200906695 九、發明說明： 發明領域 本發明係有關於一種用以吸著基板之基板吸著裝置、 5用以搬送吸著之基板之基板搬送裝置、及可一面搬送基板 一面觀察基板表面之外觀檢查裝置。 本發明係主張2007年6月11日提申之日本專利申請案 第2007-153922號之優先權，並援用該内容。 【先前技術3 10 發明背景 近年來，可多方面利用LCD(Liquid Crystal Display :液 晶顯示器）或PDP(Plasama Display Panel :電漿顯示器）等之 FPD(Flat Panel Display :平面面板顯示器）之母玻璃基板有 大型化之傾向，且製造該基板之製造裝置也趨大型化。PFD 15 用之母玻璃基板係經由複數次液浸之製造步驟，於基板表 面形成有多數畫素或驅動電路等。此種製造步驟之基板檢 查生產線中’係使用利用空氣使大型之玻璃基板浮起，並 吸著保持該玻璃基板之周邊部並加以搬送之基板搬送裝 置。 2〇 在吸著保持業經定位於基準位置之玻璃基板時，已知 的是使用由下側抵接於基板長面之吸著塾。然而，在製造 前為平坦之玻璃基板也會因經過成膜步驟或熱處理步驟而 產生扭曲或翹曲。例如，當金屬膜等形成於玻璃基板表面 時，會因為玻璃基板之熱膨脹率與金屬膜之熱膨脹率之不 200906695 同而產生應力，於玻璃基板產生扭曲或翹曲。此種扭曲或 翹曲會隨著玻璃基板大型化而容易發生，且其扭曲量或翹 曲量（翹曲角度)也會變大。因此，玻璃基板因為扭曲或翹曲 而變得難以吸著，會發生吸著錯誤。 為了防止此種吸著錯誤，習知之基板搬送裝置中，係 於各吸著墊上方一個一個設置按壓構件，並利用按壓構件 由上側按壓基板，將基板壓附吸著於吸著墊（參照如專利文 獻1)。 【專利文獻1】曰本專利公開公報特開2006-188313 10 如專利文獻1所示’沿著玻璃基板之一邊設有多數吸著 堅’並且利用複數按壓構件同時按壓有扭曲或翹曲之基板 且壓附於吸著墊時’會因為玻璃基板之撓曲條件而於玻璃 基板產生大的應力。例如，一開始吸著保持玻璃基板之兩 側時，在玻璃基板之中央部分會殘留撓曲。且在該狀態下 15使用按壓構件壓附玻璃基板之中央部分時，由於玻璃基板 之撓曲不會移動到外側，因此在玻璃基板會產生大的應力。 L發明内容3 發明概要 本發明係有鑑於上述情況而作成者，其目的在於控制 20施加於基板之應力，並可確實地吸著保持基板。可解決上 述課題之本發明之基板吸著裝置包含有：載置部，係用以 載置基板者；複數吸著部，係用以吸著保持載置於前述載 置部之基板者，及控制部，係控制前述複數吸著部可分別 在不同之時間點對進行真空吸著者，又，前述控制部進行 200906695 ㈣，俾以前述複數吸著部中可吸著接觸於基板之前述吸 著部為基點，在遠離該基點之方向上依序進行吸著。 該基板吸著敦置當複數之吸著部中，有無法吸著基板 者時’即使係無法科之吸著部，控制部也可控制使之可 ，著基板。此時，叫著之料為絲並朝遠離基點之 部分之方向’例如由中央往端部依料著基板，基板之翹 曲或扭曲之應力會移到基板端部。 10 口根據本發明，由於可往_基板吸著之部分之方向依 序及者基板，因此因基板之翹曲或㈣所造成之應力會移 到基板端部，可吸著㈣基板。即使結板_曲或扭曲 的情況也可確實地保持。 圖式簡單說明 第1圖係顯示本發明之實施型態中包含基板吸著裝置 之基板搬送裝置、外觀檢查裝置之構成之平面圖。 第2圖係由第1圖之A方向視看者。 第3圖係由第1圖之b方向視看者。 第4圖係顯示載置基板之狀態者。 第5圖係顯示由第4圖之C方向視看者。 第6圖係顯示吸引路徑之方塊圖。 第7圖係顯示利用壓附部將基板壓附於吸著墊者。 第8圖係例示壓附部之配置不同之構成者。 第9圖係具有使吸著部群旋轉之移動機構者。 第10圖係使移動機構驅動，將基板壓附於吸著墊者。 第11圖係顯示使用輥子作為壓附部之例者。 200906695 第12圖係第η圖之側面圖。 第13圖係顯示具有使吸著部升降之移動機構之例者。 第Η圖係顯示使用移動機構使吸著部上升後將吸著塾 壓附於基板者。 5 第15圖係顯示使用壓力感測器作為吸著確認部之例 者。 第16圖係顯示具有攝影裝置作為吸著確認部之例者。 第17圖係第16圖之側面圖。 10 【實施方式】 較佳實施例之詳細說明 參照圖示詳細說明用以實施本發明之最佳實施型態。 各實施型態中，相同構成要件則賦與相同標號。又，省略 重複之說明。 15 (第1實施型態） 第1圖及第2圖係顯示具有該實施型態之基板搬送裝置 之外觀檢查裝·置之構成。基板可使用各種基板，但以下係 使用FPD用之玻璃基板W。又，令玻璃基板W之上面（表面） 為形成有電路元件或配線圖案等之圖案之元件形成面 20 W1，令玻璃基板W之下面（裏面）為未形成圖案之非元件形 成面W2。 外觀檢查裝置1具有設置於地面之基底部2，並且用以 搬送基板之基板浮起檯3作為載置部固定於基底部2上。基 底部2之一端部側為用以搬出搬入玻璃基板之基板搬入搬 200906695 出空間4。基底部2之長向之大略中央設有具有用以進行玻 璃基板W之外觀檢查之觀察光學系統之檢查部5。又，基底 部2之一端部側設置有用以搬出搬入玻璃基板賈之基板搬 送機械人6。以下，令基板浮起檯3之長向、也就是搬送玻 5璃基板W之方向為X方向，令與搬送方向直交之寬度方向為 Y方向，令相對基板浮起檯3之上面為上下之方向（垂直方向） 為Z方向。 基板浮起檯3以預定之間隔含括全面配設有朝其上面 開口之複數空氣孔10。該基板浮起檯3連接於未圖示之空調 10等’且構成為使壓縮空氣由空氣孔10向上吐出。基板浮起 檯3之X方向的長度長達玻璃基板W2X方向之長度的2 倍。基板浮起檯3之Y方向之寬度較玻璃基板…之寬度(γ方 向之長度）短’而可吸著玻璃基板W之兩側。 基板搬出搬入空間4配設有複數起重銷20。起重銷2〇之 15前端部係呈朝上側凸起之球面形狀。此種起重銷20係由未 圖示之升降機構所支持，並且可相對於基板浮起檯3之上面 自由突起下沉。第1圖中’起重銷20在對應於玻璃基板|之 四角附近之位置、與對應於中央之位置設置共5處，但起重 銷20之數目及配置不受限於此。 2〇 又，沿著基底部2之X方向之兩側面分別有線性導引部 11舖設成與為玻璃基板W之搬送方向之X方向平行，且保持 移動部12係一個一個可在X方向上自由往返移動地設置於 各線性導引部11。該等一對之保持移動部12係受控制部41 驅動控制為可同步移動。 9 200906695 如第2圖及第3圖所示，保持移動部12具有可自由滑動 地安裝於線性導引部11之滑動部13。滑動部13内設有可使 為基板吸著裝置之保持移動部12沿著線性馬達等線性導引 1往返移動之機構。滑動部13之外側面安裝有可朝z方向 5移動之支持部14。吸著部群16A、16B、16C係隔著L型的板 金15固定於支持部14之上部。 如第1圖所示，各吸著部群16A〜16C係相對丨個保持移動 部12而每三個以預定之配置間隔配設於χ方向。具體而古， 係设置於玻璃基板评之乂方向之側緣部之兩隅附近及相备 10於中央之3處之位置。進而，3個吸著部18八、18B、a。係 在X方向上配列於各吸著部群16A〜16C。吸著部18八〜18C之 配置間隔在各吸著部群16A〜16C具有相同間隔。 如第4圖及第5圖放大所示，吸著部18A〜18c具有固定於 板金15之吸著部本體21，並且形成於吸著部本體幻之^面 15 °卩之圓形孔21A設置有吸著墊22,該吸著墊22可朝所有方向 傾斜且可朝_L下方向移動。吸著塾22係殘留上面之周逢成 -凹部之矩形吸著面22A’且於吸著面22A之中央形成有用 以吸引玻璃基板w之吸引孔23。吸引孔23貫通吸著= 内’且隔著設有由橡膠等彈性體所形成之伸縮狀之管心 引用管25而連接。吸著墊22之下部形成有插入於吸著部= 體21之孔21A内之中空圓柱體。該中空圓柱體之外側係呈作 出之曲面部22B，且曲面部22B之外徑與形成於吸著部本= 21之圓形孔21A之内徑大略相等。吸著墊22係由如工程塑膠 等不會傷害玻璃基板W且具有優異耐磨損性之樹脂所製 200906695 造。吸著塾22係由具有伸縮之管μ彈性地支持。吸著塾^ 由吸著墊22之曲面部22B、伸縮狀之管25及吸著部本體 之U構成傾斜機構。然而，亦可為除此之外之移動機構 或傾斜機構。當吸著肋密著且真空吸著於玻璃基板w之 下面時伸縮狀之g 25會因負壓而伸縮部分縮小，如第7圖 所示，吸著塾22之下面會下降到突出抵接於吸著部本體21 之位置。 如第2圖所*，保持移動部12之支持部14之外側面固定 有支持框架31。該支持框架31通過玻璃基板w之端面之更 1〇外側朝上方延伸。支持框架31之内側安裝有l形板金32，壓 附部33懸掛於此。壓附部33具有氣缸34，且可令桿部垂直 向下進退。桿部34A之下端安裝有為壓附構件之輔助塾〜 壓附部33係對各吸著料16A〜⑽各配置一各。各壓附部 33係在第3圖之左端吸著部群16A中，係'於靠近中央之最右 Μ側之吸著糊C上方配置_部33。巾央吸著部獅B中， 係於中央之吸著部18B上方配置壓附部33。右端之吸著部群 16C中’係於靠㉛中央之最左側之吸著部18八上方配置壓附 部33。 又，參照第6圖說明吸著部群16A、壓附部33之吸引路 徑。其他吸著部群_、16C與壓附部33也形成同樣的吸引 路徑。 如第6圖所*，_部33之氣缸34相著_而配管連 接於空氣壓縮機37。吸著部群16A之吸著部18A與壓力感測 器38A係隔著閥胤而配管連接於真空|等吸引源4〇。廢力 11 200906695 感測器38A係用以檢測吸著部18A之壓力之吸著確認部。該 輸出信號線連接於控制部41。同樣地，吸著部18B與吸著部 18C分別隔著為吸著確認部之壓力感測器38B、38C、及閥 39B、39C而配管連接於吸引源4〇。然後，該輸出信號線一 5同連接於控制部41。由控制部41輸出之信號係輸入至閥 36,39A〜39C、空氣壓縮機37、吸引源4〇。其他吸著部群 16B、16C也連接於與吸著部群16A共通之控制部41。 控制部41係負責控制第6圖所示之吸引路徑之控制、吸 板浮起檯3之控制、保持移動部12之控制、檢查部5之控制 10等外觀檢查裝置1之全體之控制。 檢查部5具有：固定於基底部2之側面且跨越保持移動 部12之軌道及基板浮起檯3之門型框架45、及可朝γ方向自 由移動地安裝於門型框架45之水平框架部之顯微鏡46。該 顯微鏡46係安裝有CCD(電荷結合元件）等之攝影元件47，且 15係取得玻璃基板W之表面之放大影像而進行外觀檢查者， 並且可於未圖示之螢幕顯示玻璃基板霄之元件形成面wi 之放大像。 其次，說明該實施型態之作用。保持移動部12預先於 基板搬出搬入空間4待機，板金15也下降待機，使各吸著部 20 ΜΑ〜18C之上面位於較基板浮起高度較下側。 在檢查玻璃基板W時，基板搬送機器人6將由其他步驟 搬出之玻璃基板W承接到搬送臂从上，且使搬送f6A移動 到外觀檢查裝置1之基板搬出搬入空間4之上方。在此，解 除搬送臂6A之玻璃基板W之吸著，且利用由基板搬出搬入 12 200906695 空間4上升之起重銷20將玻璃基板W由搬送臂6A上舉起。在 此狀態下，當使搬送臂6A退後時，玻璃基板w會交接到起 重銷20。在此，由於基板浮起檯3會由空氣孔1〇噴出空氣， 因此當起重銷20下降時，玻璃基板w會藉由空氣而略浮起 5 於基板浮起檯3上面之上方。
使玻璃基板浮起後，藉由壓附銷將玻璃基板w壓附於X 用基準銷與Y用基準銷，定位於浮起檯3之基準位置。在玻 璃基板w已定位之狀態下，使保持移動部12之支持部“上 升，將各吸著部群16A〜16C之各吸著部18由下側往上壓到 10可抵接於玻璃基板W之非元件形成面W2之侧緣部。控制部 41使空氣壓縮機37運轉，且驅動6個壓附部33。具體而古， 係打開連結於各氣缸34之閥36，並且將壓縮空氣供給至各 氣缸34，藉此各氣缸34之桿34A突出。該結果是，各壓附部 33之輔助墊35下降，由上側壓附玻璃基板评之側緣部。藉 15由該輔助墊35之推壓，玻璃基板W之側緣部壓附於吸著部 18之吸著墊22。 例如，第5圖係顯示輔助墊35在下降前之狀態。當端部 向上翻起之玻璃基板w搬入時，吸著部群16C中，相對於左 端之吸著部18A，其他2個吸著部18B、18C會一起由玻璃基 20板W浮起。此種情況下，如第7圖所示，驅動壓附部33，並 使辅助墊35降下。壓附部33壓附玻璃基板w使之密著於吸 著部18A之吸著墊22。控制部41在使吸引源4〇運轉之狀態 下，打開閥39A，且藉由吸著部18A吸著玻璃基板w。壓力 感測器38A檢測吸著部18A之壓力，輸出至控制部41。 13 200906695 當吸著部18A在密著於玻璃基板w之狀態下開始吸著 時，管25内會成負壓，並且吸著部18A之伸縮部分會縮回， 將吸著墊22拉下。該吸著墊22會突起抵接於吸著部21之上 面且停止，玻璃基板W係限制在預先浮起高度。相同吸著 5部群16C之吸著部188中可藉由靠近玻璃基板W之中央之吸 著部18A，將浮起到上方之玻璃基板w之側緣部拉回到下 方。吸著部18B因吸著墊22沿著被吸著部18A拉回到下方之 玻璃基板W之傾斜而傾斜，以密著於玻璃基板w,因此若 控制部41打開閥39B真空吸引吸著部18B之路徑，吸著部18 10 會吸著玻璃基板W。 藉吸著部18B吸著第2片玻璃基板w，玻璃基板W之側 緣部可面向隔壁之吸著部18C而下降。同樣地，當藉吸著部 18C之傾斜動作在密著於玻璃基板％之狀態下吸引時，可吸 著玻璃基板W。 15 也就是說，以在壓附部33—開始吸著之靠近中央之吸 著部18 A為基點，配置在漸漸遠離該基點之外側方向之吸著 部18B、18C會依序吸著於玻璃基板w。 中央之吸著部群18A〜18C中，當同樣驅動壓附部33時， 玻璃基板W會壓附密著於3個吸著部18A〜18C中位於中央 20之吸著部WB。因此，若打開與一開始被壓附部33壓附之吸 著部18B連結之閥39B，使之進行真空吸引的話，吸著部18B 會吸著玻璃基板W。藉此，藉由吸著部18B之吸著而浮起到 上方之玻璃基板W之側緣部會拉回到下方。位於該吸著部 18B兩側之吸著部18A及吸著部18C藉各吸著墊22沿著被吸 14 200906695 著部18B拉回到下方玻璃基板w之傾斜而傾斜，密著於與玻 璃基板W。中央吸著部18B之下一個係以其中一吸著部 18A、18C進行吸著，亦可以之後剩餘之吸著部18八、l8c 進行吸著。 5 左端之吸著部群16A中，當驅動壓附部33時，係使玻璃 基板W密著且吸著於靠近中央之右端的吸著部18c。然後， 與前述吸著部群16C同樣，朝外側依序使吸著部18B ' 18A 吸著玻璃基板W。 以吸著部群16A〜16C單位吸著玻璃基板w之順序可任 10意設定。然而，當第1個係以中央之吸著部群16B吸著玻璃 基板W，第2個係以兩端之吸著部群16A，16C吸著玻璃基板 W時’可由玻璃基板w之中央部朝外側矯正玻璃基板貨之翹 曲。此時，真空吸引各吸著部18A〜18C之順序是以第丨個為 吸著部群16B之吸著部18B、第2個為吸著部群16B之二個吸 15著部18A，18C、第3個為吸著部群16A之吸著部18C及吸著部 群16C之吸著部18A、第4個為吸著部群16A之吸著部18B及 v 吸著部群16C之吸著部18B、第5個為吸著部群16A之吸著部 18A及吸著部群16C之吸著部18C的方式吸著玻璃基板w。 如此，藉由由玻璃基板W之中央朝外側依序開始吸著，可 2〇 一面朝外側方向除去玻璃基板W之翹曲或撓曲，一面吸著 玻璃基板W。亦可以除此之外的順序吸著破璃基板w。 如此，使玻璃基板W吸著保持於吸著部18後，一對保持 部12朝向基底部2之他端部（搬送方向X)同步開始移動。控 制部41取得成為玻璃基板W上之觀察對象之缺陷或圖案之 15 200906695 座“寅料，並根據戎座標資料移動控制保持移動部12、顯 微鏡46，顯微鏡46之光軸與觀察對象位置對焦後，使用顯 微鏡46取得圖案之放大像，輸出到螢幕。取得預定之全部 觀察位置之放大像後，使各保持移動部12後退，玻璃基板 5 W返回基板搬出搬入空間4。然後，解除吸著部a之吸著， 在起重銷20抬起玻璃基板w後，利用基板搬送機器人6搬出 玻璃基板W。 根據該實施型態，由於由中央之吸著部群16B朝外側藉 由吸著部群16A、16C吸著玻璃基板W，因此即使在製造步 10驟中未預期到而玻璃基板產生扭曲或翹曲時，亦可確實地 吸著玻璃基板W。特別是，藉著由玻璃基板w之中央朝端 部階段性地吸著，可使玻璃基板w之扭曲或翹曲移到基板 端部’使玻璃基板W保持在更平面狀。又，亦可使應力不 會施加到玻璃基板W。 15 由於各吸著部群16A〜16C對應於一開始吸著玻璃基板 W之吸著部18A〜18C來設置壓附部33，因此可藉最初之吸 著部18A〜18C更確實地吸著玻璃基板w，可更容易製造下 一個其他之吸著部18A〜18C吸著玻璃基板W之機會。藉由 製造如此之機會，可以該處為基點而可更確實地吸著玻璃 2〇基板W。 由於吸著部18A〜18C具有傾斜機構及伸縮機構，因此可 配合玻璃基板W之翹曲而使吸著墊22傾斜。因此，可使吸 著墊22確實地密著於玻璃基板w，難以產生吸著錯誤。僅 設置傾斜機構之情況也可得到同樣的效果。 16 200906695 由於具有包含吸著部群16A〜16C之保持移動部12、及基 板浮起檯3之基板搬縣置、或於基紐料置設置檢查部 5之外觀檢查裝置卜不會發生吸著錯誤，可確實地搬運基 板W ’並且已經定位之玻璃基板不會偏移而可在確實吸著 5保持之狀態下進行檢查，因此可提升作業效率或檢查精確 度。 如第8圖所示，壓附部33亦可僅配置於各吸著部群 16A 16C之左知的吸著部“A之上方。又，雖然沒有圖示， 但亦可僅配置於右端之各吸著部18C之上方。亦可根據各吸 10著部群16A〜16C將壓附部33配置於不同之位置。在任一種 情況下皆可藉由壓附部33，使玻璃基板W吸著於配置於其 正下方之吸著部，並以此為機會，其他吸著部也可吸著玻 璃基板。吸著之順序控制部41以左端之吸著部群16A之左端 部為基點’使其朝向基板中央、右端部來進行控制。 15 (第2實施型態） 第9圖所示之吸著部群16C在搬送方向上配設有3個吸 著部18A〜18C，並且在搬送方向之中央部分設有移動機構 71。移動機構71具有：使吸著部群16C對板金15旋動之旋動 轴72、及未圖示之驅動機構。其他吸著部群16八，168也同樣 20 具有移動機構。 開始吸著玻璃基板W時，使用吸著確認部確認玻璃基板 W之吸著。吸著確認部可使用前述實施型態之任一者。有 無法吸著玻璃基板W之吸著部（第9圖之例中為吸著部18B 及吸著部18C)時，可吸著之吸著部18A維持原來之吸著狀 17 200906695 態，控制部41驅動移動機構71，使吸著部群16C繞著旋動軸 72旋動。如第10圖所示，無法吸著玻璃基板貨之吸著部 18B，18C與玻璃基板W之距離會縮短，而可吸著玻璃基板 W。藉此，以吸著部18A為基點，並於遠離該基點之方向上 5開始依序吸著。也就疋§兒，依吸著部18B '吸著部18C之順 序吸著玻璃基板W。 在吸著玻璃基板w後，再次使移動機構71驅動，並使 吸著部群16C為水平後搬送玻璃基板…。 當玻璃基板w朝右上翹曲時’以旋動軸72為中心使吸著 10部群16C朝逆時鐘方向旋動，以使吸著部群16C之各吸著部 18A、18B、18C之各吸著墊22之吸著面模仿玻璃基板％之 勉曲。一開始中央之吸著部18B吸著時，係使移動機構71 朝時鐘方向及逆時鐘方向旋轉且依序吸著。其他吸著部群 16A、16B也同樣吸著玻璃基板w。 15 控制部41在中央吸著部群16B吸著玻璃基板w，然後以 端部側之吸著部群16A、16C吸著玻璃基板w。藉控制由玻 璃基板W之中央朝外側依序吸著，可使玻璃基板…之輕曲 或扭曲逃到基板端部，使玻璃基板保持在更為平面狀。 該實施型態中，係藉於吸著部群16Α〜16C設置移動機構 20 71，使吸著部18A〜18C之位置機械式地移動，依序吸著保 持玻璃基板W，因此即使當玻璃基板w有翹曲或撓曲時亦 可確實地吸著。 在相同吸著部群16A〜16C内，亦可設置使各個吸著部 18A〜18C自由升降之移動機構。此時，複數之吸著部 18 200906695 18A〜18C進行升降控制及吸引控制，以由玻璃基板w之中 央朝端核序吸著破璃基板W。又，亦可將各吸著部群 16A〜16C之移動機構71作為往搬送方向之移動機構。 (第三實施型態） 5 帛11圖及第12圖所示之基板吸著裝置之保持移動部】2 之各吸著部群16A〜16C在搬送方向上具有3個吸著部 18A 18C又，吸著部群ι6Β之兩側上方配置有壓附部μ。 壓附部81係配置於接近中央吸著部18B之上方，且具有朝搬 运方向排列之-對輕子82。輥子82之旋轉軸83與搬送方向 10直父’且平行配置於水平方向。概子82之外周面係由具有 可壓附玻璃基板W但不會傷害基板表面之程度的硬度、及 而才磨損性之樹脂等製造而成。 輥子82可自由旋轉地支持於未圖示之支持部。支持部 設有未圖示之移動機構，且一對輥子82係如箭頭所示可 15由玻璃基板中央朝互相分離之外側方向、也就是一對輥子 82朝互逆方向移動。該一對輥子82設置成可由配置於中央 之吸著部群16B朝兩側之吸著部群16A、16C全部之吸著部 移動。又，亦可具有使一對輥子82由玻璃基板％之搬送路
徑退避到外側之移動機構。又，亦可具有可使—對輥子U 20朝全部之吸著部群16A〜16C上方移動之支持構件及移動機 構。 當吸著玻璃基板W時，在位於吸著部群16B之中央之吸 著部18B的兩側藉由一對輥子開始由上方壓附且吸引玻璃 基板W。與此同時，一對輥子82在玻璃基板w上轉動，移 19 200906695 動到玻璃基板w之兩端，然後將玻璃基板w壓附於吸著墊 12。 控制部41係在使一對輥子82下降後將玻璃基板w壓附 於中央之吸著部群16B之狀態下打開閥39A使之吸著。藉由 5壓附部81，一開始玻璃基板W之大略中間位置之吸著部18B 吸著玻璃基板W，位於以此為基點遠離之外側方向之2個吸 著部18A、18C接著吸著玻璃基板w。控制部41將一對輥子 82移動到端部側之吸著部群16A、16C，並且在各吸著部群 16A、16C中，以靠近中央之吸著點為基點，於外側方向依 10序將玻璃基板W壓附於吸著部，吸著玻璃基板w。 該實施型態中，玻璃基板W由中央階段性地完全地密 著、確實地吸著於吸著部18A〜18C。 由於報子82由玻璃基板w之中央朝端部移動，因此各吸 著部18A〜18C由中央依序吸著玻璃基板w。藉此，可使玻 15璃基板w之翹曲或扭曲移到基板端部，使玻璃基板w保持 為更平面狀。 (第4實施型態） 如第13圖所示，基板吸著裝置之保持移動和經由支 持部91而將板金I5安裝於滑動部η。支持部W構成為可使 2〇各吸著部群16Α〜16C在ζ方向上升降。亦可構成為依各吸著 部群可獨立升降，但亦可構成為各吸著部群16Α〜16C一體 升降。 當吸著玻璃基板w時，會吸引各吸著部18A〜18C之吸引 路徑，並且利用吸著確認部確認玻璃基板…。有未吸著之 20 200906695 吸著部18A〜18C時，吸著完成之吸著部18A〜18C在維持吸 著之狀態下使支持部91驅動，並使吸著部群16A〜16C上 升。如第14圖所示，由於吸著墊22壓附密著於向上翹曲之 玻璃基板W，在此狀態下若開始吸引則可吸著玻璃基板 5 W。控制部41 一開始使位於中央之吸著部群16B上升，然後 使各吸著部18A、18B、18C之吸著墊壓附吸著於玻璃基板 w之裏面。同樣地，控制吸著部群16A〜16C朝玻璃基板w之
搬送方向端部上升吸著。在確認全部之吸著部群16A〜16C 中之各吸著部18A〜18C之吸著後，支持部91返回到玻璃基 10板W為規定之浮起高度之位置。使支持部91上升到較玻璃 基板W之浮起高度更高之位置，使吸著塾22壓附於玻璃基 板W裏面，藉此可利用作用於玻璃基板|之反作用例，吸 著墊22¾、著於玻璃基板w。即，使各吸著部群16A〜i6C移 動到規定之浮起高度更上方，藉抬起玻璃基板w，各吸著 B部之吸著塾可確實地密著於玻璃基板w。#由位於玻璃基 板w之中央之吸著部群16B依外侧之吸著部群i6A、i6c依 序使支持部91上升，藉此玻璃基板w之扭曲或勉曲可跑到 基板端部，可令玻璃基板戰持為更平面狀。吸著玻璃基 板W後’在支持部以下降到玻璃基板之浮起高度位置後搬 20 送玻璃基板W。 在該實施型態中’藉由支持部91使„及著部群l6A〜i6c 升降，以-開始可吸著之處為基點朝遠離該基點之方向階 段性地吸著玻璃基板W，因此可礦實進行吸著保持。在初 期位置，即使是任-吸著部18A〜18C也無法吸著玻璃基板 21 200906695 w時’亦可吸著保持玻璃基板w。 (第5實施型態） 第15圖所示之基板吸著裝置之保持移動部^沿著與搬 送方向平行之玻璃基板W之一邊，將多數吸著部18A〜18N 5配列於搬送方向。例如，依由玻璃基板〜之搬送方向前側 之端部到搬送方向後側之端部之順序，如以吸著部18A、吸 著部18B、吸著部18C、吸著部18D、…吸著部18N的方式等 間隔配置。各吸著部18A〜18N之吸引路徑中，壓力感測器 38A〜38N係對應於各吸著部丨8A〜丨8N設置作為吸著確認 10部。第15圖中，吸著部係顯示4個，但4個以下之吸著部及 吸引路徑、吸著確認部與吸著部18A〜18D為相同構成。 吸著玻璃基板W時，打開各吸著部18A、18B、18C、 18D…之吸引路徑之閥39A、39B、39C、39D...，一起開始 吸引。控制部41確認各壓力感測器38A、38B、38C、38D... I5之值’選擇真空度敢南、或者一開始達到預定之真空度之 複數壓力感測器之其中之一，第15圖之例中係選擇壓力感 測器38。其次，僅打開選擇之壓力感測器38B之吸引路徑之 閥39B，關閉其他吸引路徑之閥39A、39C、39D...。結果， 僅有打開閥之吸引路徑之吸著部18B吸引玻璃基板W，並吸 20 著該部分之玻璃基板W。藉由吸著部18B之吸著而往上方翹 曲之玻璃基板W可藉由吸著部18B之吸著拉回到下方。其 次，第2個打開吸引中之吸著部18B之隔壁之吸著部18A、 18C之吸引路徑之閥39A、39C，吸著玻璃基板W。然後， 第3個打開吸著部18D之閥39D，吸著玻璃基板W。吸引中 22 200906695 之吸著部18B隔壁之吸著部18A、18C之吸著亦可非為同時。 在該實施型態中，先使多數之吸著部沿著玻璃基板w 配列，不預先訂定吸著玻璃基板W之順序，實際進行吸著 後’以最靠近可吸著玻璃基板W之中央之1處為基點，並於 5 遠離該基點之方向階段性地增加吸著支點，吸著玻璃基板 w，因此在玻璃基板w之任一位置有翹曲或撓曲時也可破 實地吸著。為開始吸著之基點之吸著部不限於丨個，亦可選 定連續且確認吸著之複數吸著部’以其兩側之吸著部為吸 著之開始基點。 10 本實施型態中，係以任一吸著部18A、18B、180 18D... 可吸著玻璃基板W為前提，但亦可將其他實施型態之吸著 併用為輔助之吸著輔助機構(例如輔助墊35或輥子82等）。此 時，控制部41使配置於玻璃基板W之中央吸著部之吸著輔 助機構作楝，吸著玻璃基板W。控制部41則進行控制，以 15該吸著部為開始基點，依序打開吸著部之閥，並且以一開 始依附之處為基點，在遠離該基點之方向上階段性地進行 吸著。可減少玻璃基板W之翹曲或扭曲之應力，並可將玻 璃基板W保持在更平面狀。 (第6實施型態） 20 如第16圖及第17圖所示，為基板吸著裝置之保持移動 部12設置攝影裝置61作為吸著確認部。攝影裝置61安装於 可藉未圖示之移動機構朝搬送方向水平移動之外觀檢查裝 置1。攝影裝置61之移動範圍係可拍攝各吸著部18A〜18N與 玻璃基板W之範圍。未圖示之移動機構可舉具有在搬送方 23 200906695 向上平行舖設之執道、及可在軌道上移動且搭載有攝影裝 置61之滑動部。在該實施型態中，吸著部亦可為由玻璃基 板W之搬送方向前側之端部到搬送方向後側之端部依序以 吸著部18A、吸著部18B、吸著部18C·.·、吸著部18N之順序 5 等間隔配置。攝影裝置61設有一個或複數個，可確認全部 之吸著部之吸著。 當吸著玻璃基板W時，各吸著部18A，18B,18C，…，18N開 始吸引，控制部41使攝影裝置61沿著搬送方向移動。各吸 著部18入，188，180：,...,18!^之玻璃基板^¥之吸著狀況由攝影 10 裝置61之影像判定。例如，藉由影像處理量測判斷 18A,18B,18C，...，18N與玻璃基板W之間的距離等。 控制部41決定吸著狀況最良好之吸著部（第17圖的情況 為吸著部18A)，並僅以該吸著部18A來吸著玻璃基板W。利 用攝影裝置61確認當場之玻璃基板W之吸著後，與前述實 15 施型態相同，以隔壁之吸著部18B開始玻璃基板W之吸著， 之後則緩緩移動吸著玻璃基板W之點。 該實施型態中，設置攝影裝置61作為吸著確認部，調 查實際進行吸著後最可吸著玻璃基板W之處，並以該處為 基點，使吸著支點在遠離基點之方向上階段性地移動並吸 20 著玻璃基板W，因此即使玻璃基板W有翹曲或撓曲時，也 可確實地吸著。作為開始吸著之基點之吸著部並不限定為 一個，亦可選定連續經確認吸著之複數吸著部，以構成該 群之兩側吸著部作為吸著開始之基點。 本實施型態中，係以任一吸著部18A,18B,18C,.·.可吸著 24 200906695 玻璃基板w為前提，但亦可併用可輔助其他實施型態之吸 著之吸著輔助機構(例如輔助墊35或輥子82等）。此時，控制 部41使配置於玻璃基板w之中央吸著部之吸著輔助機構作 動，吸著玻璃基板W。控制部41以該吸著部為開始基點， 5依序打開閥，以-開始吸著之處為基點後，進行控制在遠 離開°亥處之方向進行階段性的吸著。可減少玻璃基板W之 4曲或扭㈣成之應力，並可將朗基板W保持為更平面。 本發明係不限定於前述之各實施型態而可廣泛應用。 例如，亦可將各實施型態之壓附構件或吸著確認部、 10移動機構之任一者來組合。 ，亦可為僅吸著坡璃基板之裝置亦可為進行吸著及搬 这之裝置。亦可為進行吸著與檢查之裝置。 保持移動部12亦可在沿著基底部之X方向之-側面舖 設線性導引部11在X方向上自由往返移動。 15【圖式簡I說明】 第1圖係顯示本發明之實施型態中包含基板吸著裝置 之基板搬送裝置、外觀檢查裝置之構成之平面圖。 第2圖係由第1圖之A方向視看者。 第3圖係由第1圖之B方向視看者。 2〇 f 4圖係顯示栽置基板之狀態者。 弟5圖係顯示由第4圖之C方向視看者。 第6圖係顯示吸引路禋之方塊圖。 f圖係顯不利用壓附部將基板壓附於吸著墊者。 第8圖係例7F壓附部之配置不同之構成者。 25 200906695 第9圖係具有使吸著部群旋轉之移動機構者。 第10圖係使移動機構驅動，將基板壓附於吸著塾者。 第11圖係顯示使用輥子作為壓附部之例者。 第12圖係第11圖之側面圖。 第13圖係顯示具有使吸著部升降之移動機構之例者。 第U圖係顯示使用移動機構使吸著部上 壓附於基板者。 第15圖係顯示使用壓力感測器作為吸著_認部 者。 第16圖係顯示具有攝影裝置作為吸著確認部之例者。 第17圖係第16圖之側面圖。 【主要元件符號說明】 1.麵勤反 10···空氣孔 W1…元件形成面 11...線性導引部 W2_._非元件形成面 12…保持移動部 1…外觀檢查裝置 13...滑動部 2…基底部 14".支持部 3…級浮起檯 15…板金 4…基板搬出搬入空間 16A，16B，16C.·.吸著部群 5...檢查部 18A，18B，18018N...吸著部 6··.基板搬送機器人 20...起重銷 6A…搬送臂 21...吸著部本體 26 200906695 21A...圓形孔 22.. .吸著墊 22Α...矩形吸著面 22Β...曲面部 23.. .吸引孔 25.•.管 31…支持框 32…板金 33.. .壓附部 34·.·氣缸 34Α...桿 35.. .輔助墊 36_ · ·閥 37.. .空氣壓縮機 38Α, 38Β, 38C〜38Ν...壓力感測 器 39A,39B,39C,39D...閥 40.. .吸引源 41.. .控制部 45.. .門型框 46.. ·顯微鏡 47.. .攝影元件 61.. .攝影裝置 71.. .移動機構 72.. .旋動轴 81.. .壓附部 82…輥子 91.. .支持部 27