TW200930569A - Optical laminates, polarizing plates and image display devices - Google Patents

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200930569 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種光學積層體、其製造方法、以及具備 等之任一種之圖像顯示 上述光學積層體之偏光板及具備該 裝置。 【先前技術】 Ο

於陰極射線管顯示裝置（CRT)、液晶顯示器（lcd)、電衆 顯示器（PDP)、電激發光顯示器（ELD)等圖像顯示裝置之最 表面，《^置有包括具各種功能之功能層的光學積層體。作 為該種光學積層體’已知具有於基材上依序設置防眩層及 低折射率層等功能層之積層結構，並於該等功能層中，含 有微粒子作為防眩劑者（例如參照專利文獻丨及2)。其係於 防眩性方面具有優異性能者。 於該種光學積層體之防眩層中’通用二氧切粒子作為 防眩劑’含有二氧切粒子作為防眩劑之防眩層例如可藉 由將含有二氧化矽粒子與硬化性樹脂之防眩層形成用樹脂 組成物塗佈於基材上而形成。 然而，使用含有二氧化矽粒子作為防眩劑之防眩層形成 用樹脂組成物來形成光學積層體之情形時，存在如下之問 題：防眩層形成用樹脂組成物中之二氧化矽粒子的分散性 穩疋性降低而產生凝聚，所形成之防眩層的光學特性 低。 [專利文獻1]曰本專利特開2007_090717號公報 [專利文獻2]曰本專利特開2〇〇6·267556號公報 134342.doc 200930569 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 本發明係鑒於上述現狀，其目的在於提供一種使用在用 以形成含有二氧化矽粒子之防眩層的防眩層形成用樹脂組 成物中，二氧化矽粒子適度凝聚且分散穩定性優異之組成 物’光學特性優異之光學積層體。 [解決問題之技術手段]

本發明係一種光學積層體，其特徵為：具有透光性基材 及含有二氧化矽粒子之防眩層，且上述二氧化矽粒子之 對介電係數未滿4.〇。 礼化矽粒子之比表 二氧化矽粒子較好的是非晶形二氧化矽粒子。 較好：疋一氧化矽粒子之含量相對於ι〇〇質量份之防眩 層之樹脂成分為10〜50質量份。 本發明亦係-種圖像顯示裝置’其特徵為 備上述光學積層體。 、最表面具 本發明㈣-種偏光板，其特徵為：具備偏光 於偏光元件表面具備上述光學積層體。 本發明亦係一種圖像顯示裝置’其特徵為 備上述光學積層體或上述偏光板。 、表面具 本發明亦係一種光學積層體之製造方法=、 係具有透光性基材以及含有二氧切粒子之該光學積層體 改善其光學特性’其製造方法之特徵在於：：層，且可 (a)~(e)： 、匕3以下步驟 134342.doc 200930569 驟 (a)將氧化Μ子之相對介電係數調整為未滿4.0之步 > ()將上述一氧化石夕粒子與黏纟樹脂及視需要之其它 混合於溶劑中，調製防眩層形成用組成物之 獲得該二氧化石夕^ 之靜電引力被抑制，而能 ^子之凝聚被控制之組成物之步驟； (c)提供透光性基材之步驟； ❹ ❹ 形透先性基材上塗佈步驟(b)中所調製之防眩層 ^成用組成物，從而形成塗佈膜之步驟； ⑷，上述塗佈膜乾燥、硬化而獲得光學積層體之步驟； 此所得之光學積層體兼具優異之黑色再現性及防眩 性0 較好的疋於步驟⑷中，使用中空二氧化 化石夕粒子，使其办隙盘嫩儿# 卞料一氧 / 、工，、、變化，藉此將上述二氧化矽粒子之 相對；|電係數調整至未滿4 〇 ^ 將二Γ好的是於步驟⑷中’摻入二氧化梦粒子，藉此 ’L 一氧化矽粒子之相對介電係數調整至未滿4 0。 化二ΓΓ於步驟⑷中’對二氧化碎粒子之表面實施 將·"述：氧切粒子之相對介㈣數調整 更好的是二氧化石夕粒子之表面化學修佛係使用聚 矽氧材料之疏水化表面化學處理。 乂下，對本發明加以詳細之說明。 者於本發明中’若無特別之記載，將單體、寡聚物 134342.doc 200930569 以及預聚物等硬化性樹脂前驅物總稱記為·樹脂"。 本發明之光學積層體於透光性基材上具g 粒子之防眩層。 有一虱化矽 上述""我* 粒子之4日ήε» /位于之相對介電係數為丨 4.〇。具有含有該種二氧切粒 、未滿 學積層體顯示出優異之光學特性的原因二:；發明之光 即，先前之光學積層體係含 ❹ ❹ 防眩性。然而，先前之二氧切粒==賦予其高 凝聚：Γ 眩層形成用樹脂組成物中產生 凝聚。因此，認為無法獲得二氧 M , i*6 X. ^ r,y L T J刁分散之防眩 層從而所形成之光學積層體之光學特性降低。 T對於此’本發明之光學積層體係將防眩層中所含有之 故二氧_粒子間之_=:之介電係數者， 越取， 1之静電引力被抑制，二氧化石夕粒子適产

Λ ，從而顯示出優異之光學特性。 X 上述二氧化矽粒子之相對介電係數 上則二氧化矽粒子變得容层尨取, 右為4.0以 、十m 于變件谷易凝聚’從而光學特性降低。上 述相對介電係數越小越好 係數料現在所獲得之下限的相對介電 係數為！·5,更好的是2 ()。上 的是3.3,更好的是3.〇。 ㈣數之上限較好 測定氧化^子之相對介電係數可於以下任一狀態下進行 物之㈣ 粒子狀態或含有二氧化石夕粒子之油墨組成 膜狀離及使用、塗佈並硬化其組成物之光學積層體之 、〜、料其方法有探針法、開放型共振器法、攝動空 134342.doc 200930569 腔共振法、傳播延遲法及橢圓偏光法等，根據相對介電係 數之缸圍’適宜選擇各測定方法。測定物為凝膠狀或液體 形態時，可使用專用的測定電池而取得導通，決定相對介 電係數。測定物為硬化膜狀時，可取得含有二氧化矽粒子 之層成為最表面之光學積層體之導通，決定相對介電係 . 數。若藉由切割等而僅將硬化膜之含有二氧化矽粒子之層 • 冑分切下進行測定’則可進而良好地決定相對介電係數。 二氧化矽之相對介電係數例如可藉由改變中空二氧化矽 €> 纟子之空隙率’摻雜二氧化矽粒子以及對二氧化矽粒子表 面實施化學修飾等方法而產生使其變化。摻雜二氧化矽粒 子時，可列舉敗、蝴、碌等非金屬元素推雜欽、叙、錄 等過渡金屬、金屬元素摻雜或多元摻雜及氧化物摻雜等，、 適宜選擇摻雜之元素或調整摻雜濃度，可改變相對介電係 數。關於上述化學修飾如後所述，於對二氧化矽粒子表面 進行感應物處理時，藉由調整表面處理之程度或適宜選擇 _ 表面處理劑可改變相對介電係數。 作為上述二氧化矽粒子，較好的是比表面積為2〇〇〇 以下。若超過2000 m2/g則存在該二氧化矽粒子變成多孔 狀，從而造成凝聚控制變困難之虞。上述比表面積之上限 更較好的是15GG m2/g。又，上述比表面積之下限較好的是 l〇〇m2/g’更好的是為5〇〇m2/g。上述比表面積可藉由贿 (Brunauer Emmett Te„er)比表面積測定裝置（島津製作所製 Tristar3000)而測定。 上述二氧化矽粒子較好的是對表面實施有機物處理。藉 134342.doc 200930569 由使用該種二氧切粒子，並不產生訂詳述之防眩層形 成用樹脂組成物之黏度上升’可使二氧化矽粒子之分散性 良好。 +作為上述實施有機物處理之二氧切粒子，並無特別限 可為晶質、溶膠狀、凝膠狀、中空及多孔狀等任—狀 態之二氧化矽粒子。又’亦可為非晶形二氧化矽粒子。另 外:作為上述實施有機物處理之二氧切粒子可使用市

售：例如可列舉：非晶形二氧化石夕（大日精化工業公司 製化）1羅技（DegUssa公司製及膠質氧化石夕（日產化 工業製造）等。 ，自，成有效的凹凸形狀及表現出防眩性之方面考慮，上 述—氧化矽粒子較好的是非晶形二氧化矽粒子《 一，上述有機物處理中有以下方法：使化合物化學鍵結於 氧化梦粒子表面之方法或者不與粒子表面化學鍵結而浸 於粒子内或粒子間之空隙等中的物理方法，使用任何一 種方法均可。 醇^處理效率之觀點考慮，通常較好地使用利用m基或石夕 土等一氧化矽粒子表面之活性基的化學處理法。 實施上述有機物處理之疏水化係藉由三甲基氯㈣等石夕 而進行’並且可根據㈣化劑之添加量及反應溫 : 疏水化率而進行處理。考慮到我化處理二氧化 矽粒子 > 八i ~ ^ u 刀散穩定性等，疏水化率較好的是50〜90%左 右0 作為處理中使用之化合物 可使用與上述二氧化矽粒子 134342.doc 200930569 表面之活性基的反應性較高之矽烷系、矽氧烷系及矽氮烷 系材料等。例如可列舉：甲基三氣矽烷等直鏈烷基單基取 代聚矽氧材料、支鏈烷基單取代聚矽氧材料或二正丁基二 氣矽烷、乙基二甲基氣矽烷等之多取代直鏈烷基聚矽氧化 合物、多取代支鏈烷基聚矽氧化合物。同樣地，亦可有效 地使用直鏈烷基或支鏈烷基之單取代、多取代矽氧烷材 料、矽氮烷材料。 根據必需之功能，亦可使用於烧基鏈之末端乃至中間部 位具有雜原子、不飽和配位基、環狀配位基、芳香族官能 基等者。 該等化合物所含之貌基顯示出疏水性，故可容易地將被 處理材料之表面自親水性轉換為疏水性，即使與未經處理 而缺乏❹性之高分子材料，亦可獲得較高之親和性。 上述一乳化發粒子之冬县 ^ 量’較好的是相對於1〇〇質量份

=層之樹脂成分為10〜50質量份。若未滿10質量份， 則存在防眩性並不充分之虞。 上述含量之下限更好的 量份外，若超過50質 重物料在Μ射率降低， 昧 對光學特性帶來不良影響 ㈣㈣之_時’ 40質量份。 《響之虞。上述含量之上限更好的是 -I— 一卞之平均粒徑較好的是 未滿0·5 μπχ，則存在凝聚 叫1右 進而存在防眩性降低 增大，凝聚控制變困難之虞， 1〇·〇 μπι，則存在光透 必需大量添加之虞。若超過 ^降低，製成光學積層體時，對 134342.doc • 12_ 200930569 上述平均粒徑更好的是 光學特性帶來不良影響之虞 1 ·0〜5.0 μηι。 用 上述平均粒徑係藉由庫而特計數 上述二氧化矽粒子可單獨使用， 器測定而獲得之值。 亦了與有機樹脂顆粒併 作為上述有機樹脂顆粒，可 率為1价三聚氛胺顆粒(折射率二乙:：粒(折射 (折射*…η w射年為157)、丙烯酸系顆粒

:!二=)、丙婦酸系-苯乙歸顆粒_^ ，一本代二聚氰胺-甲醛縮合物顆粒（折射率為 氛胺，縮合物(折射率為“6)、聚碳酸醋顆 ⑽聚乙_粒_率為150)等。上述有 機樹脂顆粒較好的是於其表面具有疏水性基，作為該種顆 ::例如可列舉聚苯乙稀顆粒或容易變更折射率之丙烯酸 系-本乙稀顆粒。 較好的是以粒子形狀均W標準而選擇上述有機樹脂顆 粒。

上述有機樹脂顆粒之平均粒徑較好的是〇.5〜1〇.〇_。若 未滿〇.5_，則存在凝聚力增大，凝聚控制變困難之虞， 進而ί在無法獲得充分之防眩性，從而必需大量添加之 虞右超過10.0 μπ!，則存在光透射率降低，製成光學積 層體時’對光學特性帶來不良影響之虞。上述平均粒徑更 好的是1.0〜5.0 μηι。 述平句粒&係藉由庫而特計數器測定而獲得之值。 上述有機樹脂顆粒之含量，較好的是相對於1〇〇質量份 134342.doc 200930569 =二子::：份。若未滿， 好的是2。質：:來==。上述含量之下限更 又上限更好的是40質量份。 較好的是防眩層進行含有防汙劑。 於先前之光學積層射，由於Μ了防汙性，因此若於 ❹ 防：層形成用樹脂組成物中含有防汗劑，則存在防汗劑與 一氧切粒子凝聚而使防眩層之光學特性降低之問題。、 :而’用以形成本發明之光學積層體之防眩層的防眩層 形成用樹脂組成物中所含有之 示出特定範圍之相對介電係數，=夕：子如上所述顯 丨電係S目此即使於防眩層形成用 ^曰組成物中含有上述防汙劑之情形時，靜電引力得到抑 制，、從而二氧化石夕粒子與防汙劑難以凝聚。因此即使於 :未所製造之光學積層體具有較高之防汙性，於防眩層形 =樹脂組成物中添加防汙劑之情形時’可獲得並未使光 予特性降低且顯示出較高之防汙性的光學積層體。 上述防汙劑並無特別限定，可使用公知者，例如可列舉 氣系化合物及/或石夕系化合物。具體而言，可列舉大曰本 油墨化學工業公司製造之Megafae HU。 上述防眩層含有防汙劑之情形時，尤其好的是構成最表 面。由此，上述光學積層體可充分發揮防汙性。 上述含有二氧切粒子之防眩層係表面具有凹凸形狀， 用乂抑制由像之映射或反射及面眩光（閃爍）等所造成的視 134342.doc 14 200930569 性降低之層’上述像之映射或反射及面眩光系由於外光 所造成之現象。 作為於上述表面形成凹凸形狀之方法，可列舉：藉由上 述二氧化石夕粒子及視需要之上述有機樹脂顆粒而形成凹凸 之方法以及藉由實施壓紋賦型處理而形成凹凸之方法。 上述防眩層可藉由調製上述含有二氧切粒子、黏合樹 脂、溶劑及任意成分之防眩層形成用樹脂組成物而形成。 於上述防眩層形成用樹脂組成物中，作為黏合樹脂，較 好的是透明性者，例如可列舉：經紫外線或電子束而硬化 之樹脂即電離輻射硬化型樹脂、電離輕射硬化型樹脂與溶 劑乾燥型樹脂（熱塑性樹脂等使溶劑儘可能乾燥而成為被 膜之樹脂，該溶劑係於塗佈時為了調整固體成分而被添加 者。）之混合物或熱硬化型樹脂。更好的是電離輕射硬化 型樹脂。 作為上述電離輻射硬化型樹脂，例如可列舉具有丙烯酸 酯系官能基之化合物等具有i個或2個以上不飽和鍵之化合 物。作為具有1個不飽和鍵之化合物，例如可列舉（甲基）丙 烯酸乙醋、（甲基）丙烯酸乙基己醋、苯乙婦、甲基苯乙烯 以及N-乙稀基料垸酮等。作為具有2個以上不飽和鍵之 化合物，例如可列舉聚經甲基丙烷三（甲基）丙烯酸醋、己 二醇（曱基）丙稀酸醋、三丙二醇二（甲基）丙稀酸酿、二乙 二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二 季戊四醇六（甲基）丙稀酸醋、以—己二醇二（甲基）丙稀酸 酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯等多官能化合物與（甲基） 134342.doc 15 200930569 丙烯酸g曰等之反應產物（例如，多元醇之聚（曱基）丙烯酸 3曰）等。再者，於本說明書中，「（甲基）丙烯酸酯」係指甲 基丙烯酸酯或丙烯酸酯。 除上述化合物之外，具有不飽和雙鍵之較低分子量的聚 醋樹脂、㈣樹脂、丙稀酸系樹脂、環氧樹脂、胺醋樹 脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂以及聚硫醇多 烯樹脂等亦可用作上述電離輻射硬化型樹脂。 ❹ 上述電離輻射硬化型樹脂亦可與溶劑乾燥型樹脂併用而 使用。藉由併用溶劑乾燥型樹脂，可有效防止塗佈面之被 膜缺陷’藉此可獲得更優異之亮黑感。作為可與上述電離 輻射硬化型樹脂併用而使用之溶劑乾燥型樹脂，並無特別 限定，通常可使用熱塑性樹脂。 作為上述熱塑性樹脂並無特別限定，例如可列舉苯乙烯 系樹脂、（甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯 驗系樹脂、含自素之樹脂、脂環族稀烴系樹脂、聚碳酸酯 系樹脂、聚醋系樹脂、聚酿胺系樹脂、纖維素衍生物、聚 矽氧系樹脂及橡膠或彈性體。上述熱塑性樹脂較好的是非 晶質’且可溶於有機溶劑（尤其是可溶解複數種聚合物或 硬化性化合物之共用溶劑）。尤其自成臈性、透明性或耐 候性之觀點考慮’較好的是苯乙稀系樹脂、（甲基）丙稀酸 系樹脂、脂環族稀烴系樹脂、聚醋系樹脂、纖維素衍生物 (纖維素酯類等）等。 於本發明之光學積層體中，下述透光性基材之材料為三 乙酸纖維素（TAC)等纖維素系樹脂之情形時，作為上述熱 134342.doc -16· 200930569 塑性樹脂之較好具體例，纖維素系樹脂例如可列舉：硝化 纖維素、乙酿纖維素、乙酸.丙酸纖維素、乙基經乙基纖 維素、乙酿丁基纖維素、乙基纖維素'曱基纖維素等纖維 素衍生物等。藉由使用纖維素系樹脂，可提高與透光性基 材或視需要所形成之抗靜電層等層之密著性及透明性。進 巾’除上述纖維素系樹脂之外，可列舉：乙酸乙烯酯及苴 ，絲物、氣乙稀及其共聚物、偏氣乙婦及其共聚物等乙稀 系、樹脂’聚乙烯甲醛、聚乙稀丁路等縮醛樹脂，丙稀酸樹 ❹ •及其共聚物、甲基丙稀酸樹脂及其共聚物等丙稀酸系樹 脂，聚笨乙烯樹脂、聚醯胺樹脂、聚碳酸酯樹脂等。 作為可用作上述黏合樹脂之熱硬化型樹脂，可列舉：酚 樹脂、腺樹脂、鄰苯二甲酸二稀丙醋樹脂、黑色素樹脂、 胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹 脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-尿素共縮合樹脂、矽樹 脂、聚矽氧烷樹脂等。 ❹ 較好的是上述防眩層形成_脂組成物含有光聚合起始 冑。作為上述光聚合起始劑，可列舉：作為苯乙酮類（例 如，商品名lrg_re184’汽巴精化股份有限公司製造）而 市售之i-經基·環己基-苯基H二笨甲_類㈣嗣 , _、安息香、安息香甲鍵、芳香族重氮鹽、芳香族銃鹽、 芳香族鐫鹽、METASERON化合物及安息香磺酸醋等。該 等可單獨使用或併用2種以上。 上述光聚合起始劑之添加量，較好的是相對於1〇〇質量 份之上述電離輻射硬化型樹脂固體成分為〇1〜1〇質量份。 134342.doc -17- 200930569 上述防眩層形成用樹脂組成物，可於不對本發明之效果 造成影響之程度内，視需要添加其它任意成分。作為上述 任意成分，可列舉：上述有機樹脂顆粒、上述防汙劑、上 述其它樹脂、界面活性劑、偶合劑、增稠劑、防著色劑、 顏料或染料等著色劑、消泡劑、均化劑、阻燃劑、紫外線 吸附劑、紅外線吸附劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、氧化 抑制劑以及表面改質劑等。該等可使用通常用於防眩層之 公知者。 上述防眩層形成用樹脂組成物例如可藉由將上述二氧化 石夕粒子、黏合樹脂、光聚合起始劑及其它任意成分與溶劑 相此。1%行分散處理而獲得。於上述混合分散中，可使 用塗料振盪器或珠磨機等。 作為上述溶劑，可列舉：水、醇(例如甲醇、乙醇、異 醇丁醇苯曱醇）、酮（例如丙酮、丁酮、甲基異丁基 酮、環己⑷，如乙酸甲醋、乙酸乙醋、乙酸丙醋、 ❹ ?酸丁 S曰、甲酸曱酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁 醋）、脂肪族烴（例如己惊 裏己院）、鹵代烴（例如二氣甲 2 彡、四氣化碳）、芳香族烴（例如苯、曱苯、二曱 苯）、酿胺（例如二甲基甲 ㈣嗣)、_(例如…、胺，甲基乙醯胺及Ν-曱基°比 .一噁烷、四氫呋喃）及醚醇（例 如1 -曱氧基-2-丙酿、楚 . ^ ，但並非限於該等。又，該等溶劑 可適當混合使用—種 芳香族烴類，於八 。”中，較好的是酮類、酯類、 、 ；刀散性、分散穩定性及安全性之方面，特 別是使用至少_錄麵么， 久文1 王您万面特 系溶劑更好’進而好的是丁酮、曱基 134342.doc 18- 200930569 異丁基酮、環己酮。 上述防眩層較好的是將上述防眩層形成用樹脂組成物塗 佈於透光性基材上，視需要加以乾燥，藉由活性能量線照 射使其硬化而形成。 作為塗佈上述防眩層形成用樹脂組成物之方法，可列舉 輥塗法、絲棒塗佈法、凹板印刷式塗佈、模塗法等塗佈方 法。

作為上述活性能量線照射，可列舉利用紫外線或電子束 之照射。作為紫外線源之具體例，可列舉以下光源：超高 壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光營光 燈及金屬齒素燈等。作為紫外線之波長，可使用19〇〜38〇 nm之波段。作為電子束源之具體例，可列舉柯克勞夫-沃 耳呑型、範德格拉夫型、諧振變壓器型、絕緣芯變麼器 型、或直線型、地那米型及高頻波型等各種電子束加速 器0 作為上述防眩層之厚度，較好的是1.0〜7.5 μιη。 若未滿丨.0 μιη，則存在無法獲得充分的防眩性之虞❺若 超過7.5㈣，則存在透射率降低，製成光學積層體時，對 光學特性帶來不良影響之虞。上述厚度之下限更好的是 2.0 μηι。又，上限更好的是3 〇 μπι。 再者，上述防眩層之厘 厚度可藉由利用雷射顯微鏡、 SEM(Scanning Electron MicroscoDe，槁扣·+ 恭？曰 〇Scope掃描式電子顯微鏡） 及 TEM(transmission Electi^ λλ·

Ctr〇n Mlcrose〇Pe，穿透式電子顯 微鏡）之剖面觀察而測定。柄知於 例如，作為利用雷射顯微鏡之 134342.doc •19· 200930569 膜厚測定方法，使用雷射掃描共軛焦顯微鏡（Leica TCS_ NT，Leica公司製造，倍率2〇〇〜1〇〇〇倍）對防眩層之剖面進 行透過觀察。例如，具體而言，為了獲得無暈光之清晰圖 像，於雷射掃描共軛焦顯微鏡中使用濕式之物鏡，且使約 2 ml之折射率為【乃“之油覆蓋於防眩層剖面上以使物鏡與 防眩層刳面之間的空氣層消失，而進行觀察。並且，於顯 微鏡觀察的每1個畫面中，對其凹凸之Max部、Min部之膜 各測定1點，共測定2點。5個晝面分共計測定1〇點，算出 平均值，藉此可求出平均膜厚。於SEM、TEM之剖面觀察 中，亦可如上所述觀察5個晝面分而獲得平均值。 作為上述透光性基材’較好的是具備透明性平滑性及 耐熱性，且機械強度優異者。作為形成上述透光性基材之 材料的具體例，可列舉：聚酯（聚對苯二甲酸乙二酯、聚 萘二甲酸乙二酯、聚對苯二曱酸丁二酯及聚萘二甲酸丁二 酯）、三乙酸纖維素（TAC)、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維 素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、 聚甲基戊稀、聚氣乙烯、聚乙烯縮路、聚驗_、聚甲基丙 烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚胺基甲酸酯等熱塑性樹脂，較好 的可列舉：聚酯（聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二 酯）、三乙酸纖維素（TAC)。 作為上述透光性基材，另外亦可使用具有脂環結構之非 晶質稀煙聚合物（Cyclo Olefin Polymer : COP)膜。其係使 用有降冰片烯系聚合物、單環之環烯系聚合物、環狀共軛 二烯系聚合物及乙烯基脂環烴系聚合物樹脂等之基材，例 134342.doc -20· 200930569

如可列舉：日本ΖΕΟΝ股份有限公司製造之ZEONEX或 ZEONOR(降冰片烯系樹脂）、住友Bakente股份有限公司製 造之SUMILITE FS-1700、JSR股份有限公司製造之環狀聚 烯烴（改質降冰片烯系樹脂）、三井化學股份有限公司製造 之APEL(環稀共聚物）、Ticona公司製造之Topas(環稀共聚 物）、日立化成股份有限公司製造之〇pT〇REZ 〇z_丨〇〇〇系 列（脂環族丙稀酸系樹脂）等。又，作為三乙酸纖維素之替 代基材，旭化成化學股份有限公司製造之FV系列（低雙折 射率、低光彈性模數薄）亦較好。 上述透光性基材較好的是將上述熱塑性樹脂用作富有柔 軟性之膜狀體，但亦可根據要求硬化性之使用態樣而使用 該等熱塑性樹脂之板，或者亦可使用玻璃板之板狀體者。 上述透光性基材之厚度較好的是2〇〜3〇〇 μιη，更好的是 30〜200 μη^於透光性基材為板狀體之情形時，亦可為超 過該等厚度之厚度300 μπΐ〜5000 μη^於基材上形成抗靜電 層等時，為提高接著性’除電暈放電處理、氧化處理等物 理性處理之外，亦可預先塗佈被稱作固著劑或底塗劑之塗 本發明之光學積層體較好的是於上述防眩層上進而具有 低折射率層❶上述低折射率層形成於防眩層之表面，=折 射率較防眩層低。根據本發明較好之態樣，防眩層之折 率為“8以上’低折射率層之折射率未滿μ 由折射率為1.45以下所構成者。 、疋 低折射率層可由以下任一種而構 ;含有二氧化矽或 134342.doc 200930569 氟化鎂之材料、2)低折射率樹脂之氟系材料、3)含有二氧 :矽或氟化鎂之氟系材料、4)二氧切或氣化鎮之；膜 上述氟系材料係至少於分子中含有氟原子之聚合性化合 物或其聚合物。聚合性化合物並無特別限定，例如較好的 是具有由於電離輻射而硬化之官能基（電離輻射硬化性基） 或由於熱而硬化之極性基（熱硬化極性基）等硬化反應性 基。又’亦可為同時具有該等反應性基之化合物。 作為具有含有氟原子之電離輻射硬化性基之聚合性化合 物，可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體 而言’可例示氟烯烴類（例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟 乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯及全氟_2,2_二甲基_丨，3間二 氧雜環戊烯等）。作為具有（曱基）丙烯醯氧基者，亦有：如 (甲基）丙烯酸2,2,2-三氟乙基酯、（曱基）丙烯酸2,2,3,3,3_五 氟丙酯’（甲基）丙烯酸2-(全氟丁基）乙基酯、（曱基）丙烯酸 2-(全氟己基）乙基酯、（甲基）丙烯酸2_(全氟辛基）乙基酯、 (甲基）丙烯酸2-(全氟癸基）乙基酯、α -三氟曱基丙烯酸甲 醋、三氟曱基丙烯酸乙酯之分子中具有氟原子之（甲基） 丙婦酸酯化合物；分子中具有碳數為1Μ4之氟烷基、氟環 烧基或氟伸烷基與至少2個（曱基）丙烯醯氧基之含氟多官能 (甲基）丙烯酸酯化合物等，其中該氟烷基、氟環烷基或氟 伸烷基具有至少3個氟原子。 作為具有含有氣原子之熱硬化性極性基的聚合性化合 物’例如可例示：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙 134342.doc -22- 200930569 烯·烴系乙烯基醚共聚物；環氧、聚胺基甲酸酯、纖維 素、酚及聚醯亞胺等各樹脂之氟改質品等。作為上述熱硬 化性極性基，例如可較好地列舉羥基、羧基、胺基及環氧 基等氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密著性優異，且與二 氧化矽等無機超微粒子之親和性亦優異。 • 作為兼具電離輻射硬化性基與熱硬化性極性基之聚合性 . 化合物（氟系樹脂），可例示：丙烯酸或甲基丙烯酸之部分 及完全敗化院基、烯基、芳基醋類，完全或部分氟化乙缔 基_，完全或部分氟化乙烯基醋類，冑全或部分氣化乙 烯基酮類等。 作為含有氟原子之上述聚合性化合物之聚合物，例如可 列舉：至少包含一種含氟（甲基）丙烯酸酯化合物之單體或 单體混合物之聚合物，其中上述含氣（甲基）丙稀酸酿化合 物為上述具有電離輻射硬化性基之聚合性化合物；至少一 種含氟（曱基）丙烯酸酯化合物與分子中不含氟原子之（甲 ❹ 基)丙烯酸酯化合物之共聚物’其中上述不含氟原子之(甲 基）丙烯酸酯化合物係如（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸 乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯 , 酸2'乙基己醋；如氟乙稀、偏二氣乙烯、三氟乙烯、三氟 氣乙締、3’3,3-三氣丙稀、U，2_三氣_3,3,3_三氣丙烯及六 氟丙烯之含氟單體的均聚物或共聚物等。 、 又，使該等共聚物含有聚矽氧成分之含聚矽氧偏二氟乙 烯共聚物亦可用作上述聚合性化合物之聚合物。作為此時 之聚矽氧成分，可例示：（聚）雙曱基矽氧烷、（聚）二乙美 134342.doc •23- 200930569 矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)f基苯基矽氧烷、烷基 改質⑻二f基石夕氧院、含偶氮基之(聚)二甲基石夕氧院， ^者二甲基聚梦氧、苯基甲基聚㈣、院基•芳烧基改質 聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質聚矽氧、脂肪酸酯改質聚矽 ，、甲基氫聚梦氧、切醇基之聚錢、纽氧基之聚石夕 、含盼基之聚⑦氧、甲基丙烯醯基改質聚魏、丙婦A 改質聚梦氧、胺基改質聚發氧、㈣改質㈣氧、甲^ 質聚石夕氧、環氧改質聚碎氧、疏基改f聚碎氧、氟改質聚 石夕氧、㈣改質聚♦氧等。纟中較好的是具有雙 氧 烷結構者。 礼 除上述以外’進而亦可使用如下之化合物等作為氣系材 料.使分子巾具有至少一個異氰酸基之含氟化合物與分子 中具有至少一個官能基之化合物反應所獲得之化合物其 中上述官能基係胺基、羥基、羧基等可與異氰酸基反應 者；使含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元

醇、含氟ε-己内醋改質多元醇等含氟多元醇與具有異氰酸 基之化合物反應所獲得之化合物。 於形成低折射率層時，例如可使用含有原料成分之組成 物（折射率層形成用組成物）而形成。更具體而言，可藉由 將原料成分（樹脂等）及視需要之添加劑（例如下述之「具有 空隙之微粒子」、聚合起始劑及抗靜電劑等）溶解或分散於 /合劑中而成之溶液或分散液用作低折射率層形成用組成 物，形成上述組成物之塗膜，使上述塗膜硬化，從而獲得 低折射率層。再者’聚合起始劑等添加_如可例舉於防 134342.doc -24- 200930569 眩層中所闞述者。 溶劑亦可例舉於防眩層中所M述者，較好的是甲基異丁 基酮、環己網、異丙醇(IPA)、正丁醇、第三丁醇、二乙 酮、PGME等。 上述組成物之調製方法，若可將成分均句地混合即可 可依照公知之方法實施。例如，於防眩層之形成中，可使 用上述公知之裝置進行混合。 ❹ 塗膜之形成方法，可依照公知之方法進行。例如，可使 用於上述防眩層之形成中所闡述之各種方法。 所獲得之塗膜的硬化方法，可根據組成物之内容等適宜 選擇。例如’若為紫外線硬化型，則可藉由對塗膜照射紫 外線使其硬化。 於上述低折射率層中，較好的是利用「具有空隙之微粒 子」作為低折射率劑。「具有空隙之微粒子」可保持防眩 層之層強度，且可使其折射率降低。於本發明中，所謂 「具有空隙之微粒子」係表示於微粒子内部形成填充有氣 體之結構及/或含冑氣體之多孔狀結㈣，與微粒子本身 之折射率相比’與微粒子中氣體之佔有率成反比地使折射 率降低之微粒子。X，於本發明中，根據微粒子之形態、 結構、凝聚狀態、被膜内部之微粒子的分散狀態，亦包括 可於内部及/或表面之至少—部上可形成奈米孔洞結構之 微粒子。使用該微粒子之低折射率層可將折射率調節至 1.30〜1.45。 作為具有空隙之無機系、微粒子，例如可列舉藉由日本專 134342.doc •25· 200930569 利特開2001-233611號公報中所記載之方法而調製之二氧 化石夕微粒子。亦可為藉由曰本專利特開平ή·號公 報、日本專利特開讀_79616號公報、日本專利特開腦· 106714號公報等中所記載之製法而獲得之二氧化石夕微粒 T。具有空隙之二氧切微粒子製造容易且其自身之硬度 尚，因此於與黏合劑混合而形成低折射率層時，其層強度 得以，高，且可將折射率調整為12〇〜145左右之範圍内。

尤其疋作為具有空隙之有機系微粒子之具體例，可較好地 列舉使用日本專利特開2002_8〇5〇3號公報中所揭示之技術 而調製之甲空聚合物微粒子。 作為可於被膜内部及/或表面之至少一部上形成奈米孔 洞結構之微粒子’除先前之二氧切微粒子之外，亦可列 舉以增大比表面積為目的而製造之使各種化學物質吸附於 、充用管柱及表面之多孔狀部的除放材，用於固定觸媒之 多孔狀微粒子，或者以合併至隔熱材料或低介電材料為目 的之中空微粒子的分散體或凝聚體。至於如此之具體例， 為市售印，可自日本二氧化矽工業股份有限公司製造之 商品名為Nipsil及Nipgel之中選擇利用多孔狀二氧化石夕微 粒：之集合體’自日產化學工業股份有限公司製造之具有 一乳化矽微粒子連成鏈狀之結構的c〇u〇idal smca up系列 (商叩名）中選擇利用本發明之較好粒子徑範圍内者。 具有空隙之微粒子」之平均粒子徑為5 nm以上、3〇〇 下較好的疋下限為8 nm以上、上限為1 〇〇 nm以 下，更好的是下限為H) nm以上、上限為⑽nm以下。藉由 134342.doc -26 - 200930569 =微粒子之平均粒子徑於該範圍内可賦予防眩層優異之 、土明性。再者，上述平均粒子徑係藉由動態光散射法等方 ^斤測定之值。較好的是「具有史隙之微粒子」於上述低 =射率層中相對於⑽質量份之基質樹脂，通常為〇 ι〜鳩 量份左右，較好的是10〜200質量份左右。 、較好的是於低折射率層之形成中，將上述低折射率層形 成用組成物之黏度設定為可獲得較好塗佈性之以〜5㈣ ❹ 參 (抑），較好的是〇.7〜3 _25。〇之範圍。可實現可見光 線優異之抗反射臈，且可形成均句且無塗佈不均之薄膜， 且可形成相料基材之密著性尤其優異之低折射率層。 樹月曰之硬化方法可與於防眩層之項中所說明之方法相 同。為進行硬化處理而利用加熱方法時，較好的是藉由加 熱’將例如熱聚合起始劑添加於氟系樹脂組成物中，立中 該熱聚合起始劑係產生自由基而使聚合性化合物開始聚合 者。 較好的疋低折射率層之膜厚（nm)dA滿足下述式（I): dA=na/(4nA) ⑴ (上述式中，nA表示低折射率層之折射率，m表示正奇 數較好的是表示】，λ為波長，較好的是彻〜則⑽之範 圍的值）。 又於本發明中，低折射率層滿足下述數式（η): 120<nAdA<145 (π) ’於低反射率化方面較好。 本發明之光學積層體除上述防眩層及低折射率層之外， 134342.doc -27^ 200930569 亦可視需要具備防污染層、抗靜電層、高折射率層 射率層等作為任意之層。 5中折 上述防污染層、抗靜電層、高折射率層及中折射率層， 可調製添加有通常所使用之防汙劑、高折射率劑、中折射 率劑、抗靜電劑或樹脂等之組成物，以公知， 〜々法來形成 各層。 ❹

本發明之光學積層體較好的是於表面具有凹凸形狀者。 作為上述凹凸形狀，於將光學積層體最表面層之凹凸之平 均間距記為Sm，凹凸部之平均傾斜角記定為如，凹凸部之 十個點之平均粗糙度設為rz之情形時，（Sm、、Rz之定 義以JIS B0601 1"4為依據）較好的是Sm為40 μηι以上、600 μιη以下，0a為0.3度以上、5.0度以下，RZ為〇,3 μιη以上、 40 μηι以下者。 再者，用以求出該等Sm、ea、Rz所使用之表面粗糙度 測定器之測定條件如下所述》 表面粗糙度測定器（型號：SE-3400/小阪研究所股份有限 公司製造） 1) 表面粗糙度檢測部之觸針： 型號/SE25 55N(2 μ標準）小阪研究所股份有限公司製造 (頂端曲率半徑2 μιη/頂角：90度/材質：金剛石） 2) 表面粗糙度測定器之測定條件： 標準長度（粗糙度曲線之臨界值λς〇: 0.8 mm 評價長度（標準長度（臨界值λ(〇χ5) : 4.0 mm 觸針之進給速度：0.1 mm/s 134342.doc -28 - 200930569 較好^本㈣之光學積㈣之可見光穿透 上。若未滿90%，則於裝著於顯示器表面之情形時:以 有損色目閒形時，存在 上進上述可見光穿透率更好的是咖以 上進而好的是98%以上。 較好的是上述光學積層體之表面霧值為1()%

❹ 虞則r/於顯示器表面之㈣時，存在心再 由反更好較g·2〜5%。上述表面霧值係藉 =:值 5°(村上色彩技術研究所製造)測定 、較好的是上述光學積層體之内部霧值為鳩以下。若上 述内部霧值處於上述範圍内’則可獲得改善於lcd等中使 用本發明之光學積層體之情形的面眩光（閃燦）之效果。 上述表面霧值及内部霧值係藉由下述方法所得之值。 即’於光學積層體之最表層(例如防眩層或低折射率層)之 凹凸上，利用環棒式濕膜塗佈器塗佈以甲苯等稀釋季戊四 醇三丙稀酸醋等樹脂（包含單體或寡聚物等樹脂成分）而使 固體成分為60%者’以使乾燥膜厚度成為8卿。藉此，最 表層之表面凹凸消|，成為平坦之層。但是，由於該形成 最表層之組成物巾以均化料而導致再㈣劑容易收縮 且難以_之情形時，藉由預先對防眩膜進行皁化處理 (於2 m〇1/kNa〇H(或K〇H)中、55度下浸潰3分浸後，加以 ^ ^藉由拭鏡紙完全除去水滴後，放置於50度之烘箱中 乾燥1/7鐘）而進行親水處理即可。使其表面平坦而成之膜 成為並不具有表面凹凸所產生之霧值而僅具有内部霧值之 134342.doc •29- 200930569 狀態。可求出該霧值作為内部霧值。並且，求出自原來之 光學積層體之霧值（總體霧值）減去内部霧值後所得之值作 為僅由於表面凹凸所產生之霧值（表面霧值卜 本發明亦係具備偏光元件之偏光板，上述偏光板係於偏 光兀件表面具備上述光學積層體者。 . 作為上述偏光元件，並無特別限定，例如可使用藉由礙 • 彡染色並延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛臈、聚乙烯縮醛 薄膜及乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光 ® %件與本發明之光學積層體之層麼處理中，較好的是對透 光性基材進行皂化處理。利用息化處理，可使接著性變良 好且亦可獲得抗靜電效果。 本發明亦係於最表面具有上述光學積層體或上述偏光板 而成之圖像顯示裝置。 作為上述圖像顯示裝置，可列舉Lcd、PDp、FED、 ELD(有機EL、無機EL)、CRT等。 〇 上述®像顯示裝置之代㈣LCD係具備穿透性顯示體以 及自背面照射該穿透性顯示體之光源裝置者。本發明之圖 像顯示裝置為LCD之情形時，係於該穿透性顯示體之表面 形成本發明之光學積層體或本發明之偏光板而成者。 本發明為具有上述光學積層體之液晶顯示裝置之情形 時，光源裝置之光源係自光學積層體之下側進行照射。再 者，於STN型液晶顯示裝置中，可於液晶顯示元件與偏光 板之間插入相位差板。可於該液晶顯示裝置之各層間視需 要設置接著劑層。 134342.doc •30- 200930569 上述圖像顯示裝置之一例PDP係具備表面玻璃基板以及 背面玻璃基板者，其中上述背面玻璃基板與上述表面玻璃 基板對向配置且於其間封入有放電氣體。本發明之圖像顯 示裝置為PDP之情形時’亦係於上述表面玻璃基板之表面 或其前板（玻璃基板或膜基板）上具備上述光學積層體者。 ' 上述圖像顯示裝置亦可為將施加電壓後發光之硫化辞、 • 二胺類物質：發光體蒸鍍於玻璃基板上，控制對基板施加 之電壓而進行顯示的ELD裝置或者將電信號變換為光，產 ® 生肉眼可見之像的CRT等圖像顯示裝置。於此情形時，係 於上述各顯示裝置之最表面或其前板之表面具備上述光學 積層體者。 本發明之光學積層體，無論於任一情形時，均可用於電 視、電腦、文字處理機等之顯示器顯示。尤其是可較好地 用於CRT、液晶面板、PDP、ELD等面精細圖像用顯示器 之表面。 [發明之效果] 本發明之光學積層體係包含上述構成者，因此防眩性、 防汙性及色再現性優異。因而，可較好地應用於陰極射線 管顯示裝置（CRT)、液晶顯示器（LCD)、電漿顯示器 (PDP)、電激發光顯示器（ELD)等中。 【實施方式】 以下根據實施例及比較例對本發明加以更詳細之說明， 但本發明之内容並非係限定於該等實施態樣而解釋者。若 無特別限定，則「份」及「°/❶」為重量標準。 134342.doc 200930569 (非晶形二氧化矽粒子之調製） 下述實施例及比較例中所使用之非晶形^氧化石夕係利用 夕酸鈉與硫酸之中和反應的濕式法（例如日本專利第 。〇81號日本專利第1409252號、日本專利第2667〇71 °°日本專利第3719687號）而製造。對所獲得之非晶形二 氧化石夕粒+進行利m氣魏之疏水化纟面化學處 理，並於50〜90。/。之範圍内調整該疏水化率，從而獲得相 對介電係數不同的各種非晶形二氧化矽粒子。 (相對介電係數之測定） 製作分散每一種各實施例及比較例中使用之非晶形二氧 化矽粒子的分散液，從而製作相對介電係數測定用試樣。 相對介電係數係使用S〇lartron公司製造之126〇型阻抗分 析器（2端子法），於頻率範圍為1 KHz〜100 KHz、測定溫度 為2 5 °C下進行測定。 又，相對介電係數除如上所述之分散液狀態以外，亦可 塗佈、硬化而成為光學積層體狀態之後，利用切削等僅將 硬化膜之含二氧化矽之層部分切下後進行測定。於此情形 時，將金濺鍍於該切下的膜之兩面，進而使銀漿適宜附著 於膜之周圍而取得導通，於8(rc加溫下進行減壓乾燥從 而可獲得介電係數測定用試樣。製作硬化膜之情形時，於 含有數種非晶形二氧化矽粒子時，其相對介電係數為該等 之平均值。 (防眩層形成用樹脂組成物之調製） (調製例1) 134342.doc •32- 200930569 防眩層形成用樹脂组成物1之調製 紫外線硬化型樹脂： 季戊四醇三丙烯酸酯（PETA)(折射率為1.51) 20質量份 乙酸-丙酸纖維素（分子量為50,000) 〇·25質量份 光硬化起始劑：

Irgacurel84(汽巴精化股份有限公司製造） 1.2質量份

Irgacure907(汽巴精化股份有限公司製造） 0.2質量份 非晶形二氧化矽粒子（相對介電係數為2.5) 1.24質量份 ❹

(平均粒徑為1.0 μιη，進行有利用矽烷偶合劑之表面疏水 處理） 0.013質量份 34.0質量份 8.5質量份 聚矽氧系均化劑 甲苯 曱基異丁基酮 將上述材料充分混合而調製為組成物。利用孔徑為3〇 μΐη之聚丙烯製過濾器對該組成物進行濾過，調製固體成 分為35%之防眩層形成用樹脂組成物j。 (調製例2) 防眩層形成用樹脂组成物2之調製 紫外線硬化型樹脂： 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率為151) 38質量份 乙酸丙酸纖維素（分子量為5〇 〇〇〇) 〇.76質量份 光硬化起始劑：

Irgacurel 84(>飞巴精化股份有限公司製造）2.3質量份 IrgaCUre9〇7(汽巴精化股份有限公司製造）0.4質量份 134342.doc -33- 200930569 非晶形二氧化紗粒子（平均粒徑 為1.5 μιη，相對介電係數為2 5) 非晶形二氧化石夕粒子（平均粒徑 為1.0 μηι，相對介電係數為3 〇) 聚矽氧系均化劑 • 甲苯 - 甲基異丁基嗣 冑上述材料充分混合而調製為組成物。利 © μΓη之聚丙烯製過濾器對該組成物進行渡過， 分為38.5%之防眩層形成用樹脂組成物2。 (調製例3) 防眩層形成用樹塘組成物3之調製 紫外線硬化型樹脂： 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率為i ·51) 異二聚氰酸改質二丙歸酸酯M215 (日本 藝 化藥股份有限公司製造，折射率為151) 聚曱基丙烯酸甲酯（分子量為75,〇〇〇) 光硬化起始劑：

IrgacUre184(汽巴精化股份有限公司製造） Irgacure907(汽巴精化股份有限公司製造） 透光性第一粒子： 單分散丙烯酸顆粒（粒子徑為9.5 μηι， 折射率為1.535) 透光性第二粒子： 116質量份 7·27質量份 〇·〇79質量份 60.2質量份 Μ.1質量份 用孔徑為30 調製固體成 2.20質量份 1.21質量份 0.34質量份 0.22質量份 0.04質量份 0.82質量份 134342.doc -34- 200930569 173質量份 相對介電係數 〇.〇2質量份 非晶形二氧化矽油墨 (平均粒子徑為1.5 μπι’固體成分為60%， 為 2.5) 均化劑： 聚矽氧系均化劑 溶劑： 5.88質量份 Κ55質量份 甲苯 環己酮

將上述材料充分混合，調製為固體成分為4〇 5%之組成 物。利用孔徑為30 μπι之聚丙烯製過濾器對該組成物進行 濾過’調製為防眩層形成用樹脂組成物3。 (調製例4) 防眩層形成用樹脂組成物4之調製 將防眩層用樹脂組成物1中揭示之非晶形二氧化矽粒子 (相對介電係數為2.5)變更為非晶形二氧化矽粒子（相對介 電係數4.0)，除此之外，使調配比等完全相同地調製防眩 層形成用樹脂組成物4。 (調製例5) 防眩層形成用樹脂组成物5之調製 將防眩層形成用樹脂組成物2中揭示之非晶形二氧化矽 粒子（平均粒性為1.5 μπι，相對介電係數為2 5 )變更為非晶 形二氧化矽粒子（平均粒徑為丨.5 μιη，相對介電係數為4〇) 之材料，除此之外，使調配比等完全相同地調製防眩層形 成用樹脂組成物5。 134342.doc •35- 200930569 (調製例6) 防眩層形成用樹脂组成物6之調製 將防眩層形成用樹脂組成物3中揭示之「非晶形二氧化 矽油墨(平均粒子徑為丨.5 μιη，固體成分為6〇%，相對 係數為2.5)」變更為非晶形二氧化石夕油墨（平均粒子徑為 h5叫，固體成分為60%，相對介電係數4.0)之材料，除 此之外，使調配比等完全相同地調製防眩層形成用樹脂: 成物6。 © (調製例7) 防眩層形成用樹脂組成物7之調製 將防眩層形成用樹脂組成物3中揭示之「非晶形二氧化 石夕油墨(平均粒子徑約.5 _，固體成分為6〇%，相對介電 係數為2.5)」變更為非晶形二氧化石夕油墨（平均粒徑為1 $ μπ^’固體成分為50%，相對介電係數為i 〇)之材料，除此 之外’使調配比等完全相同地調製防眩層形成用樹脂組成 物7。 (調製例8) 防眩層形成用樹脂组成物8之調製 將防眩層形成用樹脂組成物3中揭示之「非晶形二氧化 矽油墨(平均粒子徑為! 5 μιη，固體成分為峨，相對介電 係數為2.5)」變更為非晶形二氧化_油墨（平均粒㈣υ ㈣’固體成分為5〇%，相對介電係數為1.5)之材，料，除此 之外’使調配比等完全相同地調製防眩層形成用樹脂組成 134342.doc • 36 · 200930569 (調製例9) 防眩層形成用樹脂组成物9之調製 將防眩層形成用樹脂組成物3中揭示之「非a 开日日形二氧化 矽油墨（平均粒子徑為丨.5 μιη，固體成分為6〇%，相對介電 係數為2.5)」變更為非晶形二氧化矽油墨（平均粒徑為1 $ μ1»，固體成分為50°/。，相對介電係數為2 〇)之材料，心此 之外，使調配比等完全相同地調製防眩層形成用樹脂組 物9。 曰、風

❹ (調製例10) 防眩層形成用樹脂組成物1〇之調製 非晶形二氧化 將防眩層形成用樹脂組成物3中揭示之 矽油墨（平均粒子徑為15 μπι，固體成分為6〇%，相對介電 係數為2·5)」變更為非晶形二氧化矽油墨（平均粒徑為 μπι,固體成分為50%，相對介電係數為3 〇)之材料，除此 之外，使調配比等完全相同地調製防眩層形成用樹脂組成 物1 0。 (調製例11) 防眩層形成用樹脂組成物U之調製 將防眩層形成用樹脂組成物3中揭示之「非晶形二氧化 矽油墨(平均粒子徑為1>5 μηι，固體成分為6〇%，相對介電 係數為2.5)」‘變更為非晶形二氧化石夕油墨（平均粒徑為 gm，固體成分為5G%，相對介電係數為叫之材料，除此 之外使調配比等完全相同地調製防眩層形成用樹脂組成 物11。 134342.doc -37- 200930569 (調製例12) 低折射率層形成用组成物之調製 9.57質量份 0-981質量份 6.53質量份 0.069質量份 中空二氧化矽漿體 (IPA、MIBK分散，固體成分為20%， 粒徑為50 nm) 季戊四醇三丙烯酸酯PET30 (紫外線硬化型樹脂；曰本化藥製造） AR110 Ο

(氟聚合物；固體成分為15%之MIBK溶 液；Daikin工業製造）

Irgacurel84 (光硬化起始劑；汽巴精化股份有限 公司製造） 聚石夕氧系均化劑 〇 · 15 7質量份 丙二醇單曱謎（PGME) 28.8質量份 甲基異丁基_ 53.9質量份 充分混合上述成分，利用孔徑為1 〇 μΓη之聚丙稀製過渡 器進行濾過’調製固體成分為4%之低折射率層形成用組 成物。該低折射率層形成用組成物之折射率為14〇。 (實施例1) 防眩層之形成 使用三乙酸纖維素膜（TD80U，富士軟片股份有限公司 製造；厚度為80 μηι)作為透明基材，使用塗層用繞線棒 (梅爾棒）#6於膜上塗佈防眩層形成用樹脂組成物8，將其於 134342.doc •38- 200930569 70 C之供箱中加熱乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮 氣％ i兄下（氧氣濃度為2〇〇 ppm以下）照射紫外線以使照射 劑量成為100 mJ，藉此使塗膜硬化而形成防眩層。 低折射率層之積層 使用塗層用繞線棒（梅爾棒）# 2於防眩層上塗佈調製例 12中所調製之低折射率層形成用組成物’將其於7〇<>c之烘 箱中加熱乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣環境下 (氧氣濃度為200 ppm以下）照射紫外線以使照射劑量成為 100 mJ，藉此使塗膜硬化並積層低折射率層從而獲得光學 積層體1。 (實施例2) 將防眩層形成用樹脂組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物9，除此之外，以與實施例丨相同之方式獲得光學積 層體2。 (實施例3) 將防眩層形成用樹脂組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物1，除此之外，以與實施例丨相同之方式獲得光學積 層體3 » (實施例4) 將防眩層开> 成用樹脂組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物2，除此之外，以與實施例丨相同之方式獲得光學積 層體4。 (實施例5) 使用與實施例1相同之三乙酸纖維素膜（TDsou、富士軟 134342.doc •39· 200930569 片股份有限公司製造；厚度為80 μιη)作為透明基材，使用 塗層用繞線棒（梅爾棒）#〗4於膜上塗佈防眩層形成用樹脂組 成物3 ’並將其於7〇c之烘箱中加熱乾燥1分鐘，使溶劑成 分蒸發後’照射紫外線以使照射劑量成為30 mJ，藉此使 塗膜硬化而形成防眩層。 低屈折率層之積層 使用塗層用繞線棒（梅爾棒）# 2於防眩層上塗佈調製例 12中所調製之低折射率層形成用組成物，將其於川它之烘 箱中加熱乾燥1分鐘’使溶劑成分蒸發後，於氮氣環境下 (氧氣濃度為200 ppm以下）照射紫外線以使照射劑量成為 100 mJ’藉此使塗膜硬化並積層低折射率層而獲得光學積 層體5。 (實施例6) 將防眩層形成用樹腊組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物10 ’除此之外，以與實施例丨相同之方式獲得光學 積層體6。 (實施例7) 將防眩層形成用樹脂組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物11，除此之外，以與實施例1相同之方式獲得光學 積層體7。 (比較例1) 將防眩層形成用樹脂組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物4 ’除此之外，以與實施例1相同之方式獲得光學積 層體8。 I34342.doc -40· 200930569 (比較例2) 將防眩層形成用樹脂組成物8變更為防眩層形成用樹脂 組成物5 ’除此之外，以與實施例1相同之方式獲得光學積 層體9。 (比較例3) 將防眩層形成用樹脂組成物3變更為防眩層形成用樹脂 * 組成物6，除此之外，以與實施例5相同之方式獲得光學積 層體10。 ® (評價試驗） 進行下述評價，將其結果揭示於表1。 評價1 :光學特性試驗、表面形狀 對實施例與比較例之光學積層體，於本說明書甲依照定 義，測定光學積層體之總體霧值Ha值、上述光學積層體之 内部霧值Hi、Hi/Ha之值、反射γ值（5度反射）。 關於反射率之測定，係使用具備5。正反射測定裝置之分 ❹ 光度計（島津製作所股份有限公司製造，UV-3100PC)而進 订測疋。再者，反射率使用於波長為55〇 nm附近成為極小 值（最低反射率）時之值。 評價2 :黑色再現性試驗（明室環境） 於實施例與比較例之光學積層體的膜面之相反側貼合正 交偏光之偏光板後，於30 W之三波長榮光下（於防眩層面 上自45方向照射）進行官能評價（距樣品面50 cm之上方， 自約45之角度進行目視觀察），依照下述標準詳細地評價 黑色再現性（黑色看起來是否黑）。此時，使用正交偏光之 134342,doc -41 - 200930569 偏光板作為黑色標準樣品進行黑色之比較。 評價標準 評價◎:可黑色再現。（無乳白色感） 評價Ο··大致可黑色再現。（有少許乳白色感 但不明 ❿ ❷ 評價△:黑色再現不充分。（乳白色感稍微明顯） 評價X :無法黑色再現。（乳白色感強，很明顯） 評價3 :防眩性評價試驗 —對實施例及比較例中所獲得之光學積層體之背面進行黏 著處理冑貼附於黑色壓克力板而得者作為評價用樣品。 準備寬度為2G mm之黑白條紋板，使該條紋以距樣品面法 線2〇度之角度映入至上述樣品（樣品面向上傾斜約扣度）， 進盯觀察。此時’樣品面之照度為25() 1χ(勒克司），條紋 之亮度（白）為65 cd/m2。又，條紋板與樣品之距離為1.5 樣°»與觀察者的距離為丨n^根據觀察者觀察時條紋之 外表而以如下之方式定義進行評價。 評價標準 評價◎:未能相條紋，防眩性良好 °平價〇.可看到條蚊，但不明顯 評價X:可識別條紋 134342.doc -42- 200930569 ° 【Ιΐ 比較例3 寸 2100 1 23.5 | 12.2 1 0.51 | 4.48 | X X 比較例2 40(1.5 //m) 3,5(1.0 β m) 1500(合計） 19.3 10.1 0.52 4.19 < X 比較例1 1100 21.1 00 Os 0.46 3.78 <1 X |實施例7 | ro 1200 VO 0.53 3.54 〇 〇 實施例6 m 1200 fS ri 0.37 2.99 〇 〇 實施例5 VJ ri 1000 卜 V) os ㈣ 0.33 3.02 ◎ ◎ 實施例4 2.5(1.5 μιη) 3.5(1.0 μπι) 1300(合計） rn fH 0.36 2.47 ◎ ◎ 實施例3 VJ ri 900 ON rn 0.41 2.26 ◎ ◎ 實施例2 fS 〇 ΡΟ fs 0.36 2.22 〇 〇 實施例1 〇 〇\ ri fH 0.38 2.23 〇 〇 二氧化矽相對介電 係數 1比表面積 C9 a 田 | Hi/Ha I反射y值 黑色再現性試lit(明 室環境） 防眩性評償試驗(目 視評價） -43- 134342.doc 200930569 [產業上之可利用性] 本發明之光學積層體可較好地應用於陰極射線管顯示裝 置（CRT)、液晶顯示器（LCD)、電漿顯示器（PDP)及電激發 光顯示器（ELD)等中。 ❹ 134342.doc -44-

Claims (1)

1. 200930569 十、申請專利範園： 1·其特徵在於:具有透光性基材以及含 介電係數未：r防眩層，且上迷二氧切粒子之相對 ::求項i之光學積層體’其中二氧化 積為2〇0〇4以下。 祖子之比表面 晶 3·如請求項!或2之光學積層體’其 形二氧化矽粒子。 矽粒子為非 4.如請求項!至3中任一項之光學積層體，其 子之含量相對於1〇〇質量份之 、一 ； 質量份。 貞篁伪之防眩層之樹脂成分為10〜50 5_ :請求項1至4中任—項之光學積層體，其中於防眩層上 進而具有低折射率層。 6. -種圖像顯示裝置，其特徵為：於最表面具備如請求項 1至5中任一項之光學積層體。 8. 7. -種偏光板’其特徵為：具備偏光元件，且於偏光元件 表面具備如請求項】至5中任一項之光學積層體。 -種圖像顯示裝置，其特徵為：於最表面具備如請求項 1至5中任一項之光學積層體。 9. -種圖像顯示裝置’其特徵為：於最表面具備如請求項 7之偏光板。 10. 一種光學積層體之製造方法，該光學積層體係具有透光 性基材以及含有二氧化石夕粒子之防眩層，且可改善其光 學特性’其製造方法之特徵在於包含以下步驟⑷〜⑷： 134342.doc 200930569 +之相對介電係數調整為未滿4.0之 八、述—氧化矽粒子與黏合樹脂及視需要之其它成 并刀散此合於溶劑中，調製防眩層形成用組成物 之步驟，且此時該-龛 氧化石夕粒子間之靜電引力被抑制， 而能獲得該二氧化石夕叔工 矽粒子之凝聚得以被控制之組成物之 步驟； (c)提供透光性基材之步驟； ⑷於上述透光性基材上塗佈步驟⑻中所調製之防眩 層形成用組成物，從而形成塗佈膜之步驟丨 ⑷使上述塗佈膜乾燥、硬化而獲料學積層體之步驟； 此處所得之光學積㈣兼具優異之黑色再現性及防眩 性。 11. ^請求項10之製造方法，其中於步驟（&)中’使用中空二 氧化矽粒子作為二氧化矽粒子，使其空隙率變化，藉此 將上述二氧化矽粒子之相對介電係數調整至未滿。 12. (3)將一氧化梦粒 步驟； 如請求項10之製造方法，其中於步驟（a)中，摻入二氧化 矽粒子，藉此將上述二氧化矽粒子之相對介電係數調整 至未滿4.0。 13. 如請求項10之製造方法，其中於步驟中 對二氧化矽 14. 粒子之表面實施化學修飾’藉此將上述二氧化碎粒子之 相對介電係數調整至未滿4.0。 如請求項13之製造方法’其中二氧化矽粒子之表面化學 修飾係使用聚矽氧材料之疏水化表面化學處理。 134342.doc 200930569 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：（無） (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無）

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