TW200848545A - Device and method for hot-dip coating a metal strip - Google Patents

Description

200848545 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於熱浸鍍金屬帶之裝置及方法。 【先前技術】 此類型之裝置基本（例如）自10 2004 03 0 207 A1 已知。在此公開案中揭示之熱浸鍍裝置包含用於熔融金屬 之容器，輸送金屬帶通過該熔融金屬。在通過熔融金屬期 間，金屬帶在熔融金屬中偏轉且借助於以滾筒本體及滾筒 頸為特徵的滾筒而穩定化。滾筒或滾筒頸分別由滾動軸承 支撐。為了確保其操作性，滾動軸承需要被保護免於受侵 蝕性熔融金屬影響。在此情況下，朝向熔融金屬之滾筒通 路需要以有效密封件來閉合，以防止允許熔融金屬進入滾 動軸承。在上述德國公開說明書（〇ffenlegungsschrift )中， 借助於圍繞滾筒頸之鎖來實現密封，該鎖具有一相對於熔 融金屬閉合或密封之鎖定腔室，除了在滾筒通路處（亦即， 在至滾同頸之過渡處）有一洩漏。為了防止允許熔融金屬 ^過滾筒通路，以具有—氣壓之氣體介質來作用於鎖定腔 ^。該鎖以用於收集呈小量熔融金屬形式之漏失的收集儲 為特徵σ亥專溶融金屬不管氣壓如何而被允許進入鎖定 工中。品要週期性清空此收集儲器，其中此要求收集儲 為取初經卸載且隨後經重新安裝，使得此鎖之操作與增加 之維護支出相關聯。 7 200848545 【發明内容】 基於此項技術之此現狀， 減少尤其對於鎖之維護支出的 置及已知方法。 本發明旨在另外發展用於以 方式熱浸鍍金屬帶的已知裝 以裝置凊求項第1項之特徵逵 倣違到此目標。根據此請求 項，本發明之熱浸鍍裝置之特徵在 寸试任於具有鎖定腔室之鎖浸 沒於熔融金屬中，且在於鎖定 貝疋I至係以潛水鐘之形式實 現，該潛水鐘具有浸沒於熔融金屬 灸屬中且相對於其開放之通 道形出口。 在呈潛水鐘形式之鎖定腔室的所主張設計中，有音識 地接受輕微漏失。其為無害的且不會增加維護支出，因為 允許抵抗氣壓通過滾筒通路進人鎖定腔室㈣的小量溶融 金屬直接經由通道形出口返回至溶融意謂，可在發 明性之鎖設計中消除漏失於獨立收集儲器中之收集及自二 項技術之現狀已知的相關聯維護支出。 為簡單起見，本描述不區分可能麵接至滾筒頸之驅動 機械軸與滾筒頸自纟；因此，尤其#在_具體實施例中驅 動機械軸而非滚筒頸由軸承圍繞且可旋轉地支撐於轴承中 時，術語“滾筒頸，，亦可指代驅動機械軸。 根據本發明之第-實施例，用於滚筒頸之具有轴承之 軸承腔室經實現使得其相料氣體介f與較腔室連通。 此提供氣壓亦存在於軸承腔室中且以此型式防止熔 到達軸承的優勢。 呈潛水鐘形式之所主張鎖可自身或與可（例如）相對 200848545 於溶融金屬打開或閉合的其他 简本體之間。鎖之此平行配置 系統，其用於相對於熔融金屬 側上（亦即，在滾筒本體之區 (尤其是如上所述以潛水鐘形 思識地接受且不與主要目標（ 金屬）矛盾。 鎖一起配置於軸承腔室與滾 共同充當一冗餘階梯形密封 密封位於該密封系統之另一 域中）的軸承腔室。個別鎖 式實現的鎖）中的洩漏被有 亦即，維持軸承腔室無熔融

V 基本上可分別單獨作用於個別鎖及（若適用）軸承腔 室，^因此使其相對於熔融金屬密封。然而，根據本發明， 較佳實現軸承腔室及不同鎖定腔室，使得其相對於氣體介 質連通且允許氣體介質在至少一方向上流動。詳言之，可 猎由在兩個鄰近腔室之間的過渡區域中的唇緣密封件有利 地K現此情形，其中該唇緣密封件允許氣體介質在一方向 上流動並充當用於該氣體介質的止回閥，且在另一方向上 充當用於可能地洩漏熔融金屬的鎖。 在鎖定腔室與液態熔融金屬之間的過渡區域中之滾筒 通路表示熱浸鍍裝置之重大洩漏，即，自鎖定腔室逸出至 熔融金屬中之氣體介質及被允許進入鎖定腔室的熔融金屬 的洩漏。已在上文提及不合需要地被允許進入之炼融金屬 至溶融浴中之發明性返回。 一氣體分離元件可有利地提供於鎖外部鄰近於滾筒通 路’以收集自鎖定腔室逸出至熔融金屬中的氣體介質。此 所收集之介質接著可有利地經由氣體迴路返回至軸承腔室 或鎖定腔室。然而，或者可能將所收集之介質釋放至周圍 9 200848545 空氣中。 k &滾筒通路之區域中的洩漏被基本 不合堂亜认 人1一具仍為 #、。可藉由在此位置處提供一摩擦密封件來顯 2良f同通路之區域中的緊密性，該摩擦密封件歸因於鎖 ^月工至中之氣壓與溶融金屬財之壓力之間的壓力差而 —;滚動軸壓抵滾筒本體或壓抵滚筒頸之突^。若適用、， 則可在此炀况下有利地消除用於所逸出氣體之上述返回的 士體循環系統。替代摩擦密封件或除了摩擦密封件之外， ::應式密封件亦可提供於滾筒通路之區域中。感應式密 封件亦可用作相對於滾筒敎環形密封件。 鎖定腔室中及軸承腔室中之氣壓借助於壓力控制迴路 有利地監視且較佳維持恆定。 用於轉動滾筒頸且因此轉動整個滾筒之驅動器亦整 合至軸承腔室中俜右如丨μ 、 的。该驅動器可（例如）以電動馬 達或經特定設計之壓縮办^ 土 1細二虱馬達的形式實現。作為軸承腔 室内之驅動器之配置的替代，該驅動器亦可配置於外部（亦 卩在炼融玉屬外部），其中滚筒頸及滾筒設定為借助於 機械連接（諸如，推力曲柄驅動器）而旋轉。 此外’以用於刼作熱浸鍍裝置之所主張方法而達到上 述目標。與此方法相關應+ , 關聯之優勢對應於上文參考熱浸鍍裝 置所述的優勢。 【實施方式】 細地描述本發明之實施例。在 下文參看以下圖式更詳 200848545 所有圖式中，相同技術元件分別由相同參考符號識別。 圖1展示用於鍍敷金屬帶（未圖示）之熱浸鍍裝置1〇〇。 該裝置包含兩個豎直柱102,該等柱1〇2配置於填充有熔 毗金屬200之容器1 1 〇的兩側。十字頭】〇3借助於豎直驅 動益104沿此等柱豎直地移位。十字頭1〇3含有兩個懸置 支撐臂105,其間可旋轉地支撐一滾筒12〇。在浸沒至熔 融金屬中之後’金屬帶在其再次自熔融金屬向上出現之前 環繞滾筒120，或更精確地環繞其滾筒本體122偏轉。其 軸承配置位;^支撑f 1 〇5 ±的滾筒可借助》可賢直移位的 十字頭103而為了維護目的或在靜止時間下降至炼融金屬 2〇〇中或提昇出熔融金屬。 圖2以圖1之細節形式展示本發明之熱浸鍍裝置的第 κ施例。此圖式展不其中含有熔融金屬2〇〇之容器m， /、中熔融金屬之浴水準係由參考符號B識別。懸置於支撐 上之滾琦120連同其軸承配置浸沒於溶融金屬2⑽ 中γ此圖式特定展示（例如）借助於滾動軸承144支撐於 支撐# 105中的滾筒頸124。滾動軸承附近在下文稱為軸 ，月至142。此外，此圖式展示用於以氣體介質（諸如， 氮乱）供應軸承腔室142的氣管19〇。氣管較佳在導 =軸承腔$ 142之前不久以螺旋形狀盤繞。此螺旋形盤曲 吕表不用於所供應之氣體介質N2的在將其引入軸承腔室 八2之則的延長的路後；當螺旋形盤曲管浸沒於熱的熔融 孟：MO中時，流過螺旋形盤曲管之氣體介質在引入軸承 至142之則已預加熱至熔融金屬之溫度。 200848545 本發明之鎖U0配置於軸承腔t 142與滾筒本體122 之間，且以鎖定腔1132圍繞滾筒頸124。鎖130類似於 軸承外殼146及滾筒本請而浸沒於熔融金屬中， 且因此由溶融金屬圍繞。根據本發明，鎖13G及其鎖定腔 室132係以具有一通道形出口 134的潛水鐘形式實現，該 出口 134在熱浸鍍裝置之操作期間亦浸沒於熔融金屬彻 中；出口 U4相對於熔融金屬開放。 鎖130配置於轴承腔室142與滾筒本體122之間。在 軸承腔室U2與鎖定腔冑132之間的過渡區域中，一分隔 壁終止於頸之側面上，該分隔壁具有__封閉滾冑之頸 的套S 1 3 7。糸狀間隙13 6保留於套管1 3 7之内徑盥 頸之外徑之間，以實現氣體介質N2在軸承腔室142與鎖^ 腔室1 3 2之間的受控通過。 才曰派至滾筒本體i 22之鎖定腔室的相對壁工U較佳（例 如）㈣膜形式可换地或彈性地實現。在頸之側面上，壁 在％形4封件139處終止。然而，此環形密封件139 在敎側面上並非百分之百緊密的，使得相對於頸124之 2及漏仍存在。此$漏可表示使氣體介質N2㈣自鎖定 八32逸出至周圍熔融金屬200中的洩漏，以及使熔融 屬2〇〇 %夠在滾筒通路136處被允許進入鎖定腔室132 中之洩漏。 為了減小此茂漏’環形密封件139較佳根據本發明以 摩t於滚同本ft 122或滚筒頸124之突起123上之摩擦密 封件的形式實現。 12 .200848545 圖2中所示之軸承144的用於防止熔融金屬2〇〇之可 能的不合需要之進入的密封件如下所述而起作用·· 氣體介質（較佳為氮氣）經由氣管190供應至軸承腔 室142中。氣體介質在經由環狀間隙136，流入鎖定腔室 之前在軸承腔室内部環繞軸承144流動。 軸承腔室142與鎖定腔室132經實現使得其經由環狀 間隙136相對於氣體介質連通。因此，在軸承腔室與鎖定 腔室中調整成相同氣壓。氣壓經選擇為如此高以致於可有 效地防止熔融金屬200通過鎖13〇之開放通道形出口 134 而進入鎖疋腔室132内部。此壓力同時作用於鎖定腔室132 之可撓性㈣138。在外側上，此外I 138經受由炼融金 屬200施加之壓力。因此，藉由鎖定腔室132内部之氣壓 與由溶融金屬200施加於外| 138 ±之廢力之間的壓力差 (即，力κ)，摩擦環形密封件139平行於滾筒之軸向方 向RC抵犬起123或滾筒本體122。為此目的，鎖定腔室 内部之氣壓需要經選擇而相對於由熔融金屬施加之壓 力適當地高。與相對於頸之表面的簡單密封相比，呈摩擦 密封件形式之環形密封# 139的實現導致其密封效應之顯 著改良。總而言之’可以此型式顯著減少允許通過滚筒通 路136之熔融金屬的量。可接受熔融金屬之所允許量。其 沿滾筒頸m滴落且進入鎖定腔t 132之緊靠附近的通道 形出口 134中，且以此型式立即返回至容器中之熔融 浴。此使得在無維護支出之情況下極有效地保護軸承腔室 142，且詳言之保護軸纟144免受侵蝕性熔融金^ _影 13 200848545 響成為可能。 f 圖3展示本發明之第二實施例。此實施例基本上可與 圖2中所說明之第一實施例區分開，其區別之處在於，具 有圍繞滾筒頸124之另一鎖定腔室152的另一鎖15〇配置 於軸承腔室與根據圖2之鎖之間。第二鎖額外地改良對軸 承腔室之抵抗熔融金屬之進入的保護；結合呈潛水鐘形式 之鎖130，額外鎖15〇表示階梯形密封件。額外鎖定腔室 較佳經實現使得其相對於氣體介質與軸承腔室丨42及 鎖定腔室132連通。此料借助料緣密封件152而限於 氣體介質之-流動方向（即，自軸承腔室142至額外鎖定 腔室152中）。唇緣密封件154牢固地於凸緣125上固定 於滾筒頸m 。在圖3中所說明之實施例中，在滾筒頸 及滾筒之旋轉期間’唇緣密封件154亦旋轉，同時置於軸 承外殼143之突起147上滑動。在額外鎖定腔盘鎖 ^腔^32之_分隔壁借助於環形密封件而朝向滚筒頸 在封’但此雄、封歸因於頸之旋轉移動而並非百分之百 =，且詳言之，允許氣體介質自額外鎖定腔t 15 疋腔室132中的受限流動。 貝 與鎖13 0對比，額外雜】ς A m ^ ^ ^ 被封鎖抵抗熔融金屬2〇〇 在頭外鎖定腔室152與鎖定腔官 隹 至132之間的過渡區域中之 除了在頸之側面上於密封件處的“ m 融金屬開放之出口。實J見，且因此不具備朝向溶 門妨十 在 σ 、月’其以朝向額外鎖定腔室 開放之收集儲器158為特徵，日姑π 頊疋胫至 且使侍收集能夠通過鎖丨3 〇 14 200848545 的嫁融金屬成為可能。炫 总融金屬在滾筒頸124之表面上自 額外鎖定腔室1 52 $ ^ 至軸承腔室142的額外潛動不遲於上述 凸緣125處而停止，唇緣密封件m固定於該凸緣125上。 在此方面在領外鎖j 50與唇緣密封件…合作的情況下， 實現抵抗炫融金屬至轴承腔冑142之進人的額外保 護。 若機械軸（諸如，驅動機械軸）軸向耦接至滚筒頸124, ㈣薦在鎖定腔室132之區域中或甚至更佳地在額外鎖定 腔室152之區域中（因為此位置位於距通路136更遠處） (例如）以接纟17之形式配置界面。可以此型式防止敏 感性接合歸因於液_ 之進入而變得黏合或受污 染。 氣體分離元件160提供於鎖13〇與滚筒本體122之間 且亦浸沒於㈣金^ 2〇〇中。氣體分離元件用於收集可自 鎖定腔室m通過摩擦環形密封件139逸出至溶融金屬2〇〇 中的小量氣體介質。氣體分離元件i 60係以鐘形型式實現 且以一升管162為特徵，氣體介質可經由該升管162排出 於熔融金屬外。自升管162，氣體介質可排放至周圍空氣 中或收集於容器（未圖示）中，以藉由供應構件17〇而返 回至軸承腔室142中。後面提及之替代表示氣體介質之閉 合迴路且因此對於環境尤其無害。根據本發明，氣體分離 元件160之壁與滚筒頸124之突起123的表面或滚筒頸124 自身之表面之間的通路經分別實現，使得無氣體介質可被 允許在氣體分離元件外部進入熔融金屬2〇〇。 15 .200848545 軸承腔室142、額外鎖定腔室152及鎖定腔室η〗中 之氣屡較佳借助於屢力計M來監視，且借助於控制迴路（未 圖示）調節（較佳維持為值定）。在此控制迴路中，用於 將氣體介質供應至軸承腔室142之構件17()充#系桌 致動器。 Θ 用於氣體介質之迴路詳細說明於圖4中。氣體介質乂 儲存於具有氣壓P1之貯槽m巾。氣體介質之堡力借助 於節流閥182而調整至一操作磨力，特定言之調整至二承 腔室H2中所需之壓力。氣體介質接著經由可能配置於軸 承腔室142與鎖定腔冑152之間的額外鎖定腔室132自軸 承腔室M2流至鎖定腔t 152中，且隨後經由滾筒通路136 進入氣體分離元件16〇。在此位置處之氣壓p3可能不同於 鎖定腔室152中之氣壓，且借助於第二節流閥163來調整。 升g 162導入谷器171中，返回之受污染氣體介質收集於 該容器171中。有必要以個別中間壓力之形式將氣體分離 元件160中之氣壓P3調整為高於容器171中之氣壓Μ， 以確保氣體分離元件160内的氣體歸因於壓力差而上升至 容器1 7 1中。 容器171及貯槽174可藉由呈共同元件形式之若干氣 體迴路而同時用作收集儲器。在此情況下，有必要分別將 氣體分離元件中之壓力P3調整為高於容器ΐ7ι中的壓力， 該等氣體分離元件分別指派至其他滚筒之軸承配置且亦可 以不同深度配置於熔融金屬中。容器171以—用於清潔目 的之人孔9為特徵。氣體迴路由容器m與貯槽174之間 16 .200848545 的連接閉合，其中此連接含有用於清潔待返回之氣體介質 的過濾器172及用於將氣體介質泵送至貯槽174中及整個 迴路中的泵173。在氣體迴路中之可能氣體損失可自熱浸 鍍装置100或一不同供應貯槽175之氣體網路（特定言之， 氮氣網路）補充。容器171中之壓力及貯槽174中之壓力 可借助於壓力計Μ來監視。 圖5揭示本發明之熱浸鍍裝置之第三實施例。鎖定腔 , 室132及氣體分離元件16〇配置於具有軸承144之軸承腔 至142與滾筒本體122之間。鎖定腔室丨32係以潛水鐘形 式貫現。感應式密封件1 37’於頸之侧面上配置於鎖定腔室 132與氣體分離元件160之間的分隔壁138之末端上。此 感應式密封件基本上由具有與滾筒頸丨24同軸盤繞之電流 載運導體的盤曲管組成。由此電流載運導體誘發之磁場防 止允許熔融金屬200自氣體分離元件160進入鎖定腔室132 中。圖5中之參考符號X識別熔融金屬之浴水準。感應式 、 密封件與滾筒頸124之間的間隙Sp限制氣體自鎖定腔室 132至氣體分離元件丨6〇中之流動。 【圖式簡單說明】 圖1整體地展示熱浸鍍裝置； 圖2展示根據本發明之第一實施例之滾筒之支撐及密 封； 圖3展不根據本發明之第二實施例之滾筒之支撐及密 封； 17 200848545 圖4展示熱浸鍍裝置之氣體迴路，及 圖5展示根據本發明之第三實施例之滾筒之支撐及密 封。 【主要元件符號說明】 9 人孔 17 接合 100 熱浸鍍裝置 102 柱 103 十字頭 104 驅動器 105 支撐臂 110 容器 120 滾筒 122 滾筒本體 123 突起 124 滾筒頸 125 凸緣 130 鎖 132 鎖定腔室 134 通道形出口 136 環狀間隙/滾筒通路 136' 環狀間隙 137 套管 18 200848545 137f 感應式密封件 138 壁 139 環形密封件 142 轴承腔室 143 軸承外殼 144 滾動軸承 146 軸承外殼 147 突起 150 鎖 152 鎖定腔室 154 唇緣密封件 158 收集儲器 160 氣體分離元件 162 升管 163 第二節流閥 170 供應構件 171 容器 172 過濾器 173 泵 174 貯槽 175 供應貯槽 182 節流閥 190 氣管 200 熔融金屬 19 200848545

B 浴水準 K 力 Μ 壓力計 PI 氣壓 Ρ3 氣壓 Ρ4 氣壓 R 轴向方向 Sp 間隙 X 浴水準

Claims (1)

1. 200848545 十、申請專利範圍： 1.一種用於以一熔融金屬（200 )鍍敷一金屬帶的熱浸 鍍裝置（100 )，其具有·· 一用於該熔融金屬（200 )之容器（11〇); 一滾筒（120)，其浸沒於該熔融金屬中且用於在該金 屬帶通過該溶融金屬期間使該金屬帶偏轉或穩定化，其中 該滾筒以一滾筒本體（122)及一滾筒頸（124)為特徵；

   一圍繞該滾筒頸（124 )之鎖（13〇 )，其具有一鎖定 腔室（132); 且具有： —用於將一具有一氣壓之氣體介質（N2)供應至該鎖定 月二室（132)中以相對於該熔融金屬（2〇〇)密封該鎖定腔 室的構件（170)， 其特徵在於： / 有忒鎖疋腔室（132)之鎖浸沒於該熔融金屬（2〇〇) 中；且 緣鎖定腔室（132)係 ^ 水麵形式實現，其具有一 次沒於該炼融金屬（2〇〇 )中 τ儿相對於其開放之通道形 口（ 134) 〇 2·如申請專利範圍第丨 徵在於： 裝置（⑽），其特 一在該滾筒頸（124)上 腔至（142 )，其用以將該滾 中，其中該軸承腔室（142) 的具有一軸承（144)之軸承 筒頌支撐於一支撐臂（1〇5) 經實現使得其相對於該氣體 21 200848545 介質（N2)與該鎖定腔室（132)連通。 3·如申請專利範圍第2項之熱浸鍍裝置，其特徵在於·· 驅動襄置配置於該軸承腔室（142 )中以轉動該滾筒 頸且因此轉動該滾筒本體。 4·如申睛專利範圍第2項或第3項之熱浸鍍裝置，其 特徵在於： 省軸承腔室與該鎖定腔室重合或獨立於其而實現，其 中在後者情況下，該鎖定腔室（132)配置於該軸承腔室 (142)與該滾筒本體（122)之間。 5 ·如申請專利範圍第丨至4項中之一項之熱浸鍍裝置 (100)，其特徵在於： 在該輛承腔室與該滾筒本體之間的具有一圍繞該滾筒 頸（124)之額外鎖定腔室（152)的至少一額外鎖（15〇)。 6·如申請專利範圍第5項之熱浸鍍裝置（1〇〇)，其特 徵在於： 該額外鎖定腔室（152)經實現使得其相對於該氣體介 質（N2)與該鎖定腔室（132)或與該軸承腔室或 與該鎖定腔室及該軸承腔室連通。 7.如申請專利範圍帛2項至第6項中之—項的熱浸鍍 裝置（100)，其特徵在於： 一唇緣密封件（154)配置於兩個鄰近腔室（132、142、 152 )之間且允許該氣體介質在至少一流動方向上通過， 同時在相反方向上充當一尤其用於該熔融金屬之止回閥， 或一環狀間隙（136 )提供於該滾筒頸之外徑與該兩個腔 22 200848545 至之一共同壁中的一開口之邊緣之間以實現一氣體通路。 8·如申請專利範圍第7項之熱浸鍍裝置（10〇)，其特 徵在於： ' 該額外鎖定腔室（152)相對於該熔融金屬（2〇〇)且 對於该氣體介質（N2 )閉合，除了例如呈該環狀間隙形式 之洩漏，且以一用於經由該等洩漏而可能被允許進入該額 外鎖疋腔室（1 52 )之熔融金屬的收集儲器（丨58 )為特徵。

   壯9·如申請專利範圍第5項至第7項中之一項的熱浸鍍 i置（1〇〇)，其特徵在於： 该鎖定腔室（132)或該額外鎖定腔室（152)之曝露 至該熔融金屬（ 200 )的一壁（138)例如以一薄膜之形式 可撓地貫現，且在於歸因於在該鎖定腔室（132)或在該 =外鎖定腔室（152)中之氣壓高於周圍壓力之事實，該 壁中之該開口的面對該滾筒頸之該邊緣係以一平行於滾動 輛而壓抵該滾筒本體（122 )或該熔融金屬中之該滾筒頸 的—突起023)之摩擦密封件（139)的形式實現。 1〇·如申請專利範圍第i至9項中之—項之熱浸鍵裝 置，其特徵在於： 一用於密封該熔融金屬（2〇〇)與該鎖定腔室（132) 或忒頟外鎖疋腔至（i 52 )《間的一過渡區域之感應式密 封件。 11·如申請專利範圍第丨i 1G項中之—項之熱浸鍵裝 置（100) ’其特徵在於： -用於收集自該等腔室（132、142、152)中之一者逸 23 200848545 出至該嫁融金屬中之該氣體 .1貝（Ν2)的氣體分離元件 Q 160) 0 丨 12·如申請專利範圍第u 特徵在於： $之熱改鍍裝置（1〇〇)，其 一氣體循環系統，其中該氣 /乳體分離元件（16〇) 之該氣體介質（ν2 )係藉由 集 該等腔室。 4、應構件（叫而返回至 13·如申請專利範圍第2 、王弟12項中之一項的埶零 鍍裝置（100 )，其特徵在於： …、 ，人：用二供應該氣體介質之構件（17°)經配置使得該氣 Ά)最初引入至該軸承腔室…2)巾，以在其 被允許進入該鎖定僻r宮彡〗U1 一 貝疋i至（132)或該額外鎖定腔室（152) 之前在該軸承腔室内環繞該轴承（144)流動。 14·如申請專利範圍第1 昂 至13項中之一項之熱浸鍍裝 置（1〇〇)，其特徵在於： i. -用於凋節’特定言之用於維持恆定，該鎖定腔室 (132)或該額外鎖定腔室（152)或該軸承腔室（142) 中之該氣壓的控制迴路，其中在該等腔室中之至少一者中 的該氣壓借助於一壓力計（M)來監測。 壯15.一種操作一熱浸鍍裝置（1〇〇)之#法，該熱浸鍍 裝置（1〇〇)具有-以一滾筒本體（122)及一滾筒頸（124) 為特徵之滾筒（12〇 )且具有圍繞該滾筒頸（〖24 )之具有 一鎖定腔室（132)的至少一鎖（13〇)，該方法包含以下 步驟： 24 200848545 輸送一金屬帶通過一溶融金屬（ 200 ); 借助於该滾筒（1 20 )在該熔融金屬中偏轉或穩定化該 金屬帶；及 將一具有一氣壓之氣體介質（N〇供應至該鎖定腔室 (132)中以相對於該熔融金屬（2〇〇)密封該鎖定腔室； 其特徵在於： 自呈一潛水鐘形式的該鎖定腔室（132)之一開放通道 形出口（ 134)至少部分地移位該熔融金屬（2〇〇)，該出 口（134)借助於該鎖定腔室中之該氣壓而浸沒於該熔融 金屬中。 16·如申請專利範圍第15項之方法，其特徵在於： 口亥氣體；丨貝（％ )最初引入一軸承腔室（142 )中以 隨後流入該至少一鎖定腔室（132、152)中。 1入如申請專利範圍第16項之方法，其特徵在於： 該氣體介質（NO自該等鎖定腔室（152、ι32)中之 者逸出至该熔融金屬（2〇〇)中且收集於其中。 18·如申請專利範圍第17項之方法，其特徵在於： 該所收集之氣體介質（NO返回至該軸承腔室（142) 或該等鎖定腔室（132、152)中之一者。 !9·如申請專利範圍第17項或第18項之方法，其特徵 在於： 。在忒鎖疋腔室（132)與該熔融金屬（2〇〇)之間的過 品或中之饴封件（13 9 )由於該鎖定腔室中之該氣壓 而以一平行於滾動軸之作用力壓抵該滾筒本體（122)或 25 200848545 該滾筒頸之一突起（123)。 20.如申請專利範圍第17項之方法，其特徵在於·· 具有該浸沒滾筒之十字頭（1〇3)可借助於一提昇裝置 (102、104)而提昇 g 臨^ /江 2- .» 捉幵出且降低至鋅浴中，以確 開放之鎖定腔室在該鋅浴中 — μ 4向下 丁 < 一岣勻浸沒。 十一、圖式： 如次頁ο 26