TW201801917A - 單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明是一種僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄，前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下，並經構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或者 P≧99.9(惟T≧42.3)； 前述偏光件之另一面具有透明層，並且具前述保護薄膜之側的表面動摩擦係數為0.2以下。本發明之單面保護偏光薄膜中，偏光件具有預定之光學特性，並且即便偏光件厚度為10μm以下，仍能夠抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷。

Description

單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法
本發明係有關於僅於偏光件單面設有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，以及具有該單面保護偏光薄膜與黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。前述單面保護偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜，可單獨應用或將其積層以作為光學薄膜，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等之影像顯示裝置。
液晶顯示裝置因其影像形成方式，在形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜是必要而不可或缺的。一般而言，偏光薄膜係使用在偏光件之單面或兩面上以聚乙烯醇系接著劑等貼合有保護薄膜而成之物，該偏光件則由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料所構成。
在將前述偏光薄膜貼附於液晶單元等時，通常會使用黏著劑。又，由於具有可瞬間固定偏光薄膜、以及不需要乾燥步驟即令偏光薄膜固著等優點，黏著劑係作成黏著劑層預先設置於偏光薄膜的單面。亦即，在偏光薄膜的貼著方面，通常使用附黏著劑層之偏光薄膜。
又，偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜等有下述問題：在熱衝撃(例如，反覆轉換-30℃與80℃之溫度條件的熱震試驗或在100℃高溫下試驗)的嚴苛環境下，容易因為偏光件收縮應力的變化，而在偏光件吸收軸方向整體性產生裂紋(貫通裂紋)。亦即，附黏著劑層之偏光薄膜，在前述嚴苛環境下對熱衝撃的耐久性並不足夠。尤其，從薄型化的觀點來看，使用了僅於偏光件單面設有保護薄膜此種單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜，對前述熱衝撃的耐久性實不足夠。又，前述因熱衝撃而產生的貫通裂紋，在偏光薄膜尺寸變大時就會容易出現。
為能抑制前述貫通裂紋的發生，已有提出例如在單面保護偏光薄膜設有拉張彈性模數100MPa以上的保護層、又在該保護層設有黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜(專利文獻1)。又已提出在厚度25μm以下之偏光件的單面上具有以硬化型樹脂組成物之硬化物構成的保護層、在偏光件另一面上具有保護薄膜、並在前述保護層的外側具有黏著劑層此種附黏著劑層之偏光薄膜(專利文獻2)。前述專利文獻1、2所記載的附黏著劑層之偏光薄膜，從抑制貫通裂紋的發生此點來看是有效的。又，薄型化在偏光件方面亦已進行中，例如，已有提出控制了單體穿透率及偏光度之光學特性、展現高配向性的薄型偏光件(專利文獻3)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開第2010-009027號公報 專利文獻2：日本特開第2013-160775號公報 專利文獻3：日本特許第4751481號說明書
發明欲解決之課題 專利文獻1及2是藉由使用僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜來謀求薄型化，同時另一方面藉由設置保護層來抑制因使用單面保護偏光薄膜而產生的朝偏光件吸收軸方向之貫通裂紋的發生。
另一方面，薄型化之發展也發生在偏光件上。在偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜所用偏光件作成薄型的情況時(例如作成厚度10μm以下時)，偏光件的收縮應力變化會變小。因此，已了解到若利用薄型化偏光件，就能夠抑制前述貫通裂紋的發生。
然而，前述貫通裂紋的發生已受到抑制的單面保護偏光薄膜、或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜中，在如專利文獻3般控制光學特性並將偏光件作成薄型的情況時(例如，作成厚度10μm以下時)，單面保護偏光薄膜或使用了該薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜在負荷機械衝撃的時候(包括偏光件側有凸折所致負荷的情形)，已知在偏光件吸收軸方向會局部出現極細的細縫(以下亦稱為奈米細縫)。前述奈米細縫的產生係與偏光薄膜的尺寸無關此亦為已知。再者，亦已知在使用偏光件兩面具有保護薄膜的雙面保護偏光薄膜的情況時，前述奈米細縫並未發生。又，已知偏光件發生貫通裂紋的情形時，由於貫通裂紋周邊的應力被解放，貫通裂紋並不會鄰接而生，但奈米細縫除了單獨產生外亦鄰接而生。又已知，貫通裂紋具有朝向已產生裂紋之偏光件吸收軸方向延伸的行進性，但奈米細縫則無前述行進性。如此可知，前述奈米細縫，是在貫通裂紋的發生已受到抑制的單面保護偏光薄膜之偏光件經薄化且光學特性已控制在預定範圍的情形下產生的新課題，和以往所知之前述貫通裂紋是由不同的現象產生的課題。
又，由於前述奈米細縫極細，故在一般環境下無法檢出。因此，即便設若偏光件已有奈米細縫發生，單面保護偏光薄膜及使用了該薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜的漏光所致缺陷，要僅憑一眼即予以確認仍是困難的。亦即，通常單面保護偏光薄膜是製成長條薄膜狀而以自動光學檢査來檢查缺陷，但要以該缺陷檢査來將奈米細縫檢出為缺陷則有困難。亦已知前述奈米細縫所致缺陷在單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜貼合於影像顯示面板的玻璃基板等再置於加熱環境下時，奈米細縫會往橫向擴展，因而變得能夠檢出(例如，前述漏光之有無)。
是以，對於偏光件厚度為10μm以下的單面保護偏光薄膜或使用了該薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜而言，期望要先抑制的不僅止貫通裂紋，還有奈米細縫所致之缺陷。
本發明之目的在於提供一種單面保護偏光薄膜，其僅於偏光件單面具有保護薄膜，其中前述偏光件具有預定之光學特性，且即便厚度為10μm以下，仍能夠抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷。又，本發明之目的在於提供一種具有前述單面保護偏光薄膜與黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。
又，本發明之目的在於提供一種具有前述單面保護偏光薄膜或前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置，並進一步提供其連續製造方法。本發明即有關於此。
用以解決課題之手段 經本案發明人等精心探究的結果，發現藉由下述單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜等能夠解決上述課題，終至完成本發明。
即本發明係有關於一種僅於偏光件的單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，其特徵在於： 前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂且厚度在10μm以下，並經構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或者 P≧99.9(惟T≧42.3)， 前述偏光件的另一面具有透明層， 並且，具有前述保護薄膜之側的表面動摩擦係數為0.2以下。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述透明層宜為樹脂材料的形成物。前述透明層可使用含有聚乙烯醇系樹脂之形成材或含有水系乳液之形成材的形成物。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述透明層可使用厚度0.2μm以上且3μm以下者。
前述單面保護偏光薄膜之中，前述保護薄膜可使用表面具有表面處理層者。前述表面處理層可舉如低反射處理層。
前述單面保護偏光薄膜中，前述偏光件宜含有相對於偏光件總量為20重量%以下之硼酸。
又本發明是有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，特徵在於具有前述單面保護偏光薄膜以及黏著劑層。
前述附黏著劑層之偏光薄膜，可使用前述黏著劑層設於前述單面保護偏光薄膜之透明層上的態樣。又，前述附黏著劑層之偏光薄膜，可使用前述黏著劑層設於前述單面保護偏光薄膜之保護薄膜的態樣。又，前述附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層可設置分離件。設有分離件的附黏著劑層之偏光薄膜能夠作為捲繞物來使用。
又本發明係有關於一種具有前述單面保護偏光薄膜、或前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。
又本發明係有關於一種影像顯示裝置之連續製造方法，其包含下述步驟：由前述附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物輸出前述附黏著劑層之偏光薄膜並利用前述分離件輸送，且隔著前述黏著劑層將前述附黏著劑層之偏光薄膜連續貼合於影像顯示面板的表面。
又本發明係有關於一種影像顯示裝置之連續製造方法，其包含下述步驟：由前述附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物輸出前述附黏著劑層之偏光薄膜並利用前述分離件輸送，且隔著前述黏著劑層將前述附黏著劑層之偏光薄膜連續貼合於影像顯示面板的表面。
發明效果 本發明之單面保護偏光薄膜、及附黏著劑層之偏光薄膜，係使用厚度10μm以下之偏光件而呈薄型化。又，相較於偏光件厚度高的情形，前述厚度10μm以下的薄型偏光件因熱衝撃而加諸於偏光件之收縮應力變化較小，故能夠抑制貫通裂紋的發生。
另一方面，具有預定光學特性之薄型偏光件，會容易在偏光件出現奈米細縫。奈米細縫被認為是在單面保護偏光薄膜的製造步驟、於單面保護偏光薄膜上設置黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜的製造步驟、以及製造附黏著劑層之偏光薄膜後的各種步驟中或在附黏著劑層之偏光薄膜已貼合於影像顯示面板後，當前述單面保護偏光薄膜、或使用了該偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜承受機械衝撃之時所產生，且推想是由與熱衝撃所致之貫通裂紋不同的機制所產生。又，前述奈米細縫所致缺陷，在單面保護偏光薄膜、或附黏著劑層之偏光薄膜貼合於影像顯示面板的玻璃基板等上再置於加熱環境下的情形時，奈米細縫會往橫向擴大而變成能夠檢出(例如，是否有前述之漏光)。
本發明之單面保護偏光薄膜、及附黏著劑層之偏光薄膜，可藉由在偏光件之另一面(沒有保護薄膜之面)設置透明層，而抑制前述奈米細縫的發生。而且本發明中，可藉由使用具保護薄膜之側的表面(未貼合偏光件之側的表面)動摩擦係數在0.2以下者，來更為抑制前述奈米細縫的發生。
如上述，本發明之單面保護偏光薄膜、及使用其之附黏著劑層之偏光薄膜，可藉由設置前述透明層並使用具有預定動摩擦係數之保護薄膜，來滿足薄型化並同時有效抑制偏光件所生成之貫通裂紋及奈米細縫的發生。
又，由於前述奈米細縫極細，故在一般環境下無法檢出。因此，即便設若偏光件已有奈米細縫發生，單面保護偏光薄膜及使用了該薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜的漏光所致缺陷，要僅憑一眼即予以確認仍是困難的。已知前述奈米細縫所致缺陷在單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜置於加熱環境下時，奈米細縫會往橫向擴大而變得能夠檢出(例如，前述漏光之有無)。亦已知要抑制此種奈米細縫往橫向擴展所致缺陷的發生，設置前述透明層會是一有效方法。
如前所述，可想見即便在形成透明層前的單面保護偏光薄膜之製造步驟中，偏光件仍有奈米細縫發生。就算在設置透明層前之單面保護偏光薄膜之狀態的偏光件有奈米細縫發生，亦可利用前述透明層來抑制前述奈米細縫往橫向擴展。又，在已形成透明層後之單面保護偏光薄膜的製造步驟、已製成附黏著劑層之偏光薄膜後的各種步驟中，即便施加機械衝撃，但凡為本發明之附透明層之偏光薄膜，則仍能抑制奈米細縫的發生。
以下，邊參照圖1及2邊說明本發明之單面保護偏光薄膜11、以及附黏著劑層之偏光薄膜12。單面保護偏光薄膜10(沒有透明層3的情形)是例如圖1(A)所示般，僅於偏光件1的單面具有保護薄膜2。圖1(B)係顯示保護薄膜2之表面具有表面處理層X的情形(保護薄膜2´)。又，單面保護偏光薄膜11之具保護薄膜2(或2´)之側的表面(沒有貼合偏光件之側的表面)的動摩擦係數為0.2以下。圖1(A)中保護薄膜2之表面、及圖1(B)中表面處理層X之表面係使用動摩擦係數0.2以下者。前述動摩擦係數，從抑制奈米細縫發生的觀點來看宜為0.1以下。動摩擦係數的測定係如實施例之記載。雖未圖示，但偏光件1與保護薄膜2係隔著如接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層而積層。又雖未圖示，但單面保護偏光薄膜10可於保護薄膜2上或設置易接著層或施加活性化處理，而使該易接著層與接著劑層積層。本發明之單面保護偏光薄膜11(附有透明層3)係如圖1(A)(B)所示，在單面保護偏光薄膜10上，於前述偏光件1的另一面(沒有保護薄膜2的面)(直接)設置透明層3。
又，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜12，係如圖2所示，具有單面保護偏光薄膜(附有透明層)11與黏著劑層4。此外，圖2之附黏著劑層之偏光薄膜12中，作為單面保護偏光薄膜11雖顯示的是圖1(A)所示態樣，但圖1(B)所示態樣也同樣可適用於附黏著劑層之偏光薄膜12。黏著劑層4，在圖2(A)中是設在透明層3之側，而在圖2(B)則設於保護薄膜2之側。此外，在本發明之附黏著劑層之偏光薄膜12的黏著劑層4上可設置分離件5，其相反側可設置表面保護薄膜6。圖2的附黏著劑層之偏光薄膜12，是顯示分離件5與表面保護薄膜6均設置的情形。至少具有分離件5的附黏著劑層之偏光薄膜12(進一步為具有表面保護薄膜6者)，可作為捲繞物來使用，適用於例如從捲繞物輸出附黏著劑層之偏光薄膜12並利用分離件5輸送，將其隔著黏著劑層4貼合於影像顯示面板表面的方式(以下亦稱為「卷材至面板法」，代表性地如日本特許第4406043號說明書)，而可連續地製造影像顯示裝置。從貼合後抑制顯示面板的翹曲及抑制奈米細縫的發生抑制等觀點來看，附黏著劑層之偏光薄膜宜為如圖2(A)記載的態樣。表面保護薄膜6可設置於單面保護偏光薄膜10上、單面保護偏光薄膜(附有透明層)11上。
圖3是對比生成於偏光件之奈米細縫a與貫通裂紋b的概念圖。圖3(A)顯示生成於偏光件1的奈米細縫a；而圖3(B)顯示生成於偏光件1的貫通裂紋b。奈米細縫a是因機械衝撃而產生，於偏光件1之吸收軸方向部分地發生，奈米細縫a雖無法在已發生當時予以確認，但能夠在熱環境下(例如80℃或60℃下90%RH)，經由往橫向的擴大而予以確認。另一方面，奈米細縫a被認為並不具有沿偏光件吸收軸方向延伸的行進性。又，前述奈米細縫a被認為是在無關乎偏光薄膜尺寸下產生。奈米細縫a除了單獨生成外，也有鄰接而生者。另一方面，貫通裂紋b是因熱衝撃(例如，熱震試驗)而生。貫通裂紋具有沿著已生成裂紋之偏光件的吸收軸方向延伸的行進性。貫通裂紋b已發生時，周邊應力會被解放，故貫通裂紋並不會鄰接而生。
圖4為單面保護偏光薄膜10、或附透明層之單面保護偏光薄膜11的剖面圖照片之一例，其係關於偏光件所生對奈米細縫a的發生與擴張、修復。圖4(A)為僅於偏光件1單面透過接著劑層2a設有保護薄膜2的單面保護偏光薄膜10，在未發生奈米細縫時之一例。圖4(B)為單面保護偏光薄膜10發生奈米細縫a的情形之一例。圖4(A)與(B)均為加熱前。又，圖4(C)為將出現有奈米細縫a之單面保護偏光薄膜10進行加熱後的剖面圖照片之一例。就圖4(C)可知，偏光件1的奈米細縫a正由於加熱而擴張。另一方面，圖4(D)是在已發生奈米細縫a之單面保護偏光薄膜10上形成有透明層3的附透明層單面保護偏光薄膜11經加熱後之剖面圖照片之一例。就圖4(D)可知，生成於偏光件1的奈米細縫a係經由透明層3而修復(a´)，並無加熱所致之擴張。圖4是垂直於試樣的吸收軸方向以剖面研磨機或切片機(microtome)作剖面切削，並以掃描式電子顯微鏡進行觀察。
＜偏光件＞ 本發明中，是使用厚度10μm以下的偏光件。從薄型化及抑制貫通裂紋發生的觀點來看，偏光件的厚度宜為8μm以下，更宜為7μm以下，更宜為6μm以下。另一方面，偏光件的厚度宜為2μm以上，更宜為3μm以上。這樣的薄型偏光件，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
偏光件係採用使用了聚乙烯醇系樹脂之物。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等當中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇薄膜浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或可含硫酸鋅或氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此以外會使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而亦有防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，復亦可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中進行延伸。
就延伸穩定性或光學耐久性而言，偏光件宜含有硼酸。又，偏光件所含硼酸含量，從抑制貫通裂紋及奈米細縫的發生及抑制擴張的觀點來看，宜相對於偏光件總量為20重量%以下，更宜為18重量%以下，更宜為16重量%以下。另一方面，從偏光件的延伸安定性或光學耐久性之觀點來看，相對於偏光件總量的硼酸含量宜為10重量%以上，進而宜為12重量%以上。
作為薄型偏光件，代表性地可舉如日本特許第4751486號說明書、日本特許第4751481號說明書、日本特許第4815544號說明書、日本特許第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等所記載的薄型偏光件，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光件。
前述偏光件，係經構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)；或P≧99.9(惟T≧42.3)。經構造成滿足前述條件的偏光件，會毫無疑問地具有在使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器方面所需要的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2 以上。在其他用途方面，則例如可貼合於有機EL顯示裝置之觀視側。
另一方面，經構造成以滿足前述條件的偏光件，由於構成的高分子(例如聚乙烯醇系分子)展現高配向性，故與厚度10μm以下此點相輔相成，而偏光件吸收軸方向之垂直方向的拉張破裂應力顯著變小。其結果，舉例來說，在偏光薄膜製造過程中，當承受了超過該拉張破裂應力的機械衝撃時，奈米細縫沿偏光件吸收軸方向生成的可能性極高。因此，本發明尤適於採用了該偏光件的單面保護偏光薄膜(或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜)。
作為前述薄型偏光件，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本特許第4751486號說明書、日本特許第4751481號說明書、日本特許第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本特許第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜可藉由含有下述步驟之製法製得：將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層及延伸用樹脂基材以積層體之狀態予以延伸的步驟及進行染色的步驟。若為此種製法，即使PVA系樹脂層很薄，仍可以延伸用樹脂基材支撐，藉此可在免於發生延伸所致斷裂等不良情況下進行延伸。
＜保護薄膜＞ 構成前述保護薄膜之材料，宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等方面優異者。可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二醋酸纖維素及三醋酸纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可舉如下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
此外，保護薄膜中亦可含有1種類以上的任意適當添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顔料、著色劑等。保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，有熱可塑性樹脂無法充分顯現原本所具之高透明性等之虞。
前述保護薄膜亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如對熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
保護薄膜的厚度可適當決定，惟一般由強度及操作性等作業性、薄層性等觀點來看，係1~500μm左右。尤以1~300μm為佳，5~200μm較佳，進一步為5~150μm，特別是20~100μm之薄型尤為理想。
如前述圖1(A)所示，在保護薄膜2本身成為單面保護偏光薄膜11之表面的情形時，係使用保護薄膜本體滿足表面動摩擦係數0.2以下者。能夠滿足前述動摩擦係數0.2以下的材料，可舉例如使用了丙烯酸系聚合物、纖維素系聚合物、聚酯聚合物等的薄膜。
≪表面處理層≫ 另一方面，如前述圖1(B)所示，在使用具有表面處理層x之保護薄膜2´的情形時，係使用表面處理層x之表面滿足動摩擦係數0.2以下之物。此外，具有表面處理層x之保護薄膜2´中，保護薄膜2可為並非滿足動摩擦係數0.2以下之材料。作為表面處理層，可設置硬塗層、低反射處理層(抗反射層)、抗黏層、擴散層乃至抗眩層等機能層。此外，上述硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層除了可設在保護薄膜本身以外，亦可與保護薄膜分設而另為其他個體。前述表面處理層的厚度未特別受限，通常為0.5~20μm左右。
＜中介層＞ 前述保護薄膜與偏光件係經由接著劑層、黏著劑層、下塗層(底漆層)等中介層來積層。此時，理想的是利用中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。
接著劑層係由接著劑所形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係以水溶液所構成之接著劑的形式使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子束、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子束硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在將光自由基硬化型的活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型來使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
接著劑的塗覆方式，是依接著劑的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗覆方式例可舉例如：逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。此外在塗佈上還適合使用浸漬方式等方式。
又，前述接著劑之塗覆在使用水系接著劑等時，宜以使最終形成之接著劑層厚度呈30~300nm的方式進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~250nm。另一方面，使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度為0.1~200μm的方式進行。較佳為0.5~50μm，更佳為0.5~10μm。
此外，在積層偏光件與保護薄膜時，可在保護薄膜與接著劑層之間設置易接著層。易接著層可利用具有例如下述骨架的各種樹脂來形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，在易接著層的形成方面亦可加入其他添加劑。具體而言，可進一步使用黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑等安定劑等等。
易接著層通常是預先設在保護薄膜上，並利用接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光件積層。易接著層的形成，是藉由將易接著層的形成材以習知技術塗覆在保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層的形成材，通常會經過調整，考量乾燥後的厚度、塗覆之圓滑性等而稀釋成適當濃度的溶液。易接著層乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。此外，易接著層可設置多層，惟此情形時仍宜使易接著層的總厚度在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑方面可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽氧烷系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可因應前述黏著劑的種類來選擇黏著性基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性優異、展現適當的濕潤性、凝聚性及接著性等黏著特性並且耐候性及耐熱性等優異此點來看，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
底塗層(底漆層)是為了使偏光件與保護薄膜的密著性提升而形成。構成底漆層的材料，只要是對基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層兩者發揮一定程度的強密著力的材料即可，並無特別限定。例如，可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優良的熱可塑性樹脂等等。作為熱可塑性樹脂，可舉例如丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
＜透明層＞ 在僅於偏光件單面設有保護薄膜的單面保護偏光薄膜中，透明層是設在偏光件的另一面(未積層保護薄膜的面)。本發明中，從抑制奈米細縫的發生、及設若已發生奈米細縫時抑制奈米細縫往寬度方向擴展的觀點來看，透明層宜為80℃壓縮彈性模數在0.1GPa以上者。就算因機械衝撃而於偏光件產生奈米細縫、且於熱環境下奈米細縫往寬方向擴大，藉由將透明層於80℃壓縮彈性模數控制在0.1GPa以上，即使在熱環境下仍能維持透明層的機械保持能力而抑制奈米細縫往寬方向的擴大。透明層的壓縮彈性模數宜為0.5GPa以上，更宜為1GPa以上，更宜為2GPa以上。透明層的壓縮彈性模數，可藉由材料的選定來調整。此外，透明層之80℃的壓縮彈性模數是基於實施例的記載所測定的値。
透明層的厚度，從薄層化及光學可靠度的觀點來看，透明層厚度宜為3μm以下，更宜為2μm以下，更宜為1.5μm以下。另一方面，從抑制奈米細縫的發生及奈米細縫之擴張抑制效果的觀點來看，透明層的厚度宜為0.2μm以上，更宜為0.6μm以上，更宜為0.8μm以上。
透明層可由各種形成材形成。透明層可為例如經由將樹脂材料塗佈於偏光件所形成者，亦可為利用濺鍍法等將SiO2 等無機氧化物蒸鍍在偏光件上所形成者。從簡便形成的觀點看來，透明層宜為由樹脂材料所形成者。
可形成透明層的樹脂材料，可舉例如聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、PVA系樹脂、丙烯酸系樹脂等。該等樹脂材料可單獨使用1種亦可組合2種以上使用，但其中以選自聚胺甲酸酯系樹脂及PVA系樹脂所構成群組中之1種以上為佳，PVA系樹脂更佳。又，前述樹脂的形態為水系、溶劑系均可。前述樹脂的形態以水系樹脂為佳。其等當中，又宜為含有聚乙烯醇系樹脂之形成材或含有水系乳液之形成材。
形成透明層之材料宜使用可滲透至偏光件者。舉例來說，形成透明層之材料宜為以水溶性聚乙烯醇系樹脂為主成分的形成材。
前述聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇。聚乙烯醇是藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉如乙酸乙烯酯與具共聚性之單體的共聚物之皂化物。前述具共聚性之單體為乙烯時，係獲得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚性之單體可舉如順丁烯二酸(酐)、延胡索酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類、乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)丙烯磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。從滿足耐濕熱性、耐水性的觀點來看，宜為將聚醋酸乙烯酯皂化而獲得的聚乙烯醇。
前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度舉例來說可使用95莫耳%以上者，但從滿足耐濕熱性及耐水性之觀點來看，皂化度宜為99莫耳%以上，更宜為99.7莫耳%以上。皂化度是顯示可因皂化而轉換成乙烯醇單元的單元中實際上皂化成乙烯醇單元的單元比率，殘基為乙烯酯單元。皂化度可按JIS K 6726-1994為準來求得。
前述聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可使用例如500以上之物，惟由滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，平均聚合度宜為1000以上,更以1500以上為佳,更以2000以上為佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係按JIS-K6726為準進行測定。
又前述聚乙烯醇系樹脂可使用：在前述聚乙烯醇或其共聚物的側鏈上具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基，可舉例如乙醯乙醯基、羰基等。其他方面，可使用將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成的改質聚乙烯醇。
透明層可由不含硬化性成分之形成材所形成。例如，可由含有前述聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)作為主成分之形成材來形成。形成透明層之聚乙烯醇系樹脂只要是「聚乙烯醇系樹脂」即可，無論是與偏光件所含有之聚乙烯醇系樹脂相同或相異均可。
前述包含聚乙烯醇系樹脂以作為主成分的形成材中，可含有硬化性成分(交聯劑)等。透明層或形成材(固體成分)中聚乙烯醇系樹脂之比例宜為80重量%以上，更宜為90重量%以上，更宜為95重量%以上。惟前述形成材料以不含硬化性成分(交聯劑)為佳。
交聯劑可使用具有至少2個對聚乙烯醇系樹脂具反應性之官能基的化合物。可舉例如乙二胺、三乙二胺、己二胺等具有伸烷基及2個胺基的伸烷基二胺類；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯及其等的酮肟嵌段物或酚嵌段等異氰酸酯類；乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、丙三醇二或三環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、二環氧丙基苯胺、二環氧丙基胺等環氧化物類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、酞二醛等二醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙醯胍胺、苯并胍胺與甲醛的縮合物等胺基-甲醛樹脂；己二酸二醯肼、草酸二醯肼、丙二酸二醯肼、琥珀酸二醯肼、戊二酸二醯肼、異苯二甲酸二醯肼、癸二酸二醯肼、馬來酸二醯肼、延胡索酸二醯肼、伊康酸二醯肼等二羧酸二醯肼；乙烯-1,2-二肼、丙烯-1,3-二肼、丁烯-1,4-二肼等水溶性二肼；還有鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬或三價金屬之鹽及其氧化物等等。其等當中，以胺基-甲醛樹脂及水溶性二肼為佳。胺基-甲醛樹脂則以具有羥甲基的化合物為佳。其中又以屬於具有羥甲基之化合物的羥甲基三聚氰胺尤為理想。
從提升耐水性的觀點來看可使用前述硬化性成分(交聯劑)，惟其比率宜相對於100重量份聚乙烯醇系樹脂為20重量份以下、10重量份以下、5重量份以下。
前述形成材，係調配成使前述聚乙烯醇系樹脂溶解於溶劑而成的溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺-N-甲基吡咯啶酮、各種二醇類、三羥甲基丙烷等多價醇類、乙二胺、二乙烯三胺等胺類。其等可單獨使用，或組合二種以上來使用。其等當中，宜採用使用了水為溶劑的水溶液。前述形成材(例如水溶液)之中，前述聚乙烯醇系樹脂的濃度雖無特別限制，但若考量塗佈性及存放穩定性等，則為0.1~15重量%，並宜為0.5~10重量%。
又，在透明層的形成上，可適宜使用含有水系乳液樹脂的形成材。在此所謂水系乳液樹脂，是呈乳化於水(分散媒)中的樹脂粒子。前述水系乳液樹脂，可藉由在乳化劑存在下對單體成分進行乳化聚合而得。透明層可藉由將含有乳液(其包含前述水系乳液樹脂)的透明層形成材直接塗佈在偏光件上並進行乾燥而形成。
構成前述水系乳液樹脂的樹脂沒有特別限定，惟可舉例如丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、氟系樹脂等。其等當中，就本發明而言，從光學透明性優良且耐候性和耐熱性等優良此點來看，係以聚胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂為佳。
其他方面，透明層可由含有硬化性成分之硬化型形成材所形成(硬化型形成材之硬化物)。硬化性成分可大致區別為電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型等活性能量線硬化型與熱硬化型。再者，紫外線硬化型及可見光線硬化型可區分為自由基聚合硬化型與陽離子聚合硬化型。本發明中，將波長範圍10nm~低於380nm之活性能量線記為紫外線、將波長範圍380nm~800nm之活性能量線記為可見光線。前述自由基聚合硬化型的硬化性成分，可作為熱硬化型之硬化性成分來使用。
≪自由基聚合硬化型形成材≫ 前述硬化性成分可舉例如自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可舉如具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等含碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或雙官能以上之多官能自由基聚合性化合物中任一種。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種，或者組合2種以上使用。作為該等自由基聚合性化合物，以例如具有(甲基)丙烯醯基之化合物為合宜。此外，本發明中，所謂(甲基)丙烯醯基意指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，以下「(甲基)」同義。
又，作為形成前述透明層的材料，可使用例如氰基丙烯酸酯系形成材、環氧系形成材、或異氰酸酯系形成材。
＜黏著劑層＞ 黏著劑層之形成方面可使用適當的黏著劑，就其種類並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又適宜使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。作為展現此等特徵者，宜使用丙烯酸系黏著劑。
就形成黏著劑層之方法而言，例如可藉由下述方法來進行製作：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理之分離件等，將聚合溶劑等乾燥除去形成黏著劑層後，就圖2(A)的態樣轉印至偏光件(或就圖2(B)的態樣是轉印至保護薄膜)的方法；或就圖2(A)的態樣而將前述黏著劑塗佈於偏光件(就圖2(B)的態樣是保護薄膜)，將聚合溶劑等乾燥除去而於偏光件形成黏著劑層的方法等等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
宜使用聚矽氧剝離襯材作為經剝離處理的分離件。於此種襯材上塗佈本發明之黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，可因應目的而採用適宜且適切的方法來作為使黏著劑乾燥之方法。較佳是使用將上述塗佈膜過熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。可藉由將加熱溫度設成上述範圍，而獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適當適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更佳為5秒~10分鐘，尤佳為10秒~5分鐘。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度並無特別限制，例如1~100μm左右。而宜為2~50μm，較佳為2~40μm，更佳為5~35μm。
前述黏著劑層露出時，在供實際使用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片物等等，惟從表面平滑性優良此點來看，宜採用塑膠薄膜。
作為該塑膠薄膜，只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度通常為5~200μm，並宜為5~100μm左右。亦可視需要對前述分離件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高從前述黏著劑層離開的剝離性。
＜表面保護薄膜＞ 可於單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜上設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並隔著該黏著劑層來保護偏光件。
表面保護薄膜的基材薄膜，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂般透明的聚合物。其等當中又以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。基材薄膜的厚度，通常為500μm以下，宜為10~200μm。
可適當選擇並使用以(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等聚合物作為基底聚合物的黏著劑，作為形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，宜為以丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑。黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)，係因應所需黏著力來決定。通常為1~100μm左右，並宜為5~50μm。
此外，表面保護薄膜中，可在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料來設置剝離處理層。
＜其他光學層＞ 本發明之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜，在實際使用時可使用已與其他光學層積層的光學薄膜。該光學層並無特別限定，可使用1層或2層以上之諸如反射板及半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等的光學層。尤佳的是於本發明之單面保護偏光薄膜上再積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜、於偏光薄膜上再積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜上再積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或於偏光薄膜上再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
在單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜上積層有上述光學層的光學薄膜，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序個別積層之方式形成，惟預先積層製成光學薄膜者，則具有品質穩定性及組裝作業等優良而能提升液晶顯示裝置等之製程的優點。可使用黏著層等適當的接著手段進行積層。上述附黏著劑層之偏光薄膜及其他光學層在接著時，其等之光學軸可因應作為目的之相位差特性等製成適當的配置角度。
本發明之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜，可適宜使用在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等等。液晶顯示裝置的形成可依循習知技術來進行。即，液晶顯示裝置一般係藉由將液晶單元與附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，而在本發明中，除使用本發明之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜此點以外無特別限定，可依習知為準。液晶單元方面亦可使用例如IPS型、VA型等任意類型，惟以IPS型尤為理想。
可形成下述的液晶顯示裝置：在液晶單元的單側或兩側配置有單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置；或於照明系統使用背光或反射板者等之適當的液晶顯示裝置。此情形時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜可設置在液晶單元的單側或兩側。於兩側設置單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜或光學薄膜時，其等可相同亦可互異。此外，在形成液晶顯示裝置時，可以將例如擴散板、抗眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。
實施例 以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定之室溫放置條件皆為23℃65%RH。
＜偏光件A1的製作＞ 於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對酞酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上施加電暈處理，於25℃下在該電暈處理面上塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並使其乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製出積層體。 將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。 接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達所欲的穿透率。在本實施例中是使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水，摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混3.75重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 經由上述，獲得含厚度5μm偏光件A1的光學薄膜積層體A1。所得偏光件A1的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜偏光件A2的製作＞ 於上述偏光件A1之製作中，除了改形成厚度15μm之PVA系樹脂層以外，以和偏光件A1之製作方法同樣地進行，製得含偏光件A2的光學薄膜積層體A2。所得偏光件A2的厚度為7μm。所得偏光件A2的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜偏光件B(厚度12μm之偏光件)的製作＞ 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度30μm的聚乙烯醇薄膜浸漬在30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液中，一邊使其延伸到3.5倍一邊將薄膜染色。然後在65℃硼酸酯水溶液中進行延伸，以使總延伸倍率達6倍。延伸後，於40℃烘箱中進行3分鐘乾燥，製得PVA系偏光件B。所得偏光件B之厚度為12μm。所得偏光件B的光學特性為穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜保護薄膜(1)的製作) 將日本特開2010-284840號公報之製造例1中記載的醯亞胺化MS樹脂100重量份及三系紫外線吸收劑(ADEKA社製，商品名：T-712)0.62重量份，於雙軸混練機中以220℃混合，製作樹脂顆粒。將獲得之樹脂粒於100.5kPa、100℃下乾燥12小時，以單軸擠壓機在模頭溫度270℃下從T模頭擠壓並成形為薄膜狀(厚度160μm)。再將該薄膜於其輸送方向上150℃之環境下進行延伸(厚度80μm)，接著在與薄膜輸送方向垂直相交之方向於150℃之環境下進行延伸，獲得厚度40μm之(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜的保護薄膜(1)。所得保護薄膜(1)之波長380nm光的穿透率為8.5%，面內相位差Re為0.4nm，厚度方向相位差Rth為0.78nm。且所得基材薄膜A的透濕度為61g/m2 .24hr。此外，光穿透率係使用日立高科技(股)公司製分光光度計(裝置名稱U-4100)於波長範圍200nm~800nm下測定穿透率光譜，並讀取波長380nm時的穿透率。又，相位差値係使用王子計測機器(股)製商品名「KOBRA21-ADH」，於波長590nm及23℃下進行測定。透濕度係利用依據JISK 0208之方法，在溫度40℃及相對濕度92%的條件下進行測定。
＜保護薄膜(2)的製作＞ 對厚度40μm之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施行電暈處理供使用。
＜保護薄膜(3)的製作＞ 準備下述樹脂以作為塗覆液所含有之樹脂：70重量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(日本合成化學工業(股)製，商品名「UV1700B」，固體成分100%)；及30重量份之以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分的多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業(股)製，商品名「Viscoat＃300」，固體成分100%)。對前述樹脂之每100重量份樹脂固體成分混合下列物質：2重量份之作為前述粒子的丙烯醯基與苯乙烯之共聚粒子(積水化成品工業(股)製，商品名「TechPolymer」，重量平均粒徑：3.0μm，折射率：1.52)；0.4重量份之作為前述觸變賦予劑的有機黏土之合成膨潤石(Co-op Chemical(股)製，商品名「Lucentite SAN」)；3重量份的光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「IRGACURE907」)；以及0.5重量份的調平劑(DIC(股)製，商品名「GRANDIC PC4100」，固體成分10%)。此外，前述有機黏土係以甲苯將其固體成分稀釋成6%以供使用。將該混合物以甲苯/環戊酮(CPN)混合溶劑(重量比80/20)稀釋，使其固體成分濃度變成50重量%，並使用超音波分散機調製成塗覆液。以前述所得之保護薄膜(1)作為透光性基材，並以使硬化後的硬塗層厚度成為7.0μm的方式於其上形成塗膜。接著，在90℃下乾燥2分鐘，然後以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm2 的紫外線，對上述塗膜進行硬化處理，獲得具有抗眩處理層的保護薄膜(3)。
＜保護薄膜(4)的製作＞ 使用UV硬化型氟系樹脂(JSR(股)製，商品名「JUA-204」，固體成分濃度：10.0重量%，稀釋溶劑：甲基異丁酮(MIBK))，並以MIBK將其固體成分濃度稀釋成1.70%，調製抗反射層形成用塗覆液。接著，於前述所得之具有抗眩處理層的保護薄膜(3)上使用線棒在其抗眩處理層側之面塗佈前述形成抗反射層用的塗覆液，以使硬化後之低反射處理層(抗反射層)厚度成為0.1μm的方式形成塗膜。接著，在60℃下乾燥1分鐘，然後以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm2 的紫外線，對上述塗膜進行硬化處理，獲得具有低反射處理層的保護薄膜(4)。
＜保護薄膜(5)的製作＞ 於以胺基甲酸酯丙烯酸酯為主成分之紫外線硬化型樹脂單體或寡聚物溶解於醋酸丁酯而成的樹脂溶液(DIC(股)製，商品名「UNIDIC 17-806」，固體成分濃度80%)，對該溶液中每100份固體成分添加5份光聚合引發劑(汽巴日本(股)製，製品名「IRGACURE907」)，及0.01份調平劑(DIC(股)製，製品名「GRANDIC　PC4100」)。以45：55的比率於上述摻混液中加入環戊酮(以下表記為「CPN」)與丙二醇單甲基醚(以下表記為「PGM」)，以使上述溶液中之固體成分濃度成為36%。如此進行而製出用於形成硬塗層的硬塗層形成材料。於前述所得之保護薄膜(1)上，以使硬化後硬塗層厚度成為7.5μm的方式將前述硬塗層形成材料形成塗膜，。接著，在90℃下乾燥1分鐘，然後以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm2 的紫外線，對上述塗膜進行硬化處理，獲得具有硬塗層的保護薄膜(5)。
＜適用於保護薄膜之接著劑的製作＞ 將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光引發劑(商品名：IRGACURE　819，BASF公司製)3重量份摻混，調製紫外線硬化型接著劑。
＜透明層之形成材：聚乙烯醇(PVA)系形成材＞ 將聚合度2500、皂化度99.0莫耳%的聚乙烯醇樹脂溶解於純水，調製固體成分濃度4重量%的水溶液。
＜黏著劑層的形成＞ 將丙烯酸丁酯100份、丙烯酸3份、丙烯酸-2-羥乙酯0.1份及2,2´-偶氮雙異丁腈0.3份與醋酸乙酯一起加入配備了冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器中，調製溶液。接著，一邊對該溶液灌入氮氣一邊攪拌，在55℃下使其反應8小時，獲得含有重量平均分子量220萬之丙烯酸系聚合物的溶液。進一步，在含有該丙烯酸系聚合物的溶液中加入醋酸乙酯，而獲得固成分濃度已調整成30%的丙烯酸系聚合物溶液。
相對於前述丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份，依序摻混作為交聯劑之0.5份的以具異氰酸酯基化合物為主成分之交聯劑(日本聚胺酯(股)公司製，商品名「CORONATE L」)、作為矽烷偶合劑之0.075份的γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股)製，商品名「KMB-403」)，調製黏著劑溶液。在經剝離處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度38μm)構成的離型片材(分離件)的表面上，塗佈上述黏著劑溶液以使乾燥後厚度達25μm並乾燥，形成黏著劑層。
實施例1 (單面保護偏光薄膜A1的製作) 在上述光學薄膜積層體之偏光件A1的表面上，一邊以使硬化後接著劑層厚度達0.5μm的方式塗佈上述紫外線硬化型接著劑，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射作為活性能量線的紫外線，使接著劑硬化。紫外線的照射，是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light　HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)；而紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。接著，剝離非晶性PET基材，製出使用了薄型偏光件之單側保護偏光薄膜A1。
(附透明層之單面保護偏光薄膜的製作) 在上述單面保護偏光薄膜A1的偏光件之面(沒有設置保護薄膜的偏光件面)上，使用線棒塗佈機塗覆上述PVA系形成材以使其厚度成為1μm後，在80℃下熱風乾燥30秒形成透明層，製出附透明層之單面保護偏光薄膜。
＜附黏著劑層之偏光薄膜的製作＞ 接著，將已形成在上述離型片材(分離件)之剝離處理面的黏著劑層，貼合在已形成於單面保護偏光薄膜上的透明層上，製作附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~7及比較例1、3 將實施例1中偏光件的種類(厚度)、透明層的形成材及厚度變更為如表1所示者，除此之外以和實施例1相同方式，製作單面保護偏光薄膜、附透明層之單面保護偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜。此外，比較例1及3中不形成透明層。
對上述實施例及比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜進行下述評價。將結果示於表1。下述評價只要未特別說明，均為23℃、65%RH之條件。
＜偏光件之單體穿透率T及偏光度P＞ 使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)，測定所得單面保護偏光薄膜的單體穿透率T及偏光度P。 此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的穿透率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。偏光度P(%)＝｛(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)｝1/2 ×100 各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。
＜偏光件中硼酸含量的測定＞ 就實施例及比較例所得之偏光件，使用傅立葉轉換紅外線分光光度計(FTIR)(Perkin　Elmer公司製，商品名「SPECTRUM 2000」)，經由以偏振光作為測定光之全反射衰減分光(ATR)測定法來測定硼酸峰(665cm-1 )的強度及參照峰(2941cm-1 )的強度。利用下式由所得硼酸峰強度及參照峰強度算出硼酸量指數，再利用下式由所算出之硼酸量指數決定硼酸含量(重量%)。 (硼酸量指數)＝(硼酸峰665cm-1 的強度)/(參照峰2941cm-1 的強度) (硼酸含量(重量%))＝(硼酸量指數)×5.54＋4.1
(動摩擦係數的測定) 使用下述測定裝置，以下述條件測定上述所得之附黏著劑層之偏光薄膜於保護薄膜側的動摩擦係數。 測定裝置：HEIDON-TYPE14D (測定條件) 移動速度：300mm/min 移動距離：100mm 荷重　　：500g 感度切換：OUTPUT 25% 端部材質：吉他彈片(HISTORY公司製，型番「HP2H(HARD)」) 於玻璃板貼合附黏著劑層之偏光薄膜(50mm×150mm，吸收軸方向為50mm)，使保護薄膜側為上側。接著，測定吉他彈片在保護薄膜上平行移動100mm時的施力F(kgf)，由下式算出動摩擦係數。此外，計算用的數値，係採用測定結果已安定之30mm/分的數値。 動摩擦係數μ＝動摩擦力F(kgf)/荷重0.5(kgf)
＜80℃壓縮彈性模數的測定＞ 壓縮彈性模數的測定係使用TI900 TriboIndenter(Hysitron公司製)。將所得之附透明層單面保護偏光薄膜11裁切成10mm×10mm的尺寸，固定於TriboIndenter配備之支持體，利用奈米壓痕法(nanoindentation)，進行壓縮彈性模數的測定。此時，調整使用壓頭的位置以使其壓入透明層的中心部附近。測定條件顯示如下。 使用壓頭：Berkovich(三角錐型) 測定方法：單一壓入測定 測定溫度：80℃ 壓入深度設定：100nm
(奈米細縫的發生抑制效果：吉他彈片試驗(1)：無表面保護薄膜) 將所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm尺寸(吸收軸方向為50mm)作為試樣12。
如圖5(A)之概念圖及圖5(B)之剖面圖所示，在基板20(長65mm×寬165mm×高2mm)上進行配置，以使基板的縱向平行於前述經裁切之試樣12中偏光件1吸收軸的直交方向(穿透軸)。將試樣12之分離件剝除並將黏著劑層4貼合於基板20，將保護薄膜2配置在上側。 接著，對著試樣12(保護薄膜2側)的中央部，透過吉他彈片(HISTORY公司製，型號「HP2H(HARD)」)負載200g的荷重，在試樣12中偏光件1之吸收軸的直交方向於100mm的距離反覆進行來回50次的荷重負荷。前述荷重負荷係於1處進行。 接著，將試樣12放置在80℃的環境下1小時後，依下述基準，確認試樣12是否有漏光的裂紋。 A：未發生~10個以下。 B：11~50個。 C：51個~100個。 D：101個~500個 E：501~1000個。 F：1001個以上。
(奈米細縫的發生抑制效果：吉他彈片試驗(2)：有表面保護薄膜) 將所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm尺寸(吸收軸方向為50mm)作為試樣12。試樣12係於保護薄膜2之側貼合以下述方法製作之試驗用表面保護薄膜6來使用。將試樣12之分離件剝除並將黏著劑層4貼合於基板20，將表面保護薄膜6配置在上側。
(試驗用之表面保護薄膜) 將190℃時熔流速率2.0g/10min且密度0.924g/cm3 的低密度聚乙烯所構成的基材成形材料供給至共擠壓用吹膜成形機。 同時將230℃時熔流速率10.0g/10min之密度0.86g/cm3 的丙烯-丁烯共聚物(質量比丙烯：丁烯=85：15，雜排結構)構成的黏著成形材料供給至模溫220℃的吹膜成形機，進行共擠壓成形。 藉此，製造出由厚度33μm之基材層與厚度5μm之黏著劑層構成的表面保護薄膜。
如圖5(A)之概念圖及圖5(C)之剖面圖所示，在基板20(長65mm×寬165mm×高2mm)上進行配置，以使基板的縱向平行於前述經裁切之試樣12中偏光件1吸收軸的直交方向(穿透軸)。試樣12係將表面保護薄膜6配置於上側。 接著，對著試樣12(表面保護薄膜6側)的中央部，透過吉他彈片(HISTORY公司製，型號「HP2H(HARD)」)負載200g的荷重，在試樣12中偏光件1之吸收軸的直交方向於100mm的距離反覆進行來回50次的荷重負荷。前述荷重負荷係於1處進行。 接著，將試樣12放置在80℃的環境下1小時後，依下述基準，確認試樣12是否有漏光的裂紋。 A：100個以下或未發生。 B：101~500個。 C：501個至1000個。 D：1001個以上。
＜奈米細縫的擴張抑制評價：搖滾(Rock and Roll)試驗＞ 進行此試驗之時，是對實施例及比較例之形成透明層前的單面保護偏光薄膜10，利用後述之方法於其偏光件1加入裂痕。然後，製作附透明層之單面保護偏光薄膜11。 而後，將該附透明層之單面保護偏光薄膜11放置在80℃環境下1小時後，依下述基準，確認試樣11是否有漏光的裂紋。 A：未發生。 B：發生。 C：無法評價(於形成透明樹脂層前並未在單面保護偏光薄膜之偏光件出現奈米細縫)。
≪裂痕的加入方法≫ 將所得單面保護偏光薄膜10裁切成50mm×150mm(吸收軸方向為50mm)的尺寸。試樣10係於保護薄膜2之側貼合試驗用表面保護薄膜6(與上述相同的試驗用表面保護薄膜)供使用。
如圖5(D)之概念圖及圖5(E)之剖面圖所示，在基板20(長65mm×寬165mm×高2mm)上，將長25mm×寬150mm×高5mm的2個玻璃支持台21平行設置，以使其等之內側的間隔為115mm。配置試樣10，以使得該2個玻璃支持台的縱向平行於前述經裁切之試樣10中偏光件1吸收軸的直交方向，並使試樣11的兩側平均架在2個玻璃支持台上。試樣10係將表面保護薄膜6配置於上側。 接著，對著試樣10(表面保護薄膜6側)的中央部，透過吉他彈片(HISTORY公司製，型號「HP2H(HARD)」)負載100g荷重，在與試樣10之偏光件1吸收軸垂直相交的方向上以100mm的距離反覆進行來回10次的荷重負荷，使偏光件1的表面產生裂痕。前述荷重負荷係於1處進行。以目視確認是否有奈米細縫發生。
圖6為偏光薄膜表面之顯微鏡照片之一例，其係成為確認附黏著劑層之偏光薄膜12於吉他彈片試驗時的漏光裂紋(奈米細縫a)、及單面保護偏光薄膜10或附透明層之單面保護偏光薄膜11於搖滾試驗中的漏光裂紋(奈米細縫a)的下述指標。圖6(A)中，並未辨視出有奈米細縫a所致漏光裂紋。另一方面，圖6(B)是因加熱而在偏光件吸收軸方向出現3個由奈米細縫a所致漏光裂紋的情形。圖6是以微分干渉顯微鏡對於有奈米細縫發生的試樣進行觀察。在為試樣攝影時，將未發生奈米細縫的試樣設在有奈米細縫發生的試樣下側(穿透光源側)以使其呈正交偏光，並以穿透光進行觀察。
＜貫通裂紋的確認：熱震試驗＞ 將所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm(吸收軸方向為50mm)與150mm×50mm(吸收軸方向為150mm)，於0.5mm厚之無鹼玻璃的兩面以正交偏光方向貼合，作成試樣。將該試樣投入進行-40~85℃熱震各30分鐘×100次的環境下後，取出並目視確認附黏著劑層之偏光薄膜是否有貫通裂紋(條數)發生。進行5次試驗。依下述進行評價。 〇：無貫通裂紋。 ×：有貫通裂紋。
圖7為偏光薄膜表面之顯微鏡照片之一例，其係成為確認附黏著劑層之偏光薄膜12的貫通裂紋b之指標。圖7是以微分干渉顯微鏡對發生貫通裂紋的試樣進行觀察。
表1
Figure TW201801917AD00001
1‧‧‧偏光件
2、2´‧‧‧保護薄膜
x‧‧‧表面處理層
3‧‧‧透明層
4‧‧‧黏著劑層
5、5a、5b‧‧‧分離件
6、6a、6b‧‧‧表面保護薄膜
10‧‧‧單面保護偏光薄膜
11‧‧‧單面保護偏光薄膜(附透明層)
12‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
圖1(A)、(B)為本發明單面保護偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。 圖2(A)、(B)為本發明附黏著劑層之偏光薄膜的示意性剖面圖之一例。 圖3(A)、(B)為對比生成於偏光件之奈米細縫與貫通裂紋的概念圖之一例。 圖4(A)~(D)為單面保護偏光薄膜之剖面圖照片之一例，顯示奈米細縫是否出現、以及出現奈米細縫時依透明層之有無而使奈米細縫在加熱下的擴張不同。 圖5(A)~(E)為說明實施例及比較例之奈米細縫相關評價項目的概略圖。 圖6(A)、(B)為顯示實施例及比較例之評價中奈米細縫所致裂紋的照片之一例。 圖7為顯示有關實施例及比較例評價之貫通裂紋發展的照片之一例。
1‧‧‧偏光件
2、2′‧‧‧保護薄膜
x‧‧‧表面處理層
3‧‧‧透明層
10‧‧‧單面保護偏光薄膜
11‧‧‧單面保護偏光薄膜(附透明層)

Claims (13)

  1. 一種單面保護偏光薄膜，特徵在於其係僅於偏光件的單面具有保護薄膜者，並且 前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂且厚度在10μm以下，並經構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或者 P≧99.9(惟T≧42.3)， 前述偏光件的另一面具有透明層， 並且，具有前述保護薄膜之側的表面動摩擦係數為0.2以下。
  2. 如請求項1之單面保護偏光薄膜，其中前述透明層為樹脂材料的形成物。
  3. 如請求項2之單面保護偏光薄膜，其中前述透明層為含有聚乙烯醇系樹脂之形成材或含有水系乳液之形成材的形成物。
  4. 如請求項1至3中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述透明層的厚度為0.2μm以上且3μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述保護薄膜的表面具有表面處理層。
  6. 如請求項1至5中任一項之單面保護偏光薄膜，其中前述偏光件係含有相對於偏光件總量為20重量%以下的硼酸。
  7. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，特徵在於其具有如請求項1至6中任一項之單面保護偏光薄膜及黏著劑層。
  8. 如請求項7之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層係設於前述單面保護偏光薄膜之透明層。
  9. 如請求項8之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層係設於前述單面保護偏光薄膜之保護薄膜。
  10. 如請求項7至9中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其於前述黏著劑層設有分離件。
  11. 如請求項10之附黏著劑層之偏光薄膜，其為捲繞物。
  12. 一種影像顯示裝置，具有如請求項1至6中任一項之單面保護偏光薄膜或如請求項7至9中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。
  13. 一種影像顯示裝置之連續製造方法，其包含下述步驟：由如請求項11之附黏著劑層之偏光薄膜的捲繞物輸出前述附黏著劑層之偏光薄膜並利用前述分離件輸送，且隔著前述黏著劑層將前述附黏著劑層之偏光薄膜連續貼合於影像顯示面板的表面。
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