TW202146224A - 附抗反射層之圓偏光板及使用該附抗反射層之圓偏光板的影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種附抗反射層之圓偏光板,其透過率高且高溫高溼環境下之耐久性優異,結果可實現明亮且高溫高溼環境下的顯示不均得到抑制的影像顯示裝置。本發明之實施形態之附抗反射層之圓偏光板具有:包含偏光件之偏光板;配置於偏光板之一側之抗反射層;及配置於偏光板之另一側之相位差層。附抗反射層之圓偏光板之透過率為45.5%以上,於60℃及90%RH下500小時的加熱加溼試驗後的反射率為2.5%以下。

Description

附抗反射層之圓偏光板及使用該附抗反射層之圓偏光板的影像顯示裝置
本發明係關於附抗反射層之圓偏光板及使用該附抗反射層之圓偏光板的影像顯示裝置。
背景技術
近年來,以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表的影像顯示裝置急速地普及。於影像顯示裝置中,有使用包含偏光板與相位差板之圓偏光板之情形。由影像顯示裝置(尤其是有機EL顯示裝置)之低耗電及明亮度(亮度)之觀點,關於圓偏光板較佳為高透過率的圓偏光板。然而,高透過率的圓偏光板有於高溫高溼環境下影像顯示裝置發生顯示不均(例如條紋)之情形。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1:專利第5876441號 專利文獻2:日本特開2014-026266號公報
發明概要 發明欲解決之課題
本發明係為解決上述先前課題而完成者,其主要目的在於提供一種附抗反射層之圓偏光板,其透過率高且高溫高溼環境下之耐久性優異,結果可實現明亮且高溫高溼環境下的顯示不均得到抑制的影像顯示裝置。 用以解決課題之手段
本發明之實施形態之附抗反射層之圓偏光板具有:包含偏光件之偏光板;配置於該偏光板之一側的抗反射層;及配置於該偏光板之另一側的相位差層。該附抗反射層之圓偏光板的透過率為45.5%以上,於60℃及90%RH下500小時的加熱加溼試驗後的反射率為2.5%以下。 於一實施形態中,上述偏光件與上述抗反射層側之保護層經由第1接著劑層貼合,該偏光件與上述相位差層經由第2接著劑層貼合,該第1接著劑層及該第2接著劑層之接著劑中之至少一者由活性能量線硬化型接著劑組成物構成。將組成物總量設為100重量%時,該活性能量線硬化型接著劑組成物含有:SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)0.0重量%~4.0重量%;SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且小於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)5.0重量%~98.0重量%;及SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)5.0重量%~98.0重量%。 於一實施形態中,上述抗反射層之反射率為1.5%以下。 於一實施形態中,上述相位差層之Re(550)為100nm~200nm,該相位差層之慢軸與上述偏光件之吸收軸所成的角度為40°~50°或130°~140°。 於一實施形態中,上述相位差層由樹脂薄膜之延伸薄膜構成,Re(450)/Re(550)為0.80~1.03。於此,Re(450)及Re(550)分別為23℃下以波長450nm及550nm之光測得的面內相位差。 根據本發明之另一態樣,提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置係於視認側具備上述附抗反射層之圓偏光板。附抗反射層之圓偏光板係以上述抗反射層成為視認側之方式配置。影像顯示裝置之反射率為40%以下。 於一實施形態中,上述影像顯示裝置為有機電致發光顯示裝置。 發明效果
根據本發明之實施形態,藉由於圓偏光板中,在應用於影像顯示裝置時成為視認側之側設置抗反射層,且以特定接著劑貼合偏光件與抗反射層之保護層及/或相位差層,可獲得如下附抗反射層之圓偏光板,即透過率高且高溫高溼環境下之耐久性優異,結果可實現明亮且高溫高溼環境下的顯示不均得到抑制的影像顯示裝置。
用以實施發明之形態
以下,就本發明之代表性實施形態進行說明,但本發明並不限定於此等實施形態。
(用語及記號之定義) 本說明書中之用語及記號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率為最大的方向(即慢軸方向)之折射率、「ny」為面內與慢軸正交的方向(即快軸方向)之折射率、「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」為23℃下以波長λnm之光測得的薄膜的面內相位差。例如,「Re(450)」為23℃下以波長450nm之光測得的薄膜的面內相位差。將薄膜厚度設為d(nm)時,Re(λ)以公式:Re=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」為23℃下以波長λnm之光測得的薄膜的厚度方向的相位差。例如,「Rth(450)」為23℃下以波長450nm之光測得的薄膜的厚度方向的相位差。將薄膜厚度設為d(nm)時,Rth(λ)以公式:Rth=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數由Nz=Rth/Re求出。 (5)角度 於本說明書中提到角度時,若無特別說明,該角度包含順時針及反時針兩個方向的角度。
A.附抗反射層之圓偏光板之全體構造 圖1係本發明之一實施形態之附抗反射層之圓偏光板的概略剖面圖。圖示例之附抗反射層之圓偏光板100具有:偏光板10、配置於偏光板10之一側(例如應用於影像顯示裝置時和影像顯示單元為相反側、即視認側)之抗反射層30、及配置於偏光板10之另一側(例如應用於影像顯示裝置時為影像顯示單元側)之相位差層40。偏光板10包含:偏光件11、配置於偏光件11之一側(抗反射層側)之第1保護層12。根據目的,亦可於偏光件11之相位差層40側設置第2保護層(未圖示)。又,亦可省略偏光件兩側的保護層。例如,抗反射層有如後所述通常形成於基材上時,基材/抗反射層之積層體作為保護層而起作用之情形。此時,可省略第1保護層12。基材/抗反射層之積層體亦可進一步包含硬塗層。因此,附反射層之偏光板亦可為如下構造:省略兩側的保護層,具有偏光件11、配置於偏光件11之一側之抗反射層30及配置於偏光件11之另一側之相位差層40。於實用上,可於相位差層40之與偏光板10為相反之側設置作為最外層的任意適當的黏著劑層50,附抗反射層之圓偏光板可貼附於影像顯示單元。
於本發明之實施形態中,附抗反射層之圓偏光板之透過率為45.5%以上、較佳為46.0%以上。透過率之上限例如可為46.5%。若透過率於此範圍內,可實現亮度足夠高的影像顯示裝置。藉由設置抗反射層30,於單獨使用圓偏光板時,可實現難以實現的高透過率。於本發明之實施形態中,進而,附抗反射層之圓偏光板於60℃及90%RH下500小時的加熱加溼試驗後的反射率為2.5%以下、較佳為2.2%以下、更佳為2.0%以下。反射率之下限例如可為1.0%。藉由將加熱加溼試驗後的反射率控制於特定值以下,將附抗反射層之圓偏光板應用於影像顯示裝置時,可抑制高溫高溼環境下的顯示不均(例如條紋不均)。
相位差層40通常由樹脂薄膜之延伸薄膜構成。相位差層40之Re(550)通常為100nm~200nm。相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.85~1.03。相位差層之慢軸與偏光件11之吸收軸所成的角度宜為40°~50°、較佳為42°~48°、更佳為44°~46°、尤佳為約45°;或者宜為130°~140°、較佳為132°~138°、更佳為134°~136°、尤佳為約135°。
偏光件11與抗反射層30側之保護層12(亦可為形成抗反射層之基材)通常經由第1接著劑層21貼合。又,偏光件11與相位差層40通常經由第2接著劑層22貼合。第1接著劑層21及第2接著劑層22之接著劑中之至少一者通常由活性能量線硬化型接著劑組成物構成。將組成物總量設為100重量%時,活性能量線硬化型接著劑組成物含有:SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)0.0重量%~4.0重量%;SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且小於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)5.0重量%~98.0重量%;及SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)5.0重量%~98.0重量%。若為如此構造,可獲得高溫高溼環境下之耐久性優異(例如具有如上述加熱加溼試驗後的反射率)的附抗反射層之圓偏光板,結果可實現高溫高溼環境下的顯示不均得到抑制的影像顯示裝置。較佳為,至少第1接著劑層21由上述活性能量線硬化型接著劑組成物構成,更佳為第1接著劑層21及第2接著劑層22兩者由上述活性能量線硬化型接著劑組成物構成。若使用上述的接著劑,高溫高溼下的偏光板的耐久性提高(顯示不均得到抑制),另一方面將如此的偏光板應用於影像顯示裝置時,有亮度(明亮度)不夠的問題,但根據本發明之實施形態,可獲得如下附抗反射層之圓偏光板,即可實現明亮且高溫高溼環境下的顯示不均得到抑制的影像顯示裝置。
於一實施形態中,附抗反射層之圓偏光板亦可進一步於相位差層40與黏著劑層50之間具有另一個相位差層(未圖示)。另一個相位差層通常折射率特性顯示nz>nx=ny之關係。藉由設置此種另一個相位差層,可良好地防止傾斜方向的反射,可使抗反射功能廣視角化。
於一實施形態中,附抗反射層之圓偏光板亦可進一步具有導電層或附導電層之各向同性基材(未圖示)。設置導電層或附導電層之各向同性基材時,附抗反射層之圓偏光板可應用於所謂的內部觸控面板型輸入顯示裝置,其於影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板之間組裝有觸控感測器。導電層或附導電層之各向同性基材通常設置於相位差層40與黏著劑層50之間。設有另一個相位差層時,另一個相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材通常從相位差層40側起依序設置。
附抗反射層之圓偏光板亦可具有又一個相位差層(未圖示)。又一個相位差層可與另一個相位差層組合設置,亦可單獨(即不設置另一個相位差層)設置。又一個相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等,可根據目的而適當地設定。
附抗反射層之圓偏光板可為單片狀,抑或長條狀。於本說明書中所謂「長條狀」指長度比寬度長很多的細長形狀,例如包含長度相對於寬度為10倍以上、較佳為20倍以上的細長形狀。長條狀的附抗反射層之圓偏光板可捲成圓筒狀。
實用上,於黏著劑層50之表面宜暫時黏著剝離薄膜,直到附抗反射層之圓偏光板進行使用為止。藉由暫時黏著剝離薄膜,可保護黏著劑層,且可形成附抗反射層之圓偏光板之圓筒。
以下,就附抗反射層之圓偏光板之構成要件進行說明。
B.偏光件 關於偏光件11,可採用任意適當的偏光件。例如,形成偏光件之樹脂薄膜可為單層之樹脂薄膜、亦可為二層以上之積層體。
關於由單層樹脂薄膜構成之偏光件之具體例,可列舉:利用碘或二色性染料等二色性物質,對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分甲縮醛化PVA系薄膜、乙烯乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜實施染色處理及延伸處理者、PVA之去水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。由光學特性優異之觀點,宜使用以碘染色PVA系薄膜,進行單軸延伸而獲得之偏光件。
上述利用碘之染色,例如藉由將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液而進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可於染色處理後進行,抑或一邊染色一邊進行。又,亦可延伸之後才進行染色。視需要對PVA系薄膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,於染色前將PVA系薄膜浸漬於水中進行水洗,藉此不僅可洗淨PVA系薄膜表面之污垢或抗結塊劑,亦可使PVA系薄膜膨潤,防止染色不均等。
關於使用積層體獲得的偏光件的具體例,可列舉:使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體獲得的偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體獲得的偏光件,例如可藉由如下方法而製作:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材、使之乾燥,而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;使該積層體延伸及染色後,將PVA系樹脂層作為偏光件。於本實施形態中,延伸通常包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中後使之延伸。進而,延伸視需要可進一步包含於硼酸水溶液中進行延伸之前,將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。獲得之樹脂基材/偏光件之積層體可直接使用(即可將樹脂基材用作偏光件之保護層)、從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材,於該剝離面積層視目的而定之任意適當的保護層後使用。上述偏光件之詳細的製造方法係記載於例如日本特開2012-73580號公報、專利第6470455號。此等專利文獻之記載係作為參考引用於本說明書中。
偏光件宜由單層之樹脂薄膜構成。若為如此構造,藉由第1黏著劑層及第2黏著劑層之最佳化的協同效應,可獲得高溫環境下的相位差不均得到抑制的附抗反射層之圓偏光板。
偏光件之厚度宜為1μm~30μm左右、較佳為5μm~25μm左右。尤其是為了獲得厚度10μm以下之偏光件,可應用於日本特開2012-73580號公報、專利第6470455號公報等中所揭示之如下薄型偏光件的製造方法,該薄型偏光件使用包含於熱塑性樹脂基材上成膜的聚乙烯醇系薄膜作為上述聚乙烯醇系薄膜的積層體。若偏光件厚度於上述範圍內,可良好地抑制加熱時之捲曲及獲得良好的加熱時的外觀耐久性。
偏光件宜於波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透過率例如為41.5%~46.0%、較佳為43.0%~46.0%、更佳為44.5%~46.0%。偏光件之單體透過率例如可為44.0%以上、且例如可為44.2%以上且例如可為44.6%以上。偏光件之偏光度宜為97.0%以上、較佳為99.0%以上、更佳為99.9%以上。
C.保護層 第1保護層12及第2保護層13分別可由可用作偏光件之保護層的任意適當的薄膜形成。關於成為該薄膜之主成分的材料的具體例,可列舉:三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可列舉:(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外,例如亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用於日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物薄膜。關於該薄膜之材料,例如可使用含有於側鏈具有取代或未取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、於側鏈具有取代或未取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物,可舉例具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物、和丙烯腈・苯乙烯共聚物的樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠出成形物。
附抗反射層之圓偏光板如後所述通常配置於影像顯示裝置之視認側,第1保護層12通常配置於該視認側。因此,對於第1保護層12視需要亦可實施硬塗處理、抗反射處理、防黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者,對於第1保護層12亦可視需要實施改善經由偏光太陽眼鏡進行視認時之視認性的處理(代表性為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施如此處理,即使經由偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視認顯示畫面時,亦可實現優異的視認性。因此,附抗反射層之圓偏光板亦可適當地應用於可在屋外使用的影像顯示裝置。
第1保護層之厚度通常為300μm以下、較佳為100μm以下、更佳為5μm~80μm、尤佳為10μm~60μm。再者,實施表面處理時,外側保護層之厚度為包含表面處理層之厚度在內的厚度。
第2保護層13於一實施形態中宜為光學性各向同性。於本說明書中所謂「光學性各向同性」係指面內相位差Re(550)為0nm~10nm、厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。
D.相位差層 相位差層之面內相位差Re(550)如上所述代表的是100nm~200nm、宜為110nm~180nm、較佳為120nm~160nm、更佳為130nm~150nm。即,相位差層可作為所謂的λ/4板而起作用。
相位差層可表現出相位差值隨著測定光之波長而變大的逆分散波長依存性,亦可表現出不管測定光之波長如何,相位差值實質上固定的平坦波長依存性。相位差層表現出逆分散波長依存性時,Re(450)/Re(550)宜為0.80~0.97、較佳為0.85~0.95。相位差層表現出平坦波長依存性時,Re(450)/Re(550)宜為0.97~1.03、較佳為0.98~1.02。
相位差層因為如上所述具有面內相位差,故具有nx>ny之關係。相位差層只要具有nx>ny之關係,可顯示任意適當的折射率特性。相位差層之折射率特性通常顯示nx>ny≧nz之關係。再者,於此「ny=nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形,亦包含實質上相等之情形。因此,於無損本發明效果之範圍內,可能有ny<nz之情形。相位差層之Nz係數宜為0.9~2.0、較佳為0.9~1.5、更佳為0.9~1.2。藉由滿足如此關係,將附抗反射層之圓偏光板用於影像顯示裝置時,可達成非常優異的反射色相。
相位差層之厚度可設定成最適合作為λ/4板而起作用。換言之,厚度可設定成能夠獲得所期望的面內相位差。具體而言,厚度宜為70μm以下、較佳為45μm~60μm。若相位差層厚度於上述範圍內,可良好地抑制加熱時之捲曲及良好地調整貼合時的捲曲。
相位差層其光彈性係數之絕對值宜為20×10-12 (m2 /N)以下、較佳為1.0×10-12 (m2 /N)~15×10-12 (m2 /N)、更佳為2.0×10-12 (m2 /N)~12×10-12 (m2 /N)。若光彈性係數之絕對值於如此範圍內,在將附抗反射層之圓偏光板應用於影像顯示裝置時可抑制顯示不均。
相位差層可由能夠滿足上述特性之任意適當的樹脂薄膜構成。關於上述樹脂之代表例,可列舉:聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。此等樹脂可單獨使用,亦可組合(例如混合、共聚)使用。相位差層通常可由聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時簡稱為聚碳酸酯系樹脂)構成。
關於上述聚碳酸酯系樹脂,可使用任意適當的聚碳酸酯系樹脂。聚碳酸酯系樹脂於一實施形態中包含:源自芴系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇以及伸烷基二醇或螺二醇所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。較佳為聚碳酸酯系樹脂包含:源自芴系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元及/或源自二、三或聚乙二醇之結構單元;更佳為包含:源自芴系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂視需要亦可包含源自其他二羥基化合物之結構單元。上述的聚碳酸酯系樹脂之詳細情形係記載於例如日本特開2014-10291號公報、日本特開2014-26266號公報、日本特開2015-212816號公報、日本特開2015-212817號公報、日本特開2015-212818號公報,該等記載係作為參考引用於本說明書中。
聚碳酸酯系樹脂於其他實施形態中,包含源自具有下述式(I)表示之鍵結構造的二羥基化合物的結構單元。 [化學式1]
Figure 02_image001
關於二羥基化合物,例如可列舉由下述式(II)表示之化合物。關於如此的二羥基化合物,可列舉:處於立體異構體關係的異山梨醇、去水甘露糖醇、艾杜糖醇(isoiditol)。此等可單獨使用,亦可組合2種以上使用。 [化學式2]
Figure 02_image003
亦可將上述二羥基化合物與另一個二羥基化合物組合後使用。關於另一個二羥基化合物,可舉例由下述式(III)表示之脂環式二羥基化合物。 HOCH2 -R1 -CH2 OH ・・・(III) 式(III)中,R1 表示碳數4~20之伸環烷基。脂環式二羥基化合物,例如可為三環癸烷二甲醇、五環十五烷二甲醇。此等包含於式(III)中R1 由下述式(IV)(式中,n表示0或1)表示之各種異構體。 [化學式3]
Figure 02_image005
於一實施形態中,聚碳酸酯系樹脂包含由下述式(V)表示之結構單元。即,聚碳酸酯系樹脂可為碳酸二苯酯、異山梨醇與三環癸烷二甲醇之共聚物。 [化學式4]
Figure 02_image007
如此的聚碳酸酯系樹脂之詳細情形例如記載於日本特開2012-031370號公報中,該公報之記載作為參考引用於本說明書中。
聚碳酸酯系樹脂之玻璃轉移溫度宜為110℃以上且250℃以下、較佳為120℃以上且230℃以下。若玻璃轉移溫度過低,有耐熱性變差的傾向,於薄膜成形後有可能發生尺寸變化。若玻璃轉移溫度過高,有薄膜成形時之成形穩定性變差之情形,且有薄膜之透明性受損之情形。再者,玻璃轉移溫度係根據JIS K 7121(1987)而求出。
聚碳酸酯系樹脂之分子量可以比濃黏度表示。比濃黏度係使用二氯甲烷作為溶劑,將聚碳酸酯濃度精密地調製為0.6g/dL,於溫度20.0℃±0.1℃下使用烏氏黏度管測定。比濃黏度之下限通常宜為0.30dL/g、較佳為0.35dL/g以上。比濃黏度之上限通常宜為1.20dL/g、較佳為1.00dL/g、更佳為0.80dL/g。若比濃黏度小於前述下限值,有時會發生成形品之機械強度變小的問題。另一方面,若比濃黏度大於前述上限值,有時會發生成形時之流動性降低、生產性或成形性降低的問題。
關於聚碳酸酯系樹脂薄膜亦可使用市售的薄膜。關於市售品之具體例,可列舉:帝人公司製之商品名「Pureace WR-S」、「Pureace WR-W」、「Pureace WR-M」、日東電工公司製之商品名「NRF」。
相位差層例如可藉由使從上述聚碳酸酯系樹脂形成的薄膜延伸而獲得。關於從聚碳酸酯系樹脂形成薄膜之方法,可採用任意適當的成形加工法。作為具體例,可列舉:壓縮成形法、轉注成形法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗佈法(例如鑄造法)、壓延成形法、熱壓法等。較佳為擠出成形法或澆鑄塗佈法。其原因為可提高獲得的薄膜的平滑性、得到良好的光學均勻性。成形條件可根據使用的樹脂的組成或種類、相位差層所期望的特性等而適當設定。再者,如上所述,聚碳酸酯系樹脂因為市面上有許多的薄膜製品,故亦可將該市售薄膜直接進行延伸處理。
樹脂薄膜(未延伸薄膜)之厚度可根據相位差層之期望厚度、期望的光學特性、後述的延伸條件等設定為任意適當的值。較佳為50μm~300μm。
上述延伸可採用任意適當的延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言,可單獨使用、或同時或依序地使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法。關於延伸方向,亦可在長度方向、寬度方向、厚度方向、傾斜方向等各種方向上或維度上進行。延伸溫度宜相對於樹脂薄膜之玻璃轉移溫度(Tg)為Tg-30℃~Tg+60℃、較佳為Tg-10℃~Tg+50℃。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件,可獲得具有上述期望的光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)的相位差薄膜。
於一實施形態中,相位差薄膜可藉由使樹脂薄膜單軸延伸或固定端單軸延伸而製作。關於固定端單軸延伸之具體例,可舉例:使樹脂薄膜一面於長度方向上移動,一面於寬度方向(橫向)上延伸的方法。延伸倍率宜為1.1倍~3.5倍。
於另一實施形態中,相位差薄膜可藉由使長條狀樹脂薄膜於與長度方向成上述角度θ之方向上連續地傾斜延伸而製作。藉由採用傾斜延伸,可獲得具有與薄膜之長度方向成角度θ的配向角(於角度θ方向上為慢軸)的長條狀延伸薄膜,例如與偏光膜積層時可進行卷對卷,可簡化製造步驟。再者,角度θ於附相位差層之偏光板中可為偏光膜之吸收軸與相位差層之慢軸所成的角度。如上所述,角度θ宜為40°~50°、較佳為42°~48°、更佳為約45°。
關於用於傾斜延伸的延伸機,可舉例:可於橫向及/或縱向上施加左右不同速度的進料力、或拉伸力或釋放力的拉幅式延伸機。拉幅式延伸機有橫單軸延伸機、同時雙軸延伸機等,但只要能夠使長條狀樹脂薄膜連續地傾斜延伸,可使用任意適當的延伸機。
藉由於上述延伸機中分別適當地控制左右速度,可獲得具有上述期望面內相位差且於上述期望方向上具有慢軸的相位差層(實質上為長條狀相位差薄膜)。
上述薄膜之延伸溫度可根據對相位差層期望的面內相位差值及厚度、所使用的樹脂種類、所使用的薄膜厚度、延伸倍率等而改變。具體而言,延伸溫度較佳為Tg-30℃~Tg+30℃、更佳為Tg-15℃~Tg+20℃、最佳為Tg-10℃~Tg+15℃。藉由於此溫度下延伸,於本發明可獲得具有適當特性的相位差層。又,Tg為薄膜之構成材料之玻璃轉移溫度。
E.抗反射層 抗反射層30通常為游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化層。如上所述,藉由設置抗反射層,於單獨使用圓偏光板時可實現難以實現的高透過率。抗反射層之反射率宜為1.5%以下、較佳為1.3%以下、更佳為1.0%以下。反射率越小越好,其下限例如可為0.2%。若反射率於此範圍內,可防止外部光線的反射等。
游離輻射硬化性樹脂組成物包含游離輻射硬化性樹脂。游離輻射硬化性樹脂組成物視目的亦可進一步包含反應性稀釋劑、含氟元素添加劑、中空粒子及/或實心粒子。
關於游離輻射硬化性樹脂,通常可列舉:熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、光(可見光)硬化性樹脂、電子束硬化性樹脂。例如關於游離輻射硬化性樹脂,可列舉:聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂。又,例如游離輻射硬化性樹脂可為利用熱、光(紫外線等)或電子束等硬化的具有丙烯酸酯基及/或甲基丙烯酸酯基的硬化型化合物。關於具體例,可列舉:多元醇等多官能化合物之丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯等低聚物或預聚物。游離輻射硬化性樹脂可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
游離輻射硬化性樹脂之硬化前之重量平均分子量例如可為100以上、300以上、500以上、1000以上或2000以上,且亦可為100000以下、70000以下、50000以下、30000以下或10000以下。若硬化前之重量平均分子量越大,硬度越低,但有彎曲時不易產生破裂的傾向。若硬化前之重量平均分子量越小,分子間交聯密度越提高,有硬度變高的傾向。
反應性稀釋劑通常包含丙烯酸酯基及/或甲基丙烯酸酯基。關於反應性稀釋劑,例如可使用在日本特開2008-88309號公報中記載的反應性稀釋劑。關於反應性稀釋劑之具體例,可列舉:單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯。較佳為3官能以上的丙烯酸酯、3官能以上的甲基丙烯酸酯。關於反應性稀釋劑,例如亦可列舉:丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸之丙烯酸酯、異三聚氰酸之甲基丙烯酸酯等。反應性稀釋劑可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
關於含氟元素添加劑,可使用任意適當的化合物。含氟元素添加劑例如可為於分子中含氟的有機化合物或無機化合物。關於有機化合物,例如可列舉:含氟之防污塗佈劑、含氟之丙烯酸化合物、含氟/矽之丙烯酸化合物等。有機化合物亦可使用市售品。關於具體例,可列舉:信越化學工業股份有限公司製之商品名「KY-1203」、DIC股份有限公司製之商品名「MEGAFUCK」。關於無機化合物,可使用任意適當的含氟無機化合物。
含氟元素添加劑之調配量相對於游離輻射硬化性樹脂100重量份,例如可為0.05重量份以上、0.1重量份以上、0.15重量份以上、0.20重量份以上或0.25重量份以上,亦可為20重量份以下、15重量份以下、10重量份以下、5重量份以下或3重量份以下。
關於中空粒子,可使用任意適當的中空粒子。關於具體例,可列舉:氧化矽粒子、丙烯酸粒子、丙烯酸-苯乙烯共聚粒子。中空粒子亦可使用市售品。關於氧化矽粒子之市售品之具體例,可列舉:日揮觸媒化成工業股份有限公司製之商品名「THRURIA5320」、「THRURIA 4320」。中空粒子之重量平均粒徑,例如可為30nm以上、40nm以上、50nm以上、60nm以上或70nm以上,且亦可為150nm以下、140nm以下、130nm以下、120nm以下或110nm以下。關於中空粒子之形狀,可採用任意適當的形狀。中空粒子之形狀,例如可為珠狀的大致球形、抑或粉末等不規則形狀者。較佳為大致球形、更佳為縱橫比為1.5以下的大致球形、尤佳為實質上真球形。藉由調配中空粒子,可獲得具有低折射率且良好的抗反射特性的抗反射層。中空粒子之調配量相對於游離輻射硬化性樹脂100重量份,例如可為30重量份以上、50重量份以上、70重量份以上、90重量份以上或100重量份以上,且300重量份以下、270重量份以下、250重量份以下、200重量份以下或180重量份以下。若調配量於此範圍內,可獲得機械特性優異、且折射率較低的抗反射層。
關於實心粒子,可使用任意適當的實心粒子。關於具體例,可列舉:氧化矽粒子、氧化鋯粒子、鈦粒子。實心粒子亦可使用市售品。關於氧化矽粒子之市售品之具體例,可列舉:日產化學工業股份有限公司製之商品名「MEK-2140Z-AC」、「MIBK-ST」、「IPA-ST」。實心粒子之重量平均粒徑,例如可為5nm以上、10nm以上、15nm以上、20nm以上或25nm以上,且3300nm以下、250nm以下、200nm以下、150nm以下或100nm以下。關於實心粒子之形狀,可採用任意適當的形狀。實心粒子之形狀,例如可為珠狀的大致球形、抑或粉末等不規則形狀者。較佳為大致球形、更佳為縱橫比1.5以下的大致球形、尤佳為實質上真球形。藉由調配實心粒子,含氟元素添加劑容易偏向存在於抗反射層表面,結果可獲得具有低折射率且良好的抗反射特性的抗反射層。實心粒子之調配量相對於游離輻射硬化性樹脂100重量份,例如可為5重量份以上、10重量份以上、15重量份以上、20重量份以上或25重量份以上,且150重量份以下、120重量份以下、100重量份以下或80重量份以下。若調配量於此範圍內,可獲得機械特性、折射率及透明性之平衡優異的抗反射層。
抗反射層通常可藉由以下製造方法形成:塗佈將游離輻射硬化性樹脂組成物以稀釋溶劑稀釋後的抗反射層形成用塗層液;使塗層膜乾燥;及使乾燥後的塗層膜硬化。
關於稀釋溶劑,可根據游離輻射硬化性樹脂的不同,使用任意適當的溶劑。關於稀釋溶劑,例如可列舉:甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、TBA(第三丁醇)、2-甲氧基乙醇等醇類;丙酮、甲基乙基酮、MIBK(甲基異丁酮)、環戊酮等酮類;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)等酯類;二異丙醚、丙二醇單甲醚等醚類;乙二醇、丙二醇等二醇類;乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類;己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類;苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類。稀釋溶劑可單獨使用,亦可組合2種以上使用。藉由根據目的以任意適當的比率混合複數種溶劑,可調整極性。
稀釋溶劑例如可為包含MIBK及PMA之混合溶劑。此時的混合比率可根據目的而適當設定。混合比率係相對於MIBK100重量份,PMA例如可為20重量份以上、50重量份以上、100重量份以上、150重量份以上或200重量份以上,且可為400重量份以下、350重量份以下、300重量份以下或250重量份以下。
稀釋溶劑例如可為除了MIBK及PMA外,進而包含TBA的混合溶劑。此時的混合比率亦可根據目的而適當設定。混合比率係相對於MIBK100重量份,PMA例如可為10重量份以上、30重量份以上、50重量份以上、80重量份以上或100重量份以上,且可為200重量份以下、180重量份以下、150重量份以下、130重量份以下或110重量份以下;TBA例如可為10重量份以上、30重量份以上、50重量份以上、80重量份以上或100重量份以上,且可為200重量份以下、180重量份以下、150重量份以下、130重量份以下或110重量份以下。
塗層液之固體成分濃度,例如可為0.1重量%以上、0.3重量%以上、0.5重量%以上、1.0重量%以上或1.5重量%以上,且可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下或3重量%以下。若固體成分濃度於此範圍內,可兼具塗層性(例如溼潤、調平)與防止塗層膜之外觀不良(例如風乾不均、白化)。
於塗層液中視需要亦可添加硬化劑。關於硬化劑,可使用任意適當的聚合引發劑(例如熱聚合引發劑、光聚合引發劑等)。硬化劑之添加量相對於游離輻射硬化性樹脂100重量份,例如可為0.5重量份以上、1.0重量份以上、1.5重量份以上、2.0重量份以上或2.5重量份以上,且可為15重量份以下、13重量份以下、10重量份以下、7重量份以下或5重量份以下。
抗反射層通常形成在任意適當的基材後,經由任意適當的接著劑層或黏著劑層積層於偏光件或偏光板。首先,於基材上塗佈塗層液。關於塗層方法,可採用任意適當的方法。關於具體例,可列舉:噴注塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法。塗層液之塗佈量可根據欲形成之抗反射層之厚度而適當地設定。欲形成之抗反射層之厚度,例如可為0.1μm以上、0.3μm以上、0.5μm以上、1.0μm以上或2.0μm以上,且可為50μm以下、40μm以下、30μm以下、20μm以下或10μm以下。
接著,使塗佈之塗層液乾燥後,形成塗膜。乾燥溫度可根據目的而適當地設定。乾燥溫度例如可為30℃以上、40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上或100℃以上,且可為200℃以下、190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下或110℃以下。乾燥時間亦可根據目的而適當設定。乾燥時間例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上或60秒以上,且可為150秒以下、130秒以下、110秒以下或90秒以下。
接著,使塗膜硬化。硬化例如可藉由加熱、光照射等來進行。用於光照射之光,例如可為紫外線、可見光。光照射之光源,例如可為高壓水銀燈。紫外線硬化時之能量線源之照射量,以紫外線波長365nm下之累計曝光量計,宜為50mJ/cm2 ~500mJ/cm2 。若照射量為50mJ/cm2 以上,硬化容易充分地進行,所形成之抗反射層之硬度容易變高。若照射量為500mJ/cm2 以下,可防止所形成之抗反射層著色。
F.第1接著劑層及第2接著劑層 如上所述,第1接著劑層21及第2接著劑層22之接著劑中之至少一者通常由活性能量線硬化型接著劑組成物構成。將組成物總量設為100重量%時,活性能量線硬化型接著劑組成物含有:SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)0.0重量%~4.0重量%;SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且小於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)5.0重量%~98.0重量%;及SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)5.0重量%~98.0重量%。較佳為至少第1接著劑層21由上述活性能量線硬化型接著劑組成物構成,更佳為第1接著劑層21及第2接著劑層22兩者由上述活性能量線硬化型接著劑組成物構成。再者,僅第1接著劑層21或第2接著劑層22中之一者由上述活性能量線硬化型接著劑組成物構成時,另一者的接著劑層可由任意適當的接著劑構成。
以下,就上述活性能量線硬化型接著劑組成物進行說明。
關於活性能量線硬化型化合物(A)之具體例,可舉例:羥乙基丙烯醯胺(SP值29.5)、N-羥甲基丙烯醯胺(SP值31.5)。將組成物全量設為100重量%時,化合物(A)之含量宜為4.0重量%以下、較佳為2.0重量%、更佳為1.5重量%、尤佳為1.0重量%。組成物宜不含化合物(A)。
關於活性能量線硬化型化合物(B)之具體例,可列舉:三丙二醇二丙烯酸酯(SP值19.0)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(SP值19.2)、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯(SP值20.3)、環狀三羥甲基丙烷甲縮醛丙烯酸酯(SP值19.1)、二噁烷二醇二丙烯酸酯(SP值19.4)、EO改質雙甘油四丙烯酸酯(SP值20.9)。關於化合物(B)亦可使用市售品。關於市售品之具體例,可列舉:ARONIX M-220(東亞合成公司製、SP值19.0)、LIGHTACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製、SP值19.2)、LIGHTACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製、SP值20.9)、LIGHTACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製、SP值20.3)、SR-531(SARTOMER公司製、SP值19.1)、CD-536(SARTOMER公司製、SP值19.4)。將組成物全量設為100重量%時,化合物(B)之含量宜為20重量%~80重量%、較佳為25重量%~70重量%。
關於活性能量線硬化型化合物(C)之具體例,可列舉:丙烯醯基嗎啉(SP值22.9)、N-甲氧基甲基丙烯醯胺(SP值22.9)、N-乙氧基甲基丙烯醯胺(SP值22.3)。關於化合物(C)亦可使用市售品。關於市售品之具體例,可列舉:ACMO(興人公司製、SP值22.9)、WASSMER(音譯) 2MA(笠野興產公司製、SP值22.9)、WASSMER EMA(笠野興產公司製、SP值22.3)、WASSMER 3MA(笠野興產公司製、SP值22.4)。將組成物全量設為100重量%時,化合物(C)之含量宜為20重量%~80重量%、較佳為25重量%~70重量%。
SP值(溶解度參數)可藉由Fedors計算法[參考「聚合物工程與科學(Polymer Eng.&Sci.)」,第14卷,第2號(1974),第148~154頁]而求出。
活性能量線硬化型接著劑組成物亦可進一步含有使(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系低聚物(D)。藉由含有低聚物,可提高抗反射層與偏光板(實質上為第1保護層)之接著力、及/或抗反射層與相位差層之接著力。將組成物總量設為100重量%時,低聚物(D)之含量宜為3.0重量%以上、較佳為5.0重量%以上。另一方面,含量宜為25重量%以下、較佳為15重量%以下。若於此範圍內,可抑制硬化收縮(硬化過多)及硬化不良(硬化不足)。低聚物(D)之重量平均分子量Mw宜為15000以下、較佳為10000以下、更佳為5000以下。另一方面,重量平均分子量Mw宜為500以上、較佳為1000以上、更佳為1500以上。
活性能量線硬化型接著劑組成物亦可進而含有具有奪氫作用的自由基聚合引發劑(E)。關於自由基聚合引發劑(E),例如可列舉:噻噸酮系自由基聚合引發劑、二苯基酮系自由基聚合引發劑。較佳為二乙基噻噸酮。
由上述活性能量線硬化型接著劑組成物構成之第1接著劑層及/或第2接著劑層之厚度,宜為0.01μm~3.0μm、較佳為0.1μm~2.5μm、更佳為0.5μm~1.5μm。
於偏光板與第1接著劑層及/或第2接著劑層之間,亦可形成易接著層。
上述的活性能量線硬化型接著劑組成物及形成易接著層的組成物的詳細情形,例如記載於日本特開2019-147865號公報。該公報之記載作為參考引用於本說明書中。
G.影像顯示裝置 上述A項~F項所記載之附抗反射層之圓偏光板可應用於影像顯示裝置。因此,本發明之實施形態亦包含使用這種附抗反射層之圓偏光板的影像顯示裝置。本發明之實施形態之影像顯示裝置通常於其視認側具備在上述A項~F項所記載之附抗反射層之圓偏光板。附抗反射層之圓偏光板係以上述抗反射層成為視認側之方式配置。影像顯示裝置之反射率宜為40%以下。於具有如此反射率之影像顯示裝置中,上述A項~F項所記載之附抗反射層之圓偏光板的效果明顯。具體而言,如下所述。若影像顯示裝置之反射率較低,可縮小顯示影像之反射等,但另一方面,於高溫高溼環境下於影像顯示裝置亦不易看到顯示不均(例如條紋)。關於影像顯示裝置之代表例,可列舉:液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置。較佳為有機EL顯示裝置。 [實施例]
以下,藉由實施例具體地說明本發明,但本發明並不限定於此等實施例。再者,各特性之測定方法如下所述。
(1)透過率 使用紫外光可見光光譜儀(日本分光公司製V-7100)測定於實施例及比較例獲得之附抗反射層之圓偏光板之透過率。再者,單體透過率係藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行測定,且進行視感度修正後的Y值。 (2)反射率 將於實施例及比較例獲得之附抗反射層之圓偏光板切出特定尺寸,對相位差層表面實施電暈處理。將附抗反射層之圓偏光板之該電暈處理面經由丙烯酸系黏著劑(20μm)貼合於無鹼玻璃板,製作積層體。將該積層體進行60℃及90%RH下500小時之加熱加溼試驗。將加熱加溼試驗後之積層體以玻璃板面對向之方式載置於有機EL裝置代替品,作為試驗樣品。使用Konica Minolta公司製分光測色計「CM-2600d」對該試驗樣品測定正面反射率。正面反射率係以SCI方式測定。 再者,有機EL顯示裝置代替品如下所述地製作。於丙烯酸板上以黏著劑貼合鋁蒸鍍薄膜(東麗薄膜加工公司製、商品名「DMS蒸鍍X-42」、厚度50μm),將此作為有機EL顯示裝置代替品。 (3)顯示不均 就與上述(1)相同方式製作的試驗樣品,於螢光燈下以目視觀察試驗樣品之顯示不均(條紋、顏色不均、亮度不均等),按照以下基準進行評價。 ○:於正面方向及傾斜方向中任一方向上均沒有觀察到顯示不均 △:於正面方向上沒有觀察到顯示不均,但於傾斜方向上觀察到顯示不均 ╳:於正面方向及傾斜方向中任一方向上均觀察到顯示不均 (4)亮度 從有機EL顯示器(Samsung公司製、製品名「Galaxy S5」)取出有機EL面板,將貼著於該有機EL面板之偏光薄膜剝離,而貼合於實施例及比較例獲得之圓偏光板,得到有機EL顯示裝置。於獲得之有機EL顯示裝置上顯示白色影像,使用TOPCON公司製之分光放射計(商品名「SR-UL1R」)測定正面亮度(cd)。
[製造例1:製作偏光板] (偏光件之製作) 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度45μm之聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃溫水中60秒,使之膨潤。接著,浸漬於碘/碘化鉀(重量比=1/7)之濃度0.3%之水溶液中,一面延伸至2.6倍,一面將薄膜染色。然後,於65℃之4重量%硼酸水溶液中,以總延伸倍率成為6倍之方式進行延伸。延伸後,於55℃烘箱中進行乾燥1分鐘,獲得PVA系偏光件。該偏光件之厚度為18μm、水分率為15重量%。
(偏光板之製作) 於獲得之偏光件之表面(與樹脂基材相反側之面)經由紫外線硬化型接著劑貼合作為保護層的環烯烴系薄膜(日本ZEON公司製、ZF-12、23μm)。具體而言,以硬化型接著劑之總厚度成為約1.0μm之方式塗佈,使用輥壓機進行貼合。之後,從環烯烴系薄膜側照射UV光線,使接著劑硬化。接著,將樹脂基材剝離,獲得具有環烯烴系薄膜(保護層)/偏光件之構造的偏光板。
[製造例2:製作構成相位差層之相位差薄膜] 使用批次式聚合裝置進行聚合,該批次式聚合裝置由具備攪拌葉片及控制在100℃之回流冷卻器之縱型反應器構成。添加雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)芴-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺二醇(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為催化劑之乙酸鈣一水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。將反應器內減壓進行氮氣置換後,以熱媒進行加溫,於內溫成為100℃之時間點開始攪拌。於開始升溫40分鐘後,使內溫到達220℃,於控制為保持該溫度之同時,開始減壓,於到達220℃之後花費90分鐘達到13.3kPa。將和聚合反應一起副生成的苯酚蒸氣引導到100℃之回流冷卻器,使苯酚蒸氣中包含之單體成分若干量返回到反應器,未凝結之苯酚蒸氣被導引到45℃凝結器後回收。朝第1反應器導入氮氣,一旦復壓到大氣壓後,將第1反應器內之被低聚物化的反應液移到第2反應器。接著,開始第2反應器內之升溫及減壓,花費50分鐘成為內溫240℃、壓力0.2kPa。然後,進行聚合,直至成為規定的攪拌動力。於到達規定動力之時間點,朝反應器導入氮氣進行復壓,將生成的聚酯碳酸酯系樹脂於水中進行擠出,切股後獲得顆粒。
將獲得之聚酯碳酸酯系樹脂(顆粒)於80℃進行5小時真空乾燥後,使用具備單軸擠出機(東芝機械公司製、缸體設定溫度:250℃)、T模具(寬度200mm、設定溫度:250℃)、冷輥(設定溫度:120~130℃)及卷取機之薄膜製膜裝置,製作厚度135μm之長條狀樹脂薄膜。將獲得之長條狀樹脂薄膜於寬度方向以延伸溫度133℃、延伸倍率2.8倍進行延伸,獲得厚度48μm之相位差薄膜I。獲得之相位差薄膜之Re(550)為141nm,Re(450)/Re(550)為0.82,Nz係數為1.12。
[製造例3:製作構成相位差層之相位差薄膜] 於反應容器中投入異山梨醇(以下有時簡稱為「ISB」)81.98質量份、三環癸烷二甲醇(以下有時簡稱為「TCDDM」)47.19質量份、碳酸二苯酯(以下有時簡稱為「DPC」)175.1質量份及作為催化劑之碳酸銫0.2質量% 水溶液0.979質量份,於氮氣氛圍下,作為反應的第1階段的步驟,將加熱槽溫度加熱到150℃,視需要一面攪拌一面使原料溶解(約15分鐘)。接著,一面使壓力從常壓增加到13.3kPa、加熱槽溫度花費1小時上升到190℃,一面將產生的苯酚朝反應容器外排出。將反應容器全體於190℃保持15分鐘後,作為第2階段的步驟,將反應容器內的壓力設為6.67kPa、使加熱槽溫度花費15分鐘上升到230℃,將產生的苯酚朝反應容器外排出。隨著攪拌機之攪拌扭矩上升,花費8分鐘升溫到250℃,將產生的苯酚進一步排出,因此使反應容器內之壓力到達0.200kPa以下。到達規定的攪拌扭矩後,結束反應,將生成的反應物於水中擠出,獲得聚碳酸酯共聚物之顆粒。
將獲得之顆粒於80℃進行5小時真空乾燥後,使用具備單軸擠出機(東芝機械公司製、缸體設定溫度:250℃)、T模具(寬度200mm、設定溫度:250℃)、冷輥(設定溫度:120~130℃)及卷取機之薄膜製膜裝置,製作樹脂薄膜。將獲得之長條狀樹脂薄膜於傾斜方向以延伸溫度140℃、延伸倍率2.2倍進行延伸,獲得厚度30μm之相位差薄膜II。獲得之相位差薄膜之Re(550)為144nm,Re(450)/Re(550)為1.02,Nz係數為1.2。
[製造例4:製作抗反射層] [製造例4-1:製作硬塗層] 作為硬塗層所含之樹脂,準備紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(DIC(股)製、商品名「UNIDIC 17-806」、固體成分80%)100重量份。前述樹脂之每樹脂固體成分100重量份,混合光聚合引發劑(BASF公司製、商品名「OMNIRAD907」)3重量份、調平劑(DIC(股)製、商品名「GRANDIC PC4100」、固體成分10%)0.01重量份。將該混合物以固體成分濃度成為40%之方式以乙酸丁酯/環戊酮混合溶劑(重量比80/20)進行稀釋,製備硬塗層形成材料(塗層液)。於基材(厚度60μm之TAC薄膜)表面上,以線棒塗佈上述塗層液。將塗佈之塗層液於80℃加熱1分鐘,使之乾燥,形成塗膜。以高壓水銀燈對於乾燥後塗膜照射累計光量300mJ/cm2 之紫外線,進行硬化處理,於基材上獲得硬塗薄膜(硬塗層)。
[製造例4-2:製作抗反射層] 將新戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製、商品名「Viscoat#300」、固體成分100重量%)100重量份、中空奈米氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製、商品名「THRURIA 5320」、固體成分20重量%、重量平均粒徑75nm)100重量份、實心奈米氧化矽粒子(日產化學工業股份有限公司製、商品名「MEK-2140Z-AC」、固體成分30重量%、重量平均粒徑10nm)40重量份、含氟元素之添加劑(信越化學工業股份有限公司製、商品名「KY-1203」、固體成分20重量%)12重量份及光聚合引發劑(IGM Resins B.V.公司製、商品名「Omnirad907」、固體成分100重量%)3重量份進行混合。於該混合物中添加作為稀釋溶劑的混合溶劑,使全體之固體成分成為4重量%,進行攪拌,製備抗反射層形成用塗層液,該混合溶劑係以60:25:15重量比混合TBA(第三丁醇)、MIBK(甲基異丁酮)及PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)。
於製造例4-1獲得之基材/硬塗層之積層體之硬塗層表面,以線棒塗佈於製造例4-2獲得之抗反射層形成用塗層液。將塗佈之塗層液以80℃加熱1分鐘,使之乾燥後形成塗膜。以高壓水銀燈對於乾燥後塗膜照射累計光量300mJ/cm2 之紫外線,進行硬化處理,形成抗反射層。藉此,製作基材/硬塗(HC)層/抗反射層之積層體。
[製造例5:製備構成接著劑層之接著劑組成物] 將丙烯醯基嗎啉(興人公司製、商品名「ACMO」、SP值:22.9)45質量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名「LIGHTACRYLATE 1,9ND-A」、共榮社化學公司製)41質量份、使(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系低聚合物(商品名「ARUFON UG4010」、東亞合成公司製)10質量份、作為光聚合引發劑之二乙基噻噸酮(商品名「KAYACURE DETX-S」、日本化藥公司製)1.5質量份及作為光聚合引發劑之2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-嗎啉丙烷-1-酮(商品名「IRGACURE907」、BASF公司製)2.5質量份進行混合,於50℃攪拌1小時,藉此製備接著劑組成物。為方便起見,將該接著劑組成物稱為高耐久接著劑組成物。
[製造例6:製備構成接著劑層之接著劑組成物] 將作為接著劑之羥乙基丙烯醯胺(興人公司製、商品名「HEAA」、SP值:29.5)12重量份、丙烯醯基嗎啉(興人公司製、商品名「ACMO」、SP值:22.9)35質量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名「LIGHTACRYLATE 1,9ND-A」、共榮社化學公司製)40質量份、丙烯酸系低聚合物(商品名「ARUFON UG4010」、東亞合成公司製)10質量份、作為光聚合引發劑之KAYACURE DETX-S((2,4-二乙基噻噸酮)、日本化藥公司製)2重量份及光增感劑 IRGACURE907(2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-嗎啉丙烷-1-酮、商品名「IRGACURE907」、BASF公司製)1重量份,以上述比例進行混合,於50℃攪拌1小時,藉此製備接著劑組成物。為方便起見,將該接著劑組成物稱為一般接著劑組成物。
[製造例7:製備構成易接著層之組成物(易接著組成物)] 將丙烯醯基嗎啉(興人公司製、商品名「ACMO」、SP值:22.9)50質量份、3-丙烯醯胺苯基硼酸(純正化學公司製)0.9質量份進行混合,將獲得之混合物於25℃攪拌30分鐘,進而於混合物中混合水48.3質量份及調平劑(日信化學工業公司製、商品名「ALFINE EXP.4123」)0.8質量份,於25℃攪拌10分鐘,藉此製備易接著組成物。
[實施例1~4及比較例1~5] 將偏光板、相位差薄膜(相位差層)、抗反射層以及接著劑(第1接著劑層及第2接著劑層)如表1所示地組合,製作圖1所示(但沒有第1及第2保護層)的附抗反射層之圓偏光板。具體的製作方法如下。於偏光件兩面以1100nm之初始設定厚度塗佈製造例7的易接著組成物。另一方面,於製造例4獲得之積層體之基材表面形成第1接著劑層,將抗反射層經由第1接著劑層貼合於偏光板(實質上為易接著層)。相同地,於製造例3獲得之構成相位差層之相位差薄膜之一面形成第2接著劑層,將相位差薄膜經由第2接著劑層貼合於偏光板(實質上為易接著層)。接著,利用活性能量線照射裝置照射可見光線,使第1及第2接著劑層硬化,進而於70℃熱風乾燥3分鐘,製作附抗反射層之圓偏光板。又,於附抗反射層之圓偏光板之相位差層表面(與偏光件為相反側)設置丙烯酸系黏著劑層(23μm)。於此,偏光板與相位差層(相位差薄膜)係以偏光件之吸收軸與相位差薄膜之慢軸成45°角度之方式進行貼合。將獲得之附抗反射層之圓偏光板進行上述(1)~(4)的評價。將結果顯示於表1。
[表1]
Figure 02_image009
[評價] 由表1可知,根據本發明之實施例之附抗反射層之圓偏光板,可實現明亮且高溫高溼環境下的顯示不均得到抑制的影像顯示裝置。 產業上之可利用性
本發明之附抗反射層之圓偏光板可適當用於影像顯示裝置(通常為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置)。
10:偏光板 11:偏光件 12:第1保護層 13:第2保護層 21:第1接著劑層 22:第2接著劑層 30:抗反射層 40:相位差層 50:黏著劑層 100:附抗反射層之圓偏光板
圖1係本發明之一實施形態之附抗反射層之圓偏光板的概略剖面圖。
10:偏光板
11:偏光件
12:第1保護層
21:第1接著劑層
22:第2接著劑層
30:抗反射層
40:相位差層
50:黏著劑層
100:附抗反射層之圓偏光板

Claims (7)

  1. 一種附抗反射層之圓偏光板,具有: 包含偏光件之偏光板; 配置於該偏光板之一側的抗反射層;及 配置於該偏光板之另一側的相位差層;且 透過率為45.5%以上, 於60℃及90%RH下500小時的加熱加溼試驗後的反射率為2.5%以下。
  2. 如請求項1之附抗反射層之圓偏光板,其中前述偏光件與前述抗反射層側之保護層經由第1接著劑層貼合,該偏光件與前述相位差層經由第2接著劑層貼合; 該第1接著劑層及該第2接著劑層之接著劑中之至少一者由活性能量線硬化型接著劑組成物構成, 將組成物總量設為100重量%時,該活性能量線硬化型接著劑組成物含有: SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)0.0重量%~4.0重量%; SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且小於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)5.0重量%~98.0重量%;及 SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)5.0重量%~98.0重量%。
  3. 如請求項1或2之附抗反射層之圓偏光板,其中前述抗反射層之反射率為1.5%以下。
  4. 如請求項1至3中任一項之附抗反射層之圓偏光板,其中上述相位差層之Re(550)為100nm~200nm,該相位差層之慢軸與上述偏光件之吸收軸所成的角度為40°~50°或130°~140°。
  5. 如請求項1至4中任一項之附抗反射層之圓偏光板,其中前述相位差層由樹脂薄膜之延伸薄膜構成,Re(450)/Re(550)為0.80~1.03: 於此,Re(450)及Re(550)分別為23℃下以波長450nm及550nm之光測得的面內相位差。
  6. 一種影像顯示裝置,係於視認側具備如請求項1至5中任一項之附抗反射層之圓偏光板, 該附抗反射層之圓偏光板之前述抗反射層配置於視認側,且 該影像顯示裝置之反射率為40%以下。
  7. 如請求項6之影像顯示裝置,其係有機電致發光顯示裝置。
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