由將加熱溫度設成上述範圍，可獲得具有優異黏著特性的黏著劑層。
乾燥時間可採用適當適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更佳為5秒~10分鐘，尤佳為10秒~5分鐘。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等等方法。
黏著劑層的厚度並無特別限制，例如1~100μm左右。宜為2~50μm，較佳為2~40μm，更佳為5~35μm。
前述黏著劑層露出時，在供實際使用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
分離件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片、金屬箔及其等之積層體等之適當薄片體等，但從表面平滑性優異之觀點來看，適宜使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜為可保護前述黏著劑層之薄膜即可，並未特別受限，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對酞酸乙二酯薄膜、聚對酞酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm，並宜為5~100μm左右。亦可視需要對前述分離件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高自前述黏著劑層之剝離性。
此外，在上述附黏著劑層之偏光薄膜的製作中所使用之經剝離處理的片材，可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜的分離件使用，而可在製程方面簡略化。
＜表面保護薄膜＞ 可於附黏著劑層之偏光薄膜上設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並透過該黏著劑層來保護偏光件。
表面保護薄膜的基材薄膜，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂此類透明的聚合物。其等之中又以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。基材薄膜的厚度，通常為500μm以下，宜為10~200μm。
可適當選擇並使用以(甲基)丙烯醯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等聚合物作為基底聚合物的黏著劑，作為形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，宜為以丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑。黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)，係因應所需黏著力來決定。通常為1~100μm左右，並宜為5~50μm。
此外，表面保護薄膜中，可在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料來設置剝離處理層。
＜其他光學層＞ 本發明之偏光薄膜在實際使用時，可作為與其他光學層積層而成之光學薄膜使用。該光學層並未特別受限，可使用1層或2層以上之諸如反射板及半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等會用於形成液晶顯示裝置等的光學層。尤佳的是於本發明之附黏著劑層之偏光薄膜再積層反射板或半穿透反射板而成之反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜，於偏光薄膜再積層相位差板而成之橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜再積層視角補償薄膜而成之廣視角偏光薄膜，或於偏光薄膜再積層增亮薄膜而成之偏光薄膜。
於附黏著劑層之偏光薄膜積層了上述光學層而成之光學薄膜，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序各別積層之方式形成，但預先積層成光學薄膜者在品質安定性與組裝作業等方面較具優勢，有改善液晶顯示裝置等之製程的優點。可使用黏著層等適當的接著手段進行積層。上述附黏著劑層之偏光薄膜及其他光學層在接著時，其等之光學軸可因應作為目的之相位差特性等製成適當的配置角度。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置的形成，可依據習知技藝來實施。即，液晶顯示裝置一般而言是經由將液晶元件、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜以及視需要之照明系統等結構零件適當組裝並安裝驅動電路等來形成，在本發明中，除使用本發明之附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜此點之外未特別受限，可依習知為準。液晶元件方面可使用例如IPS型、VA型等等任意類型。
可形成在液晶元件的單側或兩側配置有附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置、或是照明系統使用背光或反射板者等適當的液晶顯示裝置。此情形時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜可設置在液晶元件的單側或兩側。於兩側配置附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜時，其等可為相同亦可相異。此外，在形成液晶顯示裝置時，可以將例如擴散板、抗眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。 實施例
以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃ 65%RH。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量的測定＞ (甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。 ・分析裝置：東曹股份有限公司製，HLC-8120GPC ･管柱：Tosoh公司製、G7000HXL +GMHXL +GMHXL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm　計90cm ・管柱溫度：40℃ ・流量：0.8ml/min ・注入量：100μl ・溶離液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯
＜偏光件的製作＞ 於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上，施加電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作積層體。 將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。 接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達預定的穿透率。在本實施例中是使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水，摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 經由上述，獲得含厚度5μm偏光件的光學薄膜積層體。
(保護薄膜的製作) 保護薄膜：在厚度40μm具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施以電暈處理而使用。
(適用於保護薄膜之接著劑的製作) 將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光起始劑「IRGACURE　819」(BASF公司製)3重量份摻混，調製紫外線硬化型接著劑。
＜單面保護偏光薄膜的製作＞ 在上述光學薄膜積層體之偏光膜的表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使硬化後接著劑層厚度達0.5μm的方式塗佈，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射作為活性能量線的紫外線使接著劑硬化。紫外線的照射，是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion　UV　Systems,Inc公司製的Light　HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，而紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。接著，將非晶性PET基材剝離，製作使用了薄型偏光膜的單面保護偏光薄膜A。所得單面保護偏光薄膜之光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜錨定塗覆層之形成材：聚乙烯醇系樹脂組成物＞ 將聚合度2500且皂化度99.7莫耳%之聚乙烯醇樹脂100份與羥甲基三聚氰胺(DIC公司製，商品名「WATER SOL：S-695」)5份溶解於純水中，調製出固體成分濃度為4重量%之水溶液。
＜丙烯酸系聚合物的調製＞ 在配備了攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷卻器的四口燒瓶中，將含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸-2-羥乙酯1份的單體混合物投入。然後，將0.1份之作為聚合起始劑的2,2´-偶氮雙異丁腈與醋酸乙酯一起投入100份的前述單體混合物(固體成分)中，一邊慢慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫維持在60℃左右，進行7小時聚合反應。之後，於所得反應液中加入乙酸乙酯，調製出固體成分已調整成濃度30%且重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物溶液。
(黏著劑組成物的調製) 相對於100份之上述丙烯酸系聚合物溶液固體成分，摻混寡聚物型含巰基之矽烷偶合劑(烷氧基量：30重量%，巰基當量：450g/mol,信越化學工業(股)製X-41-1810)0.2份及二苯甲醯基過氧化物0.42份，調製丙烯酸系黏著劑層溶液。
(黏著劑層之形成) 接著，在經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜)的表面上均勻塗覆上述丙烯酸系黏著劑溶液，在155℃的空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於分離薄膜的表面上形成厚度20μm的黏著劑層。
實施例1 ＜製作附錨定塗覆層之單面保護偏光薄膜＞ 在上述單面保護偏光薄膜的偏光膜(偏光件)之面(沒有設置保護薄膜的偏光件面)上，以乾燥後厚度成為1μm的方式以線棒塗佈機塗佈已調整成25℃之上述聚乙烯醇系樹脂組成物後，在90℃下熱風乾燥20秒，製作附錨定塗覆層之單面保護偏光薄膜。
(附黏著劑層之偏光薄膜的製作) 接著，將已形成在上述離型片材(分離件)之剝離處理面的黏著劑層，貼合在已形成於單面保護偏光薄膜上的錨定塗覆層上，來製作附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~11、比較例1~6 將實施例1中的錨定塗覆層所摻混之水系樹脂的種類、羥甲基三聚氰胺的摻混量(摻混份量是相對於100份水系樹脂的數值)、黏著劑組成物中矽烷偶合劑及交聯劑的種類與摻混量(摻混份是相對於100份之丙烯酸系聚合物的數值)以如表1所示方式變換，此外以和實施例1相同方式製作附錨定塗覆層之單面保護偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜。
對上述實施例及比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜進行下述評價。結果顯示於表1。
＜初期凝膠分率的測定＞ 從製成1分鐘以內之已形成在分離薄膜之剝離處理面上的黏著劑層抓取約0.1g作為試樣1。將前述試樣1包在直徑0.2μm鐵氟龍(註冊商標)薄膜(商品名「NTF1122」，日東電工股份公司製)中以後，綁上風箏線，作成試樣2。在供下述試驗前測定試樣2的重量，將其作為重量A。而前述重量A是試樣1(黏著劑層)、鐵氟龍(註冊商標)薄膜與風箏線的總重量。又，將前述鐵氟龍(註冊商標)薄膜與風箏線的總重量作為重量B。接著將前述試樣2放入裝滿醋酸乙酯的50ml容器，於23℃下靜置1週。之後將試樣2從容器取出，在乾燥機中以130℃2小時進行乾除去醋酸乙酯後，測定試樣2的重量。測定供前述試驗後試樣2的重量，將其作為重量C。然後從下式算出凝膠分率。 凝膠分率(重量%)＝(C-B)/(A-B)×100 黏著劑層的初期凝膠分率宜為80%以上。凝膠分率低關乎容易殘留刻痕等不良缺陷。
＜投錨力＞ 將實施例及比較例所得附黏著劑層之偏光薄膜切成25mm×150mm的大小，以其等之黏著劑層面與由50μm厚之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜表面蒸鍍銦-氧化錫而成之蒸鍍薄膜的蒸鍍面相接的方式進行貼合。然後，以手剝離前述聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一邊，確認黏著劑層附著在聚對苯二甲酸乙二酯薄膜側後，使用島津製作所製拉張試驗機AG-1測定以180°方向在300mm/分的速度下進行剝離時的應力(N/25mm)(25℃)。 投錨力在15N/25mm以上者，重工時沒有殘膠或加工時沒有少膠或脫膠而為良好。又，將前述剝離時的破壞狀態以「凝集破壞(錨定塗覆層或黏著劑層的破壞)」或「界面剝離(在錨定塗覆層與黏著劑層之界面的剝離)」表示。此外，比較例7是僅使用異氰酸酯系交聯劑作為黏著劑層之交聯劑的情況，故為在48小時老化後所測定的投錨力。實施例及其他比較例是在製成附黏著劑層之偏光薄膜後24小時以內(未進行老化)所測定的値。
【表1】
表1中，過氧化物表示商品名：Nyper BMT 40SV，苯甲醯基過氧化物，日本油脂(股)製； 異氰酸酯系表示商品名：TAKENATE D110N，伸二甲苯基二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物，三井化學(股)製； X-41-1810：寡聚物型含巰基之矽烷偶合劑，烷氧基量：30重量%，巰基當量：450g/mol，信越化學工業(股)製； KBM‐802：單體型含巰基之矽烷偶合劑，信越化學工業(股)製； KBM‐803：單體型含巰基之矽烷偶合劑，信越化學工業(股)製； X-41-1056：寡聚物型含環氧基之矽烷偶合劑，烷氧基量：17重量%，環氧基當量：280g/mol，信越化學工業(股)。 又，實施例10之交聯劑為異氰酸酯系交聯劑與過氧化物交聯劑的併用系統。 含唑啉基之聚合物：EPOCROS WS-700((股)日本觸媒製)； 聚胺甲酸酯系樹脂：Takelac W-6020(三井化學聚胺酯(股)製)； 環氧樹脂：Celloxide 2021P((股)DAICEL製)。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧錨定塗覆層(以聚乙烯醇系樹脂為主成分)
3‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧分離件
5、5´‧‧‧保護薄膜
10‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
11‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
圖1為本發明附黏著劑層之偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。 圖2為本發明附黏著劑層之偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。 圖3為本發明附黏著劑層之偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧錨定塗覆層(以聚乙烯醇系樹脂為主成分)
3‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧分離件
10‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜

Claims (19)

  1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，特徵在於：該附黏著劑層之偏光薄膜依序具有偏光件、錨定塗覆層及黏著劑層， 前述錨定塗覆層是由水系樹脂組成物所形成，該水系樹脂組成物含有水系樹脂、以及於分子末端有至少一個可和羥基反應之一級醇的化合物(a)， 前述黏著劑層是由黏著劑組成物所形成，該黏著劑組成物含有具羥基之基底聚合物、及含巰基之矽烷偶合劑。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述水系樹脂為選自於聚乙烯醇系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂及含唑啉基之聚合物中之至少1者。
  3. 如請求項2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述水系樹脂為聚乙烯醇系樹脂。
  4. 如請求項3中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度為96莫耳%以上且平均聚合度為2000以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中相對於100重量份之前述水系樹脂，前述水系樹脂組成物含有0.2~20重量份前述化合物(a)。
  6. 如請求項1至5中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述化合物(a)為羥甲基三聚氰胺。
  7. 如請求項1至6中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述錨定塗覆層之厚度為0.05μm以上且6μm以下。
  8. 如請求項1至7中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述具羥基之基底聚合物為具羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物。
  9. 如請求項1至8中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中相對於100重量份之前述具羥基之基底聚合物，前述黏著劑組成物含有0.01~5重量份前述含巰基之矽烷偶合劑。
  10. 如請求項1至9中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑組成物含有交聯劑。
  11. 如請求項10之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述交聯劑含有不和羥基反應的交聯劑(b)。
  12. 如請求項11之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述不和羥基反應的交聯劑(b)為過氧化物。
  13. 如請求項11或12之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於100重量份之前述具羥基之基底聚合物，含有0.01~2重量份前述不和羥基反應之交聯劑(b)。
  14. 如請求項1~13中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述偏光件之厚度為15μm以下。
  15. 如請求項1至14中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其係構造成使前述偏光件之利用單體穿透率T及偏光度P表示的光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，及 P≧99.9(惟T≧42.3)。
  16. 如請求項1至15中任一者之附黏著劑層之偏光薄膜，其中在前述偏光件之至少一側具有保護薄膜。
  17. 如請求項1~16中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層上積層有分離件。
  18. 一種附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，特徵在於該附黏著劑層之偏光薄膜係如請求項1至17中任一項所記載者，且該方法包括以下步驟： 形成錨定塗覆層之步驟，係在偏光件上塗佈水系樹脂組成物然後進行乾燥而形成錨定塗覆層，其中該水系樹脂組成物包含水系樹脂、及於分子末端具有至少一個可和羥基反應之一級醇的化合物(a)； 形成黏著劑層之步驟，係在前述錨定塗覆層上由黏著劑組成物形成黏著劑層，其中該黏著劑組成物含有具羥基之基底聚合物、及含巰基之矽烷偶合劑。
  19. 一種影像顯示裝置，具有如請求項1至17中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI827765B (zh) * 2018-12-14 2024-01-01 日商日東電工股份有限公司 附黏著劑層之偏光膜

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6891036B2 (ja) * 2017-04-28 2021-06-18 藤森工業株式会社 粘着剤組成物、及び粘着フィルム
JP2018197848A (ja) * 2017-05-24 2018-12-13 大阪ガスケミカル株式会社 偏光板保護フィルム及びその製造方法、並びに偏光板
JP7187764B2 (ja) * 2017-06-21 2022-12-13 東洋紡株式会社 液晶表示装置
KR102112867B1 (ko) * 2017-11-13 2020-05-19 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
WO2019117674A1 (ko) * 2017-12-15 2019-06-20 주식회사 엘지화학 편광판-캐리어 필름 적층체, 이의 제조방법, 이를 이용한 편광판의 제조방법 및 편광판
JP6945052B2 (ja) * 2018-02-15 2021-10-06 富士フイルム株式会社 バインダー組成物、バインダー層、光学積層体および画像表示装置
JP2020118768A (ja) * 2019-01-21 2020-08-06 日東電工株式会社 粘着剤層付き偏光フィルム
JP2020118769A (ja) * 2019-01-21 2020-08-06 日東電工株式会社 粘着剤層付き偏光フィルム
JP7370709B2 (ja) * 2019-01-28 2023-10-30 日東電工株式会社 積層体、光学フィルム、ならびに画像表示装置およびその製造方法
JP7265882B2 (ja) * 2019-02-26 2023-04-27 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法、易接着層付偏光子、偏光フィルム、光学フィルム、および画像表示装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09230138A (ja) * 1996-02-23 1997-09-05 Sekisui Chem Co Ltd 粘着型偏光板
JP3727755B2 (ja) * 1997-06-17 2005-12-14 富士写真フイルム株式会社 セルロースアセテートフイルム、その製造方法および偏光板保護膜
JP4081983B2 (ja) * 2000-03-17 2008-04-30 ヤマハ株式会社 接着剤およびこれを用いた木工製品
JP2005222013A (ja) * 2004-01-06 2005-08-18 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
US20090059369A1 (en) * 2005-03-31 2009-03-05 Nippon Shokubai Co., Ltd. Polarizer protective film, polarizing plate, and image display apparatus
KR100525272B1 (ko) 2005-04-19 2005-11-02 (주)정인종합건축사사무소 건축용 높이조절 작업난간대
CN101351483B (zh) * 2005-12-27 2013-04-03 可乐丽股份有限公司 粘合性组合物
EP1923361A1 (de) * 2006-11-20 2008-05-21 Sika Technology AG Tieftemperatur-Haftvoranstrich-Zusammensetzung
JP2008129258A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009157361A (ja) * 2007-12-06 2009-07-16 Nitto Denko Corp 偏光板及び画像表示装置
JP2010001415A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Nitto Denko Corp 水分散型粘着剤組成物、水分散型粘着シート、粘着型光学フイルム、画像表示装置
JP5552338B2 (ja) * 2010-03-12 2014-07-16 リンテック株式会社 粘着剤組成物、粘着剤および粘着シート
JP4691205B1 (ja) * 2010-09-03 2011-06-01 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法
CN102464960B (zh) * 2010-10-29 2014-10-15 第一毛织株式会社 粘合剂组合物、光学元件、表面保护膜和粘合剂片
JP5436394B2 (ja) * 2010-10-29 2014-03-05 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 粘着剤組成物
JP6049645B2 (ja) * 2013-03-27 2016-12-21 日東電工株式会社 偏光板、液晶表示装置、及び、偏光板の製造方法
JP6125061B2 (ja) * 2015-02-13 2017-05-10 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム並びに画像表示装置およびその連続製造方法
JP6125063B2 (ja) * 2015-02-13 2017-05-10 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルム、その製造方法並びに画像表示装置およびその連続製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI827765B (zh) * 2018-12-14 2024-01-01 日商日東電工股份有限公司 附黏著劑層之偏光膜
TWI827766B (zh) * 2018-12-14 2024-01-01 日商日東電工股份有限公司 附黏著劑層之偏光膜

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