JPWO2007032304A1 - 光学補償層付偏光板、光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

薄型化に寄与し、耐久性が高く、カラーシフトが小さく、色ムラが少なく、黒表示における光漏れを良好に防止してコントラストが向上し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、画像表示装置を提供する。本発明の光学補償層付偏光板は、偏光板と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に有し、該偏光板が、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、特定の構造単位を含んでなるアクリル樹脂を含む偏光子保護フィルムを有し、該第１の光学補償層が、λ／２板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度αが＋８°〜＋３８°または−８°〜−３８°であり、面内位相差Δｎｄ１が１８０〜３００ｎｍであり、該第２の光学補償層が、λ／４板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第２の光学補償層の遅相軸とのなす角度βが＋６１°〜＋１２１°または−３１°〜＋２９°であり、面内位相差Δｎｄ２が９０〜１８０ｎｍである。

Description

本発明は、光学補償層付偏光板、光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、および画像表示装置に関する。より詳細には、本発明は、薄型化に寄与し、耐久性が高く、カラーシフトが小さく、色ムラが少なく、黒表示における光漏れを良好に防止してコントラストが向上し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、画像表示装置に関する。

ＶＡモードの液晶表示装置として、透過型液晶表示装置および反射型液晶表示装置に加えて、半透過反射型液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。半透過反射型液晶表示装置は、明るい場所では反射型液晶表示装置と同様に外光を利用し、暗い場所ではバックライト等の内部光源により表示を視認可能としている。言い換えれば、半透過反射型液晶表示装置は、反射型および透過型を兼ね備えた表示方式を採用しており、周囲の明るさに応じて反射モード、透過モードのいずれかの表示モードに切り替える。その結果、半透過型反射型液晶表示装置は、消費電力を低減しつつ周囲が暗い場所でも明瞭な表示を行うことができるので、例えば、携帯機器の表示部に好適に利用されている。

このような半透過型反射型液晶表示装置の具体例としては、例えば、アルミニウム等の金属膜に光透過用の窓部を形成した反射膜を下基板の内側に備え、この反射膜を半透過反射板として機能させる液晶表示装置が挙げられる。このような液晶表示装置においては、反射モードの場合には、上基板側から入射した外光が、液晶層を通過した後に、下基板内側の反射膜で反射され、再び液晶層を通過して上基板側から出射されて表示に寄与する。一方、透過モードの場合には、下基板側から入射したバックライトからの光が、反射膜の窓部を通って液晶層を通過した後、上基板側から出射されて表示に寄与する。したがって、反射膜形成領域のうち、窓部が形成された領域が透過表示領域となり、その他の領域が反射表示領域となる。しかし、従来の反射型または半透過反射型のＶＡモードの液晶表示装置においては、カラーシフトや色ムラが生じるという問題や、黒表示における光漏れが生じてコントラストが低下するという問題があり、これまで長く解決されていない。また、薄型化を図った場合に耐久性の点で十分ではない。
特開平１１−２４２２２６号公報 特開２００１−２０９０６５号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、薄型化に寄与し、耐久性が高く、カラーシフトが小さく、色ムラが少なく、黒表示における光漏れを良好に防止してコントラストが向上し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、画像表示装置を提供することである。

本発明の光学補償層付偏光板は、偏光板と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に有し、
該偏光板が、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、下記一般式（１）で表される構造単位と下記一般式（２）で表される構造単位とを含んでなるアクリル樹脂を含む偏光子保護フィルムを有し、

（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜５の脂肪族または脂環式炭化水素基を表す。）

（一般式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）
該第１の光学補償層が、λ／２板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度αが＋８°〜＋３８°または−８°〜−３８°であり、面内位相差Δｎｄ_１が１８０〜３００ｎｍであり、
該第２の光学補償層が、λ／４板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第２の光学補償層の遅相軸とのなす角度βが＋６１°〜＋１２１°または−３１°〜＋２９°であり、面内位相差Δｎｄ_２が９０〜１８０ｎｍである。

好ましい実施形態においては、上記偏光子保護フィルムが、波長５９０ｎｍの光に対する面内位相差Δｎｄが１０ｎｍ以下であり、波長５９０ｎｍの光に対する厚み方向位相差Ｒｔｈが１０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの光に対する光弾性係数が−２×１０^−１２〜２×１０^−１２Ｐａ^−１である。

好ましい実施形態においては、上記一般式（２）におけるＲ^３がメチル基、Ｒ^４がメチル基である。

好ましい実施形態においては、上記偏光子保護フィルムのガラス転移温度が１１０℃以上である。

好ましい実施形態においては、上記偏光子保護フィルムの透湿度が３〜１００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒである。

好ましい実施形態においては、上記偏光子保護フィルムの厚みが、５〜１００μｍである。

好ましい実施形態においては、上記偏光板の、６０℃／９５％ＲＨ下で４９２時間保持した後の下記式（Ａ）で定義される偏光度変化率が−０．５〜０．０％である。
偏光度変化率（％）＝｛（Ｐ_ｔ−Ｐ_０）／Ｐ_０｝×１００ （Ａ）
Ｐ_０：初期偏光度
Ｐ_ｔ：ｔ時間後の偏光度

好ましい実施形態においては、上記偏光板の、６０℃／９５％ＲＨ下で４９２時間保持した後の下記式（Ｂ）で定義される透過率変化率が０．０〜２．５％である。
透過率変化率（％）＝｛（Ｙ_ｔ−Ｙ_０）／Ｙ_０｝×１００ （Ｂ）
Ｙ_０：初期透過率
Ｙ_ｔ：ｔ時間後の透過率

好ましい実施形態においては、上記偏光板の、８０℃下で４８時間保持した後の下記式（Ｃ）で定義されるＲｔｈ変化率が−２．０〜０．０％である。
Ｒｔｈ変化率（％）＝｛（Ｒｔｈ_ｔ−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００ （Ｃ）
Ｒｔｈ_０：初期Ｒｔｈ
Ｒｔｈ_ｔ：ｔ時間後のＲｔｈ

好ましい実施形態においては、上記偏光板の、６０℃／９０％ＲＨ下で４８時間保持した後の下記式（Ｄ）で定義されるＲｔｈ変化率が−２．５〜０．０％である。
Ｒｔｈ変化率（％）＝｛（Ｒｔｈ_ｔ−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００ （Ｄ）
Ｒｔｈ_０：初期Ｒｔｈ
Ｒｔｈ_ｔ：ｔ時間後のＲｔｈ

好ましい実施形態においては、上記偏光子の片面に上記偏光子保護フィルムを有し、もう一方の面にセルロース系樹脂フィルムを有する。

好ましい実施形態においては、上記偏光子の両面に上記偏光子保護フィルムを有する。

好ましい実施形態においては、上記偏光子保護フィルムと上記偏光子との間に易接着層および接着剤層を有する。

好ましい実施形態においては、上記接着剤層が、ポリビニルアルコール系接着剤から形成される層である。

好ましい実施形態においては、最外層の少なくとも一方として粘着剤層をさらに有する。

好ましい実施形態においては、最外層の一方にハードコート層をさらに有する。

好ましい実施形態においては、最外層の一方に輝度向上フィルムをさらに有する。

本発明の別の局面によれば、液晶パネルが提供される。本発明の液晶パネルは、液晶セルの少なくとも片面に、本発明の光学補償層付偏光板を有する。

好ましい実施形態においては、上記液晶セルが、反射型または半透過型のＶＡモードである。

本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。本発明の画像表示装置は、本発明の液晶パネルを含む。

本発明によれば、薄型化に寄与し、耐久性が高く、カラーシフトが小さく、色ムラが少なく、黒表示における光漏れを良好に防止してコントラストが向上し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、画像表示装置を提供することができる。

このような効果は、光学補償層付偏光板として、偏光板と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に有するようにし、偏光板として、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、特定の構造単位を含んでなるアクリル樹脂を含む偏光子保護フィルムを有するものを採用し、該第１の光学補償層が、λ／２板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度αおよび面内位相差Δｎｄ_１を所定の範囲内に収め、該第２の光学補償層が、λ／４板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第２の光学補償層の遅相軸とのなす角度βおよび面内位相差Δｎｄ_２を所定の範囲内に収めることで発現できる。

本発明の好ましい実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。 本発明の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図である。 本発明における好ましい製造方法の一例における一つの工程の概略を示す斜視図である。 本発明における好ましい製造方法の一例における別の工程の概略を示す斜視図である。 本発明における好ましい製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示す模式図である。 本発明における好ましい製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示す模式図である。 本発明における好ましい製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示す模式図である。 本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。 本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。

符号の説明

１２ 第１の光学補償層
１２´ 第１の光学補償層
１３ 第２の光学補償層
１３´ 第２の光学補償層
２０ 液晶セル
２１ ガラス基板
２１´ ガラス基板
２２ 液晶層
２３ 反射電極
２４ スペーサー
３０ 偏光板
３１ 偏光子
３１´ 偏光子
３２ 接着剤層
３２´ 接着剤層
３３ 易接着層
３３´ 易接着層
３４ 偏光子保護フィルム
３４´ 偏光子保護フィルム
３５ 接着剤層
３５´ 接着剤層
３６ 偏光子保護フィルム
３６´ 偏光子保護フィルム
３７ 粘着剤層
３７´ 粘着剤層
３８ 粘着剤層
３８´ 粘着剤層
３９ 易接着層
３９´ 易接着層
４０ 導光板
５０ 光源
６０ リフレクター
１００ 液晶パネル
２００ 液晶表示装置
３００ 光学補償層付偏光板
３００´ 光学補償層付偏光板
４００ 輝度向上フィルム
５００ ハードコート層

以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学補償層付偏光板の全体的な偏光特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Δｎｄ」は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Δｎｄは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）本明細書に記載される用語や記号に付される添え字の「１」は第１の光学補償層を表し、添え字の「２」は第２の光学補償層を表す。
（５）「λ／２板」とは、ある特定の振動方向を有する直線偏光を、当該直線偏光の振動方向とは直交する振動方向を有する直線偏光に変換したり、右円偏光を左円偏光に（または、左円偏光を右円偏光に）変換したりする機能を有するものをいう。λ／２板は、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）の面内の位相差値が約１／２である。
（６）「λ／４板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）の面内の位相差値が約１／４である。

Ａ．光学補償層付偏光板
Ａ−１．光学補償層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。図１に示すように、この光学補償層付偏光板３００は、偏光板３０と第１の光学補償層１２と第２の光学補償層１３とをこの順に有する。

光学補償層付偏光板の各層は、任意の適切な粘着剤層または接着剤層（図示せず）を介して積層されている。

本発明の光学補償層付偏光板の全体の厚みは、好ましくは９０〜１９０μｍであり、より好ましくは９０〜１７０μｍ、さらに好ましくは９０〜１５０μｍである。したがって、本発明は、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）の薄型化に大きく貢献し得る。

Ａ−２．偏光板
本発明における偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、下記一般式（１）で表される構造単位と下記一般式（２）で表される構造単位とを含んでなるアクリル樹脂を含む偏光子保護フィルムを有する。

（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜５の脂肪族または脂環式炭化水素基を表す。）

（一般式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）

本発明における偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、本発明における偏光子保護フィルムを有し、６０℃／９５％ＲＨ下で４９２時間保持した後の下記式（Ａ）で定義される偏光度変化率が−０．５〜０．０％である。
偏光度変化率（％）＝｛（Ｐ_ｔ−Ｐ_０）／Ｐ_０｝×１００ （Ａ）
Ｐ_０：初期偏光度
Ｐ_ｔ：ｔ時間後の偏光度

上記偏光度変化率は、好ましくは−０．４５〜０．００％、より好ましくは−０．４０〜０．００％、さらに好ましくは−０．３５〜０．００％、特に好ましくは−０．３０〜０．００％である。

上記偏光度変化率が−０．５〜０．０％であることによって、加熱・加湿耐久性に優れた偏光板とすることが可能となる。このように加熱・加湿耐久性に優れた偏光板は、本発明における偏光子保護フィルムを用いることによって提供することが可能となる。

本発明における偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、本発明における偏光子保護フィルムを有し、６０℃／９５％ＲＨ下で４９２時間保持した後の下記式（Ｂ）で定義される透過率変化率が０．０〜２．５％である。
透過率変化率（％）＝｛（Ｙ_ｔ−Ｙ_０）／Ｙ_０｝×１００ （Ｂ）
Ｙ_０：初期透過率
Ｙ_ｔ：ｔ時間後の透過率

上記透過率変化率は、好ましくは０．０〜２．３％、より好ましくは０．０〜２．１％、さらに好ましくは０．０〜２．０％である。

上記透過率変化率が０．０〜２．５％であることによって、加熱・加湿耐久性に優れた偏光板とすることが可能となる。このように加熱・加湿耐久性に優れた偏光板は、本発明における偏光子保護フィルムを用いることによって提供することが可能となる。

本発明における偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、本発明における偏光子保護フィルムを有し、８０℃下で４８時間保持した後の下記式（Ｃ）で定義されるＲｔｈ変化率が−２．０〜０．０％である。
Ｒｔｈ変化率（％）＝｛（Ｒｔｈ_ｔ−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００ （Ｃ）
Ｒｔｈ_０：初期Ｒｔｈ
Ｒｔｈ_ｔ：ｔ時間後のＲｔｈ

上記Ｒｔｈ変化率は、好ましくは−１．５〜０．０％、より好ましくは−１．２〜０．０％、さらに好ましくは−１．０〜０．０％である。

上記Ｒｔｈ変化率が−２．０〜０．０％であることによって、加熱耐久性に優れた偏光板とすることが可能となる。このように加熱耐久性に優れた偏光板は、本発明における偏光子保護フィルムを用いることによって提供することが可能となる。

本発明における偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、本発明における偏光子保護フィルムを有し、６０℃／９０％ＲＨ下で４８時間保持した後の下記式（Ｄ）で定義されるＲｔｈ変化率が−２．５〜０．０％である。
Ｒｔｈ変化率（％）＝｛（Ｒｔｈ_ｔ−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００ （Ｄ）
Ｒｔｈ_０：初期Ｒｔｈ
Ｒｔｈ_ｔ：ｔ時間後のＲｔｈ

上記Ｒｔｈ変化率は、好ましくは−２．３〜０．０％、より好ましくは−２．２〜０．０％、さらに好ましくは−２．１〜０．０％である。

上記Ｒｔｈ変化率が−２．５〜０．０％であることによって、加熱・加湿耐久性に優れた偏光板とすることが可能となる。このように加熱・加湿耐久性に優れた偏光板は、本発明における偏光子保護フィルムを用いることによって提供することが可能となる。

好ましい実施形態の１つは、上記偏光子の片面に上記偏光子保護フィルムを有し、もう一方の面にセルロース系樹脂フィルムを有する。好ましい実施形態の１つは、上記偏光子の両面に上記偏光子保護フィルムを有する。

本発明の偏光板の好ましい実施形態の１つは、図２に示すように、偏光子３１の一方の面が、接着剤層３２および易接着層３３を介して上記偏光子保護フィルム３４に接着されてなり、偏光子３１のもう一方の面が、接着剤層３５を介して偏光子保護フィルム３６に接着されてなる形態である。偏光子保護フィルム３６は上記偏光子保護フィルム３４と同種であってもよいし、別の任意の適切な偏光子保護フィルムであってもよい。

〔偏光子保護フィルム〕
本発明における上記アクリル樹脂を含む偏光子保護フィルムは、下記一般式（１）で表される構造単位と下記一般式（２）で表される構造単位とを含んでなるアクリル樹脂を含む。

（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜５の脂肪族または脂環式炭化水素基を表す。）

（一般式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）

一般式（１）で表される構造単位の好ましい具体例としては、対応するモノマーとして、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられる。これらは１種のみが用いられても良いし、２種以上が併用されても良い。これらの中でも、熱安定性に優れる点で、（メタ）アクリル酸メチルがより好ましく、メタクリル酸メチルが特に好ましい。すなわち、一般式（１）において、Ｒ^１がメチル基、Ｒ^２がメチル基であることが特に好ましい。

上記アクリル樹脂の構造中の一般式（１）で表される構造単位の含有割合は、好ましくは５０〜９５モル％、より好ましくは５５〜９０モル％、さらに好ましくは６０〜８５モル％、特に好ましくは６５〜８０モル％、最も好ましくは６５〜７５モル％である。上記含有割合が５０モル％より少ないと、一般式（１）で表される構造単位に由来して発現される効果、例えば、高い耐熱性、高い透明性が十分に発揮されないおそれがある。上記含有割合が９５モル％よりも多いと、樹脂が脆くて割れやすくなり、高い機械的強度が十分に発揮できず、生産性に劣るおそれがある。

上記アクリル樹脂の構造中の一般式（２）で表される構造単位の含有割合は、好ましくは５〜５０モル％、より好ましくは１０〜４５モル％、さらに好ましくは１５〜４０モル％、特に好ましくは２０〜３５モル％、最も好ましくは２５〜３５モル％である。上記含有割合が５モル％より少ないと、一般式（２）で表される構造単位に由来して発現される効果、例えば、高い光学的特性、高い機械的強度、偏光子との優れた接着性、薄型化が十分に発揮されないおそれがある。上記含有割合が５０モル％よりも多いと、例えば、高い耐熱性、高い透明性が十分に発揮されないおそれがある。

上記アクリル樹脂の構造中の一般式（２）で表される構造単位は、下記一般式（３）で表される構造単位中に含まれていることが好ましい。

（一般式（３）中、Ｒ^３、Ｒ^４は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）

一般式（２）および（３）中、Ｒ^３、Ｒ^４は、水素原子またはメチル基が好ましく、両方ともにメチル基であることがより好ましい。

上記アクリル樹脂中には、一般式（１）で表される構造単位および一般式（２）で表される構造単位以外のその他の構造単位を含んでいても良い。その他の構造単位としては、不飽和カルボン酸エステル単量体を重合して形成される構造単位であって一般式（１）で表される構造単位以外の構造単位（Ａ）や、その他のビニル系単量体を重合して形成される構造単位（Ｂ）などが挙げられる。

上記構造単位（Ａ）を形成する不飽和カルボン酸エステル単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−へキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられる。これらは、１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記構造単位（Ｂ）を形成するその他のビニル系単量体としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、アリルグリシジルエーテル、無水マレイン酸、無水イタコン酸、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル、Ｎ−ビニルジエチルアミン、Ｎ−アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン、２−イソプロペニル−オキサゾリン、２−ビニル−オキサゾリン、２−アクロイル−オキサゾリン、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−グリシジルスチレン、ｐ−アミノスチレン、２−スチリル−オキサゾリンなどが挙げられる。これらは、１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記構造単位（Ｂ）の中でも、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系構造単位の含有濃度を０〜１重量％とすることが好ましく、より好ましくは０〜０．１重量％である。スチレン系構造単位の含有濃度を０〜１重量％とすることで、位相差の悪化および透明性の低下を防ぐことができる。

上記アクリル樹脂中には、不飽和カルボン酸由来の構造単位を０〜１０重量％含有することが好ましく、０〜５重量％含有することがより好ましく、０〜１重量％含有することがさらに好ましい。上記アクリル樹脂中における不飽和カルボン酸由来の構造単位を１０重量％以下とすることによって、無色透明性、滞留安定性、耐湿性を維持することができる。

上記アクリル樹脂は、重量平均分子量が、好ましくは１０００〜２００００００、より好ましくは５０００〜１００００００、さらに好ましくは１００００〜５０００００、特に好ましくは５００００〜５０００００、最も好ましくは６００００〜１５００００である。重量平均分子量が上記範囲から外れると、本発明の効果が十分に発揮できないおそれがある。

上記アクリル樹脂は、Ｔｇ（ガラス転移温度）が、好ましくは１１０℃以上、より好ましくは１１５℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上、特に好ましくは１２５℃、最も好ましくは１３０℃以上である。Ｔｇが１１０℃以上であることにより、例えば、最終的に偏光板に組み入れた場合に、耐久性に優れたものとなり易い。上記アクリル樹脂のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性等の点から、好ましくは３００℃以下、より好ましくは２９０℃以下、さらに好ましくは２８５℃以下、特に好ましくは２００℃以下、最も好ましくは１６０℃以下である。

上記アクリル樹脂は、射出成形により得られる成形品の、ＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準じた方法で測定される全光線透過率が、高ければ高いほど好ましく、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率が８５％未満であると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できないおそれがある。

上記アクリル樹脂は、高光透過率、面内位相差Δｎｄや厚み方向位相差Ｒｔｈが低いものが好ましい。

本発明における上記偏光子保護フィルム中の上記アクリル樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００重量％、より好ましくは６０〜１００重量％、さらに好ましくは７０〜１００重量％、特に好ましくは８０〜１００重量％である。本発明の偏光子保護フィルム中の上記アクリル樹脂の含有量が５０重量％未満の場合には、アクリル樹脂が本来有する高い耐熱性、高い透明性が十分に反映できないおそれがある。

本発明における偏光子保護フィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミドなどの他の熱可塑性樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹脂をさらに含有していてもよい。また、ヒンダードフェノール系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系などの紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤、高級脂肪酸、酸エステル系、酸アミド系、高級アルコールなどの滑剤あるいは可塑剤、モンタン酸、その塩、そのエステル、そのハーフエステル、ステアリルアルコール、ステアラミドおよびエチレンワックスなどの離型剤、亜リン酸塩、次亜リン酸塩などの着色防止剤、ハロゲン系あるいはリン系やシリコーン系の非ハロゲン系の難燃剤、核剤、アミン系、スルホン酸系、ポリエーテル系などの帯電防止剤、顔料などの着色剤、等の添加剤を含有していてもよい。ただし、適用する用途が要求する特性に照らし、本発明の偏光子保護フィルムの透明性が低下しない範囲で添加するのが好ましい。具体的には、アクリル樹脂およびアクリル弾性体粒子以外の樹脂や添加剤の、本発明における偏光子保護フィルムに対する総含有量としては１０重量％以下とするのが好ましい。

本発明における上記偏光子保護フィルム中には、耐候性を付与するために、紫外線吸収剤が含まれていることが特に好ましい。紫外線吸収剤の融点は、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上がより好ましい。紫外線吸収剤の融点が１３０℃以上であれば、加熱溶融加工時の揮発が少なく、フィルム製造時のロール汚れを発生し難い。

紫外線吸収剤の種類は、特に限定されないが、分子量４００以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、分子量４００以上のトリアジン系紫外線吸収剤が特に好ましい。市販品としては、例えば、「チヌビン１５７７」（チバスペシャリティーケミカルズ社製）、「アデカスタブＬＡ−３１」（旭電化工業社製）等が挙げられる。

本発明における上記偏光子保護フィルムの光学特性として、正面および厚み方向の位相差の大きさが問題となる。そのため、本発明における偏光子保護フィルム中には、位相差低減剤が含まれていても良い。位相差低減剤としては、例えば、アクリロニトリル−スチレンブロック共重合体、アクリロニトリル−スチレンブロック共重合体コポリマーなど、スチレン含有ポリマーが好ましい。位相差低減剤の添加量としては、上記ポリメチルメタクリレート系樹脂に対し、３０重量％以下であることが好ましく、より好ましくは２５重量％以下、さらに好ましくは２０重量％以下である。この範囲を超えて添加した場合、可視光線を散乱させたり、透明性を損なったりするため、偏光子保護フィルムとしての特性に欠けてしまうおそれがある。

本発明における偏光子保護フィルム中には、上記アクリル樹脂以外に、アクリル弾性体粒子を含有していても良い。偏光子保護フィルム中にアクリル弾性体粒子が分散されていることにより、偏光子保護フィルムとして優れた靱性を得ることができる。

アクリル弾性体粒子は、ゴム質重合体を含むことが好ましい。ゴム質重合体は、原料モノマーとして、アクリル酸エチルやアクリル酸ブチルなどのアクリル成分を必須成分とし、その他に好ましく含まれる成分として、ジメチルシロキサンやフェニルメチルシロキサンなどのシリコーン成分、スチレンやα−メチルスチレンなどのスチレン成分、アクリロニトリルやメタクリロニトリルなどのニトリル成分、ブタジエンやイソプレンなどの共役ジエン成分、ウレタン成分、エチレン成分、プロピレン成分、イソブテン成分などを挙げることができる。これらの中でも、アクリル成分、シリコーン成分、スチレン成分、ニトリル成分、共役ジエン成分から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。ゴム質重合体は、原料モノマー（好ましくは上記各成分）の単独重合体を含んでいても良いし、２種以上の原料モノマーの共重合体を含んでいても良いし、それらの両方を含んでいても良い。より好ましくは、上記の成分を２種以上組み合わせたゴム質重合体であり、例えば、アクリル成分およびシリコーン成分を含むゴム質重合体、アクリル成分およびスチレン成分を含むゴム質重合体、アクリル成分および共役ジエン成分を含むゴム質重合体、アクリル成分、シリコーン成分およびスチレン成分を含むゴム質重合体などが挙げられる。

ゴム質重合体には、上記成分の他に、ジビニルベンゼン、アリルアクリレート、ブチレングリコールジアクリレートなどの架橋性成分を含むものも好ましい。

ゴム質重合体として、アクリル酸アルキルエステル単位と芳香族ビニル系単位との組み合わせを有する重合体を含むことが好ましい。アクリル酸アルキルエステル単位、中でも、アクリル酸ブチルは、靱性向上に極めて効果的であり、これに芳香族ビニル系単位、例えばスチレンを共重合させることによって、アクリル弾性体粒子の屈折率を調節することができる。

アクリル弾性体粒子とアクリル樹脂の屈折率差は、０．０１以下であることが好ましい。本発明における偏光子保護フィルムにおいて高い透明性を得ることができるからである。このように、アクリル弾性体粒子とアクリル樹脂の屈折率差を０．０１以下にするための方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、アクリル樹脂を構成する各単量体単位の組成比を調整する方法、アクリル弾性体粒子に含まれるゴム質重合体や各単量体の組成比を調整する方法などが挙げられる。特に、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸アルキルエステルにスチレンなどの芳香族ビニル系単位を共重合し、その共重合比率を調整することによって、アクリル樹脂との屈折率差が小さなアクリル弾性体粒子を得ることができる。

アクリル弾性体粒子の平均粒子径としては、好ましくは７０〜３００ｎｍ、より好ましくは１００〜２００ｎｍである。７０ｎｍ未満の場合は靱性の改良効果が十分とならないおそれがあり、３００ｎｍより大きい場合は耐熱性が低下してしまうおそれがある。

本発明における偏光子保護フィルム中のアクリル弾性体粒子の含有量としては、好ましくは７〜４０重量％、より好ましくは１２重量％〜２０重量％である。７重量％未満の場合は靱性の改良工化が十分とならないおそれがあり、４０重量％を越える場合は耐熱性が低下するおそれがある。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、縦延伸および／または横延伸によって延伸されていてもよい。

上記延伸は、縦延伸のみによる延伸（自由端一軸延伸）でも良いし、横延伸のみによる延伸（固定端一軸延伸）でも良いが、縦延伸倍率が１．１〜３．０倍、横延伸倍率が１．１〜３．０倍の、逐次延伸または同時二軸延伸であることが好ましい。縦延伸のみによる延伸（自由端一軸延伸）や横延伸のみによる延伸（固定端一軸延伸）では、延伸方向にのみフィルム強度が上がり、延伸方向に対して直角方向には強度がアップせず、フィルム全体として十分なフィルム強度が得られないおそれがある。上記縦延伸倍率は、より好ましくは１．２〜２．５倍、さらに好ましくは１．３〜２．０倍である。上記横延伸倍率は、より好ましくは１．２〜２．５倍、さらに好ましくは１．４〜２．０倍である。縦延伸倍率、横延伸倍率が１．１倍未満の場合、延伸倍率が低すぎて、延伸の効果がほとんどないおそれがある。縦延伸倍率、横延伸倍率が３．０倍を超えると、フィルム端面の平滑性の問題により、延伸切れが生じやすい。

上記延伸温度は、延伸させるフィルムのＴｇ〜（Ｔｇ＋３０℃）が好ましい。上記延伸温度がＴｇより低いと、フィルムが破断してしまうおそれがある。上記延伸温度が（Ｔｇ＋３０℃）を超えると、フィルムが溶融し始めて通紙が困難になるおそれがある。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、縦延伸および／または横延伸によって延伸されてなることにより、優れた光学的特性を有するとともに、機械的強度にも優れ、生産性やリワーク性が向上する。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、面内位相差Δｎｄが３．０ｎｍ以下、厚み方向位相差Ｒｔｈが１０．０ｎｍ以下、引裂き強度が２．０Ｎ／ｍｍ以上であることが好ましい。面内位相差Δｎｄ、厚み方向位相差Ｒｔｈ、引裂き強度が、これらの範囲にあることによって、優れた光学的特性と優れた機械的強度とを両立できる。

本発明における上記偏光子保護フィルムにおいては、面内位相差Δｎｄは、小さければ小さいほどよく、好ましくは２．０ｎｍ以下、より好ましくは１．５ｎｍ以下、さらに好ましくは１．０ｎｍ以下である。上記面内位相差Δｎｄが３．０ｎｍを超えると、本発明の効果、特に、優れた光学的特性が発揮されないおそれがある。厚み方向位相差Ｒｔｈは、小さければ小さいほどよく、好ましくは７．０ｎｍ以下、より好ましくは５．０ｎｍ以下、さらに好ましくは３．０ｎｍ以下である。上記厚み方向位相差Ｒｔｈが１０．０ｎｍを超えると、本発明の効果、特に、優れた光学的特性が発揮されないおそれがある。

本発明における偏光子保護フィルムにおいては、波長５５０ｎｍの光に対する光弾性係数が、好ましくは−２×１０^−１２〜２×１０^−１２Ｐａ^−１であり、より好ましくは−１×１０^−１２〜１×１０^−１２Ｐａ^−１である。波長５５０ｎｍの光に対する光弾性係数が上記範囲内にあることによって、本発明の効果、特に、優れた光学的特性を発揮することができる。なお、波長５５０ｎｍの光に対する光弾性係数は、例えば、分光エリプソメーター（日本分光（株）製 製品名「Ｍ−２２０」）を用いて、サンプル（サイズ２ｃｍ×１０ｃｍ）の両端を挟持して応力（５〜１５Ｎ）をかけながら、サンプル中央の位相差値（２３℃／波長５５０ｎｍ）を測定し、応力と位相差値の関数の傾きから算出することができる。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、好ましくは、優れた機械的強度をも有する。引張強度は、ＭＤ方向において、好ましくは６５Ｎ／ｍｍ^２以上、より好ましくは７０Ｎ／ｍｍ^２以上、さらに好ましくは７５Ｎ／ｍｍ^２以上、特に好ましくは８０Ｎ／ｍｍ^２以上であり、ＴＤ方向において、好ましくは４５Ｎ／ｍｍ^２以上、より好ましくは５０Ｎ／ｍｍ^２以上であり、さらに好ましくは５５Ｎ／ｍｍ^２以上、特に好ましくは６０Ｎ／ｍｍ^２以上である。引張伸びは、ＭＤ方向において、好ましくは６．５％以上、より好ましくは７．０％以上、さらに好ましくは７．５％以上、特に好ましくは８．０％以上であり、ＴＤ方向において、好ましくは５．０％以上、より好ましくは５．５％以上、さらに好ましくは６．０％以上、特に好ましくは６．５％以上である。引張強度あるいは引張伸びが上記範囲を外れる場合は、優れた機械的強度が発揮されないおそれがある。なお、引張強度あるいは引張伸びは、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７１１３に従って測定し得る。

本発明における上記偏光子保護フィルムにおいては、透湿度が、好ましくは３〜１００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ、より好ましくは５〜６０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒである。上記透湿度が１００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒを超えると、耐湿性に劣るおそれがある。上記透湿度が３ｇ／ｍ^２・２４ｈ未満の場合、接着性に劣るおそれがある。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、光学的透明性を表すヘイズが、低ければ低いほどよく、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは２％以下、さらに好ましくは１．５％以下、特に好ましくは１％以下である。ヘイズが５％以下であると、フィルムに良好なクリヤー感を視覚的に与えることができ、さらに１．５％以下とすると、窓等の採光部材として使用した時でも、視認性と採光性がともに得られるため、また、表示装置の前面板として使用した時でも、表示内容が良好に視認できるため、工業的利用価値が高い。このようにヘイズを低くするためには、例えば、アクリル樹脂とアクリル弾性体粒子との屈折率差を小さくすることが有効である。また、表面粗さも表面ヘイズとしてヘイズに影響するため、アクリル弾性体粒子の粒子径や添加量を制御したり、製膜時の冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材の表面粗さを小さくすることも有効である。

本発明における上記偏光子保護フィルムの厚みは、好ましくは１〜１００μｍであり、より好ましくは５〜１００μｍであり、さらに好ましくは１０〜４０μｍである。偏光子保護フィルムの厚みが１μｍ以上であると、適度な強度、剛性を有し、ラミネートや印刷等の二次加工時に取扱性が良好となる。また引取り時の応力により発生する位相差も制御が容易で、安定かつ容易にフィルム製造を行うことが可能である。偏光子保護フィルムの厚みが１００μｍ以下であると、フィルム巻き取りが容易になるほか、ライン速度、生産性、そしてコントロール性が容易になる。

本発明における偏光子保護フィルムは、高張力下１％変形温度が１００℃以上であることが好ましい。より好ましくは１１０℃以上である。ここでいう高張力下１％変形温度は、フィルム長手方向にサンプリングした初期長さ１５ｍｍ、幅４ｍｍのサンプルについて、張力１．５ＭＰａ下で２５℃より２０℃／分で昇温した際に、１％伸長したときの温度として測定される。当該温度が低いことは耐熱性に劣る傾向にあることを意味する。高張力下１％変形温度が１００℃未満の場合は、コーティング加工における乾燥工程や、蒸着加工、スパッター加工を行った時にフィルムの平面性が悪化してしまうという問題が発生するおそれがある。高張力下１％変形伸度の上限としては、破断伸度１５％以上のフィルムを得る上で１４０℃以下とすることが好ましい。

本発明における偏光子保護フィルムで上記の好ましい破断伸度と高張力下１％変形温度を満足させるためには、アクリル樹脂の分子量やグルタル酸無水物単位の含有量、アクリル弾性体粒子のガラス転移温度や粒子径、添加量、フィルム中の分散状態といったフィルム特性を適宜調整するとよい。

本発明における偏光子保護フィルムは、フィルム長手方向のシャルピー衝撃強度が６０ｋＪ／ｍ²以上であることが好ましく、より好ましくは９０ｋＪ／ｍ²以上である。シャルピー衝撃強度を６０ｋＪ／ｍ²以上とすることで、高速でのスリットにも耐えるフィルムとすることができる。シャルピー衝撃強度の大きな偏光子保護フィルムを得るためには、光学特性を悪化させない範囲でアクリル弾性体粒子の平均粒子径を大きくすることが有効である。

本発明における偏光子保護フィルムは、その全光線透過率が９１％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％である。全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることが有効である。

本発明における偏光子保護フィルムは、少なくとも片面にハードコート層を有していても良い。ハードコート層は、傷防止のために設けられる。ハードコート層を形成するハードコート剤としては例えば、有機珪素系化合物、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等を主成分とする熱硬化性の架橋樹脂や、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する、活性エネルギー線硬化性の架橋性樹脂等が挙げられる。

本発明における偏光子保護フィルムは、少なくとも片面に反射防止膜を有していても良い。反射防止膜は、全光線透過率を向上させるために設けられる。反射防止膜としては種々のものがあるが、少なくとも光吸収層を含んでいることが好ましく、例えば、低屈折率層、高屈折率層、光吸収層を含む構成を採用することが好ましい。低屈折率層の材料としては、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂などが挙げられる。高屈折率層の材料としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｎＯなどが挙げられる。光吸収層としては、複合膜として構成するときの構成要素としてＴｉＮｘ、Ａｕ、Ａｇ、ＮｉＯｘなどの膜を介在挿入させたものなどが挙げられる。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、どのような方法で製造しても良いが、上記アクリル樹脂を形成するための原料（例えば、一般式（１）で表される構造単位を形成する単量体（メチルメタクリレートなど）、一般式（２）で表される構造単位を形成する単量体（メチルメタクリレートとメタクリル酸など）、上記構造単位（Ａ）を形成する不飽和カルボン酸エステル単量体、上記構造単位（Ｂ）を形成するその他のビニル系単量体など）、上記アクリル弾性体粒子、上記添加剤（紫外線吸収剤など）などを混合し、必要に応じて任意の適切な溶剤（例えば、メチルエチルケトンなど）を添加し、加熱するとともに分子内環化反応を行うことが好ましい。分子内環化反応としては、脱アルコール反応および／または脱水による分子内環化反応が好ましく挙げられる。加熱するとともに分子内環化反応を行う方法としては、特に制限はないが、ベントを有する加熱した押出機に通して製造する方法や窒素気流中または真空下で加熱脱気できる装置内で製造する方法が好ましい。なお、上記の方法により加熱脱気する温度は、脱アルコールおよび／または脱水による分子内環化反応が生じる温度であれば特に限定されないが、好ましくは１８０〜３００℃の範囲、より好ましくは２００〜２８０℃の範囲である。また、この際の加熱脱気する時間は特に限定されず、所望する共重合組成に応じて任意の適切な時間を設定可能であるが、通常、１〜６０分間の範囲が好ましい。加熱するとともに分子内環化反応を行った後は、押出し成形（Ｔダイ法やインフレーション法などの溶融押出法）、キャスト成形（溶融流延法など）、カレンダー成形によってフィルム化すれば良い。

前記一般式（３）で表されるグルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂は基本的には以下に示す方法により製造することができる。

一般式（４）で表される不飽和カルボン酸単量体と一般式（５）で表される不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体と、その他のビニル系単量体単位を含む場合には該単位を与えるビニル系単量体とを重合させ、共重合体（ａ）とする。

（一般式（４）中、Ｒ^５は水素または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）

（一般式（５）中、Ｒ^６は水素または炭素数１〜５の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基を、Ｒ^７は炭素数１〜５の脂肪族炭化水素基を示す。）

単量体の配合割合としては、配合した単量体の総和を１００重量％として、不飽和カルボン酸単量体は１５〜４５重量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０重量部である。また、不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体は５５〜８５重量％が好ましく、より好ましくは６０〜８０重量％である。

不飽和カルボン酸単量体の含有量を１５〜４５重量％とすることによって、共重合体（ａ）を加熱した際に上記一般式（３）で表されるグルタル酸無水物単位の含有量が２０〜４０重量％の好ましい範囲となり、耐熱性、無色透明性、滞留安定性の優れたアクリル樹脂を得ることが可能となる。

共重合体（ａ）を生成する重合方法としては、基本的には、ラジカル重合による、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等の公知の重合方法を用いることができる。不純物がより少ない点で、溶液重合、塊状重合、懸濁重合が特に好ましい。

共重合体（ａ）を生成する重合温度としては、樹脂への着色を防ぎ良好な色調のものとするという観点から、９５℃以下とすることが好ましく、より好ましくは８５℃以下であり、さらに好ましくは７５℃以下である。また、重合温度の下限としては、重合速度を考慮した生産性の面からは、５０℃以上が好ましく、より好ましくは６０℃以上である。重合収率あるいは重合速度を向上させる目的で、重合進行に従い重合温度を昇温してもよいが、この場合も当該工程を通じて上限温度は９５℃以下に制御することが好ましく、重合開始温度も７５℃以下の比較的低温で行うことが好ましい。

共重合体（ａ）を生成するための重合時間としては、生産効率の点から、６０〜３６０分間が好ましく、より好ましくは９０〜１８０分間である。

アクリル樹脂の分子量は共重合体（ａ）の分子量によってきまるので、前述のようにアクリル樹脂をその好ましい重合平均分子量の範囲内（好ましくは１０００〜２００００００、特に好ましくは８００００〜１５００００）とする上で、共重合体（ａ）の分子量も、重量平均分子量で、好ましくは１０００〜２００００００、特に好ましくは８００００〜１５００００である。

共重合体（ａ）の分子量は、例えば、アゾ化合物、過酸化物等のラジカル重合開始剤、あるいはアルキルメルカプタン、四塩化炭素、四臭化炭素、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン等の連鎖移動剤の添加量を調節することにより、制御することができる。特に、重合の安定性、取り扱いの容易さ等から、連鎖移動剤であるアルキルメルカプタンの添加量を調節する方法を好ましく採用することができる。

上記アルキルメルカプタンとしては、例えば、ｎ−オクチルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｎ−オクタデシルメルカプタン等が挙げられ、なかでもｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタンが好ましく用いられる。

上記アルキルメルカプタンの添加量としては、共重合体（ａ）の製造に用いる全単量体１００重量部に対して、０．２〜５．０重量部が好ましく、より好ましくは０．３〜４．０重量部、さらに好ましくは０．４〜３．０重量部である。

共重合体（ａ）を適当な触媒の存在下あるいは非存在下で加熱すると、共重合体（ａ）内において隣接する２単位の不飽和カルボン酸単位同士のカルボキシル基から脱水されて、あるいは隣接する不飽和カルボン酸単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル単位からアルコールが脱離して、１単位の前記グルタル酸無水物単位が生成される。

共重合体（ａ）を加熱して脱水および／または脱アルコールさせる、すなわち分子内環化反応を行う方法としては例えば、ベントを有する加熱した押出機を用いる方法や、不活性ガス雰囲気下または真空下で加熱脱揮できる装置を用いる方法が生産性の観点から好ましい。

上記分子内環化反応を行うための具体的な装置としては例えば、「ユニメルト」タイプのスクリューを備えた単軸押出機、二軸押出機、三軸押出機、連続式またはバッチ式ニーダータイプの混練機などを用いることができる。これらの中でも、二軸押出機を用いることが、連続生産性、反応時の温度、時間、せん断速度のコントロールが容易で、かつ品質安定性の面で好ましい。

押出機のスクリューの長さ／直径比（Ｌ／Ｄ）としては、４０以上であることが好ましい。Ｌ／Ｄを４０以上とすることで、十分な分子内環化反応を進行させるための加熱時間を確保することができる。Ｌ／Ｄが４０以上の押出機を用いることによって、未反応の不飽和カルボン酸単位の残存量を減少させ、加熱成形加工時の反応の再進行による成形品内の気泡発生の少ないポリマーを得ることができ、成形滞留時の色調の悪化を抑制することができる。

上記分子内環化反応を行うための具体的な装置としては、窒素などの不活性ガスが導入可能な構造を有した装置であることがより好ましい。酸素存在下で加熱による分子内環化反応を行うと、黄味が増す傾向にあるため、十分に系内を窒素などの不活性ガスで置換することが好ましいからである。例えば二軸押出機に、窒素などの不活性ガスを導入する方法としては、ホッパーの上部および／または下部より配管を繋ぎ、１０〜１００Ｌ／分程度の不活性ガスを流す方法などが挙げられる。

分子内環化反応のために加熱する温度としては、当該反応を円滑に進行させるという点から、１８０〜３００℃が好ましく、より好ましくは２００〜２８０℃である。

分子内環化反応のために加熱する時間としては、所望する共重合組成に応じて適宜設定すればよいが、１〜６０分間が好ましく、より好ましくは２〜３０分間、さらに好ましくは３〜２０分間である。

分子内環化反応のために加熱する際に、酸性触媒、アルカリ性触媒、塩系触媒のうち１種以上を添加することも好ましい。酸性触媒としては、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸、亜リン酸、フェニルホスホン酸、リン酸メチル等が挙げられる。塩基性触媒としては、金属水酸化物、アミン類、イミン類、アルカリ金属誘導体、アルコキシド類等が挙げられる。塩系触媒としては、酢酸金属塩、ステアリン酸金属塩、炭酸金属塩、水酸化アンモニウム塩等が挙げられる。中でも、アルカリ金属を含有する塩基性触媒または塩系触媒が、比較的少量の添加量で優れた反応促進効果を示すため、好ましく使用することができる。具体的には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムフェノキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムフェノキシド等のアルコキシド化合物、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ステアリン酸ナトリウム等の有機カルボン酸塩等が挙げられ、これらの中でも、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、酢酸リチウム、酢酸ナトリウムが好ましく使用することができる。塩系触媒の中には、水溶液とすることによって酸性あるいは塩基性を示すものもあるが、これらは塩系触媒として扱い、酸性触媒、アルカリ性触媒とは区別する。これら触媒は、１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記触媒の添加量としては、共重合体（ａ）１００重量部に対し、０．０１〜１重量部が好ましい。０．０１重量部以上とすることで、当該触媒としての実効を得ることができ、１重量部以下とすることで、その触媒保有の色が熱可塑性重合体の着色に悪影響をおよぼしたり透明性が低下したりするのを防ぐことができる。

アクリル樹脂またはその前駆体中にアクリル弾性体粒子を分散させるに際しては、アクリル弾性体粒子は、その表層が６０℃以上のガラス転移温度を有するアクリル系樹脂で積層された状態か、または、ビニル系単量体をグラフト共重合させた状態であることが好ましい。そうすることで、アクリル弾性体粒子同士の接着・凝集を防ぎ、その取扱い性が向上し、アクリル樹脂中での分散性も向上する。

表層に６０℃以上のガラス転移温度を有するアクリル系樹脂が積層された態様（以下、「コア・シェル型」と称することがある）のアクリル弾性体粒子において、シェル部分を構成する「６０℃以上のガラス転移温度を有するアクリル系樹脂」としては、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位や不飽和カルボン酸系単位を含有するものが好ましい。これらをシェル部分に含有するコア・シェル型のアクリル弾性体粒子は、前記共重合体（ａ）に添加して加熱する際にマトリックス樹脂との親和性が良く、分散性が向上する。また、加熱により、シェル部分においても分子内環化反応が進行し、シェル部分とマトリックス樹脂が同化することになるので、シェル部分により本発明における偏光子保護フィルムの透明性が阻害されるのを防ぐことができる。また、マトリックス樹脂内においてアクリル弾性体粒子が強固に保持されることになるので、耐衝撃性等の機械特性も向上する。

不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位の原料となる単量体としては、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸メチルがより好ましく使用される。

不飽和カルボン酸系単位の原料となる単量体としては、（メタ）アクリル酸が好ましく、メタクリル酸がより好ましく使用される。

コア・シェル型のアクリル弾性体粒子における、コアとシェルとの重量比は、双方の総和に対して、コアが５０〜９０重量％であることが好ましく、より好ましくは６０〜８０重量％である。

コア・シェル型のアクリル弾性体粒子の市販品としては、例えば、三菱レイヨン社製「メタブレン」、株式会社カネカ製「カネエース」、呉羽化学工業社製「パラロイド」、ロームアンドハース社製「アクリロイド」、ガンツ化成工業社製「スタフィロイド」、クラレ社製「パラペットＳＡ」などが挙げられ、これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

ビニル系単量体をグラフト共重合させた態様（以下、「グラフト共重合型」と称することがある）のアクリル弾性体粒子において、ビニル系単量体としては、ビニル基を有する不飽和カルボン酸エステル系単量体、ビニル基を有する不飽和カルボン酸系単量体、芳香族ビニル系単量体等を採用することができる。また、アクリル弾性体粒子に含まれるゴム質重合体やマトリックス樹脂との相性に合わせて、他のビニル系単量体を共重合させてもよい。

アクリル弾性体粒子に付与するビニル系単量体の量としては、ゴム質重合体：ビニル系単量体の重量比で、（１０〜８０）：（２０〜９０）が好ましく、より好ましくは（２０〜７０）：（３０〜８０）、さらに好ましくは（３０〜６０）：（４０〜７０）である。ビニル系単量体を２０重量％以上とすることで、本態様の実効を得ることができる。一方、ビニル系単量体を９０重量％以下とすることで、衝撃強度が低下するのを抑えることができる。

グラフト共重合型のアクリル弾性体粒子においては、グラフト共重合していないビニル系単量体由来の成分を含んでいてもよいが、衝撃強度の観点からは、グラフト率は１０〜１００％であることが好ましい。ここで、グラフト率とは、ゴム質重合体に付与したビニル系単量体のうちグラフト共重合したものの重量割合である。また、グラフトしていない共重合体のメチルエチルケトン溶媒、３０℃で測定した極限粘度には特に制限はないが、０．１〜０．６ｄｌ／ｇのものが、衝撃強度と成形加工性とのバランスの観点から好ましく用いられる。

アクリル弾性体粒子をグラフト共重合型とする方法としては、塊状重合、溶液重合、懸濁重合および乳化重合などの重合法を採用することができる。

コア・シェル型あるいはグラフト共重合型のアクリル弾性体粒子の粒子径、含有量および屈折率は、シェル部分やグラフト共重合体部分を除外したゴム質重合体を対象として評価する。粒子径については、例えば、透過型電子顕微鏡による断面観察などからシェル部分やグラフト共重合部分を除外して評価できる。また、含有量は、アクリル樹脂を溶解するアセトンなどの溶媒に溶解させたあとの不溶成分から評価することができる。

アクリル樹脂あるいはその前駆体にアクリル弾性体粒子やその他の添加剤を配合する方法としては、例えば、アクリル樹脂とその他の添加成分を予めブレンドした後、通常２００〜３５０℃にて、一軸または二軸押出機により均一に溶融混練する方法を採用することができる。

また、アクリル樹脂の前駆体である共重合体（ａ）にアクリル弾性体粒子やその他の添加剤を添加し、二軸押出機等による前述の分子内環化反応と同時に、アクリル弾性体粒子（Ｂ）やその他の添加剤の溶融混練による配合を行うことができる。

溶融混練において、アクリル弾性体粒子に付与したシェル部分等の不飽和カルボン酸単量体単位や不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体単位の環化反応も同時に行うことができる。

後述する溶液製膜の場合には、アクリル樹脂とアクリル弾性体粒子成分とを溶解あるいは分散する溶媒中で混合した後に溶媒を除く方法を用いることができる。

特に、溶液製膜においては、本発明における偏光子保護フィルムを構成する樹脂は、異物を取り除く目的で濾過することが好ましい。異物を除去することにより、樹脂の着色を防ぎ、光学用途フィルムとして有用に使用できる。テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の溶剤に溶解した樹脂を、好ましくは２５℃以上１００℃以下の温度にて、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網等のフィルターで濾過することができる。

本発明における偏光子保護フィルムは、溶融製膜あるいは溶液製膜にて製膜することができる。溶融製膜としては、インフレーション法、Ｔダイ法、カレンダー法、切削法などがあり、特にＴダイ法を好ましく採用できる。溶液製膜としては、ポリマーフィルム上キャスト法、キャスティングドラム法、金属ベルト上キャスト法などがあり、特にポリマーフィルム上キャスト法を好ましく採用できる。以下、それぞれの製造方法を例に説明する。

溶融製膜には、単軸あるいは二軸の押出スクリューのついたエクストルーダ型溶融押出装置等が使用できる。そのスクリューのＬ／Ｄとしては、２５〜１２０とすることが着色を防ぐために好ましい。本発明における偏光子保護フィルムを製造するための溶融押出温度としては、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。溶融剪断速度としては、１０００ｓ^−１以上５０００ｓ^−１以下が好ましい。また、溶融押出装置を使用し溶融混練する場合、着色抑制の観点から、ベントを使用し減圧下で、あるいは窒素気流下で溶融混練を行うことが好ましい。

Ｔダイ法によれば、溶融した樹脂をギアーポンプで計量した後にＴダイ口金から吐出させ、静電印加法、エアーチャンバー法、エアーナイフ法、プレスロール法などでドラムなどの冷却媒体上に密着させて冷却固化し、フィルムを得ることができる。特に、厚みムラが少なく、ヘイズの小さなフィルムを得るには、プレスロール法が好ましい。

溶液製膜は、好ましくは、マトリックス樹脂を溶剤にて溶かす。溶剤としては、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができ、特に、アセトンやメチルエチルケトンを好ましく採用できる。

ポリマーフィルム上キャスト法は、原料である樹脂組成物を溶かした溶液を、バーコーター、ダイコーターなどを用いて、ポリエチレンテレフタレートなどの耐熱フィルム上にキャストし、溶剤を蒸発除去する（乾式法）かあるいは溶液を凝固液で固化する（湿式法）方法である。

反射防止膜を構成する低屈折率層、高屈折率層、光吸収層等は、蒸着やスパッタリングなどの真空薄膜膜形成技術を用いて形成することができる。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、他の基材に積層して用いることができる。例えば、ガラス、ポリオレフィン樹脂、ハイバリア層となるエチレンビニリデン共重合体、ポリエステル等の基材に対して、接着性樹脂層を含めた多層押出成型や多層インフレーション成型によって、積層成形することもできる。熱融着性が高い場合には、接着層を省略することもある。

〔偏光子〕
上記ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性物質（代表的には、ヨウ素、二色性染料）で染色して一軸延伸したものが用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、好ましくは１００〜５０００、さらに好ましくは１４００〜４０００である。偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、任意の適切な方法（例えば、樹脂を水または有機溶媒に溶解した溶液を流延成膜する流延法、キャスト法、押出法）で成形され得る。偏光子の厚みは、偏光板が用いられるＬＣＤの目的や用途に応じて適宜設定され得るが、代表的には５〜８０μｍである。

偏光子の製造方法としては、目的、使用材料および条件等に応じて任意の適切な方法が採用され得る。代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、膨潤、染色、架橋、延伸、水洗、および乾燥工程からなる一連の製造工程に供する方法が採用される。乾燥工程を除く各処理工程においては、それぞれの工程に用いられる溶液を含む浴中にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬することにより処理を行う。膨潤、染色、架橋、延伸、水洗、および乾燥の各処理の順番、回数および実施の有無は、目的、使用材料および条件等に応じて適宜設定され得る。例えば、いくつかの処理を１つの工程で同時に行ってもよく、特定の処理を省略してもよい。より詳細には、例えば延伸処理は、染色処理の後に行ってもよく、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理と同時に行ってもよい。また例えば、架橋処理を延伸処理の前後に行うことが、好適に採用され得る。また例えば、水洗処理は、すべての処理の後に行ってもよく、特定の処理の後のみに行ってもよい。

膨潤工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水で満たした処理浴（膨潤浴）中に浸漬することにより行われる。この処理により、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄するとともに、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させることで染色ムラ等の不均一性を防止し得る。膨潤浴には、グリセリンやヨウ化カリウム等が適宜添加され得る。膨潤浴の温度は、代表的には２０〜６０℃程度であり、膨潤浴への浸漬時間は、代表的には０．１〜１０分程度である。

染色工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、ヨウ素等の二色性物質を含む処理浴（染色浴）中に浸漬することにより行われる。染色浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。二色性物質は、溶媒１００重量部に対して、代表的には０．１〜１．０重量部の割合で用いられる。二色性物質としてヨウ素を用いる場合には、染色浴の溶液は、ヨウ化物等の助剤をさらに含有することが好ましい。染色効率が改善されるからである。助剤は、溶媒１００重量部に対して、好ましくは０．０２〜２０重量部、さらに好ましくは２〜１０重量部の割合で用いられる。ヨウ化物の具体例としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンが挙げられる。染色浴の温度は、代表的には２０〜７０℃程度であり、染色浴への浸漬時間は、代表的には１〜２０分程度である。

架橋工程は、代表的には、上記染色処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、架橋剤を含む処理浴（架橋浴）中に浸漬することにより行われる。架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が採用され得る。架橋剤の具体例としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等が挙げられる。これらは、単独で、または組み合わせて使用され得る。架橋浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。架橋剤は、溶媒１００重量部に対して、代表的には１〜１０重量部の割合で用いられる。架橋剤の濃度が１重量部未満の場合には、十分な光学特性を得ることができない場合が多い。架橋剤の濃度が１０重量部を超える場合には、延伸時にフィルムに発生する延伸力が大きくなり、得られる偏光板が収縮してしまう場合がある。架橋浴の溶液は、ヨウ化物等の助剤をさらに含有することが好ましい。面内に均一な特性が得られやすいからである。助剤の濃度は、好ましくは０．０５〜１５重量％、さらに好ましくは０．５〜８重量％である。ヨウ化物の具体例は、染色工程の場合と同様である。架橋浴の温度は、代表的には２０〜７０℃程度、好ましくは４０〜６０℃である。架橋浴への浸漬時間は、代表的には１秒〜１５分程度、好ましくは５秒〜１０分である。

延伸工程は、上記のように、いずれの段階で行ってもよい。具体的には、染色処理の後に行ってもよく、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理と同時に行ってもよく、架橋処理の後に行ってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの累積延伸倍率は、５倍以上にすることが必要であり、好ましくは５〜７倍、さらに好ましくは５〜６．５倍である。累積延伸倍率が５倍未満である場合には、高偏光度の偏光板を得ることが困難となる場合がある。累積延伸倍率が７倍を超える場合には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム（偏光子）が破断しやすくなる場合がある。延伸の具体的な方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、湿式延伸法を採用した場合には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、処理浴（延伸浴）中で所定の倍率に延伸する。延伸浴の溶液としては、水または有機溶媒（例えば、エタノール）などの溶媒中に、各種金属塩、ヨウ素、ホウ素または亜鉛の化合物を添加した溶液が好適に用いられる。

水洗工程は、代表的には、上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、処理浴（水洗浴）中に浸漬することにより行われる。水洗工程により、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの不要残存物を洗い流すことができる。水洗浴は、純水であってもよく、ヨウ化物（例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム）の水溶液であってもよい。ヨウ化物水溶液の濃度は、好ましくは０．１〜１０質量％である。ヨウ化物水溶液には、硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの助剤を添加してもよい。水洗浴の温度は、好ましくは１０〜６０℃、さらに好ましくは３０〜４０℃である。浸漬時間は、代表的には１秒〜１分である。水洗工程は１回だけ行ってもよく、必要に応じて複数回行ってもよい。複数回実施する場合、各処理に用いられる水洗浴に含まれる添加剤の種類や濃度は適宜調整され得る。例えば、水洗工程は、ポリマーフィルムをヨウ化カリウム水溶液（０．１〜１０質量％、１０〜６０℃）に１秒〜１分浸漬する工程と、純水ですすぐ工程とを含む。

乾燥工程としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には２０〜８０℃であり、乾燥時間は代表的には１〜１０分である。以上のようにして、偏光子が得られる。

〔その他の層など〕
本発明における偏光板においては、上記偏光子と上記偏光子保護フィルムとを含むが、偏光子保護フィルムと偏光子との間に易接着層および接着剤層を有することが好ましい。

上記接着剤層は、ポリビニルアルコール系接着剤から形成される層が好ましい。ポリビニルアルコール系接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂と架橋剤を含有する。

上記ポリビニルアルコール系樹脂は、特に限定されないが、例えば、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られたポリビニルアルコール；その誘導体；更に酢酸ビニルと共重合性を有する単量体との共重合体のケン化物；ポリビニルアルコールをアセタール化、ウレタン化、エーテル化、グラフト化、リン酸エステル化等した変性ポリビニルアルコール；などが挙げられる。前記単量体としては、（無水）マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン、（メタ）アリルスルホン酸（ソーダ）、スルホン酸ソーダ（モノアルキルマレート）、ジスルホン酸ソーダアルキルマレート、N−メチロールアクリルアミド、アクリルアミドアルキルスルホン酸アルカリ塩、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピロリドン誘導体等が挙げられる。これらポリビニルアルコール系樹脂は１種のみ用いても良いし２種以上を併用しても良い。

上記ポリビニルアルコール系樹脂は、接着性の点からは、平均重合度が好ましくは１００〜３０００、より好ましくは５００〜３０００であり、平均ケン化度が好ましくは８５〜１００モル％、より好ましくは９０〜１００モル％である。

上記ポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂を用いることができる。アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂は、反応性の高い官能基を有するポリビニルアルコール系接着剤であり、偏光板の耐久性が向上する点で好ましい。

アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂は、ポリビニルアルコール系樹脂とジケテンとを公知の方法で反応して得られる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を酢酸等の溶媒中に分散させておき、これにジケテンを添加する方法、ポリビニルアルコール系樹脂をジメチルホルムアミドまたはジオキサン等の溶媒にあらかじめ溶解しておき、これにジケテンを添加する方法等が挙げられる。また、ポリビニルアルコールにジケテンガスまたは液状ジケテンを直接接触させる方法が挙げられる。

アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂のアセトアセチル基変性度は、０．１モル％以上であれば特に制限はない。０．１モル％未満では接着剤層の耐水性が不十分であり不適当である。アセトアセチル基変性度は、好ましくは０．１〜４０モル％、さらに好ましくは１〜２０モル％である。アセトアセチル基変性度が４０モル％を超えると架橋剤との反応点が少なくなり、耐水性の向上効果が小さい。アセトアセチル基変性度はＮＭＲにより測定した値である。

上記架橋剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤に用いられているものを特に制限なく使用できる。
架橋剤は、ポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも２つ有する化合物を使用できる。例えば、エチレンジアミン、トリエチレンアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアルキレン基とアミノ基を２個有するアルキレンジアミン類（なかでもヘキサメチレンジアミンが好ましい）；トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、トリメチレンプロパントリレンジイソシアネートアダクト、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビス（４−フェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネートおよびこれらのケトオキシムブロック物またはフェノールブロック物等のイソシアネート類；エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジまたはトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等のエポキシ類；ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等のモノアルデヒド類；グリオキザール、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、マレインジアルデヒド、フタルジアルデヒド等のジアルデヒド類；メチロール尿素、メチロールメラミン、アルキル化メチロール尿素、アルキル化メチロール化メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとの縮合物等のアミノ−ホルムアルデヒド樹脂；更にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、ニッケル等の二価金属、又は三価金属の塩及びその酸化物；などが挙げられる。架橋剤としては、メラミン系架橋剤が好ましく、特にメチロールメラミンが好適である。

上記架橋剤の配合量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜３５重量部、より好ましくは１０〜２５重量部である。一方、耐久性をより向上させるには、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、架橋剤を３０重量部を超え４６重量部以下の範囲で配合することができる。特に、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂を用いる場合には、架橋剤の使用量を３０重量部を超えて用いるのが好ましい。架橋剤を３０重量部を超え４６重量部以下の範囲で配合することにより、耐水性が向上する。

なお、上記ポリビニルアルコール系接着剤には、さらにシランカップリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング剤、各種粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤などの安定剤等を配合することもできる。

本発明における上記偏光子保護フィルムは、偏光子と接する面に接着性向上のために易接着処理を施すことができる。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、低圧ＵＶ処理、ケン化処理等の表面処理が挙げられ、易接着処理を行った上で、易接着層（アンカー層）を形成することが好ましい。

上記易接着層としては、例えば、反応性官能基を有するシリコーン層が挙げられる。反応性官能基を有するシリコーン層の材料は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート基含有のアルコキシシラノール類、アミノ基含有アルコキシシラノール類、メルカプト基含有アルコキシシラノール類、カルボキシ含有アルコキシシラノール類、エポキシ基含有アルコキシシラノール類、ビニル型不飽和基含有アルコキシシラノール類、ハロゲン基含有アルコキシシラノール類、イソシアネート基含有アルコキシシラノール類が挙げられ、アミノ系シラノールが好ましい。さらに上記シラノールを効率よく反応させるためのチタン系触媒や錫系触媒を添加することにより、接着力を強固にすることができる。また上記反応性官能基を有するシリコーンに他の添加剤を加えてもよい。具体的にはさらにはテルペン樹脂、フェノール樹脂、テルペン-フェノール樹脂、ロジン樹脂、キシレン樹脂などの粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤などの安定剤等を用いても良い。

上記反応性官能基を有するシリコーン層は公知の技術により塗工、乾燥して形成される。シリコーン層の厚みは、乾燥後で、好ましくは１〜３００ｎｍ、より好ましくは１〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１〜８０ｎｍ、特に好ましくは５〜７０ｎｍである。塗工の際、反応性官能基を有するシリコーンを溶剤で希釈してもよい。希釈溶剤は特に制限はされないが、アルコール類があげられる。希釈濃度は特に制限されないが、好ましくは１〜５重量％、より好ましくは１〜３重量％である。

上記接着剤層の形成は、上記接着剤を偏光子保護フィルムのいずれかの側または両側、偏光子のいずれかの側または両側に塗布することにより行う。偏光子保護フィルムと偏光子とを貼り合せた後には、乾燥工程を施し、塗布乾燥層からなる接着剤層を形成する。接着剤層を形成した後にこれを貼り合わせることもできる。偏光子と偏光子保護フィルムの貼り合わせは、ロールラミネーター等により行うことができる。加熱乾燥温度、乾燥時間は接着剤の種類に応じて適宜決定される。

接着剤層の厚みは、乾燥後の厚みで厚くなりすぎると、偏光子保護フィルムの接着性の点で好ましくないことから、好ましくは０．１〜５０ｎｍ、より好ましくは１〜５０ｎｍ、さらに好ましくは５〜４０ｎｍである。

偏光子への偏光子保護フィルムの貼り合わせは、偏光子の両面に、前記偏光子保護フィルムの一方の側で接着することができる。

また、偏光子の偏光子保護フィルムの貼り合わせは、偏光子の片面に前記偏光子保護フィルムの一方の側で接着し、もう一方の片面にセルロース系樹脂フィルムを貼り合わせることができる。

上記セルロール系樹脂フィルムは特には限定されないが、トリアセチルセルロールが透明性、接着性の点で好ましい。セルロース系樹脂フィルムの厚さは、好ましくは３０〜１００μｍ、より好ましくは４０〜８０μｍである。厚さが３０μｍより薄いとフィルム強度が低下し作業性が劣り、１００μｍより厚いと耐久性において光透過率の低下が著しくなる。

Ａ−３．第１の光学補償層
上記のように、第１の光学補償層１２は、いわゆるλ／２板として機能し得る。第１の光学補償層がλ／２板として機能することにより、λ／４板として機能する第２の光学補償層の波長分散特性（特に、位相差がλ／４を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節され得る。このような第１の光学補償層の面内位相差（Δｎｄ）は、波長５９０ｎｍにおいて、好ましくは１８０〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２１０〜２８０ｎｍであり、最も好ましくは２３０〜２４０ｎｍである。なお、面内位相差（Δｎｄ）は、式Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄから求められる。ここで、ｎｘは遅相軸の方向の屈折率であり、ｎｙは進相軸の方向（面内で遅相軸に直交する方向）の屈折率であり、ｄは第１の光学補償層の厚さである。さらに、上記第１の光学補償層１２は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有することが好ましい。ｎｚは、厚み方向の屈折率である。本明細書において、「ｎｙ＝ｎｚ」は、ｎｙとｎｚが厳密に等しい場合のみならず、ｎｙとｎｚが実質的に等しい場合も包含する。

上記第１の光学補償層の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは０．５〜５μｍであり、さらに好ましくは１〜４μｍであり、最も好ましくは１．５〜３μｍである。

上記第１の光学補償層を形成する材料としては、上記のような特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。液晶材料が好ましく、液晶相がネマチック相である液晶材料（ネマチック液晶）がさらに好ましい。液晶材料を用いることにより、得られる光学補償層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができる。その結果、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。このような液晶材料としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。また、液晶の配向状態は、ホモジニアス配向であることが好ましい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。

上記液晶材料が液晶性モノマーである場合、例えば、重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーであることが好ましい。これは、後述するように、液晶性モノマーを重合または架橋させることによって、液晶性モノマーの配向状態を固定できるためである。液晶性モノマーを配向させた後に、例えば、液晶性モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第１の光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第１の光学補償層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた複屈折層となる。

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。

上記液晶モノマーとしては、例えば、ネマチック性液晶モノマーが好ましく、具体的には、下記式（６）で表されるモノマーが挙げられる。これらの液晶モノマーは、単独で、または２つ以上を組み合わせて用いられ得る。

上記式（６）において、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、Ａ¹およびＡ²はいずれか一方が水素であってもよい。Ｘは、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、Ｒは、ＨまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルを表し、Ｍはメソゲン基を表す。

上記式（６）において、Ｘは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

上記式（６）のモノマーの中でも、Ａ²は、それぞれ、Ａ¹に対してオルト位に配置されていることが好ましい。

さらに、上記Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立して、下記式
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）_n ・・・（７）
で表されることが好ましく、Ａ¹およびＡ²は同じ基であることが好ましい。

上記式（７）において、Ｚは架橋性基を表し、Ｘは上記式（６）で定義した通りであり、Ｓｐは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の置換または非置換のアルキル基からなるスペーサーを表し、ｎは、０または１を表す。上記Ｓｐにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ₁〜Ｃ₄のアルキルイミノ基等により割り込まれていてもよい。

上記式（７）において、Ｚは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Ｒとしては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等の基が挙げられる。

また、上記式（７）において、Ｓｐは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。

上記式（６）において、Ｍは、下記式（８）で表されることが好ましい。下記式（８）において、Ｘは、上記式（６）において定義したのと同様である。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖アルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表す。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキレン等であり得る。

上記Ｑが芳香族炭化水素原子団である場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。

上記式で表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有してもよい。上記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記置換基としては、例えば、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ニトロ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ等が挙げられる。

上記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式（９）〜（２４）で表されるモノマーが挙げられる。

上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。

Ａ−４．第２の光学補償層
上記のように、第２の光学補償層１３は、いわゆるλ／４板として機能し得る。本発明によれば、λ／４板として機能する第２の光学補償層の波長分散特性を、上記λ／２板として機能する第１の光学補償層の光学特性によって補正することによって、広い波長範囲での円偏光機能を発揮することができる。このような第２の光学補償層の面内位相差（Δｎｄ）は、波長５５０ｎｍにおいて、好ましくは９０〜１８０ｎｍであり、さらに好ましくは９０〜１５０ｎｍであり、最も好ましくは１０５〜１３５ｎｍである。第２の光学補償層のＮｚ係数（＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ））は、好ましくは１．０〜２．２であり、さらに好ましくは１．２〜２．０であり、最も好ましくは１．４〜１．８である。さらに、上記第２の光学補償層１３は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有することが好ましい。

上記第２の光学補償層の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは１０〜１００μｍであり、さらに好ましくは２０〜８０μｍであり、最も好ましくは４０〜７０μｍである。

第２の光学補償層は、代表的には、高分子フィルムを延伸処理することにより形成され得る。例えば、ポリマーの種類、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）、延伸方法等を適切に選択することにより、所望の光学特性（例えば、屈折率分布、面内位相差、厚み方向位相差、Ｎｚ係数）を有する第２の複屈折層が得られ得る。より具体的には、延伸温度は、好ましくは１２０〜１８０℃、さらに好ましくは１４０〜１７０℃である。延伸倍率は、好ましくは１．０５〜２．０倍、さらに好ましくは１．３〜１．６倍である。延伸方法としては、例えば、横一軸延伸が挙げられる。延伸方向は、好ましくは、偏光子の吸収軸に対して実質的に直交する方向（高分子フィルムの幅方向、すなわち、長手方向に対して直交する方向）である。

上記高分子フィルムを構成するポリマーとしては、任意の適切なポリマーが採用され得る。具体例としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリスルホン系ポリマー等が挙げられる。ポリカーボネート、ノルボルネン系ポリマーが好ましい。

あるいは、第２の光学補償層は、重合性液晶とカイラル剤とを含む樹脂組成物から形成されたフィルムから構成される。重合性液晶およびカイラル剤は、特開２００３−２８７６２３号公報に記載されており、その開示は本明細書に参考として援用される。例えば、任意の適切な基材に当該樹脂組成物を塗工し、重合性液晶が液晶状態を呈する温度に加熱すると、重合性液晶がカイラル剤によってねじられた状態で（より具体的には、コレステリック構造を形成して）配向する。この状態で、重合性液晶を重合すると、当該コレステリック構造が固定されて配向されたフィルムが得られる。組成物中のカイラル剤の含有量を調整することにより、コレステリック構造のねじれ度を変化させることが可能となり、その結果、形成される第２の光学補償層の遅相軸の方向を制御することができる。このようなフィルムによれば、遅相軸の方向を偏光子の吸収軸に対して平行または直交以外の角度に設定できるので、非常に好ましい。

Ａ−５．光学補償層付偏光板
本発明の光学補償層付偏光板は、偏光板と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に有するが、偏光板と第１の光学補償層、第１の光学補償層と第２の光学補償層は、それぞれ、目的に応じて任意の適切な方法によって積層される。代表的には、偏光板と第１の光学補償層との間、第１の光学補償層と第２の光学補償層との間を、粘着剤層や接着剤層によって接着させる。

各層（偏光板も含む）の隙間をこのように粘着剤層や接着剤層で満たすことによって、画像表示装置に組み込んだ際に、各層の光学軸の関係がずれることを防止したり、各層同士が擦れて傷ついたりすることを防ぐことができる。また、層間の界面反射を少なくし、画像表示装置に用いた際にコントラストを高くすることもできる。

上記粘着剤層の厚みは、使用目的や接着力などに応じて適宜設定され得る。具体的には、粘着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜５０μｍ、最も好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。

上記粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。具体例としては、溶剤型粘着剤、非水系エマルジョン型粘着剤、水系粘着剤、ホットメルト粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系ポリマーをベースポリマーとする溶剤型粘着剤が好ましく用いられる。偏光子、第１の光学補償層、および第２の光学補償層に対して適切な粘着特性（ぬれ性、凝集性および接着性）を示し、かつ、光学透明性、耐候性および耐熱性に優れるからである。

上記接着剤層を形成する接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。

熱硬化型接着剤の具体例としては、例えば、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂、およびポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂系接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤の具体例としては、例えば、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤（特に、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤）が好ましい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のために加熱する必要がないので、層間接着時に加熱されない。そのため、加熱により各層が劣化することを抑制することが可能となる。なお、イソシアネート樹脂系接着剤とは、ポリイソシアネート系接着剤、ポリウレタン樹脂接着剤等の総称である。

上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよく、上記の各種硬化型樹脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）として調製してもよい。硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）を調製する場合、溶液（または分散液）中における硬化型樹脂の含有割合は、固形分重量が、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは２０〜６５重量％、さらに好ましくは３０〜５０重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型樹脂の種類に応じて任意の適切な溶媒が採用され得る。具体的には、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは１種のみで用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

各層（偏光板も含む）間への接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、各層の主面に対して面積（ｃｍ^２）あたり、好ましくは０．３〜３ｍｌ、より好ましくは０．５〜２ｍｌ、さらに好ましくは１〜２ｍｌである。

塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１〜２０μｍ、より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。

接着剤層の押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、好ましくは０．１〜０．５ＧＰａ、より好ましくは０．２〜０．５ＧＰａ、さらに好ましくは０．３〜０．４ＧＰａである。なお、押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）とは、ビッカーズ硬度との相関性が公知であるので、ビッカーズ硬度にも換算できる。押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（例えば、商品名：ＭＨ４０００や商品名：ＭＨＡ−４００など）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから計算することができる。

Ａ−６．光学補償層付偏光板のその他の構成要素
本発明の光学補償層付偏光板は、さらに他の光学層を備えていてもよい。このような他の光学層としては、目的や画像表示装置の種類に応じて任意の適切な光学層が採用され得る。具体例としては、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、さらに別の光学補償層（位相差フィルム）等が挙げられる。

本発明における偏光板は、最外層の少なくとも一方として粘着剤層を有していても良い（このような偏光板を粘着型偏光板と称することがある）。特に好ましい形態として、上記偏光子保護フィルムの偏光子が接着されていない側に、他の光学フィルムや液晶セル等の他部材と接着するための粘着剤層を設けることができる。このように最外層として粘着剤層を有することにより、例えば、他の部材（例えば、液晶セル）との積層が容易になり、本発明の光学補償層付偏光板が他の部材から剥離するのを防止できる。上記粘着剤層の材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。好ましくは、吸湿性や耐熱性に優れる材料が用いられる。吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の低下、液晶セルの反り等を防止できるからである。実用的には、上記粘着剤層の表面は、本発明の光学補償層付偏光板が実際に使用されるまでの間、任意の適切なセパレータによってカバーされ、汚染が防止され得る。セパレータは、例えば、任意の適切なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成され得る。

上記粘着剤層を形成する粘着剤は、特に限定されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用い得る。特に、炭素数が４〜１２のアクリル系ポリマーよりなるアクリル系粘着剤が好ましい。

また上記に加えて、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着剤層が好ましい。

上記粘着剤層は、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着剤層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。

また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層などであってもよい。

上記粘着剤層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で付設面に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着剤層を形成してそれを付設面に移着する方式などがあげられる。

粘着剤層は、異なる組成又は種類等のものの重畳層として光学補償層付偏光板の片面又は両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、光学補償層付偏光板の表裏において異なる組成や種類や厚さ等の粘着剤層とすることもできる。

粘着剤層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、好ましくは１〜４０μｍであり、より好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは１０〜２５μｍである。１μｍより薄いと耐久性が悪くなり、また、４０μｍより厚くなると発泡などによる浮きや剥がれが生じやすく外観不良となる。

上記光学補償層付偏光板と上記粘着剤層との間の密着性を向上させるために、その層間にアンカー層を設けることも可能である。

上記アンカー層としては、好ましくは、ポリウレタン、ポリエステル、分子中にアミノ基を含むポリマー類から選ばれるアンカー層が用いられ、特に好ましくは分子中にアミノ基を含んだポリマー類が使用される。分子中にアミノ基を含んだポリマーは、分子中のアミノ基が、粘着剤中のカルボキシル基や、導電性ポリマー中の極性基と反応もしくはイオン性相互作用などの相互作用を示すため、良好な密着性が確保される。

分子中にアミノ基を含むポリマー類としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリビニルピリジン、ポリビニルピロリジン、前述アクリル系粘着剤の共重合モノマーで示したジメチルアミノエチルアクリレート等の含アミノ基含有モノマーの重合体などを挙げることができる。

上記アンカー層に帯電防止性を付与するために、帯電防止剤を添加することもできる。帯電防止性付与のための帯電防止剤としては、イオン性界面活性剤系、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリキノキサリン等の導電ポリマー系、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム等の金属酸化物系などが挙げられるが、特に光学特性、外観、帯電防止効果、および帯電防止効果の熱時、加湿時での安定性という観点から、導電性ポリマー系が好ましく使用される。この中でも、ポリアニリン、ポリチオフェンなどの水溶性導電性ポリマー、もしくは水分散性導電性ポリマーが特に好ましく使用される。これは、帯電防止層の形成材料として水溶性導電性ポリマーや水分散性導電性ポリマーを用いた場合、塗布工程に際して有機溶剤による光学フィルム基材の変質を抑える事が出来るためである。

本発明の光学補償層付偏光板は、最外層の一方に輝度向上フィルムをさらに有していても良い。上記輝度向上フィルムとしては、自然光または偏光から直線偏光を分離する任意の適切なフィルムが採用され得る。このような輝度向上フィルムの代表例としては、グリッド型偏光子、屈折率差を有する２種類以上の材料による２層以上の多層薄膜積層体、ビームスプリッターなどに用いられる屈折率の異なる蒸着多層薄膜、屈折率を有する２種以上の材料による２層以上の複屈折層多層薄膜積層体、屈折率を有する２種以上の樹脂を用いた２層以上の樹脂積層体を延伸したもの、直線偏光を直交する軸方向で反射／透過することで分離するものなどが挙げられる。例えば、延伸により位相差を発現する材料（例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート）またはアクリル系樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート）と、位相差発現量の少ない樹脂（例えば、ＪＳＲ社製のアートンのようなノルボルネン系樹脂）とを交互に積層した多層積層体を一軸延伸して得られるものを用いることができる。輝度向上フィルムは、例えば、３Ｍ社製の商品名ＤＢＥＦとして市販されている。本発明における輝度向上フィルムの厚さは、代表的には５０〜２００μｍ程度である。

本発明の光学補償層付偏光板は、最外層の一方にハードコート層をさらに有していても良い。ハードコート層としては、例えば、特開平８−３３８９１２号公報に記載のハードコート層や、特開平９−１１３７２８号公報に記載のハードコート層を採用することができる。

本発明の光学補償層付偏光板における各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤による処理等によって、紫外線吸収能を付与したものであってもよい。

Ｂ．光学補償層付偏光板の製造方法
本発明の光学補償層付偏光板は、各層を上記した粘着剤層や接着剤層を介して積層することにより作製することができる。積層手段としては、任意の適切な手段が採用され得る。例えば、偏光子、第１の光学補償層、および第２の光学補償層を所定の大きさに打ち抜き、各層の光軸がなす角度が所望の範囲となるように方向を合わせて、粘着剤や接着剤を介してそれらを積層することができるが、好ましくは、下記に示すような方法が挙げられる。

下記の各工程の順序および／または配向処理が施されるフィルムは、目的とする光学フィルムの積層構造に応じて適宜変更され得る。例えば、偏光子の積層工程は、いずれの光学補償層の形成工程または積層工程の後に行ってもよい。以下、各工程の詳細について説明する。
Ｂ−１．第１の光学補償層の形成工程

第１の光学補償層の形成工程の詳細な手順は以下の通りである。

まず、表面を配向処理した基材に液晶組成物（液晶材料含有塗工液）を塗工する。

基材としては、本発明における適切な第１の光学補償層が得られる限りにおいて、任意の適切な基材が用いられる。上記基材としては、任意の適切な基材が採用され得る。具体例としては、ガラス基板、金属箔、プラスチックシートまたはプラスチックフィルムが挙げられる。なお、基材上には配向膜が設けられていてもよいが、設けられなくてもよい。上記プラスチックフィルムとしては、任意の適切なフィルムが採用され得る。具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。さらに、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやそれらのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである。

基材の厚みは、好ましくは２０〜１００μｍであり、さらに好ましくは３０〜９０μｍであり、最も好ましくは３０〜８０μｍである。このような範囲の厚みを有することにより、非常に薄い第１の光学補償層を積層工程において良好に支持する強度が付与され、かつ、すべり性やロール走行性のような操作性も適切に維持される。

基材の表面の配向処理としては、本発明における適切な第１の光学補償層が得られる限りにおいて、任意の適切な配向処理が用いられる。例えば、ラビング処理、斜方蒸着法、延伸処理、光配向処理、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられるが、好ましくは、ラビング処理である。

上記配向処理の配向方向は、偏光子を積層した場合に偏光子の吸収軸と所定の角度をなすような方向である。この配向方向は、形成される第１の光学補償層１２の遅相軸の方向と実質的に同一である。したがって、上記所定の角度は、好ましくは＋８°〜＋３８°または−８°〜−３８°であり、さらに好ましくは＋１３°〜＋３３°または−１３°〜−３３°であり、特に好ましくは＋１９°〜＋２９°または−１９°〜−２９°であり、とりわけ好ましくは＋２１°〜＋２７°または−２１°〜−２７°であり、最も好ましくは＋２３°〜＋２４°または−２３°〜−２４°である。

第１の光学補償層を形成する液晶組成物を、上記基材の上記配向処理が施された表面に塗工し、当該液晶材料を基材上で配向させる。当該液晶材料の配向は、使用した液晶材料の種類に応じて、液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶材料が液晶状態をとり、上記基材表面の配向方向に応じて当該液晶材料が配向する。これによって、塗工により形成された層に複屈折が生じ、第１の光学補償層が形成される。

液晶組成物は、液晶材料を適切な溶媒に溶解または分散して調製する。

上記溶媒としては、上記液晶材料を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶材料の種類等に応じて適宜選択され得る。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ等が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。

上記塗工液における液晶材料の含有量は、液晶材料の種類や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶材料の含有量は、好ましくは５〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０〜４０重量％であり、最も好ましくは１５〜３０重量％である。

上記塗工液は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶材料として液晶モノマーを用いる場合に特に好適に用いられる。上記重合剤の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらもまた、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。上記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物が挙げられる。上記前記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類が挙げられる。上記界面活性剤は、例えば、光学フィルムの表面を平滑にするために用いられ、具体例としては、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が挙げられる。

前記塗工液の塗工量は、塗工液の濃度や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工液の液晶材料濃度が２０重量％である場合、塗工量は、基材の面積（１００ｃｍ²）あたり好ましくは０．０３〜０．１７ｍｌであり、さらに好ましくは０．０５〜０．１５ｍｌであり、最も好ましくは０．０８〜０．１２ｍｌである。

塗工方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。

次いで、上記基材表面の配向方向に応じて、第１の光学補償層を形成する液晶材料を配向させる。当該液晶材料の配向は、使用した液晶材料の種類に応じて、液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶材料が液晶状態をとり、上記基材表面の配向方向に応じて当該液晶材料が配向する。これによって、塗工により形成された層に複屈折が生じ、第１の光学補償層が形成される。

処理温度は、液晶材料の種類に応じて適宜決定され得る。具体的には、処理温度は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。また、処理時間は、好ましくは３０秒以上であり、さらに好ましくは１分以上であり、特に好ましくは２分以上、最も好ましくは４分以上である。処理時間が３０秒未満である場合には、液晶材料が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、処理時間は、好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは８分以下であり、最も好ましくは７分以下である。処理時間が１０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。

また、液晶材料として上記液晶モノマーを用いる場合には、上記塗工により形成された層に、さらに重合処理または架橋処理を施すことが好ましい。重合処理を行うことにより、上記液晶モノマーが重合し、液晶モノマーがポリマー分子の繰り返し単位として固定される。また、架橋処理を行うことにより、上記液晶モノマーが３次元の網目構造を形成し、液晶モノマーが架橋構造の一部として固定される。結果として、液晶材料の配向状態が固定される。なお、液晶モノマーが重合または架橋して形成されるポリマーまたは３次元網目構造は「非液晶性」であり、したがって、形成された第１の光学補償層は、例えば、液晶分子に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。

上記重合処理または架橋処理の具体的手順は、使用する重合開始剤や架橋剤の種類によって適宜選択され得る。例えば、光重合開始剤または光架橋剤を使用する場合には光照射を行えばよく、紫外線重合開始剤または紫外線架橋剤を使用する場合には紫外線照射を行えばよい。光または紫外線の照射時間、照射強度、合計の照射量等は、液晶材料の種類、基材の種類および配向処理の種類、第１の光学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。

次に、上記基材上に形成された上記第１の光学補償層を、上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムの表面に転写する。転写方法は特に限定されず、例えば、基材に支持された第１の光学補償層を接着剤を介して上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムと貼り合わせることにより行われる。転写という方法を採用することにより、非常に優れた製造効率で、フィルム（層）同士の密着性が非常に優れた光学フィルムが得られる。

上記接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。熱硬化型接着剤の具体例としては、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂およびポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂系接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤の具体例としては、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤（特に、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤）が好ましい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のために加熱する必要がないので、第１の光学補償層および偏光子保護フィルムが貼り合わせ（接着）時に加熱されない。その結果、加熱収縮の心配がないので、本発明のように第１の光学補償層および偏光子保護フィルムがきわめて薄い場合であっても、積層時の割れ等が顕著に防止され得る。なお、上記イソシアネート樹脂系接着剤とは、ポリイソシアネート系接着剤、ポリウレタン樹脂接着剤の総称である。

上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよく、上記の各種硬化型樹脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）として調製してもよい。溶液（または分散液）を調製する場合、当該溶液における硬化型樹脂の含有割合は、固形分重量が好ましくは１０〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％であり、とりわけ好ましくは２５〜６５重量％であり、最も好ましくは３０〜５０重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型樹脂の種類に応じて任意の適切な溶媒が採用され得る。具体例としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。

上記接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、第１の光学補償層または偏光子保護フィルムの面積（ｃｍ^２）あたり好ましくは０.３〜３ｍｌであり、さらに好ましくは０.５〜２ｍｌであり、最も好ましくは１〜２ｍｌである。塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１５μｍ、最も好ましくは１μｍ〜１０μｍである。また、接着剤層の押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、好ましくは０．１〜０．５ＧＰａであり、さらに好ましくは０．２〜０．５ＧＰａであり、最も好ましくは０．３〜０．４ＧＰａである。なお、押し込み硬度は、ビッカーズ硬度との相関性が公知であるので、ビッカーズ硬度にも換算できる。押し込み硬度は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（例えば、商品名ＭＨ４０００、商品名ＭＨＡ−４００）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから算出することができる。

最後に、上記基材を上記第１の光学補償層から剥離すれば、上記第１の光学補償層と上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムとの積層が完了する。

Ｂ−２．偏光子の積層工程
さらに、偏光子を、上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムの上記第１の光学補償層と反対側の表面に積層する。偏光子の積層は、本発明における製造方法における任意の適切な時点で行われ得る。例えば、偏光子を予め上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムに積層しておいてもよく、第１の光学補償層を形成した後に積層してもよく、第２の光学補償層を形成した後に積層してもよい。

上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムと偏光子との積層方法としては、任意の適切な積層方法（例えば、接着）が採用され得る。接着は、任意の適切な接着剤または粘着剤を用いて行われ得る。接着剤または粘着剤の種類は、被着体（すなわち、透明保護フィルムおよび偏光子）の種類に応じて適宜選択され得る。接着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、イソシアネート系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられる。粘着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシアネート系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。

上記接着剤または粘着剤の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは５０〜１５０ｎｍである。

本発明における製造方法によれば、上記基材の配向処理において、第１の光学補償層の遅相軸を設定できるので、長手方向に延伸された（すなわち、長手方向に吸収軸を有する）長尺の偏光フィルム（偏光子）を使用することができる。つまり、長手方向に対して所定の角度をなすよう配向処理がなされた長尺の、第１の光学補償層が転写された偏光子保護フィルムと、長尺の偏光フィルム（偏光子）とを、それぞれの長手方向を揃えて連続的に貼りあわせることができる。したがって、非常に優れた製造効率で光学フィルムが得られる。さらに、この方法によれば、フィルムを長手方向（延伸方向）に対して斜めに切り出して積層する必要がない。その結果、切り出した各フィルムにおいて光軸の角度にばらつきが生じることがなく、結果として製品間で品質のばらつきがない光学フィルムが得られる。さらに、切り抜きによる廃棄物も生じないので、低コストで光学フィルムが得られる。加えて、大型偏光板の製造も容易になる。なお、偏光子の吸収軸の方向は、長尺フィルムの長手方向と実質的に平行である。

Ｂ−３．第２の光学補償層の形成工程
さらに、第２の光学補償層を上記第１の光学補償層の表面上に形成する。代表的には、第２の光学補償層は、上記Ａ−４項に記載の高分子フィルムを第１の光学補償層の表面に積層することにより形成される。好ましくは、高分子フィルムは延伸フィルムである。より具体的には、当該高分子フィルムは、上記Ａ−４項に記載したように幅方向に延伸されたフィルムである。このような延伸フィルムは、幅方向に遅相軸を有するので、当該遅相軸は偏光子の吸収軸（長手方向）に実質的に直交している。積層方法は特に限定されず、任意の適切な接着剤または粘着剤（例えば、上記Ｂ−２項に記載の接着剤または粘着剤）を用いて行われる。

あるいは、上記Ａ−４項に記載のように、重合性液晶とカイラル剤とを含む樹脂組成物を任意の適切な基材に塗工し、重合性液晶が液晶状態を呈する温度に加熱し、重合性液晶をカイラル剤によってねじられた状態で（より具体的には、コレステリック構造を形成して）配向させる。この状態で、重合性液晶を重合することにより、当該コレステリック構造が固定されて配向されたフィルムが得られる。このフィルムを基材から第１の光学補償層の表面に転写することにより、第２の光学補償層１３が形成される。

Ｂ−４．具体的な製造手順
図３〜図７を参照して、本発明の製造方法の具体的手順の一例について説明する。なお、図３〜図７において、符号１１１、１１１’、１１２、１１３、１１４、１１５および１１６は、各層を形成するフィルムおよび／または積層体を捲回するロールである。

まず、偏光子の原料となる長尺のポリマーフィルムを準備し、上記Ａ−２項に記載のようにして染色、延伸等を行う。延伸は、長尺のポリマーフィルムについて、その長手方向に連続的に行う。これによって、図３の斜視図に示すように、長手方向（延伸方向：矢印Ａ方向）に吸収軸を有する長尺の偏光子１１が得られる。

一方、図４（ａ）の斜視図に示すように、長尺の基材１６を準備し、その一方の表面にラビングロール１２０によりラビング処理を行う。この際ラビングの方向は、基材１６の長手方向に対して所定の角度を有する方向、例えば、＋２２°〜＋２６°または−２２°〜−２６°の方向とする。次いで、図４（ｂ）の斜視図に示すように、上記ラビング処理を施した基材１６上に、上記Ｂ−１項に記載のようにして第１の光学補償層１２を形成する。この第１の光学補償層１２は、ラビング方向に沿って液晶材料が配向するため、その遅相軸方向は、基材１６のラビング方向と実質的に同一方向（矢印Ｂ方向）となる。

次いで、偏光子保護フィルム（好ましくは、セルロース系樹脂フィルム）１５と、偏光子１１と、上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルム１４と、第１の光学補償層１２および基材１６の積層体１２１とを、矢印方向に送り出し、それぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせ、積層体１２３’を形成する。あるいは、図５（ａ）の模式図に示すように、偏光子保護フィルム（好ましくは、セルロース系樹脂フィルム）１５と偏光子１１と上記ポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルム１４との積層体と、第１の光学補償層１２および基材１６の積層体１２１とを、矢印方向に送り出し、それぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせ、積層体１２３’を形成する。さらに、図５（ｂ）に示すように、積層体１２３’から基材１６を剥離して、積層体１２３（保護層１５、偏光子１１、保護層１４および第１の光学補償層１２）を形成する。なお、図５（ａ）において、符号１２２は、フィルム同士を貼り合わせるためのガイドロールを示す（図６においても同様）。

さらに、図６の模式図に示すように、長尺の第２の光学補償層１３を準備し、これと積層体１２３（保護層１５、偏光子１１、保護層１４および第１の光学補償層１２）とを、矢印方向に送り出し、それぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせる。このようにして本発明の光学補償層付偏光板３００が得られる。

第２の光学補償層１３として、重合性液晶とカイラル剤とを含む樹脂組成物を用いる場合には、図７のような手順が採用され得る。すなわち、図７（ａ）の模式図に示すように、長尺の積層体１２５（基材シート２６に第２の光学補償層１３が支持されたもの）を準備し、これと積層体１２３（保護層１５、偏光子１１、保護層１４および第１の光学補償層１２）とを、矢印方向に送り出し、それぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせる。最後に、図７（ｂ）に示すように基材シート２６を剥離して、本発明の光学補償層付偏光板３００が得られる。

上記のような製造方法によれば、非常に薄い第１および第２の光学補償層をいわゆるロールｔｏロールで貼り合わせることが可能となり、製造効率が格段に向上し得る。

Ｃ．光学補償層付偏光板の用途
本発明の光学補償層付偏光板は、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。適用可能な画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置、ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）が挙げられる。本発明の光学補償層付偏光板を液晶表示装置に用いる場合には、例えば、黒表示における光漏れ防止および視野角補償に有用である。本発明の光学補償層付偏光板は、ＶＡモードの液晶表示装置に好適に用いられ、反射型および半透過型のＶＡモードの液晶表示装置に特に好適に用いられる。また、本発明の光学補償層付偏光板をＥＬディスプレイに用いる場合には、例えば、電極反射防止に有用である。

Ｄ．液晶パネル
本発明の液晶パネルは、液晶セルの少なくとも片面に、本発明の光学補償層付偏光板を有する。好ましい実施形態の１つは、上記液晶セルの両面に本発明の光学補償層付偏光板を有する。液晶セルへの、本発明の光学補償層付偏光板の接着は、該本発明の光学補償層付偏光板の最外層に設けられた粘着剤層を介して接着することが好ましい。本発明においては、上記液晶セルが、反射型または半透過型のＶＡモードであることが好ましい。

図８は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。ここでは、反射型の液晶表示装置用液晶パネルを説明する。液晶パネル１００は、液晶セル２０と、液晶セル２０の下側に配置された光学補償層付偏光板３００と、液晶セル２０の上側に配置された光学補償層付偏光板３００´とを備える。

光学補償層付偏光板３００は、液晶セル２０側から順に、粘着剤層３８、易接着層３９、第２の光学補償層１３、第１の光学補償層１２、粘着剤層３７、特定の構造単位を含んでなるポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルム３４、易接着層３３、接着剤層３２、偏光子３１、接着剤層３５、セルロース系樹脂フィルム３６、輝度向上フィルム４００を備える。光学補償層付偏光板３００´は、液晶セル２０側から順に、粘着剤層３８´、易接着層３９´、第２の光学補償層１３´、第１の光学補償層１２´、粘着剤層３７´、特定の構造単位を含んでなるポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルム３４´、易接着層３３´、接着剤層３２´、偏光子３１´、接着剤層３５´、セルロース系樹脂フィルム３６´、ハードコート層５００を備える。液晶セル２０は、一対のガラス基板２１、２１’と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層２２とを有する。下基板２１’の液晶層２２側には、反射電極２３が設けられている。上基板２１には、カラーフィルター（図示せず）が設けられている。基板２１、２１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー２４によって制御されている。

Ｅ．画像表示装置
次に、本発明の画像表示装置について説明する。本発明の画像表示装置は本発明の液晶パネルを含む。ここでは一例として液晶表示装置について説明するが、本発明が偏光板や液晶パネルを必要とするあらゆる表示装置に適用され得ることはいうまでもない。本発明の偏光板が適用可能な画像表示装置の具体例としては、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）のような自発光型表示装置が挙げられる。図９は、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。図示例では透過型液晶表示装置について説明するが、本発明が反射型液晶表示装置等にも適用されることはいうまでもない。

液晶表示装置２００は、液晶セル２０と、液晶セル２０を挟んで配された光学補償層付偏光板３００、光学補償層付偏光板３００´と、導光板４０と、光源５０と、リフレクター６０とを備える。光学補償層付偏光板３００、光学補償層付偏光板３００´は、その偏光軸が互いに直交するようにして配置されている。液晶セル２０は、一対のガラス基板２１、２１’と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層２２とを有する。一方の基板２１には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線とが設けられている（いずれも図示せず）。他方のガラス基板２１’には、カラーフィルターを構成するカラー層と遮光層（ブラックマトリックス層）とが設けられている（いずれも図示せず）。基板２１、２１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー２４によって制御されている。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例には限定されない。なお、特に示さない限り、実施例中の部およびパーセントは重量基準である。評価は以下のようにして行った。

〈偏光子保護フィルムと偏光子の接着性〉
偏光板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に手でひねりを加えてねじ切ったときの状態を以下の基準で評価した。
○：偏光子と偏光子保護フィルムとが一体化して剥がれが生じない。
△：偏光子と偏光子保護フィルムと端部に剥がれが認められる。
×：偏光子と偏光子保護フィルムとの間に剥がれが認められる。

〈偏光板外観〉
得られた偏光板の外観を評価した。評価は、５０ｍｍ×５０ｍｍの偏光板に対して下記基準で目視により行った。
○：浮きやスジなどが一ヶ所もない。
×：浮きやスジが見られない。
浮きとは偏光子−偏光子保護フィルム間が密着していない状態であり、スジとは偏光子保護フィルム、または偏光子がごく少量面積ではあるが、自身で接着していることを意味する。

〈偏光板の周辺ムラ〉
得られた偏光板の周辺ムラを評価した。評価は、得られた偏光板について、加熱試験（８０℃、２４０時間）を行った後、偏光板を上板０°、下板９０°となるようにガラスに貼り付け、下板側からバックライトで照らし、下記基準で周辺ムラを評価した。周辺ムラの評価は、偏光板のバックライトの反対側（上板から５０センチ離れた位置）に設置した測定機（２次元色分布測定装置、コニカミノルタ社製、商品名：ＣＡ−１５００ｗ）を用いて行った。

〈光学補償層付偏光板の周辺ムラ〉
得られた光学補償層付偏光板の周辺ムラを評価した。評価は、得られた光学補償層付偏光板について、光学補償層付偏光板を上板０°、下板９０°となるようにガラスに貼り付け、下板側からバックライトで照らし、周辺ムラを評価した。周辺ムラの評価は、偏光板のバックライトの反対側（上板から５０センチ離れた位置）に設置した測定機（２次元色分布測定装置、コニカミノルタ社製、商品名：ＣＡ−１５００ｗ）を用いて行った。さらに、上記周辺ムラ評価用サンプルについて、加熱試験（８０℃、２４０時間）を行った後、同様に周辺ムラを評価した。

〈位相差の測定〉
試料フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを、自動複屈折測定装置（王子計測機器株式会社製，自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ）により計測し、面内位相差Δｎｄ（またはＲｅ）および厚み方向位相差Ｒｔｈを算出した。測定温度は２３℃、測定波長は５９０ｎｍであった。

〈偏光度変化率、透過率変化率〉
粘着型偏光板を、長辺に対して偏光板吸収軸が４５°となるように２５ｍｍ×５０ｍｍで打ち抜き、該粘着型偏光板の粘着剤層をガラス板に貼り付けて測定サンプルとした。６０℃／９５％ＲＨの恒温恒湿器に測定サンプルを投入し、所定の時間で取り出し、取り出してから３０分経過した後に、ＤＯＴ−３（村上色彩技術研究所製）にて偏光度変化率、透過率変化率を測定した。

〈厚みの測定〉
厚みが１０μｍ未満の場合、薄膜用分光光度計（大塚電子（株）製 製品名「瞬間マルチ測光システム ＭＣＰＤ−２０００」）を用いて測定した。厚みが１０μｍ以上の場合、アンリツ製デジタルマイクロメーター「ＫＣ−３５１Ｃ型」を使用して測定した。

〈加熱下Ｒｔｈ変化率〉
粘着型偏光板を、ガラス板を挟んで、長辺に対して偏光板吸収軸が、上板４５°、下板１３５°となるように貼り付けて測定サンプルとした。８０℃の恒温器に測定サンプルを投入し、所定の時間で取り出し、Ｒｔｈを測定した。

〈加熱・加湿下Ｒｔｈ変化率〉
粘着型偏光板を、ガラス板を挟んで、長辺に対して偏光板吸収軸が、上板４５°、下板１３５°となるように貼り付けて測定サンプルとした。６０℃／９０％ＲＨの恒温恒湿器に測定サンプルを投入し、所定の時間で取り出し、Ｒｔｈを測定した。

〈液晶パネルの評価〉
得られた液晶パネルの黒表示状態でのコントラストおよびカラーシフトを測定した。測定には、ＥＬＤＩＭ社製「ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ」を用い、全方位／極角０〜８０°までの輝度と色を測定した。

〔製造例１：偏光子の製造〕
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、５重量％（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム＝１／１０）のヨウ素水溶液中で染色した。次いで、３重量％のホウ酸および２重量％ヨウ化カリウムを含む水溶液に浸漬し、さらに４重量％のホウ酸および３重量％のヨウ化カリウムを含む水溶液中で５．５倍まで延伸した後、５重量％のヨウ化カリウム水溶液に浸漬した。その後、４０℃のオーブンで３分間乾燥を行い、厚さ３０μｍの偏光子を得た。

〔製造例２：環構造を有するアクリル系樹脂を含む偏光子保護フィルムの製造〕
メタクリル酸メチル２０重量部、アクリルアミド８０重量部、過硫酸カリウム０．３重量部、およびイオン交換水１５００重量部を反応器中に仕込み、反応器中を窒素ガスで置換しながら７０℃に保った。単量体が完全に重合体に転化するまで反応を続け、メタクリル酸メチル／アクリルアミド共重合体の水溶液を得た。得られた水溶液を懸濁剤として使用した。容量が５リットルで、バッフルおよびファウドラ型撹拌翼を備えたステンレス製オートクレーブに、上記のメタクリル酸メチル／アクリルアミド共重合体懸濁剤０．０５重量部をイオン交換水１６５重量部に溶解した溶液を供給し、４００ｒｐｍで撹拌し、系内を窒素ガスで置換した。次に、下記混合物質（Ａ）を、反応系を撹拌しながら添加し、７０℃に昇温した。

混合物質（Ａ）：
メタクリル酸 ２７重量部
メタクリル酸メチル ７３重量部
ｎ−ドデシルメルカプタン ０．４重量部
２，２´−アゾビスイソブチロニトリル ０．２重量部

内温が７０℃に達した時点を重合開始時点として、１８０分間保ち、重合を終了した。以降、通常の方法に従い、反応系の冷却、ポリマーの分離、洗浄、乾燥を行い、ビーズ状の共重合体（ａ−１）を得た。この共重合体（ａ−１）の重合率は９８％であり、重量平均分子量は１３万であった。

得られた共重合体（ａ−１）を、３８ｍｍφ二軸・単軸複合型連続混練押出機（ＣＴＥ社製、ＨＴＭ３８、Ｌ／Ｄ＝４７．５）に供給した。ホッパー部より窒素を１０Ｌ／分の量でパージしながら、スクリュー回転数７５ｒｐｍ、原料供給量１０ｋｇ／ｈｒ、シリンダ温度２９０℃で分子内環化反応を行い、ペレット状の熱可塑性重合体（Ａ−１）を得た。熱可塑性重合体（Ａ−１）は、グルタル酸無水物構造単位が２８重量％、メタクリル酸メチル構造単位が６８重量％、メタクリル酸メチル構造単位が４重量％であった。

熱可塑性重合体（Ａ−１）とは別に、アクリル弾性体粒子を合成した。冷却器付きのガラス容器（容量５リットル）内に、初期調整溶液として下記組成物（Ｂ）を添加した。

組成物（Ｂ）：
脱イオン水 １２０重量部
炭酸カリウム ０．５重量部
スルホコハク酸ジオクチル ０．５重量部
過硫酸カリウム ０．００５重量部

上記初期調整溶液（組成物（Ｂ））を窒素雰囲気で撹拌しながら、下記組成物（Ｃ）を添加して、７０℃で３０分間反応させて、ゴム質重合体を得た。

組成物（Ｃ）：
アクリル酸ブチル ５３重量部
スチレン １７重量部
メタクリル酸アリル（架橋剤） １重量部

引き続き撹拌しながら、下記組成物（Ｄ）を７０℃、９０分間で連続的に添加し、添加終了後、さらに９０分間保持して、シェル層を形成した。

組成物（Ｄ）：
メタクリル酸メチル ２１重量部
メタクリル酸 ９重量部
過硫酸カリウム ０．００５重量部

得られた重合体ラテックスを硫酸で凝固し、苛性ソーダで中和した後、洗浄、濾過、乾燥して、コアシェル型のゴム質含有重合体であるアクリル弾性体粒子（Ｂ−１）を得た。電子顕微鏡で測定したアクリル弾性体粒子（Ｂ−１）のゴム質重合体部分の平均粒子径は１７０ｎｍであった。また、得られたアクリル弾性体粒子（Ｂ−１）と熱可塑性重合体（Ａ−１）との屈折率差は０．００２であった。

熱可塑性重合体（Ａ−１）８０重量部に対して、アクリル弾性体粒子（Ｂ−１）２０重量部を配合し、日本製鋼社製２軸押出機ＴＥＸ３０（Ｌ／Ｄ＝４４．５）を用いて、ホッパー部より窒素ガスを１０Ｌ／分の量でパージしながら、スクリュー回転数１００ｒｐｍ、原料供給量１０ｋｇ／時間、シリンダ温度２８０℃で混練し、ペレット状のアクリル系樹脂（Ｃ−１）を得た。

撹拌機を備えた３００ｍｌセパラブルフラスコに、得られたアクリル系樹脂（Ｃ−１）５０ｇ、２−ブタノン１５０ｇを入れ、ダブルヘリカルリボン撹拌翼で２４時間撹拌した。得られた溶液を１μｍカットのガラスフィルターで濾過し、アクリル系樹脂溶液を得た。

得られたアクリル系樹脂溶液の一部を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１００μｍ）を固定したガラス板上に取り、バーコーターを用いて均一な膜を形成させた。これを５０℃で１０分間加熱し、自己支持性のフィルムを得た。得られたフィルムをポリエチレンテレフタレートフィルムから剥がして金枠に固定して、さらに１００℃で１０分間、１２０℃で２０分間、１４０℃で２０分間、１７０℃で４０分間加熱し、環構造を有するアクリル系樹脂を含む偏光子保護フィルム（Ｄ−１）を得た。

〔実施例１〕
（易接着層の形成）
シランカップリング剤ＡＰＺ−６６０１（東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製）１００部に対しイソプロピルアルコールを６６．７部加えることにより調製した溶液を、上記で得られたポリメチルメタクリレート系樹脂を含む偏光子保護フィルムの片面（偏光子と接着する面）にワイヤーバー♯５で塗布し揮発分を蒸発させた。蒸発後の易接着層の厚みは５０ｎｍであった。

（接着剤水溶液の調製）
アセトアセチル基変性したポリビニルアルコール樹脂１００重量部（アセチル化度１３％）に対してメチロールメラミン２０重量部を含む水溶液を、濃度０．５重量％になるように調整したポリビニルアルコール系接着剤水溶液を調製した。

（偏光板の作製）
偏光子の片面に上記偏光子保護フィルム（Ｄ−１）の易接着層面が、もう一方の面にはけん化処理された厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタオプト株式会社製、商品名：ＫＣ４ＵＹＷ）のけん化処理面が接するように、上記で調製したポリビニルアルコール系接着剤水溶液を用いて貼り合わせた。ポリビニルアルコール系接着剤水溶液は、それぞれ偏光子保護フィルム（Ｄ−１）の易接着層面側と偏光子との間およびトリアセチルセルロース側と偏光子との間に流し込みながら圧着させ、７０℃で１０分間乾燥させて偏光板を得た。

（粘着剤層の形成）
ベースポリマーとして、ブチルアクリレート：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルアクリレート＝１００：５：０．１（重量比）の共重合体からなる重量平均分子量２００万のアクリル系ポリマーを含有する溶液（固形分３０％）を用いた。上記アクリル系ポリマー溶液にイソシアネート系多官能性化合物である日本ポリウレタン社製コロネートＬをポリマー固形分１００部に対して４部、および添加剤（ＫＢＭ４０３、信越シリコーン製）を０．５部、粘度調整のための溶剤（酢酸エチル）を加え、粘着剤溶液（固形分１２％）を調製した。当該粘着剤溶液を、乾燥後の厚みが２５μｍとなるように、離型フィルム（ポリエチレンテレフタレート基材：ダイヤホイルＭＲＦ３８、三菱化学ポリエステル製）上に塗布した後、熱風循環式オーブンで乾燥して、粘着剤層を形成した。

（粘着型偏光板の作製）
上記偏光板の上記偏光子保護フィルム（Ｄ−１）面に、放電量１３３ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２にてコロナ処理を施した後、上記粘着剤層を形成した離型フィルムを貼り合わせ、粘着剤型偏光板を作製した。

（偏光板の評価）
得られた偏光板における偏光子保護フィルムと偏光子の接着性、外観、および周辺ムラを評価した結果を表１に示す。また、得られた偏光板における偏光度変化率、透過率変化率、加熱下Ｒｔｈ変化率、加熱・加湿下Ｒｔｈ変化率を表２に示す。

（第１の光学補償層の作製）
ａ．基材の配向処理（配向基材の作製）
基材に配向処理を施して配向基材を作製した。すなわち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み５０μｍ）の表面において、ラビング布を用いて、ラビング角度２３°で当該ＰＥＴフィルム表面をラビングし、配向基材を作成した。

ｂ．第１の光学補償層の作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２、液晶転移温度＝６０℃）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）０．５ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（液晶塗工液）を調製した。上記のように作製した配向基材上に、当該液晶塗工液をバーコーターにより塗工した後、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に、高圧水銀ランプを用いて３００ｍＪ/ｃｍ²の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、基材上に第１の光学補償層を形成した。第１の光学補償層の厚みおよび位相差は、液晶塗工液の塗工量を変化させることにより調整した。形成した第１の光学補償層の厚みは３μｍ、面内位相差値Δｎｄは２５０ｎｍであった。

（第２の光学補償層の作製）
光弾性係数の絶対値が３．１×１０^−１２ｍ^２／Ｎである変性ポリカーボネート樹脂からなる厚み４５μｍ程度の帯状フィルムを、１４０℃で横方向に１．５倍に一軸延伸することによって、第２の光学補償層用フィルムを作製した。得られた第２の光学補償層用フィルムの角度β（フィルムの長手方向に対する遅相軸の角度）は９０°、厚みは４０μｍ、面内位相差値Δｎｄは１２０ｎｍであった。

（光学補償層付偏光板の作成）
上記で作製した基材と第１の光学補償層との積層体の第１の光学補償層側を、上記で得られた偏光板の偏光子保護フィルム（Ｄ−１）側に貼り合わせた。その後、図５（ｂ）に示すように、基材を剥離した。次に、図６に示すように、得られた積層体（トリアセチルセルロースフィルム／偏光子／偏光子保護フィルム（Ｄ−１）／第１の光学補償層）の第１の光学補償層側に第２の光学補償層を貼り合わせ、光学補償層付偏光板（１）を得た。
得られた光学補償層付偏光板（１）の偏光子のトリアセチルセルロースフィルム側の最外層にハードコート層を設け、反対側の最外層に粘着剤層を設け、光学補償層付偏光板（１ａ）を得た。
得られた光学補償層付偏光板（１）の偏光子のトリアセチルセルロースフィルム側の最外層に輝度向上フィルムを設け、反対側の最外層に粘着剤層を設け、光学補償層付偏光板（１ｂ）を得た。
光学補償層付偏光板（１ａ）を上板、光学補償層付偏光板（１ｂ）を下板となるようにガラスに貼り付け、周辺ムラを評価した。加熱試験前、加熱試験後、共に周辺ムラは認められなかった。

（液晶パネルの作製）
上記で得られた光学補償層付偏光板（１ａ）の粘着剤層側をＶＡ方式の液晶セルの上板とし、上記で得られた光学補償層付偏光板（１ｂ）の粘着剤層側をＶＡ方式の液晶セルの下板とし、それぞれを該ＶＡセルに貼り付けて液晶パネルとした。

（液晶パネルの評価）
得られた液晶パネルは、コントラストに優れ、カラーシフトも効果的に抑制できた。

〔比較例１〕
実施例１において、光学補償層付偏光板における偏光子の両面にけん化処理された厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタオプト株式会社製、商品名：ＫＣ４ＵＹＷ）のけん化処理面が接するように、上記で調製したポリビニルアルコール系接着剤水溶液を用いて貼り合わせた以外は実施例１と同様に行い、光学補償層付偏光板、液晶パネルを作製した。実施例１と同様に周辺ムラを評価した結果、加熱試験前には周辺ムラは認められなかったが、加熱試験後には周辺部にムラが認められた。

（偏光板の評価）
得られた偏光板における偏光子保護フィルムと偏光子の接着性、外観、および周辺ムラを評価した結果を表１に示す。また、得られた偏光板における偏光度変化率、透過率変化率、加熱下Ｒｔｈ変化率、加熱・加湿下Ｒｔｈ変化率を表２に示す。

（液晶パネルの評価）
得られた液晶パネルは、コントラスト、カラーシフトともに、実施例１の液晶パネルに比べて劣るものであった。

表１を見ると、実施例１は比較例１に比べて、加熱試験後の周辺ムラに優れる（光ぬけがない）。

表２を見ると、実施例１は、比較例１に比べて、偏光度変化率、透過率変化率、加熱下Ｒｔｈ変化率、加熱・加湿下Ｒｔｈ変化率のいずれにおいても優れた結果が得られている。

本発明の光学補償層付偏光板および液晶パネルは、各種画像表示装置（液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等）に好適に用いることができる。

Claims (20)

1. 偏光板と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に有し、
   該偏光板が、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、下記一般式（１）で表される構造単位と下記一般式（２）で表される構造単位とを含んでなるアクリル樹脂を含む偏光子保護フィルムを有し、
   

   

   （一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１〜５の脂肪族または脂環式炭化水素基を表す。）
   

   

   （一般式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）
   該第１の光学補償層が、λ／２板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度αが＋８°〜＋３８°または−８°〜−３８°であり、面内位相差Δｎｄ_１が１８０〜３００ｎｍであり、
   該第２の光学補償層が、λ／４板として機能し、該偏光子の吸収軸と該第２の光学補償層の遅相軸とのなす角度βが＋６１°〜＋１２１°または−３１°〜＋２９°であり、面内位相差Δｎｄ_２が９０〜１８０ｎｍである、
   光学補償層付偏光板。
2. 前記偏光子保護フィルムが、波長５９０ｎｍの光に対する面内位相差Δｎｄが１０ｎｍ以下であり、波長５９０ｎｍの光に対する厚み方向位相差Ｒｔｈが１０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの光に対する光弾性係数が−２×１０^−１２〜２×１０^−１２Ｐａ^−１である、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
3. 前記一般式（２）におけるＲ^３がメチル基、Ｒ^４がメチル基である、請求項１または２に記載の光学補償層付偏光板。
4. 前記偏光子保護フィルムのガラス転移温度が１１０℃以上である、請求項１から３までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
5. 前記偏光子保護フィルムの透湿度が３〜１００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒである、請求項１から４までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
6. 前記偏光子保護フィルムの厚みが、５〜１００μｍである、請求項１から５までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
7. 前記偏光板の、６０℃／９５％ＲＨ下で４９２時間保持した後の下記式（Ａ）で定義される偏光度変化率が−０．５〜０．０％である、請求項１から６までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
   偏光度変化率（％）＝｛（Ｐ_ｔ−Ｐ_０）／Ｐ_０｝×１００ （Ａ）
   Ｐ_０：初期偏光度
   Ｐ_ｔ：ｔ時間後の偏光度
8. 前記偏光板の、６０℃／９５％ＲＨ下で４９２時間保持した後の下記式（Ｂ）で定義される透過率変化率が０．０〜２．５％である、請求項１から７までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
   透過率変化率（％）＝｛（Ｙ_ｔ−Ｙ_０）／Ｙ_０｝×１００ （Ｂ）
   Ｙ_０：初期透過率
   Ｙ_ｔ：ｔ時間後の透過率
9. 前記偏光板の、８０℃下で４８時間保持した後の下記式（Ｃ）で定義されるＲｔｈ変化率が−２．０〜０．０％である、請求項１から８までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
   Ｒｔｈ変化率（％）＝｛（Ｒｔｈ_ｔ−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００ （Ｃ）
   Ｒｔｈ_０：初期Ｒｔｈ
   Ｒｔｈ_ｔ：ｔ時間後のＲｔｈ
10. 前記偏光板の、６０℃／９０％ＲＨ下で４８時間保持した後の下記式（Ｄ）で定義されるＲｔｈ変化率が−２．５〜０．０％である、請求項１から９までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
    Ｒｔｈ変化率（％）＝｛（Ｒｔｈ_ｔ−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００ （Ｄ）
    Ｒｔｈ_０：初期Ｒｔｈ
    Ｒｔｈ_ｔ：ｔ時間後のＲｔｈ
11. 前記偏光子の片面に前記偏光子保護フィルムを有し、もう一方の面にセルロース系樹脂フィルムを有する、請求項１から１０までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
12. 前記偏光子の両面に前記偏光子保護フィルムを有する、請求項１から１０までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
13. 前記偏光子保護フィルムと前記偏光子との間に易接着層および接着剤層を有する、請求項１から１２までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
14. 前記接着剤層が、ポリビニルアルコール系接着剤から形成される層である、請求項１３に記載の光学補償層付偏光板。
15. 最外層の少なくとも一方として粘着剤層をさらに有する、請求項１から１４までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
16. 最外層の一方にハードコート層をさらに有する、請求項１から１５までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
17. 最外層の一方に輝度向上フィルムをさらに有する、請求項１から１６までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
18. 液晶セルの少なくとも片面に、請求項１から１７までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板を有する、液晶パネル。
19. 前記液晶セルが、反射型または半透過型のＶＡモードである、請求項１８に記載の液晶パネル。
20. 請求項１８または１９に記載の液晶パネルを含む、画像表示装置。

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