TW201801926A - 附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法、附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法及影像顯示裝置之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明為一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，特徵在於該附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件單面有保護薄膜之單面保護偏光薄膜、及已設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面上的透明樹脂層，且該製造方法依序包含下述步驟：步驟(1)，準備僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜；步驟(2)，在前述單面保護偏光薄膜之偏光件面塗佈含樹脂成分的水系塗覆液；以及步驟(3)，將所得塗佈膜乾燥而形成透明樹脂層；並且，前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下，前述偏光件之欲形成透明樹脂層之面的水接觸角偏差值係於平均水接觸角±20°之範圍內。依據本發明，即便在使用了薄型偏光件的附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜曝置於加濕環境下的情況下，仍能抑制外觀不均缺陷的發生。

Description

附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法、附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法及影像顯示裝置之製造方法
本發明係有關於一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法。又，本發明係有關於一種含有前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜與黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法。又，本發明係有關於一種液晶顯示裝置(LCD)或有機EL顯示裝置等影像顯示裝置之製造方法，該影像顯示裝置使用了由前述製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜。
液晶顯示裝置於時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦用顯示器、DVD播放器、TV等用途上的市場正急速地擴張。液晶顯示裝置是經由液晶之切換(Switching)使偏光狀態可視化，基於其顯示原理會使用偏光件。
作為偏光件，因具有高穿透率、高偏光度，故碘系偏光件最普遍廣為使用，其係例如令聚乙烯醇吸附碘並延伸而成之結構。這種偏光件具有機械性強度極端薄弱、且會因熱或水分而收縮致使偏光機能顯著降低的缺點。因此，所製得之偏光件是立即與已塗覆有接著劑之保護薄膜透過接著劑相貼合而作成偏光薄膜來使用。
另一方面，液晶顯示裝置等影像顯示裝置已朝薄型化發展，在偏光薄膜方面亦正要求薄型化。因此，薄型化在偏光件方面亦正發展當中。又，可藉由使用單面保護偏光薄膜來進行薄型化，其僅於偏光件單側設置保護薄膜，另一側未設置保護薄膜。此類單面保護偏光薄膜，相較於偏光件兩面均設保護薄膜的兩面保護偏光薄膜，由於少了一層保護薄膜故可求薄型化。
另一方面，單面保護偏光薄膜對熱衝撃的耐久性並不足夠，故有人提出在偏光件側設置保護層(透明樹脂層)(例如參考專利文獻1、2)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利公開案第2010-009027號公報 專利文獻2：日本專利公開案第2013-160775號公報
發明欲解決之課題 如同前述，已知可藉由在偏光件上形成透明樹脂層來提升單面保護偏光薄膜的耐久性。惟本次有了全新發現，使用了厚度10μm以下之薄型偏光件的單面保護偏光薄膜在其偏光件上已形成有透明樹脂層的情形時，該附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜一旦曝置在加濕環境下，則在將加濕試驗後之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜以吸收軸呈垂直相交狀態的方式貼合在影像顯示面板等的兩面時，就會容易辨視出外觀不均缺陷。
因此，本發明之目的在於提供一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其即便在將使用了薄型偏光件的附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜曝置於加濕環境下的情況下，仍能抑制外觀不均缺陷的發生。又，本發明之目的亦在於提供一種使用了前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，以及使用了前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置之製造方法。
用以解決課題之手段 經本案發明人等精心探究，結果發現可藉由下述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法來解決上述課題，而終至完成本發明。
即，本發明是有關於一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，特徵在於：所述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及已設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面上的透明樹脂層，且該製造方法依序包含下述步驟： 步驟(1)，準備僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜； 步驟(2)，在前述單面保護偏光薄膜之偏光件面塗佈含樹脂成分的水系塗覆液；以及 步驟(3)，將所得塗佈膜乾燥而形成透明樹脂層；並且， 前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下， 前述偏光件之欲形成透明樹脂層之面的水接觸角偏差值在平均水接觸角±20°之範圍內。
在前述塗佈水系塗覆液的步驟(2)之前，可依序包含下述步驟： 於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面貼合表面保護薄膜，然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜剝離；以及， 對前述單面保護偏光薄膜之表面保護薄膜剝離面施以活性化處理。
在前述塗佈水系塗覆液的步驟(2)之前，可依序包含下述步驟： 對前述單面保護偏光薄膜之偏光件面施以活性化處理；以及， 於前述單面保護偏光薄膜之經活性化處理之面貼合表面保護薄膜，然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜剝離。
前述活性化處理宜為電暈處理及/或電漿處理。
前述水接觸角的偏差值宜在平均水接觸角±15°之範圍內。
前述平均水接觸角宜為90°以下。
又，本發明係有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，特徵在於具有下述步驟：在由前述製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層上，形成黏著劑層。
再者，本發明係有關於一種影像顯示裝置之製造方法，特徵在於其係使用由前述製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、或由前述製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜來形成。
發明效果 本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，可提供一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，其儘管使用有薄型偏光件，且即便是在曝置於加濕環境下的情況時，仍能抑制外觀不均缺陷的發生。
此蓋因本發明所用偏光件之透明樹脂層形成面的水接觸角偏差值係控制在預定範圍內，讓透明樹脂層之厚度不均缺陷受抑之故。即，附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜在已曝置於加濕環境下時，偏光件表面附近的成分有時會滲至透明樹脂層中，在此情況下，若是使用厚度10μm以下之偏光件，可想見滲至透明樹脂層中之成分相對於偏光件總量的比例高，進而在透明樹脂層出現厚度參差時，其會導致自偏光件滲至透明樹脂層中之成分的量亦參差，故變得容易視辨出外觀不均缺陷。
又，本發明之影像顯示裝置之製造方法，因係使用由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜，故能夠提供可靠度高的影像顯示裝置。
1.附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法 本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，特徵在於所述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及已設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面上的透明樹脂層，且該製造方法依序包含下述步驟： 步驟(1)，準備僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜； 步驟(2)，在前述單面保護偏光薄膜之偏光件面塗佈含樹脂成分的水系塗覆液；以及 步驟(3)，將所得塗佈膜乾燥而形成透明樹脂層；並且， 前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下， 前述偏光件之欲形成透明樹脂層之面的水接觸角偏差值在平均水接觸角±20°之範圍內。
就前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，邊參照圖1邊加以說明。但本發明不受該等圖所限定。
本發明所用之單面保護偏光薄膜3，係僅於偏光件1之單面具有保護薄膜2。前述偏光件1與保護薄膜2可隔著如接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層(未圖示)而積層。由本發明之製造方法所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜10，在前述單面保護偏光薄膜3之偏光件面(偏光件1中沒有保護薄膜2之面)沒有透明樹脂層4。
以下，就本發明之製造方法各步驟加以說明。
(1)準備單面保護偏光薄膜之步驟(1) 於步驟(1)中，準備僅於偏光件1單面具有保護薄膜2的單面保護偏光薄膜3。
使用厚度10μm以下的偏光件1作為前述偏光件1。偏光件1的厚度以8μm以下為佳，7μm以下較佳，6μm以下更佳。另一方面，偏光件的厚度係2μm以上為佳，3μm以上較佳。這樣的薄型偏光件1，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
偏光件1係採用使用了聚乙烯醇系樹脂之物。作為偏光件1，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇薄膜浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或可含硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均缺陷的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，復亦可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
就延伸穩定性或光學耐久性而言，偏光件1宜含有硼酸。又，偏光件1所含硼酸的含量，從抑制貫通裂紋及奈米細縫的發生及抑制擴張的觀點來看，相對於偏光件總量宜為25重量%以下，且20重量%以下較佳，18重量%以下更佳，16重量%以下尤佳。另一方面，從偏光件1的延伸穩定性或光學耐久性之觀點來看，相對於偏光件總量之硼酸含量宜為10重量%以上，而12重量%以上較佳。
前述偏光件1宜構造成其以單體穿透率T及偏光度P顯示之光學特性滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4-1)×100(惟T＜42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)。經構造成滿足前述條件的偏光件，會毫無疑問地具有在使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器方面所需要的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2 以上。在其他用途方面，則例如可貼合於有機EL顯示裝置之觀視側。
構成上述保護薄膜2之材料，宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等方面優異者。可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二醋酸纖維素及三醋酸纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可舉如下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
此外，保護薄膜2中亦可含有1種類以上的任意適當添加劑。作為添加劑，可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顔料、著色劑等。保護薄膜中上述熱可塑性樹脂的含量係以50~100質量%為佳，50~99質量%較佳，60~98質量%更佳，70~97質量%尤佳。保護薄膜2中上述熱可塑性樹脂的含量低於50質量%時，可能會有熱可塑性樹脂原具有之高透明性等無法充分展現的狀況。
前述保護薄膜2亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如將熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
前述保護薄膜2的厚度可適當設定，但一般而言，從諸如強度或操作性等作業性以及薄層性等觀點來看宜為3~200μm，更宜為3~100μm。尤其，前述保護薄膜(在預先形成薄膜的情形時)的厚度以輸送性的觀點來說宜為10~60μm，更宜為10~50μm。另一方面，前述保護薄膜(經由塗佈硬化而形成時)的厚度就輸送性而言宜為3~25μm，更宜為3~20μm。前述保護薄膜可使用多片或多層。
前述保護薄膜2之不與偏光件1接著之面，可設置硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層及抗眩層等機能層。此外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層除了可設在保護薄膜本身以外，亦可與保護薄膜2分設而另為其他個體。
前述保護薄膜2與偏光件1可隔著接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer)等中介層來積層。此時，理想的是利用中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。此外，偏光件1與保護薄膜2之中介層並未顯示於圖中。
接著劑層係由接著劑所形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係以水溶液所構成之接著劑的形式使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子束、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子束硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在將光自由基硬化型的活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型來使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
接著劑的塗覆方式，是依接著劑的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗覆方式例可舉例如：逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。此外在塗覆方面可適當使用浸漬法等方式。
又，前述接著劑之塗覆在使用水系接著劑等時，宜以使最終形成之接著劑層厚度呈30~300nm的方式進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~150nm。另一方面，使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度為0.2~20μm的方式進行。
此外，在積層偏光件1與保護薄膜2時，可在保護薄膜與接著劑層之間設置易接著層。易接著層舉例來說，可由具有下述骨架的各種樹脂來形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，在易接著層的形成方面亦可加入其他添加劑。具體上可舉如黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等等。
易接著層通常是預先設在保護薄膜上，並利用接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光件積層。易接著層的形成，是藉由將易接著層的形成材以習知技術塗覆在保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層的形成材通常會調製成溶液，其係在考量乾燥後的厚度、塗覆之圓滑性等而稀釋成適當濃度。易接著層乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。此外，易接著層可設置多層，惟此情形時仍宜使易接著層的總厚度在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑方面可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽氧烷系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可因應前述黏著劑的種類來選擇黏著性基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性優異、展現適當的濕潤性、凝聚性及接著性等黏著特性並且耐候性及耐熱性等優異此點來看，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
底塗層(底漆層)是為了使偏光件1與保護薄膜2的密著性提升而形成。構成底漆層的材料，只要是可對偏光件1與保護薄膜2兩者發揮一定程度的強密著力的材料即可，並無特別限定。例如，可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優良的熱可塑性樹脂等等。作為熱可塑性樹脂，可舉例如丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
本發明所用單面保護偏光薄膜3，可藉由僅於偏光件1單面積層保護薄膜2的製造方法來準備，惟具體的製造方法係例如宜為利用包含下述步驟的製造方法來形成： 步驟(1-1)，形成積層體(a)，其具有輸送用薄膜以及厚度10μm以下之偏光件1，該偏光件1含有已形成在該輸送用薄膜單面的聚乙烯醇系樹脂； 步驟(1-2)，在前述步驟(1-1)所得積層體(a)的偏光件1側形成保護薄膜2；以及， 步驟(1-3)，自前述步驟(1-2)所得積層體(保護薄膜2/偏光件1/輸送用薄膜)將輸送用薄膜剝離。以下，就前述較佳製造方法的各步驟予以說明。
(1-1) 形成積層體(a)的步驟(1-1) 前述積層體(a)，舉例來說，可藉由對具有輸送用薄膜與已形成在該輸送用薄膜單面之聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層的積層體(a´)，施以至少延伸步驟及染色步驟而得。前述輸送用薄膜，可藉由使用長條物來形成長條狀的PVA系樹脂層，而有利於連續生產。
作為輸送用薄膜，可使用各種熱可塑性樹脂薄膜。熱可塑性樹脂薄膜之形成材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂，降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂，聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺樹脂、聚碳酸酯系樹脂、其等之共聚樹脂等。其等當中以製造容易性及降低成本的觀點來看，係以酯系樹脂為佳。酯系熱可塑性樹脂薄膜，可使用非晶性酯系熱可塑性樹脂薄膜、或結晶性酯系熱可塑性樹脂薄膜。又，前述熱可塑性樹脂薄膜的厚度，由延伸步驟時避免破裂及積層體(a)的輸送容易性來看係以偏厚為佳，一般來說，延伸步驟前的厚度以20~200μm為佳，30~150μm較佳。
又，輸送用薄膜，可使用已於前述熱可塑性樹脂薄膜設有可剝離黏著劑層之物。黏著劑層可使用和後述表面保護薄膜等所用者相同之物。
前述積層體(a)中的偏光件含有聚乙烯醇系樹脂，厚度在10μm以下。關於偏光件厚度的適宜範圍或聚乙烯醇系樹脂，係如同前述。此種薄型偏光件1，於步驟(1-3)中，在將輸送用薄膜自前述積層體(a)剝離時，有時會容易在薄型偏光件1的表面產生缺陷，以致於偏光件1之透明樹脂層4形成面的表面狀態產生不均缺陷。
作為薄型偏光件，代表性地可舉如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等所記載的薄型偏光件，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光件。
作為前述薄型偏光件，在包括以積層體(a´)的狀態進行延伸步驟與染色步驟的製法當中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜，可藉由包含延伸步驟與染色步驟的製法來獲得，且該延伸步驟係將聚乙烯醇系樹脂層與延伸用輸送用薄膜以積層體的狀態進行延伸。若為此種製法，則即便PVA系樹脂層很薄，仍可藉由以延伸用輸送用薄膜支撐而在不發生延伸所致斷裂等不良情況下進行延伸。
前述積層體(a´)可藉由例如將PVA系樹脂水溶液塗覆在輸送用薄膜之後進行乾燥而形成。又，前述積層體(a´)中的PVA系樹脂層可藉由押出成形法而形成在輸送用薄膜上。再者，前述PVA系樹脂層亦可藉由將預先調製之PVA系樹脂薄膜積層於輸送用薄膜來形成。前述PVA系樹脂層之厚度，可考量延伸倍率等而作適當決定，以令延伸後所得之偏光件厚度為10μm以下。此外，若預先將PVA系樹脂薄膜染色，則可省略對積層體(a’)施行之染色步驟。
對前述積層體(a’)施行的延伸步驟，舉例來說，宜以令PVA系樹脂層之總延伸倍率成為總延伸倍率3~10倍之範圍的方式來進行。總延伸倍率以4~8倍為佳，5~7倍較佳。總延伸倍率以作成5倍以上的方式進行較為理想。前述延伸步驟亦可在染色步驟或其他步驟中實施。在延伸步驟以外的步驟中伴隨進行延伸的情形時，前述總延伸倍率是指包含該等步驟時之延伸的累積延伸倍率。
對前述積層體(a’)施行之染色步驟，是藉由在PVA系樹脂層吸附、配向二色性染料或碘來進行。染色步驟可與延伸步驟並行。染色步驟一般是藉由例如將前述積層體(a’)浸漬於碘溶液任意時間來進行。作為碘溶液來使用的碘水溶液，可使用業已利用碘及作為溶解助劑之碘化合物而使碘離子含於其中的水溶液等。碘化合物可用例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。碘化合物以碘化鉀為適宜。本發明所用碘化合物在其他步驟使用時亦與上述相同。
前述碘溶液中的碘濃度為0.01~10重量%左右，並以0.02~5重量%為佳，0.02~0.5重量%較佳。碘化合物濃度為0.1~10重量%左右，並以0.2~8重量%為佳。碘染色期間，碘溶液的溫度通常為20~50℃左右，且25~40℃為佳。浸漬時間通常為10~300秒左右，並以20~240秒之範圍為佳。
又，前述積層體(a’)除上述步驟以外，尚可實施例如不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(調節水分率)步驟等。
不溶化步驟、交聯步驟中可使用硼化合物作為交聯劑來進行。該等步驟的順序沒有特別限制。交聯步驟可與染色步驟、延伸步驟並行。不溶化步驟、交聯步驟可多次實施。硼化合物可舉如硼酸、硼砂等。硼化合物一般係以水溶液或水-有機溶劑混合溶液的形態來使用。通常會使用硼酸水溶液。硼酸水溶液的硼酸濃度為1~10重量%左右，並以2~7重量%為佳。就利用交聯度賦予耐熱性、或是抑制輸送用薄膜剝離時的損傷而言，以採前述硼酸濃度為佳。硼酸水溶液等中可含有碘化鉀等碘化合物。硼酸水溶液中含有碘化合物的情形時，碘化合物濃度為0.1~10重量%左右，並以0.5~8重量%為佳。
(1-2)形成保護薄膜之步驟(1-2) 前述步驟(1-2)，係於前述所得之積層體(a)的偏光件1側形成保護薄膜2。藉由該步驟(1-2)，可製得僅於偏光件1單側具有保護薄膜2的附輸送用薄膜之單面保護偏光薄膜A´。有關保護薄膜2以及積層保護薄膜2時所用中介層，可使用前述之物。
(1-3)剝離輸送用薄膜的步驟(1-3) 前述步驟(1-3)，係自前述附輸送用薄膜之單面保護偏光薄膜A´將前述輸送用薄膜剝離。輸送用薄膜的剝離方法沒有特別限制。在進行輸送用薄膜的剝離時，可就偏光件1(或單面保護偏光薄膜)側折角、亦可就輸送用薄膜側折角以進行剝離。又，亦可就兩側折角以進行剝離。無論何種情形，對薄型偏光件1而言均容易因輸送用薄膜的剝離而產生損傷。在將輸送用薄膜剝離時其角度可任意設定。在將輸送用薄膜剝離時，有最能讓剝離力變弱的角度存在。剝離力變弱的角度會受「構造、剝離速度、進行剝離時的濕度、進行剝離之薄膜的剛性」所左右，故可適當地決定角度。
(2)塗佈含樹脂成分之水系塗覆液的步驟(2) 步驟(2)，係對前述步驟(1)所準備之僅於偏光件1單面具有保護薄膜2的該單面保護偏光薄膜3，於其偏光件1面塗佈含樹脂成分的水系塗覆液。前述偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面，是前述步驟(1)所得單面保護偏光薄膜3之已剝離了輸送用薄膜的面。
前述偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面(偏光件1之無保護薄膜2之面)的水接觸角偏差值係於平均水接觸角±20°的範圍內。
前述水接觸角的偏差值，意指在偏光件1的任意位置當中取多處測出之各水接觸角對平均水接觸角的偏移幅度。具體上意指：在偏光件1的任意位置當中，於偏光件1之寬度方向測定25點之水接觸角、並於偏光件1之延伸方向(輸送方向)測定5點水接觸角，算出其等之平均値(平均水接觸角)，而所測出之各水接觸角係於前述平均水接觸角之±20°之範圍內。因此，舉例來說，若在偏光件1的任意位置於寬度方向測出的水接觸角平均値為90°時，其即意指於寬度方向所測出之各水接觸角是在90°±20°(70~110°)的範圍內。又，該操作可於偏光件1之多個任意位置進行。在此，偏光件1之寬度方向意指與偏光件1之延伸方向(輸送方向)垂直相交的方向。
前述水接觸角的偏差值係平均水接觸角±20°之範圍內，而平均水接觸角±15°之範圍內為佳，平均水接觸角±10°之範圍內較佳。本發明中，藉由令偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面(偏光件1之無保護薄膜2之面)的水接觸角偏差值在前述範圍內，可讓形成於該偏光件1上之透明樹脂層4的厚度產生不均缺陷的情況受到抑制，故即便曝置於加濕環境下亦能使辨視出外觀不均缺陷的情況受抑。
前述偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面的平均水接觸角沒有特別限定，惟從與水系塗覆液之親和性的觀點來看，係90°以下為佳，80°以下較佳，60°以下更佳。
偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面的前述水接觸角，係可利用偏光件1的材料、各種處理等來適當進行控制。有關各種處理等係如後述。
本發明所用之水系塗覆液含有樹脂成分，透明樹脂層4是由該水系塗覆液所形成。
前述水系塗覆液(以下亦稱形成材)，可舉如含有已溶解或分散於水中之樹脂成分的塗覆液。已溶解或分散於水中之樹脂成分，是指在常溫(25℃)下已溶解於水中的樹脂、使可溶於水之樹脂溶解於水系溶劑而成之物。本發明中，因使用水系塗覆液(水系或水分散系)，故與水接觸角偏差值經控制之偏光件1表面的親和性優良。又，在偏光件1表面有損傷部(形成透明樹脂層前在偏光件1表面出現的損傷部)存在的情形時，前述水系塗覆液會藉由偏光件1表面的膨潤而融入損傷部，故為有利。即，藉由使用水系塗覆液，能部分減輕構成偏光件1之該損傷部周邊之聚乙烯醇分子的配向性，同時可降低該損傷部周邊之硼酸含量，因此即使透明樹脂層4之厚度小(例如低於3μm、甚或更佳的2μm以下)，仍可有效抑制該損傷部的擴大。
前述樹脂成分的代表例可舉例如聚乙烯醇(PVA)系樹脂、聚(甲基)丙烯酸、聚丙烯醯胺、羥甲基化三聚氰胺樹脂、羥甲基化尿素樹脂、可溶酚醛型苯酚樹脂、聚環氧乙烷、羧甲基纖維素等。其等可單獨使用、亦可組合多個來使用。前述樹脂成分理想上係使用聚乙烯醇系樹脂、聚(甲基)丙烯酸、羥甲基化三聚氰胺。從與構成偏光件之聚乙烯醇系樹脂間的密著性此觀點來看，前述樹脂成分尤以聚乙烯醇系樹脂為宜。以下就使用了聚乙烯醇系樹脂的情形予以說明。
透明樹脂層4宜由含有聚乙烯醇系樹脂之形成材(塗覆液)所形成。形成透明樹脂層之聚乙烯醇系樹脂只要是「聚乙烯醇系樹脂」即可，無論是與偏光件所含有之聚乙烯醇系樹脂相同或相異均可。
前述聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇。聚乙烯醇是藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉如乙酸乙烯酯與具共聚性之單體的共聚物之皂化物。前述具共聚性之單體為乙烯時，係獲得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚性之單體可列舉如順丁烯二酸(酐)、延胡索酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類、乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)丙烯磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。
前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度舉例來說可使用95莫耳%以上者，但從滿足耐濕熱性及耐水性之觀點來看，皂化度宜為99莫耳%以上，更宜為99.7莫耳%以上。皂化度是顯示可因皂化而轉換成乙烯醇單元的單元中實際上皂化成乙烯醇單元的單元比率，殘基為乙烯酯單元。皂化度可依據JIS-K6726-1994來求得。
前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度可使用例如500以上者，惟由滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，平均聚合度係1000以上為佳，1500以上較佳，2000以上更佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係以JIS-K6726為準進行測定。
又前述聚乙烯醇系樹脂可使用：在前述聚乙烯醇或其共聚物的側鏈上具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基，可舉例如乙醯乙醯基、羰基等。其他方面，可使用將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺甲酸乙酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成的改質聚乙烯醇。
透明樹脂層4或水系塗覆液(固體成分)中聚乙烯醇系樹脂的比率係80重量%以上為佳，90重量%以上較佳，95重量%以上更佳。
前述水塗覆液，係經調製以作成已將前述聚乙烯醇系樹脂溶解於水系溶劑中的溶液。
前述水系溶劑可舉例如水、或水與水溶性有機溶劑構成的混合溶劑等，惟其等當中以僅由水構成之水系溶劑為佳。水可舉例如蒸餾水、離子交換水、超純水等。水溶性有機溶劑可舉如甲醇、乙醇、丙酮、1-丙醇、2-丙醇等。水系溶劑中含有水溶性有機溶劑時，水系溶劑中的水溶性有機溶劑含量係40重量%以下為佳，20重量%以下較佳，10重量%以下更佳。
前述形成材(例如水溶液)中，前述聚乙烯醇系樹脂之濃度雖無特別限制，但若考量塗佈性及存放穩定性等，則以0.1~15重量%為佳，0.5~10重量%較佳。
此外，前述塗覆液(例如水溶液)中可加入添加劑。前述添加劑可舉例如可塑劑、界面活性劑等。可塑劑可舉例如乙二醇及丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。此外亦可搭配矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、各種黏著賦與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等等。
前述塗覆液中，在偏光件1的表面有損傷部存在的情況下，低黏度的塗覆液容易浸透偏光件的損傷部故較為有利。前述黏度於25℃下的測値以2000mPa・s以下為佳，1000mPa・s以下較佳，500mPa・s以下更佳，100mPa・s以下尤佳。
前述水系塗覆液對單面保護偏光薄膜3之偏光件1面的塗佈，勿以使乾燥後之塗佈膜(透明樹脂層4)的厚度為0.2μm以上的方式進行。前述透明樹脂層4的厚度係0.5μm以上較佳，0.7μm以上更佳。另一方面，若透明樹脂層4變得過厚，光學可靠度與耐水性就會降低，因此透明樹脂層4的厚度以3μm以下為佳，低於3μm較佳，2μm以下更佳。
前述塗覆液之塗佈方法可採用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
(3)形成透明樹脂層的步驟(3) 步驟(3)中，係將步驟(2)所得之塗佈膜乾燥，形成透明樹脂層4。
乾燥溫度並無特別限定，通常為60~150℃左右，而80~120℃為佳，90~120℃較佳。又，乾燥時間以10~500秒為佳，20~400秒較佳。
本發明之製造方法中，由於前述偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面的水接觸角偏差值係經控制於特定範圍以內，因此在該偏光件1面上形成水系塗覆液之塗佈膜並經乾燥所得之透明樹脂層4其膜厚不均缺陷的發生可獲抑制，並可抑制其在加濕環境下發生外觀不均缺陷。
(4)其他步驟 本發明附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法中，在塗佈前述水系塗覆液之步驟(2)前宜包含選自於由下述步驟所構成群組中之1個以上步驟，如此將可控制前述偏光件1之欲形成透明樹脂層4之面的水接觸角偏差值： 於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面上貼合表面保護薄膜然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜剝離的；及 施以活性化處理。
(4-1)表面保護薄膜之貼附・剝離步驟 前述表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並隔著該黏著劑層來保護單面保護偏光薄膜3。該表面保護薄膜係供暫時性保護附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，在實際使用時則被剝離。
表面保護薄膜的基材薄膜，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂般透明的聚合物。其等之中又以聚酯系樹脂為佳。基材薄膜亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。基材薄膜的厚度，通常為500μm以下，宜為10~200μm。
可適當選擇並使用以(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等聚合物作為基底聚合物的黏著劑，作為形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，宜為以丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑。黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)，係因應所需黏著力來決定。通常為1~100μm左右，並宜為5~50μm。
此外，表面保護薄膜中，可在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料來設置剝離處理層。
表面保護薄膜亦可適宜使用市售物，例如可適宜使用東麗薄膜加工(股)製的TORETEC 7832C ＃30等。
又，貼合前述表面保護薄膜到剝離該表面保護薄膜為止的時間沒有特別限定，惟例如以1小時以上為佳，12小時以上較佳。
藉由在前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面(透明樹脂層4形成面)貼附並剝離前述表面保護薄膜，可抑制前述偏光件1之透明樹脂層4形成面的水接觸角偏差值故為佳。
(4-2)活性化處理步驟 前述活性化處理可舉如電暈處理及/或電漿處理。前述電暈處理可舉例如利用電暈處理機而在常壓空氣中進行放電的方式。電漿處理可舉例如利用電漿放電機而在常壓空氣中進行放電的方式。
前述電暈處理的電暈輸出功效沒有別沒限定，惟例如以0.5~8.0kW左右為佳，0.5~7.0kW左右較佳，0.5~6.0kW左右更佳。
前述電暈處理的處理速度則以5~100m/分左右為佳，5~90m/分左右較佳，5~80m/分左右更佳。
前述電漿處理中電漿輸出功率沒有特別限定，惟例如以0.5~5.0kW左右為佳，0.5~3.0kW左右較佳，0.5~1.5W程度更佳。
前述電漿處理的處理速度以5~100m/分左右為佳，5~90m/分左右較佳，5~80m/分左右更佳。
進行前述電暈處理或電漿處理時，可進行1次處理，惟進行2次以上處理較佳。又，電暈處理與電漿處理可兩者均進行。可舉例如在前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面(透明樹脂層4形成面)施以電暈處理，然後施以電漿處理，並於該處理面塗佈前述水系塗覆液的形態。
吾人認為經由前述電暈處理或電漿處理，會增加前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面(透明樹脂層4形成面)的親水性。因此，前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面(透明樹脂層4形成面)與水系塗覆液的親和性會提高，而水系塗覆液對前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面(透明樹脂層4形成面)的濕潤性會提升。又，利用前述電暈處理或電漿處理，亦可抑制偏光件1面(透明樹脂層4形成面)之水接觸角的偏差值。
本發明之製造方法中，宜於前述步驟(2)前單獨進行前述各種處理或將其組合進行。在組合進行的情況下，可舉例如下述方法： (組合1)於前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面貼合表面保護薄膜，然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜3剝離，然後對前述單面保護偏光薄膜3之表面保護薄膜剝離面施以活性化處理的方法；或 (組合2)對前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1面施以活性化處理，然後在前述單面保護偏光薄膜3之經活性化處理之面上貼合表面保護薄膜，然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜3剝離的方法等。
2.附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法 本發明附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，特徵在於具有下述步驟：在由前述任一製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層上，形成黏著劑層。
如圖2所示般，由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜11，特徵在於其係於前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜10的透明樹脂層4上進一步具有黏著劑層5。
(1) 黏著劑層 黏著劑層之形成方面可使用適當的黏著劑，就其種類並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑當中，又適宜使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
形成黏著劑層的方法，係可藉由例如下述方法來製作：將前述黏著劑塗佈在已作剝離處理的分離件等上，乾燥去除聚合溶劑等而形成了黏著劑層後，轉印至透明樹脂層4上的方法；或在透明樹脂層4塗佈前述黏著劑，乾燥去除聚合溶劑等而在透明樹脂層4上形成黏著劑層的方法等等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
宜使用聚矽氧剝離襯材作為經剝離處理的分離件。於此種襯材上塗佈黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，可因應目的而採用適宜且適切的方法來作為使黏著劑乾燥之方法。較佳是使用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，較佳為50℃~180℃，更佳為70℃~170℃。可藉由將加熱溫度設成上述範圍，而獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適當適切的時間。上述乾燥時間以5秒~20分為佳、5秒~10分較佳、10秒~5分更佳。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度沒有特別限制，舉例來說為1~100μm左右，並以2~50μm為佳，2~40μm較佳，5~35μm更佳。
前述黏著劑層露出時，在供實際使用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片物等等，惟從表面平滑性優良此點來看，宜採用塑膠薄膜。
作為該塑膠薄膜，只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm左右，並以5~100μm左右為佳。亦可視需要對前述分離件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高從前述黏著劑層離開的剝離性。
(2) 表面保護薄膜 可在本發明之偏光薄膜(包括附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜)設置表面保護薄膜。表面保護薄膜可舉如先前所述之物。
3.影像顯示裝置之製造方法 本發明之影像顯示裝置之製造方法，特徵在於其係使用由前述製造方法所得之附之透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、或由前述製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜來形成影像顯示裝置。
由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、或附黏著劑層之偏光薄膜，係可單獨應用、或將其與光學構件積層成光學積層體，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
前述光學構件並無特別限定，可使用1層或2層以上之諸如反射板或半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等的光學構牛。作為光學積層體，尤佳的是在本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜上進一步積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半透過型偏光薄膜，在本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜進一步積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜，在本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜上進一步積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜，或是在本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜上進一步積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
在由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜上積層有上述光學構件的光學積層體，雖可在液晶顯示裝置等的製造過程中以依序各別積層的方式形成，但預先積層成光學薄膜者在品質穩定性與組裝作業等方面較具優勢，有改善液晶顯示裝置等之製程的優點。在積層2層以上光學構件的情形時，可使用黏著劑層等適當的接著手段。前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜在進行接著時，其等之光學軸可因應目標相位差特性等而設置成適當的配置角度。
由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜抑或光學積層體，可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等等。液晶顯示裝置之製造方法可依循習知技術來進行。即，液晶顯示裝置一般係藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，在本發明中，除了使用本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜抑或光學積層體此點以外無特別限定，可依習知技術為準。液晶單元方面可使用例如IPS型、VA型等任意類型，惟以IPS型尤為適宜。
可形成如下述之適當的液晶顯示裝置：在液晶單元的單側或兩側配置有由本發明之製造方法所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜抑或光學積層體的液晶顯示裝置；照明系統使用背光或反射板者等適當的液晶顯示裝置。此情形時，由本發明之製造方法所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜抑或光學積層體，可設置於液晶單元的單側或兩側。於兩側設置本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜抑或光學積層體的情形時，其等可為相同亦可相異。此外，在形成液晶顯示裝置時，可以將例如擴散板、抗眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。
實施例 以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃ 65%R.H.。
製造例1(偏光件的製作) 於吸水率0.75%且玻璃轉移溫度(Tg)75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-co -PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上，施以電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度：4200 / 皂化度：99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(商品名：Gohsefimer Z200 / 聚合度：1200 / 乙醯乙醯基改質度：4.6% / 皂化度：99.0莫耳%以上 / 日本合成化學工業(股)製)的水溶液並進行乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作出積層體。 將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。 接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達所欲的穿透率。在本實施例中是使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水，摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 經由上述，獲得含厚度5μm偏光件的光學薄膜積層體。
製造例2(偏光件的製作) 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度30μm的聚乙烯醇薄膜浸漬在30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液中，一邊使其延伸到3.5倍一邊將薄膜染色。然後在65℃硼酸酯水溶液中進行延伸，以使總延伸倍率達6倍。延伸後，於40℃烘箱中進行3分鐘乾燥，製得PVA系偏光件。所得偏光件之厚度為12μm。
製造例3(單面保護偏光薄膜的製作) 使用易接著處理面已施以電暈處理之厚度40μm且具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜，作為保護薄膜。
將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光引發劑(商品名：IRGACURE　819，BASF公司製)3重量份摻混，調製紫外線硬化型接著劑。將其作為保護薄膜用接著劑。
在製造例1所得光學薄膜積層體的偏光件表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使其硬化後接著劑層厚度成為1μm的方式進行塗佈，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射作為活性能量線的紫外線使接著劑硬化。紫外線的照射，是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light　HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，而紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。非晶質IPA共聚PET薄膜基材並未剝離而維持原樣。使用了薄型偏光件的單面保護偏光薄膜(不包括非晶質IPA共聚PET薄膜基材)的總厚度為46μm。所得單面保護偏光薄膜之光學特性為單體穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜單體穿透率T及偏光度P＞ 使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所(股)之Dot-3c)，測定所得單面保護偏光薄膜的單體穿透率T及偏光度P。 此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的穿透率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。 偏光度P(%)＝｛(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)｝1/2×100 各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。
製造例4(形成透明樹脂層之塗覆液的製造) 將聚合度2500、皂化度99.7莫耳%的聚乙烯醇樹脂溶解於純水，調製固體成分濃度4重量%、黏度60mPa.s(25℃)的水溶液(塗覆液)。
＜黏度測定＞ 塗覆液的黏度是使用VISCOMETER R85型黏度計　RE85L(東機產業(股)製)以下述條件進行測定。 測定溫度：25℃ 旋轉數：0.5~100rpm 錐狀轉子：1°34‘×R24
實施例1(附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的製作) 從製造例3所得單面保護偏光薄膜將非晶質IPA共聚PET薄膜基材剝離，在業經剝除的偏光件上貼合表面保護薄膜(商品名：TORETEC 7832C ＃30，東麗加工薄膜公司製)。以此狀態放置24小時後，剝離表面保護薄膜，使用凹版輥在該偏光件之面(未設保護薄膜之偏光件面)上塗佈製造例4所得塗覆液(透明樹脂層之形成材)，使其厚度為25μm。塗佈後，使用氣浮式烘箱(floating oven)於95℃下熱風乾燥30秒，形成厚度1μm的透明樹脂層，製出附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
實施例2 實施例1中，從製造例3所得單面保護偏光薄膜剝離非晶質IPA共聚PET薄膜基材之後，對業經剝除之偏光件面施以電暈處理(放電量：0.038W・min/m2 ，輸出功率：2.0kW，處理速度：25m/min)。然後貼合表面保護薄膜(商品名：TORETEC 7832C ＃30，東麗加工薄膜(股)製)。除上述外，以和實施例1相同方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
實施例3 實施例1中，在剝離表面保護薄膜後，對業經剝除之偏光件面施以電暈處理(放電量：0.038W・min/m2 ，輸出功率：2.0kW，處理速度：25m/min)。然後貼合表面保護薄膜(商品名：TORETEC 7832C ＃30，東麗加工薄膜(股)製)。再將表面保護薄膜剝離，對該偏光件之面(未設保護薄膜之偏光件面)施以電漿處理(放電量：0.024W・min/m2 ，輸出功率：1.0kW，處理速度：20m/min)，以和實施例1相同的方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
實施例4 實施例1中，將表面保護薄膜剝離，對該偏光件之面(未設保護薄膜之偏光件面)施以電漿處理(放電量：0.024W・min/m2 ，輸出功率：1.0kW，處理速度：20m/min)，以和實施例1相同的方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
比較例1 實施例1中，從製造例3所得單面保護偏光薄膜剝離非晶質IPA共聚PET薄膜基材後，對業經剝除的偏光件面施以電漿處理(放電量：0.048W・min/m2 ，輸出功率：2.0kW，處理速度：20m/min)，以和實施例1相同的方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
比較例2 實施例1中，從製造例3所得之單面保護偏光薄膜剝離非晶質IPA共聚PET薄膜基材後，於業經剝除之偏光件面上塗覆製造例4所得之塗覆液(透明樹脂層之形成材)，除此之外，以和實施例1相同方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
參考例1 除了使用製造例2所得偏光件以外，以和製造例3相同方式製作單面保護偏光薄膜。 除了使用前述單面保護偏光薄膜以外，以和實施例1相同方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
使用實施例及比較例所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，進行以下的評價。評價結果係示於表1。
＜水接觸角＞ 實施例及比較例所用偏光件之透明樹脂層形成面的水接觸角，是使用共和界面化學(股)製DM-501進行測定，且施作液量設為3μL而測定為止之等待時間設為1000ms。 又，前述水接觸角，是在偏光件的任意多處位置中，於偏光件寬度方向25點且延伸方向(輸送方向)5點測定水接觸角，評價寬度方向之平均水接觸角、及水接觸角的偏差值。此外，水接觸角會隨時間經過而發生變化，故於電漿處理或電暈處理後即刻(具體上為5分鐘以內)進行測定。
＜平均膜厚＞ 實施例及比較例中，塗覆水系塗覆液(透明樹脂層之形成材)而形成的塗佈膜之膜厚係使用光學分光器(Ocean optics公司製USB2000＋，光源：HL-2000，光纖：ZFQ-12796(200μm反射纖))進行測定。測定條件如下，測定係於偏光件之寬度方向25點且延伸方向(輸送方向)5點進行測定，並求取平均値。 (測定條件) 測定波長：450nm~800nm 透明樹脂層折射率：1.51
＜膜厚偏差值＞ 使用光學分光器(Ocean optics公司製USB2000＋，光源：HL-2000，光纖：ZFQ-12796(200μm反射纖))，測定實施例及比較例中塗覆水系塗覆液(透明樹脂層之形成材)而形成的塗佈膜之膜厚偏差值。以1mm間距測定1200mm×100mm尺寸的試樣，評價膜厚偏差值。圖3(a)、(b)及(c)係分別就實施例1、3及比較例1表示100mm(吸收軸方向，圖之縱向)×100mm(穿透軸方向，圖之橫向)的面內膜厚偏差值結果。 (測定條件) 測定波長：450nm~800nm 透明樹脂層折射率：1.51
＜加濕環境試驗(外觀不均缺陷視辨確認)＞ 將實施例及比較例所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜裁切成300mm(吸收軸方向)×300mm(穿透軸方向)的尺寸。準備2片該單面保護偏光薄膜(試樣)，以使其等之吸收軸成直交狀態的方式貼附在無鹼玻璃的兩面，製作出加濕環境試驗用試樣。將所得之加濕環境試驗用試樣投入加濕環境(60℃/90%RH之環境)下300小時。然後將加濕環境試驗用試樣置於背光單元(均勻發光面照明，TWN系列，AITECHSYSTEM公司製)上，確認外觀不均缺陷的視辨性。圖4(a)、(b)及(c)分別為實施例1、3及比較例1觀察外觀不均缺陷之視辨性的照片。 〇：未視辨出外觀不均缺陷。 ×：視辨出外觀不均缺陷。
表1
Figure TW201801926AD00001
實施例1~4中，偏光件之透明樹脂層形成面的水接觸角偏差值為平均水接觸角±20°，水接觸角之偏差值低故所得透明樹脂層之膜厚偏差值低，加濕環境試驗後的外觀不均缺陷受到抑制。另一方面，偏光件之透明樹脂層形成面之水接觸角偏差值高的比較例1和2，所得透明樹脂層之膜厚偏差值高，而加濕環境試驗後有外觀不均缺陷發生。又，在參考例1中，偏光件厚度為12μm故即便水接觸角之偏差值高，加濕環境試驗後仍未視辨出外觀不均缺陷。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧保護薄膜
3‧‧‧單面保護偏光薄膜
4‧‧‧透明樹脂層
5‧‧‧黏著劑層
10‧‧‧附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜
11‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
A‧‧‧偏光薄膜之寬度方向
圖1為由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的示意性剖面圖一例。 圖2為由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜的示意性剖面圖一例。 圖3為使用干渉式光學膜厚計測定(a)實施例1、(b)實施例3、(c)比較例1所得透明樹脂層之膜厚偏差值之圖。 圖4為對(a)實施例1、(b)實施例3、(c)比較例1所得加濕環境試驗用試樣觀察外觀不均缺陷之視辨性的照片。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧保護薄膜
3‧‧‧單面保護偏光薄膜
4‧‧‧透明樹脂層
10‧‧‧附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜
A‧‧‧偏光薄膜之寬度方向

Claims (8)

  1. 一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，特徵在於：所述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及已設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面上的透明樹脂層，且該製造方法依序包含下述步驟： 步驟(1)，準備僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜； 步驟(2)，在前述單面保護偏光薄膜之偏光件面塗佈含樹脂成分的水系塗覆液；以及 步驟(3)，將所得塗佈膜乾燥而形成透明樹脂層；並且， 前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下， 前述偏光件之欲形成透明樹脂層之面的水接觸角偏差值在平均水接觸角±20°之範圍內。
  2. 如請求項1之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中在前述塗佈水系塗覆液的步驟(2)之前依序包含下述步驟： 於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面貼合表面保護薄膜，然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜剝離；以及， 於前述單面保護偏光薄膜之表面保護薄膜剝離面施以活性化處理。
  3. 如請求項1之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中在前述塗佈水系塗覆液的步驟(2)之前依序包含下述步驟： 對前述單面保護偏光薄膜之偏光件面施以活性化處理；以及， 於前述單面保護偏光薄膜之經活性化處理之面貼合表面保護薄膜，然後將該表面保護薄膜從前述單面保護偏光薄膜剝離。
  4. 如請求項1至3中任一項之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述活性化處理為電暈處理及/或電漿處理。
  5. 如請求項1至4中任一項之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述水接觸角偏差值係於平均水接觸角±15°之範圍內。
  6. 如請求項1至5中任一項之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述平均水接觸角為90°以下。
  7. 一種附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，特徵在於具有下述步驟：在由如請求項1至6中任一項之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層上，形成黏著劑層。
  8. 一種影像顯示裝置之製造方法，特徵在於其係使用由如請求項1至6中任一項之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、或由如請求項7之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜來形成。
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