TW200905950A - Interlocking structure for high temperature electrochemical device and method for making the same - Google Patents

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TW200905950A
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Michael C Tucker
Grace Y Lau
Craig P Jacobson
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Univ California
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Description

200905950 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明槪括地關於固態電化學裝置之領域。特別地, 本發明關於適用於高溫電化學系統,例如,固態氧化物燃 料電池、電解槽與氧生成器,之結構與相關製造技術。 本發明接受美國能源部的政府支助案Grant (Contract) No· DE-AC02-05CH11231。所以美國政府擁有本發明某些 權益。 【先前技術】 習知固態電化學應用所用的陶瓷材料之製造昂貴、難 以維護(因其脆性)且具有固有的高電阻。該電阻可藉由 高溫操作裝置而降低,典型爲超過900 °C。但是,此等高 溫操作對裝置的維護與倂入裝置可用材料(特別是,例 如,氧電極的氧化環境中)有顯著缺點。 固態電化學電池的製造與操作爲公知。例如,典型固 態氧化物燃料電池(S Ο F C )係由下列所成:陶瓷氧離子 導體的緻密電解質膜,與電池燃料側上的電解質膜接觸的 多孔陽極層(典型由陶瓷-金屬複合物(“瓷金 (cermet ) ”)所成),以及電池氧化劑側上的混合離子/ 電子-傳導性的(MIEC )金屬氧化物之多孔陰極層。電力 由燃料(典型爲重組烴類製得的)與氧化劑(典型爲空氣 中的氧)間的電化學反應產生。 傳統地,許多固態電化學裝置,例如,固態氧化物燃 -5- 200905950 料電池(SOFC )結構’完全由陶瓷與瓷金材料製成。@ 些傳統構成的固態電化學裝置中的陶瓷與瓷金材料同時作 爲燃料電池中的活性材料以及結構撐體。在這此 1寻 $允 SOFC中’結構中的相鄰層以化學結合、燒結或擴散結合 來連結。 【發明內容】 本發明提出層狀結構與相關製造方法(爲製造高操作 溫度電化學電池的基礎)。各種具體例中,該結構包?舌含 離子導體之多孔陶瓷層以及多孔金屬撐體或電流收集層。 這些特定層以機械聯鎖結合,該機械聯鎖由各層的互相穿 插及/或金屬表面的糙度而達成。多孔層可被觸媒材料滲 入以製造功能性電化學電極。觸媒材料可於製造該結構所 需的高溫燃燒步驟完成之後再引入結構中。此舉使得吾人 可以使用更大範圍的觸媒材料,例如,於高溫會與陶瓷間 層、金屬或電解質材料反應者;於高溫還原氛圍中不安定 者;或者具有的熱膨脹係數與結構中其他材料不匹配者。 使用多孔金屬層作爲結構撐體或電流收集體造成陶瓷 /瓷金的使用限於薄的活性層。因此達到顯著的成本降低 與電池耐用性的改良。但是’通常不預期金屬層與相鄰陶 瓷層間的燒結或化學結合。本發明提出的金屬層與相鄰層 間之機械聯鎖,使得強固的介面得以達成。 各種具體例中,本發明結構具有許多有利特徵。至少 一層爲金屬的(以肥粒鐵不鏽鋼較佳);賦予此結構強 -6- 200905950 度、結構耐用性、平穩破壞性與低成本。機械聯鎖連結金 屬層與相鄰層間至少一介面;此爲維持這些層結合的關 鍵。各層間互相穿插與金屬粒子的糙度提供機械聯鎖,其 爲沒有這些層之化學交互作用或壓縮力時的唯一結合基 礎。此結構可供平面狀或管狀電池幾何形應用。 於一面向中,提出一種電化學裝置結構。此結構含多 孔金屬層與陶瓷層,其中該陶瓷層與該多孔金屬層藉互相 穿插而機械地聯鎖。 一具體例中,多孔金屬層、相鄰電極間層與電解質被 共燒結。此爲低成本製法’並確保這些層間的良好機械聯 鎖’因爲這些層於燒結時一起收縮。可以將這些層的一些 或全部共燒結而製造完整的電化學裝置。但是僅共燒結這 三層通常爲較佳,因爲在施加其他電極層之前提供了檢視 電解質層的機會。 一相關具體例中,多孔金屬層與電解質層共燒結而無 中間電極層。此例中’電解質層與多孔金屬層聯鎖。 另一具體例中’多孔金屬層藉聯鎖與相鄰電極間層結 合而無共燒結或伴隨之收縮。此狀況發生在將金屬層與相 鄰多孔電極層燃燒至先前已燒結結構上,且稱爲約束 (constrained )燒結 ° 亦提出相關製造技術。 本發明這些與其他面向及優點於下述詳細說明,並參 考圖式,更加詳盡說明與例示。 200905950 【實施方式】 現將參考本發明特定具體例來詳盡說明。特定具體例 以所附圖式例示。本發明將配合這些特定具體例來說明, 但應了解本發明不想要限定於這些特定具體例。相反地, 本發明意欲涵蓋在所附申請專利範圍定義之本發明神與範 疇內可包括的變化、改良與均等物。在下述說明中,列出 許多特定細節以提供對本發明的充分了解。本發明可不在 一些或全部這些特定細節下實施。在其他例子中,未詳細 說明公知的製程操作、結構或組態以免不必要地混淆了本 發明。 簡介 如上所述,在傳統的SOFC與其他高溫電化學裝置的 結構中,相鄰陶瓷與瓷金層以化學結合、燒結或擴散結合 而連結。使用多孔金屬層作爲結構撐體或電流收集體,使 得陶瓷/瓷金的使用限制爲薄的活性層。達成顯著的成本 降低與電池耐用性的改良。但是,通常不預期金屬層與相 鄰陶瓷層燒結或化學結合。本發明提出金屬層與相鄰層的 機械聯鎖,使強固的介面得以達成。 於一面向中,提出一種電化學裝置結構。此結構含多 孔金屬層與陶瓷層,其中該陶瓷層與該多孔金屬層藉互相 穿插而機械地聯鎖。 一具體例中,多孔金屬層、相鄰電極間層與電解質被 共燒結。此爲低成本製法,並確保這些層間的良好機械聯 -8 - 200905950 鎖,因爲這些層於燒結時一起收縮。可以將這些層的一些 或全部共燒結。但是僅共燒結這三層通常爲較佳,因爲在 施加其他電極層之前提供了檢視電解質層的機會。 一相關具體例中,多孔金屬層與電解質層共燒結而無 中間電極層。此例中,電解質層與多孔金屬層聯鎖。 另一具體例中,多孔金屬層藉聯鎖與相鄰電極間層結 合而無共燒結或伴隨之收縮。此狀況發生在將金屬層與相 鄰多孔電極層燃燒至先前已燒結結構上,且稱爲約束燒 結。 各種具體例中,本發明結構具有許多有利特徵。至少 一層爲金屬的(以肥粒鐵不鏽鋼較佳);賦予此結構強 度、結構耐用性、平穩破壞性與低成本。機械聯鎖連結金 屬層與相鄰層間至少一介面;此爲維持這些層結合的關 鍵。各層間互相穿插與金屬粒子的糙度提供機械聯鎖,其 爲沒有這些層化學交互作用或壓縮力時的唯一結合基礎。 此結構可供平面狀或管狀電池幾何形應用。 機械聯鎖 本發明提出一電化學裝置,包括多孔金屬層與陶瓷 層,其中該陶瓷層與該多孔金屬層藉互相穿插而機械地聯 鎖。互相穿插層於過渡介面共同擴張,使得金屬與陶瓷層 機械地接合。此可由施加生还(green)陶瓷層至多孔金 屬層並使其進入金屬層表面的孔而達到。後續燒結時,互 相穿插的陶瓷與金屬成爲機械地聯鎖,所以達到強固的介 -9- 200905950 面。 若各層的單層或二層內無破壞使分層作用不發生,則 達到成功的機械聯鎖。機械地聯鎖層藉由過渡介面互相充 分結合’該結合可以忍受高溫電化學裝置常遇到的力與狀 況。有許多方式可以達到聯鎖互相穿插。在一些例子中, 陶瓷互相穿插入金屬的程度超過多孔金屬層的金屬粒子表 面層之中點。在其他例子中’金屬層表面上的金屬粒子表 面糙度可以用來達到機械聯鎖。粗糙表面可具有,例如, 至少一紋理質地、凹坑、凸起與非球形。在一些例子中, 若二機制偕同發生可以改善強度。一特定具體例中,多孔 金屬層低於60%緻密。 圖1 A槪要顯示包括機械地聯鎖層丨〇 2的本發明結構 100。多孔i屬撐體104與陶瓷電極1Q6層於過渡介面 聯鎖以提供層的機械結合並利於電子及/或離子從一層傳 輸到下一層。此結構可另含其他層,例如,相鄰於多孔陶 瓷層106的緻密陶瓷層107。於平滑金屬粒子的例子中, 互相穿插可能僅小程度地發生而沒有提供良好的機械結 合。因此,陶瓷106互相穿插入金屬104的程度超過多孔 金屬層104的金屬粒子105表面層之中點(例如,超過球 形金屬粒子的赤道)’形成避免層拉開分離的結實機械聯 鎖。 可能必須將黏合劑’孔形成劑,增塑劑等自金屬層移 除以使充分的互相穿插發生。典型地,多孔金屬將由孔形 成劑(典型爲可萃出聚合物或顆粒狀材料,例如,NaCl -10- 200905950 或 KCl) 到本發明 金屬表面 要於生坯 要完全移 劑而允許 劑可倂入 (藉由短 另一 屬粒子1 鎖並形成 如,相鄰 子1 15的 械結合。 合意的。 等級應與 些合意的 坑;金屬 形,樹突 適於 刻;析出 屬粒子或 面附近使 造成凸起 留存於金屬孔中的方法來形成。此例中,爲了達 所需互相穿插,通常必須從欲與陶瓷形成介面的 層之孔中的至少一部分將孔形成劑材料移除。只 金屬層產生一些孔度使相鄰層互相穿插,並不需 除這些添加劑。可以只移除金屬層表面上的添加 有限度且控制地互相穿插。例如,可溶性孔形成 整個金屬層而只移除金屬層表面上的孔形成劑 時間的浸入或浸泡於溶劑中)。 具體例中’如圖1B顯示,金屬層114表面上金 1 5的表面糙度可用來達到與陶瓷層丨丨6的機械聯 本發明結構1 1 0。結構1 1 0可另含其他層,例 於多孔陶瓷層1 1 6的緻密陶瓷層1 1 7。若金屬粒 丨表面爲粗糙,較少的互相穿插即可達到適當的機 此狀況爲基於包括需要薄的電極層等眾多理由爲 可用各種類型的表面糙度,雖然一般說來糖度的 粒子尺寸或互相穿插層特徵尺寸相當或較大。一 表面糙度具體類型有:金屬表面的紋理質地或凹 表面凸起;非球形金屬粒子(例如,橢圓形,環 狀,纖維狀,片狀,星狀等)。 產生金屬表面的糙度之方法含,但不限於,蝕 /結晶;令小的金屬或金屬氧化物粒子與一級金 電極層混合或將小金屬粒子層施加到互相穿插介 得金屬粒子於燒結時與一級金屬粒子表面結合而 ;或者,將金屬氧化物粒子置於互相穿插介面附 -11 - 200905950 近使得金屬氧化物粒子於還原氛圍燒結時轉化成金屬粒 子’進而於燒結時與一級金屬粒子表面結合而造成凸起。 金屬粒子型態的選擇顯著影響金屬層與相鄰層間強固的介 面所需互相穿插的程度。市售金屬粉末爲氣體霧化法製成 的球形以及水霧化法製成的粗糙形。水霧化粉末的粗糙表 面對提供本發明機械聯鎖爲十分理想的。 本發明具有機械地聯鎖的陶瓷與多孔金屬層之電化學 裝置可有許多組態,例如,含隨意的額外層。各種具體例 顯示於圖2 A - Η中。各例中,圖中的*號表示機械地聯鎖的 金屬與陶瓷層之主要的互相穿插介面。在所示與相關結構 中亦可存在其他互相穿插介面。在所有例子中,此裝置結 構可爲平面狀或管狀。 圖2Α顯示二層裝置結構2〇1,其爲了緻密陶瓷電解 質204而具有多孔金屬撐體2〇2。此組態對下述電化學裝 置爲有用的’該電化學裝置中以金屬撐體作爲觸媒或在觸 媒滲入後適度的三相晶界爲可接受的。一特定具體例中, 陶瓷可爲YSZ與金屬肥粒鐵不鏽鋼。 另些具體例中’更爲電化學電池廣泛所用者,與多孔 金屬層聯鎖的陶瓷層亦可爲多孔。此種層組態可以有利地 與額外層合倂形成多層電池或電池組件結構。圖2Β顯示 適合做爲固態氧化物燃料電池組件的電化學裝置結構之多 層組態。與多孔金屬層2丨2聯鎖的陶瓷層2丨6爲多孔。額 外緻检陶瓷層2 1 4與多孔陶瓷層2丨6相鄰。多孔陶瓷層 216與敏密陶瓷層214可具有相同或具有不同陶瓷組成。 -12- 200905950 任一本發明結構中,多孔陶瓷層(例如,2 1 6 , 2 5 6 等)可爲離子傳導性的。其亦可包括電子性導體或混合離 子性-電子性導體(MIEC )。一特定具體例中,多孔與緻 密層二者的陶瓷可爲YSZ與金屬肥粒鐵不鏽鋼。 各種具體例中,將觸媒加至多孔陶瓷及/或緻密陶瓷 表面以提供或增強電化學功能。爲了避免於燒結時因高熱 不利地衝擊一般爲溫度敏感性的觸媒,通常於高溫燒結後 進行滲入,例如,共同申請的PCT/US2006/015196 (倂入 本案參考)教導的滲入。觸媒組成的選擇可決定裝置功 能,例如,做爲氧生成器、電解槽、燃料電池等。觸媒亦 可呈各種方式配置於多孔陶瓷層中。例如,管狀裝置可於 內側具有陽極,於外側具有陰極,或者陽極在外側而陰極 在內側。同樣地,平面狀裝置可於撐體側具有陽極,於電 流收集體側具有陰極,或者陽極在電流收集體側而陰極在 撐體側。 可使用許多種有用的觸媒。燃料電池用的觸媒,例 如,通常包括過渡金屬或鑭系元素。燃料電池陽極觸媒較 佳含Ni、Co、Ru與Ce02。較佳陰極觸媒通常含鑭系元素 與過渡金屬,選自Co、Fe、Ni與Μη。特定有用的組成包 括 La 卜 xSrxMny03.5 ( 1>X>〇.05 ) ( 0.95<j<1.15 ) (L S Μ ) ’ Lai.xSrxCo03.s ( 1 >_x >L〇 · 1 ) ’ SrC〇i-xFex〇3-5 (0.3>x>0.2 ) > La,.xSrxCo,.yFey〇3.6 ( l>x>〇) ( l>y>〇 ) (LSCF ) ,LauxSrxCo^yMnyOa-a ( l>x>〇 ) ( l>y>〇 ) (LSCM ) > LaNi,.xFex03.g ( l>x>〇 ) ( LNF ), 200905950 ,Sm〇.5Sr〇.5C〇〇3-6 La〇.8Sr〇2Mn〇3-s ΡΓ2.χΝίι + χ〇4-δ ( 〇>_x>_l ) ( PNO )
LaNi03-6 , LaNi〇.6Fe〇.4〇3_5 ,
La〇.65Sr〇.35Mn03.6
La045Sr〇.55Mn〇3-s
La0.6Sr〇.4C〇〇.6Fec).4〇3.s,La。6Sr〇 4C〇。2:pe。8〇3_s,其組 合,以及化學計量些微變化或有額外摻雜劑的類似組成。 現在參考圖2C’顯示一裝置結構具有除了圖2B所述 各層外’還具有與緻密陶瓷層214相鄰之第二多孔陶瓷層 227。圖2D顯示具有與第二多孔陶瓷層227相鄰之第二多 孔金屬層2 3 8的裝置結構。 圖2 D結構可以於固態氧化物燃料電池中使用。參考 圖3進一步詳細例示說明此應用。圖3顯示一具有多層結 構的本發明具體例,其中機械聯鎖連結多孔金屬撐體3 1 2 與多孔電極1層3 1 6。機械聯鎖於金屬電流收集體3 3 8/電 極2 327介面亦爲可能。各層的重要特徵說明如下: 1_金屬撐體312可爲約50-1000μιη厚,50-70%緻密, 且爲電子傳導性的。此層提供電池結構基礎並做爲電極i 的電流收集體。 2_電極1 316可爲約1〇-1〇〇μιη厚,40-60%緻密,爲 離子傳導性的,可爲電子傳導性的,且較佳包括與電解質 相同的基礎陶瓷材料。此層提供結構基礎與電極1的離子 傳導途徑。電極1可爲滲入觸媒粒子或觸媒先質而完成者 或改良。此過程發生於整個結構燒結後,且可如共同申請 的PCT/US2〇06/01 5 I96所述完成。電極1的孔結構應滿足 下列條件之一:(a )高表面積以支持較大反應速率; -14- 200905950 (b )足夠大的孔以利滲入觸媒以及操作電池時迅速的氣 體擴散。此可藉由具有小的一級孔尺寸(例如,低於 Ιμηι)且較大孔分布於整層內而達成。較大孔可藉由使用 揮發性、逸失性或可萃出性孔形成劑。 3. 電解質314可爲約5-50μιη厚,大於95%緻密,爲 離子傳導性的且爲電子絕緣性。此層分隔接觸電極1 3 i 6 與電極2 3〗7的氣體。其亦提供電極間離子電流的通道。 4. 電極2 327具有與電極1 316相同的特徵與功能, 且可由與電解質或電極1相同或不同的材料製成。 5·金屬電流收集體338可爲約50-1000μιη厚,50-70% 緻密’且爲電子傳導性的。此層做爲電極2 3 2 7的電流收 集體。其可比金屬撐體312薄,因爲不必提供電池結構支 撐。此層3 3 8可爲多孔體,穿孔片,線,篩網等。若電極 2 3 27具有足夠電子傳導性的時候,可以不需要金屬電流 收集體3 3 8。 通常,電極316、327與電解質314間的二介面預期 爲堅強的’因爲高溫燃燒時的化學、燒結或擴散結合。相 反地,至少一金屬/電極3丨2 / 3 1 6,3 3 8 / 3 2 7介面必須互相 穿插以提供薄電極/電解質層與較厚且強的金屬層之間的 強固結合。 本發明提供於上述各層間插入額外層的可能性。例 如’可於層間插入障壁層以避免交互擴散或化學反應。 本發明電化學裝置結構一特定具體例中,用於製造上 述各層的材料如下:丨·多孔Fe-Cr系肥粒鐵不鏽鋼;2.多 -15- 200905950 孔Y S Z ; 3 ·緻密γ s z ; 4多孔γ s z ; 5 ·多孔F e -c r系肥粒 鐵不鏽鋼。燒結後,將觸媒滲入多孔γ S Z層(例如’陰極 以L S Μ滲入,陽極以N丨滲入)。 本發明電化學裝置結構第二特定具體例中,用於製造 各層的材料如下:多孔Fe-Cr系肥粒鐵不鏽鋼;2_多孔 YSZ; 3.緻密Ysz; 4.多孔Ni-YSZ; 5.多孔Fe-Cr系肥粒 鐵不鏽鋼(隨意的)。燒結後,將觸媒滲入多孔YSZ層 (例如’ LSM)。亦可將觸媒滲入多孔Ni-YSZ層(例 如’ Ni,RU,摻雜氧化姉等)以提高效能。層5的多孔金 屬亦可爲Ni,NiCr等,且若Ni-YSZ層的面內傳導性夠高 到足以達成有效電流收集時則不必用到。 第三具體例與第二具體例不同處僅在於將Ni-YSZ層 換成另種陽極組成。 電化學裝置結構,例如,上述者,可以做成平面狀或 管狀幾何形,如下實施例所詳述者。 許多其他本發明電化學裝置結構亦可預期。參考圖 2E ’ 一裝置結構顯示具有與多孔金屬(例如,FeCr )層 242聯鎖的多孔陶瓷層246。多孔瓷金(例如,Ni-YSZ) 層245與多孔陶瓷層246相鄰。緻密陶瓷(例如,YSZ) 層244與多孔瓷金層245相鄰。此組態中,多孔陶瓷層 246避免瓷金(例如’ Ni)與多孔金屬層242的金屬組成 分間的交互擴散。 圖2 F - Η例示倂有瓷金陽極的電池裝置結構,例如, 可用於固態氧化物燃料電池’電解槽、或電化學流動反應 -16- 200905950 器。圖2F的結構具有與多孔金屬(例如,FeCr ) 聯鎖的多孔陶瓷(例如’ Ysz )層256。緻密陶 如,YSZ)層254與多孔陶瓷層256相鄰。多孔瓷 如,Ni-YSZ)層257與緻密陶瓷層254相鄰。此組 多孔陶瓷層2 5 6可作爲固態氧化物燃料電池或電解 極,瓷金層可作爲陽極,且緻密陶瓷層254作爲電 參考圖2G,其中瓷金層257的面內傳導性不足以 效電流收集,可提供隨意的金屬電流收集體25 8, 多孔金屬層,例如,上述其他具體例中所述者,與 2 5 7相鄰。此例中,參考圖2H,可隨意的使用電子 的糊259以幫助瓷金電極257與電流收集體258間 傳輸。 製造方法 本發明亦提出製造電化學裝置結構的方法。此 及:提供多孔金屬層;施加生坯陶瓷層至該多孔金 以及燒結前述層;其中該陶瓷層與該多孔金屬層藉 屬與陶瓷互相穿插而機械地聯鎖。陶瓷層燒結後可 或多孔。燒結前可施加另一於燒結時會緻密的陶瓷 多孔陶瓷層相鄰。所提供的多孔金屬層可爲生坯或 進而將此三層共燒結。或者,於所施加陶瓷層燒結 將所提供的多孔金屬層燒結。 製造本發明電化學裝置結構的特定具體例細節 與下文所述。應注意下述方法僅爲製造所需結構的 層 252 瓷(例 金(例 態中, 槽的陰 解質。 達到有 例如, 瓷金層 傳導性 的電子 方法涉 屬層; 多孔金 爲緻密 層而與 素燒, 之前可 如圖4 一般步 -17- 200905950 驟大綱。若想改善結構的製造性可以調換各步驟,取消步 驟,或合倂步驟。 製造結構的加工流程之槪要表示示於圖4,以操作代 號4 0 1 -4 1 1表之。各操作的詳細說明如下: 於操作401中,生坯金屬撐體通常由金屬粉末與黏合 劑與孔形成劑混合而製造。孔形成劑係用於提供低生坯密 度,其於操作40 8中爲燒結後維持高孔度同時仍提供高收 縮以配合電解質層的燒結的重要因素。生坯體可由傳統的 粉末成型技術來形成’例如’擠出,薄帶澆鑄(tape casting ),網版印刷,均力沖壓,碾壓,旋轉成型,模 壓,射出成型等,如同此技藝所公知的。 於操作402中’黏合劑或孔形成劑於還原氛圍中不完 全揮發的.則在操作4 0 3之前移除。可利用溶劑萃取、空氣 中燒盡、昇華等進行移除。若黏合劑與孔形成劑可於還原 氛圍中加熱移除(即,丙烯酸系,PMMA等),則不需操 作402。至少部分移除黏合劑及/或孔形成劑是達到金屬撐 體與電極層的互相穿插所需的。 於操作4〇3中’金屬撐體於還原氛圍中素燒以產生處 置(handling )強度。素燒時發生的任何收縮會降低共燒 結(操作40 8 )時可配合電解質總收縮的收縮量。較高溫 度導致較高強度與較高素燒收縮。選擇素燒溫度以平衡這 些因素。 於操作404中’施加電極1間層先質。電極1間層先 質包括離子傳導性間層材料,黏合劑,與孔形成劑(若需 -18- 200905950 提高電極1的最終孔度)。先質亦可包括賦予電極丨間層 導電性、混合傳導性或催化性(觸媒)的材料。間層先質 可利用浸塗、氣溶膠噴灑、網版印刷、毛刷塗裝、澆鑄薄 帶疊層,或其他熟習此技藝者已知技術來施加。間層與金 屬撐體必須互相穿插以達到本發明於共燒結後的層間機械 聯鎖。此操作404亦可於操作403之前進行。該例中,施 加間層先質之前應將金屬撐體孔形成劑部分地或完全地移 除,使得間層與金屬撐體互相穿插以改善結合。 於操作4〇5中,進行素燒將黏合劑與孔形成劑由間層 移除以產生處置強度。還原氛圍係用來避免金屬撐體於燃 燒操作時氧化。若黏合劑或孔形成劑無法於還原氛圍移 除’在素燒前就必須利用空氣中燒盡或溶劑萃取等來移 除。選擇的燃燒溫度要夠高以增進間層的處置強度,但又 要夠低以使金屬撐體燒結量最少;要保留最多可能的收縮 以配合共燒結時(操作4 0 8 )電解質層的收縮。 於操作4 0 6中,電解質係以氣溶膠噴灑,毛刷塗裝, 浸塗,網版印刷’薄帶澆鑄層疊層,轉印或其他熟習此技 藝者已知技術來施加。電解質與間層1間的一些互相穿插 爲想要的以避免後續處置時生坯電解質的剝離,並且促進 共燃燒時的良好結合。氣溶膠噴灑沈積的例子中,於結構 的金屬撐體側施加真空大大地幫助了互相穿插,因此將生 坯電解質些微地拉入(drawing )間層1中。 於隨意的操作4 0 7中’可將電解質層壓實以使其緻密 化並提高生坯強度’如共同申請的US2003/0021900A1所 -19- 200905950 述。壓實的生坯電解質之增強耐用性有助於消除與金屬撐 體共燒結時的裂痕生成。提高的生坯密度亦降低達到完全 密度所需的總收縮。均力沖壓(將壓力提供至金屬撐體側 與電解質側)爲壓實的一個簡易方法。其他方法(例如, 壓延法)亦爲可能。壓力應夠高以達到生坯電解質的壓 實,但又不會很損壞金屬撐體或間層1結構。若電解質與 金屬撐體的收縮很相當,就不需壓實。但是壓實允許較大 範圍的金屬撐體燒結特性,提供選擇撐體合金與粒子型態 的較大彈性。自立式(free-standing )電解質膜的例子 中,例如可做爲轉印或澆鑄薄帶者,該電解質膜於操作 4 0 6的施加前可隨意的壓實。 於操作40 8中,首三層於還原氛圍中共燒結。參考操 作4 02的上述說明,若生坯電解質黏合劑於還原氛圍中不 揮發,共燒結前可進行空氣中燒盡,溶劑萃取等將黏合劑 移除。此結構可共燒結至足以確保電解質完全緻密化的高 溫度。此結構亦可於較低溫度共燒結而於下述操作4 1 1中 完全緻密化。此時,結構於操作4 1 1時發生一些收縮,改 善電極2間層的結合與電子性與離子性傳輸性質。 可在將電解質以後續層覆蓋之前完成電解質層的品 管。若不需電解質層的目測品管,可於共燒結前隨意的施 加後續層。 於操作409中,施加電極2間層先質。電極2間層先 質包括離子傳導性間層材料,黏合劑,與孔形成劑(若需 提高電極2的最終孔度)。先質亦可包括賦予電極2間層 -20- 200905950 導電性、混合傳導性或催化性(觸媒)的材料。間層先質 可利用浸塗、氣溶膠噴灑、網版印刷或其他熟習此技藝者 已知技術來施加。 於操作4 1 0中,隨意的金屬電流收集體以金屬粉末 (亦可包括黏合劑與孔形成劑)的糊,薄帶,沖壓或模製 體等形式施加。若黏合劑與孔形成劑於還原氛圍中不揮 發,需要的話可將其移除。或者在線、篩網、氈等電流收 集體的例子中,電流收集體可於操作4 1 1之後施加。 於操作4 1 1中,結構於還原氛圍中燒結。 結構完成後,可以進行另外的加工,例如,將觸媒材 料滲入電極中或塗覆多孔金屬層,如上所述。 實施例 下述實施例提供本發明具有陶瓷與多孔金屬層的電化 學裝置(該陶瓷與多孔金屬層藉互相穿插而機械地聯鎖) 的實施與優點等細節。應了解下述僅爲代表性,本發明不 限於這些實施例所示細節。 如何利用上述方法製造具有機械聯鎖的層狀結構之具 體實施例如下略述。並提供各加工步驟的細節。 實例1 -包括多孔金屬/多孔YSZ/緻密YSZ/多孔YSZ/多孔 金屬之管狀結構 1.水霧化肥粒鐵鋼粉末(15-75Mm)與由丙烯酸系聚 合物(15wt%固體),聚乙二醇(PEG) 6000與聚甲基 -21 - 200905950 丙烯酸甲酯(PMMA )孔形成劑珠粒(4 5 - 1 0 6 μηι )以比例 爲 2:0.5: 1·5(金屬/丙烯酸系聚合物溶液 /PEG/PMMA )所成水性分散液進行混合。加熱混合物以移 除水,熔化PEG,並使丙烯酸系聚合物固化。所成固體質 塊硏磨後過篩至小於150μηι。此粉末於冷均力沖壓機中模 製成生坯金屬撐體管。 2. PEG (其於還原氛圍中不揮發)藉由用水浸泡生坯 撐體體而萃取。留下丙烯酸系聚合物與ΡΜΜΑ,於後續素 燒時移除。
或者,PEG、ΡΜΜΑ與丙烯酸系聚合物可於約 5 25 °C 空氣中燃燒而移除。選擇此溫度以完全移除丙烯酸系聚合 物但不顯著氧化金屬。此舉製得脆弱的生坯體,其於素燒 前必須小心處置。 3. 金屬撐體500於約1 000°C、4% H2/氬中素燒。 4 ·電極1間層5 0 2的初始沈積藉由將黏稠塗料用毛刷 塗裝至撐體管的外側而完成。塗料滲入金屬撐體管的孔 中,橋接金屬粒子間的大間距,並提供下步驟中剩餘的電 極1間層之沈積時的平滑表面。塗料包括重量比爲0.9 6 : 〇 . 5 4 : 0 · 2 : 0 · 6的水性丙烯酸系聚合物(4 2 wt %丙烯酸系 聚合物),YSZ 粉末(例如,Tosoh 8 YS ) ,〇·5-3.5μιη 丙 烯酸系孔形成劑珠粒’與7 -1 1 μ m丙烯酸系孔形成劑珠 粒。然後將管於525 °C空氣中分解(debinded )以移除丙 烯酸系黏合劑與孔形成劑。 5·電極1間層的沈積藉由將管浸塗於[144g異丙醇 -22- 200905950 (IPA ) ,4_8g PEG300,48g YSZ 粉末(例如 ’ Tosoh 8 Y S ) ,2.86g 〇.5-3.5μιη丙烯酸系孔形成劑珠粒’ 2.86g 7-1 Ιμιη丙烯酸系孔形成劑珠粒]的淤漿中而完成。丨-4次 的塗覆間將結構完全乾燥,此爲製得具有預期厚度平滑膜 所需。將PEG 3 0 0加入淤漿以提高適於浸塗的黏度。加入 丙烯酸系孔形成劑珠粒以提高最終間層結構的孔度。較大 孔形成劑提供適合觸媒材料滲入的孔網絡並有助於結構中 的快速氣體擴散。較小孔形成劑亦增進觸媒滲入結構中同 時保持高表面積以利較快電化學反應速率。 或者,電極1間層的沈積可藉由包括重量比爲2.7: 0.5 4 : 0.2 : 0.6之水性丙烯酸系聚合物(1 5 wt %丙烯酸系 聚合物),YSZ 粉末(例如,Tosoh 8YS) ’ 0.5-3.5μιη 丙 嫌酸系孔形成劑珠粒,與7 - 1 1 μ m丙烯酸系孔形成劑珠粒 的塗料之毛刷塗裝完成。5 - 5 0次的塗覆間將塗料完全乾 燥,5-5 0次的塗覆爲製得具有預期厚度平滑膜所需。 6 .將電極1間層於金屬撐體上在4 % Η 2 /氬中、約 1 〇 5 0 °C素燒2小時。 7.電解質5 04層由YSZ粉末(例如,Tosoh 8 YS ), IPA,緋魚油(MFO ),鄰苯二甲酸二丁酯(DBT )與聚 (乙烯丁醛-共聚-乙烯醇-共聚-乙酸乙烯酯) (PVB ) [20: 60: 〇·4: 0.4: 0.4重量比]所成分散液以氣溶膠噴灑 沈積法施加。MFO與DBT做爲分散劑與增塑劑,PVB做 爲黏合劑以利下個步驟中的電解質層壓實。於噴灑沈積 時,將真空隨意的施加至金屬撐體內部。 -23- 200905950 8·電解質層以均力沖壓於l-5kpsi隨意的壓實。收縮 包裝聚酯膜做爲脫模物以保護電解質層黏於沖壓容器。 9. 結構於 525 °C空氣中燃燒以移除DBT,PVB與 MFO。然後於4%H2/氬、約1 300°C共燒結4小時。 10. 電極2間層506先質由包括重量比爲2.7: 0.54: 〇 · 2 : 0 _ 6之水性丙烯酸系聚合物(1 5 wt %丙烯酸系聚合 物),YSZ 粉末(例如,Tosoh 8YS ) ,0_5-3_5μιη 丙烯酸 系孔形成劑珠粒’與7 -1 1 μηι丙烯酸系孔形成劑珠粒的塗 料以毛刷塗裝施加。施加5 - 5 0或7 -1 5次塗覆,各塗覆間 將塗料完全乾燥。 11. 金屬電流收集體508如同PCT/US2006/029580 (其 揭示倂入本案參考)般施加,其中於燒結時發展徑向壓縮 力使一管狀元件收縮至另一管狀元件上,造成連結的同心 管。素燒電流收集體依此實例上述步驟1 -3製造。將電流 收集體套筒置於包括金屬撐體與含YSZ的層之管外圍。於 下個燒結步驟中,電流收集體套筒收縮到該管上。 12. 將整個層狀結構於4%Η2/氬、約1 300t:燒結4小 時。一般而言,金屬撐體、電極1間層與電解質的共燒結 藉由這些層之燒結曲線的仔細匹配而增進。特別是當電解 質層於燒結初始階段時較脆弱,以及金屬撐體與電解質燒 結曲線不匹配可導致電解質層有裂痕。於燒結較後階段, 電解質夠強而能忍受一些與金屬撐體的收縮不一致。但是 直到電解質得到強度,金屬的收縮應與電解質的收縮一樣 或略多,所以初始時應使電解質壓縮。加工法、合金組 -24- 200905950 成、金屬粒子型態、金屬粒子尺寸與生坯金屬密度的適當 選擇使金屬撐體於燒結初始階段的收縮比電解質膜的收縮 多。
此實例所述製造之燒結結構的截面影像提供於圖5 A 中〇 實例2 -包括多孔金屬/多孔YSZ/緻密YSZ/多孔YSZ/多孔 金屬之平面狀結構 其步驟實質同於上述實例1所示者,但是,金屬撐體 5 1 0爲F e C r模壓-沖壓平面狀基材。又,電流收集體5 1 8 以糊[96wt%金屬,2wt% YSZ,2wt% 羥丙基纖維素 (HPC)黏合劑’足量IPA以配成可塗佈糊]來施加。爲了 改善結合,金屬粒子以 YSZ裝飾,如同申請人的 PCT/US2005/043 1 09 (倂入本案參考)所述者。電極 1 5 1 2、電解質5 1 4與電極2 5 1 6組件如實例1所述。 此結構的截面影像提供於圖5 B中。 實例3 -包括多孔金屬/多孔YSZ/緻密YSZ/多孔Ni-YSZ/ 隨意的多孔金屬之平面狀或管狀結構 其步驟實質同於上述實例1與2所示者,但是,電極 2間層包括Ni與YSZ。電極2間層由包括重量比爲2.7 : 0.27 : 0.27 : 0.2 : 0.6之水性丙烯酸系聚合物(I5wt%丙 烯酸系聚合物),丫8乙粉末(例如,1'〇5〇118¥8),:^粉 末,0.5 - 3 . 5 μιη丙烯酸系孔形成劑珠粒,與7 -1 1 μιη丙烯酸 -25- 200905950 系孔形成劑珠粒的塗料以毛刷塗裝施加。施加5 - 5 〇或7 -1 5次塗覆,各塗覆間將塗料完全乾燥。 實例4 -燒結時的膜收縮 以各種金屬合金與粒子性質製造金屬撐體/電極1間 層/電解質三層結構。圖6爲具有不同金屬撐體粒子之二 糸口構的丨生㈣性質比較圖。菱形代表的數據爲自立式2 Ο μ m 厚YSZ膜隨溫度之收縮。當溫度增加至高於1〇〇〇〇c時 YSZ開始燒結且於13〇〇。(:前會完全緻密。包括25 -3 8μιη 434合金粒子(三角形)與 38_45μιη 17-4-ΡΗ合金粒子 (方形)的多孔金屬九粒亦於各溫度燒結以決定其收縮曲 線。二金屬於1 3 0 0 °C經歷類似Y S Ζ的總收縮。注意到低 於1 200 °C時,434金屬撐體比YSZ收縮稍微多些,而17-4-PH撐體收縮稍微少些。 然後將類似的YSZ膜施加至包括此二肥粒鐵不鏽鋼粉 末的金屬撐體上,並且其於金屬撐體與電解質間具有多孔 YSZ電極間層。然後將這些三層結構燒結至1 3 00 °C。434 合金的例子中,得到緻密無裂痕電解質膜。17-4-PH合金 的例子中,於YSZ電解質膜觀察到許多應力裂痕。這些裂 痕發生於燒結初始階段(低於1 200°C ),因爲膜由金屬撐 體保持於張力狀態。具有適宜燒結行爲的金屬撐體使吾人 能維持無裂痕電解質。 亦可將薄YSZ膜與金屬撐體共燒結而不用到電極間 層,但仍達到撐體與電解質間的最小結合。電極間層存在 -26- 200905950 時會有最大改善的結合,因爲其與金屬撐體互相穿插。 實例5 -收縮匹配-金屬粒子尺寸 爲了提高燒結的金屬撐體孔度,可以使用盡可能最大 的金屬粒子尺寸。但是,當金屬粒子尺寸增大時’ 一特定 溫度的燒結程度通常會降低。即使不計此行爲’增大金屬 粒子尺寸可導致裂痕或多孔電解質層(因收縮不匹配)° 此現象於以434合金粒子製造金屬撐體的例子中發現 (434 合金粒子過篩至小於 25μηι,25-3 8 μιη ’ 3 8-45 μηι, 與45-53 μχη)。金屬撐體/電極間層/YSZ電解質層三層結 構於1 3 00°C共燒結4小時,加熱速率爲3.33°C/分鐘。僅 有較小的二尺寸分類製得緻密電解質膜;支撐在較大二金 屬粒子尺寸上的YSZ於共燒結後有裂痕與多孔。發現到提 高加熱速率會調整Y S Z與較大金屬粒子的相對燒結行爲, 得以達成匹配的共燒結。加熱速率爲20°C /分鐘時,緻密 無裂痕YSZ電解質膜成功地共燒結在包括較大二粒子尺寸 之金屬撐體上。相信此結果係因爲較快加熱速率導致YSZ 燒結曲線落後金屬燒結曲線。 實例6 -收縮匹配-逸失性孔形成劑 爲了達到與電解質層收縮匹配的金屬撐體與電極1間 層收縮同時維持這些層的高最終孔度需要仔細地控制孔結 構。將逸失性孔形成劑粒子加入金屬撐體與二電極間層發 現是有利的。 -27- 200905950 金屬撐體管依實例1步驟1-3製造。一些例子中, PMMA孔形成劑珠粒以等重PEG 6000替換。使用各種金 屬粒子尺寸(小於 25μιη,25-38μηι,38-45μηι,45-53μη〇 。圖7A-D例示於1 3 00 °C燒結後所成各種孔結構。 各種金屬撐體的密度與室溫透氣性各示於圖7A與B中, 顯示對PEG6000 : PMMA孔形成劑比爲100 : 0 (無孔形成 劑)與25 : 75 (有孔形成劑)時PMMA孔形成劑含量的 效應。圖7C與D各顯示PEG60 00 : PMMA孔形成劑固定 比爲2 5 : 75時金屬粒子尺寸的效應。明顯地,添加孔形 成劑珠粒提高撐體的透氣性與孔度,提供一輕質結構與撐 體中良好的氣體傳輸。增大金屬粒子尺寸通常導致較高孔 度與透氣性。以類似金屬撐體製得的電池之電化學測試顯 不電池極限電流(亦即最大電力密度)隨撐體孔度與透氣 性提高而實質地提高。因此較佳撐體爲低於60%緻密。 實例7 -互相穿插的優點 實例1步驟4中,以黏稠塗料做爲電極1間層的初始 層。此塗料互相穿插金屬撐體並橋聯金屬粒子間的大孔。 此塗料配方中使用各種γ s Z :孔形成劑比例。所有比例 中,橋聯與互相穿插功能均達到。但是在高孔形成劑含量 時(例如,YSZ :孔形成劑=1 : 9wt )的例子中,互相穿 插介面的結構完整性得到妥協。雖然金屬撐體/多孔 YSZ/YSZ電解質結構的共燒結得到成功,但以銅焊 (brazing)將結構末端密封時,金屬-撐體/多孔YSZ介面 -28- 200905950 失敗。銅焊後有大片的電解質與多孔YSZ層自結構掉落。 此觀察顯示互相穿插介面的機械完整性對結構的耐用性有 利。相信若金屬撐體與電極1間層之間沒有互相穿插,將 造成低度或沒有結構完整性。 實例8 -機械聯鎖性質 圖8顯示YSZ電解質/多孔YSZ/多孔水霧化金屬共燒 結結構。注意金屬與YSZ層之間的互相穿插影響金屬粒子 的燒結與糙化。於影像的右側,即,遠離互相穿插區的部 份,金屬粒子被圓化且完全良好燒結。若YSZ互相穿插金 屬層,金屬較爲保留其糙度與開放孔度。此對金屬與YSZ 的機械聯鎖有利。 實例9 -燒結技術 在共燒結與約束燒結的二條件均有可能達到機械聯 鎖。實例2的金屬電流收集體與電極2間層被約束燒結。 圖9顯示約束-燒結結構中機械聯鎖的另一實例,其導致 多孔YSZ層904與多孔金屬層902間的良好結合。此例 中,YSZ電解質片906於l4〇〇°C被預燒結至全(full)密 度。然後用黏稠糊(由23wt% PEG-3 00與77wt% YSZ所 組成)而施加多孔YSZ層,接著用由96wt% 17-4PH不鏽 鋼、2wt% YSZ、2wt%做爲黏合劑的羥丙基纖維素 (HPC )所組成(另含足夠的IPA以製成可塗佈糊)的糊 而施加多孔金屬層。當金屬層施加時,多孔YSZ層糊於金 -29- 200905950 屬粒子之間與附近流動以產生這些層的互相穿插。然後將 整個結構於1 3 0 0 °C、還原氛圍燒結。達到金屬與γ S z層 之間的良好結合。注意此實例中未提供相對電極,這單純 是因爲試樣僅進行金屬-Y s Z結合的測試,而未測試電化 學活性。具有各種相對電極,含多孔YSZ與Ni-YSZ ,之 類似結構爲可能的。 結論 雖然前述發明爲清楚了解之故已說明一些細節,—些 變化與改良可於所附申請專利範圍的範疇內實施。特別 地,本發明主要參考固態氧化物燃料電池中的多孔肥粒鐵 鋼與Y S Z層來說明’其他材料組合爲熟習此技藝人士得到 本文揭示後輕易可見’可依本發明用於S 0 F C或其他電化 學裝置,例如,氧生成器、電解槽、或電化學流動反應器 等。應注意有許多實施本發明結構與方法的替代方式。 故’本發明具體例應視爲舉例所用而非限制,即本發明不 限於所述細節。 【圖式簡單說明】 圖1 A-B槪要顯示包括機械地聯鎖層的本發明結構。 圖2A-H槪要顯示本發明各種具體例’其具有機械地 聯鎖陶瓷與多孔金屬層之電化學裝置結構的許多組態,含 隨意的額外層。 圖3顯示本發明一具有多層狀結構的具體例,其中機 -30- 200905950 械聯鎖連結多孔金屬撐體與多孔電極層。 圖4顯示依本發明一特定具體例製造電化學裝置結構 之製程細節。 圖5A爲依實例1所述製造的燒結管狀結構之光學顯 微截面影像。 圖5B爲依實例1所述製造的燒結平面狀結構之電子 顯微截面影像。 圖6爲具有不同金屬撐體粒子之本發明二結構的性能 性質比較圖。 圖7A-D例示於1 3 00°C燒結後所成各種孔結構與各種 金屬撐體的密度與室溫透氣性。 圖8顯示本發明之YSZ電解質/多孔YSZ/多孔水霧化 金屬共燒結結構。 圖9顯示依本發明的約束-燒結結構之機械聯鎖實 例,其導致多孔Y S Z層與多孔金屬層間的良好結合。 【主要元件符號說明】 100 :結構 102 :機械地聯鎖層 104 :多孔金屬撐體 105 :金屬粒子 1 〇 6 :陶瓷電極,多孔陶瓷層 107 :緻密陶瓷層 108 :過渡介面 -31 - 200905950 1 1 〇 :結構 1 1 4 :金屬層 1 1 5 :金屬粒子 1 1 6 :多孔陶瓷層 1 1 7 :緻密陶瓷層 201 :二層裝置結構 202 ’·多孔金屬撐體 2 0 4 :緻密陶瓷電解質 2 1 2 :多孔金屬層 2 1 4 :緻密陶瓷層 2 1 6 :多孔陶瓷層 227 :第二多孔陶瓷層 238:第二多孔金屬層 242:多孔金屬層 244 :緻密陶瓷層 245 :多孔瓷金層 246 :多孔陶瓷層 2 5 2 :多孔金屬層 2 5 4 :緻密陶瓷層 2 5 6 :多孔陶瓷層 25 7 :多孔瓷金層(電極) 2 5 8 :電流收集體 2 5 9 :電子傳導性的糊 312 :金屬撐體 -32- 200905950 3 1 4 :電解質 3 1 6 :電極1 3 27 :電極2 3 3 8 :金屬電流收集體 401-411 :操作 5 00 :金屬撐體 5 0 2 :間層 5 0 4 :電解質 5 0 6 :間層 5 0 8 :金屬電流收集體 510 :金屬撐體 5 1 2 :電極1 5 1 4 :電解質 5 1 6 :電極2 5 1 8 :電流收集體 902 :多孔金屬層 904:多孑L YSZ層 906 Y s Z電解質片

Claims (1)

  1. 200905950 十、申請專利範圍 1 - 一種電化學裝置結構,包括: 多孔金屬層;與 陶瓷層; 其中該陶瓷層與該多孔金屬層藉互相穿插而機械地聯 鎖。 2 ·如申請專利範圍第1項之結構’其中該陶瓷層爲敏 密。 3 ·如申請專利範圍第1項之結構,其中該陶瓷層爲多 孔。 4 ·如申請專利範圍第3項之結構,另包括與該多孔陶 瓷層相鄰的緻密陶瓷層。 5 .如申請專利範圍第4項之結構’其中該多孔陶瓷層 爲離子傳導性的。 6 .如申請專利範圍第5項之結構’其中該多孔陶瓷層 與該緻密陶瓷層具有相同陶瓷組成。 7.如申請專利範圍第 6項之結構,其中該陶瓷爲 YSZ。 8 .如申請專利範圍第7項之結構,其中該金屬爲肥粒 鐵不鏽鋼。 9 ·如申請專利範圍第7項之結構,其中該多孔Y S Z以 包括選自過渡金屬或鑭系元素之陰極觸媒滲入。 1 〇 ·如申請專利範圍第9項之結構,其中該陰極觸媒 選自 LSM,LNF,LSCF,PNO,LSCM 或其組合。 -34 - 200905950 1 1.如申請專利範圍第2項之結構,其中該陶瓷爲 YSZ。 1 2 _如申請專利範圍第1 1項之結構,其中該金_爲肥 粒鐵不鏽鋼。 1 3 .如申請專利範圍第3項之結橇,其中該多孔YSZ 以N i粒子滲入。 1 4 ·如申請專利範圍第4項之結橇,另包括與該緻密 陶瓷層相鄰的第二多孔陶瓷層。 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項之結橇,另包括與該第二 多孔陶瓷層相鄰的第二多孔金屬層。 1 6.如申請專利範圍第3項之結橇,另包括與該多孔 陶瓷層相鄰的多孔瓷金層。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之結構’另包括與該多孔 瓷金層相鄰的總密陶瓷層。 1 8 .如申請專利範圍第4項之結構,另包括與該緻密 陶瓷層相鄰之多孔瓷金層。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之結構’另包括與該多孔 瓷金層相鄰之多孔金屬層。 2 0 .如申請專利範圍第1 9項之結構,其中電子傳導性 的糊有助於該多孔金屬層與該相鄰多孔瓷金層間的電子傳 輸。 2 1 .如申請專利範圍第1項之結構,其中該結構爲平 面狀。 22.如申請專利範圍第1項之結構,其中該結構爲管 -35- 200905950 狀。 23 .如申請專利範圍第1項之結構’其中該金屬層低 於60%緻密。 24. 如申請專利範圍第1項之結構,其中該多孔金屬 層包括具有粗糙表面的金屬粒子。 25. 如申請專利範圍第24項之結構,其中該粗糙表面 包括至少一紋理質地、凹坑、凸起與非球形。 26 ·如申請專利範圍第1項之結構,其中陶瓷互相穿 插入金屬的程度超過該多孔金屬層的金屬粒子表面層之中 點。 27.如申請專利範圍第1項之結構,其中該裝置爲固 態氧化物燃料電池或其組件,該多孔陶瓷爲電極,該緻密 陶瓷爲電解質,且該多孔金屬提供結構支撐與電流收集中 至少其一。 2 8 · —種製造電化學裝置結構之方法,包括: 提供多孔金屬層; 施加生坯陶瓷層至該多孔金屬層;以及 燒結上述層; 其中該陶瓷層與該多孔金屬層藉多孔金屬與陶瓷的互 相穿插而機械地聯鎖。 2 9.如申請專利範圍第28項之方法,其中該陶瓷層燒 結後爲緻密。 30.如申請專利範圍第28項之方法,其中該陶瓷層燒 結後爲多孔。 -36 - 200905950 3 1.如申請專利範圍第30項之方法,另包括於燒結前 施加於燒結時會緻密的陶瓷層與多孔陶瓷層相鄰。 3 2.如申請專利範圍第28項之方法,其中該提供的多 孔金屬層爲生还。 3 3.如申請專利範圍第28項之方法,其中該提供的多 孔金屬層爲素燒或燒結。 3 4 ·如申請專利範圍第31項之方法,其中該三層被共 燒結。 3 5 .如申請專利範圍第3 4項之方法,另包括於該緻密 燒結的陶瓷層上施加第二生坯多孔陶瓷層。 3 6 .如申請專利範圍第3 5項之方法,另包括於該緻密 燒結的陶瓷層上的生坯多孔陶瓷層之上施加第二多孔金屬 層。 3 7 ·如申請專利範圍第3 6項之方法,另包括燒結第二 陶瓷層與第二金屬層。 38.如申請專利範圍第28項之方法,其中該多孔陶瓷 層爲離子傳導性的。 3 9 .如申請專利範圍第3 8項之方法,其中該多孔陶瓷 層與該緻密陶瓷層具有相同陶瓷組成。 40.如申請專利範圍第39項之方法,其中該陶瓷爲 YSZ。 4 1 ·如申請專利範圍第4 0項之方法,其中該金屬爲肥 粒鐵不鏽鋼。 42 .如申請專利範圍第2 8項之方法,其中該陶瓷爲 -37- 200905950 YSZ。 4 3 .如申請專利朝圍弟4 2項之方法,其中該金屬爲肥 粒鐵不鏽鋼° 44.如申請專利範圍第42項之方法,其中該多孔YSZ 以Ni粒子滲入。 4 5.如申請專利範圍第42項之方法,其中該多孔YSZ 以包括選自過渡金屬或鑭系元素之陰極觸媒滲入。 46.如申請專利範圍第45項之方法,其中該陰極觸媒 選自 LSM、LNF、LSCF' PNO、LSCM 或其組合。 4 7 ·如申請專利範圍第2 8項之方法,另包括施加多孔 瓷金層與該多孔陶瓷層相鄰。 48.如申請專利範圍第47項之方法,另包括施加緻密 陶瓷層與該多孔瓷金層相鄰。 4 9 .如申請專利範圍第3 1項之方法,另包括施加多孔 瓷金層與該緻密陶瓷層相鄰。 50.如申請專利範圍第49項之方法,另包括施加多孔 金屬層與該多孔瓷金層相鄰。 5 1 .如申請專利範圍第5 0項之方法,其中電子傳導性 的糊有助於該多孔金屬層與該相鄰多孔瓷金層間的電子傳 輸。 52. 如申請專利範圍第28項之方法,其中該結構爲平 面狀。 53. 如申請專利範圍第28項之方法,其中該結構爲管 狀。 -38- 200905950 5 4 ·如申請專利範圍第2 8項之方法,其中該金屬層低 於60%緻密。 55. 如申請專利範圍第28項之方法,其中該多孔金屬 層包括有粗糙表面的金屬粒子。 56. 如申請專利範圍第55項之方法,其中該粗糙表面 包括至少一紋理質地、凹坑、凸起與非球形。 5 7 _如申請專利範圍第5 6項之方法,其中該粗糙表面 粒子包括水霧化金屬粉末。 5 8 ·如申請專利範圍第2 8項之方法,其中該多孔金屬 的孔度利用逸失性孔形成劑而得到。 5 9 ·如申請專利範圍第5 8項之方法,其中該孔形成劑 與任一黏合劑於施加該陶瓷層之前部分地或完全地移除。 60_如申請專利範圍第28項之方法,其中陶瓷互相穿 插入金屬的程度超過該多孔金屬層的金屬粒子表面層之中 點。 6 1 ·如申請專利範圍第2 8項之方法’其中該裝置爲固 態氧化物燃料電池或其組件,該多孔陶瓷爲電極,該緻密 陶瓷爲電解質,該多孔金屬提供結構支撐與電流收集中至 少其~~* ° -39-
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