TWI825229B - 偏光板套組 - Google Patents
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Abstract
本發明之目的在於提供一種液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲經抑制的偏光板套組。本發明偏光板套組係由配置於液晶單元之一面的第1偏光板與配置於該液晶單元之另一面的第2偏光板構成,該第1偏光板之厚度為200μm以上且300μm以下,該第2偏光板之厚度為150μm以下。該第1偏光板具有厚度100μm以上之相位差層、配置於該相位差層之一面且厚度為10μm以下之偏光件及配置於該相位差層之另一面的黏著劑層。該第1偏光板係透過該黏著劑層積層於液晶單元。
Description
本發明涉及偏光板套組。
影像顯示裝置(例如液晶顯示裝置)中代表上係使用顯示單元之兩側配置有偏光板的顯示面板。各偏光板因應所期望之特性而其構成會有所不同。因此,會於顯示單元之兩側配置厚度相異之偏光板。配置厚度相異之偏光板時,因各偏光板之收縮應力不同,故液晶面板在高溫高濕環境下會發生翹曲。結果,具備該等偏光板之影像顯示裝置會發生漏光及顯示不均之問題。作為抑制液晶面板在高溫高濕環境下翹曲之手段,已有文獻提議一種在會翹曲成凹形狀的偏光板上積層具有特定拉伸彈性係數之保護薄膜的方法(例如專利文獻1)。惟,該技術係涉及薄型偏光件,而有在具備有一定程度厚度之構成要素(例如相位差層)的偏光板及大型偏光板上無法充分抑制翹曲的問題。因此,需要一種即使是含較厚構成要素的偏光板及大型偏光板,仍可抑制液晶面板在高溫高濕環境下翹曲的偏光板套組。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利特開2018-72533號公報
發明欲解決之課題
本發明是為了解決上述課題而成者,其主要目的在於提供一種可抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲的偏光板套組。
用以解決課題之手段
本發明偏光板套組係由配置於液晶單元之一面的第1偏光板與配置於該液晶單元之另一面的第2偏光板構成,該第1偏光板之厚度為200μm以上且300μm以下,該第2偏光板之厚度為150μm以下。該第1偏光板具有厚度100μm以上之相位差層、配置於該相位差層之一面且厚度為10μm以下之偏光件及配置於該相位差層之另一面的黏著劑層。該第1偏光板係透過該黏著劑層積層於液晶單元。
在一實施形態中,上述第1偏光板更具有保護層,且該保護層僅積層於上述偏光件之一面。
在一實施形態中,上述黏著劑層之潛變值為80μm/h以上。
在一實施形態中,上述黏著劑層之厚度為10μm~40μm。
在一實施形態中,上述第1偏光板配置於背面側,上述第2偏光板配置於視辨側。
本發明之另一面相係提供一種液晶面板。該液晶面板包含上述偏光板套組與液晶單元。
在一實施形態中,上述液晶單元與上述第1偏光板之偏光件之距離為120μm~190μm。
發明效果
根據本發明,係提供一種可抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲的偏光板套組。本發明偏光板套組係由配置於液晶單元之一面的第1偏光板與配置於該液晶單元之另一面的第2偏光板構成,該第1偏光板之厚度為200μm以上且300μm以下,該第2偏光板之厚度為150μm以下。第1偏光板具有厚度100μm以上之相位差層、配置於該相位差層之一面且厚度為10μm以下之偏光件及配置於該相位差層之另一面的黏著劑層,且該第1偏光板係透過該黏著劑層積層於液晶單元。藉由具有所述構成,可抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲,結果可防止在液晶顯示裝置之漏光及顯示不均之發生。並且,本發明所用第1偏光板具有之相位差層具有100μm以上之厚度。因此,即使於液晶面板在高溫高濕環境下發生些微翹曲時,仍可抑制翹曲對相位差層之光學特性造成的影響。結果可良好維持相位差層所期望之光學特性,而即使是在被放置於高溫高濕環境下時,仍可防止液晶顯示裝置之顯示特性降低。
以下說明本發明之實施形態,惟本發明不受該等實施形態限定。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義如下。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率,「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率,而「nz」為厚度方向之折射率。
延伸後產生雙折射之薄膜的「折射率」只要無特別說明,即指以(nx+ny+nz)/3算出之值。
(2)面內相位差(Re)
「Re(550)」係在23℃下以波長550nm之光測得之薄膜的面內相位差。Re(550)可於令薄膜之厚度為d(nm)時,藉由式:Re=(nx-ny)×d求得。另外,「Re(450)」係在23℃下以波長450nm之光測得之薄膜的面內相位差。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之薄膜之厚度方向的相位差。Rth(550)可於令薄膜之厚度為d(nm)時,藉由式:Rth=(nx-nz)×d求得。另外,「Rth(450)」係於23℃下以波長450nm之光測得之薄膜之厚度方向的相位差。
(4)Nz係數
Nz係數可以Nz=Rth/Re求得。
A.偏光板套組之整體構成
圖1係具備本發明之一實施形態之偏光板套組的液晶面板的概略截面圖。液晶面板100於液晶單元10之兩側積層有第1偏光板21及第2偏光板22。第1偏光板之厚度為200μm以上且300μm以下,並且第2偏光板之厚度為150μm以下。於圖示例中,第1偏光板21具有厚度為100μm以上之相位差層32、配置於該相位差層32之一面且厚度為10μm以下之偏光件31及配置於該相位差層之另一面的黏著劑層33,並因應需要具有保護層34。該第1偏光板21係透過黏著劑層33積層於液晶單元10。又,第2偏光板22具有偏光件35、配置於該偏光件35之一面的保護層37及配置於該偏光件之另一面的黏著劑層36。該第2偏光板22係透過黏著劑層36積層於液晶單元10。上述偏光件31與保護層34、及偏光件35與保護層37可透過任意適當之黏著劑層來積層(未圖示)。又,第1偏光板21及第2偏光板22亦可更具備有任意適當之其他層(未圖示)。其他層可舉表面處理層及其他保護層。本發明偏光板套組代表上第1偏光板係配置於背面側,第2偏光板係配置於視辨側。
第1偏光板21之厚度為200μm以上且300μm以下。第1偏光板21之相位差層32之厚度為100μm以上。第1偏光板21之偏光件31(以下亦稱第1偏光件)之厚度為10μm以下。在一實施形態中,第1偏光板21宜更具有保護層34。在該實施形態中,第1偏光板21宜僅於偏光件31之一面具有保護層。藉由將其製成所述構成,可防止第1偏光板21之厚度(更詳細而言為從第1偏光件至液晶單元為止的距離)變得過厚,而可抑制液晶面板在高溫高濕環境下翹曲。
在一實施形態中,第1偏光板之偏光件31與液晶單元10之距離宜為120μm~190μm,且宜為140μm~190μm,更宜為160μm~190μm。藉由偏光件31與液晶單元10之距離為上述範圍,可抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲。本說明書中,偏光件與液晶單元之距離係指從偏光件之中心(偏光件之厚度的一半)至與液晶單元相接之部分為止的距離。具體而言,於圖1中係指將偏光件31之厚度的1/2之值、相位差層32之厚度及黏著劑層33之厚度合計所得之值。
第2偏光板22之厚度為150μm以下。第2偏光板22之厚度只要為150μm以下即可,且可包含任意適當之層。第2偏光板22例如包含偏光件35、配置於該偏光件35之一面的黏著劑層36及配置於該偏光件35之另一面的保護層37。於該實施形態中,偏光件35之厚度、黏著劑層36之厚度及保護層37之厚度之合計只要成為150μm以下即可。
在一實施形態中,第2偏光板之偏光件35與液晶單元10之距離宜為50μm~90μm,且宜為50μm~70μm,更宜為55μm~65μm。只要第2偏光板之偏光件35與液晶單元10之距離為上述範圍,便可更抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲。
B.第1偏光板
第1偏光板21如上述,厚度為200μm以上且300μm以下,宜為200μm~280μm,更宜為220μm~250μm。第1偏光板21具有厚度100μm以上之相位差層32、配置於該相位差層32之一面且厚度為10μm以下之偏光件31及配置於該相位差層32之另一面的黏著劑層33。第1偏光板21係透過黏著劑層33貼附於液晶單元。如上述,第1偏光板之厚度較第2偏光板更厚。本發明之偏光板套組中,係以使從第1偏光板的偏光件之中心至液晶單元為止的距離(具體而言為偏光件之厚度的一半之值、相位差層之厚度與黏著劑層之厚度的合計)不會變得過厚之方式構成。藉由具有所述構成,可抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲。
在一實施形態中,第1偏光板21宜更具有保護層34。藉由具有保護層可適當保護偏光件。該保護層34宜僅積層於偏光件之一面。藉由在偏光件之一面積層有保護層、更宜在偏光件31之未積層相位差層32之面積層有保護層,可適當保護偏光件而不會使第1偏光板之厚度變厚。第1偏光板21在實際使用時可更於黏著劑層33積層分離件直至用於製造液晶面板。以下就第1偏光板之各構成要素進行說明。
B-1.偏光件
偏光件31之厚度為10μm以下,宜為3μm~10μm,更宜為3μm~8μm。藉由使用厚度較薄的偏光件,可防止第1偏光板21之厚度變得過厚,且可縮短從偏光件至液晶單元為止的距離。偏光件31代表上係以含有二色性物質之樹脂薄膜構成。
就樹脂薄膜而言,可採用能作為偏光件使用之任意適當的樹脂薄膜。樹脂薄膜代表上為聚乙烯醇系樹脂(以下稱為「PVA系樹脂」)薄膜。
形成上述PVA系樹脂薄膜之PVA系樹脂可使用任意適當的樹脂。可舉例如聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%,宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%,更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度係依JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂,可獲得耐久性優異的偏光件。皂化度太高時,會有膠化之虞。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000,宜為1200~4500,更宜為1500~4300。另,平均聚合度可按JIS K 6726-1994而求得。
樹脂薄膜中所含二色性物質譬如可舉碘、有機染料等。該等可單獨使用或可將2種以上組合來使用。較佳可使用碘。
樹脂薄膜可為單層樹脂薄膜亦可為二層以上之積層體。
由單層樹脂薄膜構成之偏光件的具體例,可舉PVA系樹脂薄膜業已施行利用碘進行之染色處理及延伸處理(代表上為單軸延伸)者。上述利用碘進行之染色例如可將PVA系樹脂薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行,亦可邊染色邊進行。又,亦可延伸後再染色。可因應需求對PVA系樹脂薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,在染色前將PVA系樹脂薄膜浸漬於水中進行水洗,不僅可洗淨PVA系樹脂薄膜表面的污垢或抗黏結劑,還可使PVA系樹脂薄膜膨潤,從而防止染色不均等情況。
使用積層體而獲得之偏光件的具體例,可舉出樹脂基材與積層在該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體,或者是使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件,例如可透過以下方式製作:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥,而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;及,將該積層體延伸並染色以將PVA系樹脂層製成偏光件。在本實施形態中,延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且,視需要,延伸可更包含在硼酸水溶液中進行延伸前在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。可以直接使用所得樹脂基材/偏光件之積層體(即,可將樹脂基材作為偏光件之保護層),亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面視目的積層任意適當的保護層後來使用。所述偏光件之製造方法的詳細內容記載於例如日本特開2012-73580號公報。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
偏光件宜在波長380nm~780nm的任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率宜為43.0%~46.0%,較宜為44.5%~46.0%。偏光件的偏光度以97.0%以上為佳,99.0%以上較佳,99.9%以上更佳。
B-2.相位差層
相位差層32之厚度為100μm以上,宜為100μm~200μm,且宜為100μm~150μm,更宜為110μm~150μm。當相位差層之厚度小於100μm時,在液晶面板在高溫高濕環境下翹曲時,相位差層也可能發生翹曲。因此,有時會損及相位差層所期望之光學特性。藉由相位差層之厚度在上述範圍內,即使是在液晶面板在高溫高濕環境下發生些微翹曲時,仍可良好維持相位差層所期望之光學特性。
相位差層32只要為厚度在上述範圍之相位差層,便可使用任意適當之相位差層。代表上相位差層具有nx>nz>ny之折射率橢圓體。相位差層之Nz係數宜為0.1~0.9,且宜為0.3~0.7,更宜為0.4~0.6。
上述相位差層只要可獲得如上述之特性,便可以任意適當之材料形成。代表例為高分子薄膜之延伸薄膜。形成該高分子薄膜之樹脂宜為降莰烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂。此外,形成高分子薄膜的樹脂的詳細內容例如記載於日本特開2014-010291中。本說明書中係援用該記載作為參考。
上述降莰烯系樹脂係以降莰烯系單體為聚合單元聚合而成之樹脂。該降莰烯系單體可舉例如:降莰烯、及其烷基及/或亞烷基取代物,例如5-甲基-2-降莰烯、5-二甲基-2-降莰烯、5-乙基-2-降莰烯、5-丁基-2-降莰烯、5-亞乙基-2-降莰烯等、該等之鹵素等極性基取代物;二環戊二烯、2,3-二氫二環戊二烯等;二甲橋八氫萘、其烷基及/或亞烷基取代物、及鹵素等極性基取代物,例如6-甲基-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-乙基-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-亞乙基-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-氯-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-氰-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-吡啶基-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-甲氧基羰基-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘等;環戊二烯的三~四聚物,例如4,9:5,8-二甲橋-3a,4,4a,5,8,8a,9,9a-八氫-1H-苯并茚(4,9:5,8-dimethano-3a,4,4a,5,8,8a,9,9a-octahydro-1H-benzoindene)、4,11:5,10:6,9-三甲橋-3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a-十二氫-1H-環戊蒽等。上述降莰烯系樹脂亦可為降莰烯系單體與其他單體之共聚物。
上述聚降莰烯在市面上販售有各種製品。具體例來說可舉如日本ZEON公司製商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR公司製商品名「Arton」、TICONA公司製商品名「TOPAS」、三井化學公司製商品名「APEL」。
上述聚碳酸酯系樹脂較佳可使用芳香族聚碳酸酯。芳香族聚碳酸酯在代表上可使碳酸酯前驅物質與芳香族二元酚化合物反應來製得。碳酸酯前驅物質之具體例可舉如光氣、二元酚類之雙氯甲酸酯、碳酸二苯酯、碳酸二對甲苯酯、碳酸苯基對甲苯酯、碳酸二對氯苯酯、碳酸二萘酯等。該等之中,又以光氣、碳酸二苯酯較佳。芳香族二元酚化合物之具體例可舉如2,2-雙(4-羥苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥-3,5-二甲基苯基)丙烷、雙(4-羥苯基)甲烷、1,1-雙(4-羥苯基)乙烷、2,2-雙(4-羥苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥-3,5-二甲基苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥-3,5-二丙基苯基)丙烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥苯基)-3,3,5-三甲基環己烷等。該等可單獨或可將2種以上組合來使用。較宜使用2,2-雙(4-羥苯基)丙烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥苯基)-3,3,5-三甲基環己烷。尤其宜將2,2-雙(4-羥苯基)丙烷與1,1-雙(4-羥苯基)-3,3,5-三甲基環己烷一同使用。
上述高分子薄膜可包含任意適當之其他熱塑性樹脂。其他熱塑性樹脂可舉聚烯烴樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯腈・丁二烯・苯乙烯系樹脂、丙烯腈・苯乙烯系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙酸乙烯酯、聚二氯亞乙烯系樹脂等泛用塑膠;聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改質聚伸苯醚系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等泛用之工程塑膠;聚伸苯硫醚系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚芳酯系樹脂、液晶性樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚四氟乙烯系樹脂等超級工程塑膠等。
上述延伸薄膜之製作方法可採用任意適當之方法。代表上可舉於上述高分子薄膜之單面或兩面貼合收縮性薄膜後進行加熱延伸之方法。該收縮性薄膜係用以於加熱延伸時對正交於延伸方向之方向賦予收縮力。收縮性薄膜所用材料可舉例如聚酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚二氯亞乙烯等。由收縮均勻性、耐熱性優異的觀點來看,宜使用聚丙烯薄膜。
上述延伸方法只要可對上述高分子薄膜之延伸方向賦予張力、可對在薄膜面內正交於該延伸方向的方向賦予收縮力,便可採用任意適當之延伸方法。延伸溫度宜為上述高分子薄膜之玻璃轉移溫度(Tg)以上。其係因所得延伸薄膜的相位差值易變得均一,且薄膜不易結晶化(白濁)之故。延伸溫度更宜為上述高分子薄膜之Tg+1℃~Tg+30℃,且更宜為Tg+2℃~Tg+20℃,特別宜為Tg+3℃~Tg+15℃,最宜為Tg+5℃~Tg+10℃。藉由將延伸溫度設為所述範圍,可進行均勻的加熱延伸。並且延伸溫度宜在薄膜寬度方向上恆定。其係因可製作出相位差值之參差小的具有良好光學均勻性之延伸薄膜之故。
上述延伸時之延伸倍率可設定成任意適當之值。宜為1.05倍~2.00倍,且宜為1.10倍~1.50倍,更宜為1.20倍~1.40倍,特別宜為1.25倍~1.30倍。藉由將延伸倍率設為所述範圍,可獲得薄膜寬度之收縮少而機械強度優異的延伸薄膜。
在另一實施形態中,係使用將含有聚碳酸酯系樹脂及苯乙烯系樹脂之高分子薄膜延伸而得的薄膜。所述相位差薄膜的詳細內容記載於如日本特開2005-31621號公報中。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
B-3.黏著劑層
黏著劑層33係形成於相位差層32之不與偏光件31相接之面。黏著劑層33之潛變值宜為40μm/h以上,且宜為50μm/h以上,更宜為60μm/h以上,特別宜為80μm/h以上。具有上述範圍之潛變值的黏著劑層具有柔軟性。藉由形成所述黏著劑層,可緩和被放置於高溫高濕環境下的偏光板之收縮應力。因此,可更良好地抑制液晶面板於高溫高濕環境下之翹曲。又,黏著劑層之潛變值例如為200μm/h以下。
黏著劑層之潛變值可依以下方式來測定。於包含保護層及偏光件之偏光板的保護層塗佈黏著劑組成物來形成黏著劑層,而製作附黏著劑層之偏光板(試驗片)。將所製出之試驗片裁切成寬10mm×長50mm。將裁切後之試驗片中寬10mm×長10mm之部分透過黏著劑層貼附於不鏽鋼板,接著以高壓釜(50℃、5大氣壓)處理15分鐘後,在室溫下放置1小時。放置過後,在23℃下使試驗片之未貼附於不鏽鋼板之側的端部負荷500g之荷重(拉伸荷重)1小時,再使用雷射式潛變試驗機測定施加負荷後的黏著劑層之偏移量(變形量),藉此可測定出黏著劑層之潛變值。
黏著劑層之潛變值可藉由任意適當之方法調整。例如可藉由形成黏著劑層之黏著劑中之基底聚合物的分子量、該黏著劑中之交聯劑的添加量等來調整。更具體而言係可藉由使用分子量高的聚合物作為該基底聚合物及/或增加該交聯劑之添加量來減少黏著劑層之潛變值。又,可藉由使用分子量低的聚合物作為該基底聚合物及/或減少該交聯劑之添加量來增加黏著劑層之潛變值。
黏著劑層的厚度宜為1μm~50μm,更宜為10μm~40μm。藉由黏著劑層之厚度為上述範圍,可良好緩和偏光板之收縮應力。
形成黏著劑層之黏著劑可使用任意適當之黏著劑。黏著劑可舉例如丙烯酸系黏著劑、丙烯酸胺甲酸酯系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、有機無機混合系黏著劑等。由透明性及耐久性之觀點,宜為丙烯酸系黏著劑。
丙烯酸系黏著劑可舉例如使用1種或2種以上(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體成分的丙烯酸系聚合物,亦即以具有源自(甲基)丙烯酸烷基酯之構成單元的聚合物(均聚物或共聚物)作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑等。(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例可舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十四酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸十七酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸十九酯、(甲基)丙烯酸二十酯等(甲基)丙烯酸C1-C20烷基酯。其中,可適宜使用具有碳數4~18之直鏈狀或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。源自(甲基)丙烯酸烷基酯之構成單元的含有比率,相對於基底聚合物100重量份宜為60重量份以上,更宜為80重量份以上。
上述丙烯酸系聚合物亦可基於將凝集力、耐熱性、交聯性等改質之目的,視需求含有源自可與上述(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之其他單體成分的構成單元。所述單體成分可舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基單體;馬來酸酐、伊康酸酐等酸酐單體;苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體等。
在一實施形態中,上述單體成分可使用含羥基單體。含羥基單體可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等。在交聯劑使用異氰酸酯系交聯劑時,由有效率地確保與異氰酸酯基之交聯點的觀點來看,該等之中又以丙烯酸4-羥丁酯較為適宜。源自含羥基單體的構成單元的含有比率,相對於基底聚合物100重量份宜為0.1重量份~10重量份,且宜為0.5重量份~2重量份。
交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、過氧化物系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二亞胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、吖系交聯劑、胺系交聯劑等。其中,可適宜使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑及/或過氧化物系交聯劑。交聯劑可單獨使用或可將2種以上組合來使用。
上述異氰酸酯系交聯劑可使用任意適當之交聯劑。異氰酸酯系交聯劑可舉例如甲苯二異氰酸酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體;對該等異氰酸酯單體加成三羥甲丙烷等多元醇而得之異氰酸酯化合物等。
上述環氧系交聯劑可使用任意適當之交聯劑。環氧系交聯劑可使用例如分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂,具體可舉二環氧丙基苯胺、1,3-雙(N,N-環氧丙基胺基甲基)環己烷、N,N,N’,N’-四環氧丙基-間茬二胺、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚、乙二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚等。
上述過氧化物系交聯劑可使用任意適當之交聯劑。過氧化物系交聯劑可舉例如二苯甲醯基過氧化物、二(2‐乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4‐三級丁基環己基)過氧二碳酸酯、二-二級丁基過氧二碳酸酯、三級丁基過氧新癸酸酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯等。
相對於基底聚合物100重量份,上述交聯劑的添加量宜為0.01重量份~5重量份,0.02重量份~3重量份較佳,0.1重量份~2.5重量份更佳,0.4重量份~1重量份尤佳。只要為所述範圍,便可形成具有適當潛變值的黏著劑層。
在一實施形態中,形成上述黏著劑層之黏著劑更可包含矽烷耦合劑。矽烷耦合劑可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3-4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑;3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑;含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑;含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。
相對於基底聚合物100重量份,上述矽烷耦合劑的添加量宜為0.01重量份~1重量份,且宜為0.05重量份~0.5重量份。
上述黏著劑可因應需要更含有任意適當之添加劑。該添加劑可舉例如增黏劑、塑化劑、顏料、染料、充填劑、抗老化劑、導電材、紫外線吸收劑、光穩定劑、剝離調整劑、軟化劑、界面活性劑、阻燃劑等。
B-4.保護層
保護層34可使用任意適當的樹脂薄膜。樹脂薄膜之形成材料可舉如(甲基)丙烯酸系樹脂、二醋酸纖維素、三醋酸纖維素等纖維素系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及該等之共聚物樹脂等。另,「(甲基)丙烯酸系樹脂」意指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
在一實施形態中,上述(甲基)丙烯酸系樹脂係使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下亦稱戊二醯亞胺樹脂)譬如係記載於下列文獻中:日本特開2006-309033號公報、日本特開2006-317560號公報、日本特開2006-328329號公報、日本特開2006-328334號公報、日本特開2006-337491號公報、日本特開2006-337492號公報、日本特開2006-337493號公報、日本特開2006-337569號公報、日本特開2007-009182號公報、日本特開2009-161744號公報及日本特開2010-284840號公報。本說明書中援引該等記載作為參考。
保護層34之透濕度宜為1.0g/m2
/24hr以下,且宜為0.8g/m2
/24hr以下,更宜為0.6g/m2
/24hr以下,特別宜為0.4g/m2
/24hr以下。只要保護層之透濕度在所述範圍內,便可更抑制保護層在高溫高濕環境下之尺寸變化,結果可更抑制液晶面板在高溫高濕環境下翹曲。
保護層厚度代表上為10μm~100μm,宜為20μm~40μm。保護層代表上係透過接著層(具體上為接著劑層、黏著劑層)積層在偏光件上。接著劑層代表上係以PVA系接著劑或活性化能量線硬化型接著劑形成。黏著劑層代表上係以丙烯酸系黏著劑形成。該丙烯酸系黏著劑可與構成上述黏著劑層之黏著劑相同亦可不同。
C.第2偏光板
第2偏光板22之厚度為150μm以下,宜為80μm~140μm,更宜為110μm~130μm。第2偏光板22係厚度較第1偏光板21更薄之偏光板。第2偏光板只要厚度為150μm以下即可,且可包含任意適當之構成要素。第2偏光板22代表上具有偏光件35、黏著劑層36與保護層37。第2偏光板22可透過黏著劑層36貼合於液晶單元。在實際使用時可更於黏著劑層36積層分離件直至用於製造液晶面板。
C-1.偏光件
第2偏光板之偏光件可使用任意適當之偏光件。可使用上述第1偏光板之項揭示之薄型(例如厚度為10μm以下)偏光件,亦可使用厚度厚之偏光件。使用厚度厚之偏光件時,偏光件之厚度例如為10μm~35μm,宜為15μm~30μm。
C-2.黏著劑層
黏著劑層可使用任意適當之黏著劑來形成。黏著劑層可使用形成上述第1偏光板所用之黏著劑(潛變值高之黏著劑)來形成,亦可使用其他黏著劑(例如潛變值低之黏著劑)來形成。藉由第2偏光板之黏著劑層亦使用第1偏光板所使用之黏著劑來形成,可緩和液晶面板整體的收縮應力,而更可抑制液晶面板在高溫高濕環境下翹曲。
C-3.保護層
保護層可以任意適當之薄膜來形成。例如可使用上述第1偏光板之保護層所用薄膜。
D.液晶面板
本發明液晶面板包含上述偏光板套組與液晶單元。代表上,係於液晶單元之一面透過黏著劑層積層第1偏光板,並於液晶單元之另一面積層第2偏光板。在一實施形態中,第1偏光板可配置於背面側,第2偏光板可配置於視辨側。
上述液晶單元之驅動模式可採用任意適當之驅動模式。驅動模式之具體例可舉STN(Super Twisted Nematic)模式、TN(Twisted Nematic)模式、IPS(In-Plane Switching)模式、VA(Vertical Aligned)模式、OCB(Optically Aligned Birefringence)模式、HAN(Hybrid Aligned Nematic)模式、ASM(Axially Symmetric Aligned Microcell)模式、ECB(Electrically Controlled Birefringence)模式等。在一實施形態中,可適宜使用IPS模式液晶單元。
上述液晶單元之厚度可設定成任意適當之值。例如為0.7mm以下,宜為0.5mm以下,更宜為0.5mm~0.2mm。
E.液晶顯示裝置
本發明液晶面板可應用於影像顯示裝置。在一實施形態中,上述液晶面板係配置成第1偏光板成為背面側,第2偏光板成為視辨側。又,在第2偏光板更具備抗反射層時,可於影像顯示裝置之視辨側配置抗反射層使其成為視辨側。如上述,本發明偏光板套組可使用厚的相位差層。因此,亦適宜用於大型影像顯示裝置。
實施例
以下,以實施例來具體說明本發明,惟本發明不受該等實施例限定。又,各特性之測定方法如以下所述。
(1)黏著劑層之潛變值
於製造例1所得偏光板之保護層塗佈黏著劑A~C並分別使厚度成為20μm而形成黏著劑層,從而製出附黏著劑層之偏光板。將所製出之偏光板裁切成寬10mm×長50mm,做成測定試料。將裁切過之測定試料的端部(寬10mm×長10mm)透過黏著劑層貼附於不鏽鋼板,並進行50℃、5大氣壓、15分鐘的高壓釜處理後,在室溫下放置1小時後,使與貼附於不鏽鋼板之端部相反之側的端部在23℃下負荷500g之荷重(拉伸荷重)1小時後,測定黏著劑層之偏移量(變形量),並將其作為黏著劑層之潛變值(雷射式潛變試驗機)。
(2)相位差參差
使用相位差測定裝置(王子計測器股份公司製,製品名:KOBRA-WPR)測定實施例1~4及比較例1~2之第1偏光板所用相位差層之面內相位差參差。
按以下基準來評估相位差層之面內相位差參差。
〇(良好):4nm以下
△(可):大於4nm且在7nm以下
×(不良):大於7nm
(3)軸參差
使用相位差測定裝置(王子計測器股份公司製,製品名:KOBRA-WPR)測定實施例1~4及比較例1~2之第1偏光板所用相位差層之面內軸參差。
按以下基準來評估相位差層之面內軸參差。
〇(良好):0.5°以下
△(可):大於0.5°且在0.7°以下
×(不良):大於0.7°
>合成例1>合成黏著劑A
將丙烯酸丁酯100份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙酯0.075份及2,2´-偶氮雙異丁腈0.3份,與乙酸乙酯一同加入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中,而調製出溶液。接著,一邊將氮氣噴吹至此溶液中一邊攪拌,並於60℃下使其進行反應4小時,而獲得含有重量平均分子量220萬的丙烯酸系聚合物之溶液。並且,於此含有丙烯酸系聚合物之溶液中加入乙酸乙酯,而獲得了固體成分濃度經調整成30%之丙烯酸系聚合物溶液(A1)。
相對於所得丙烯酸系聚合物溶液(A1)之固體成分100份,依序摻混作為交聯劑之以具有異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑(日本Polyurethane(股)製,商品名「CORONATE L」)0.6份、與作為矽烷偶合劑之γ-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷(信越化學工業(股)製,商品名「KMB-403」)0.075份,而調製出黏著劑A。
>合成例2>合成黏著劑B
將丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥丁酯1.0份及2,2´-偶氮雙異丁腈0.3份,與乙酸乙酯一同加入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中,並在氮氣流下於60℃下反應4小時。接著,於反應液中添加乙酸乙酯,而獲得含有重量平均分子量165萬之丙烯酸系聚合物的溶液(固體成分濃度30%)。
於丙烯酸系聚合物溶液中,相對於所得丙烯酸系聚合物溶液之固體成分每100份,添加0.15份之二苯甲醯基過氧化物(日本油脂製(股)製,商品名:NYPER BO-Y)、0.08份之三羥甲丙烷二異氰酸二甲苯酯(MITSUI TAKEDA CHEMICALS(股)製,商品名:TAKENATE D110N)及0.2份之矽烷耦合劑(綜研化學股份公司製,商品名:A-100,含乙醯乙醯基之矽烷耦合劑),而調製出黏著劑B。
>合成例3>合成黏著劑組成物C
將丙烯酸丁酯81.9份、丙烯酸苄酯13份、丙烯酸5份、丙烯酸4-羥丁酯0.1份及作為聚合起始劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份,與乙酸乙酯100份一同饋入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中,一邊緩慢地攪拌一邊導入氮氣進行氮取代。接著,將燒瓶內之液溫保持在55℃附近進行8小時聚合反應,而調製出丙烯酸系聚合物溶液。
於丙烯酸系聚合物溶液中,相對於所得丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份,添加0.45份之異氰酸酯交聯劑(日本Polyurethane工業公司製,商品名:CORONATE L,三羥甲丙烷的二異氰酸甲苯酯的加成物)、0.1份之苯甲醯基過氧化物(日本油脂公司製,商品名:NYPER BMT)及0.1部之矽烷耦合劑(信越化學工業(股)製,商品名:KBM403),而調製出黏著劑C。
>製造例1>製作偏光件積層體1
樹脂基材係使用長條狀、吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度:100μm)。對基材單面施以電暈處理,並於該電暈處理面上於25℃下塗佈以9:1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200,皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200,乙醯乙醯基改質度4.6%,皂化度99.0莫耳%以上,日本合成化學工業公司製,商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液並進行乾燥,形成厚度11μm之PVA系樹脂層,而製出積層體。
將所獲得之積層體於120℃之烘箱內在不同周速之輥件間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸2.0倍(空中輔助延伸)。
接著,使積層體浸漬於液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。
接著,一邊使其浸漬於液溫30℃的染色浴中一邊調整碘濃度、浸漬時間以使偏光板成為預定之透射率。本實施例係使其浸漬於相對於100重量份的水摻混0.2重量份的碘、1.5重量份的碘化鉀所得之碘水溶液中60秒(染色處理)。
接著,使其浸漬於液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混3重量份的硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。
其後,一邊使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份的水摻混4重量份硼酸、5重量份碘化鉀所得之水溶液)中,一邊於不同周速之輥件間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸)。
之後,使積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份,摻混4重量份的碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。
接著,於積層體的PVA系樹脂層(偏光件)表面塗佈PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製,商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」,樹脂濃度:3重量%),並貼合構成保護層的甲基丙烯酸樹脂薄膜(厚度:25μm,包含具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的薄膜),再以經維持於60℃的烘箱將其加熱5分鐘。然後,從樹脂基材剝離PVA系樹脂層。依上述程序而獲得偏光件積層體(具有保護層/偏光件之構成的偏光板)。另,偏光件之厚度為5μm,單體透射率為42.3%。
>製造例2>製作偏光件積層體2
將厚度60μm的聚乙烯醇薄膜(平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%)浸漬在30℃溫水中60秒使其膨潤。接著,浸漬於碘/碘化鉀水溶液(重量比:0.5/8,濃度:0.3%重量)中,一邊將薄膜延伸至3.5倍一邊染色。其後,在65℃之硼酸酯水溶液中進行延伸以使總延伸倍率達6倍。延伸後,於40℃烘箱中乾燥3分鐘,而獲得偏光件。
接著,透過接著劑層將第1透明保護薄膜(TAC薄膜,厚度40μm)及第2透明保護薄膜(丙烯酸系樹脂薄膜,厚度:30μm)貼合於上述偏光件兩面而製成偏光件積層體。另,偏光件之厚度為22μm,單體透射率為41.5%。
>製造例3>製作相位差層1
透過丙烯酸系黏著劑層(厚度15μm)將收縮性薄膜(C)(Toray(股)製,製品名:TORAYFAN)貼合於厚度130μm之含有降莰烯系單體之開環聚合物加氫而得之樹脂的高分子薄膜(JSR(股)製,商品名「ARTON FLZU130D0」兩側。接著,利用輥延伸機,保持薄膜長邊方向,在146℃±1℃的空氣循環式恆溫烘箱內延伸1.42倍。所得相位差薄膜之厚度為138μm,Re(550)=270nm,Nz=0.5。將該相位差薄膜作為相位差層1。
>製造例4>製作相位差層2
使聚芳酯10kg溶解於甲苯73kg中,調製出塗敷液。然後,於收縮性薄膜(縱向單軸延伸聚丙烯薄膜,TOKYO PRINTING INK MFG CO.,LTD.製,商品名「Noblen」)之上直接塗敷該塗敷液,並將該塗膜於乾燥溫度60℃下乾燥5分鐘、於80℃下乾燥5分鐘,而形成收縮性薄膜/雙折射層之積層體。將所得積層體使用同時雙軸延伸機,於延伸溫度155℃下以沿MD方向收縮倍率0.70倍、沿TD方向延伸1.15倍,而於收縮性薄膜上形成相位差薄膜。接著,將該相位差薄膜從收縮性薄膜剝離。相位差薄膜之厚度為17.0μm,Re(550)=300nm,Nz=0.5。將該相位差薄膜作為相位差層2。
[實施例1]
於製造例1所得偏光件積層體之偏光件塗佈丙烯酸系黏著劑以使厚度成為20μm,並積層相位差層1。接著,於所積層之相位差層1之不與偏光件相接之面塗佈黏著劑B以使厚度成為20μm而形成黏著劑層,從而獲得第1偏光板。
另外,於製造例1所得偏光件積層體之偏光件塗佈黏著劑A以使厚度成為23μm而形成黏著劑層,從而獲得第2偏光板。
使用所得第1偏光板與第2偏光板套組來進行各評估。
[實施例2]
除了使用黏著劑A取代黏著劑B來形成黏著劑層(厚度23μm)外,依與實施例1相同方式而獲得第1偏光板。
於製造例2所得偏光件積層體之偏光件塗佈黏著劑A以使厚度成為20μm而形成黏著劑層,從而獲得第2偏光板。
使用所得第1偏光板與第2偏光板套組來進行各評估。
[實施例3]
除了使用黏著劑B取代黏著劑A來形成第2偏光板之黏著劑層外,依與實施例2相同方式而獲得第2偏光板。
除了使用所得第2偏光板外,依與實施例2相同方式而獲得偏光板套組。使用該套組來進行各評估。
[實施例4]
除了使用黏著劑C取代黏著劑層A來形成第2偏光板之黏著劑層外,依與實施例2相同方式而獲得第2偏光板。
除了使用所得第2偏光板外,依與實施例2相同方式而獲得偏光板套組。使用該套組來進行各評估。
(比較例1)
除了使用相位差層2取代相位差層1外,依與實施例1相同方式而獲得偏光板套組。使用該套組來進行各評估。
(比較例2)
除了使用製造例2所得偏光件積層體外,依與實施例1相同方式而獲得第1偏光板。
除了使用製造例2所得偏光件積層體外,依與實施例1相同方式而獲得第2偏光板。
使用所得第1偏光板及第2偏光板套組來進行各評估。
>評估>
將實施例1~4及比較例1~2之偏光板套組分別以包夾玻璃板(厚度:0.55mm)之方式透過黏著劑層貼合,而獲得積層體。使用所得積層體進行以下評估。將結果列於表1。
1.外觀不均及漏光
將所得積層體放置於背光件上,確認四隅有無不均及漏光,並依以下基準進行評估。
◎(最佳):四隅無不均及漏光
〇(良好):四隅有不均或漏光
×(不良):四隅有不均及漏光
2.翹曲量
使用平面雙軸測定器(Mitutoyo Corporation製,製品名:Quick Vision Apex)測定所得積層體的第2偏光板(視辨側偏光板)四隅之焦點距離。接著,將積層體放置於可靠性試驗條件(85℃)下24小時,再同樣地測定第2偏光板側(視辨側偏光板)四隅之焦點距離。算出各隅在投入可靠性試驗前後的焦點距離之差,並以四隅之平均值作為各偏光板套組的翹曲量。按以下基準評估各翹曲量。另外,表1中之「+」係表示積層體以往下(亦即背面側)凸出之狀態捲曲,而「-」係表示積層體以往上側(亦即視辨側)凸出之狀態捲曲。
◎(最佳):0mm以上且0.5mm以下
〇(良好):大於0.5mm且在1.0mm以下
△(可):大於1.0mm且在2.0mm以下
×(不良):大於2.0mm
[表1]
由表1可知,實施例1~4之偏光板套組即使是在將積層體放置於高溫高濕環境下時,翹曲仍受到抑制。該等偏光板套組係外觀不均及漏光亦小者。且,相位差層之光學特性亦有良好維持。
產業上之可利用性
本發明之偏光板套組可適宜使用在液晶顯示裝置。
10:液晶單元
21:第1偏光板
22:第2偏光板
31:偏光件(第1偏光件)
32:相位差層
33:黏著劑層
34:保護層
35:偏光件(第2偏光件)
36:黏著劑層
37:保護層
100:液晶面板
圖1係具備本發明之一實施形態之偏光板套組的液晶面板的概略截面圖。
10:液晶單元
21:第1偏光板
22:第2偏光板
31:偏光件(第1偏光件)
32:相位差層
33:黏著劑層
34:保護層
35:偏光件(第2偏光件)
36:黏著劑層
37:保護層
100:液晶面板
Claims (7)
- 一種偏光板套組,係由配置於液晶單元之一面的第1偏光板與配置於該液晶單元之另一面的第2偏光板構成,該第1偏光板之厚度為200μm以上且300μm以下,該第2偏光板之厚度為150μm以下;該第1偏光板具有厚度100μm以上之相位差層、配置於該相位差層之一面且厚度為10μm以下之偏光件及配置於該相位差層之另一面的黏著劑層;且該第1偏光板係透過該黏著劑層積層於液晶單元。
- 如請求項1之偏光板套組,其中前述第1偏光板更具有保護層,且該保護層僅積層於前述偏光件之一面。
- 如請求項1或2之偏光板套組,其中該黏著劑層之潛變值為80μm/h以上。
- 如請求項1或2之偏光板套組,其中前述黏著劑層之厚度為10μm~40μm。
- 如請求項1或2之偏光板套組,其中第1偏光板配置於背面側,第2偏光板配置於視辨側。
- 一種液晶面板,包含如請求項1至5中任一項之偏光板套組與液晶單元。
- 如請求項6之液晶面板,其中前述液晶單元與前述第1偏光板之偏光件之距離為160μm~190μm。
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