CN101458343A - 光学叠层体、偏振板和图像显示装置 - Google Patents

光学叠层体、偏振板和图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及光学叠层体、偏振板和图像显示装置。本发明提供虽然防炫层中含有二氧化硅粒子，但该二氧化硅粒子适度地凝集、光学特性优良的光学叠层体。该光学叠层体具有透光性基材和含有二氧化硅粒子的防炫层，上述二氧化硅粒子的介电常数小于4.0。

Description

光学叠层体、偏振板和图像显示装置
技术领域
本发明涉及光学叠层体、其制造方法、以及具有前述光学叠层体的偏振板(偏光板)、具有光学叠层体和偏振板中的任何一个的图像显示装置。
背景技术
在阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)等图像显示装置的最表面设有包含具有各种功能的功能层的光学叠层体。作为这样的光学叠层体，已知具有在基材上依次设置防炫层和低折射率层等功能层的叠层结构，在这些功能层中含有作为防炫剂的微粒子的光学叠层体(例如参照专利文献1和2)。其具有优异的防炫性能。
在这样的光学叠层体的防炫层中，广泛应用二氧化硅粒子作为防炫剂含有二氧化硅粒子作为防炫剂的防炫层例如通过在基材上涂布含有二氧化硅粒子和固化性树脂的防炫层形成用树脂组合物而形成。
但是在用含有二氧化硅粒子作为防炫剂的防炫层形成用树脂组合物形成光学叠层体的情况下，存在防炫层形成用树脂组合物中的二氧化硅粒子的分散稳定性降低而凝集，所形成的防炫层的光学特性低的问题。
专利文献1：日本特开2007-090717号公报
专利文献2：日本特开2006-267556号公报
发明内容
针对上述现状，本发明的目的是采用在用于形成含有二氧化硅粒子的防炫层的防炫层形成用树脂组合物中二氧化硅粒子适度凝集并且分散稳定性优异的组合物，提供一种光学特性优异的光学叠层体。
本发明的光学叠层体的特征在于，具有透光性基材、含有二氧化硅粒子的防炫层，上述二氧化硅粒子的介电常数(比
Figure A200810178532D0004114439QIETU
電率)小于4.0。
优选二氧化硅粒子的比表面积为2000m2/g以下。
优选二氧化硅粒子是无定形二氧化硅粒子。
优选相对于防炫层的树脂成分100质量份，二氧化硅粒子的含量为10～50质量份。
此外，本发明提供图像显示装置，其特征在于在最表面具有上述光学叠层体。
此外，本发明提供偏振板，其特征在于具有偏光元件(光
Figure A200810178532D0005114506QIETU
子)，在偏光元件表面上具有上述光学叠层体。
此外，本发明提供图像显示装置，其特征在于在最表面上具有上述光学叠层体或上述偏振板。
此外，本发明提供光学特性得到改善的光学叠层体的制造方法，该光学叠层体包括透光性基材和含有二氧化硅粒子的防炫层，该方法的特征在于包括以下步骤(a)～(e)：
(a)将二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0的步骤；
(b)将粘合剂树脂和根据需要的其它成分与前述二氧化硅粒子一起分散到溶剂中并混合，调制防炫层形成用组合物的步骤，此时，该二氧化硅粒子间的静电引力得到抑制，获得二氧化硅粒子的凝集得到控制的组合物；
(c)提供透光性基材的步骤；
(d)在前述透光性基材上涂布步骤(b)中调制的防炫层形成用组合物，形成涂布膜的步骤；
(e)使前述涂布膜干燥、固化，得到光学叠层体的步骤；
在此，所获得的光学叠层体兼备优异的黑色再现性(黑色再
Figure A200810178532D0005114530QIETU
性)及防炫性。
优选地，在步骤(a)中，通过使用中空二氧化硅粒子作为二氧化硅粒子，改变其空隙率(空隙率)，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。
此外，优选在步骤(a)中，通过掺杂二氧化硅粒子，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。
此外，优选在步骤(a)中，通过对二氧化硅粒子的表面进行化学修饰，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。
进一步地，优选二氧化硅粒子的表面化学修饰是使用硅氧烷材料的疏水化表面化学处理。
下面详细地说明本发明。
本发明中，只要不特别说明，将单体、低聚物、预聚物等固化性树脂前体总称为“树脂”。
本发明的光学叠层体在透光性基材上具有含有二氧化硅粒子的防炫层。
上述二氧化硅粒子的介电常数为1.5以上，且小于4.0。具有含有这样的二氧化硅粒子的防炫层的本发明的光学叠层体显示出优异的光学特性的理由推测如下：
即，现有的光学叠层体含有二氧化硅粒子从而具有了高防炫性。但是，由于现有的二氧化硅粒子一般使用显示高介电常数的二氧化硅粒子，因此在防炫层形成用树脂组合物中会发生凝集。认为因此得不到二氧化硅粒子均匀分散的防炫层，所形成的光学叠层体的光学特性低。
与此相对，由于本发明的光学叠层体在防炫层中含有的二氧化硅粒子显示出特定范围的介电常数，因此二氧化硅粒子间的静电引力被抑制，二氧化硅粒子适度地凝集，显示出优良的光学特性。
上述二氧化硅粒子的介电常数小于4.0。如果为4.0以上，则二氧化硅粒子变得容易凝集，光学特性低。上述介电常数越小越好。现在可得到的介电常数的下限为1.5，更优选是2.0。优选上述介电常数的上限为3.3，更优选是3.0。
二氧化硅粒子的介电常数可以测定二氧化硅粒子状态、或含有二氧化硅粒子的油墨组合物(インキ组合物)的状态以及使用该组合物涂布、固化的光学叠层体的膜状态中的任何一个。作为其方法，有探针法、开放型共振器法(
Figure A200810178532D0006183805QIETU
放型共振器法)、扰动空洞共振法(
Figure A200810178532D0006183813QIETU
空洞共振法)、传播迟延法(伝播
Figure A200810178532D0006114620QIETU
延法)、椭圆偏光法等，根据介电常数的范围适当地选择各测定方法。测定物在凝胶状或液体形态的情况下可以使用专用的测定电池进行导通，以确定介电常数。在测定物为固化膜状的情况下可以使含有二氧化硅粒子的层作为最表面的光学叠层体导通，从而确定介电常数。通过切削等仅切出固化膜的含有二氧化硅粒子的层部分来进行测定，能够更好地确定介电常数。
二氧化硅的介电常数例如可以通过改变中空二氧化硅粒子的空隙率、在二氧化硅粒子中掺杂、对二氧化硅粒子表面进行化学修饰等方法来改变。向二氧化硅粒子掺杂的情况可以举出氟、硼、磷等非金属元素掺杂，钛、铋、镍等过渡金属、金属元素掺杂，或多元掺杂、氧化物掺杂等，可通过适当选择掺杂的元素或调节掺杂浓度来改变介电常数。对于前述化学修饰，将在下面描述，在对二氧化硅粒子表面进行诱导物处理时，通过调节表面处理的程度或者适当选择表面处理剂，可以改变介电常数。
作为上述二氧化硅粒子，优选比表面积为2000m2/g以下。超过2000m2/g时会变成多孔质，存在凝集控制困难的可能性。更优选上述比表面积的上限为1500m2/g。此外，优选上述比表面积的下限为100m2/g，更优选为500m2/g。上述比表面积可以使用BET比表面积测定装置(岛津制作所制トライスタ—3000)进行测定。
优选对上述二氧化硅粒子的表面实施有机物处理。通过使用这样的二氧化硅粒子，不会使下面详述的防炫层形成用树脂组合物的粘度上升，能够使二氧化硅粒子的分散性良好。
作为实施了上述有机物处理的二氧化硅粒子，不特别限定，可以是结晶性、溶胶状、凝胶状、中空、多孔质等中的任何一种状态的二氧化硅粒子。此外，也可以是无定形二氧化硅粒子。此外，作为实施了上述有机物处理的二氧化硅粒子，可以使用市售品，例如可列举无定形二氧化硅(大日精化工业社制造)、アエロジル(デグサ公司制造)、胶态二氧化硅(日产化学工业制造)等。
从形成有效的凹凸形状、表现防炫性的角度考虑，优选上述二氧化硅粒子是无定形二氧化硅粒子。
上述有机物处理有在二氧化硅粒子表面化学地结合化合物的方法、不与粒子表面化学结合而浸透到粒子内或粒子间的空隙等的物理方法，可以使用任一种。
一般地，从处理效率的角度考虑，优选使用利用羟基或硅醇基(シラノ—ル基)等二氧化硅粒子表面的活性基的化学处理法。
通过实施上述有机物处理而进行的疏水化可以通过三甲基氯硅烷等甲硅烷基化剂(シリル
Figure A200810178532D0007114723QIETU
)等进行，可通过甲硅烷基化剂的添加量、反应温度等调节疏水化率进行处理。考虑到甲硅烷基化处理二氧化硅粒子的分散稳定性等，疏水化率优选为50～90％左右。
作为在处理中使用的化合物，可以使用和上述二氧化硅粒子表面的活性基反应性高的硅烷系、硅氧烷系(シロキサン系)、硅氮烷系材料等。例如，可以列举甲基三氯硅烷等的直链烷基单基取代硅氧烷材料(シリコ—ン材料)、支链烷基单取代的硅氧烷材料(シリコ—ン材料)、或二正丁基二氯硅烷、乙基二甲基氯硅烷等的多取代直链烷基硅氧烷化合物(シリコ—ン化合物)、多取代支链烷基硅氧烷化合物(シリコ—ン化合物)。同样地，也可以有效地使用直链烷基或支链烷基的单取代、多取代硅氧烷材料(シロキサン材料)、硅氮烷材料。
根据需要的功能，也可以使用在烷基链的末端或中间部位具有杂原子、不饱和结合基(不
Figure A200810178532D0008114750QIETU
和
Figure A200810178532D0008114757QIETU
合基)、环状结合基(
Figure A200810178532D0008114804QIETU
状
Figure A200810178532D0008114809QIETU
合基)、芳香族官能团等的材料。
由于这些化合物所含的烷基显示出疏水性，因此可以将被处理材料表面从亲水性容易地变换成疏水性，在未处理时缺乏亲和性的高分子材料也能够得到高亲和性。
相对于防炫层的树脂成分100质量份，上述二氧化硅粒子的含量优选为10～50质量份。小于10质量份时，防炫性可能不够。
更优选地，上述含量的下限为20质量份。此外，超过50质量份时，光透过率降低，在用作光学叠层体的情况下，可能会对光学特性产生不好的影响。更优选上述含量的上限为40质量份。
优选上述二氧化硅粒子的平均粒径为0.5～10.0μm。小于0.5μm时，凝集力增大，凝集控制可能变得困难，而且防炫性降低，可能需要大量添加。超过10.0μm时，光透过率降低，在制成光学叠层体的情况下，可能会对光学特性产生不好的影响。更优选上述平均粒径为1.0～5.0μm。
上述平均粒径是利用库尔特颗粒计数仪(コ—ルタ—カウンタ—)测定得到的值。
上述二氧化硅粒子可以单独使用，也可以与有机树脂珠并用。
上述有机树脂珠可以举出聚苯乙烯珠(折射率1.60)、三聚氰胺珠(折射率1.57)、丙烯酸类珠(アクリルビ—ズ)(折射率1.49～1.53)、丙烯酸-苯乙烯珠(アクリル—スチレンビ—ズ)(折射率1.54～1.58)、苯基胍胺-甲醛缩合物珠(折射率1.66)、三聚氰胺-甲醛缩合物(折射率1.66)、聚碳酸酯珠(折射率1.57)、聚乙烯珠(折射率1.50)等。优选上述有机树脂珠的表面具有疏水性基，作为这样的珠，例如可以举出聚苯乙烯珠、折射率容易改变的丙烯酸-苯乙烯珠。
优选上述有机树脂珠通过粒子形状是否齐整等基准进行选择。
优选上述有机树脂珠的平均粒径为0.5～10.0μm。小于0.5μm时，凝集力增大，凝集控制可能变得困难，而且得不到足够的防炫性，可能需要大量地添加。超过10.0μm时，光透过率降低，在制成光学叠层体时，可能会对光学特性产生不好的影响。更优选地上述平均粒径为1.0～5.0μm。
上述平均粒径是利用库尔特颗粒计数仪(コ—ルカウンタ—)测定得到的值。
相对于100质量份的二氧化硅粒子，上述有机树脂珠的含量优选为10～50质量份。小于10质量份时，可能得不到足够的防炫性。
超过50质量份时，光透过率降低，在制成光学叠层体时，可能会对光学特性产生不好的影响。更优选上述含量的下限是20质量份。此外，更优选上限是40质量份。
优选防炫层还含有防污剂。
对于现有的光学叠层体，如果为了赋予防污性而使防炫层形成用树脂组合物中含有防污剂时，会产生防污剂和二氧化硅粒子凝集而使防炫层的光学特性降低的问题。
但是，用于形成本发明的光学叠层体的防炫层的防炫层形成用树脂组合物中含有的二氧化硅粒子由于显示出上述特定范围的介电常数，因此即使在防炫层形成用树脂组合物中含有上述防污剂的情况下，也可以抑制静电引力，二氧化硅粒子和防污剂难以凝集。因此，在要求制造的光学叠层体的防污性高而在防炫层形成用树脂组合物中添加防污剂的情况下，也不会降低光学特性，从而能够得到显示出高防污性的光学叠层体。
对上述防污剂不特别限定，可以使用公知的防污剂，例如可举出氟系化合物和/或硅系化合物。具体地，可举出大日本インキ化学工业社制的メガフアツクF-482。
上述防炫层含有防污剂时，特别优选构成最表面。由此，上述光学叠层体能够充分发挥防污性。
含有上述二氧化硅粒子的防炫层是表面具有凹凸形状、用于抑制外部光对图像的映照(映り
Figure A200810178532D0009183953QIETU
み)、反射以及面闪光(闪烁)等导致的可视性降低的层。
作为在上述表面上形成凹凸形状的方法，可举出利用上述二氧化硅粒子以及根据需要的上述有机树脂珠形成凹凸的方法、通过实施压花赋型处理形成的方法。
上述防炫层可以调制含有上述二氧化硅粒子、粘合剂树脂、溶剂和任意成分的防炫层形成用树脂组合物来形成。
在上述防炫层形成用树脂组合物中，粘合剂树脂优选具有透明性，例如可举出通过紫外线或电子束固化的树脂即电离放射线(電離放射
Figure A200810178532D0010184004QIETU
)固化型树脂、电离放射线固化型树脂和溶剂干燥型树脂(热塑性树脂等仅使涂布时用于调节固体成分而添加的溶剂干燥即成为被膜的树脂)的混合物、或热固性树脂。更优选为电离放射线固化型树脂。
作为上述电离放射线固化型树脂，例如可举出具有丙烯酸酯类的官能团的化合物等具有1个或2个以上不饱和键的化合物。作为具有1个不饱和键的化合物，例如可举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作为具有2个以上不饱和键的化合物，例如可举出聚羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等的多官能化合物与(甲基)丙烯酸酯等的反应生成物(例如多元醇的多(甲基)丙烯酸酯)等。此外，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”指的是甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯。
除了上述化合物，也可以使用具有不饱和双键的较低分子量的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇聚烯树脂(ポリチオ—ルポリエン
Figure A200810178532D0010184015QIETU
脂)等作为上述电离放射线固化型树脂。
上述电离放射线固化型树脂可以和溶剂干燥型树脂并用。通过并用溶剂干燥型树脂，可有效地防止涂布面的被膜缺陷，这样可以获得优异的亮黑感。一般地，作为可以与上述电离放射线固化型树脂并用的溶剂干燥型树脂，不特别限定，可以使用热塑性树脂。
对上述热塑性树脂不特别限定，例如可举出苯乙烯类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯类树脂、乙烯基醚类树脂、含卤树脂、脂环式烯烃类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚酯类树脂、聚酰胺类树脂、纤维素衍生物、硅氧烷类树脂以及橡胶或弹性体等。优选上述热塑性树脂为非结晶性的、并在有机溶剂(特别是可溶解多种聚合物、固化性化合物的通用溶剂)中可溶。特别地，从制膜性、透明性或耐气候性的角度考虑，优选苯乙烯类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、脂环式烯烃类树脂、聚酯类树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。
在本发明的光学叠层体中，后述的透光性基材的材料为三乙酰纤维素(TAC)等纤维素类树脂时，作为上述热塑性树脂的优选具体实例，可举出纤维素类树脂，例如硝酸纤维素、乙酰纤维素、乙酸丙酸纤维素、乙基羟基乙基纤维素、乙酰丁基纤维素、乙基纤维素、甲基纤维素等纤维素衍生物等。通过使用纤维素类树脂，可以提高与透光性基材、根据需要形成的防静电层等层的密合性和透明性。进而，除了上述纤维素类树脂，还可以举出乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯类树脂，聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂，丙烯酸类树脂及其共聚物、甲基丙烯酸类树脂及其共聚物等丙烯酸类树脂，聚苯乙烯树脂，聚酰胺树脂，聚碳酸酯树脂等。
作为上述粘合剂树脂使用的热固性树脂，可举出酚醛树脂、尿素树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-尿素共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树脂等。
上述防炫层形成用树脂组合物优选含有光聚合引发剂。作为上述光聚合引发剂，可举出作为苯乙酮类(例如商品名为イルガキユア184，チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ社制造)市售的1-羟基-环己基-苯基-酮、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、芳香族重氮鎓盐、芳香族锍盐、芳香族碘鎓盐、金属茂(メタセロン)化合物、苯偶姻磺酸酯等。这些光聚合引发剂可以单独使用或者将两种以上并用。
上述光聚合引发剂的添加量相对于上述电离放射线固化型树脂固体成分100质量份，优选为0.1～10质量份。
在不会对本发明的效果产生影响的情况下，可以根据需要向上述防炫层形成用树脂组合物添加其它任意成分。作为上述任意成分，可举出上述有机树脂珠、上述防污剂、上述以外的树脂、表面活性剂、偶联剂、增粘剂、着色防止剂、颜料或染料等的着色剂、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、粘着赋与剂、聚合抑制剂、抗氧化剂、表面改性剂等。这些成分可以使用在防炫层中通常使用的公知物质。
上述防炫层形成用树脂组合物例如可通过使上述二氧化硅粒子、粘合剂树脂、光聚合引发剂以及其它任意成分与溶剂混合并进行分散处理获得。在上述混合分散中，可以使用涂料调配器(ペイントシエ—カ—)或珠磨机(ビ—ズミル)等。
作为上述溶剂，可举出水、醇(如甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、苯甲醇)、酮(如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮)、酯(如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯)、脂肪族烃(如己烷、环己烷)、卤代烃(如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烃(如苯、甲苯、二甲苯)、酰胺(如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、n-甲基吡咯烷酮)、醚(如二乙醚、二噁烷、四氢呋喃)、醚醇(如1-甲氧基-2-丙醇)等，但不限于上述溶剂。此外，这些溶剂可以适当地混合1种以上来使用。其中尤其优选酮类、酯类、芳香族烃类，在分散性、分散稳定性、安全性方面，更优选使用至少一种酮类溶剂，进一步优选为甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮。
优选地，上述防炫层是在透光性基材上涂布上述防炫层形成用树脂组合物、根据需要进行干燥并利用活性能量线照射使其固化而形成的。
作为涂布上述防炫层形成用树脂组合物的方法，可举出辊涂法、迈耶绕线棒涂布法、凹槽辊涂布法、口模涂布法。
作为上述活性能量线照射，可举出利用紫外线或电子束的照射。作为紫外线源的具体实例，可举出超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、背光源荧光灯、金属卤化物灯等的光源。紫外线的波长可以使用190～380nm的波长范围。作为电子束的具体实例，可举出Cockcroft-Walton型、Van de Graaff型(バンデグラフト型)、共振变压器型、绝缘芯变压器型(コア
Figure A200810178532D0012184106QIETU
器型)、或直线型、Dynamitron型(ダイナミトロン型)、高频型等各种电子束加速器。
上述防炫层的厚度优选为1.0～7.5μm。
当小于1.0μm时，可能得不到足够的防炫性。超过7.5μm时，透过率降低，在制成光学叠层体时，可能会对光学特性产生不好的影响。更优选上述厚度的下限为2.0μm。此外，更优选上限为3.0μm。
此外，上述防炫层的厚度可利用激光显微镜、SEM、TEM进行截面观察而测定。例如，作为利用激光显微镜的膜厚测定方法，可以使用激光共聚焦显微镜(LeicaTCS-NT：ライカ社制造：倍率200～1000倍)，对防炫层的截面进行透过观察。例如具体地，为了获得没有光晕的鲜明图像，可以在激光共聚焦显微镜中使用湿式物镜，同时为了消除物镜和防炫层截面间的空气层在防炫层截面上加入大约2ml折射率为1.518的油进行观察。接着，对于显微镜观察的1个画面，对每1点测定凹凸的Max部、Min部的膜，共测定2点。共测定5个画面，10点，算出平均值，由此可以求出平均膜厚。在SEM、TEM的截面观察中，也可以如上所述地观察5个画面，求出平均值。
优选地，上述透光性基材是具有透明性、平滑性、耐热性且机械强度优异的基材。作为形成上述透光性基材的材料的具体实例，可举出聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯)、三乙酰纤维素(TAC)、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚氨酯等热塑性树脂，优选地可举出聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酰纤维素(TAC)。
此外，作为上述透光性基材，可以使用具有脂环结构的非晶质烯烃聚合物(环烯烃聚合物：(COP)膜。其是采用降冰片烯类聚合物、单环的环状烯烃类聚合物、环状共轭二烯烃类聚合物、乙烯基脂环式烃类聚合物树脂等的基材，例如可举出日本ゼオン(株)制的ゼオネツクス、ゼオノア(降冰片烯类树脂)、住友ベ—クライト(株)制的スミライトFS-1700、JSR(株)制ア—トン(改性降冰片烯类树脂)、三井化学(株)制的アペル(环状烯烃共聚物)、Ticona公司制Topas(环状烯烃共聚物)、日立化成(株)制的オプトレツツOZ-1000系列(脂环式丙烯酸类树脂)等。另外，作为三乙酰纤维素的替代基材，还优选旭化成ケミカルズ(株)制的FV系列(低双折射率、低光弹性模量膜)。
上述透光性基材优选将上述热塑性树脂制成柔软性好的膜状体使用，但是也可以根据固化性所要求的使用方式来使用这些热塑性树脂的板，或者也可以使用玻璃板的板状体。
上述透光性基材的厚度优选为20～300μm，更优选为30～200μm。在透光性基材为板状体的情况下，其厚度可以超过上述厚度，为300μm～5000μm。在基材上形成防静电层等时，为了提高粘着性，除了电晕放电处理、氧化处理等物理处理之外，也可以预先涂布被称为锚固剂(アンカ—
Figure A200810178532D0013184130QIETU
)或底漆的涂料。
本发明的光学叠层体优选在上述防炫层上还具有低折射率层。上述低折射率层形成在防炫层的表面上，其折射率比防炫层低。根据本发明的优选方式，防炫层的折射率为1.48以上，低折射率层的折射率小于1.48，优选为1.45以下。
低折射率层可以由：1)含有二氧化硅或氟化镁的材料，2)作为低折射率树脂的氟系材料，3)含有二氧化硅或氟化镁的氟系材料，4)二氧化硅或氟化镁的薄膜等的任一种构成。
上述氟系材料是至少分子中含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。对聚合性化合物不特别限定，例如优选具有通过电离放射线固化的官能团(电离放射线固化性基)、通过热固化的极性基(热固化极性基)等固化反应性基团的聚合性化合物。此外，也可以是同时具有这些反应性基团的化合物。
作为含有氟原子的具有电离放射线固化性基的聚合性化合物，可广泛使用具有乙烯性不饱和键的含氟单体。更具体地，可列举氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏氯乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2，2-二甲基-1，3-二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的聚合性化合物，有2，2，2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3，3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯等分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中具有下述基团的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等：具有至少3个氟原子的碳数为1～14的氟烷基、氟环烷基或氟亚烷基、和至少2个(甲基)丙烯酰氧基。
作为含氟原子的具有热固化性极性基的聚合性化合物，例如可以举例4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烃系乙烯基醚共聚物；环氧、聚氨酯、纤维素、酚醛、聚亚胺等各种树脂的氟改性品等。作为上述热固化性极性基，例如优选举出羟基、羧基、氨基、环氧基等氢键形成基。这些不仅与涂膜的密合性优良，而且与二氧化硅等无机超微粒子的亲和性也优异。
作为同时具有电离放射线固化性基和热固化性极性基的聚合性化合物(氟系树脂)，可以列举丙烯或甲基丙烯酸的部分和完全氟化烷基、烯基、芳基酯类，完全或部分氟化乙烯基醚类、完全或部分氟化乙烯基酯类、完全或部分氟化乙烯基酮类等。
作为含有氟原子的上述聚合性化合物的聚合物，例如可以举出：包含至少一种具有上述电离放射线固化性基的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的单体或单体混合物的聚合物；至少一种含氟(甲基)丙烯酸酯化合物与(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3，3，3-三氟丙烯、1，1，2-三氯-3，3，3-三氟丙烯、六氟丙烯这样的含氟单体的均聚物或共聚物；等。
此外，在这类共聚物中含有硅氧烷成分的含硅氧烷偏氟乙烯也可以作为上述聚合性化合物的聚合物使用。作为这种情况下的硅氧烷成分，可以列举(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基的(聚)二甲基硅氧烷、二甲基硅氧烷、苯基甲基硅氧烷、烷基芳烷基改性硅氧烷、氟硅氧烷、聚醚改性的硅氧烷、脂肪酸酯改性的硅氧烷、甲基氢硅氧烷、含硅醇基的硅氧烷、含烷氧基的硅氧烷、含苯酚基(フエノ—ル基)的硅氧烷、甲基丙烯酸改性硅氧烷(メタクリル
Figure A200810178532D0015125632QIETU
性シリコ—ン)、丙烯酸改性的硅氧烷(アクリル
Figure A200810178532D0015125632QIETU
性シリコ—ン)、氨基改性的硅氧烷、羧酸改性的硅氧烷、甲醇改性的硅氧烷、环氧基改性的硅氧烷、巯基改性的硅氧烷、氟改性的硅氧烷、聚醚改性的硅氧烷等。其中优选具有二甲基硅氧烷结构的。
此外，除了上述的以外，进一步地，也可以采用：分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物和分子中具有至少1个氨基、羟基、羧基等与异氰酸酯基反应的官能团的化合物反应而得到的化合物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己内酯改性的多元醇等含氟的多元醇和具有异氰酸酯基的化合物反应而得到的化合物等作为氟系材料。
在形成低折射率层时，例如可以使用含原料成分的组合物(折射率层形成用组合物)来形成。更具体地，根据原料成分(树脂等)和需要，使用将添加剂(例如后述的“具有空隙的微粒子”、聚合引发剂、防静电剂等)溶解或分散到溶剂中而成的溶液或分散液作为低折射率层形成用组合物，利用上述组合物形成涂膜，使上述涂膜固化而获得低折射率层。此外，聚合引发剂等添加剂可以举出在防炫层中所述的添加剂。
溶剂例如也可列举在防炫层中所述的溶剂，优选地是甲基异丁基酮、环己酮、异丙醇(IPA)、正丁醇、叔丁醇、二乙酮、PGME等。
上述组合物的制备方法可以将成分均匀地混合即可，可以按照公知方法实施。例如，可以使用在防炫层的形成中所述的公知装置来混合。
涂膜的形成方法可以按照公知的方法。例如可以使用在防炫层的形成中所述的各种方法。
得到的涂膜的固化方法可以根据组合物的内容等适当进行选择。例如，如果是紫外线固化型，则可以通过对涂膜照射紫外线使其固化。
在上述低折射率层中，低折射率剂优选采用“具有空隙的微粒子”。“具有空隙的微粒子”能够保持防炫层的层强度的同时，降低其折射率。在本发明中，“具有空隙的微粒子”是指，形成微粒子的内部填充有气体的结构和/或含有气体的多孔质结构体、与微粒子本身的折射率相比折射率与微粒子中的气体占有率成反比例地降低的微粒子。此外，在本发明中，根据微粒子的形态、结构、凝集状态、被膜内部中微粒子的分散状态，也包含内部和/或表面的至少一部分可形成纳米多孔结构的微粒子。使用该微粒子的低折射率层的折射率可以调节到1.30～1.45。
作为具有空隙的无机系微粒子，可以举出例如根据日本特开2001-233611号公报中记载的方法制备的二氧化硅微粒子。可以是根据日本特开平7-133105号公报、日本特开2002-79616号公报、日本特开2006-106714号公报等中记载的制造方法得到的二氧化硅微粒子。由于具有空隙的二氧化硅微粒子容易制造，且其自身的硬度高，因此在与粘合剂混合形成低折射率层时，层强度提高，并且，可以将折射率调节到1.20-1.45左右的范围内。特别地，作为具有空隙的有机系微粒子的具体实例，例如优选列举使用日本特开2002-80503号公报中公开的技术制备的中空聚合物微粒子。
作为可在被膜的内部和/或表面的至少一部分形成纳米多孔结构的微粒子，除了前述的二氧化硅微粒子，还可以列举为了增大比表面积而制造的、以组入到填充用的柱以及表面的多孔质部分中吸附各种化学物质的缓释材料(除放材)、催化剂固定用的多孔质微粒子或隔热材料和低电介材料中为目的的中空微粒子的分散体、凝集体。作为这样的具体实例，可以采用如日本シリカ工业株式会社制造的商品名为Nipsil、Nipgel中的多孔质二氧化硅微粒子的集合体，由日产化学工业(株)制造的具有二氧化硅微粒子的链状连接结构的胶态二氧化硅UP系列(商品名)中的粒径在本发明优选范围的。
“具有空隙的微粒子”的平均粒径为5nm～300nm，优选下限为8nm以上，上限为100nm以下，更优选下限为10nm以上，上限为80nm以下。通过微粒子的平均粒径在该范围，可以使防炫层具有优异的透明性。要说明的是，上述平均粒径是利用动态光散射法等方法测定的值。“具有空隙的微粒子”在上述低折射率层中相对于100质量份的基体树脂通常为0.1～500质量份左右，优选是10～200质量份左右。
在形成低折射率层时，使上述低折射率层形成用组合物的粘度为可得到优选涂布性的0.5～5cps(25℃)，优选为0.7～3cps(25℃)。能够实现优良的可见光的反射防止膜，并且，能够形成均匀地没有涂布不匀的薄膜，从而形成对于基材的密合性特别优异的低折射率层。
树脂的固化方法可以和在防炫层中所说明的方法相同。为了固化处理而利用加热方法时，优选将通过加热例如产生自由基而使聚合性化合物开始聚合的热聚合引发剂添加到氟系树脂组合物中。
优选地，低折射率层的膜厚(nm)dA满足下式(I)：
dA＝mλ/(4nA)                  (I)
(上式中，nA表示低折射率层的折射率，m表示正奇数，优选表示1，λ表示波长，优选为480～580nm范围的值)。
此外，在本发明中，从低反射率化方面优选低折射率层满足以下数学式(II)：
120<nAdA<145            (II)
本发明的光学叠层体除了上述防炫层和低折射率层之外根据需要可以设置防污染层、防静电层、高折射率层或中折射率层等任意的层。
上述防污染层、防静电层、高折射率层、中折射率层可以制备添加了一般使用的防污剂、高折射率剂、中折射率剂、防静电剂或树脂等的组合物，利用公知方法形成各个层。
优选本发明的光学叠层体的表面具有凹凸形状。对于上述凹凸形状，在设光学叠层体最表面的层的凹凸的平均间隔为Sm、凹凸部的平均倾斜角为θa、凹凸的十点平均粗糙度为Rz的情况下，(Sm、θa、Rz的定义依据JIS B0601 1994)。优选Sm为40μm～600μm，θa为0.3度～5.0度，Rz为0.3μm～4.0μm。
下面描述用于求出Sm、θa、Rz所用的表面粗糙度测定器的测定条件。
表面粗糙度测定器(型号：SE-3400/(株)小坂研究所制造)
1)表面粗糙度检测部的探针(触針)：
型号/SE2555N(2μ标准)(株)小坂研究所制造
(前端曲率半径2μm/顶角：90度/材料：金刚石)
2)表面粗糙度测定器的测定条件：
基准长度(粗糙度曲线的截止值λc)：0.8mm
评价长度(基准长度(截止值λc)×5)：4.0mm
探针的移动速度：0.1mm/s
本发明的光学叠层体的可见光透过率优选为90％以上。小于90％时，在安装于显示器表面时，可能有损色再现性。更优选上述可见光透过率为95％以上，进一步优选为98％以上。
上述光学叠层体的表面浊度值(ヘイズ
Figure A200810178532D0018184239QIETU
)优选为10％以下。超过10％时，在安装于显示器表面的情况下，可能有损色再现性。更优选上述浊度为0.2～5％。上述表面浊度值是利用反射·透过率计HM-150(村上色彩技术研究所制造)测定得到的值。
上述光学叠层体的内部浊度值优选为70％以下。上述内部浊度值处于上述范围内时，可以得到改善将本发明的光学叠层体用于LCD等时的表面闪光(闪烁)的效果。
上述表面浊度值和内部浊度值是利用后述的方法得到的值。即，在光学叠层体的最表层(例如防炫层或低折射率层)的凹凸上用迈耶绕线棒涂布将季戊四醇三丙烯酸酯等树脂(包含单体或低聚物等的树脂成分)用甲苯等稀释，使固体成分为60％的物质，使干燥膜厚为8μm。由此，最表面的表面凹凸被压坏而形成平坦的层。其中，由于在形成该最表层的组合物中添加了流平剂等，在再涂(リコ—ト)剂易于被排斥而不易润湿的情况下，可以通过预先对防炫膜进行皂化处理(2mol/l的NaOH(或KON)溶液在55度下浸渍3分钟后，水洗，用kimwipes(キムワイプ)完全除去水滴后，在50度的烘箱中干燥1分钟)，实施亲水处理。该表面经平坦化的膜成为不具有由表面凹凸而产生的浊度、只具有内部浊度的状态。该浊度可以作为内部浊度而求出。因此，从原先的光学叠层体的浊度(整体浊度)减去内部浊度的值，可以求出仅由表面凹凸产生的浊度(表面浊度)。
此外本发明提供一种具有偏光元件的偏振板，上述偏振板在偏光元件表面具有上述的光学叠层体。
对上述偏光元件不特别限定，例如，可以使用通过碘进行染色的、拉伸的聚乙烯醇膜，聚乙烯醇缩甲醛膜，聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏光元件和本发明的光学叠层体的层合处理中，优选对透光性基材进行皂化处理。利用皂化处理，可以获得粘着性良好的防静电效果。
本发明还提供在最表面具有上述光学叠层体或上述偏振板的图像显示装置。
上述图像显示装置可以举出LCD、PDP、FED、ELD(有机EL、无机EL)、CRT等。
上述图像显示装置的代表例LCD包括透过性显示体、和从背面照射该显示体的光源装置。本发明的图像显示装置为LCD时，其透过性显示体的表面形成有本发明的光学叠层体或本发明的偏振板。
本发明为在具有上述光学叠层体的液晶显示装置的情况下，光源装置的光源从光学叠层体的下侧照射。此外，在STN型液晶显示装置中，可以在液晶显示元件和偏振板之间插入相位差板。该液晶显示装置的各层间可以根据需要设置粘着剂层。
上述图像显示装置的一个例子PDP具有表面玻璃基板、与该表面玻璃基板相对配置且在它们之间封入放电气体的背面玻璃基板。在本发明的图像显示装置是PDP的情况下，上述表面玻璃基板的表面或前面板(玻璃基板或膜基板)上具有上述光学叠层体。
上述图像显示装置也可以是在玻璃基板上蒸镀了施加电压时发光的硫化锌、二胺类物质：发光体，控制施加于基板上的电压来进行显示的ELD装置，或者是将电子信号变换成光、产生人眼可以看到的图像的CRT等图像显示装置。在这种情况下，如上所述的各显示装置的最表面或前面板的表面上具有上述的光学叠层体。
本发明的光学叠层体任一情况下可以用于电视机、计算机、文字处理机等的显示器显示。特别地，可以适用于CRT、液晶面板、PDP、ELD等高清晰图像用显示器的表面。
发明效果
本发明的光学叠层体由于具有上述结构，因此防炫性、防污性和色再现性优异。因此，可以较好地适用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)等中。
实施发明的最佳方式
下面，根据实施例和比较例更加详细地说明本发明，但是本发明的内容并不解释为限定于这些实施方式。如不特别说明，“份”和“％”是质量基准。
(无定形二氧化硅粒子的制备)
在下述的实施例和比较例中使用的无定形二氧化硅是利用硅酸钠和硫酸的中和反应的湿式法(例如日本特许第1781081号、日本特许第1409252号、日本特许第2667071号、日本特许第3719687号)制造的。对得到的无定形二氧化硅粒子利用三甲基氯硅烷进行疏水化表面化学处理，将其疏水化率调节到50～90％的范围，得到介电常数不同的各种无定形二氧化硅粒子。
(介电常数的测定)
制作各分散了1种在各个实施例和比较例中使用的无定形二氧化硅粒子的分散液，制备介电常数测定用的试样。
介电常数是使用ソ—ラトロン公司制造的1260型阻抗测定器(2端子法)、在频率范围1KHz-100KHz、测定温度为25℃下测定。
此外，介电常数也可以在前述的分散液状态以外的在涂布、固化成为光学叠层体状态之后，通过切削等仅切出固化膜的含有二氧化硅的层部分来进行测定。这样，可以在该切出的膜的两面溅射金，进一步地在膜周围适当地粘着银糊料并使其导通，加温到80℃进行减压干燥，从而得到介电常数测定用的试样。在成为固化膜的情况下，含有几种无定形二氧化硅粒子时为其平均值。
(防炫层形成用树脂组合物的制备)
(制备例1)
防炫层形成用树脂组合物1的制备
紫外线固化型树脂：
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)           20质量份
醋酸丙酸纤维素(分子量50000)                    0.25质量份
光固化引发剂：
イルガキユア184(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制) 1.2质量份
イルガキユア907(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制) 0.2质量份
无定形二氧化硅粒子(介电常数2.5)                         1.24质量份
(平均粒径1.0μm，利用硅烷偶联剂进行了表面疏水处理)
硅氧烷类流平剂                                          0.013质量份
甲苯                                                    34.0质量份
甲基异丁基酮                                            8.5质量份
充分混合上述材料，制成组合物。用孔径为30μm的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备固体成分为35％的防炫层形成用树脂组合物1。
(制备例2)
防炫层形成用树脂组合物2的制备
紫外线固化型树脂
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)                     38质量份
醋酸丙酸纤维素(分子量50000)                              0.76质量份
光固化引发剂：
イルガキユア184(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制)  2.3质量份
イルガキユア907(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制)  0.4质量份
无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.5μm，介电常数2.5)           1.16质量份
无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.0μm，介电常数3.0)           7.27质量份
硅氧烷类流平剂                                          0.079质量份
甲苯                                                    60.2质量份
甲基异丁基酮                                            14.1质量份
充分混合上述材料，制成组合物。用孔径为30μm的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备固体成分为38.5％的防炫层形成用树脂组合物2。
(制备例3)
防炫层形成用树脂组合物3的制备
紫外线固化型树脂
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)                    2.20质量份
异氰脲酸改性二丙烯酸酯M215(日本化药(株)制，折射率1.51)
                                                          1.21质量份
聚甲基丙烯酸甲酯(分子量75000)                             0.34质量份
光固化引发剂：
イルガキユア184(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制)   0.22质量份
イルガキユア907(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制)   0.04质量份
透光性第一粒子：
单分散丙烯酸类珠(粒径9.5μm，折射率1.535)                  0.82质量份
透光性第二粒子：                                          1.73质量份
无定形二氧化硅油墨(不定形シリカインキ)
(平均粒径1.5μm，固体成分60％，介电常数2.5)
流平剂：
硅氧烷类流平剂                                            0.02质量份
溶剂：
甲苯                                                      5.88质量份
环己酮                                                    1.55质量份
充分混合上述材料，制成固体成分为40.5％的组合物。用孔径为30μm的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备防炫层形成用树脂组合物3。
(制备例4)
防炫层形成用树脂组合物4的制备
将防炫层用树脂组合物1记载的无定形二氧化硅粒子(介电常数为2.5)改变成无定形二氧化硅粒子(介电常数为4.0)，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物4。
(制备例5)
防炫层形成用树脂组合物5的制备
将防炫层形成用树脂组合物2记载的无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.5μm，介电常数为2.5)改变成无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.5μm，介电常数4.0)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物5。
(制备例6)
防炫层形成用树脂组合物6的制备
将防炫层形成用树脂组合物3记载的“无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)”改变成无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为4.0)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物6。
(制备例7)
防炫层形成用树脂组合物7的制备
将防炫层形成用树脂组合物3记载的“无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)”改变成无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为50％，介电常数为1.0)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物7。
(制备例8)
防炫层形成用树脂组合物8的制备
将防炫层形成用树脂组合物3记载的“无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)”改变成无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为50％，介电常数为1.5)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物8。
(制备例9)
防炫层形成用树脂组合物9的制备
将防炫层形成用树脂组合物3记载的“无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)”改变成无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物9。
(制备例10)
防炫层形成用树脂组合物10的制备
将防炫层形成用树脂组合物3记载的“无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)”改变成无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为50％，介电常数为3.0)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物10。
(制备例11)
防炫层形成用树脂组合物11的制备
将防炫层形成用树脂组合物3记载的“无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为60％，介电常数为2.5)”改变成无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5μm，固体成分为50％，介电常数为3.3)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防炫层形成用树脂组合物11。
(制备例12)
低折射率层形成用组合物的制备
中空二氧化硅浆                                 9.57质量份
(IPA，MIBK分散，固体成分为20％，粒径50nm)
季戊四醇三丙烯酸酯PET30                        0.981质量份
(紫外线固化型树脂；日本化药制)
AR110                                          6.53质量份
(氟聚合物；固体成分为15％的MIBK溶液；ダイキン工业制造)
イルガキユア184                                0.069质量份
(光固化引发剂；チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制造)
硅氧烷类流平剂                                 0.157质量份
丙二醇单甲基醚(PGME)                           28.8质量份
甲基异丁基酮                                   53.9质量份
充分混合上述成分，用孔径为10μm的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备固体成分为4％的低折射率层形成用树脂组合物。其折射率为1.40。
(实施例1)
防炫层的形成
使用三乙酰纤维素膜(TD80U，富士写真フイルム(株)制；厚度80μm)作为透明基材，在膜上使用涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#6涂布防炫层形成用树脂组合物8，在70℃的烘箱中加热干燥1分钟，使溶剂成分蒸发后，在氮气氛中(氧浓度为200ppm以下)，照射紫外线使得照射线量为100mJ，使涂膜固化形成防炫层。
低折射率层的层叠
在防炫层上使用涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#2涂布制备例12制备的低折射率层形成用组合物，在70℃的烘箱中加热干燥1分钟，使溶剂成分蒸发后，在氮气氛中(氧浓度为200ppm以下)，照射紫外线使得照射线量为100mJ，使涂膜固化，得到层叠了低折射率层的光学叠层体1。
(实施例2)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物9，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体2。
(实施例3)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物1，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体3。
(实施例4)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物2，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体4。
(实施例5)
使用和实施例1相同的三醋酸纤维素膜(TD80U，富士写真フイルム(株)制；厚度80μm)作为透明基材，在膜上使用涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#14涂布防炫层形成用树脂组合物3，在70℃的烘箱中加热干燥1分钟，使溶剂成分蒸发后，照射紫外线使照射线量为30mJ，使涂膜固化形成防炫层。
低折射率层的叠层
在防炫层上使用涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#2涂布在制备例12中制备的低折射率层形成用组合物，在70℃的烘箱中加热干燥1分钟，使溶剂成分蒸发后，在氮气氛(氧浓度为200ppm以下)中，照射紫外线使照射线量为100mJ，使涂膜固化得到层叠了低折射率层的光学叠层体5。
(实施例6)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物10，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体6。
(实施例7)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物11，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体7。
(比较例1)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物4，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体8。
(比较例2)
将防炫层形成用树脂组合物8改变成防炫层形成用树脂组合物5，除此之外，与实施例1同样地得到光学叠层体9。
(比较例3)
将防炫层形成用树脂组合物3改变成防炫层形成用树脂组合物6，除此之外，与实施例5同样地得到光学叠层体10。
(评价试验)
进行下述评价，其结果记载于表1中。
评价1：光学特性试验、表面形状
对实施例和比较例的光学叠层体，按照本说明书的定义，测定光学叠层体整体的浊度Ha值、前述光学叠层体的内部浊度值Hi、Hi/Ha的值、反射Y值(5度反射)。
对于反射率测定，使用具有5℃正反射测定装置的分光度计(岛津制作所(株)制，UV-3100PC)进行测定。此外，使用反射率在波长550nm附近变成极小值(最低反射率)时的值。
评价2：黑色再现性试验(明室环境)
在与实施例和比较例的光学叠层体的膜面的相反侧贴合正交尼科尔棱镜的偏振板后，在30W的三波长荧光下(从与防炫层面成45°的方向照射)进行功能评价(从样品面上方50cm、大约45°的角度用眼观察)，并根据下述的基准详细地评价黑色再现性(黑看上去是不是黑)。此时作为黑的基准样品，使用正交尼科尔棱镜偏振板来比较黑色。
评价基准
评价◎：能够再现黑色。(没有乳白色的感觉)
评价○：大体上能够再现黑色。(有些乳白色的感觉，觉察不到的水平)
评价△：黑色再现不充分。(稍微的乳白色的感觉，觉察到的水平)
评价×：不能再现黑色。(乳白色的感觉强烈，明显觉察到的水平)
评价3：
防炫性评价试验
对实施例和比较例中得到的光学叠层体的背面进行粘着处理，粘贴在黑色丙烯板(アクリル板)上，作为评价用试样。准备宽度为20mm的白黑条纹板，以与试样面的法线成20度的角度在上述试样(试样面向上方倾斜约30度)上映入该条纹，然后进行观察。此时试样面的照度为250lx(勒克司)，条纹的亮度(白)为65cd/m2。此外，条纹板和试样的距离为1.5m，试样和观察者的距离为1m。根据观察者观察其时看到条纹的方式按下述定义进行评价。
评价基准
评价◎：看不到条纹，防炫性良好
评价○：看得到条纹，不明显的水平
评价×：能够看到条纹
Figure A200810178532D00291
产业实用性
本发明的光学叠层体适用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)等。

Claims (14)

1.一种光学叠层体，其特征在于，具有透光性基材、和含有二氧化硅粒子的防炫层，前述二氧化硅粒子的介电常数小于4.0。
2.如权利要求1所述的光学叠层体，其中，二氧化硅粒子的比表面积为2000m2/g以下。
3.如权利要求1或2所述的光学叠层体，其中，二氧化硅粒子为无定形二氧化硅粒子。
4.如权利要求1～3中任何一项所述的光学叠层体，其中，相对于防炫层的树脂成分100质量份，二氧化硅粒子的含量为10～50质量份。
5.如权利要求1～4中任何一项所述的光学叠层体，其中，防炫层上还具有低折射率层。
6.一种图像显示装置，其特征在于，最表面上具有权利要求1～5中任何一项所述的光学叠层体。
7.一种偏振板，其特征在于，具有偏光元件，在偏光元件表面具有权利要求1～5中任何一项所述的光学叠层体。
8.一种图像显示装置，其特征在于，最表面具有权利要求1～5中任何一项所述的光学叠层体。
9.一种图像显示装置，其特征在于，最表面具有权利要求7所述的偏振板。
10.一种光学特性得到改善的光学叠层体的制造方法，该光学叠层体具有透光性基材和含有二氧化硅粒子的防炫层，其特征在于包括以下步骤(a)～(e)：
(a)将二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0的步骤；
(b)将粘合剂树脂和根据需要的其它成分与前述二氧化硅粒子一起分散、混合到溶剂中，制备防炫层形成用组合物的步骤，此时，该二氧化硅粒子间的静电引力得到抑制，得到该二氧化硅粒子的凝集得到控制的组合物；
(c)提供透光性基材的步骤；
(d)在前述透光性基材上涂布步骤(b)中制备的防炫层形成用组合物，形成涂布膜的步骤；
(e)使前述涂布膜干燥、固化，得到光学叠层体的步骤，
在此，得到的光学叠层体兼备优异的黑色再现性和防炫性。
11.如权利要求10所述的制造方法，其中，在步骤(a)中，通过使用中空二氧化硅粒子作为二氧化硅粒子改变空隙率，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。
12.如权利要求10所述的制造方法，其中，在步骤(a)中，通过掺杂二氧化硅粒子，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。
13.如权利要求10所述的制造方法，其中，在步骤(a)中，通过对二氧化硅粒子表面进行化学修饰，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。
14.如权利要求13所述的制造方法，其中，二氧化硅粒子的表面化学修饰是使用硅氧烷材料的疏水化表面化学处理。
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