TW202319787A - 偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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澤田浩明
朝永政俊
後藤周作
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種能夠有助於提高圖像顯示裝置之顯示特性之偏光板。 本發明之實施方式之偏光板包含：具有基材與表面處理層之積層膜、及配置於上述積層膜之上述基材側之偏光元件，上述表面處理層側之反射率為2%以下，上述表面處理層側之霧度為1%以上13%以下，上述偏光板之透過率為45.5%以上，上述偏光板用於有機EL面板。

Description

偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及圖像顯示裝置。
在搭載於圖像顯示裝置之圖像顯示面板中，一般使用偏光板。代表性而言，廣泛使用著將偏光板與相位差板一體化而成之附相位差層之偏光板(例如，專利文獻1)。近年來，作為圖像顯示裝置，電致發光(EL)顯示裝置(例如，有機EL顯示裝置)正在迅速地普及(代表性地為智慧型手機、電視機)，其用途正在進一步擴展。例如，正在研究對膝上型個人電腦、平板終端之應用。而且，隨著用途之擴展，在任何狀況下均要求優異之顯示特性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
鑒於上述情況，本發明之主要目的在於提供一種能夠有助於提高圖像顯示裝置之顯示特性之偏光板。 [解決問題之技術手段]
根據本發明之實施方式，提供一種偏光板。該偏光板包含：具有基材與表面處理層之積層膜、及配置於上述積層膜之上述基材側之偏光元件，上述表面處理層側之反射率為2%以下，上述表面處理層側之霧度為1%以上13%以下，上述偏光板之透過率為45.5%以上，且上述偏光板用於有機EL面板。 於一實施方式中，上述表面處理層包含第一層，上述第一層包含樹脂成分及中空粒子，上述第一層包含相對於上述樹脂成分100重量份為11重量份以上之上述中空粒子。 於一實施方式中，上述表面處理層包含第一層，上述第一層包含樹脂成分及中空粒子，上述第一層包含相對於上述樹脂成分100重量份為40重量份以下之上述中空粒子。 於一實施方式中，上述偏光板進而具有相位差層，上述相位差層之面內相位差Re(550)為100 nm～190 nm。 根據本發明之另一實施方式，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置具有：圖像顯示面板本體、及配置於上述圖像顯示面板本體之視認側之上述偏光板。 於一實施方式中，上述偏光板位於上述視認側之最表面。 [發明效果]
根據本發明之實施方式，能夠實現優異之顯示特性。
以下，參照附圖對本發明之實施方式進行說明，但本發明不限定於該等實施方式。又，為了使說明更明確，圖示有時與實施方式相比模式性地表示各部之寬度、厚度、形狀等，但其始終為一例，並不限定本發明之解釋。
(術語及符號之定義) 本說明書中之術語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內折射率成為最大之方向(即，慢軸方向)之折射率，「ny」係在面內與慢軸正交之方向(即，快軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550 nm之光測得之面內相位差。將層(膜)之厚度設定為d(nm)時，Re(λ)基於式：Re(λ)＝(nx－ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550 nm之光測得之厚度方向之相位差。將層(膜)之厚度設定為d(nm)時，Rth(λ)基於式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d求出。
圖1係表示本發明之一實施方式之偏光板之概略構成之模式性剖視圖。偏光板(代表性地為圓偏光板)100具有：偏光元件10、配置於偏光元件10之一側之積層膜20、配置於偏光元件10之另一側之保護層30、相位差層(代表性地為λ/4板)40以及黏著劑層50。積層膜20包含基材21及形成於基材21上之表面處理層22，基材21能夠作為偏光元件10之保護層發揮功能。保護層30可省略，此時，相位差層40能夠作為偏光元件之保護層發揮功能。
構成偏光板之各構件可經由任意適當之接著層(未圖示)，例如一面進行輥搬送一面積層。作為接著層之具體例，可例舉接著劑層、黏著劑層。例如，積層膜20及保護層30經由接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)貼合於偏光元件10。接著劑層之厚度較佳為0.4 μm以上，更佳為0.4 μm～3.0 μm，進而較佳為0.6 μm～2.0 μm。例如，相位差層40經由黏著劑層貼合於保護層30。配置於保護層30與相位差層40之間之黏著劑層之厚度例如為5 μm～15 μm。
於偏光板100中，在偏光元件10之未配置積層膜20之一側設置有黏著劑層50。藉由黏著劑層50，例如偏光板100可貼附於圖像顯示裝置所包含之圖像顯示面板上。黏著劑層50之厚度例如為10 μm～20 μm。實際使用中，在黏著劑層50之表面貼合有剝離襯墊。剝離襯墊可暫時貼合直到偏光板供於使用。藉由使用剝離襯墊，例如能夠在保護黏著劑層50之同時形成偏光板之卷。
偏光板可為長條狀，亦可為單片狀。此處，「長條狀」係指長度相對於寬度足夠長之細長形狀，例如係指長度相對於寬度為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之偏光板可捲繞成卷狀。
圖2係以有機EL顯示裝置為例來表示本發明之一實施方式之圖像顯示裝置之概略構成之模式圖。具體而言，其係表示在本發明之一實施方式之有機EL顯示裝置中在有機EL面板上配置有偏光板之狀態之概略之模式性剖視圖。於有機EL面板200中，偏光板100配置於視認側，偏光元件10以相較於積層膜20更靠近有機EL面板本體70側之方式配置。具體而言，偏光板100經由黏著劑層50貼附於有機EL面板本體70。有機EL面板本體70具有：基板71、及上部構造層72，該上部構造層72包含含有薄膜電晶體(TFT)等之電路層、有機發光二極體(OLED)、將OLED密封之密封膜等。於一實施方式中，積層膜20之表面處理層22位於圖像顯示裝置之最表面。具體而言，於圖像顯示裝置中，未在偏光板100(表面處理層22)上配置玻璃板等保護材。
偏光板之透過率較佳為超過45.0%，更佳為45.5%以上，進而較佳為46.0%以上。根據此種偏光板，能夠抑制圖像顯示面板之發光強度，亦能夠應對圖像顯示裝置之長時間使用。具體而言，能夠防止長時間之圖像顯示導致之圖像殘像之問題。此處，偏光板之透過率係指除相位差層以外之積層部分之透過率。具體而言，係指積層膜與偏光元件之積層部分、或者積層膜、偏光元件及保護層之積層部分之透過率。
[偏光元件] 上述偏光元件代表性地為包含二色性物質(例如，碘)之樹脂膜。作為樹脂膜，例如可例舉：聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。
偏光元件之厚度較佳為18 μm以下，更佳為15 μm以下，進而較佳為12 μm以下。另一方面，偏光元件之厚度較佳為1 μm以上。
偏光元件較佳為在波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%～47.0%，較佳為42.0%～47.0%，更佳為44.5%～47.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。此處，偏光元件之單體透過率係將積層膜與偏光元件之積層體、或者積層膜、偏光元件及保護層之積層體作為測定對象進行測定而得到之值。
偏光元件可藉由任意適當之方法製作。具體而言，偏光元件可由單層之樹脂膜製作，亦可使用兩層以上之積層體製作。
由上述單層之樹脂膜製作偏光元件之方法代表性地包括：對樹脂膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理。作為樹脂膜，例如可使用聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。該方法可進一步包括不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。此種製造方法於本領域中係周知慣用之方法，因此省略詳細之說明。
使用上述積層體獲得之偏光元件例如可使用樹脂基材與樹脂膜或樹脂層(代表性地為PVA系樹脂層)之積層體而製作。具體而言，可以如下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，在樹脂基材上形成PVA系樹脂層，獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色，將PVA系樹脂層製成偏光元件。本實施方式中，較佳為在樹脂基材之一側形成包含鹵化物與PVA系樹脂之PVA系樹脂層。延伸代表性地包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，根據需要，延伸可進一步包括在硼酸水溶液中之延伸前將積層體在高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。此外，本實施方式中，較佳為將積層體供於藉由一面沿著長度方向搬送一面進行加熱而在寬度方向上收縮2%以上之乾燥收縮處理。代表性而言，本實施方式之製造方法包括：對積層體依次實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦能夠提高PVA之結晶性，可實現較高之光學特性。又，同時藉由預先提高PVA之配向性，在其後之染色步驟、延伸步驟中浸漬於水中時，能夠防止PVA配向性之降低或溶解等問題，能夠實現較高之光學特性。進而，於將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，與PVA系樹脂層不含鹵化物之情況相比，PVA分子配向之紊亂、及配向性之降低能夠得到抑制，可實現較高之光學特性。進而，藉由乾燥收縮處理使積層體在寬度方向上收縮，藉此能夠實現較高之光學特性。於從所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材而獲得之剝離面、或者在與剝離面相反側之一面積層保護層，可獲得偏光板。此種偏光元件之製造方法之詳情例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。將該等公報之整體記載作為參考援用於本說明書中。
[保護層] 上述保護層可由能夠作為偏光元件之保護層使用之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯等環烯烴系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等樹脂。
保護層之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為15 μm～35 μm。
配置於偏光元件30之未配置積層膜20之一側之保護層30於一實施方式中較佳為光學各向同性。本說明書中，「光學各向同性」係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，並且厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。
[積層膜] 上述積層膜具有基材與形成於基材上之表面處理層。基材能夠作為偏光元件之保護層發揮功能，其詳情如上所述。本發明之實施方式之偏光板代表性地配置於圖像顯示裝置之視認側，積層膜配置於視認側。於一實施方式中，積層膜之表面處理層位於圖像顯示裝置之最表面。因此，較佳為在基材(視認側之保護層)上形成有表面處理層。作為表面處理，例如可例舉：硬塗(HC)處理、抗反射處理、抗黏連處理、防眩(防眩光)處理、防污處理。
積層膜之表面處理層側之霧度較佳為1%以上，更佳為1.5%以上，進而較佳為2%以上。根據此種積層膜，能夠抑制疊紋之產生。疊紋係光按波長相應地發生干涉，導致彩虹紋映入至畫面表面之現象，有畫面越大，疊紋越容易被視認之傾向。另一方面，積層膜之表面處理層側之霧度較佳為13%以下，更佳為10%以下，進而較佳為7%以下。根據此種積層膜，能夠抑制視認到如畫面表面模糊得發白之白色模糊之產生。白色模糊有在亮室環境下容易被視認之傾向。
積層膜之表面處理層側之反射率較佳為2%以下，更佳為1.6%以下。根據此種積層膜，能夠抑制因螢光燈、太陽光等外界光而導致圖像映入至畫面，導致視認性降低之情況。此種映入有在室外環境中容易被視認之傾向。
於一實施方式中，表面處理層從基材側起依次具有防眩層及抗反射層。防眩層代表性地包含樹脂及填料。具體而言，藉由在樹脂中含有填料，而於所獲得之層(防眩層)之表面產生微細之凹凸形狀，藉此可獲得防眩性。
例如，防眩層代表性地可藉由使在上述基材上塗敷防眩層形成用材料而得之塗膜乾燥、硬化而獲得。防眩層形成用材料代表性包含作為層形成成分之硬化性化合物。作為硬化性化合物之硬化機制，例如可例舉：熱硬化型、光硬化型。作為硬化性化合物，例如可例舉：單體、低聚物、預聚物。較佳為使用多官能單體或低聚物作為硬化性化合物。作為多官能單體或低聚物，例如可例舉：具有兩個以上(甲基)丙烯醯基之單體或低聚物、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之低聚物、環氧系單體或低聚物、矽酮系單體或低聚物。
上述填料之折射率例如為1.3以上1.8以下，較佳為1.4以上1.6以下。
上述填料可為無機粒子，亦可為有機粒子，還可將無機粒子及有機粒子併用。作為無機粒子，例如可例舉：氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化鋅粒子、氧化錫粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石粒子、高嶺土粒子、硫酸鈣粒子。作為有機粒子，例如可例舉：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA粒子)、矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯并胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末。該等可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
於一實施方式中，填料之含量相對於樹脂100重量份例如為1重量份以上3重量份以下，亦可為1.5重量份以上2.5重量份以下。於另一實施方式中，填料之含量相對於樹脂100重量份，例如為5重量份以上7.5重量份以下，亦可為6重量份以上7重量份以下。
防眩層之厚度較佳為4 μm～12 μm，更佳為6 μm～9 μm。再者，作為可於防眩層形成用材料中包含之溶劑及防眩層形成用材料之塗敷、乾燥及硬化方法，可採用與下述抗反射層形成用塗敷液同樣之溶劑及方法。
上述抗反射層能夠降低防眩層表面之反射。抗反射層例如可藉由在上述防眩層上塗敷抗反射層形成用塗敷液並使所獲得之塗膜乾燥、硬化而得到。抗反射層形成用塗敷液例如可包含硬化性化合物、含氟添加劑、中空粒子及溶劑等，例如，可將該等混合而獲得。
作為抗反射層形成用塗敷液中所含之硬化性化合物之硬化機制，例如可例舉：熱硬化型、光硬化型。作為硬化性化合物，例如可使用具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一種基之化合物，例如可例舉：矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等之低聚物或預聚物等。該等化合物可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
上述硬化性化合物中例如亦可使用具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一種基之反應性稀釋劑。反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報中記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為反應性稀釋劑，基於獲得優異之硬度之觀點，較佳為使用三官能以上之丙烯酸酯、三官能以上之甲基丙烯酸酯。作為反應性稀釋劑，例如還可例舉：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸之丙烯酸酯、異三聚氰酸之甲基丙烯酸酯等。該等反應性稀釋劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。為了使上述硬化性化合物硬化，例如可使用硬化劑。作為硬化劑，例如可使用公知之聚合起始劑(例如，熱聚合起始劑、光聚合起始劑等)。
上述含氟添加劑例如可為含氟有機化合物，亦可為含氟無機化合物。作為含氟有機化合物，例如可例舉：含氟防污塗佈劑、含氟丙烯酸化合物、含氟/矽之丙烯酸化合物。作為含氟有機化合物，可使用市售品。作為市售品之具體例，可例舉信越化學工業股份有限公司製造之商品名「KY-1203」、DIC股份有限公司製造之商品名「Megafac」等。含氟添加劑之含量相對於上述硬化性化合物100重量份，例如可為0.05重量份以上、0.1重量份以上、0.15重量份以上、0.20重量份以上、或0.25重量份以上，亦可為20重量份以下、15重量份以下、10重量份以下、5重量份以下、或3重量份以下。
作為上述中空粒子，例如可使用二氧化矽粒子、丙烯酸粒子、丙烯酸-苯乙烯共聚粒子。中空二氧化矽粒子可使用市售品(例如，日揮觸媒化成工業股份有限公司製造之商品名「Thrulya 5320」、「Thrulya 4320」)。中空粒子之重量平均粒徑例如可為30 nm以上、40 nm以上、50 nm以上、60 nm以上、或70 nm以上，亦可為150 nm以下、140 nm以下、130 nm以下、120 nm以下、或110 nm以下。中空粒子之形狀並無特別限制，較佳為大致球形。具體而言，中空粒子之縱橫比較佳為1.5以下。
中空粒子之含量相對於上述硬化性化合物(硬化後之樹脂成分)100重量份，例如為11重量份以上，亦可為12重量份以上，還可為15重量份以上。根據此種範圍，能夠獲得充分之抗反射功能。另一方面，中空粒子之含量相對於上述硬化性化合物(硬化後之樹脂成分)100重量份，例如為40重量份以下，亦可為30重量份以下，還可為24重量份以下。於一實施方式中，藉由調整抗反射層之中空粒子之含量、及上述防眩層中所含之填料之種類或含量，能夠調整上述霧度。
作為上述溶劑，可使用任意適當之溶劑。作為溶劑，例如可例舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、TBA(第三丁醇)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲乙酮、MIBK(甲基異丁基酮)、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)等酯類；二異丙醚、丙二醇單甲醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類。該等溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。關於溶劑之含量，例如相對於上述抗反射層形成用塗敷液整體之重量，固形物成分之重量例如可為0.1重量%以上、0.3重量%以上、0.5重量%以上、1.0重量%以上、或1.5重量%以上，亦可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。
作為上述抗反射層形成用塗敷液之塗敷方法，例如可使用噴流式塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等公知之塗敷方法。上述塗膜之乾燥溫度例如為30℃～200℃，乾燥時間例如為30秒鐘～90秒鐘。上述塗膜之硬化例如可藉由加熱、光照射(代表性地為紫外線照射)進行。作為光照射之光源，例如可使用高壓水銀燈。紫外線照射之照射量以在紫外線波長365 nm下之累計曝光量計，較佳為50 mJ/cm 2～500 mJ/cm 2。
抗反射層之厚度較佳為0.1 μm～2 μm，更佳為0.1 μm～1 μm。
表面處理層之厚度例如為1 μm～20 μm，較佳為4 μm～14 μm，更佳為6 μm～10 μm。
[相位差層] 上述相位差層可具有面內相位差。於一實施方式中，相位差層能夠作為λ/4板發揮功能。具體而言，相位差膜之面內相位差Re(550)例如為100 nm～190 nm，較佳為110 nm～180 nm，更佳為120 nm～170 nm，進而較佳為130 nm～160 nm，尤佳為135 nm～155 nm。相位差層之構成並無特別限定，例如可由樹脂膜構成，亦可為液晶化合物之配向固化層(液晶配向固化層)。此處，「配向固化層」係指液晶化合物在層內沿著特定之方向配向、並且其配向狀態固定之層。再者，「配向固化層」係包括使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層之概念。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明具體地進行說明，但本發明不限定於該等實施例。再者，厚度、反射率、霧度及透過率係藉由下述測定方法測得之值。又，除非有特別明確記載，否則實施例及比較例中之「份」及「%」為重量基準。 1.厚度 10 μm以下之厚度係使用掃描式電子顯微鏡(日本電子公司製造，產品名「JSM-7100F」)進行測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(Anritsu公司製造，產品名「KC-351C」)進行測定。 2.霧度 基於JIS 7136，使用霧度計(村上色彩科學研究所公司製造，產品名「HN-150」)進行測定。測定積層膜之表面處理層側之反射率時，用黏著劑將積層膜貼合於黑色之亞克力板上，作為測定用試樣。 3.反射率 使用紫外可見紅外分光光度計(Hitachi High-Tech製造，產品名「U-4100」)進行測定。測定積層膜之表面處理層側之反射率時，用黏著劑將積層膜貼合於黑色之亞克力板上，作為測定用試樣。測定係以波長380 nm～780 nm實施。 4.透過率 使用紫外可見分光光度計(日本分光股份有限公司製造，「V7100」)進行測定。再者，透過率係藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並經視感度補正之Y值。
[實施例1] (偏光元件之製作) 藉由輥延伸機，將厚度30 μm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜(Kuraray製造，產品名「PE3000」)之長條卷以在長度方向上達到5.9倍之方式沿著長度方向進行單軸延伸，同時依次實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理後，最後實施乾燥處理，藉此製作厚度12 μm之偏光元件。 上述膨潤處理係一面在20℃之純水進行處理一面延伸至2.2倍。繼而，染色處理係一面以使獲得之偏光元件之單體透過率成為期望值之方式在調整了碘濃度之碘與碘化鉀之重量比為1：7之30℃之水溶液中進行處理，一面延伸至1.4倍。繼而，交聯處理採用兩個階段之交聯處理，第一階段之交聯處理係一面在40℃之溶解有硼酸與碘化鉀之水溶液中進行處理一面延伸至1.2倍。第一階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設定為5.0重量%，碘化鉀含量設定為3.0重量%。第二階段之交聯處理係一面在65℃之溶解有硼酸與碘化鉀之水溶液中進行處理一面延伸至1.6倍。第二階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設定為4.3重量%，碘化鉀含量設定為5.0重量%。繼而，洗淨處理係在20℃之碘化鉀水溶液中進行處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量設定為2.6重量%。最後，以70℃進行5分鐘之乾燥處理而獲得偏光元件。
(積層膜之製作) 按照下述所示之順序，在厚度25 μm之TAC膜上形成表面處理層，獲得積層膜(霧度：2.5%、反射率：1.5%)。
(表面處理層之形成) 1.防眩層(防眩性硬塗層)之形成 準備紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(日本合成化學工業股份有限公司製造，商品名「UV1700B」、固形物成分100%)80重量份、及以季戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat#300」、固形物成分100%)20重量份之混合物。相對於混合物之樹脂固形物成分100重量份，混合交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子(積水化成品工業股份有限公司製造，商品名「Techpolymer」、重量平均粒徑：5 μm、折射率：1.51)2重量份、作為有機黏土(觸變性賦予劑)之合成膨潤石(Co-op Chemical股份有限公司製造，商品名「Lucentite SAN」)0.4重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」)3重量份、調平劑(DIC股份有限公司製造，商品名「PC4100」、固形物成分10%)0.05重量份。此處，有機黏土係用甲苯稀釋至固形物成分達到6%後再使用。 利用甲苯/環戊酮(CPN)混合溶劑(重量比80/20)將所獲得之混合物稀釋至固形物成分濃度達到40重量%，製備防眩層形成用材料(塗敷液)。
使用線棒塗佈器將所獲得之防眩層形成用材料(塗敷液)塗敷於TAC膜(厚度25 μm、富士膠片股份有限公司製造，商品名「TJ25UL」)上。繼而，藉由在95℃下加熱1分鐘而使塗膜乾燥後，利用高壓水銀燈以累計光量達到300 mJ/cm 2之方式對塗膜照射紫外線，形成厚度6.5 μm之防眩層。
2.抗反射層之形成 將以季戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat＃300」、固形物成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製造，商品名「Thrulya 5320」、固形物成分20重量%、重量平均粒徑75 nm)100重量份、含氟添加劑(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KY-1203」、固形物成分20重量%)12重量份、及光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」、固形物成分100重量%)3重量份進行混合。向該混合物中添加將作為溶劑之TBA、MIBK及PMA以60：25：15之重量比混合而成之混合溶劑，以使整體之固形物成分達到4重量%，進行攪拌而製備抗反射層形成用塗敷液。
使用線棒塗佈器將所獲得之抗反射層形成用塗敷液塗敷於上述防眩層上。將塗敷後之塗敷液在80℃下加熱1分鐘，使其乾燥而形成塗膜。用高壓水銀燈對所獲得之塗膜照射累計光量為300 mJ/cm 2之紫外線而實施硬化處理，形成厚度0.1 μm之抗反射層。 如此形成表面處理層。
(偏光板之製作) 經由紫外線硬化型接著劑，以TAC膜成為偏光元件側之方式在所獲得之偏光元件之一側貼合積層膜。 經由紫外線硬化型接著劑，在偏光元件之另一側貼合厚度25 μm之TAC膜，獲得積層體(透過率：46.0%)。然後，經由厚度12 μm之丙烯酸系黏著劑層貼合相位差膜(聚碳酸酯樹脂膜、厚度：50 μm、Re(550)：147 nm、帝人股份有限公司製造，產品名「Pureace RM」)，然後，形成厚度15 μm之丙烯酸系黏著劑層，獲得偏光板。
[實施例2] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，並且按照下述順序形成表面處理層，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲得偏光板。
(表面處理層之形成) 1.防眩層(防眩性硬塗層)之形成 相對於紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(DIC股份有限公司製造，「UNIDIC 17-806」)100重量份，添加氧化矽粒子(FUJI SILYSIA CHEMICAL LTD.製造，「SYLOPHOBIC 702」)6.5重量份、氧化矽粒子(FUJI SILYSIA CHEMICAL LTD.製造，「SYLOPHOBIC 100」)6.5重量份及作為有機黏土(增黏劑)之合成膨潤石(Co-op Chemical股份有限公司製造，商品名「Lucentite SAN」)2.5重量份，進而添加光聚合起始劑(BASF公司製造，「OMNIRAD184」)5重量份及調平劑(DIC股份有限公司製造，「Megafac F-556」)0.5重量份，並進行混合。 以固形物成分濃度達到30重量%之方式用甲苯稀釋所獲得之混合物，製備防眩層形成用材料(塗敷液)。
使用線棒塗佈器將所獲得之防眩層形成用材料(塗敷液)塗敷於TAC膜(厚度25 μm、富士膠片股份有限公司製造，商品名「TJ25UL」)上。繼而，藉由在110℃下加熱1分鐘而使塗膜乾燥後，利用高壓水銀燈以使累計光量為300 mJ/cm 2之方式對塗膜照射紫外線，形成厚度8.0 μm之防眩層。
2.抗反射層之形成 將以季戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat＃300」、固形物成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製造，商品名「Thrulya 5320」、固形物成分20重量%、重量平均粒徑75 nm)180重量份、含氟添加劑(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KY-1203」、固形物成分20重量%)12重量份及光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」、固形物成分100重量%)3重量份進行混合。向該混合物中添加將作為溶劑之TBA、MIBK及PMA以60：25：15之重量比混合而成之混合溶劑，以使整體之固形物成分達到4重量%，進行攪拌而製備抗反射層形成用塗敷液。
使用線棒塗佈器將所獲得之抗反射層形成用塗敷液塗敷於上述防眩層上。將塗敷後之塗敷液在80℃下加熱1分鐘，使其乾燥而形成塗膜。利用高壓水銀燈對所獲得之塗膜照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線而實施硬化處理，形成厚度0.1 μm之抗反射層。 如此形成表面處理層。
[比較例1] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，並且按照下述順序形成表面處理層，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲得偏光板。
(表面處理層之形成) 將紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(DIC股份有限公司製造，商品名「LUXYDIR 17-806」、固形物成分80%)100重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」)3重量份及調平劑(DIC股份有限公司製造，商品名「PC4100」、固形物成分10%)0.01重量份進行混合。 利用PGM(丙二醇單甲基醚)/環戊酮混合溶劑(重量比63/37)將所獲得之混合物稀釋至固形物成分濃度達到36%，製備硬塗層形成用塗敷液。
使用線棒塗佈器將所獲得之硬塗層形成用塗敷液塗敷於TAC膜(厚度25 μm、富士膠片股份有限公司製造，商品名「TJ25UL」)上。繼而，藉由在95℃下加熱1分鐘而使塗膜乾燥後，利用高壓水銀燈以使累計光量為300 mJ/cm 2之方式對塗膜照射紫外線，形成厚度6.5 μm之防眩性硬塗層(表面處理層)。
[比較例2] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，除此以外，與比較例1同樣地操作，獲得偏光板。
[比較例3] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，並且按照下述順序形成表面處理層，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲得偏光板。
(表面處理層之形成) 將以季戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat#300」、固形物成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製造，商品名「Thrulya 5320」、固形物成分20重量%、重量平均粒徑75 nm)100重量份、含氟元素添加劑(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KY-1203」、固形物成分20重量%)12重量份及光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」、固形物成分100重量%)3重量份進行混合。向該混合物中添加將作為溶劑之TBA、MIBK及PMA以60：25：15之重量比混合而成之混合溶劑，以使整體之固形物成分達到4重量%，進行攪拌而製備抗反射層形成用塗敷液。
使用線棒塗佈器將所獲得之抗反射層形成用塗敷液塗敷於TAC膜(厚度25 μm、富士膠片股份有限公司製造，商品名「TJ25UL」)上。將塗敷後之塗敷液在80℃下加熱1分鐘，使其乾燥而形成塗膜。利用高壓水銀燈對所獲得之塗膜照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線而實施硬化處理，形成厚度0.1 μm之抗反射層(表面處理層)。
[比較例4] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲得偏光板。
[比較例5] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，並且按照下述順序形成表面處理層，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲得偏光板。
(表面處理層之形成) 1.防眩層(防眩性硬塗層)之形成 相對於紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(DIC股份有限公司製造，「UNIDIC 17-806」)100重量份，添加氧化矽粒子(FUJI SILYSIA CHEMICAL LTD.製造，「SYLOPHOBIC 702」)7重量份、氧化矽粒子(FUJI SILYSIA CHEMICAL LTD.製造，「SYLOPHOBIC 100」)6.5重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造，「OMNIRAD184」)5重量份及調平劑(DIC股份有限公司製造，「MegafacF-556」)0.5重量份，並進行混合。 以固形物成分濃度達到30重量%之方式用甲苯稀釋所獲得之混合物，製備防眩層形成用材料(塗敷液)。
使用線棒塗佈器將所獲得之防眩層形成用材料(塗敷液)塗敷於TAC膜(厚度25 μm、富士膠片股份有限公司製造，商品名「TJ25UL」)上。繼而，藉由在110℃下加熱1分鐘而使塗膜乾燥後，利用高壓水銀燈以使累計光量為300 mJ/cm 2之方式對塗膜照射紫外線，形成厚度5.0 μm之防眩層。
2.抗反射層之形成 將以季戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat＃300」、固形物成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製造，商品名「Thrulya 5320」、固形物成分20重量%、重量平均粒徑75 nm)60重量份、含氟添加劑(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KY-1203」、固形物成分20重量%)12重量份及光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」、固形物成分100重量%)3重量份進行混合。向該混合物中添加將作為溶劑之TBA、MIBK及PMA以60：25：15之重量比混合而成之混合溶劑，以使整體之固形物成分達到4重量%，進行攪拌而製備抗反射層形成用塗敷液。
使用線棒塗佈器將所獲得之抗反射層形成用塗敷液塗敷於上述防眩層上。將塗敷後之塗敷液在80℃下加熱1分鐘，使其乾燥而形成塗膜。利用高壓水銀燈對所獲得之塗膜照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線而實施硬化處理，形成厚度0.1 μm之抗反射層。 如此形成表面處理層。
[比較例6] 在偏光元件之製作中，變更染色時之碘濃度，並且按照下述順序形成表面處理層，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲得偏光板。
(表面處理層之形成) 將以季戊四醇三丙烯酸酯作為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat＃300」、固形物成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製造，商品名「Thrulya 5320」、固形物成分20重量%、重量平均粒徑75 nm)70重量份、含氟元素添加劑(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KY-1203」、固形物成分20重量%)12重量份及光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」、固形物成分100重量%)3重量份進行混合。向該混合物中添加將作為溶劑之TBA、MIBK及PMA以60：25：15之重量比混合而成之混合溶劑，以使整體之固形物成分達到4重量%，進行攪拌而製備抗反射層形成用塗敷液。
使用線棒塗佈器將所獲得之抗反射層形成用塗敷液塗敷於TAC膜(厚度25 μm、富士膠片股份有限公司製造，商品名「TJ25UL」)上。將塗敷後之塗敷液在80℃下加熱1分鐘，使其乾燥而形成塗膜。利用高壓水銀燈對所獲得之塗膜照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線而實施硬化處理，形成厚度0.1 μm之抗反射層(表面處理層)。
對實施例及比較例進行了下述評價。將評價結果彙總於表1。 ＜評價＞ 1.疊紋 在螢光燈環境下藉由目視從表面處理層側對所獲得之偏光板進行觀察，確認疊紋(彩虹紋)之產生情況。 2.白色模糊 在亮室環境下藉由目視從表面處理層側對所獲得之偏光板進行觀察，確認由光之漫反射導致之白色模糊之產生狀況。 3.映入 在螢光燈環境下藉由目視從表面處理層側對所獲得之偏光板進行觀察，確認映入之產生情況。 4.圖像殘像 將搭載有機EL面板之Samsung公司製造之「Galaxy A41」之前表面玻璃板及偏光板除去後，在有機EL面板表面貼合所獲得之偏光板，獲得試驗用畫面。 如圖3所示，在所獲得之試驗用畫面之左上端部以黑色顯示特定之文字，將中央部之點作為測定點，使用Topcon公司製造之「SR-UL1R」對測定點測定亮度，以使測定點之亮度達到400 cd/m 2(與室外亮度相當)之方式調整試驗用畫面之顯示。在該狀態下點亮30小時後，對測定點之亮度進行測定，並計算亮度降低率。又，點亮後，使整個面白顯示，藉由目視對試驗用畫面進行觀察。
[表1]
   實施例1 實施例2 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6
霧度(%) 2.5 12.0 0.5 0.5 0.3 2.5 25.0 0.4
反射率(%) 1.5 0.9 6.0 6.0 1.0 1.5 2.2 1.9
透過率(%) 46.0 46.0 45.0 46.0 44.1 45.0 44.0 44.0
疊紋 良好 良好 不良 不良 不良 良好 非常良好 不良
白色模糊 非常良好 良好 非常良好 非常良好 非常良好 非常良好 不良 非常良好
映入 良好 良好 不良 不良 良好 良好 不良 良好
圖像殘像 亮度(cd/m 2) 397 398 395 397 394 395 394 393
降低率(%) 0.7 0.6 1.2 0.7 1.6 1.3 1.6 1.7
目視評價 良好 良好 不良 良好 不良 不良 不良 不良
實施例在疊紋、白色模糊、映入及圖像殘像之全部項目中均優異，例如可適當地用於膝上型個人電腦。 於亮度降低率超過1%之比較例1及3-6中，在左上端部顯示之文字部分以外之區域之亮度降低，視認到所顯示之文字以白色浮現。 [產業上之可利用性]
藉由本發明之實施方式獲得之偏光板可適當地用作圖像顯示裝置之偏光板。作為圖像顯示裝置，代表性地可例舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置。
10:偏光元件 20:積層膜 21:基材(保護層) 22:表面處理層 30:保護層 40:相位差層 50:黏著劑層 70:圖像顯示(有機EL)面板本體 71:基板 72:上部構造層 100:偏光板 200:圖像顯示(有機EL)面板
圖1係表示本發明之一實施方式之偏光板之概略構成之模式性剖視圖。 圖2係表示於本發明之一實施方式之有機EL顯示裝置中在有機EL面板上配置有偏光板之狀態之概略的模式性剖視圖。 圖3係用於對圖像殘像之評價方法進行說明之圖。
10:偏光元件
20:積層膜
21:基材(保護層)
22:表面處理層
30:保護層
40:相位差層
50:黏著劑層
100:偏光板

Claims (6)

  1. 一種偏光板，其包含： 具有基材與表面處理層之積層膜、及 配置於上述積層膜之上述基材側之偏光元件， 上述表面處理層側之反射率為2%以下，上述表面處理層側之霧度為1%以上13%以下， 上述偏光板之透過率為45.5%以上， 上述偏光板用於有機EL面板。
  2. 如請求項1之偏光板，其中上述表面處理層包含第一層，上述第一層包含樹脂成分及中空粒子， 上述第一層包含相對於上述樹脂成分100重量份為11重量份以上之上述中空粒子。
  3. 如請求項1之偏光板，其中上述表面處理層包含第一層，上述第一層包含樹脂成分及中空粒子， 上述第一層包含相對於上述樹脂成分100重量份為40重量份以下之上述中空粒子。
  4. 如請求項1之偏光板，其進而具有相位差層，上述相位差層之面內相位差Re(550)為100 nm～190 nm。
  5. 一種圖像顯示裝置，其具有： 圖像顯示面板本體、及 配置於上述圖像顯示面板本體之視認側之如請求項1至4中任一項之偏光板。
  6. 如請求項5之圖像顯示裝置，其中上述偏光板位於上述視認側之最表面。
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