TW201409094A - 偏光板、偏光板的製造方法及畫像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在提供偏光板，可使顯示裝置充分薄型化，且偏光板及含此之顯示裝置即使在高溫/多濕下保存時，亦可抑制偏光板之變形或翹曲(warp)。本發明之偏光板，含二色性色素(dichroic dyes)，且具有厚度為0.5至10μm之偏光片、玻璃薄膜、及配置在前述偏光片與前述玻璃薄膜之間，由活性能量線硬化性組成物的硬化物所成之接著層。

Description

偏光板、偏光板的製造方法及畫像顯示裝置
本發明係關於偏光板、偏光板之製造方法及畫像顯示裝置。
【先行技術】
近年來，液晶顯示器的市場已在急速擴大。特別是，稱為智慧型手機及平板電腦的中小型行動機器之市場的擴大更為顯著。中小型行動機器，不只要提高顯示畫像的對比，同時更要求其要薄型化及輕量化。因此，目前已在檢討顯示裝置的薄型化。
例如，在液晶顯示裝置中，係包含液晶單元、及配置在分辨側面上的第一偏光板、及配置在背光源側面上的第二偏光板。而第一偏光板，至少含第一偏光片、及配置在分辨側面上的保護膜F1。
為求顯示裝置可薄型化，因此又檢討偏光片厚度之薄化。例如，已有提案為使偏光片，在基材薄膜上塗佈聚乙烯醇系樹脂後，再經過單軸方向延展及染色步驟的製造方法(如專利文獻1及2)。以此操作，相對於以先前方法所得的偏光片厚度係超過20μm，而該獲得的偏 光片厚度為10μm以下。
然而，由於保護膜的厚度為60至100μm，為使偏光板厚度更薄，不只偏光片，亦期望保護膜的厚度可再更薄，甚至加以省略。
再者，在最接近顯示裝置的分辨側處，一般，係設置透明玻璃基板。亦即，構成第一偏光板之第一偏光片與透明玻璃基板，通常，係介保護膜F1而層合。
因此，為可使顯示裝置薄型化，又須再省略保護膜F1；具體地，即須檢討以第一偏光片、與透明玻璃基板在未介保護膜F1下貼合的方法。同時，亦有以超薄膜玻璃作為顯示裝置玻璃基板的提案(如專利文獻3及4)。超薄膜玻璃，厚度係200μm以下，因此可以卷狀捲起，而可使生產性更佳。
〔先前技術文獻〕 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-100161號公報
專利文獻2：日本專利特開2011-248293號公報
專利文獻3：日本專利第4326635號公報
專利文獻4：日本專利特開2011-121320號公報
本案發明人等，為使顯示裝置可更薄型化，而檢討以厚度薄的偏光片與(配置在最接近顯示裝置之分辨側的)玻璃基板，不介保護膜F1而層合。
但是，在以厚度薄的偏光片與玻璃基板不介著熱硬化性樹脂而接著時，由於偏光片與玻璃基板的熱膨脹係數之差大，使偏光片易因熱而殘餘扭力(應力)。因此，會有不只接著後所得到的偏光板易翹曲，偏光板的膜卷在高溫多濕下保存時偏光板亦易於變形，因此產生偏光度易發生減損的問題。再者，顯示裝置含因熱而殘餘扭力的偏光片而在高溫多濕下保存時，亦易發生偏光片扭曲、偏光片產生翹曲的問題。而且此些問題，在偏光片及玻璃基板的厚度薄時更為顯著。
本發明，係鑑於上述情形，目的在提供使顯示裝置可充分薄型化，且在偏光板及含此的顯示裝置在高溫多濕下保存時，亦可抑制偏光板變形及翹曲的偏光板及其製造方法以及含此之畫像顯示裝置。
[1]本發明係一種偏光板，係含有包含二色性色素、厚度0.5至10μm的偏光片、玻璃薄膜、及配置在前述偏光片與前述玻璃薄膜之間，由活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層。
[2]如[1]項中之偏光板，其中前述二色性色素，偏在 前述偏光片之一面上。
[3]如[1]或[2]項中之偏光板，其中前述活性能量線硬化性組成物，含有紫外線吸收劑。
[4]如[1]至[3]之任一項中之偏光板，其中由前述活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層，在波長380nm下之透光度為5%以上40%以下。
[5]如[2]至[4]之任一項中之偏光板，其中由前述活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層，配置在前述偏光片上，前述二色性色素所偏在之面上。
[6]如[1]至[5]之任一項中之偏光板，其中前述玻璃薄膜之厚度，為1至200μm。
[7]如[1]至[6]之任一項中之偏光板，其中在前述偏光板寬度方向的長度為W、與前述偏光板的前述寬度方向垂直之方向的長度為L時，L/W為10至3000，並以與前述偏光板寬度方向垂直之方向捲起成卷狀。
[8]本發明又為一種偏光板的製造方法，係如[1]至[7]之任一項中之偏光板的製造方法，其中含有A)得到偏光片之步驟、B)以前述偏光片在玻璃薄膜上，介活性能量線硬化性組成物層貼合之步驟、C)在前述活性能量線硬化性組成物層上照射活性能量線，使前述活性能量線硬化性組成物硬化之步驟；前述A)得到偏光片的步驟，係包含1)在基材薄膜上塗佈含聚乙烯醇系樹脂的溶液，以得到前述基材薄膜與前述聚乙烯醇系樹脂層的層合物之步驟、2)使前述層合物以單軸方向延展之步驟、及 3)將前述層合物之聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色、或將前述單軸方向延展後的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色之步驟。
[9]如[8]項中之偏光板的製造方法，其中前述C)步驟中，前述活性能量線，介前述玻璃薄膜照射前述活性能量線硬化性組成物層。
[10]如[8]或[9]項中之偏光板的製造方法，其中在前述B)步驟中，在偏光片膜卷所捲開的偏光片、與由玻璃薄膜膜卷所捲開的玻璃薄膜，再介前述活性能量線硬化性組成物層貼合。
[11]如[8]至[10]之任一項中之偏光板的製造方法，其中在前述3)步驟中，前述單軸方向延展後之層合物的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色。
[12]如[8]至[11]之任一項中之偏光板的製造方法，其中再包含在前述C)步驟之後，使層合在前述偏光片上的前述基材薄膜剝離之步驟。
[13]本發明又為一種畫像顯示裝置，其中包含如[1]至[6]之任一項中之偏光板。
本發明中，可使顯示裝置充分薄型化，同時在偏光板及含此之顯示裝置在高溫/多濕下保存時，可抑制偏光板變形及翹曲。
10‧‧‧偏光板
12‧‧‧偏光片
14、64、84、124‧‧‧玻璃薄膜
16、66、86、126‧‧‧活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層
20‧‧‧液晶顯示裝置
40‧‧‧液晶單元
60‧‧‧第一偏光板
62‧‧‧第一偏光片
68‧‧‧保護膜(F2)
80‧‧‧第二偏光板
82‧‧‧第二偏光片
88‧‧‧保護膜(F3)
90‧‧‧背光源
110‧‧‧有機EL顯示裝置
112‧‧‧光反射電極
114‧‧‧發光層
116‧‧‧透明電極層
118‧‧‧透明基板
120‧‧‧圓偏光板
122‧‧‧偏光片(直線偏光膜)
128‧‧‧λ/4板
[第1圖]所示係本發明偏光板之構成之一例的模式圖。
[第2圖]所示係本發明液晶顯示裝置之構成之一例的模式圖。
[第3圖]所示係本發明有機EL顯示裝置之構成之一例的模式圖。
[第4圖]所示係說明圓偏光板之抗反射機能的模式圖。
〔發明之實施形態〕 1.偏光板
第1圖，係表示本發明偏光板之構成之一例的模式圖。如第1圖所示，本發明的偏光板10，係包含：偏光片12、玻璃薄膜14、及配置在其間，由活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層16。本發明的偏光板10，使用上特別以偏光板配置在畫像顯示裝置分辨側上為佳。
關於偏光片12
偏光片，係可單使一定方向的偏振波面光通過的元 件。偏光片，係含聚乙烯醇系樹脂的偏光膜；具體言之，即含聚乙烯醇系樹脂的膜藉由單軸方向延展、並以二色性染料染色所得之膜。
偏光片中所含之聚乙烯醇系樹脂之例，可舉如聚乙烯醇樹脂及其衍生物。聚乙烯醇樹脂之衍生物之例，可包含聚乙烯基甲醛、聚乙烯基乙醛、聚乙烯醇樹脂為烯烴(如乙烯及丙烯)、不飽和羧酸(如丙烯酸、甲基丙烯酸及巴豆酸)、不飽和羧酸之烷基酯、丙烯醯胺等所改質之物種。當中，在使偏光特性及耐久性優異、色斑少等方面，以聚乙烯醇樹脂、乙烯改質之聚乙烯醇樹脂較佳。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，以100至10000為佳，1000至10000更佳。在平均聚合度未達100時，會有不易得到充分偏光特性的情形。另一方面，在平均聚合度超過10000時，易降低對水之溶解性。聚乙烯醇系樹脂的平均皂化價，以80至100莫耳%為佳，98莫耳%以上更佳。在平均皂化價未達80莫耳%時，會有不易得到充分偏光特性的情形。
二色性色素之例，可包含碘及有機染料等。有機染料之例，可舉如：偶氮系色素、茋系色素、吡唑酮系色素、三苯基甲烷系色素、喹啉系色素、噁嗪系色素、噻嗪系色素及蒽醌系色素等。
偏光片，亦可視須要含可塑劑、界面活性劑等添加劑。可塑劑之例，可包含聚醇及其縮合物，具體之 例可舉如：丙三醇、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。此等添加劑之含量，可如為相對聚乙烯醇系樹脂之20重量%以下。
偏光片中之二色性色素，為了使薄膜之偏光片亦可得到高偏光度，而以偏在偏光片一方之面為佳。該二色性色素所偏在之層的厚度，相對於偏光片之厚度可為80%以下。
含偏在一方之面的二色性色素之偏光片，可以將片面以光罩膜及基材薄膜保護之偏光片，以浸漬在含二色性色素的溶液中之方法、及以噴嘴塗佈機等單在偏光片片面上塗佈含二色性色素的溶液之方法等製作。
二色性色素，是否偏在偏光片的厚度方向，以偏光片之橫截面經過掃描型電子顯微鏡(SEM)觀察即可確定。
偏光片，又以在二色性色素所偏在之面上，層合活性能量線硬化性組成物的硬化物所成之接著層為佳。偏光片，在二色性色素所偏在之面，由活性能量線硬化性組成物的硬化物所成之接著層所覆蓋時，可使偏光片上二色性色素所偏在的面，不易受到外部環境之熱及濕度的影響，因此可抑制二色性色素的定向減損。
偏光片的厚度，並無特別之限定，但以30μm以下為佳，為使偏光板可充分薄型化，又以10μm以下較佳。另一方面，偏光片之厚度，為可確保一定以上之強度及染色性，又以0.5μm以上為佳，3μm以上更佳。
關於玻璃薄膜14
玻璃薄膜的材質，可舉：鈉鈣玻璃、矽酸鹽玻璃等，而以矽酸鹽玻璃較佳，氧化矽玻璃或硼矽酸玻璃更佳。
構成玻璃薄膜的玻璃，為實質上不含鹼成分的無鹼玻璃，具體言之，即鹼成分之含量為1000ppm以下的玻璃又更佳。玻璃薄膜中之鹼成分含量，以500ppm以下又更佳，300ppm以下又再更佳。含鹼成分的玻璃薄膜，薄膜表面上會發生陽離子之取代，因此易產生玻璃的鹼白霧現象。因而，易降低膜表層的密度，成為玻璃薄膜易破損之原因。
玻璃薄膜的厚度，以300μm以下為佳，為可確保一定的強度，且可賦予其可撓性而易於捲成膜卷，又以1至200μm為佳，1至100μm更佳，5至50μm又更佳。在玻璃薄膜的厚度超過300μm時，無法賦予充分的可撓性，因此不易捲成卷狀。另一方面，在玻璃薄膜的厚度未達1μm時，會使玻璃薄膜的強度不足，易於破損。
玻璃薄膜，可以一般已知的方法，如：浮製玻板法、下拉成形法、溢流-下拉成形法等成形。其中，可由於成形時玻璃薄膜之表面不與成形組成材料接觸，因此所得之玻璃薄膜表面不會損傷，而以溢流-下拉成形法較佳。
關於以活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層16
以活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層，係具有與前述偏光片及玻璃薄膜接著的機能。活性能量線硬化性組成物，如後面所述，係包含活性能量線硬化性化合物。活性能量線硬化性化合物，係以紫外線硬化性化合物較佳。
紫外線硬化性化合物，可為陽離子聚合性化合物，亦可為自由基聚合性化合物。紫外線硬化性化合物，可為單體、寡聚物、聚合物或此等之混合物。
陽離子聚合性化合物，為使硬化物與受接著物的接著性增加，而以環氧化合物較佳，而為使塗佈性優良，而以常溫下為液體之環氧化合物更佳。
常溫下為液體之環氧化合物，可包含：脂族環氧化合物、脂環環氧化合物、芳族環氧化合物。當中，為使環氧化合物所有之黏度低、且硬化性高，而以脂環環氧化合物較佳。
脂環環氧化合物之例，可包含以下所舉者。
(式中，Y表示亦可以鹵素原子取代的碳數1至4之烷基；R1表示碳數1至4之烷基；P表示0或1)
脂族環氧化合物之例，可包含：聚乙二醇二環氧丙基醚、聚丙二醇二環氧丙基醚、新戊基二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚及下述含環氧丙氧基的烷氧基矽烷等。
(式中，Y表示亦可以鹵素原子取代的碳數1至4之烷基；R1表示碳數1至4之烷基；P表示0或1)
芳族環氧化合物之例，可包含：甲酚型酚醛 樹脂型環氧樹脂、雙酚A型環氧樹脂及雙酚F型環氧樹脂等。
常溫下為液體之環氧化合物，可為一種，亦可為二種以上之混合物。為使硬化性增加，活性能量線硬化性組成物中脂環環氧化合物的含量，以相對於活性能量線硬化性化合物合計量為30%以上為佳。
自由基聚合性化合物，以具有可能以自由基聚合的乙烯性不飽和鍵之化合物為佳。自由基聚合性化合物，可為一種，亦可為二種以上之混合物。
具有可能以自由基聚合之乙烯性不飽和鍵的化合物之例，可包含：不飽和羧酸酯化合物。不飽和羧酸酯化合物中之不飽和羧酸之例，可包含：(甲基)丙烯酸、依康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等。不飽和羧酸酯化合物，以(甲基)丙烯酸酯化合物較佳。
(甲基)丙烯酸酯化合物之例，可包含：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯等單官能(甲基)丙烯酸酯化合物；二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸-1,4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸-1,6-己二醇酯等二官能(甲基)丙烯酸酯化合物；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三 (甲基)丙烯酸新戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯等三官能以上之(甲基)丙烯酸酯化合物。當中，為使硬化性增加，而以二官能或三官能以上之(甲基)丙烯酸酯化合物較佳。
(甲基)丙烯酸酯化合物，亦可再含環氧丙基等。含環氧丙基之(甲基)丙烯酸酯化合物之例，可包含：(甲基)丙烯酸環氧丙酯等。
活性能量線硬化性組成物，亦可視須要含：石油樹脂、聚酯樹脂、聚胺脂樹脂、丙烯酸樹脂、聚醚樹脂等其他樹脂、及紫外線吸收劑等。當中，為使玻璃薄膜與偏光片的接著性提高，而以活性能量線硬化性組成物，亦即，由活性能量線硬化性組成物之硬化物所成的接著層，再含有紫外線吸收劑較佳。
紫外線吸收劑，並無特別之限定，其例可包含：氧二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、三系化合物、鎳錯鹽系化合物、無機粉體等。當中，以苯并三唑系化合物、二苯甲酮系化合物、三系化合物較佳，苯并三唑系化合物、二苯甲酮系化合物更佳。
紫外線吸收劑之具體例，可舉如：5-氯-2-(3,5-二第二丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、(2-2H-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈及支鏈十二碳烷基)-4-甲基酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基 丁基)酚、2-羥基-4-苯甲基氧二苯甲酮、2,4-苯甲基氧二苯甲酮等。紫外線吸收劑商品之較佳例可舉如：Tinuvin 109、Tinuvin 171、Tinuvin 234、Tinuvin 326、Tinuvin 327、inuvin 328、Tinuvin 928等Tinuvin類(所有均為BASF日本公司所製造)。
其他，可舉如：含1,3,5-三環的化合物等之圓盤狀化合物、及高分子紫外線吸收劑；具體之例，可舉如：日本專利特開平6-148430號公報中所載之聚合物型紫外線吸收劑等亦適於使用。
紫外線吸收劑，可為一種，亦可為2種以上之混合物。
紫外線吸收劑之含量，係依照紫外線吸收劑之種類及使用條件等而設定，但以相對於以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層的0.5至15質量%為佳，0.6至10質量%更佳。在紫外線吸收劑含量未達0.5質量%時，會使偏光片近旁的活性能量線硬化性組成物過度硬化，而易使所得的接著層之彈性率變高。因此，使該接著層，在高溫多濕下無法充分吸收偏光片的變形。另一方面，在紫外線吸收劑含量超過15質量%時，易使偏光片近旁的活性能量線硬化性組成物硬化不足，因此不易充分得到與偏光片的接著性。
以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層在波長380nm下之透光度，以5至40%為佳，5至35%更佳。透光度未達5%的接著層，由於含過多的紫外 線吸收劑，常使偏光片近旁的活性能量線硬化性組成物之硬化不足。另一方面，在接著層透光度超過40%時，由於幾乎不含紫外線吸收劑，使偏光片近旁的接著層之彈性率過高，在高溫多濕下保存時會不易吸收偏光片的收縮應力。以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層的透光度，可以紫外線吸收劑之含量及種類等調整。
以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層在波長380nm下之透光度，可以分光光度計(日本分光公司製造，紫外可見近紅外光分光光度計V-670)測定。
以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層的厚度，並無特別的限定，而以1至30μm為佳，3至20μm更佳。在未達1μm時，會使以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層與偏光片或玻璃薄膜的接著性不足。另一方面，在超過30μm時，會使偏光板過厚。
關於保護膜
本發明之偏光板，視須要在偏光片上，在以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層的對側之面上，亦可再含保護膜。
保護膜可包含：纖維素酯、環烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂等熱塑性樹脂。當中，保護膜，在與偏光片的接著性優良等方面，以含纖維素酯較佳。
纖維素酯
纖維素酯，係纖維素的羥基，經過脂族羧酸或芳族羧酸酯化所得之化合物。
纖維素酯中所含之醯基，係脂族醯基或芳族醯基，而以脂族醯基為佳。當中，脂族醯基的碳數，以2至6為佳，2至4更佳。碳數2至4脂族醯基之例，可包含：乙醯基、丙醯基、丁醯基等，而以乙醯基、丙醯基較佳。
纖維素酯醯基之總取代率，為2.0至3.0，但為可延展得到高相位差，以2.0至2.6較佳。
纖維素酯醯基之取代率，可依照ASTM-D817-96測定。
纖維素酯之例，可包含：纖維素乙酸酯、纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等，而以纖維素乙酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯較佳。
纖維素酯的乙醯基之取代率，為可表現相位差，以2.0至2.6較佳。纖維素酯中所含，乙醯基以外的醯基之取代率以1.0以下為佳。
纖維素酯的數量平均分子量，為可得到高機械強度之薄膜，以3.0×104以上未達2.0×105為佳，4.5×104以上未達1.5×105更佳。纖維素酯的重量平均分子量，以1.2×105以上未達2.5×105為佳，1.5×105以上未達 2.0×105更佳。
纖維素酯的分子量分布(重量平均分子量Mw/數量平均分子量Mn)以1.0至4.5為佳。
纖維素酯的數量平均分子量Mn及重量平均分子量Mw，可以凝膠滲透層析儀(GPC)測定。測定條件如下。
溶劑：二氯甲烷
管柱：以Shodex K806、K805、K803G(昭和電工公司製造)3管連接使用。
管柱溫度：25℃
試料濃度：0.1質量%
檢測器：RI Model 504(GL科學公司製造)
幫浦：L6000(日立製作所公司製造)
流量：1.0ml/min
校正曲線：使用的標準聚苯乙烯STK standard係使用Mw=1.0×106至5.0×102的13種聚苯乙烯(東曹公司製造)樣品為校正曲線。13種樣品，以選擇約為等間隔者為佳。
保護膜，視其須要亦可再含：可塑劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光安定劑、光阻滯調整劑、抗帶電劑、剝離劑、消光劑(微粒)等添加劑。
保護膜之厚度，以10至200μm為佳，10至100μm更佳，15至45μm又更佳。在膜厚度超過200μm時，易使熱及濕度的位相差之變動增加。另一方面，在膜 厚度未達10μm時，不易得到充分的膜強度。
保護膜面內方向或厚度方向之光阻滯，可依照液晶單元之顯示方式、及所欲的光學性能設定。例如，為調整IPS方式的液晶單元的位相差，保護膜方面，在23℃、55%RH之環境、波長590nm下測定的所有面內方向的光阻滯Ro及厚度方向的光阻滯Rth，均以-3nm以上3nm以下為佳，-2nm以上2nm以下更佳。
光阻滯Ro及Rth，係各以以下之式定義者。
式(I) Ro=(nx-ny)×d
式(Ⅱ) Rth={(nx+ny)/2-nz}×d
(nx：膜面內慢軸方向x之折射率，ny：膜面內，相對慢軸方向x的垂直方向y之折射率，nz：膜之厚度方向z的折射率，d：膜之厚度(nm))
光阻滯Ro及Rth，可以如下的方法測定。
1)先將膜，以23℃、55%RH調濕。再以阿倍折射計(Abbe refractometer)等測定調濕後膜之平均折射率。
2)調濕後之膜，再以王子計測公司製造之KOBRA 21 ADH，以平行該膜表面法線測定射入測定波長590nm的光時之Ro。
3)以KOBRA 21 ADH，測定以膜面內之慢軸為傾斜軸(旋轉軸)，而由對膜表面法線為θ之角度(入射角(θ))射入測定波長為590nm之光時之光阻滯值R(θ)。光阻滯值R(θ)之測定，係在θ為0°至50°之範圍下、以各10°操作6點進行。膜面內之慢軸，可再以 KOBRA 21 ADH確定。
4)之後再由所測定之Ro及R(θ)，以及由前述平均折射率及膜厚，以KOBRA 21 ADH，計算nx、ny及nz，以及測定波長590nm下之Rth。光阻滯的測定，可在23℃、55%RH之條件下進行。
膜，係依照JIS K-7136所測定的內部濁度，而以0.01至0.1為佳。膜之可見光透光度，以90%以上為佳，93%以上更佳。
2.本發明偏光板之製造方法
本發明偏光板之製造，可以經過：A)得到厚度0.5至10μm偏光片之步驟、B)偏光片在玻璃薄膜上，介活性能量線硬化性組成物層貼合之步驟、C)在活性能量線硬化性組成物層上照射活性能量線，使活性能量線硬化性組成物硬化之步驟。
A)得到偏光片之步驟
得到偏光片之步驟，至少包含：1)在基材薄膜上塗佈含聚乙烯醇系樹脂之溶液，以得到基材薄膜及聚乙烯醇系樹脂層的層合物之步驟；2)層合物以單軸方向延展之步驟；及3)將層合物之聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色、或將單軸方向延展後之聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色之步驟。
1)塗佈步驟
以含聚乙烯醇系樹脂之溶液，塗佈在基材薄膜之一方之面之後，再經過乾燥，即可得到基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層之層合物。以該操作，即可形成薄而厚度均一的聚乙烯醇系樹脂層。
含聚乙烯醇系樹脂之溶液，可以聚乙烯醇系樹脂之粉末溶於良溶劑而得到。其中之聚乙烯醇系樹脂，係與前述相同。
層合物中聚乙烯醇系樹脂層之厚度，以如3至30μm為佳，5至20μm更佳。在未達3μm時，會使延展後的聚乙烯醇系樹脂層過薄，而易減低染色性。另一方面，在超過30μm時，則易使偏光板過厚。
含聚乙烯醇系樹脂溶液之塗佈，可以一般已知之方法，如：繞線棒塗佈法等輥塗佈法、旋轉塗佈法、網版印刷塗佈法、含浸塗佈法、噴塗塗佈法等操作。乾燥之溫度，可以如50至200℃操作。
基材薄膜的材質，並無特別之限定，但以高機械強度、延展性及熱安定性等之熱塑性樹脂為佳。該類熱塑性樹脂之例，可包含：纖維素酯等纖維素酯樹脂；聚乙烯對苯二甲酸酯等聚酯樹脂；聚乙烯及聚丙烯等聚烯烴樹脂等。
基材薄膜的玻璃態轉變溫度(Tg)，只要為適於延展的範圍即可，可為如60℃以上250℃以下。
基材薄膜的厚度，並無特別之限定，但為得 到一定以上的膜強度等，以1至500μm為佳，1至300μm更佳，5至200μm又更佳。
2)延展步驟
基材薄膜、與聚乙烯醇系樹脂層之層合物係以單軸方向延展。層合物的延展倍率，可視所欲之偏光特性設定，而以2至7倍為佳，5至7倍更佳。在延展倍率未達2倍時，聚乙烯醇系樹脂的分子鏈未充分定向，因此易使所得之偏光片的偏光度不足。另一方面，在延展倍率超過7倍時，不只易使延展時之層合物斷裂，亦會使延展後的層合物厚度比必要更薄。
單軸方向延展，可向層合物的寬度方向(TD方向)、轉送方向(MD方向)或斜向方向之任一方向操作，而以轉送方向(MD方向)操作較佳。向轉送方向(MD方向)的單軸方向延展方法，可以使用：輥間延展方法、壓縮延展方法、使用拉幅機的延展方法等操作。同時，單軸方向延展，可以自由端延展、亦可以固定端延展，而以自由端延展較佳。
延展處理，可以濕式進行，亦可以乾式進行，為使層合物之延展溫度設定在較廣之範圍，係以乾式進行較佳。
延展溫度，以設定為接近基材薄膜之Tg為佳，具體言之，以在(基材薄膜之Tg-30℃)至(基材薄膜之Tg+5℃)之範圍為佳，在(基材薄膜之Tg-25℃)至 (基材薄膜之Tg)之範圍更佳。在延展溫度，未達(基材薄膜之Tg-30℃)時，會難以如前述以高倍率延展。另一方面，在延展溫度超過(基材薄膜之Tg+5℃)時，易使基材薄膜的流動性過大因而延展困難。延展溫度，以在上述範圍內為佳，在120℃以上更佳。
3)染色步驟
聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色之步驟，在延展步驟之同時或前後進行均可，但為使二色性色素可良好地定向，以在延展步驟之後進行為佳。
聚乙烯醇系樹脂層之染色，可以單軸方向延展後之層合物，浸漬在含二色性色素之溶液(染色溶液)中進行。
染色溶液，可為前述二色性色素溶於溶劑中之溶液。該染色溶液之溶劑，一般以水為佳，但以水與可與其互溶之有機溶劑的混合物亦可。染色溶液中二色性色素之濃度，以0.01至10重量%為佳，0.02至7重量%更佳，特別以0.025至5重量%又更佳。
其二色性色素為含碘之染色溶液，為使染色效率更為提高，因此以再含碘化物為佳。該碘化物之例，可包含：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等，而以碘化鉀較佳。
染色溶液中碘化物之濃度，以0.01至10重量 %為佳。在碘化物為碘化鉀時，所含之碘與碘化鉀之比例，以質量比在1：5至1：100之範圍為佳，在1：6至1：80之範圍更佳。
層合物在單軸方向延展之後，在染色溶液中之浸漬時間，並無特別之限定，而以在15秒至15分鐘之間之範圍為佳，在1分鐘至3分鐘之間更佳。再者，染色溶液之溫度，以在10至60℃之範圍為佳，在20至40℃之範圍更佳。
在染色步驟之後，為使染色的二色性色素易於固定在聚乙烯醇系樹脂層上，亦可再視須要進行4)交聯步驟。
4)交聯步驟
交聯步驟，可將染色步驟所染色之層合物，再於如含交聯劑之溶液(交聯溶液)中進行浸漬。該交聯劑，可使用一般已知之物種，其例，可包含：硼酸、硼砂等硼化合物、及乙二醛、戊二醛等。
交聯溶液，可為以交聯劑溶於溶劑中之溶液。與前面所述同樣地，溶劑，亦可為水與可與水互溶的有機溶劑之混合物。交聯溶液中交聯劑之濃度，以在1至10重量%之範圍為佳，2至6重量%更佳。
交聯溶液，為使在所得之偏光片面內的偏光特性均一，以再含碘化物較佳。碘化物，可與前述相同。交聯溶液中碘化物之濃度，以0.05至15重量%為佳，0.5 至8重量%更佳。
染色的層合物，在交聯溶液中之浸漬時間，以15秒至20分鐘為佳，30秒至15分鐘更佳。再者，交聯溶液的溫度，以在10至80℃之範圍為佳。
交聯步驟，以染色溶液中含交聯劑，並與染色步驟同時進行為佳。再者，交聯步驟亦可與延展步驟同時進行。
如此操作所得之層合物，再經過水洗後，以加以乾燥為佳。水洗，可將所得之層合物，浸漬在離子交換水、蒸餾水等純水中進行。水洗溫度，一般，以在3至50℃之範圍為佳，4至20℃更佳。浸漬時間，以2至300秒為佳，5至240秒更佳。
如此，塗佈步驟中之聚乙烯醇系樹脂層，即至少經過延展步驟及染色步驟，成為偏光片。偏光片，係由二色性色素向延展方向以單軸方向定向。該偏光片中二色性色素之定向狀態，可如以商品之自動複折射測定儀(王子計測機器公司製造：KOBAR-WPR)等測定。
在本步驟所得之偏光片，亦可為以垂直寬度方向捲起之膜卷。
B)偏光片與玻璃薄膜之貼合步驟
之後再將前述所得的層合物之偏光片於玻璃薄膜上，介活性能量線硬化性組成物層貼合。該玻璃薄膜，可使用前述所述者。
活性能量線硬化性組成物層，可在偏光片上或玻璃薄膜上，塗佈活性能量線硬化性組成物後，再加以乾燥得到。活性能量線硬化性組成物層，可配置在偏光片之二色性色素所染色之面上，亦可配置在未以二色性色素染色之面上。但為抑制高溫多濕下二色性色素的定向減損，活性能量線硬化性組成物層，以配置在偏光片之二色性色素所染色的面上較佳。
活性能量線硬化性組成物，係含：前述活性能量線硬化性組成物、光聚起始劑，視其須要亦可再含：紫外線吸收劑、界面活性劑、偶合劑、塗平劑、消泡劑等添加劑。
光聚起始劑，可依照活性能量線硬化性化合物之種類選擇，可為陽離子光聚起始劑或自由基光聚起始劑。
陽離子光聚起始劑之例，可包含：PP-33(旭電化工業公司製造)等芳基重氮鹽；FC-509(3M公司製造)、UVE 1014(G.E.公司製造)、UVI-6974、UVI-6970、UVI-6990、UVI-6950(Union Carbide公司製造)、SP-170、SP-150(旭電化工業公司製造)等芳基鋶鹽；芳基錪鹽；及CG-24-61(Ciba Geigy公司製造)等之重烯-離子錯合物。
自由基光聚起始劑，係使前述自由基聚合性化合物聚合之物種，而有分子內斷鍵型及分子內脫氫型。分子內斷鍵型自由基光聚起始劑之例，可包含：1-羥基- 環己基苯基酮、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等苯乙酮系；苯偶姻、苯偶姻甲基醚等苯偶姻類；氧化-2,4,6-三甲基苯偶姻二苯基膦等氧化醯基膦系等。
分子內脫氫型自由基光聚起始劑之例，可包含：二苯甲酮、鄰苯甲基苯甲酸甲酯-4-苯基二苯甲酮等二苯甲酮系；2-異丙基硫雜蒽酮、2,4-二甲基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮系；米其勒酮、4,4’-二乙基胺基二苯甲酮等胺基二苯甲酮系等。
活性能量線硬化性組成物中光聚起始劑之含量，相對於活性能量線硬化性化合物以0.5至30質量%為佳。
包含界面活性劑，目的係為使活性能量線硬化性組成物，易於在偏光片及玻璃薄膜上塗平。界面活性劑，並無特別之限定，而以聚矽氧烷系界面活性劑為佳，聚醚改質聚矽氧烷系界面活性劑更佳。聚矽氧烷系界面活性劑之商品之例，可包含：日本NUC公司製造之L系列產品(如：L-7001、L-7006、L-7604、L-9000)、Y系列產品、FZ系列產品(如：FZ-2203、FZ-2206、FZ-2207)等。
活性能量線硬化性組成物中界面活性劑之含量，可為相對於該組成物中之固形成分之0.01至3質量%程度。
偶合劑，包含之目的係為提高以活性能量線 硬化性組成物之硬化物所成之接著層與玻璃薄膜的接著性。偶合劑之例，可包含：乙烯基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷等矽烷偶合劑。
活性能量線硬化性組成物中偶合劑之含量，可為0.2至2.0質量%程度。
活性能量線硬化性組成物之25℃下的黏度，為使作業性佳、硬化物之透明性提高等，以在20至2000mPa‧s之範圍為佳。
活性能量線硬化性組成物之塗佈，可在玻璃薄膜上進行，亦可在偏光片上進行，但為使塗膜之厚度易於均一，以在玻璃薄膜上進行較佳。含活性能量線硬化性化合物的組成物之塗佈方法，並無特別之限定，可以：繞線棒塗佈法等輥塗佈法、旋轉塗佈法等操作。
活性能量線硬化性組成物層之厚度，可設定使硬化後之厚度在前述範圍，例如可在0.5至50μm程度。
活性能量線硬化性組成物層中紫外線吸收劑之含量，係以設定使硬化後所得到的接著層中之含量在前述範圍為佳。在紫外線吸收劑的含量過多時，易使硬化後所得到的接著層之透光度無法達到5%。因此，會使活性能量線，在介著玻璃薄膜照射在活性能量線硬化性組成物層時，該活性能量線無法充分達到偏光片近旁的活性能量線硬化性組成物上，因而易使活性能量線硬化性組成物的硬化不足。另一方面，在紫外線吸收劑的含量過少時，易 使硬化後所得到的接著層之透光度超過40%。因此，在活性能量線，介著玻璃薄膜照射在活性能量線硬化性組成物層時，使偏光片近旁的活性能量線硬化性組成物過度硬化。因而，使偏光片近旁以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層的彈性率過高，在高溫多濕下保存時不易吸收偏光片收縮之應力。
本步驟中，以由偏光片膜卷所捲開的偏光片、與由玻璃薄膜膜卷所捲開的玻璃薄膜，再介活性能量線硬化性組成物層貼合為佳。
C)活性能量線硬化性組成物層硬化步驟係以活性能量線照射活性能量線硬化性組成物層，使活性能量線硬化性組成物硬化。藉此，可得到以活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層。
活性能量線，可為：可見光、紫外線、X射線、電子束等，一般，為紫外線。活性能量線之光源，並無特別之限定，可為發出波長200至400nm光的光源；舉例如：高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵素燈、氙氣燈、碳弧燈等。
活性能量線，可介玻璃薄膜照射活性能量線硬化性組成物層，亦可介偏光片照射活性能量線硬化性組成物層。在活性能量線硬化性組成物含紫外線吸收劑之情形時，活性能量線，以介玻璃薄膜照射活性能量線硬化性組成物層為佳。此係由於可使在偏光片近旁之活性能量線硬化性組成物的硬化度減低之故。
活性能量線之照射強度，係視活性能量線硬化性組成物層的組成而定，而以在可活化陽離子光聚起始劑之波長區域的照射強度，而以1至3000mW/cm2之範圍為佳。
活性能量線之照射時間，以如設定在照射強度與照射時間之積所表示的累積光量在10至5000mJ/cm2之範圍為佳。在累積光量未達10mJ/cm2時，會使陽離子光聚起始劑之活化不足，因此會有活性能量線硬化性組成物無法充分硬化的情形。
D)基材薄膜剝離步驟
係由以此操作所得到之基材薄膜/偏光片/活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層/玻璃薄膜所成的層合物剝離基材薄膜。如此，偏光片，即可在剝離基材薄膜側之面上，視須要再貼著保護膜而得到偏光板。該保護膜，為與前述相同者。
所得之偏光板，亦可以垂直寬度方向的方向捲起之膜卷保存。在膜卷中之偏光板，為可使其生產性佳，在偏光板寬度方向之長度為W、垂直偏光片寬度方向的長度為L時，L/W以在10至3000之範圍為佳。
如此本發明中，可在偏光片與玻璃薄膜不須介保護膜F1而貼合。因此，可較以偏光片及玻璃基板介保護膜F1貼合的先前方法，得到薄的偏光板。再者，本 發明中，係使用以塗佈法得到之薄膜偏光片，因此可較使用厚膜偏光片的先前方法，得到更薄的偏光板。
另一方面，在以薄膜偏光片與玻璃薄膜介熱硬化性組成物層接著時，偏光片與玻璃薄膜之熱膨脹係數之差大，因此偏光片中易殘餘源於熱的扭力(應力)。因而，易於降低偏光片的偏光度、或接著時使偏光板變形、或所得到之偏光板在高溫多濕下保存時偏光片收縮而產生偏光板變形及翹曲。是故，殘餘之扭力(應力)使偏光板變形及翹曲，特別在偏光片的厚度薄時更為顯著。
相對於此本發明中，偏光片與玻璃薄膜，係介活性能量線硬化性組成物層接著。亦即，以活性能量線照射活性能量線硬化性組成物層而接著，因此無須加熱，使偏光片不易殘餘源於熱之扭力(應力)。因而，可抑制接著時偏光板之變形、及偏光板的膜卷在高溫多濕下保存時使偏光板變形、顯示裝置在高溫多濕下保存時使偏光板翹曲等。同時，薄膜的偏光片，較先前之厚膜偏光片，偏光片因熱及濕度的收縮力亦小。
再者，使活性能量線硬化性組成物層為波長380nm下之透光度為5%以上40%以下，在以活性能量線，介玻璃薄膜照射活性能量線硬化性組成物層時，可不妨礙玻璃薄膜近旁之活性能量線硬化性組成物的硬化，而稍抑制偏光片近旁之活性能量線硬化性組成物的硬化。因此，可使活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層，與玻璃薄膜之接著強度高，且降低與偏光片的接著強 度。結果，在高溫多濕下保存時，偏光片因熱及濕度的收縮應力，可由該接著層適度吸收，因此易於維持該接著層與偏光片的接著性。
此外，在偏光片與玻璃薄膜，係以偏光片的染色面貼合在玻璃薄膜側時，亦可抑制偏光片的染色面受損傷、或偏光片因外部環境之熱及濕度而變形。因此，可維持偏光板為良好的偏光性能、且抑制偏光板的膜卷在高溫多濕下保存時偏光片偏光度降低及損傷。
3.畫像顯示裝置
本發明之畫像顯示裝置，可為含本發明偏光板之液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置。
液晶顯示裝置，係含液晶單元、夾此之第一及第二偏光板、及背光源。本發明之偏光板，以至少配置在液晶單元的分辨側之第一偏光板即可；而以配置在液晶單元的分辨側之第一偏光板及配置在背光源側之第二偏光板的兩方為佳。
第2圖，係表示本發明液晶顯示裝置之構成之一例的模式圖。如第2圖所示，液晶顯示裝置20，含：液晶單元40、夾此之第一偏光板60及第二偏光板80、及背光源90。同圖所示，為第一偏光板60及第二偏光板80兩方為本發明偏光板之例。
液晶單元40的顯示方式，並無特別之限定，可包含：TN(Twisted Nematic)方式、STN(Super Twisted Nematic)方式、IPS(In-Plane Switching)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式、VA(Vertical Alignment)方式(亦包含MVA：Multi-domainVertical Alignment及PVA：Patterned Vertical Alignment)、HAN(Hybrid Aligned Nematic)方式等。為使視角廣，以IPS方式的液晶單元較佳。
IPS方式的液晶單元，係包含二片透明基板、及配置在其間、含液晶分子的液晶層。
在二片透明基板中，係單在一方之透明基板中，配置畫素電極及相對電極。配置畫素電極及相對電極的透明基板，以配置在背光源80側為佳。
液晶層，係包含含有負介電異向性(Δε<0)或正介電異向性(Δε>0)的液晶分子。液晶分子，在無施加電壓時(畫素電極及對向電極間不產生電場時)，液晶分子的長軸，係以相對透明基板表面平行定向。
該構成之液晶單元，係在畫素電極上施加畫像訊號(電壓)，使畫素電極與對向電極間對基板面產生電場。藉此，使相對基板面水平定向之液晶分子，在基板面上成水平面內旋轉。因此，驅動液晶層，使各副畫素之透光度及反射率變化而顯示畫像。
第一偏光板60，係本發明之偏光板，而配置在液晶單元40分辨側之面上。第一偏光板60，係含：第一偏光片62、及在其分辨側之面上，介活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層66所配置的玻璃薄膜 64、及配置在第一偏光片62上液晶單元40側之面上的保護膜68(F2)。
相同地，第二偏光板80，係本發明之偏光板，而配置在液晶單元40背光源90側之面上。第二偏光板80，係含：第二偏光片82、及在其背光源90側之面上，介活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層86所配置的玻璃薄膜84、及配置在第二偏光片82上液晶單元40側之面上的保護膜88(F3)。
保護膜68(F2)及88(F3)之至少一方，亦可視須要省略。
第2圖中，係表示第一偏光板60及第二偏光板80的兩方為本發明偏光板之例，但並不限定於此，亦可為單只有第一偏光板60為本發明之偏光板，而第二偏光板為一般的偏光板。在該情形時，在第二偏光板中，配置在偏光片的背光源90側之保護膜，亦可為透明之保護膜。該類透明之保護膜之例，可包含：纖維素酯膜。纖維素酯膜之例，可包含：商品之纖維素酯膜(如：Konica MinoltaTAC KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、KC8UXW-RHA-NC、KC4UXW-RHA-NC，以上為Konica Minolta Opto公司製造)等。
透明保護膜之厚度，並無特別之限定，而以10至200μm程度為佳，10至100μm更佳，10至70μm又 更佳。
因此，本發明之液晶顯示裝置中，至少在分辨側之偏光板上的偏光片與玻璃薄膜，係未介保護膜而貼合。因而，本發明之液晶顯示裝置，可較以其分辨側之偏光板上的偏光片與玻璃薄膜介保護膜而貼合的先前之液晶顯示裝置為薄。再者，由於偏光片的厚度可充分較先前為薄，因此亦可使含此的液晶顯示裝置之厚度、高度均薄。
本發明之偏光板上所含之偏光片，如前所述，不殘餘源於熱的扭力(應力)。因此，即使在含本發明偏光板之顯示裝置在高溫多濕下保存之後，亦可抑制起因於偏光片上殘餘的扭力(應力)而使偏光板翹曲。如此，可抑制顯示裝置的對比減損及顯示減損。
第3圖，係有機EL顯示裝置之構成之一例的模式圖。如第3圖所示，有機EL顯示裝置100，依序含：光反射電極112、發光層114、透明電極層116、透明基板118、及圓偏光板120。
光反射電極112，以由光反射率高的金屬材料所構成為佳。金屬材料之例，可包含：Mg、MgAg、MgIn、Al、LiAl等。光反射電極112，可以濺塗法形成。光反射電極112，亦可再予以圖像化。
發光層114，包含：R(紅)發光層、G(綠)發光層及B(藍)發光層。各發光層，係含發光材料。發光材料，可為無機化合物、亦可為有機化合物，而以有機化合物較佳。
各發光層，亦可再含電荷輸送材料，而又具有電荷輸送層之機能；又可再含電洞輸送材料，而又具有電洞輸送層之機能。各發光層，在未含電荷輸送材料或電洞輸送材料時，有機EL顯示裝置100，亦可再含電荷輸送層或電洞輸送層。
各發光層，亦可各再圖像化。該圖像化，可使用光罩等進行。發光層114，可使用發光材料而以蒸塗等形成。
透明電極層116，一般而言，可為ITO電極。透明電極層116，可以濺塗法等形成。透明電極層116，亦可再予以圖像化。
透明基板118，只要為可透過光者即可，而可為：玻璃基板、塑膠膜或薄膜等。
圓偏光板120，係本發明之偏光板，包含：偏光片(直線偏光膜)122、在其分辨側之面上，介活性能量線硬化性組成物之硬化物所成之接著層126配置的玻璃薄膜124、及配置在偏光片122的透明基板118側之面上的λ/4板128。λ/4板128的慢軸、與偏光片122之吸收軸交叉的角度以在45±2°的範圍為佳。
有機EL顯示裝置100，在光反射電極112與透明電極層116之間通電時，可使發光層114發光，而可顯示出畫像。且，在R(紅)發光層、G(綠)發光層及B(藍)發光層各為可通電而構成時，即可能顯示全彩色畫像。
第4圖，係說明圓偏光板120之抗反射機能的模式圖。該圖中，省略活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層126及玻璃薄膜124之圖示。
如第4圖所示，在平行有機EL顯示裝置100顯示畫面之法線，由外部射入光(包含a1及b1)時，只有平行偏光片(LP)122透光軸方向的直線偏光(b1)能通過偏光片(LP)122。未平行偏光片(LP)122透光軸方向的其他直線偏光(a1)，則為偏光片(LP)122所吸收。通過偏光片(LP)122之直線偏光成分(b2)，在通過λ/4板128時，即受轉換為圓偏光(c2)。圓偏光(c2)，在受有機EL顯示裝置100之光反射電極112(參考第2圖)反射時，即成逆轉之圓偏光(c3)。逆轉之圓偏光(c3)，在通過λ/4板128時，即受轉換為相對偏光片(LP)122之透光軸方向為垂直方向之直線偏光(b3)。該直線偏光(b3)，無法通過偏光片(LP)122，而被吸收。
如此情形，在有機EL顯示裝置100上所有由外部射入的光(包含a1及b1)，均將為偏光片(LP)122所吸收，因此即使由有機EL顯示裝置100的光反射電極反射，亦不會射出外部。因而，可防止由背景照入使畫像顯示特性減低。
再者，來自有機EL顯示裝置100內部的光；亦即來自發光層114(參考第2圖)的光，係包含二種圓偏光成分(c3及c4)。在使其一方之圓偏光(c3)，通 過λ/4板128時，即會受轉換為與偏光片(LP)122之透光軸方向為垂直方向的直線偏光(b3)。而且，直線偏光(b3)，將無法通過偏光片(LP)122，而被吸收。其他的圓偏光(c4)，可再通過λ/4板128，而受轉換為與偏光片(LP)122之透光軸方向平行的直線偏光(b4)。之後，直線偏光(b4)再通過偏光片(LP)122，成為直線偏光(b4)，而成可辨視之圖像。
偏光片(LP)122與λ/4板128之間，亦可再配置反射與偏光片(LP)122之透光軸方向為垂直方向的直線偏光(b3)之反射偏光板(未示出圖)。反射偏光板，可使直線偏光(b3)不受偏光片(LP)122吸收而反射，使其再次由光反射電極112(參考第2圖)反射，受轉換為與偏光片(LP)122之透光軸方向平行的直線偏光(b4)。亦即，再配置反射偏光板，即可使發光層所發出之全部(c3及c4)光射出外側。
如此，可使本發明之有機EL顯示裝置，如同前述之情形，較先前的顯示裝置為薄。
再者，本發明偏光板所含之偏光片，如前述之情形，不殘餘源於熱的扭力(應力)。因此，含本發明偏光板之有機EL顯示裝置即使在高溫多濕下保存之後，亦可抑制偏光板起因於殘餘在偏光片中的扭力(應力)之翹曲。因而，可抑制有機EL顯示裝置正面發光度之減損、及反射率之減損。
〔實施例〕
以下，再參考實施例更詳細說明本發明。惟此些實施例，本發明之範圍並不受其說明之限定。
1.偏光片之製作 (製造例1) 塗佈步驟
先以電暈處理經過抗帶電處理、厚度120μm之非晶性聚乙烯對苯二甲酸酯膜的表面，作為基材薄膜。另一方面，將聚乙烯醇粉末(日本VAM & POVAL公司製造，平均聚合度為2500，皂化價為99.0莫耳%以上，商品名：JC-25)，溶於95℃熱水中，調配成濃度8質量%之聚乙烯醇水溶液。該得到之聚乙烯醇水溶液，再以噴嘴塗佈機塗佈在基材薄膜上，並以80℃下20分鐘乾燥。以此操作，可得到基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層之層合物。該層合物中聚乙烯醇系樹脂層之厚度為12.0μm。
延展步驟
該得到之層合物，再以向轉送方向(MD方向)，於160℃下、以延展倍率5.3倍由自由端單軸方向延展。延展後之層合物中的聚乙烯醇系樹脂層之厚度為5.6μm。
染色步驟
將延展後之層合物，浸漬於60℃之溫水浴中60秒之 後，再於含對水每100質量份為0.05質量份之碘及5質量份之碘化鉀的水溶液中，在溫度28℃下浸漬60秒。其次，於延展後之層合物施加一定拉力之下，再將該層合物，於含對水每100質量份為7.5質量份之硼酸及6質量份之碘化鉀的硼酸水溶液中，在溫度73℃下浸漬300秒。之後，該得到之層合物，再以15℃之純水水洗10秒。該得到之層合物再於施加一定拉力之下，使該層合物在70℃下乾燥300秒，即可得到基材薄膜與偏光片1之層合物。該偏光片1之厚度為5.6μm。
該所得之層合物偏光片1，碘染色之層的厚度，可以以下之方法測定。亦即，其偏光片1橫截面之電子顯微鏡影像，係以倍率15000倍之掃描型電子顯微鏡(SEM)攝影。其結果，可確定在偏光片1未與基材薄膜接觸之表層上，為厚度2.2μm之碘染色層。
(製造例2)
先將厚度75μm之聚乙烯醇膜(Kuraray公司製造之維尼隆膜VF-P#7500)，以乾式、向轉送方向(MD方向)，於125℃下、以延展倍率5.2倍單軸方向延展。
該延展後之聚乙烯醇膜再於施加一定拉力之下，將該膜，以含對水每100質量份為0.05質量份之碘及5質量份之碘化鉀的水溶液中，在溫度28℃下浸漬60秒。其次，再於得到之膜施加一定拉力之下，將該膜，以含對水每100質量份為7.5質量份之硼酸及6質量份之碘 化鉀的硼酸水溶液中，在溫度73℃下浸漬300秒。之後，該得到之膜，再以15℃之純水水洗10秒。該得到之膜再於施加一定拉力之下，使該膜在70℃下乾燥300秒。其次，將該得到之膜的邊緣部分切下，即可得到寬度1300mm的偏光片2(偏光膜)。該偏光片2(偏光膜)之厚度為33μm。
以與製造例1同樣地測定該偏光片2碘染色層厚度之結果，可確定偏光片2之兩面上，各為厚度2.0μm之碘染色層。
(製造例3)
除使用厚度30μm之聚乙烯醇膜，且延展倍率為5.7倍以外如製造例2同樣操作即可得到偏光片3。該偏光片3(偏光膜)之厚度為9.2μm。
以與製造例1同樣地測定該偏光片3碘染色層厚度之結果，可確定偏光片3之兩面上，各為厚度2.0μm之碘染色層。
2.其他材料 1)玻璃薄膜
係準備以浮製玻板法所製作，具有以下厚度之無鹼玻璃。
玻璃薄膜1：厚度150μm
玻璃薄膜2：厚度300μm
玻璃薄膜3：厚度88μm
玻璃薄膜4：厚度45μm
2)硬化性化合物
Cyracure UVR6105(脂環環氧化合物，Union Carbide公司製造)
甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸環氧丙酯之混合物
3.偏光板之製作 (實施例1)
依照下述步驟1至6，將製造例3所得之偏光片3、與玻璃薄膜1貼合。
步驟1：在製造例3所得之偏光片3之一方之面上，使用具有下述組成之硬化性組成物1，並以硬化後之厚度為15μm塗佈。
(硬化性組成物1)
Cyracure UVR6105(脂環環氧化合物，Union Carbide公司製造)：87質量份
UVI-6990(陽離子光聚起始劑，Union Carbide公司製造)：5.5質量份
L-7604(界面活性劑，日本NUC公司製造)：0.5質量份
NAC矽A-187(γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，日 本NUC公司製造)：2質量份
Tinuvin 928(紫外線吸收劑，Ciba日本公司製造)：7.0質量份
步驟2：在步驟1所得之硬化性組成物1層上，配置玻璃薄膜1。
步驟3：在步驟2所得之偏光片3/硬化性組成物1層/玻璃薄膜1之層合物上，由玻璃薄膜1側以高壓汞燈照射紫外線，使硬化性組成物1層硬化貼合。照射，係以120W×10m×3照程進行(照射量900mJ)，轉送速度為約2m/分鐘。
步驟4：將步驟3中所得之層合物，在80℃之乾燥機中乾燥2分鐘，得到偏光板101。
(實施例2)
步驟1：在製造例1所得之偏光片1之表面(碘染色之面)上，使用具有下述組成之硬化性組成物2，以硬化後之厚度為15μm塗佈。
(硬化性組成物2)
Cyracure UVR6105(脂環環氧化合物，Union Carbide公司製造)：87質量份
UVI-6990(陽離子光聚起始劑，Union Carbide公司製造)：5.5質量份
L-7604(界面活性劑，日本NUC公司製造)：0.5質 量份
NAC矽A-187(γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，日本NUC公司製造)：2質量份
步驟2：在步驟1所得之硬化性組成物2層上，配置玻璃薄膜1。
步驟3：在步驟2所得之偏光片1/硬化性組成物2層/玻璃薄膜1之層合物上，由玻璃薄膜1側以高壓汞燈照射紫外線，使硬化性組成物2層硬化貼合。照射，係以120W×10m×3照程進行(照射量900mJ)，轉送速度為約2m/分鐘。
步驟4：將步驟3中所得之層合物，在80℃之乾燥機中乾燥2分鐘。
步驟5：由所得之基材薄膜/偏光片1/以硬化性組成物2之硬化物所成之接著層/玻璃薄膜1之層合物，剝離基材薄膜得到偏光板102。該基材薄膜可容易地剝離。
(實施例3至6)
除將玻璃薄膜之厚度，變更為如表1所示以外如實施例2同樣操作即可得到偏光板103至106。
(實施例7)
除將硬化性組成物1，變更為具有下述組成之硬化性組成物3以外如實施例5同樣操作即可得到偏光板107。
(硬化性組成物3)
Cyracure UVR6105(脂環環氧化合物，Union Carbide公司製造)：82質量份
UVI-6990(陽離子光聚起始劑，Union Carbide公司製造)：5.5質量份
L-7604(界面活性劑，日本NUC公司製造)：0.5質量份
NAC矽A-187(γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，日本NUC公司製造)：2質量份
Tinuvin 928(紫外線吸收劑，Ciba日本公司製造)：7.0質量份
Tinuvin 171(紫外線吸收劑，Ciba日本公司製造)：5.0質量份
(實施例8至9)
依照下述步驟1至6，在偏光片1未以碘染色之面上，以硬化性組成物1之硬化物所成之接著層層合得到偏光板108至109。
步驟1：在製造例1所得之層合物的偏光片1之表面(碘染色之面)上貼合光罩膜(日東電工公司製造之表面保護材E-MASK HR6030)後，將基材薄膜剝離。
步驟2：在步驟1所得之光罩膜與偏光片1之層合物的偏光片1之表面(未以碘染色之面)上，使用硬化性組成物1，以硬化後之厚度為15μm塗佈。
步驟3：在該所得之硬化性組成物1層上，再配置玻璃薄膜1或3。
步驟4：在步驟3所得之光罩膜/偏光片1/硬化性組成物1層/玻璃薄膜1或3之層合物上，由玻璃薄膜側以高壓汞燈照射紫外線，使硬化性組成物1硬化貼合。照射，係以120W×10m×3照程進行(照射量900mJ)，轉送速度為約2m/分鐘。
步驟5：將步驟4中所得之層合物，在80℃之乾燥機中乾燥2分鐘。
步驟6：再由所得之光罩膜/偏光片1/硬化性組成物1之硬化物所成之接著層/玻璃薄膜1或3之層合物，剝離光罩膜得到偏光板108或109。
(實施例10)
除將硬化性組成物1，變更為具有下述組成之硬化性組成物4以外如實施例4同樣操作即可得到偏光板110。
(硬化性組成物4)
甲基丙烯酸甲酯：100重量份
甲基丙烯酸環氧丙酯：10重量份
Irgacure 184(Ciba日本公司製造)：5.0質量份
(實施例11)
除將硬化性組成物1，變更為具有下述組成之硬化性組成物5以外如實施例4同樣操作即可得到偏光板111。
(硬化性組成物5)
甲基丙烯酸甲酯：100重量份
甲基丙烯酸環氧丙酯：10重量份
Irgacure 184(Ciba日本公司製造)：5.0質量份
紫外線吸收劑：Tinuvin 928(Ciba日本公司製造)：7.0質量份
(比較例1)
依照下述步驟1至6，將製造例1所得之偏光片1，與玻璃薄膜1貼合。
步驟1：在製造例1所得的偏光片1之染色面上，使用具有下述組成之硬化性組成物6(熱硬化性組成物)，以硬化後之厚度為15μm塗佈。
(硬化性組成物6)
甲基丙烯酸甲酯：100重量份
甲基丙烯酸環氧丙酯：10重量份
偶氮雙異丁腈：1重量份
步驟2：在步驟1所得之硬化性組成物6層上，再配置玻璃薄膜1。
步驟3：在步驟2所得之基材薄膜/偏光片1/硬化性組成物6層/玻璃薄膜1之層合物，以溫度120℃、壓力20至30N/cm2貼合60分鐘。
步驟4：將步驟3中所得之層合物，在80℃之乾燥機中乾燥2分鐘。以該操作，使硬化性組成物6層熱硬化。
步驟5：由所得之基材薄膜/偏光片1/以硬化性組成物6之硬化物所成之接著層/玻璃薄膜1之層合物，剝離基材薄膜得到偏光板112。
(比較例2)
除將偏光片3變更為偏光片2以外，如實施例1同樣操作即可得到偏光板113。
再以以下之方法，測定該得到之偏光板的卷曲及耐久性。
(卷曲之評估)
將所得之偏光板，切成寬50mm×縱軸方向30mm大小。所得之偏光板，再於23℃、相對濕度80%之環境下，在水平基板上靜置24小時之後，以目視觀察偏光板卷曲形狀。偏光板卷曲，再依照下述基準加以評估。
◎：幾乎為平坦狀態，可確定未發生卷曲
○：偏光板之4角稍微彎起，可確定發生小卷曲，實際使用上為無問題程度
△：可確定明顯發生卷曲，且為難以操作程度
×：卷曲狀態顯著，為操作極難程度
(耐久性1：高溫多濕下保存後偏光度之差異)
將所得之偏光板，切成42吋液晶面板大小(930mm×520mm)，再於23℃、相對濕度55%之環境下靜置24小時。之後，再各測定所得偏光板對角線中心點(ρ0)之偏光度C(0)、及由對角線中心(相對於自該中心至對角線邊緣部分之全長)75%之點(ρ75)的偏光度C(75)。偏光度之測定，係以自動偏光膜測定儀VAP-7070(日本分光公司製造)及專用軟體操作。
其次，再將該偏光板，在溫度60℃、相對濕度90%之高溫多濕環境下靜置300小時。其後，再對所得之偏光板對角線中心點(ρ0)之偏光度C’(0)、及由對角線中心75%之點(ρ75)的偏光度C’(75)，如前述同樣測定。
然後，以對角線上中心點(ρ0)偏光度之差異(=C’(0)-C(0))、與由中心75%之點(ρ75)的偏光度之差異(=C’(75)-C(75))的差，作為偏光度差異之差(Δ偏光度)。
[數1]偏光度差異之差(Δ偏光度)=由中心75%之點(ρ75)的偏光度之差異(%)-對角中心點(ρ0)偏光度之差異(%)
之後依照下述基準，評估偏光板之耐久性1。
◎：Δ偏光度未達1.0%
○：Δ偏光度為1.0%以上未達2.0%
△：Δ偏光度為2.0%以上未達5.0%
×：Δ偏光度為5.0%以上
同時，在偏光板之製作中所使用的硬化性組成物之硬化物所成的接著層之透光度，係以以下之方法測定。
(透光度)
係將偏光板之製作中所使用的硬化性組成物，以與製作偏光板時相同之條件，在玻璃基板上塗佈及乾燥後，再自硬化之玻璃基板上剝離，得到厚度15μm之硬化膜。該得到之硬化膜在波長380nm下之透光度，係以分光光度計(日本分光公司製造，紫外線可見光近紅外光分光光度計V-670)測定。
實施例1至11及比較例1至2之結果如表1所示。
由表1所示可知，實施例1至11之偏光板，較比較例1至2之偏光板更薄，且在高溫多濕下保存時，卷曲之發生少，偏光度之差異亦少。
4.偏光板膜卷之製作 (實施例12)
依照日本專利特開2010-132349號公報中所載，以溢流-下拉成形法，可得到厚度100μm、彎曲強度92.5MPa的長尺狀玻璃薄膜5。其次，以所得之長尺狀玻璃薄膜，在直徑120mm之卷芯上，以對寬度方向垂直之方向捲起得到膜卷。
之後，除取代玻璃薄膜3，使用所得之膜卷捲開之玻璃薄膜5以外如實施例5同樣操作製作成長尺狀偏光板。長尺狀偏光板，寬度方向之長度W為1300mm，縱軸方向之長度L為1000m，因此寬度方向之長度W相對於縱軸方向之長度L之比L/W為769。所得之長尺狀偏光板，係捲於直徑120mm之卷芯，得到偏光板201膜卷。
(比較例3)
除取代玻璃薄膜1，使用由實施例10所得之膜卷捲開的玻璃薄膜5以外如比較例1同樣操作製作成長尺狀偏光板，再捲於直徑120mm之卷芯，得到偏光板202膜卷。
該得到之偏光板膜卷的耐久性1及耐久性2， 再以以下之方法測定。
(耐久性1：高溫多濕下保存後偏光度之差異)
由所得之偏光板膜卷捲開偏光板，再由卷外(縱軸方向)500m位置之寬度方向中央部分，切成42吋液晶面板大小(930mm×520mm)。再對所得偏光板之耐久性1，如前述同樣測定。
(耐久性2：膜卷在高溫多濕下保存後偏光度之減損)
將所得之偏光板膜卷，在溫度60℃、相對濕度90%之高溫多濕環境下靜置1週。
之後，再對得到之膜卷最外周部的偏光板，各測定由寬度方向一方之邊緣部分的25%之點、50%之點、75%之點的偏光度。其次，再向偏光板之縱軸方向，由膜卷之卷外側向卷芯側500m範圍，隔10m反複同樣測定，測定計150點(3點×50)之偏光度。之後，再求出以全測定點平均值為100時，全測定點中偏光度之最大值與最小值的差之比例(%)作為「偏光度1之差異」。偏光度之測定，係以自動偏光膜測定儀VAP-7070(日本分光公司製造)及專用軟體操作。
同樣地，以不在高溫多濕環境下保存，對製造後當時之偏光板膜卷，測定計150點之偏光度。之後，再求出以全測定點平均值為100時，全測定點中偏光度之最大值與最小值的差之比例(%)作為「偏光度2之差 異」。
之後，再由得到之偏光度1之差異及偏光度2之差異代入以下之式中求出偏光度差異之增大範圍。
[數2]差異之增大範圍(%)=偏光度1之差異(%)-偏光度2之差異(%)
然後，再依照下述基準，評估膜卷在高溫多濕下保存後偏光度之減損。
◎：差異增大範圍未達1.0%
○：差異增大範圍為1.0%以上未達2.0%
△：差異增大範圍為2.0%以上未達5.0%
×：差異增大範圍為5.0%以上
實施例12及比較例3之結果如表2所示。
由表2所示可知，實施例12之偏光板，較比較例3之偏光板，在膜卷之狀態下，在高溫多濕下保存後偏光度之差異小(即耐久性1較佳)，且膜卷在高溫多濕下保存後偏光度之減損亦小(即耐久性2亦佳)。
3.液晶顯示裝置之製作 (實施例13)
先準備含橫向電場切換模式型(IPS模式型)液晶單元之液晶顯示裝置「東芝公司製造之REGZA 47ZG2」。再自該液晶顯示裝置，取出液晶面板，並取下配置在液晶單元兩面之2個偏光板，再洗淨該液晶單元之玻璃面(表裏)。
係第一偏光板(分辨側之偏光板)之偏光板101，以在液晶單元之分辨側之面上，介厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層貼著。偏光板101之貼著，係使偏光片連接在液晶單元上，且以偏光片的吸收軸平行(0±0.2度)液晶單元之長邊進行。
係第二偏光板(背光源側之偏光板)之偏光板101，以在液晶單元之背光源側之面上，介厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層貼著。第二偏光板之貼著，係使偏光片連接在液晶單元上，且使偏光片的吸收軸，以與液晶單元之短邊平行(0±0.2度)進行。以該操作，可得到液晶顯示裝置301。
(實施例14至21、比較例4至5)
除將第一偏光板(分辨側之偏光板)、與第二偏光板(背光源側之偏光板)變更如表3所示以外如實施例13同樣操作即可得到液晶顯示裝置302至311。
(實施例22至23)
自東芝公司製造之REGZA 47ZG2取出液晶面板，並單取下配置在液晶單元分辨側之面的偏光板。之後，除在洗淨液晶單元分辨側之面後，以如表3所示之偏光板，介厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層貼著以外如實施例13同樣操作即可得到液晶顯示裝置312至313。
再對該得到之液晶顯示裝置301至313的對比比例及邊緣不規則，以以下的方法評估。
(對比比例)
在液晶顯示裝置以全白畫像顯示時，在顯示畫面的方位角45°方向、極角60°方向之XYZ表色系統Y值，係以ELDIM公司所製造之商品名「EZ Contrast 160D」測定。相同地，在測定在液晶顯示裝置以全黑畫像顯示時，在顯示畫面的方位角45°方向、極角60°方向之XYZ表色系統Y值。之後，再由全白畫像Y值(YW)、全黑畫像Y值(YB)，計算斜向方向之對比比例「YW/YB」。該對比比例之測定，係在溫度23℃、相對濕度55%之暗室內進行。再者，所謂方位角45°，係表示顯示畫面面內，在顯 示畫面長邊為0°時逆時針旋轉方向旋轉45°時之方位。所謂極角60°，係表示以顯示畫面法線方向為0°時，相對法線傾斜60°之方向。對比比例越高，即對比越高，而越佳。
(邊緣不規則)
係以上述對比比例之測定中所使用之液晶顯示裝置，在60℃、相對濕度90%之環境下保存1500小時。之後，再將該所得之液晶顯示裝置在25℃、相對濕度60%之環境下調濕20小時後，開啟背光源，觀察全黑顯示時之漏光。漏光之評估，係依照以下之基準進行。
◎：完全可確定顯示畫面周邊(邊緣部分)無漏光
○：幾乎無法察覺顯示畫面周邊(邊緣部分)的漏光
△：可察覺顯示畫面周邊(邊緣部分)的漏光
×：顯示畫面周邊(邊緣部分)的漏光顯著
實施例13至23及比較例4至5之結果如表3所示。
由表3所示可知，實施例13至23之顯示裝置，較比較例4至5之顯示裝置，顯示畫像的對比高，在高溫多濕下保存後邊緣不規則亦少。
4.有機EL顯示裝置的製作 (實施例24) 圓偏光板的製作
係在實施例1中所製作的偏光板101之偏光片3的表面，將芳族聚碳酸酯系λ/4板(帝人化成公司製造，PURE-ACE WR，R(450)=115nm，R(550)=138nm，R(590)=142nm，R(450)/R(590)=0.81)，介厚度20μm丙烯酸系黏著劑層貼合，即可得到圓偏光板101b。偏光片3與λ/4板的貼合，係以偏光片3的吸收軸、與λ/4板的慢軸之交叉角為45°±2°進行。
有機EL顯示裝置的製作
當中所準備之有機EL顯示裝置，係Samsung電子公司製造之Galaxy-S。再將該有機EL顯示裝置分解，並取下配置在觸控面板上的偏光板，並洗淨該觸控面板之玻璃表面。
之後，再將該所得之圓偏光板101a，以λ/4板為有機EL發光元件端，介厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層貼合，即可得到有機EL顯示裝置401。
(實施例25至32、比較例6至7)
將偏光板101a，除如表4所示變更以外如實施例24同樣操作，即可得到有機EL顯示裝置402至411。
其次，再對所得之有機EL顯示裝置的正面發光度減損、及反射率減損，以以下之方法測定。
(正面發光度減損)
以得到之有機EL顯示裝置，在60℃、相對濕度90%之高溫多濕環境下保存1500小時後，再於25℃、相對濕度60%之環境下調濕20小時。
其次，測定顯示畫面對角線中心點、自對角線上中心為25%之點、50%之點、75%之點合計13點上之正面發光度。再由其中，求出最大發光度與最小發光度之差，並由該差求出相對13點之平均發光度100的比例為Δ發光度(%)。之後，再依照下述基準，評估正面發光度之減損。發光度之測定，係使用分光放射發光度計CS-1000(Konica-Minolta感測器公司製造)，測定自顯示畫面法線方向(正面方向)發光的發光度(具體地，即自相對法線傾斜2°角度所得之發光度)。
◎：Δ發光度未達1.0%
○：Δ發光度為1.0%以上未達2.0%
△：Δ發光度為2.0%以上未達5.0%
×：Δ發光度為5.0%以上
(反射率減損)
以該所得之有機EL顯示裝置，在60℃、相對濕度90%之高溫多濕環境下保存1500小時之後，再於25℃、相對濕度60%之環境下調濕20小時。
其次，測定顯示畫面對角線中心點、自對角線上中心為25%之點、50%之點、75%之點合計13點上之反射率。再由其中，求出最大反射率與最小反射率之差，並由該差，求出相對13點之平均反射率100的比例為Δ反射率(%)。之後，再依照下述基準，評估反射率之減損。反射率之測定，係使用分光測色計CM2500d(Konica-Minolta感測器公司製造)，測定波長550nm下之反射率。
◎：Δ反射率未達0.3%
○：Δ反射率為0.3%以上未達0.5%
△：Δ反射率為0.5%以上未達1.0%
×：Δ反射率為1.0%以上
實施例24至32及比較例6至7之評估結果如表4所示。
由表4所示可知，實施例24至32之顯示裝置，較比較例6及7之顯示裝置，即使在高溫多濕環境下長期保存之後，正面發光度之減損、及反射率之減損均小。
本申請案，對根據2012年5月23日提出申請之日本專利特願2012-117639主張優先權。該申請案之說明書及圖面所載之內容，均援用在本申請案之說明書中。
〔產業上之利用〕
以本發明案，可提供偏光板及其製造方法，可使顯示裝置充分薄型化，且在偏光板及包含此的顯示裝置在高溫/多濕下保存時，可抑制偏光板之變形或翹曲。
10‧‧‧偏光板
12‧‧‧偏光片
14‧‧‧玻璃薄膜
16‧‧‧活性能量線硬化性組成物的硬化物所構成之接著層

Claims (13)

  1. 一種偏光板，其係含二色性色素，且具有厚度為0.5至10μm之偏光片、玻璃薄膜、及配置在前述偏光片與前述玻璃薄膜之間，含活性能量線硬化性組成物的硬化物所成之接著層。
  2. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述二色性色素，偏在前述偏光片之一方之面上。
  3. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述活性能量線硬化性組成物，包含紫外線吸收劑。
  4. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中由前述活性能量線硬化性組成物之硬化物所成的接著層，在波長380nm下之透光度為5%以上40%以下。
  5. 如申請專利範圍第2項之偏光板，其中由前述活性能量線硬化性組成物的硬化物所成之接著層，配置在前述偏光片上，前述二色性色素所偏在之面上。
  6. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述玻璃薄膜之厚度，為1至200μm。
  7. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中在前述偏光板寬度方向之長度為W、與前述偏光板之前述寬度方向垂直之方向之長度為L時，L/W為10至3000，且以與前述偏光板之寬度方向以垂直方向成卷狀捲取。
  8. 一種偏光板之製造方法，其係如申請專利範圍第1項之偏光板的製造方法，其中包含：A)得到偏光片之步驟、 B)以前述偏光片在玻璃薄膜上，介活性能量線硬化性組成物層貼合之步驟、C)在前述活性能量線硬化性組成物層上照射活性能量線，使前述活性能量線硬化性組成物硬化之步驟；且前述A)得到偏光片之步驟，包含：1)在基材薄膜上塗佈含聚乙烯醇系樹脂之溶液，得到前述基材薄膜與前述聚乙烯醇系樹脂層的層合物之步驟、2)將前述層合物單軸方向延展之步驟、3)將前述層合物之聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色、或將前述單軸方向延展後的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色之步驟。
  9. 如申請專利範圍第8項之偏光板之製造方法，其中在前述C)步驟中，以前述活性能量線，介前述玻璃薄膜照射前述活性能量線硬化性組成物層。
  10. 如申請專利範圍第8項之偏光板之製造方法，其中在前述B)步驟中，將由偏光片膜卷捲開之偏光片、與由玻璃薄膜膜卷捲開之玻璃薄膜，介前述活性能量線硬化性組成物層貼合。
  11. 如申請專利範圍第8項之偏光板之製造方法，其中在前述3)步驟中，以二色性色素染色前述單軸方向延展後的層合物之聚乙烯醇系樹脂層。
  12. 如申請專利範圍第8項之偏光板之製造方法，其中包含在前述C)步驟之後，再剝離層合在前述偏光片上 的前述基材薄膜之步驟。
  13. 一種畫像顯示裝置，其中包含如申請專利範圍第1項之偏光板。
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