TW200837500A

TW200837500A - Photosensitive composition, photosensitive film, producing method for permanent pattern, and printing substrate

Info

Publication number: TW200837500A
Application number: TW096134351A
Authority: TW
Inventors: Masayuki Iwasaki; Hiroshi Kamikawa
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2007-03-12
Filing date: 2007-09-14
Publication date: 2008-09-16
Also published as: CN101627338A; US20100112474A1; KR20100014419A; WO2008111247A1

Description

200837500 九、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係關於形成覆蓋印刷配線板等做爲絶緣膜與保護膜之防焊劑、適於藍紫色雷射曝光系統之感光性組成物、感光性薄膜、使用前述感光性組成物之永久圖案的形成方法、及藉由該永久圖案形成方法使永久圖案形成之印刷基板。 / 【先前技術】在印刷配線基板的領域中，半導體、電容器、電阻等之構件係被軟焊於印刷配線基板之上的。在此情況下，例如，在IR再流動（re-flow)等之焊接製程中，爲了防止軟焊料因軟焊而附著於不必要部分，乃採用將做爲保護膜、絕緣層之相當於前述軟焊之不必要部分形成永久圖案之方法。又，保護膜之永久圖案，係適合1吏用防焊劑。以往，前述永久圖案的形成方法一般係將感光性組成 % 物溶液塗布於前述印刷配線板，藉由積層感光層之液狀光阻劑而產生的永久圖案形成方法，惟近年來，爲了使操作更容易、膜厚均一性優異之故，該液狀光阻劑的乾式薄膜化係爲所期望的。另一方面，在以往以來，對前述感光層的曝光一般係使用光罩進行曝光，但是近年來，爲了追求印刷基板的高生產性與不良率的減少之故’無遮罩（m a s k I e s s)的雷射曝光系統則是受到了注目。 -5- 200837500 此處，已知在焚燒含鹵素原子的化合物時，會產生戴奧辛等的有害物質，而提高了不含鹵素原子的印刷基板之要請。迄今，在含鹵素原子之原料内，在做爲永久圖案使用的防焊劑中，鹵素原子的含有率佔了大部分的係已知有綠色顏料之酞菁綠類（C.I.顏料綠7與C.I.顏料綠36)。因此，已揭示有使用降低鹵素含有率之感光性組成物來取代前述之酞菁綠、混合不含鹵素原子之藍色顏料與不含鹵素原子之黃色或橙色顏料的技術等（參照專利文獻1〜 5) ° 專利文獻1中係揭示了關於倂用花青綠系綠色與黃色顏料之感光性樹脂組成物的技術。又，專利文獻2中則記載了含有1 . 9質量％之C . I .顏料綠7的防焊劑硬化膜之鹵素含量爲8,7 6 7 p p m。又，在專利文獻3中記載一般係摻混防焊劑，於以經、由環氧氯丙烷中間體而合成之環氧樹脂中，含有當作雜質等數百ppm的鹵素，並揭示藉由將環氧樹脂製造法變更爲過氧化法與藉由氯降低處理可從10ppm減少至50ppm以下。又，專利文獻4係揭示有關於倂用不含鹵素的藍色與黃色顏料之光阻劑印墨組成物的技術。又，專利文獻5係揭示有關於使用不含鹵素的藍色與橙色顏料之防焊劑油墨的技術。 -6- 200837500 此等專利文獻1〜5中所揭示的感光性組成物係用以取代前述的酞菁綠類，係含有混合於1分子中不含鹵素原子之監色顏料、與於1分子中不含鹵素原子之黃色及/或橙色顏料的著色劑。又，除了此等專利文獻1〜5以外，亦揭示有關於取代前述酞菁綠類，包含於1分子中含有1種鹵素原子、於分子量中佔有的鹵素含量爲2 5 %以下之銅酞菁顏料的防焊劑 f 油墨之技術（參照專利文獻6)。然而，此等專利文獻1〜5中所揭示的感光性組成物係無法消除（1 )構成著色劑之顏料分散性惡化、難以確保安定的顏料分散液、且難以得到平滑的感光層之點，而在專利文獻6雖然實現了（2)確保前述安定的顏料分散液，卻有保存安定性（顯像性的經時變化）方面的問題。又，在專利文獻1〜6中，難以對於（3)藍紫色雷射光（波長= 405±5nm)呈現所需要的高靈敏度。因此，考慮到在廢棄時對環境影響之光阻劑材料雖然已進入各種的開發，但是現狀卻仍未提供能形成平滑的感光層、保存安定性良好、且當使用藍紫色雷射曝光系統時呈現高靈敏度之感光性組成物、感光性薄膜、使用前述感光性組成物之永久圖案的形成方法、及按照該永久圖案形成方法形成永久圖案之印刷基板。【專利文獻1】特開平9-1 36942號公報【專利文獻2】特開2000-7974號公報 200837500 【專利文獻3】特開2000-232264號公報【專利文獻4】特開2000-290564號公報【專利文獻5】國際公開第WO01/67178號手冊【專利文獻6】國際公開第WOO 2/4 8 7 94號手冊【發明內容】本發明之課題係解決在以往的前述諸問題、達成以下的目的。亦即，本發明之目的係提供形成平滑的感光層、 / 保存安定性良好、且在使用藍紫色雷射曝光系統時呈現高靈敏度之感光性組成物、感光性薄膜、使用前述感光性組成物之永久圖案的形成方法、及按照該永久圖案形成方法形成永久圖案之印刷基板。本發明人等有鑑於前述課題經反覆專心一意檢討的結果，而得到以下的見解。亦即，一種形成平滑的感光層、對於藍紫色雷射光呈現高靈敏度之感光性組成物，其係至少含有著色劑（顏料）、鹼可溶性感光性樹脂、聚合性化合物、光聚合起始劑或光起始劑系化合物、與熱交聯性樹脂之感光性組成物，其中前述著色劑（顏料）係以1 : 1〜1 : 4 的混合比（質量比）含有：於1分子中含有5〜5 〇質量。/Q之_ 素原子且呈黃色之顏料，及於1分子中不含鹵素原子且呈藍色之顏料，藉由摻混彼等的顏料而呈現綠色，全固體成分中的鹵素含量爲9 0 0 p p m以下之感光性組成物，而達成前述目的之見解。本發明係基於本發明人等的前述見解者，前述解決課 -8- 200837500 ‘ 題之手段係如下所示。亦即： < 1 > 一種感光性組成物，其特徵係含有鹼可溶性感光性樹脂、聚合性化合物、光聚合起始劑及光起始劑系€ 物中任一者、熱交聯性樹脂、與著色劑，其中前述著色劑係以1 : 1〜1 : 4的混合比（質量比）含有：於1分子中含有 5〜50質量％之鹵素原子且呈現黃色之顏料，及於1分子中不含鹵素原子且呈藍色之顏料，藉由摻混彼等的顏料而呈 ' 現綠色，全固體成分中的鹵素含量爲900ppm以下。 <2>如前述<1>之感光性組成物，其中呈現藍色之顏料爲酞菁系顏料，呈現黃色之顏料係選自於單偶氮系化合物與二重氮系化合物之中、二芳胺醯（diary |ide)系非色澱 (non-lake)型化合物及色澱（lake)型化合物、雙乙醯乙醯化物（bisacetoacetalide)系化合物、苯并咪唑酮系化合物、金屬錯合物系化合物、喹啉黃化合物、異吲哚啉系化合物與縮合多環系化合物之中、胺基蒽醌系化合物、雜環蒽醌 ^ 系顏料之中任一者之於分子中含有鹵素分子的顏料。 < 3 >如前述< 2 >之感光性組成物，其中酞菁系顏料爲 C ·1 .顏料藍 1 5 ·· 3。 < 4 >如前述< 2 >之感光性組成物，其中呈現黃色之顏料係爲選自於C . I ·顏料黃2、C .丨·顏料黃3、C ·丨·顏料黃6、 C .丨.顏料黃4 9、C · I ·顏料黃7 3、C .丨·顏料黃7 5、C .丨.顏料衷9 7、C · I .顏料黃9 8、C 丨·顏料黃1 1 1、c . I .顏料黃1 1 6、 C · I ·顏料黃1 0、C · I .顏料黃6 0、C ·丨顏料黃1 6 8、C . I .顏料 -9 - 200837500 黃1 2、C · I .顏料黃1 3、C · I.顏料黃1 4、c ·丨顏料黃彳7、c，丨顏料黃5 5、C · I _顏料黃6 3、C ·丨·顏料黃8彳、c •丨顏料黃8 3、 C.I.顏料黃87、C.I.顏料黃106、C.I.顏料黃’ 13、c丨顏料黃1 14、CJ.顏料黃121、C.I·顏料黃124、cj.顏料黃 1 2 6、C .丨·顏料黃1 2 7、C . I .顏料黃1 3 6、c . | ·顏料萤1 5 2、 C.I·顏料頁170、C.I.顏料頁171、C.I·顏料昔172、C I 顏料黃1 7 4、C · I ·顏料黃1 7 6、C ·丨.顏料黃1 8 8、C ·丨·顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃173、C.I.顏料昔154、 C.I·顏料黃93、C.I·顏料黃94、C.I·顏料黃95、C.I.顏料黃128、C.I.顏料黃166、及、CI顏料黃138中之任一者。 < 5 >如前述< 1 >〜< 4 >項中任一項之感光性組成物，其中於該感光性組成物中含有之鹵素成分爲5 0 0 p p m以下。 < 6 >如前述 < 彳 > 〜< 4 >項中任一項之感光性組成物，其中於該感光性組成物中含有之鹵素成分爲 2 5 0 p p m〜 800ppm 。 < 7 >如前述< 1 >〜< 6 >項中任一項之感光性組成物，其中呈現黃色之顏料的平均粒徑爲1〇〇nm〜500nm。 <8> —種感光性薄膜，其係具有將前述<1>〜項中任一項之感光性組成物塗布至支撐體上，隨後藉由乾燥所得之感光層。 <9> 一種感光性薄膜’其特徵係具有支撐體、與在該支撐體上由前述< 1 >〜< 7 >項中任一項之感光性組成物形成之感光層所構成的。 -10- 200837500 < 1 0 > 如前述< 8 >〜< 9 >項中任一項之感光性薄膜，其中在支撐體上係依序具有熱可塑性樹脂層與感光層。 < 1 1 > 一種感光性薄膜，其係前述< 8 >〜< 1 0 >項中任一項之感光性薄膜爲長尺狀，且將其捲成輥狀所構成的。 <12>如前述<8>〜<11>項中任一項之感光性薄膜，其中感光層的厚度爲1μηι〜100μηι。 <13>如前述<8>〜<12>項中任一項之感光性薄膜，其 / 中支撐體係含有合成樹脂，且透明。 <14>如前述<8>〜<13>項中任一項之感光性薄膜，其係於感光層上具有保護薄膜。 < 1 5> —種圖案形成裝置，其特徵係至少具有可照射光的光照射機構、與調變來自該光照射機構之光、並對於藉由將如前述< 1 >〜< 7 >中任一項所記載之感光性組成物塗布在基體表面上、進行乾燥所形成的感光層進行曝光之光調變機構。在該< 1 5>所記載的圖案形成裝置中，前述之 ν 光照射機構係向前述之光調變機構照光。前述光調變機構係將來自前述光照射機構的受光予以調變。經由前述光調變機構所調變的光係對著前述感光層而使之曝光。例如，然後進行前述感光層之顯像時，可形成高精細的圖案。一種圖案形成方法，其特徵在於：進行曝光並進行顯像。 <16> ~種圖案形成裝置，其特徵在於：具備前述<8> 〜< 1 4 >項中任一項之感光性薄膜，至少具有可照射光的光照射機構、與調變來自該光照射機構之光並對於前述感光 -11- 200837500 性薄膜之感光層進行曝光之光調變機構。在該< 1 6 >所之圖案形成裝置中，前述之光照射機構係向前述之光機構照光。前述光調變機構係將來自前述光照射機構光予以調變。經由前述光調變機構所調變的光係對著感光層而使之曝光。例如，然後進行前述感光層之顯像可形成高精細的圖案。 <17> 如前述<15>〜<16>中任一項所記載之圖案 / 裝置，其中光調變機構係更進一步地具有基於形成圖訊而生成控制信號之圖案信號生成機構，並隨著該圖號生成機構所產生的控制信號來調變從光照射機構所的光。在該< 1 7 >所記載之圖案形成裝置中，係藉由使述之光調變機構具有前述之圖案信號生成機構，而得著該由圖案信號生成機構所產生的控制信號來調變前照射機構所照射的光。 <18>如前述<15>〜<17>中任一項所記載之圖案、裝置，其中光調變機構係由具有η個圖素部所構成，夠隨著所形成的圖案資訊來控制在該η個圖素部中之配置的小於η個之任意的前述圖素部。在該< 1 8 >所記圖案形成裝置中，係藉由隨著圖案資訊來控制前述光機構中的η個圖素部中連續配置的小於η個之任意的部，而得以高速地調變來自前述光照射機構的光。 <19> 如前述<15>〜<18>中任一項所記載之圖案裝置，其中光調變機構係爲空間光調變元件。記載調變的受前述時，形成案資案信照射得前以隨述光形成並能連續載之調變圖素形成 -12- 200837500 <20>如前述<19>所記載之圖案形成裝置光調變元件係爲數位微鏡片裝置（D M D)。 <21>如前述<18>〜<20>中任一項所記載裝置，其中圖素部係微鏡片。 <22>如前述<15>〜<21>中任一項所記載裝置，其中光照射機構係可以合倂2條以上之射。在該<22 >所記載之圖案形成裝置中，其係倂2條以上之光來進行照射前述之光照射機構點深度深的曝光之光來進行曝光。結果，使得層的曝光乃可以極高精細度地進行。例如，然感光層之顯像時，就可形成極高精細的圖案。 <23>如前述<15>〜<22>中任一項所記載裝置，其中光照射機構係具有複數的雷射、多將從該複數的雷射所分別照射的雷射光予以聚前述多模光纖維相結合之集合光學系統。在該之圖案形成裝置中，前述之光照射機構係藉由合光學系統而將從前述之複數的雷射所個別照予以聚光，並且可以結合到前述之多模光纖維焦點深度深的曝光之光來進行曝光。其結果，感光層的曝光乃可以極高精細度地進行。例如前述感光層之顯像時，就可形成極高精細的圖 <24> —種永久圖案形成方法，其特徵係如前述< 1 >〜< 7 >項中任一項之感光性組成物，其中空間之圖案形成之圖案形成光來進行照藉由可以合，而得以焦前述之感光後進行前述之圖案形成模光纖、及光而使之與 <23>所記載以前述的集射的雷射光上，而得以使得前述之，然後進行案。包括對於將形成於基體 -13- 200837500 的表面之感光層進行曝光、顯像。 <25>如前述<24>之圖案形成方法，其中至少包括在加熱及加壓中的至少任一種之下，將如前述<8>〜<14>中任一項所記載之感光性薄膜中的感光層積層於基體的表面上之後，再對於該感光層進行曝光。 <26>如前述<24>〜<25>之永久圖案形成方法，其中基體爲已形成配線的印刷配線基板。 <27>如前述<24>〜<26>之永久圖案形成方法，其係使用350nm〜415nm波長的雷射光來進行曝光。 <28>如前述<24>〜<27>之永久圖案形成方法，其中曝光係基於形成的圖案資訊來進行使形成影像圖樣。 <29>如前述<24>〜<28>中任一項所記載之永久圖案形成方法，對於感光層曝光係使用曝光頭’其係配備光照射機構、及具有接受來自前述光照射機構的光並予以射出之η個（但，n爲2以上之自然數）的2次元狀排列之圖素部、能夠因應圖案資訊而控制前述之圖素部的光調變機構之曝光頭，旦係經配置以使得前述圖素部的列方向與該曝光頭的描掃方.向形成預定之設定傾斜角度0 ’ 對於前述之曝光頭，藉著使用圖素部指定機構，由可供使用的前述圖素部之中指定使用於Ν次曝光（但’ Ν爲2 以上之自然數）的前述圖素部；對於前述之曝光頭，藉著圖素部控制機構，依照使得僅有經前述使用圖素部指定機構所指定的前述圖素部參與 -14- 200837500 曝光之方式來進行控制前述圖素部；及使前述曝光頭相對於掃描方向移動而對於前述進行曝光。於該< 2 9 >所記載之永久圖案形成方法中前述之曝光頭，係藉著使用圖素部指定機構，由可的前述圖素部之中指定使用於N次曝光（但，N爲2 自然數）的前述圖素部之步驟；並藉著圖素部控制機照使得僅有經前述使用圖素部指定機構所指定的前部參與曝光之方式來控制前述圖素部。藉由使前述相對於掃描方向移動而對於前述感光層進行曝光，將因前述曝光頭之安裝位置及安裝角度的偏差而引於前述感光層之被曝光面上的前述圖案之解像度的濃度不均一現象予以均一化。結果，前述感光層之得以高精細地進行。例如，然後藉由進行前述感光像而形成高精細的圖案。 <30>如前述<29>項所記載之永久圖案形成方中曝光係可藉由複數個曝光頭來進行，使用圖素部段係從藉由複數個前述曝光頭所形成的被曝光面上曝光範圍的頭間連繫區域之參與曝光的圖素部中，前述頭間連繫區域中的用以實現N次曝光所使用之素部。於該< 3 0 >所記載之永久圖案形成方法中，曝由複數個曝光頭來進行，使用圖素部指定手段係從數個前述曝光頭所形成的被曝光面上之重複曝光範間連繫區域之參與曝光的圖素部中，指定在前述頭感光層，對於供使用以上之構，依述圖素曝光頭乃可以起形成變異及曝光乃層之顯法，其指定手之重複指定在前述圖光係藉藉由複圍的頭間連繫 -15- 200837500 區域中的用以實現N次曝光所使用之前述圖素部，藉以將因前述曝光頭之安裝位置及安裝角度的偏差而引起形成於前述感光層之被曝光面上的前述圖案之解像度的變異及濃度不均一現象予以均一化。結果，前述感光層之曝光乃得以高精細地進行，例如，然後再藉由進行前述感光層之顯像而形成高精細的圖案。 <31> 如前述<29>項所記載之永久圖案形成方法，其中曝光係可藉由複數個曝光頭來進行，使用圖素部指定手段係從藉由複數個前述曝光頭所形成的被曝光面上之重複曝光範圍的頭間連繋區域以外之參與曝光的圖素部中，指定在前述頭間連繋區域以外之區域中的用以實現N次曝光所使用之前述圖素部。於該<3 1 >所記載之永久圖案形成方法中，曝光係可藉由複數個曝光頭來進行，使用圖素部指定手段係從藉由複數個前述曝光頭所形成的被曝光面上之重複曝光範圍的頭間連繫區域以外之參與曝光的圖素部、中，指定在前述頭間連繫區域以外之區域中的用以實現N 次曝光所使用之前述圖素部’乃可以將因前述曝光頭之安裝位置及安裝角度的偏差而引起形成於前述感光層之被曝光面上的前述圖案之解像度的變異及濃度不均一現象予以均一化。結果，前述感光層之曝光乃得以高精細地進行，例如，然後再藉由進行前述感光層之顯像而形成高精細的圖案。 <32>如前述<29>〜<31>中任一項之永久圖案形成方 -16- 200837500 法，其中設定傾斜角度θ係經設定成具有符合0 - 0 ideal 的關係，而前述之Θ ideal，相對於N次曝光之次數N、圖素部之列方向的個數S、前述圖素部之列方向之間隔p、及於曝光頭呈傾斜狀態下沿著垂直於該曝光頭描掃方向的方向上之圖素部的列方向之間距5而言，係符合下式：s p s i η Θ idealS Ν(5 0 <33>如前述<29>〜<32>中任一項之永久圖案形成方法，其中Ν次曝光之Ν係爲3以上的自然數。於前述<33> 所記載之永久圖案形成方法中，係藉由使Ν次曝光之Ν成爲3以上之自然數，來進行多重繪圖。結果，由於補正的效果，乃可以將因前述曝光頭之安裝位置及安裝角度的偏差而引起形成於前述感光層之被曝光面上的前述圖案之解像度的變異及濃度不均一現象，予以更精密地均一化。 <34>如前述<29>〜<33>中任一項之永久圖案形成方法，其中使用圖素部指定機構係具備：光點位置檢出機構，其係用以檢出經由圖素部而生成、當做構成被曝光面上的曝光範圍之圖素單位的在被曝光面上之光點位置的機構；以及圖素部選擇機構，其係基於前述光點位置檢出機構所檢出的結果，來選擇用以實現Ν次曝光所使用的圖素部之機構。 <35>如前述<29>〜<34>中任一項之永久圖案形成方法，其中使用圖素部指定機構係以行爲單位來指定用以實 -17- 200837500 現N次曝光上所使用的使用圖素部。 <36>如前述<34>〜<35>中任一項之永久圖案形成方法，其中先點fii置檢出機構’係基於所檢出的至少2個光點iu置，來界定在使曝光頭呈傾斜狀態下，被曝光面上光點之列方向、與前述曝光頭的掃描方向所形成的實質傾斜角度0 ’’且圖素部選擇機構係依照得以達成吸收前述之實質傾斜角度0 ’與設定傾斜角度Θ間之誤差的方式來選擇使用圖素部。 <37>如前述<36>之永久圖案形成方法，其中實質傾斜角度0 ’係爲在使曝光頭呈傾斜之狀態下，被曝光面上光點之列方向、與前述曝光頭的掃描方向所形成的複數個實質傾斜角度之平均値、中位數、最大値及最小値中之任一者。 <38>如前述<34>〜<37>中任一項之永久圖案形成方法，其中圖素部選擇機構係基於實質傾斜角度0 ’來導出滿、:. 足t tan0，=Ν(惟，Ν係代表Ν次曝光之次數Ν)的關係之接近t之自然數τ，並選擇於配列有m行（惟，m係代表2 以上之自然數）的圖素部中之第1行到第T行的前述圖素部來做爲使用圖素部。 <39>如前述<34>〜<38>中任一項之永久圖案形成方法，其中圖素部選擇機構係基於實質傾斜角度0 ’來導出滿足t t a η 0，= N (惟，N係代表N次曝光之次數N)的關係之接近t之自然數Τ，將於配列有m行（惟，m係代表2以上 -18- 200837500 之自然數）的圖素部中之第（Τ+1 )行到第m行的前述圖素部界定爲不使用圖素部，並選擇該不使用圖素部以外的前述圖素部來做爲使用圖素部。 <40> 如前述<34>〜<39>中任一項之永久圖案形成方法，其中圖素部選擇機構係在至少包括藉由複數個圖素部列所形成的被曝光面上之重複曝光範圍的區域中之 (1 )依照使得對於理想的N次曝光之曝光過多區域' 及曝光不足區域的面積總和成爲最小的方式來選擇使用圖素部之機構， (2 )依照使得對於理想的N次曝光之曝光過多區域白勺圖素單位數等於曝光不足區域的圖素單位數之方式來選擇使用圖素部之機構， (3) 依照使得對於理想的N次曝光之曝光過多區域的面積成爲最小、且不產生曝光不足區域的方式來選擇使用圖素部之機構，及 (4) 依照使得對於理想的N次曝光之曝光不足區域的面積成爲最小、且不產生曝光過多區域的方式來選擇使用圖素部之機構中之任一者。 <41>如前述<34>〜<40>中任一項之永久圖案形成方法，其中圖素部選擇機構係在藉由複數個圖素部列所形成的被曝光面上之重複曝光範圍的頭間連繫區域中之 (1 )依照使得對於理想的N次曝光之曝光過多區域、 -19- 200837500 及曝光不足區域的面積總頭間連繫區域之曝光的圖擇該不使用圖素部以外的機構， (2) 依照使得對於理圖素單位數等於曝光不足於前述頭間連繫區域之S 部，並選擇該不使用圖素圖素部之機構， (3) 依照使得對於理面積成爲最小、且不產生述頭間連繫區域之曝光的選擇該不使用圖素部以外之機構，及 (4) 依照使得對於理面積成爲最小、且不產生述頭間連繫區域之曝光的選擇該不使用圖素部以外之機構中之任一者。 <42> 如前述<41 >之素部係以行爲單位加以界 < 4 3 > 如前述<29>〜和成爲最小的方式，從關於前述素部來界定不使用圖素部，並選前述圖素部來做爲使用圖素部之想的N次曝光之曝光過多區域的區域的圖素單位數之方式，從關 i光的圖素部來界定不使用圖素部以外的前述圖素部來做爲使用想的N次曝光之曝光過多區域的曝光不足區域的方式，從關於前圖素部來界定不使用圖素部，並的前述圖素部來做爲使用圖素部想的N次曝光之曝光不足區域的曝光過多區域的方式，從關於前圖素部來界定不使用圖素部，並的前述圖素部來做爲使用圖素部永久圖案形成方法，其中不使圖定。 <42>中任一項之永久圖案形成方 -20- 200837500 法，其爲了指定使用圖素部指定機構中的使用圖素部，乃於可供使用的前述圖素部之中，相對於N次曝光之N，只使用構成每（N -1 )列的圖素部列之前述圖素部來進行參照曝光。於該<43>所記載之永久圖案形成方法中，爲了指定使用圖素部指定機構中的使用圖素部，乃於可供使用的前述圖素部之中，相對於N次曝光之N，只使用構成每（N -1 ) 列的圖素部列之前述圖素部來進行參照曝光，而可以得到略呈1次繪圖之單純的圖案。結果，即可容易地指定前述頭間連繫區域中的前述圖素部。 <44>如前述<29>〜<43>中任一項之永久圖案形成方法，其爲了指定使用圖素部指定機構中的使用圖素部，乃於可供使用的前述圖素部之中，相對於N次曝光之N，只使用構成每1 / N行的圖素部行之前述圖素部來進行參照曝光。於前述<44 >所記載之永久圖案形成方法中，爲了指定使用圖素部指定機構中的使用圖素部，乃於可供使用的前 ' 述圖素部之中，相對於N次曝光之N，只使用構成每1/N 行的圖素部行之前述圖素部來進行參照曝光，而可以得到略呈1次繪圖之單純的永久圖案。結果，即可容易地指定前述頭間連繫區域中的前述圖素部。 <45> 如前述<29>〜<44>中任一項之永久圖案形成方法，其中使用圖素部指定機構係具有做爲光點位置檢出機構之狹縫和光檢出器、以及做爲圖素部選擇機構的連接於前述光檢出器之演算裝置。 -2 1- 200837500 <46> 如前述<29>〜<45>中任一項之永久圖案形成方法，其中N次曝光之N係3以上7以下之自然數。 <47> 如前述<29>〜<46>中任一項之永久圖案形成方法，其中光調變機構係更進一步具有基於所形成的圖案資訊而生成控制信號之圖案信號生成機構所構成’並隨著該圖案信號生成機構所產生的控制信號來調變從光照射機構所照射的光。在前述<47 >所記載之永久圖案形成方法中’ 藉由使光調變機構具有前述之圖案信號生成機構’以使隨著該圖案信號生成機構所產生的控制信號來調變從前述之光照射機構所照射的光。 <48>如前述<29>〜<47>中任一項之永久圖案形成方法，其中光調變機構係爲空間光調變元件。 <49> 如前述<48>之永久圖案形成方法，其中空間光調變元件係爲數位微鏡片裝置（D M D)。 <5〇>如前述<29>〜<49>中任一項之永久圖案形成方法，其中圖素部係微鏡片。 <51>如前述<29>〜<50>中任一項之永久圖案形成方法’其係具有以使表示圖案資訊之圖案的預定部分之尺寸、與可以藉由所指定的使用圖素部予以實現的對應部分之尺寸一致的方式’來變換前述之圖案資訊的變換機構。 <52>如則述<29>〜<51>中任一項之永久圖案形成方法’其中光照射機構係可以合倂2條以上之光來進行照射。L則述< 5 2 >所記載之永久圖案形成方法中，由於可以 -22- 200837500 光照射機構係可以合倂2條以上之光來進行照射，因而可以曝光焦點深度深的曝光之光來進行曝光。結果，前述感光性薄膜之曝光乃得以極高精細地進行。例如，然後，再進行前述感光層之顯像時，可以形成極高精細的圖案。 <53>如前述<29>〜<52>中任一項之永久圖案形成方法’其中光照射機構係具有複數個雷射、多模光纖、及將從該複數個雷射所分別照射的雷射光予以聚光而使之與前述的多模光纖相結合之集合光學系統。於前述< 5 3 >所記載之永久圖案形成方法中，係可以藉由前述光照射機構，將由前述之複數個雷射所分別照射的雷射光予以聚光，而使之與前述的多模光纖相結合之集合光學系統，因而可以曝光焦點深度深的曝光之光來進行曝光。結果，前述感光性薄膜之曝光乃得以極高精細地進行。例如，然後再進行前述感光層之顯像時，可以形成極高精細的圖案。 <54>如前述<24>〜<53>中任一項之永久圖案形成方法，其係在進行曝光之後，再對於感光層進行顯像處理。於前述<54 >所記載之永久圖案形成方法中，其係在進行曝光之後，再對於感光層進行顯像處理，就可以形成高精細的圖案。 <55> 如前述<54>之永久圖案形成方法，其係在進行顯像之後，再進行永久圖案之形成。 <56>如前述<55>之永久圖案形成方法，其係在進行顯像之後，再對於感光層進行硬化處理。 -23- 200837500 <57>如前述<56>之永久圖案形成方法，其理係全面曝光處理、及在120〜200 °C下進行的全理中之至少任一種。 <58>如前述<56>〜<57>中任一項之永久圖法，其係形成保護膜、層間絕緣膜及耐焊圖案中一種。 <59> —種永久圖案，其特徵在於：藉由如〜< 5 8 >項中任一項之圖案形成方法來形成。在該載之永久圖案，由於其係藉由前述圖案形成方的’因而形成平滑的感光層、保存安定性係爲良高精細，且可有效地使用於半導體與構件之多層與堆疊配線基板等的高密度安裝上。 <60>如前述<59>之永久圖案，其係爲保護絶緣膜、及耐焊圖案中之至少任一種。該< 6 0 >所久圖案，由於其係形成保護膜、層間絕緣膜、及案中之至少任一種，因而可藉由該膜所具有的絕熱性等來保護配線以避免來自外部的衝擊以及彎 <6 1 > —種印刷基板，其特徵在於：其係藉 <24>〜<58>項中任一項之永久圖案形成方法來圖案。根據本發明，係可解決以往以來的問題，並種平滑的感光層、保存安定性係爲良好、在使用射曝光系統時呈現高靈敏度之感光性組成物、中硬化處面加熱處案形成方之至少任前述<24> <59>所言己法所形成好，且爲配線基板膜、層間 I己載之永 .防焊劑圖緣性、耐曲等。由如前述形成永久可提供一藍紫色雷感光性薄 -24- 200837500 膜、使用前述感光性組成物之永久圖案的形成方法、及藉由該永久圖案形成方法形成永久圖案之印刷基板。【實施方式】實施發明之最佳形態 (感光性薄膜）可做爲本發明之感光性薄膜者係由支撐體、於該支撐體上具有感光層而成的’較佳係在該感光層上具有保護薄膜而成的，可進一步視需要具有其他的構成來形成。可做爲前述感光性薄膜的形態者，若爲依序具備支撐體、感光層者的話，沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，舉例來說，例如其可以是於支撐體上依序具有氧遮斷層、感光層、保護薄膜而成的形態、於支撐體上依序具有緩衝層、氧遮斷層、感光層、保護薄膜而成的形態等。此外，前述感光層可爲單層、亦可爲複數層。〔支撐體〕可做爲前述支撐體者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，較佳係可剝離前述感光層，且光的透過性良好者爲佳，更佳係表面的平滑性爲良好者。煎述支撐體係較佳爲合成樹脂製，且爲透明者，舉例來說，例如其可以是聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、聚（甲基）丙烯酸烷基酯、聚（甲基）丙烯酸酯共聚物、聚氯化乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、賽璐玢、聚偏二氯乙烯共聚物、聚醯胺、聚醯亞胺、氯化乙烯基·乙酸乙烯 -25- 200837500 基共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纖維素系薄膜、尼龍薄膜等的各種塑膠薄膜。此等之中’尤以聚對苯二甲酸乙二酯爲特佳。此等係可以1種來使用、亦可倂用2種以上。此外，可做爲前述支撐體者’舉例來說，例如其可以是亦可使用特開平4-208940號公報、特開平5-80503號公報、特開平5 - 1 7 3 3 2 0號公報、特開平5 · 7 2 7 2 4號公報等所記載之支撐體。可做爲前述支撐體的厚度者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，例如，4〜300Mm爲佳，5〜175μηη 爲較佳。可做爲前述支撐體的形狀者係沒有特別地限制’可根據其目的做適當選擇，長尺狀爲佳。可做爲前述長尺狀的支撐體的長度者係沒有特別地限制’舉例來說’例如其可以是1〇m〜20,000m的長度者。〔感光層〕前述感光層係由感光性組成物所形成。可做爲該感光性組成物者，係含有黏結劑、聚合性化合物、光聚合起始劑、熱交聯性樹脂（熱交聯劑）、著色劑（顏料）、無機充塡劑、熱硬化促進劑、可視需要選擇的其他成分所構成自勺° 又，感光層係其厚度爲5〜1〇〇μηι，在波長410±5nm的吸光度爲1以下係爲所期望的。〔黏結劑〕可做爲前述黏結劑者係包括於側鏈可含有雜環之芳香族基及於側鏈具有乙烯性不飽和鍵之高分子化合物’較佳 -26- 200837500 係前述高分子化合物於側鏈具有羧基。前述黏結劑係不溶於水，且藉由鹼性水溶液而膨潤乃至溶解之化合物爲佳。 -可含有雜環之芳香族基- 可做爲前述可含有雜環之芳香族基（以下，亦有略稱爲「芳香族基」者），舉例來說，例如其可以是苯環、使2個至3個的苯環形成縮合環者、使苯環與5員不飽和環形成縮合環者等。可做爲前述芳香族基的具體例，舉例來說，例如其可以是苯基、萘基、蒽基、菲基、節基、二氫苊基、莽基、苯并吡咯環基、苯并呋喃環基、苯并噻吩環基、吡唑環基、異曙唑環基、異噻唑環基、吲唑環基、苯并異噚唑環基、苯并異噻唑環基、咪唑環基、噚唑環基、噻唑環基、苯并咪唑環基、苯并噚唑環基、苯并噻唑環基、吡啶環基、D奎D林環基、異喹啉環基、嗒畊環基、嘧啶環基、吡阱環基、D太口井環基、喹唑啉環基、喹喏啉環基、醯啶環基、菲D定環g、咔唑環基、卟啉環基、吡喃環基、哌啶環基、暧明：環_、吲哚環基、吲阱環基、色烯環基、啐啉環基、吖D定環基、口非噻阱環基、四唑環基、三畊環基等。此等之中，以煙芳香族基爲佳，苯基、萘基爲較佳。前述芳香族基係可具有取代基，可做爲前述取係舉例來說，例如其可以是鹵素原子、可具有取代基之月安基、烷氧基羰基、羥基、醚基、硫羥基、硫醚基、_丨完其、硝基、氰基；可分別具有取代基之烷基、烯墓、块^ -27- 200837500 基、雜環基、等。可做爲前述烷基者，舉例來說，例如其可以是碳原子* 數爲1至2 0之直鏈狀的烷基、分枝狀的烷基、環狀的院基等° 可做爲前述烷基的具體例者，舉例來說’例如其可以是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、Η——烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八院基、一*十院基、異丙基、異丁基、弟一·丁基、弟一^ 丁基、異戊基、新戊基、1-甲基丁基、異己基、2 -乙基己基、2 -甲基己基、環己基、環戊基、2 -降范基等。此等之中’ 以碳原子數1至12之直鏈狀的烷基、碳原子數3至12之分枝狀的烷基、碳原子數5至1 〇之環狀的烷基爲佳。可做爲前述烷基可具有之取代基者，舉例來說，例如其可以是由氫原子以外的一價非金屬原子團所成之基。可做爲此等取代基者係舉例來說’例如其可以是鹵素原子 (_F、-Br、-Cl、-I)、羥基、烷氧基、烯丙氧基、氫硫基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、胺\基、Ν·烷基胺基、Ν，Ν-二烷基胺基、Ν-芳基胺基、Ν，Ν-二芳基胺基、 Ν-院基-Ν-芳基胺基、醯氧基、胺甲醯氧基、Ν-垸基胺甲醯氧基、Ν-芳基胺甲醯氧基、Ν，Ν-二烷基胺甲醯氧基、Ν，Ν-二芳基胺甲醯氧基、Ν-烷基-Ν-芳基胺甲醯氧基、烷基磺酸氧基、芳基磺酸氧基、醯硫基、醯基胺基、Ν -烷基醯基胺基、Ν-芳基醯基胺基、脲基、Ν’-烷基脲基、Ν’，Ν’-二烷基脲基、Ν'芳基脲基、Ν’，Ν’-二芳基脲基、Ν’-烷基-Ν’-芳基脈基、Ν -院基服基、Ν -芳基脲基、Ν’-院基-Ν-院基脲基、Ν’- -28- 200837500 烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N-芳基脲基、Ν’-芳基-N-烷基脲基、Ν’-芳基-N-芳基脲基、Ν’，Ν’-二芳基-Ν-烷基脲基、Ν’，Ν’-二芳基-Ν-芳基脲基、 Ν’-烷基-Ν’-芳基-Ν-烷基脲基、Ν’-烷基-Ν’-芳基-Ν-芳基脲基、烷氧基羰基胺基、烯丙氧基羰基胺基、Ν-烷基-Ν-烷氧基羰基胺基、Ν-烷基烯丙氧基羰基胺基、Ν-芳基-Ν-烷氧基羰基胺基、Ν-芳基-Ν-烯丙氧基羰基胺基、甲醯基、醯基、羧基、烷氧基羰基、烯丙氧基羰基、胺，甲醯基、Ν-烷基胺甲醯基、Ν，Ν-二烷基胺甲醯基、Ν-芳基胺甲醯基、Ν，Ν-二芳基胺甲醯基、Ν-烷基-Ν-芳基胺甲醯基、烷基亞颯基、芳基亞颯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺I基（_S03 Η) 及其共軛鹼（稱爲磺酸根基）、烷氧基磺醯基、烯丙氧1基磺醯基、胺亞磺醯基、N-烷基胺亞磺醯基、N，N-二烷基安亞磺醯基、N-芳基胺亞磺醯基、N，N-二芳基胺亞磺醯基、N-烷基-N-芳基胺亞磺醯基、胺磺醯基、N-烷基胺磺醯基、N，N-二烷基胺磺醯基、N-芳基胺磺醯基、N，N-二芳基胺磺醯基、 N-烷基-N-芳基胺磺醯基、膦酸基（-P03H2)及其共軛鹼（稱爲膦酸根基）、二烷基膦酸基（-P〇3(alkyl)2)(以下，「alkyl」係意味著烷基）、二芳基膦酸基（-P〇3(aryl)2)(以下，「aryl」係意味著芳基）、烷基芳基膦酸基（-P〇3(alkyl)(aryl))、單烷基膦酸基（_P〇3 (alkyl))及其共軛鹼（稱爲烷基膦酸根基）、單芳基膦酸基（-P〇3H(aryl))及其共軛鹼（稱爲芳基膦酸根基）、膦酸氧基（-〇P〇3H2)及其共軛鹼（稱爲膦酸根氧基）、二烷基膦酸氧基（-〇P〇3H(alkyl)2)、二芳基膦酸氧基 -29- 200837500 (-〇P03(aryi)2)、烷基芳基膦酸氧基（-〇ρ〇3(3丨ky|)(ary丨））、單院基膦酸氧基（-op 03H (alkyl))及其共軛鹼（稱爲烷基膦酸根氧基）、單芳基膦酸氧基（-〇P〇3H(ary|))及其共軛鹼（稱爲芳基膦酸根氧基）、氰基、硝基、芳基、烯基、炔基、雜環基、矽烷基等。可做爲此等取代基中之烷基的具體例，可舉例如前述之烷基。可做爲前述取代基中之芳基的具體例，苯基、聯苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、三甲苯基、異丙苯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羥基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙醯氧基苯基、苯甲醯氧基苯基、甲基硫苯基、苯基硫苯基、甲基胺基苯基、二甲基胺基苯基、乙醯胺基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基苯基羰基、苯氧基羰基苯基、N -苯基胺甲醯基苯基、氰基苯基、磺酸基苯基、磺酸根基苯基、膦酸基苯基、膦酸根基苯基等。可做爲前述取代基中的烯基的具體例，舉例來說，例如其可以是乙烯基、丙烯基、1-丁烯基、肉桂基、2 -氯-1-乙烯基等。可做爲前述取代基中的炔基的具體例，舉例來說，例如其.可以是乙炔基、1 -丙炔基、1 - 丁炔基、三甲基矽烷基乙炔基等。可做爲前述取代基中的醯基（R Q1 C〇-)之R G 1者，舉例來說，例如其可以是氫原子、前述之烷基、芳基等。 -30- 200837500 此等取代基院氧基、’烯丙氧二烷基胺基、醯氧基、酿基胺基丙氧基鑛基、胺甲醯基、N-芳基基、磺酸根基、胺磺醯基、N-芳酸基、膦酸根基膦酸基、烷基膦膦酸氧基、膦酸又，可最爲其可以是吡啶基基係舉例如三甲另一方面，其可以是除去前之2價有機殘基伸烷基、碳原子到1 0之環狀伸烷像這樣的取佳的具體例子， 2-氯乙基、三氟基甲基、s-丁氧基、苯氧基甲基之中，尤以鹵素原子（-F、-Br、-Cl、-I)、基、院硫基、芳硫基、N_烷基胺基、N，N-氧基、N-烷基胺甲醯氧基、N_芳基胺甲醯、甲醯基、醯基、羧基、烷氧基羰基、烯甲醯基、N-烷基胺甲醯基、N，N-二烷基胺胺甲醯基、N-烷基-N-芳基胺甲醯基、磺酸胺磺基、N-烷基胺磺醯基、N，N-二烷基基胺磺_基、N-烷基-N-芳基胺磺醯基、膦、二院基膦酸基、二芳基膦酸基、單烷基酸根基、單芳基膦酸基、芳基膦酸根基、根氧基、芳基、烯基等爲佳。前述取代基中的雜環基，舉例來說，例如、_ D疋基等’可做爲前述取代基中的矽烷基砂院基等。則述之烷基中的伸烷基，舉例來說，例如述碳數爲1到2 0之烷基上的任何1個氫原子 ;例.如，較宜是碳原子數爲1到]2之直鏈狀數爲3到12之分枝狀伸烷基、碳原子數爲5 基。代基與伸院基組合而得到的取代院基之較舉例來說，例如其可以是氯甲基、溴甲基、甲基、甲氧基甲基、異丙氧基甲基、丁氧基丁基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲、甲基硫甲基、甲苯硫甲基、吡啶甲基、 -3 1- 200837500 四甲基哌啶甲基、N -乙醯基四甲基哌啶甲基、三甲基矽烷基甲基、甲氧基乙基、乙基胺基乙基、二乙基胺基丙基、味咐代丙基、乙醯氧基甲基、苯甲醯氧基甲基、N-環己基胺甲醯氧基乙基、N-苯基胺甲醯氧基乙基、乙醯胺基乙基、 N-甲基苯甲醯胺基丙基、2-側氧乙基、2-側氧丙基、羧基丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、胺甲醯基甲基、N -甲基胺甲醯基乙基、N，N -二丙基胺甲醯基甲基、N-(甲氧基苯基）胺甲醯基乙基、N-甲基 -N-(磺酸基苯基）胺甲醯基甲基、磺酸基丁基、磺酸根基丁基、胺磺醯基丁基、N-乙基胺磺醯基甲基、N，N-二丙基胺磺醯基丙基、N-甲苯胺磺醯基丙基、N-甲基-N-(膦酸基苯基）胺磺醯基辛基、膦酸基丁基、膦酸根基己基、二乙基膦酸基丁基、二苯基膦酸基丙基、甲基膦酸基丁基、甲基膦酸根基丁基、甲苯膦酸基己基、甲苯膦酸根基己基、膦酸氧基丙基、膦酸根氧基丁基、苄基、苯乙基、α-甲基苄基、 1- 甲基-1-苯基乙基、Ρ-甲基苄基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2 -甲基烯丙基、2 -甲基丙烯基甲基、 2- 丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基等。可做爲前述芳基者，舉例來說，例如其可以是苯環、由2個至3個的苯環形成縮合環者、由苯環與5員不飽和環形成縮合環者等° 前述芳基的具體例，舉例來說，例如其可以是苯基、萘基、蒽基、菲基、節基、二氫危基、蒂基等。此等之中，以苯基、萘基爲佳。 -32- 200837500 前述之烷基也可以具有取代基，像這樣的之烷基（以下，有稱爲「取代芳基」的情況），例如其可以是在SU述之方基形成環的碳原子上代基的由氫原子以外之〜價非金屬原子團所構可做爲前述芳基之可以具有的取代基者，是例示來做爲前述之烷基、取代烷基、前述之具有的取代基之物。可做爲前述取代芳基之較佳具體例，舉例其可以是聯本基、甲苯基、二甲苯基、三甲苯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、基、羥基苯基、甲氧基苯基、甲氧基乙氧基苯基苯基、苯氧基苯基、甲基硫苯基、甲苯硫苯基苯基、二乙基胺基苯基、味啉代苯基、乙麟苯甲醯氧基苯基、N -環己基胺甲醯氧基苯基、醯氧基苯基、乙醯胺基苯基、N -甲基苯甲醯胺基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基羰基苯基、胺甲醯基苯基、N -甲基胺甲醯基苯丙基胺甲醯基苯基、N-(甲氧基苯基）胺甲醯基基(磺酸基苯基）胺甲醯基苯基、磺酸基苯_ 苯基、胺磺醯基苯基、N -乙基胺磺醯基苯基、胺磺醯基苯基、N -甲苯胺磺醯基苯基、N -甲| 苯基）胺磺醯基苯基、膦酸基苯基、膦酸根基笮膦酸基本基、一本基滕酸基苯基、甲基膦酸g 膦酸根基苯基、甲苯膦酸基苯基、甲苯膦酸衽具有取代基舉例來說，具有做爲取成之基。例如，較宜院基的可以來說，例如基、異丙苯三氟甲基苯基、烯丙氧基、乙基胺氧基苯基、 N-苯基胺甲基苯基、羧、氯苯氧基基、N，N -二苯基、N-甲 '磺酸根基 N，N-二丙基 s-n-(膦酸基 :基、二乙基苯基、甲基基苯基、烯 -33- 200837500 丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2 -丁烯基苯基、2 -甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基、3-丁炔基苯基等。前述烯基卜〇(8()2) = (：([^3)(只()4))及炔基（-(^(：(|^5))，舉例來說，例如其可以是R02、RQ3、RQ4、及rQ5爲由一價的非金屬原子團所構成的基之物。前述R Q 2、R G 3、R Q 4、RQ 5，舉例來說，例如其可以是氫原子、鹵素原子、烷基、取代烷基、芳基、取代芳基等。此等之具體例子，舉例來說’例如其可以是例示來做爲前述的例子者。此等之中，較宜是氫原子、鹵素原子、碳原子數爲1到1 〇之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基。前述烯基及炔基之較佳具體例，舉例來說，例如其可以是乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、1-戊烯基、1-己烯基、 1-辛烯基、1-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丁燒基、2 -苯基-1-乙傭基、2 -氣-1-乙細基、乙快基、1_ 丙炔基、1 _ 丁炔基、苯基乙炔基等。前述雜環基，舉例來說’例如其可以是例示來做爲取代烷基之取代基的吡啶基等。前述之氧基（RG6〇-)’舉例來說，例如其可以是RQ6爲由除了氫原子以外的一價非金屬原子團所構成的基之物。此等氧基，舉例來說’例如其可以是烷氧基、烯丙氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、N-烷基胺甲醯氧基、N -芳基胺甲醯氧基、Ν,Ν-二烷基胺甲醯氧基、Ν,Ν·二芳基胺甲醯氧基、Ν -烷基-Ν-芳基胺甲醯氧基、烷基磺酸氧基、芳基磺酸 -34- 200837500 氧基、膦酸氧基、膦酸根氧基等爲佳。此等之中的院基及芳基，舉例來說，例如其可以是例示來做爲前述之烷基、取代烷基、芳基及取代芳基之物。又，可做爲酸氧基中的醯基（R Q 7 C Ο -)，舉例來說，例如， R G 7可以是列舉來做爲先前的例子之烷基、取代烷基、芳基以及取代芳基之物。此等的取代基之中，尤以烷氧基、烯丙氧基、醯氧基、芳基磺酸氧基爲較佳。較佳的氧基的具體例’舉例來說，例如其可以是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、苄氧基、烯丙氧基、苯乙基氧基、羧基乙氧基、甲氧基^基乙氧基、乙氧基鑛基乙氧基、甲氧基乙氧基、苯氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、味啉代乙氧基、味啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧基乙氧基、苯氧基、甲苯氧基、二甲苯基氧基、三甲苯基氧基、三甲苯基氧基、異丙苯基氧基、甲氧基苯氧基、乙氧基苯氧基、氯苯氧基、溴苯氧基、乙醯氧基基、苯甲醯氧基基、萘氧基、苯基磺醯基氧基、膦酸氧基、膦酸根氧基等。亦可含有醯胺基之胺基（RQ8NH-、（RQ9)(RQ1Q)N-)，舉例來說，例如其可以是RQ8、RQ9及RQ1Q爲由除了氫原子以外之一價的非金屬原子團所構成的基之物。另外，R Q 9和 RM0也可以鏈結而形成環。前述胺基，舉例來說，例如其可以是N -烷基胺基、N，N -二烷基胺基、N -芳基胺基、Ν,Ν -二芳基胺基、N -烷基-N- -35- 200837500 芳基胺基、醯基胺基、N-烷基醯基胺基、N-芳基醯基胺基、脲基、Ν’-烷基脲基、Ν’，Ν’-二烷基脲基、Ν’-芳基脲基、Ν’，Ν’-二芳基脲基、Ν’-烷基-Ν’-芳基脲基、Ν-烷基脲基、Ν-芳基脲基、Ν、烷基-Ν-烷基脲基、Ν’-烷基-Ν-芳基脲基、Ν’，Ν’-二烷基-Ν-烷基脲基、Ν’-烷基-Ν’-芳基脲基、Ν’，Ν’-二烷基 -Ν-烷基脲基、Ν’，Ν’-二烷基- Ν’-芳基脲基、Ν’-芳基-Ν-烷基脲棊、Ν’-芳基-Ν-芳基脲基、Ν’，Ν’-二芳基-Ν-烷基脲基、 Ν’，Ν’-二芳基-Ν-芳基脲基、Ν’-烷基-Ν’-芳基-Ν-烷基脲基、 Ν’-烷基- Ν’-芳基-Ν-芳基脲基、烷氧基羰基胺基、烯丙氧基羰基胺基、Ν -烷基·Ν -烷氧基羰基胺基、Ν -烷基-Ν-烯丙氧基羰基胺基、Ν-芳基-Ν-烷氧基羰基胺基、Ν-芳基-Ν-烯丙氧基羰基胺基等。此等之中的烷基及芳基，舉例來說，例如其可以是例示來做爲前述之烷基、取代烷基、芳基及取代芳基之物。又，醯基胺基、Ν-烷基醯基胺基、Ν-芳基醯基胺基中的醯基（RQ7C〇-)2RQ7係如前述。在此等之中，更宜是N-院基胺基、N，N-二烷基胺基、N-芳基胺基、醯基胺基。較佳的胺基之具體例，舉例來說，例如其可以是甲基胺基、乙基胺基、二乙基胺基、味啉代基、哌啶基、吡啶基、苯基胺基、苯甲醯胺基、乙醯胺基等。前述之磺醯基（RQ11-S〇2-)，舉例來說，例如其可以是 RQ11爲由一價的非金屬原子團所構成的基之物。像這樣的磺醯基，例如，烷基磺醯基、芳基磺醯基等。此等之中的烷基及芳基，舉例來說，例如其可以是例示做 -36- 200837500 爲前述之烷基、取代烷基、芳基及取代芳基者。前述磺醯基的具體例，舉例來說，例如其可以是丁基石黃酸基、苯基磺醯基、氯苯基擴醯基等。前述磺着根基（-s 0 3 -)係如前所述，意味著磺酸基 (-S03H)之共軛鹼陰離子的意思，通常較宜是與對陽離子一同使用。可做爲此等之對陽離子者係可適當地選擇一般所知之物來使用，例如，鑰類（例如，銨類、毓類、錢類、鎭類、吖啶鏺類等）、金屬離子類（例如，Na+、K+、Ca2+、Zn2 +等）。前述羰基（RQ13-CO-)，舉例來說，例如其可以是Rq13 爲由一價的非金屬原子團所構成的基之物。像這樣的羰基，舉例來說’例如其可以是甲醯基、醯基、羧基、烷氧基羰基、烯丙氧基羰基、胺甲醯基、N-烷' 基胺甲醯基、N，N-二烷基胺甲醯基、N-芳基胺甲醯基、N，N-二芳基胺甲醯基、N -烷基- Ν’ -芳基胺甲醯基等。此等之中的烷基及芳基，舉例來說，例如其可以是例示來做爲前述之烷基、取代烷基、芳基及取代芳基之物。可做爲前述羰基者，較佳係甲醯基、醯基、羧基、烷氧基羰基、烯丙氧基羰基、胺甲醯基、Ν-烷基胺甲醯基、 Ν，Ν-二烷基胺甲醯基、Ν-芳基胺甲醯基，更佳係甲醯基、醯基、烷氧基羰基、烯丙氧基羰基。前述羰基的具體例，舉例來說，例如合適者爲甲醯基、乙醯基基、苯甲醯基、羧基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、烯丙氧基羰基、二甲基胺基苯基醚羰基、甲氧基羰基甲氧 •37- 200837500 基羯基、N -甲基胺甲醯基、N —苯基胺甲醯基、nn_二乙基胺甲醯基、味啉代羰基等。可做爲前述亞楓基（RQ14-SO-)者，舉例來說，例如其可以是RQ1 4爲由一價的非金屬原子團所構成的基之物。像追樣的亞颯基，舉例來說，例如其可以是烷基亞楓基、芳基亞颯基、胺亞磺醯基、N_烷基胺亞磺醯基、N，N-二烷基胺亞磺醯基、N -芳基胺亞磺醯基、N，N -二芳基胺亞磺醯基、N -烷基-N -芳基胺亞磺醯基等。此等之中的烷基及芳基’舉例來說’例如其可以是例示來做爲前述之烷基、取代烷基、芳基及取代芳基之物。此等之中，尤以烷基亞颯基、芳基亞颯基爲佳。前述取代亞楓基的具體例，舉例來說，例如合適者有己基亞颯基、苄基亞颯基、甲苯亞颯基等。前述所謂之膦酸基，係指在膦酸基上的一到二個之羥基爲其他的有機側氧基所取代之物的意思；例如，較宜是前述之二烷基膦酸基、二芳基膦酸基、烷基芳基膦酸基、單烷基膦酸基、單芳基膦酸基等。此等之中，更宜是二烷基膦酸基、二芳基膦酸基。前述膦酸基之較佳的具體例子，舉例來說，例如其可以是二乙基膦酸基、二丁基膦酸基、二苯基膦酸基。前述膦酸根基（-P〇3H2-、-Ρ03Η〇係如上所述，意指來自膦酸基（-Ρ〇3 η 2)的酸第一解離、或酸第二解離之共軛鹼陰離子基。通常較宜是與對陽離子一同使用者爲佳。像這樣的對陽離子係可以適宜地選擇一般所知之物來使用，舉 -38- 200837500 例來說，例如其可以是各種的鑰類（銨類、毓類、辚類、銚類、吖啶鑰類等）、金屬離子類（Na+、K+、Ca2+、Zn2 +等）。前述之膦酸根基，可以是在膦酸基之內的羥基經取代成一個有機側氧基之物的共軛鹼陰離子基，像這樣的具體例，舉例來說，例如其可以是前述之單烷基膦酸基 (-P〇3H(alkyl))、單芳基膦酸基（-P〇3H(aryl))之共軛鹼。前述之芳香族係可以藉由將1種以上的含有芳香族基的自由基聚合性化合物、與視情況需要的1種以上之其他的自由基聚合性化合物之共聚合成分，利用一般的自由基聚合法來製造。前述之自由基聚合法，舉例來說，例如其可以是一般的懸浮聚合法或溶液聚合法。前述之含有芳香族的自由基聚合性化合物，例如，較宜是以構造式（A)所代表的化合物、構造式（B)所代表的化合物。

Ri R3 C=C 構造式(A) R2 C-O-L—Ar

z II 〇但’前述構造式（A)中、R1、R2、及R3係表示氫原子或 1價的有機基。L係表示有機基，沒有亦可。Ar係表示可含有雜環之芳香族基。構造式(B) R2 Ar 但，前述構造式（B)中、R 1、R 2、及R 3 '以及、A r係表 -3 9 - 200837500 示與如前述構造式（A)相问的意義。前述L之有機基，舉例來說，例如其可以是由非金屬原子構成的多價有機基，由1到6 0個碳原子、0個到1 0個氮原子、0個到5 0之氧原子、1個到1 〇〇之氫原子、及0個到2 0之硫原子所形成之物。比較具體而言，前述之L的有機基’舉例來說’例如其可以是由以下述的構造單位組合所構成之物、多價萘、多價蒽等。

〇 II—o-s— —N- C— Η 寸〇 II C — Ο~ Η N-C-N— 〇 II —〇- C一 0~ 丨？ Η Η 〇 —Ν—

c- II 〇

前述L之連結基也可以具有取代基，前述之取代基，舉例來說，例如其可以是前述之鹵素原子、羥基、羧基、磺酸根基、硝基、氰基、醯胺基、胺基、烷基、烯基、炔基、芳基、取代氧基、取代磺醯基、取代羰基、取代亞颯基、 -40- 200837500 磺酸基、膦酸基、膦酸根基、矽烷基、雜環基。在前述之以構造式（A)所代表的化合物及以構造式（B) 所代表的化合物之中，從靈敏度觀點來看’以構造式（A)這一方面較理想。又，在前述之構造式（A)中’從安疋性觀點來看，較宜具有連結基；前述L之有機基’從非畫像部之去除性（顯像性）來看，較宜是碳數爲1〜4之院基。以前述之構造式（A)所代表的化合物’係爲含有下述的構造式（I )之構造單位的化合物。又’以前述之構造式（B) 所代表的化合物，係爲含有下述的構造式（11 )之構造單位的化合物。在此等之中，從保存安定性之觀點來看’以構造式（I )之構造單位這一方面較理想。 R! Ra

構造式（I)

R2 Ar 但，在前述構造式（1 )及（H)中，Ri、R2及以及Ar 係代表與前述構造式（A)及（B)相同的意義。在前述構造式（1 )及（n )中，從非畫像部之去除性（顯像性）來看，較宜是1及82爲氫原子、而Rs爲甲基者。又，在前述構造式（I )之L ’從非畫像部之去除性（顯像性）來看，較宜是碳數爲1〜4之烷基。 -41 - 200837500 前述之構造舉例來說，以前述之構造式（A)所代表的化合物、或I；式（Β)所代表的化合物係沒有特別地限定，然f 例如，其可以是下述之例示化合物（1 )〜（3 0 )。一 42- 200837500

43- 200837500

=\ C〇2

Xi (25)

¢26)

在前述之例示化合物（1)〜（30)之中，較宜是（5)、（6)、 (1 1 )、（ 1 4 )及（2 8 );在此等之中，從保存安定性及顯像性之 -44- 200837500 觀點來看，更宜是（5)及（6)。在則述黏合劑中，前述可含有雜環之芳香族基的含羹雖然沒有特別地限定，然而在高分子化合物的全部構造單位爲1 〇〇莫耳％之情況下，較宜是含有20莫耳％以上、更宜是含有3 0〜4 5莫耳％以上之以前述構造式（τ )所代表的構造單位。當前述之含量小於2 〇莫耳。/。時，保存安定性就降低；而超過45莫耳％時，則就會有顯像性下降的情形。 -乙烯性不飽和鍵- 前述之乙烯性不飽和鍵並沒有特別地限定，可以按照目的而適當地選擇，例如，較宜是以下述構造式（瓜）〜（V ) 所代表者。〇

II X- C R3 構造式απ)

X R-| R? R4 r8 -Y-c-c=c 構造式(IV) R7 tR11 構造式（V) —z-c= c R9 R10 但，在前述構造式（瓜）〜（V)中，Ri〜r3及R5〜Rl1係個別獨立地代表1價的有機基。X及丫係個別獨立地代表氧原子、硫原子、或一 R4。Z係代表氧原子、硫原子、或 —N — R4或伸本基。係代表氫原子或1價的有機基。 -45- 200837500 在則述構造（m )中之r ι，例如，較宜是個別獨立地代表氫原子、可具有取代基之烷基等，又由於氫原子、甲基之自由基反應性高的緣故，因而更理想。則述之R2及R3，舉例來說，例如，可以各個獨立爲氫原子、鹵素原子、胺基、羧基、烷氧基羰基、磺酸基、硝基、氰基、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、可具有取代基之院基胺基、可具有取代基之芳基胺基、可具有取代基之院基磺醯基、可具有取代基之芳基磺醯基等；從自由基反應性高的觀點來看，更宜是氫原子、羧基、烷氧羰基、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基。前述FU，例如，較宜是可具有取代基之烷基等；從自由基反應性咼之觀點來看，更宜是氫原子、甲基、乙基、異丙基。此處’可導入的前述取代基，舉例來說，例如其可以是烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、烯丙氧基、鹵素原子、胺基、院基胺基、芳基胺基、羧基、烷氧基羰基、磺酸基、硝基、氰基、醯胺基、烷基磺醯基、芳基磺醯基等。在前述構造式（4)中的FU〜R8，舉例來說，例如其可以是氫原子、鹵素原子、胺基、二烷基胺基、羧基、烷氧基羰基、磺酸基、硝基、氰基、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、可具有取代基之烷基胺基、可具有取代基之芳基胺基、可具有取代基之烷基磺醯基、可具有取代基之芳 -46- 200837500 基磺醯基等爲佳，氫原子、羧基、烷氧基羰基、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基爲較佳。做爲可導入的前述取代基者，例如在前述構造式（丨丨丨）中所列舉例示之物。在則述之構is式（5 )中的R 9 ’例如’較宜是氮原子、可具有取代基之烷基等，從自由基反應性高的觀點來看，更宜是氫原子、甲基。在前述之R1Q及R1 i，舉例來說，例如，可以各個獨立爲氫原子、鹵素原子、胺基、二烷基胺基、羧基、烷氧羰基、磺酸基、硝基、氰基、可具有取代基之院基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、可具有取代基之烷基胺基、可具有取代基之芳基胺基、可具有取代基之烷基磺醯基、可具有取代基之芳基磺醯基等；從自由基反應性高的觀點來看，更宜是氫原子、羧基、烷氧羰基、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基。此處，可導入的前述之取代基，例如，在前述構造（HI ) 中所列舉例示之物。前述之z係代表氧原子、硫原子、一 NR13—或可具有取代基之伸苯基。R13係代表可具有取代基之烷基，從自由基反應性高的觀點來看，較宜是氫原子、甲基、乙基、舞丙基。在以前述之構造式（m )〜（v )所代表的側鏈乙烯性不飽和鍵之中’從聚合反應性高且靈敏度也高的觀點來看， -47- 200837500 更宜是構造式（m)者。在前述高分子化合物中的前述乙烯性不飽和鍵之含量，雖然並沒有特別地限定，然而較宜是0.5〜3.0 m e q / g，更宜是1_〇〜3.0 meq/g，特佳爲1.5〜2·8 meq/g。當前述之含量小於〇· 5 meq/g時，則就會有因硬化反應量少而造成低靈敏度的情況；當高於3 · 0 m e q /g時，就會有保存安定性變差的情況。本文中，前述之含量（meq/g)，例如，係可以藉由碘價滴定來進行測定。將以前述之構造式（ΠΙ )所代表的乙烯性不飽和鍵導入側鏈中的方法，雖然並沒有特別地限定，然而舉例來說，例如其可以是使在側鏈上含有羧基的高分子化合物、與具有乙烯性不飽和鍵及環氧基之化合物，進行加成反應而得到。前述之在側鏈上含有羧基的高分子化合物，舉例來說，例如，可以藉由一般之自由基聚合方法，將含有1種以上之羧基的自由基聚合性化合物、與視情況需要的1種以上之其他的自由基聚合性化合物之共聚合成分來製造；前述之自由基聚合法，舉例來說，例如其可以是懸浮聚合法、溶液聚合法等。前述之具有乙嫌性不飽和鍵及環氧基之化合物，只要是具有此等即可，並沒有特別地限定，然而，例如，較宜是以下述之構造式（VI )所代表的化合物及以式（ΥΠ )所代表的化合物。尤其，從高靈敏度化之觀點來看，較佳爲以構 -48- 200837500 造式（VI )所代表之化合物 h2c=^

(3¾構造式(W) 但，前述構造式（vi)中、R1係代表氫原子或甲基。h 係代表有機基。

但，在前述之構造式（VB)中，R2係代表氫原子或甲基。 U係代表有機基。W係代表4〜7員環之脂肪族烴基。在前述構造式（VI )所代表的化合物及構造式（w )所代表的化合物之中’較宜是以構造式（yj )所代表的化合物；更宜是前述構造式（VI)中的[^之碳數爲彳〜4之伸烷基者。在以則述構造式（VI )所代表的化合物及以構造式（现）所代表的化合物之中，雖然並沒有特別地限定，然而舉例來說，例如其可以是下述之例示化合物（31)〜（4〇)。 -49- 200837500

含有前述羧基之自由基聚合性化合物係舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸、P-羧基苯乙烯等，特佳者係舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸等。前述之向側鏈導入之反應，舉例來說，例如其可以三乙基胺、苄基甲基胺等的3級胺、氯化十二烷基三甲基銨、氯化四甲基銨、氯化四乙基銨等的4級銨鹽、吡啶、三苯基膦等做爲觸媒，於有機溶劑中，在5 0〜1 5 0 °C之反應溫度下，進行反應數小時〜數十小時而完成。前述之側鏈上具有乙烯性不飽和鍵之構造單位，雖然 -50- 200837500 並沒有特別地限定’然而，例如，較宜是以下述構造式（i) 所代表的構造、構造式（i i)所代表的構造、及此等之混合所代表之物。 / ^ |RCx t 〒十 c=ch2

Rb C- O-CH2- CH— 〇-c 構造式（i )

II I 1 II 〇 OH 〇

Ra RcΉ十叫-0— 〇 t〇H2 L「〇一C 丨 II CH2OH 〇構造式（ii) 但，前述構造式（i)及（ii)中、Ra〜Rc係代表氫原子或1 價的有機基。R i係代表氫原子或甲基。L ”係代表可具有連結基之有機基。在高分子化合物中的前述之以構造式（i)所代表的構造乃至構造式（i i)所代表的構造之含量，較宜是2 0莫耳。/。以上，更宜是20〜50莫耳。/〇，特佳爲25〜45莫耳。/。。當前述之含量小於2 0莫耳％時，就會有因硬化反應量少而成爲低靈敏度的情況，當比5 0莫耳％多時，就會有保存安定性變差的情況。 -羧基_ 在本發明之高分子化合物中，爲了提昇非畫像部去除性等之各項性能，也可以具有羧基。前述之羧基’係可以藉著使具有酸基之自由基聚合性化合物進行共聚合而提供給高分子化合物。 -51 - 200837500 像這樣的自由基聚合性化合物所具有的酸基，舉例來說，例如其可以是羧酸、磺酸、磷酸基等，特佳爲羧基。前述之具有羧基的自由基聚合性化合物並沒有特別地限定，可以按照目的而適當地選擇，舉例來說，例如其可以是丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸、P·羧基苯乙烯等。此等之中，較宜是丙烯酸、甲基丙烯酸酯、P-羧基苯乙烯。此等係可以1種單獨使用，也可以倂用2種以上來使用。在黏合劑中的前述羧基之含量宜爲1.0〜4.0 meq/g，較宜是1 .5〜3.0 meq/g。當前述之含量小於1 ·0 meq/g時，就會有顯像性不夠充分的情況；而當超過4.0 meq/g時，則會由於鹼水顯像而使得畫像強度容易受到破壞。此處，前述含量（m e q /g )係可例如藉由使用氫氧化鈉之滴定來進行測定。本發明之高分子化合物，爲了提昇影像度等各項性能之目的，除了前述自由基聚合性化合物之外，較宜是更進 -步地與其他的自由基聚合性化合物共聚合。前述之其他的自由基聚合性化合物，舉例來說，例如，其可以是從丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、苯乙烯類等之中所選取的自由基聚合性化合物等。具體而言，舉例來說，例如，可以是丙烯酸烷酯等之丙烯酸酯類’丙烯酸芳酯、甲基丙烯酸烷酯等之甲基丙烯酸酯類，甲基丙烯酸芳酯、苯乙烯、烷基苯乙烯等之苯乙烯類，烷氧基苯乙烯、鹵化苯乙烯等。 -52- 200837500 前述之丙烯酸酯類，較宜是烷基的碳原子數爲1〜20 者，舉例來說，例如其可以是丙烯酸甲酯、丙.烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸-1 -辛酯、·丙烯酸氯乙酯、丙紙酸2，2 -二甲基羥丙酯、丙嫌酸5-經戊基乙酯、三經甲基丙院單两嫌酸酯、季戊四醇單丙烯酸酯、縮水甘油基單丙烯酸酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸甲氧基苯甲酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四羥基糠酯等。前述之丙烯酸芳酯，舉例來說，例如其可以是丙烯酸苯酯等。前述之甲基丙烯酸酯類，較宜是烷基的碳原子數爲1 〜2 0者，舉例來說，例如其可以是甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸氯苄酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸5-羥基戊酯、甲基丙烯酸 2,2-二甲基-3-羥基丙酯、三羥甲基丙烷單甲基丙烯酸酯、季戊四醇單甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯等。前述芳基甲基丙烯酸酯，舉例來說，例如其可以是甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲酚酯、甲基丙烯酸萘酯等。前述苯乙烯類，舉例來說，例如其可以是甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三曱基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、環己基 -53- 200837500 苯乙嫌、癸基苯乙嫌、节基苯乙烯、氯甲基苯乙儲、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙醯氧基甲基苯乙烯等〇前述烷氧基苯乙烯，舉例來說，例如其可以是甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等。前述鹵素苯乙烯，舉例來說，例如其可以是氯苯乙烯、一氯苯乙嫌、三氯苯乙燒、四氯苯乙烯、五氯本乙細、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙稀、2 -漠基-4-二氣甲基苯乙嫌、4 -氣基-3-三氟/甲基本乙綠等。此等之自由基聚合性化合物係可以1種單獨使用’也可以倂用2種以上來使用。在合成本發明之高分子化合物時所使用的溶劑並沒有特別地限定，可以按照目的而適當地選擇，舉例來說’例如其可以是二氯乙烯、環己酮、甲基乙基酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、2_ 甲氧基乙酸酯、1-甲氧-2-丙醇、1-甲氧-2-丙基乙酸酯、N，N-二甲基甲醯胺、N，N -二甲基乙醯胺、二甲基氧化膦、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。此係可以1種單獨使用，也可以倂用2種以上來使用。本發明之高分子化合物的分子量係以質量平均分子量計，較宜是1〇,〇〇〇以上、低於100,000’更宜是10，000〜 50，000。前述質量平均分子量低於10，000時，硬化膜強度係爲不足，超過1 0 0，0 0 0時會有顯像性降低之傾向。 -54- 200837500 又，在本發明之高分子化合物中’也可以含有未反應的單體。在此情況下，在前述高分子化合物中的前述單體之含量，較宜是在15質量％以下。關於本發明之高分子化合物’係可以1種單獨使用’也可以混合2種以上來使用。又，也可以和其他的咼分子化合物混合使用。可做爲前述之其他高分子化合物之例子者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇’舉例來說例如：特開昭51-131706號、特開昭52-94388號、特開昭64-62375號、特開平2-97513號、特開平3-289656號、特開平61-243869 號、特開2 0 0 2 - 2 9 6 7 7 6號等的各公報所記載的具有酸性基之環氧丙烯酸酯化合物。此處，環氧丙烯酸酯化合物係爲具有從環氧化合物而來之骨架，且於分子中含有乙烯性不飽和雙鍵與羧基之化合物。像這樣的化合物係例如可藉由使多官能環氧化合物與含羧基之單體進行反應’然後加成多鹼酸酐之方法等而得到。又，可做爲前述之其他高分子化合物之例，亦可舉例如本發明以外的在側鏈具有（甲基）丙烯醯基、及酸性基之乙烯基共聚物等° 在此情況下，在本發明的高分子化合物中之前述其他的高分子化合物之含量’較宜是在50質量。/。以下，更宜是 3 0質量％以下。在前述感光性組成物中之前述黏結劑的固體成分含量 -55- 200837500 係以5〜8 0質量。/。爲佳，1 0〜7 0質量。/。爲較佳。該固體成分含量低於5質量％時，感光層的膜強度係容易變弱，該感光層表面的黏性（t a c k)係爲惡化，超過8 0質量。/。時，則曝光靈敏度係爲降低。 <聚合性化合物> 可做爲前述聚合性化合物者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，以在分子中具有至少1個可加成聚合的基，於常壓下沸點爲1 0 0 °C以上之化合物爲佳，可舉例如選自於具有（甲基）丙烯醯基之單體的至少1種爲適宜/ 可做爲前述具有（甲基）丙烯醯基之單體者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，例如，聚乙二醇單（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇單（甲基）丙烯酸酯、苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯等的單官能丙烯酸酯或單宫能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、己二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（丙烯醯氧基丙基）醚、三（丙烯醯氧基乙基）異三聚氰酸酯、三（丙烯醯氧基乙基）三聚氰酸酯、甘油三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷或甘油、雙酚等之於多官能醇進行環氧乙烷或環氧丙烷之加成反應後經（甲基）丙烯酸酯化者；特公昭48-4 1 708 號公報、特公昭50-6034號公報、特開昭5 1 -37 1 93號公報 -56- 200837500 等的各公報所記載之胺基甲酸酯丙烯酸酯類；特開昭 48-64 1 83號公報、特公昭49-43 1 9 1號公報、特公昭 52-304 90號公報等的各公報所記載之聚酯丙烯酸酯類；環氧樹脂與（甲基）丙烯酸之反應生成物的環氧丙烯酸酯類等之多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。此等之中，尤以三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯爲特佳。使用於感光性組成物之聚合性化合物的摻混比例相對於此等之全固體成分量，較佳係1〜50質量％、更佳係5〜 4 0質量％、特佳係10〜30質量％。該聚合性化合物過少時會有光靈敏度係爲降低之傾向，過多時則有顏料之分散安定性係爲降低之傾向。 <光聚合起始劑或光聚合起始系化合物> 前述之光聚合起始劑只要是具有啓動前述聚合性化合物之聚合的能力即可，並沒有特別地限定，雖然可以從公知的光聚合起始劑中適當地選擇’然而’例如’較宜是對於紫外線到可見光具有感光性之物，可以是和光激發之增感劑發生任何作用而生成活性自由基之活性劑，也可以是按照單體的種類而啓動陽離子聚合之起始劑。又，前述之光聚合起始劑較宜是含有至少1種的在約 300〜800奈米（更宜是330〜500奈米）的範圍內具有至少約5 0之分子吸光係數的成分。前述光聚合起始劑，舉例來說’例如其可以是鹵化烴 -57- 200837500 衍生物（例如，具有三畊骨架者、具有噚二唑骨架者、具有噚二唑骨架者等）、氧化膦、六芳基聯咪唑、肟衍生物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鑰鹽、酮肟醚等。前述具有三阱骨架之鹵化烴化合物，舉例來說，例如其可以是若林等著於 Bull.Chem.Soc.Japan，42、2924(1969) 記載之化合物、英國專利1 3884 92號說明書記載之化合物、特開昭53-1 33428號公報記載之化合物、德國專利 3337024號說明書記載之化合物、F.C.Schaefer等於 J.〇rg.Chem.;29、1 527(1 964)記載之化合物、特開昭 6 2-5 8 24 1號公報記載之化合物、特開平5-28 1 72 8號公報記載之化合物、特開平5 - 3 4 9 2 0號公報記載化合物、美國專利第4 2 1 2 9 7 6號說明書所記載之化合物等。前述若林等著於 Bui I.Chem.Soc.Japan，42、2924(1969) 記載之化合物，舉例來說，例如其可以是2 —苯基—4，6 -雙（三氯甲基Μ ,3,5-三畊、2-(4 -氯苯基）-4,6 -雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-(4-甲苯）-4,6-雙（三氯甲基卜1,3,5-三阱、2-(4-甲氧基苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5_三阱、 2-(2,4-二氯苯基）-4,6-雙（三氯甲基）_1,3,5-三哄、2,4,6-參 (三氯甲基）-1,3,5-三阱、2 -甲基-4,6 -雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-11-壬基-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、及2-(01，01，卜三氯乙基）-4,6-雙（三氯甲基）_1,3,5-三阱等。前述英國專利1 3 8 8 4 9 2號說明書記載之化合物’舉例來說，例如其可以是2-苯乙烯基_4,6-雙（三氯甲基卜1,3,5- -58- 200837500 三阱、2-(4-甲基苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基卜彳^卜三阱、2-(4-甲氧基苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基卜^卜三畊、2-(4-甲氧基苯乙烯基）-4-胺基-6-三氯甲基-三阱等。前述特開昭5 3 - 1 3 3 4 2 8號公報記載之化合物，舉例來說，例如其可以是2-(4 -甲氧基-萘基-1-基）-4,6 -雙（三氯甲基）·1,3,5-三阱、2-(4-乙氧基-萘基-1-基）-4,6-雙（三氯甲基）-1, 3,5-三畊、2-〔 4-(2-乙氧基乙基卜萘基-1-基〕-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-(4,7-二甲氧基-萘基-1_ 基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、及2-(二氫苊并-5-基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊等。前述德國專利3 3 3 7 0 2 4號說明書記載之化合物，舉例來說，例如其可以是2-(4-苯乙烯基苯基卜4、6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(4-(4-甲氧基苯乙烯基）苯基）-4、6-雙（三氯甲基）-1 ,3,5-三畊、2-(1-萘伸乙烯基苯基）-4、6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-氯苯乙烯基苯基-4,6-雙（三氯甲基）-1,3，5-三阱、2-(4 -噻吩_2_伸乙烯基苯基）-4,6 -雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-(4-噻吩-3-伸乙烯基苯基）·4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(4-呋喃-2-伸乙烯基苯基）-4,6-雙 (三氯甲基）-1,3,5-三畊、及2-(4-苯并呋喃-2-伸乙烯基苯基）-4,6-雙（三氯甲基卜1,3,5-三阱等。前述 F.C.Schaefer等於 J.Org.Chem·; 29、1 527(1 964) 記載之化合物，舉例來說，例如其可以是2-甲基-4,6-雙（三溴甲基）-1,3,5-三哄、2,4,6-參（三溴甲基）-1,3,5-三阱、 -59- 200837500 2.4.6- 參（二溴甲基）-1,3,5-三阱、2-胺基-4-甲基-6-三（溴甲基）-1,3,5-三畊、及2-甲氧基-4-甲基-6-三氯甲基-1,3,5-三畊等。前述特開昭62-5824 1號公報記載之化合物，舉例來說，例如其可以是2-(4-苯基乙炔基苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-(4-萘基-1-乙炔基苯基-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(4-(4-甲苯乙炔基）苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(4-(4-甲氧基苯基）乙炔基苯基）-4,6-雙 (三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(4-(4-異丙基苯基乙炔基）苯基卜4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(4-(4-乙基苯基乙炔基）苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊等。前述特開平5-28 1 728號公報記載之化合物，舉例來說，例如其可以是2-(4-三氟甲基苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-(2,6-二氟苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三畊、2-(2,6-二氯苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱、2-(2,6-二溴苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-1,3,5-三阱等。前述特開平5-34 920號公報記載化合物，舉例來說，例如其可以是2,4-雙（三氯甲基）-6-[4-(N，N-二乙氧基羰基甲基胺基）-3-溴苯基]-1,3,5-三阱、美國專利第4239850號說明書所記載之三鹵甲基-s-三阱化合物，更進一步可以是 2.4.6- 參（三氯甲基）-s-三阱、2-(4-氯苯基）-4,6-雙（三溴甲基）-s -三畊等。前述美國專利第4 2 1 2 9 7 6號說明書所記載之化合物， -60- 200837500 舉例來說，例如其可以是具有噚二唑骨架之化合物（例如’ 2-三氯甲基-5-苯基-1,3,4-噚二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基）-1,3,4-噚二唑、2-三氯甲基- 5-(1-萘基）-1, 3，4-曙二唑、 2-三氯甲基- 5·(2-萘基）-1,3,4-B萼二唑、2-三溴甲基-5-苯基. -1,3,4-噚二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基）-1,3,4-噚二唑；2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-B号二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基）-1 ,3,4-噚二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基）-彳，3,4-噚二唑、2-三氯甲基- 5-(1-萘基）-1, 3，4-噚二唑、 2-三氯甲基-5-(4-n-丁氧基苯乙烯基）-1,3,4-曙二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-1，3,4-噚二唑等）等。於本發明中適當使用的肟衍生物，舉例來說，例如其可以是3-苯甲醯氧基亞胺基丁 - 2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁 -2 -銅、3 -两酸氧基亞胺基丁 - 2-嗣' 2 -乙酸氧基亞fee基戊，3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基）亞胺基丁 - 2-酮、及 2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙-1-酮等。又，上述以外之光聚合起始劑，舉例來說，其可以是吖啶衍生物（例如，9-苯基吖啶、1 ,7-雙（9、9’-吖啶基）庚烷等）、N-苯基甘胺酸等、多鹵化合物（例如，四溴化碳、苯基三溴甲基颯、苯基三氯甲基酮等）、香豆素類（例如，3-(2-苯并呋喃甲醯基）-7-二乙基胺基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲醯基）-7-(1-吡咯啶基）香豆素、3-苯甲醯-7-二乙基胺基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲醯）-7-二乙基胺基香豆素、3-(4-二甲基胺基苯甲醯）-7-二乙基胺基香豆素、3,3’-羰基雙（5,7-二 -61- 200837500 -η-丙氧基香豆素）、3,3’-羰基雙（7-二乙基胺基香豆素）、3-苯甲醯-7-甲氧基香豆素、3-(2 -呋喃甲醯基）-7 -二乙基胺基香豆素、3-(4-二乙基胺基肉桂醯基）-7-二乙基胺基香豆素、7 -甲氧基- 3- (3 -吡啶羰基）香豆素、3 -苯甲醯-5,7 -二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素、又’特開平5-19475 號公報、特開平7 - 2 7 1 0 2 8號公報、特開2 0 0 2 - 3 6 3 2 0 6號公報、特開2002-363207號公報、特開2002-363208號公報、特開2002-36320 9號公報等所記載之香豆素化合物等）、胺類（例如，4-二甲基胺基安息香酸乙酯、4-二甲基胺基安息香酸η - 丁酯、4 -二甲基胺基安息香酸苯乙酯、4 -二甲基胺基安息香酸2 -酞醯亞胺乙酯、4 -二甲基胺基安息香酸2 -甲基丙烯醯氧基乙酯、五亞甲基雙（4 -二甲基胺基苯甲酸酯）、3 -二甲基胺基安息香酸之苯乙酯、五亞甲某酯、4 -二甲基胺基苯甲醛、2 -氯-4-二甲基胺基苯甲醛、4 -二甲基胺基苄醇、乙基（4 -二甲基胺基苯甲醯）乙酸酯、4 -哌啶苯乙酮、4-二甲基胺基苯偶姻、Ν，Ν_二甲基-4_甲苯胺、Ν,Ν_二乙基-3-乙氧基苯胺、三苄基胺、二苄基苯基胺、Ν -甲基-Ν_ 苯基苄基胺、4-溴基- Ν，Ν-二甲基苯胺、十三烷基胺、胺基氟烷類（〇D Β，〇D Β丨I等）、結晶紫內酯、無色結晶紫等）、醯基氧化膦類（例如，雙（2，4，6 -三甲基苯甲醯）-苯基氧化膦、雙（2,6-二甲氧基苯甲醯卜2,4，4_三甲基-戊基苯基氧化膦、 LucirinTPO等）、金屬茂類（例如，雙（η5 —2,4-環戊二烯基卜雙（2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1基卜苯基）鈦、η5_環戊二烯基-η6-異丙苯基-鐵（1+卜六氟磷酸酯（1_)等）、特開昭 -62- 200837500 53-133428號公報、特公昭57-1819號公報、同57_6096號公報、及美國專利第36 1 54 55號說明書所記載之化合物等。前述酮化合物，舉例來說，例如其可以是二苯甲酮、 2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮、2-乙氧基羰基二苯甲酮、二苯甲酮四羧酸或其四甲基酯、4,4’-雙（二烷基胺基）二苯甲酮類（例'如，4,4’-雙（二甲基胺基）二苯甲酮、4，4，-雙二環己基胺基）二苯甲酮、4,4’-雙（二乙基胺基）二苯甲酮、4,4，-雙（二羥基乙基胺基）二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基胺基二苯甲酮、4,4’ -二甲氧基二苯甲酮、4-二甲基胺基二苯甲酮、4-二甲基胺基苯乙酮、苄、蒽醌、2_第三丁基蒽醌、2 -甲基蒽醌、菲醌、訕酮、噻噸酮、2 -氯-噻噸酮、2，4 -二乙基噻噸酮、苐酮、2-苄基-二甲基胺基-1-(4-味啉代苯基）-1-丁酮、 2 -甲基-1-〔 4-(甲硫基）苯基〕-2-味啉代-1-丙酮、2-經基-2 -甲基-〔4-(1-甲基乙烯基）苯基〕丙醇低聚合物、苯偶姻、苯偶姻醚類（例如，苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻丙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻苯基醚、苄基二甲基縮酮）、吖啶酮、氯吖啶酮、N -甲基吖啶酮、N - 丁基吖啶酮、 N - 丁基-氯吖啶酮等。 < <增感齊!! > > 爲達成調整在向後述感光層進行曝光時之曝光靈敏度及感光波長之目的’除了加入前述之光聚合起始劑外，可以添加增感劑。 -63- 200837500 前述之增感劑係可以適當地選擇做爲後述的光照射機構之可見光線、紫外線光雷射及可見光雷射等。前述之增感劑係可以藉由活性能量線而成爲激發狀態，藉由與其他的物質（例如，自由基產生劑、酸產生劑等）間之相互作用（例如，能量移動、電子移動等）而產生自由基或酸等之有用基。前述之增感劑並沒有特別地限定，可以從公知的增感劑之中適當地選取；舉例來說，例如其可以是公知的多核芳香族類（例如，芘、茈、三鄰亞苯）、_唱類（例如，螢光素、曙紅、紅黴素、若丹明B、孟加拉玫瑰紅）、花青類（例如，吲哚羰花青、噻羰花青、噚羰花青）、部花青類（例如，部花青、羰部花青）、噻阱類（例如，勞式紫、亞甲基藍、甲苯胺藍）、吖啶類（例如，吖啶橙、氯黃素、γ黃素）、蒽酿類（例如’恩醌）、方形鑰類（例如，方形鑰）、Ρ丫 U定酮類（例如，吖啶酮、氯吖啶酮、Ν -甲基吖啶酮、ν - 丁基D丫 D定酮、 N-丁基·氯吖啶酮等）、香豆素類（例如，3-(2_苯并呋喃甲醯基）-7 — —乙基胺基香丑素、3-(2 -苯并呋喃甲醯基）-7-(1-口比略卩定基）香丑素、3-本甲釀-7-一乙基胺基香豆素、3-(2 -甲氧基本甲釀）-7 - 一^乙基胺基香丑素、3-(4-二甲基胺基苯甲釀）-7 - —*乙基肢基香丑素、3,3’-鑛基雙（5,7 -二- η-丙氧基香豆素）、3,3’-羰基雙（7-二乙基胺基香豆素）、3_苯甲酿_7-甲氧基香豆素、3-(2 -呋喃甲醯基）-7 -二乙基胺基香豆素、 3-(心二乙基胺基肉桂醯基二乙基胺基香豆素、7 -甲氧基- 3- (3 -Π比n定鑛基）香豆素、3 -苯甲醯-5,7 -二丙氧基香豆素 -64- 200837500 等；另外，特開平5-19475號公報、特開平7-271028號公報、特開2002-363206號公報、特開2002-363207號公報、特開2002-363208號公報、特開2002-363209號公報等的各公報所記載之香豆素化合物等）。前述之光聚合起始劑和前述之增感劑的組合，舉例來說，例如，其可以是特開200 1 -3 05 7 34號公報上所記載的電子移動型起始劑〔（1)電子供給型起始劑及增感色素、（2) 電子接受型起始劑及增感色素、（3)電子供給型起始劑、增感色素及電子接受型起始劑（三元起始系）〕等之組合。可做爲前述增感劑之含量者係相對於前述感光性組成物中的總成分，以0.05〜30質量％爲佳，0.1〜20質量％爲較佳、0.2〜1 0質量％爲特佳。該含量低於0.0 5質量％時，對活性能量線的靈敏度降低，曝光程序需花費時間，而使得生產性下降，當超過3 0質量％時，在保存時容易從前述感光層析出前述增感劑。前述光聚合起始劑係可單獨使用1種、亦可倂用2種以上來使用。可做爲前述光聚合起始劑之特佳例子者，舉例來說係在後述之曝光中，可對應於波長爲405nm之雷射光者，例如：前述氧化膦類、前述α -胺基烷基酮類、使前述具有三阱骨架之鹵化烴化合物與後述做爲增感劑之胺化合物組合而成之複合光起始劑、六芳基聯咪唑化合物、或是二茂鈦等。在感光性組成物中所使用的光聚合起始劑或光聚合起 -65- 200837500 始系化合物之摻混比例相對於此等全固體成分量，較佳係 0.0 1〜20質量％、更佳係1〜1 5質量。/。、特佳係1〜1 〇質量 %。該光聚合起始劑或光聚合起始系化合物過少時’會有光靈敏度係爲降低之傾向，過多時則有密著性係爲降低之傾向。 <熱交聯劑> 前述之熱交聯劑並沒有特別地限定，可以按照目的而適當地選擇，爲了改良使用前述之感光性組成物形成的感光層之硬化後的膜強度之目的，例如，可以在不對於顯像性產生不良影響之範圍內，使用1分子內具有至少2個環氧乙烷基之環氧化合物、1分子內具有至少2個氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物。前述之在1分子內具有至少2個環氧乙烷基之環氧化合物，舉例來說，例如其可以是聯二甲苯酚型或聯苯酚型環氧樹脂（「丫X40 00、日本環氧樹脂（股）製」等）或此等混合物、具有異三聚氰酸酯骨架等之雜環型環氧樹脂（「TEPIC; 日產化學工業（股）製」、「阿拉路易特（Araldite)PT810;汽巴特殊化學公司製」等）、雙酚A型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、氫化雙酚a型環氧樹脂、雙酌S型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、鹵化環氧樹脂（例如，低溴化環氧樹脂、高鹵化環氧樹脂、溴化苯酚酚醛清漆型環氧樹脂等）、含烯丙基之雙酌A型環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、二苯基二甲醇型環氧樹脂、苯酚聯苯型環氧樹脂、二環戊二烯型環氧 -66- 200837500 樹脂（「HP-7200，HP-7200H;大日本油墨化學工業（股）製」等）、縮水甘油基胺型環氧樹脂（二胺基二苯基甲烷型環氧樹脂、二縮水甘油基苯胺、三縮水甘油基胺基苯酚等）、縮水甘油酯型環氧樹脂（酞酸二縮水甘油酯、己二酸二縮水甘油酯、六氫酞酸二縮水甘油酯、二聚物酸二縮水甘油酯等）海因型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂（3,4-環氧環己基甲基 -3’，4’-環氧環己烷羧酸酯、雙（3,4-環氧環己基甲基）己二酸酯、二環戊二烯二燦環氧化物、「GT-300、GT-400、 ZEHPE3150;戴西爾化學工業製」等）、醯亞胺型脂環式環氧樹脂、三羥基苯基甲烷型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、四苯基乙烷型環氧樹脂、酞酸縮水甘油酯樹脂、四縮水甘油基二甲苯酚乙烷樹脂、萘基含有環氧樹脂（萘酚芳烷基型環氧樹脂、萘酚酚醛清漆型環氧樹脂、4官能萘型環氧樹脂、可做爲市售品者有「ESN-190,ESN-360;新日鐵化學（股）製」、「HP-4032,EXA-4750，EXA-4700;大日本油墨化學工業（股）製」等）、由苯酚化合物與二乙烯基苯或二環戊二烯等的二烯烴化合物之加成反應所得到的多酚化合物、與環氧氯丙烷之反應物、以過醋酸等將4-乙烯基環庚烷-1 -氧化物之開環聚合物予以環氧化者、具有線狀含磷構造之環氧樹脂、具有環狀含磷構造之環氧樹脂、α—甲基芪型液晶環氧樹脂、二苯甲醯氧基苯型液晶環氧樹脂、偶氮苯基型液晶環氧樹脂、偶氮次甲基苯基型液晶環氧樹脂、聯萘型液晶環氧樹脂、吖阱型環氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚合系環氧樹脂（「C Ρ - 5 0 S，C Ρ - 5 0 Μ ;日本油脂（股） - 67- 200837500 製」等）、環己基馬來醯亞胺與甲基丙烯酸縮水甘油酯之共聚合環氧樹脂、雙（縮水甘油基氧苯基）莽型環氧樹脂、雙（縮水甘油基氧苯基）金剛烷型環氧樹脂等，惟不限於此等。此等環氧樹脂係可單獨1種使用、亦可倂用2種以上來使用。又，除了前述之1分子內具有至少2個環氧乙烷基之前述環氧化合物以外，可以使用至少在1分子中含有2個在/3 位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物，特佳爲含有/3 位經烷基取代的環氧基（更具體而言，Θ -烷基取代縮水甘油基等）之化合物。前述之至少含有在/3位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物，可以是在1分子中所含有的2個以上之環氧基全部都是A -烷基取代縮水甘油基，也可以是至少1個的環氧基是/3 -烷基取代縮水甘油基。前述之至少含有在/3位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物，從在室溫下之保存安定性的觀點來看，在前述感光性組成物內所含的前述環氧化合物總量之中，全部環氧基中的/3 -烷基取代縮水甘油基之比例，較宜是7 0 %以上。前述之/3 -烷基取代縮水甘油基並沒有特別地限定，可以按照目的而適當地選擇，舉例來說，例如其可以是Θ -甲基縮水甘油基、/5 -乙基縮水甘油基、/3 -丙基縮水甘油基、 /3 - 丁基縮水甘油基等，此等之中，從提昇前述感光性樹脂組成物之保存安定性之觀點、及合成容易性之觀點來看，較佳是/3 -甲基縮水甘油基。 -68- 200837500 前述之在/3位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物，舉例來說，例如其可以是由多價苯酚化合物與^ -烷基表鹵醇所衍生之環氧化合物爲佳。可做爲前述/5 -烷基表鹵醇者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，例如，/3 -甲基環氧氯丙烷、Θ -甲基環氧溴丙烷、yS -甲基環氧氟丙烷等的0 -甲基表鹵醇；冷 -乙基環氧氯丙烷、/3 -乙基環氧溴丙烷、/3 -乙基環氧氟丙烷等的/5 -乙基表鹵醇；/5 -丙基環氧氯丙烷、-丙基環氧溴丙院、/3-丙基環氧氟丙院等的/3-丙基表鹵醇；/3-丁基環氧氯丙烷、/3 - 丁基環氧溴丙烷、/3 - 丁基環氧氟丙烷等的 /3 - 丁基表鹵醇等。此等之中，從前述多價苯酚與反應性及流動性之觀點而言，較宜是/5 -甲基表鹵醇。前述之多價苯酚化合物，只要是在1分子中含有2以上的芳香族性羥基的化合物即可，並沒有特別地限定，可以按目的而適當地選擇，舉例來說，例如其可以是雙酚A、雙酚F、雙酚S等的雙酚化合物、聯苯酚、四甲基聯苯酚等的聯苯酚化合物、二羥基萘、聯萘酚等的萘酚化合物、苯酚-甲醛聚縮合物等的苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚-甲醛聚縮合物等的碳數爲1〜10之單烷基取代苯酚甲醛聚縮合物、二甲苯酚-甲醛聚縮合物等的碳數爲1〜10之二烷基取代苯酚甲醛聚縮合物、雙酚A-甲醛聚縮合物等的雙酚化合物-甲醒聚縮合物、苯酚與碳數爲1〜1 0之單烷基取代苯酚和甲醒之共聚縮合物、苯酚化合物與二乙烯基苯之加成聚合物等。此等之中，例如當在選擇流動性及保存安定性向上提昇目的之 -69- 200837500 情況下，較宜是前述之雙酚化合物。前述之在β位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物，舉例來說，例如其可以是雙酚A的二-A -烷基縮水甘油基醚、雙酚F的二-yS -烷基縮水甘油基醚、雙酚S的二_ Θ _ 烷基縮水甘油基醚等的雙酚化合物的二-/5 -烷基縮水甘油基醚；聯苯酚的二-Θ -烷基縮水甘油基醚、四甲基聯苯酣的二-/3 -烷基縮水甘油基醚等的聯苯酚化合物的二-^ -院基縮水甘油基醚；二羥基萘的二烷基縮水甘油基醚、聯萘酚的二-/3 -烷基縮水甘油基醚等的萘酚化合物之/5 -烷基縮水甘油基醚；苯酚甲醛聚縮合物的聚-/3 -烷基縮水甘油基醚；甲酚-甲醛聚縮合物的聚-/5 -烷基縮水甘油基醚等的碳數爲 1〜1 0之單烷基取代苯酚甲醛聚縮合物的聚-/3 -烷基縮水甘油基醚；二甲苯酚-甲醛聚縮合物的聚-/3 -烷基縮水甘油基醚等的碳數爲1〜1 〇之二烷基取代苯酚甲醛聚縮合物的聚-Θ -烷基縮水甘油基醚；雙酚A-甲醛聚縮合物的聚-Θ -烷基縮水甘油基醚等的雙酚化合物-甲醛聚縮合物的聚-烷基縮水甘油基醚；苯酚化合物與二乙烯基苯之加成聚合物的聚-/3 -烷基縮水甘油基醚；等。此等之中，較宜是以下述構造（丨V)所代表雙酣化合物、及其與表鹵醇等所得到的聚合物所衍生的Θ -烷基縮水甘油魅、以及以下述構造（V)所代表苯酌化合物-甲般縮聚物之聚-yS -烷基縮水甘油醚。 -70- 200837500

0-CH2-CH-CH2—Ο 〇H丄

通式（ιν> 但，前述通式（ιν)中、R係代表氫原子及碳數爲1〜6之烷基中之任一者，n係代表0〜20之整數。

但，前述通式（V)中、R及R’係相同或不同、代表氫原子及碳數爲1〜6之烷基中之任一者，η係代表〇〜20之整數。此等在/3位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物，係可以1種單獨使用，也可以倂用2種以上。又，也可以倂用在1分子中具有至少2個環氧乙烷基的環氧化合物、以及在/3位上包含具有烷基的環氧基之環氧化合物。前述氧雜環丁烷化合物，舉例來說，例如其可以是除了雙[(3-甲基-3-氧雜環丁烷基甲氧基）甲基]醚、雙[(3-乙基 -3-氧雜環丁烷基甲氧基）甲基]醚、1 ,4-雙[(3-甲基-3-氧雜環丁烷基甲氧基）甲基]苯、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基）甲基]苯、甲基丙烯酸（3 -甲基-3-氧雜環丁烷基）酯、甲基丙烯酸（3 -乙基-3 -氧雜環丁烷基）酯、甲基丙烯酸 (3 -甲基-3-氧雜環丁院基）甲基酯、甲基丙烯酸（3 -乙基-3-氧雜環丁烷基）甲基酯或此等低聚合物或是共聚物等的多 -71 - 200837500 官能氧雜環丁烷類之外，以及具有氧雜環丁烷物、與酚醛清漆樹脂、聚（P -羥基苯乙烯）、龐： (C a rd 〇)型雙酚類、杯芳烴類、杯間苯二酚芳烴類氧烷等的具有羥基之樹脂等的醚化合物；此外，如具有氧雜環丁烷環之不飽和單體與（甲基）丙烯共聚物等。又，前述熱交聯劑係可使用特開平5 - 9 4 0 7號之聚異氰酸酯化合物；該聚異氰酸酯化合物係可至少2個異氰酸酯基之脂肪族、環式脂肪族或芳香之脂肪族化合物衍生而得。具體而言，可舉例如：氰酸酯（例如，1，3 -伸苯基二異氰酸酯與1，4 -伸苯酸酯之混合物、2,4-及2,6-甲苯二異氰酸酯、1，3 甲苯二異氰酸酯、雙（4-異氰酸酯-苯基）甲烷、雙< 酯環己基）甲烷、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯等）、該2官能異與三羥甲基丙烷、季戊四醇、甘油等之多官能醇；醇之環氧烷加成物、與前述2官能異氰酸酯之加）；甲基二異氰酸酯、六亞甲基-1，6-二異氰酸酯或其的環形三聚物或縮二脲物；降萡烷二異氰酸酯等。再者，爲達成提昇本發明之感光性組成物之目的，也可以使用令前述之聚異氰酸酯及其衍生酸酯基與嵌段劑反應而得到的化合物。可做爲前述異氰酸酯基嵌段劑者，可舉例如如，異丙醇、第三丁醇等）、內醯胺類（例如，ε -己內基之化合大外掛基、倍半矽亦可舉例酸烷酯的公報記載以從含有族基取代 :2官能異基二異氰 -及 1，4,二 :4 -異氰酸二異氰酸氰酸酯、該多官能获物；六亞衍生物等保存性之物之異氰 :醇類（例醯胺等）、 -72- 200837500 苯酚類（例如，苯酚、甲酚、p-第.三丁基苯酚、p-第二丁基苯酚、p-第二胺基苯酚、p-辛基苯酚、P-壬基苯酚等）、雜環型羥基/卜化合物（例如，3-羥基吡啶、8-羥基喹啉等）、活性亞甲基化合物（例如，丙二酸二烷酯、甲基乙基酮肟、乙醯基丙酮、烷基乙醯乙酸酯肟、丙酮肟、環己酮肟等）等。除此之外，亦可使用特開平6-2 9 5 060號公報上所記載的在分子內具有至少1個可聚合之雙鍵、及至少1個嵌段異氰酸酯基中之任一者的化合物等。又且，可以使用三聚氰胺衍生物來做爲前述之熱交聯劑。該三聚氰胺衍生物，舉例來說，例如其可以是羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基三聚氰胺（以甲基、乙基、丁基等將羥甲基予以醚化之化合物）等。此等，係可以單獨使用1 種，也可以倂用2種以上。在此等之中，從保存安定性良好可、有效提昇感光層之表面硬度或硬化膜本身之膜強度的觀點來看，較宜是烷基化羥甲基三聚氰胺，特佳爲六甲基化羥甲基三聚氰胺。又，可做爲其他熱交聯劑者，係可使用除了三聚氰胺以外之醛縮合生成物、樹脂先質等。具體而言，可舉例如 Ν，Ν’-二羥甲基尿素、Ν,Ν’-二羥甲基丙二醯胺、Ν,Ν’-二羥甲基琥珀醯亞胺、1,3-Ν,Ν’-二羥甲基對苯二甲醯胺、2,4,6-三羥甲基苯酚、2,6-二羥甲基-4-羥甲基茴香醚、1,3-二羥甲基-4,6-二異丙基苯等。又，亦可使用對應之乙基或丁基醚、或乙酸或是丙酸之酯，來取代此等羥甲基化合物。感光性組成物中所使用之前述熱交聯劑的摻混比例相 -73- 200837500 封於此寺全固體成分重’較佳係1〜3 0質量％、更佳係2〜 2 5質量％、特佳係5〜1 5質量％。該熱交聯劑過少時，會有硬化膜對於基板之密著性下降的傾向，過多時則有保存安定性係爲降低之傾向。 <著色劑> 本發明有關之感光性組成物中，著色劑（顏料）係以1 : 1〜1: 4之混合比，包含具有1分子中含有5〜5〇質量。/。之鹵素原子且呈現頁色之顏料、與於1分子中不含有鹵素原子且呈現藍色之顏料’藉由摻混彼等的顏料而呈現綠色，全固體成分中的鹵素含量爲900ppm以下之有機顏料。上述著色劑（顏料）之中，可做爲於分子中不含鹵素原子、對於可見光呈現藍色之顏料（以下，亦有爲藍色顏料之情形）者，係舉例如酞菁系顏料，具體的酞菁系顏料係舉例如銅酞菁藍（C . I .顏料藍1 5 : 3 )。又，可做爲平均粒徑爲100〜1,000nm、且對於可見光呈現黃色之顏料（以下，亦有爲黃色顏料之情形）者，較宜係於分子中含有鹵素原子之顏料，單偶氮系化合物係可舉例如：C · I ·顏料黃2、C · I ,顏料黃3、C · I ·顏料黃6、C .丨·顏料黃49、C.I.顏料黃73、C.I.顏料黃75、C.I.顏料黃97、C.丨. 顏料黃9 8、C」_顏料黃1 1 1、及C _丨·顏料黃1 1 6 ;二重氮系化合物之中，二芳胺醯系化合物的非色澱型係舉例如：C . | . 顏料黃1 2、C . I .顏料黃1 3、C .丨·顏料黃1 4、C . I _顏料黃1 7、 C .丨·顏料黃5 5、C ·丨·顏料黃6 3、C ·丨·顏料黃8 1、C ·丨·顏料黃 83、C.l_顏料黃87、C. I.顏料黃1 06、C.I·顏料黃！巧3、c.|. -74- 200837500 顏料黃1 1 4、c _丨·顏料黃1 2 1、C _丨·顏料黃彳24、c .丨.顏料黃 126、CI顏料黃127、C」·顏料黃136、c_l·顏料黃152、 C _丨·頭料黃1 7 0、C ·丨.顏料黃1 7 1、C · I ·顏料黃1 7 2、C . I ·顏料頁1 7 4 ' C ·丨.顏料黃1 7 6、及C _丨·顏料黃1 8 8 ;色激型係舉例如：C 丨·顏料黃彳6 8。又，雙乙醯乙醯化物系化合物係舉例如.C . I ·顏料黃1 6 ;苯并咪I#酮系化合物係舉例如c . I ·顏料黃1 54。異吲哚啉及異吲哚啉酮系化合物係舉例如c .丨.顏料頁1 〇 9、C ·丨.顏料黃1 1 〇、及c . I ·顏料黃1 7 3。其他之例係舉例如喹啉黃系的C · I _顏料黃1 3 8。此等之中，C ·丨.顏料黃 173、C.I.顏料黃138、及c.|.顏料黃n 〇係由於耐熱性優異之故，而爲特佳。可做爲本發明有關之感光性組成物中所含有的著色劑 (顏料）之分散法者，係可適用將粉末狀的顏料粒子、分散用黏結劑、與視需要的分散助劑，於有機溶劑溶液中進行混合的公知方法。即，較宜係藉由使用塗料震盪器、超音波分散機、三輥機、球磨機、砂磨機、珠磨機、勻化器、捏和機等的分散·捏和裝置來捏和，以進行分散處理。此時’可做爲分散用樹脂者係可使用具有羧酸基之樹脂’本發明之情形係可使用前述鹼可溶性交聯性樹脂。分散用樹脂之使用量係爲有機顏料的〇 . 1〜2 0 0質量％爲佳’ 1〜1 0 0質量。/。爲較佳、2〜5 0質量。/。爲特佳。樹脂過少時，會有顏料的分散安定性下降之傾向。前述有機溶劑係相對於分散時的顏料及樹脂之全量，以使用分散時至少1 0 〇質量。/〇爲佳。低於1 〇〇質量。/。，則分 -75- 200837500 散時的黏度會過高，特別是利用球磨機、砂磨機、珠磨機等進行分散之情形中，會有分散變得困難之可能性。又’可做爲有機溶劑者，溶解前述分散用樹脂、對於使用之顏料富有濕潤性之溶劑爲佳，以芳香族烴類、乙酸酯類、醚類、醇類、丙二醇單醚類、丙二醇單醚乙酸酯類、酮類爲佳。在前述進行分散處理之際，分散用樹脂係其全量可在分散處理時與顏料一同使用、亦可在一部份的樹脂進行分散處理後再添加。同樣地，有機溶劑亦可其全量在分散處理時與顏料一同使用、也可以在一部份的有機溶劑進行分散處理後再添加。可做爲前述分散助劑者係可爲聚羧酸型高分子界面活性劑、聚磺酸型高分子界面活性劑等的陰離子系分散劑，聚氧乙烯·聚氧丙烯段聚合物等的非離子系分散劑，蒽醌系、茈系、酞菁系、喹吖啶酮系等的有機色素中導入羧基、磺酸鹼、羧酸醯胺基、羥基等的取代基之有機色素的衍生物等’藉由使用此等分散助劑，可提高顏料的分散性或分散安定性而爲佳。又，此等顏料分散劑或有機色素的衍生物係相對於顏料，以50質量。/。以下來使用爲佳。超過50質量％時，會有色度變異的傾向。前述著色劑中，黃色顏料與藍色顏料的摻混量係以1 : 1 0〜1 0 : 1爲佳，1 : 5〜5 : 1爲較佳、2 : 5〜5 : 2爲最佳。藉由在上述的範圍內摻混黃色顏料與藍色顏料，所得之感光性組成物、或其硬化皮膜係實質上呈現爲綠色。 -76- 200837500 此外，本發明感光性組成物本身的顏色亦有不一定要爲綠色之情形，本發明之感光性組成物的硬化物亦可在青銅色的覆銅積層板上形成綠色。又，本發明之感光性組成物中的上述著色劑之摻混量係沒有特別地限制，該著色劑在含有有機溶劑之情形，在去除該有機溶劑的本發明防焊劑組成物之總成分中，含有 0.01〜10質量％爲佳，含有0.05〜8質量。/。爲較佳、含有0.1 〜5質量％爲最佳。前述感光性組成物中所含有之顏料過少時，會有感光層的色濃度降低之傾向，過多時則有光靈敏度降低之傾向。亦即，藉由使前述顏料之摻混量在上述的範圍，可形成能抑制因紫外線透過率減少所致的樹脂硬化性下降、且目視檢査時的視認性爲良好的永久保護膜。爲了提供對於藍紫色雷射能實現高靈敏度之感光性組成物（感光層），前述著色劑中所含有之黃色顏料的平均粒徑係爲重要，其平均粒徑係以1 〇〇〜1，〇〇〇 n m爲佳，1 5 0〜 750nm爲較佳、200〜500nm爲最佳。黃色顏料的平均粒徑低於1 〇〇 n m時，所得感光層在感光波長區域的透過率係爲降低，成爲低靈敏度，超過 1，0 0 0 n m時，光的散射增加之結果係降低了解像度。又，前述著色劑中所含有的藍色顏料之平均粒徑係沒有特別地限制，惟1 〇〜1，〇〇〇 n m爲佳，5 0〜1 , 0 0 0 n m爲較佳、100〜500nm爲最佳。此處，1，〇〇〇 n m以上、較佳係5 0 0 n m以上的粗大粒子係 -77- 200837500 在感光層塗布液進行塗布時，由於損傷了塗布面狀’藉由遠心分離法、燒結濾器、膜濾器濾過法等進行除去爲佳。因爲平均粒徑低於1 0 n m之著色度（光學濃度）係爲降低之故，所以爲了得到必須的著色度增加添加量而提高了成本。又，超過1，0 0 〇 n m時’因光散射的影響而得不到充分的解像度。此外，製作本發明有關之感光性組成物的情形中’除了該著色劑以外，可混合前述之鹼可溶性感光性樹脂、光聚合性化合物、熱交聯劑、及光聚合起始劑或光聚合起始系化合物、以及後述之熱硬化促進劑、無機充塡劑、及其其他成分，此等係可在該著色劑的分散處理之前進行混合、亦可在分散處理後進行混合。前述分散用樹脂係在分散時不全量使用而有殘留時、特別是在感光層塗布液的製作時進行混合爲佳。各成分的使用量係在最後從前述感光性組成物的製作時’調整成爲前述之感光性組成物中的摻混比例。 <熱硬化促進劑> 前述熱硬化促進劑係有促進前述環氧樹脂化合物或前述多官能氧雜環丁烷化合物之熱硬化的機能，適於添加至前述感光性樹脂中。熱交聯促進劑對於感光性組成物之含量（固體成分量比）係以〇.〇1〜10質量％爲佳，〇.1〜5質量。/。爲較佳、0.5〜3質量％爲最佳。熱交聯促進劑過少時，硬化膜對於基板的密著性係有下降之傾向，過多時則保存安定性有降低之傾向。 -78- 200837500 可做爲前述熱硬化促進劑者係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，例如可使用氰胍、苄基二甲基胺、 4-(一甲基胺基）_n，N -二甲基苄基胺、4_甲氧基-N，N -二甲基节基胺、4-甲基-N，N-二甲基苄基胺等的胺化合物；三乙基节基氯化錢等的4級銨氯化合物；二甲基胺等的嵌段異氰酸酯化合物；咪D坐、2 -甲基咪D坐、2 -乙基咪p坐、2 -乙基-4 -甲基咪唑、2 -苯基咪唑、4 -苯基咪唑、1_氰基乙基-2-苯基咪唑、 1 - ( 2 -氰基乙基）-2 -乙基-4 -甲基咪唑等的咪唑衍生物二環式脒化合物及其鹽；三苯基膦等的磷化合物；三聚氰胺、胍胺、甲基胍胺、苯并胍胺等的胍胺化合物；2，4 -二胺基-6 -甲基丙烯醯氧基乙基-S-三阱、2-乙烯基-2,4-二胺基-S-三阱、2-乙；)：希基-4,6-二胺基-S-三阱·異三聚氰酸加成物、2,4-二胺基-6-甲基丙烯醯氧基乙基-S_三畊·異三聚氰酸加成物等的S-三阱衍生物、三氟化硼-胺複合物、有機醯肼_、酞酸酐、偏苯三酸酐、乙二醇雙（偏苯三酸酐）、甘油參（偏苯三酸酐）、二苯甲酮四羧酸酐等的芳香族酸酐、順丁烯二酸酐、四氫酞酸酐等的脂肪族酸酐類，聚乙烯基苯酚、聚乙烯基苯酚溴化物、苯酚酚醛清漆、烷基苯酚酚醛清漆等的多酚類等等。此等係可單獨1種使用、亦可倂用2種以上。此外，前述環氧樹脂化合物或前述多官能氧雜環丁烷化合物之硬化觸媒、或是只要能促進彼等與羧基之反應者的話，沒有特別地限制，亦可使用上述以外可促進熱硬化的化合物。前述環氧樹脂、前述多官能氧雜環丁烷化合物、及可 -79- 200837500 促進彼等與羧酸之熱硬化之化合物在前述感光性組成物溶液之固體成分中的固體成分含量，通常爲0.01〜20質量。/。。 <無機充塡劑> 前述無機充塡劑係有可提高永久圖案的表面硬度、能降低抑制線膨張係數、能降低抑制硬化層本身的介電率或電介質損耗角正切之機能。可做爲前述無機充塡劑者係沒有特別地限制，可從公知者之中做適宜的選擇，可舉例如：高嶺土、硫酸鋇、鈦酸鋇、氧化矽粉、微粉狀氧化矽、氣相法矽石、無定形矽石、結晶性矽石、溶融矽石、球狀矽石、滑石、黏土、碳酸鎂、碳酸鉀、氧化鋁、氫氧化鋁、雲母等。前述無機充塡劑的平均粒徑係以低於3 μ m爲佳，0.1〜 2 μ m爲較佳。該平均粒徑爲3 μ m以上時，會因光散射而使得解像度惡化。又，感光性組成物中使用的無機充塡劑之摻混比例相對於此等全固體成分量，較佳係5〜60質量％、更佳係10〜 5 0質量％、又更佳係15〜4 0質量％。該無機充塡劑過少時，會有硬化膜的硬度降低之傾向，過多時則有降低光靈敏度之傾向。再者，亦可視需要添加有機微粒子。適宜的有機微粒子係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，可舉例如··三聚氰胺樹脂、苯并胍胺樹脂、交聯聚苯乙烯樹脂等。又，可使用由平均粒徑0.1〜2μηι、吸油量100〜200m2/g 左右的矽石、交聯樹脂所構成之球狀多孔質微粒子等。 -80- 200837500 前述無機充塡劑由於含有平均粒徑爲0.1〜2 μ m的粒子，所以可使得永久圖案薄型化於印刷配線基板，亦可薄層化成厚度5〜20μηι，且無機充塡劑粒子不會與永久圖案的表裏兩面交聯，其結果係即使在高加速度試驗（HAST)中亦不會發生離子遷移，且可形成耐熱性、耐濕性優異之永久圖案。 <其他成分> 本發明有關的感光性組成物（感光層塗布液）中，可視需要適當使用抑制暗反應用的熱聚合抑制劑（氫醌、氫醌單甲基醚、焦掊酚、第三丁基兒茶酚等）、用以提高與基板之密著性的鈦酸酯偶合劑（具有乙烯基、、環氧基、胺基、氫硫基等之矽烷偶合劑或異丙基三甲基丙烯醯基鈦酸酯、二異丙基異硬脂醯基-4 -胺基苯甲醯鈦酸酯等）、用以提高膜的平滑性用的界面活性劑（氟系、矽系、烴系等）及其他、紫外線吸收劑、氧化防止劑等的各種添加劑。有機溶劑係以占包含感光性組成物（感光層塗布液）中的有機顏料、鹼可溶性感光性樹脂、聚合性化合物、光聚合起始劑或光聚合起始系化合物、熱交聯劑、熱硬化促進劑及無機充塡劑之全固體成分，在5〜40質量％的範圍內使用有機溶劑爲佳。全固體成分超過4 0質量。/。時，會有黏度提高、塗布性惡化之傾向。又，全固體成分低於5質量％時，則有黏度變低、塗布性惡化之傾向。〔保護薄膜〕前述保護薄膜係防止前述感光層的污染或損傷，具有 -8 1- 200837500 保護之機能。在前述感光性薄膜中設置前述保護薄膜之處所係沒有特別地限制，可視其目的做適宜選擇，通常係設置在前述感光層上。前述保護薄膜，舉例來說，例如其可以是前述支撐體中所使用者、矽紙、聚乙烯、聚丙烯積層而成的紙、聚烯烴或聚四氟乙烯薄片等，此等之中，尤以聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜爲佳。做爲前述保護薄膜的厚度係沒有特別地限制，可視其目的做適宜的選擇，例如以5〜1 0 0 μ m爲佳，8〜3 0 μ m爲較佳。在使用前述之保護薄膜的情況下，前述感光層與前述支撐體間之黏著力A、和前述感光層與保護薄膜間之黏著力 B ’較宜是具有：黏著力A >黏著力B之關係。前述支撐體與保護薄膜的組合（支撐體/保護薄膜），舉例來說，例如其可以是聚對苯二甲酸乙二酯/聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯/聚乙烯、聚氯化乙烯/賽珞玢、聚醯亞胺/ 聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯/聚對苯二甲酸乙二酯等。又’藉由對支撐體及保護膜中之至少任一者進行表面處理’可以使得黏著力滿足上述之關係。前述支撐體之表面處理’可以是爲了增強對感光層之黏著強度而實施，舉例來說’例如可以塗設底塗層、電暈放電處理、火燄處理、紫外線照射處理、高頻波照射處理、輝光放電處理、活性電漿照射處理、以及雷射光線處理等。 -82- 200837500 又，前述支撐體與前述保護薄膜間之靜摩擦係數較佳爲0.3〜1.4，更佳爲0.5〜1.2。當前述之靜摩擦係數小於〇 · 3時，由於滑動性過高的緣故，在形成捲筒的情況下就可能產生捲繞間隙；而當超過 1 .4時，就會難以捲成良好的捲筒狀。爲了調整保護薄膜與感光層間之黏著性質，前述之保護薄膜也可以接受表面處理。前述之表面處理，例如，可以在前述保護薄膜表面上形成一由聚有機矽氧烷、氟化聚烯烴、聚氟乙烯、與聚乙烯醇等之聚合物構成的底塗層。該底塗層之形成可以是在將前述聚合物之塗布液塗布於保護薄膜表面之後，再藉由於3 (TC至1 5 0 °C (特別是5 0 °C至 120°C )下進行乾燥1至30分鐘而形成。〔其他層〕本發明之感光性薄膜係除了前述之感光層、前述之支撐體、前述之保護薄膜以外，也可以具有緩衝層、氧遮斷層（PC層）、剝離層、黏著層、光吸收層、表面保護層等之層。前述其他層在前述感光性薄膜中的配置、厚度等係沒有特別地限制，可視其目的進行適宜選擇。前述之緩衝層係以在常溫下無黏性，而當以真空加熱條件積層的情況下會熔融、流動之層爲佳。前述之PC層通常是聚乙烯醇爲主成分所形成的1.5/Z m左右的被覆膜爲佳。前述感光性薄膜係例如捲取成圓筒狀的卷芯、以長尺 -83- 200837500 狀捲成輥狀來保管者爲佳。前述長尺狀感光性薄膜的長度係沒有特別地限制，例如可從1 〇 m〜2 0，0 0 0 m的範圍適宜選擇。又，使用者容易使用者爲狹縫加工，可將1〇〇m〜1,000m 的範圍的長尺體形成爲輥狀。此外，在此情形中，前述支撐體係捲曲成在最外側者爲佳。又，前述輥狀的感光性薄膜亦可狹縫成薄片狀。在保管之際，從端面的保護、防止邊緣熔融之觀點而言，端面中設置分隔物（特別是防濕性者、裝入乾燥劑者）者爲佳，又，使用包裝或透濕性低的原料者爲佳。本發明之感光性薄膜係具有保存安定性優異、顯像後能發揮優異之耐藥品性、表面硬度、耐熱性等的感光性組成物所積層而成之感光層。爲此，可適合適用於印刷配線板、彩色濾光片或柱材、肋材、間隔材、隔壁等的顯示器用構件、全息照相、微型機械、樣張（proof)等的製造，特別是在印刷基板的永久圖案形成用上可適當地使用。特別是，本發明之感光性薄膜爲了使該薄膜的厚度成爲均一，在形成永久圖案之際，即使薄層化永久圖案（保護膜、層間絶緣膜、防焊劑等），在高加速度試驗（H A S T)中也沒有發生離子遷移，且由於得到耐熱性、耐濕性優異之高精細永久圖案，所以對基體的積層可更精細地進行。 (永久圖案的形成方法）根據有關本發明之永久圖案的形成方法的話，在加熱及加壓之至少任一者下，於基體的表面積層本發明之感光性薄膜之後，藉由對於該感光性薄膜進行曝光、顯像，而 -84- 200837500 形成永久圖案。以下，說明有關本發明之永久圖案的形成方法’亦詳細說明依照該方法所製作之永久圖案。 -基體_ 前述之基體並沒有特別地限定，係可以按照目的而適當地選擇，例如，可以從表面平滑性高至具有凹凸表面2 物中任意地選擇，然而較宜是板狀基體（印刷基板）；具11 而言，舉例來說，例如其可以是公知的印刷配線製造用基板（例如，覆銅積層板）、玻璃板（例如，鈉鈣玻璃板等）、合成樹脂樹脂性之薄膜、紙、金屬板等。此等之中，尤以® 刷配線板形成用基板爲佳，從對於多層配線基板與堆疊酉己線基板等之半導體等的高密度安裝化係爲可能之點而言’ 該印刷配線板形成用基板係完成配線形成者爲特佳。前述積層體係在基體上形成前述感光層，對於該感光層依照後述的曝光步驟使曝光的領域硬化，且依照後述的顯像步驟可形成永久圖案。 [積層步驟] 前述積層體的形成方法係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇’剝離前述保護薄膜’一邊對前述感光性薄膜進行加熱及加壓中任一者’且一邊以重疊前述感光層的方式積層於前述基體上者爲佳。前述加熱溫度係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，例如，7 0〜1 3 0 °C爲佳，8 0〜1 1 〇 °c爲較佳。前述加壓的壓力係沒有特別地限制，可根據其目的做 -85- 200837500 適當選擇，例如，0.01〜1.0MPa爲佳，〇_〇5〜1.0MPa爲較佳。進行前述之加熱及加壓中任一者之裝置係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，例如適合的積層機有熱壓機、熱輥積層機（例如，大成積層機（股）製、V P -1丨）、真空積層機（例如，尼契苟蒙筒（股）製、V P 1 3 0 )等。〔曝光步驟〕關於本發明之圖案形成材料（感光性積層體等）的曝光方法，係以基於畫像資訊一邊調變光、一邊相對掃瞄並曝光’進行2次元畫像的形成並利用無遮罩之圖案曝光方式 (數位曝光）的曝光步驟爲中心來加以説明。數位曝光係使用排成2次元狀之空間光調變裝置，基於畫像資訊一邊調變光、一邊進行相對掃猫，藉以進行2次元畫像形成之曝光方法。將以使曝光之光不透過、或微弱透過的材質來形成畫像（曝光圖案；以下，亦稱爲圖案）稱之爲「遮罩」的物體配置於曝光之光的光程上，相對於將感光性之層曝光成對應前述畫像之圖案狀的以往遮罩曝光方式（亦稱爲類比曝光），在前述採用「遮罩」時係將感光性之層曝光成圖案狀之曝光方式者。數位曝光係使用超高壓水銀燈或雷射來做爲光源。超高壓水銀燈係將水銀封入石英玻璃管等之放電燈，提高設定水銀的蒸氣壓則發光效率係爲提昇（點燈時的水銀蒸氣壓係大略設爲5MPa者。W.EIenbaas: Light Sources、 -86- 200837500

Philips Technical Library 148-150)。亮線光譜之中，使用 405nm±40nm的單一曝光波長，主要係使用h線（405nm)。雷射係利用在具有反轉分布之物質中所引起之誘導放出現象，藉由光波的增幅、發振而產生出干擾性與指向性更強的單色光之發振器、及增幅器，激發物質係爲液晶、玻璃、液體、色素、氣體等，來自此等介質之固體雷射（YAG 雷射）、液體雷射、氣體雷射（氬雷射、H e - N e雷射、碳酸氣體雷射、準分子雷射）、半導體雷射等的公知雷射係可在前述波長領域中使用。半導體雷射係使用藉由注入載子（carrier)、由電子束的激發、由碰撞的離子化、光激發等，可使電子與電洞流出接合部，以ρ η接合而誘導放射出可干擾光之發光二極體的雷射。該所放射出的可干擾光之波長係由半導體化合物來決定。雷射的波長係405nm±40nm的單一曝光波長。本發明中的單一曝光波長係在來自雷射之情形係指主波長者，來自超高壓水銀燈之情形係指以N D濾光片等將 405nm以外之亮線，區分爲大於365nm、或405nm的波長，且主波長爲僅1波長者。前述曝光方法係沒有特別地限制’可根據其目的做適當選擇，此等之中’尤以使用雷射之數位曝光爲佳。前述數位曝光之機構係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，舉例如：特開2005_3 1 1 305號公報、特開 2 0 0 7 -1 0 7 8 5號公報中所記載的、照射光線之光照射機構、基於形成之圖案資訊以調變從該光照射機構所照射之光的 -87- 200837500 光調變機構等。前述之數位曝光並沒有特別地限定，可以按照目的需要而適當地選擇，例如使用基於所形成的圖案形成資訊產生控制信號、並隨著該控制信號所調變的光來進行爲佳；例如，較宜是對於前述之感光層，使用曝光頭，其係配備光照射機構、及具有接受來自前述光照射機構的光並予以射出之η個（但，η爲2以上之自然數）的2次元狀排列之圖素部、能夠因應圖案資訊而控制前述之圖素部的光調變機構之曝光頭，且係經配置以使得前述圖素部的列方向與該曝光頭的描掃方向形成預定之設定傾斜角度0 ;對於前述之曝光頭，藉著使用圖素部指定機構，由可供使用的前述圖素部之中指定使用於Ν次曝光（但，Ν爲2以上之自然數）的前述圖素部；與對於前述之曝光頭，藉著圖素部控制機構，依照使得僅有經前述使用圖素部指定機構所指定的前述圖素部參與曝光之方式來進行控制前述圖素部；及使前述曝光頭相對於掃描方向移動而對於前述感光層進行曝光之方法。在本發明中，「Ν次曝光」係指在前述感光層之被曝光面上的曝光區域之大約全部區域中，平行於前述曝光頭的掃描方向之直線，與該被曝光面上所照射的Ν條光點列（圖素列）係設定成交叉而曝光。本文中，「光點列（圖素列）」係指當做由前述圖素部所生成的圖素單位的光點（圖素）列之中，比前述曝光頭的掃描方向的夾角小的方向之列。另外， -88- 200837500 前述之圖素部的配置不一定非得是矩形格子狀’例如’可以是平行四邊形狀之配置等。此處所述之「大約全部區域」’就各圖素部的兩側邊緣部而論，其係由於使圖素部列呈傾斜而減少與平行於前述曝光頭的掃描方向交叉的使用圖素部之圖素列的數量’所以在此種情況下，即使是連接複數個曝光頭來使用’也會因該曝光頭的安裝角度及配置等之誤差、而使得與平行於掃描方向的直線交叉之使用圖素部之圖素部列的數量些微增減的緣故，又且各使用圖素部之圖素部列間連繫的解像度分以下之極少部分，由於安裝角度及圖素部配置等之誤差、而使得沿著與掃描方向成垂直的方向之圖素部的節距不能與其他部分之圖素部的節距嚴密地一致，因而與平行於掃描方向的直線交叉之使用圖素部的圖素部列之數量乃在± 1的範圍內增減所致。另外，在以下的說明之中，係將N 爲2以上的自然數之N次曝光統合稱爲「多次曝光」。更且，在以下的說明之中，就以本發明之曝光裝置或曝光方法當做繪圖裝置或繪圖方法來實施的形態而論，係使用「N次繪圖」及「多次繪圖」之用語來做爲對應於「N次曝光」及「多次曝光」的用語。前述之N次曝光的N，只要是2以上的自然數即可，並沒有特別地限定’可以按照目的需要而適當地選擇，然而較宜是3以上之自然數，更宜是3以上、7以下之自然數。在本發明中的雷射波長係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，從謀求縮短感光性組成物的曝光時間之 -89- 200837500 目的而言，以330〜650nm爲佳，365〜445nm爲較佳、395 〜415nm爲特佳。雷射的光束徑係沒有特別地限制，其中從濃色離隔壁之解像度的觀點，以高斯光束（Gaussian beam)的1/e2値在 5〜30μιτι爲佳，7〜20μηι爲較佳。雷射光束之能量量係沒有特別地限制，其中從曝光時間與解像度之觀點而言，以1〜1〇〇m J/cm2爲佳，5〜 50mJ/cm2爲較佳。本發明係必須依照畫像資訊空間光調變雷射光。爲達成該目的，使用特開2005-3 1 1 305號公報[0173]〜[0174] 中所記載的空間光調變元件之數位微型裝置爲佳。曝光裝置，舉例來說可使用雷射直接影像裝置「INPREX IP-3000(富士軟片（股）製）」，惟本發明中的曝光裝置係不受此所限制。 [其他步驟] 前述其他步驟係沒有特別地限制，可從公知的圖案形成之步驟中做適宜選擇，可舉例如顯像步驟、硬化處理步驟等。 [顯像步驟] 前述顯像步驟係藉由前述曝光步驟曝光前述感光層，使該感光層經曝光的領域硬化之後，經由去除未硬化區j：或而顯像，以形成永久圖案之步驟。前述未硬化區域的去除方法係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，可舉例如使用顯像液以進行之方& -90- 200837500 等。前述顯像液係沒有特別地限制’可根據其目的做適當選擇，可舉例如鹼金屬或鹼土類金屬的氫氧化物或碳酸鹽、碳酸氫鹽、氨水、4級銨鹽的水溶液等爲適宜。此等之中，尤以碳酸鈉水溶液爲特佳。前述顯像液係可與界面活性劑、消泡劑、有機鹼（例如，苄基胺、乙二胺、乙醇胺、氫氧化四甲基銨、二乙三胺、三乙五胺、味啉、三乙醇胺等）、或用以促進顯像之有機溶劑（例如，醇類、酮類、酯類、醚類、醯胺類、內酯類等）等一倂使用。又，前述顯像液係可混合水或鹼水溶液與有機溶劑之水系顯像液，亦可有機溶劑單獨即可。 [硬化處理步驟] 關於本發明之永久圖案的形成方法較宜係更含有硬化處理步驟。前述硬化處理步驟係在前述顯像步驟實施之後，對於經形成之永久圖案中的感光層，進行硬化處理之步驟。前述硬化處理係沒有特別地限制，可根據其目的做適當選擇，可舉例如全面曝光處理、全面加熱處理等爲適宜。前述全面曝光處理之方法，舉例來說，例如其可以是在前述顯像步驟之後，將前述永久圖案形成之前述積層體上的全面進行曝光之方法。藉由該全面曝光，係促進了形成前述感光層之感光性組成物中的樹脂硬化，且硬化了前述永久圖案的表面。進行前述全面曝光之裝置係沒有特別地限制，可根據 -91- 200837500 其目的做適當選擇，可舉例如超高壓水銀燈等的爲適宜。前述全面加熱處理之方法係可舉例如：在前驟之後，將前述永久圖案形成之前述積層體上的加熱之方法。藉由該全面加熱提高了’前述永久的膜強度。在前述全面加熱中的加·熱溫度係以1 2 0〜佳，1 2 0〜2 0 0 °C爲較佳。該加熱溫度低於1 2 0 °C 藉由加熱處理而提高膜強度，超過250 °C時，前述成物中的樹脂產生分解，且膜質變得脆弱。前述全面加熱中的加熱時間係以1 〇〜1 2 0分〜6 0分爲較佳。進行前述全面加熱之裝置係沒有特別地限制知的裝置之中根據其目的做適當選擇，可舉例如箱、加熱板、IR加熱器等。此外，前述基體爲多層配線基板等的印刷配形中，係在該印刷配線板上形成永久圖案，更且所述般進行錫焊焊接。亦即，藉由前述顯像步驟，形成前述永久圖層，且使得金屬層露出於前述印刷配線板之表面出該印刷配線板表面之金屬層部位進行鍍金之後焊焊接。然後，在進行錫焊焊接之部位進行安裝構件等。此時，由前述硬化層而成之永久圖案係做爲保護膜或是絶緣膜（層間絶緣膜）的機能，並 UV曝光機述顯像步全面進行圖案表面 2 5 0 t：爲時，無法感光性組爲佳，1 5 ，可從公 :乾式烘線板之情可如以下案之硬化。對於露，進行錫半導體或係發揮了防止了來 -92- 200837500 自外部的衝撃或彼此相鄰電極的導通。在關於本發明之永久圖案的形成方法中，較宜係形成保護膜及層間絶緣膜中至少任一者。藉由前述永久圖案的形成方法所形成之永久圖案爲前述保護膜或前述層間絶緣膜時，可保護配線避免來自外部的衝撃以及彎曲，例如，特別是在前述層間絶緣膜之情形中，對於多層配線基板與堆疊配線基板等的半導體或構件之高密度安裝係爲有用。關於本發明之永久圖案的形成方法因爲可以高速形成圖案，所以可廣泛地應用於各種圖案的形成，特別是能適合使用於配線圖案的形成。又，根據關於本發明之永久圖案的形成方法所形成之永久圖案，係具有優異之表面硬度、絶緣性、耐熱性、耐濕性等，且可適合做爲保護膜、層間絶緣膜、耐焊圖案來使用。實施例以下，就本發明之實施例加以説明，惟本發明係不受下述實施例之任何限定。 (合成例1) 在1,000mL之三頸燒瓶中投入159g的1-甲氧基-2-丙醇，於氮氣流下加熱至8 5 °C。於其中，以2小時滴下6 3.4 克之甲基丙烯酸苄酯、72.3克之甲基丙烯酸、4.15克 V- 6 0 .1 (和光純藥）之1 5 9克的1 -甲氧基-2 -丙醇溶液。當滴下終了後，更進一步地加熱5小時使之反應。然後’停ih加熱而得到甲基丙烯酸苄酯/丙烯酸（3 0/70莫耳％比）的共聚物。 -93- 200837500 接著，前述共聚物溶液中的120·09移入300mL三頸燒瓶內，加入16.69的甲基丙儲酸縮水甘油酯、〇.169的p-甲氧基苯酚，並予以攪拌使之溶解。溶解後’加入2 · 4 g的氯化四乙基銨’於1 0 0 °C加熱T ’進行加成反應。當以氣體層析法確認甲基丙烯酸縮水甘油酯消失時’停止加熱。加入 1-甲氧基-2-丙醇，調製固體成分爲50質量％之下述表1所示的高分子化合物1之溶液。所得到的高分子化合物之質量平均分子量（Mw)係爲藉由以聚苯乙烯做爲標準物質的凝膠滲透層析法（G p c)來測定，結果爲1 5，0 0 0。又，使用氫氧化鈉滴定所得到的固體成分之酸價（羧基之含量）爲2.2 meq /g。更且，藉由碘價滴定所求得的固體成分之乙烯性不飽和鍵的含量（C = C價）係2 · 1 m e q /g。 (合成例2) 在安裝有回流冷却器、溫度計、氮取代用玻璃管及攪拌機之四頸燒瓶中，加入B I e m m e r G S (日本油脂（股）製、氯降低之甲基丙烯酸縮水甘油酯、鹵素含量爲1 ppm以下）70 質量份、甲基甲基丙烯酸酯3 〇質量份、乙酸卡必醇酯1 〇〇質量份、及偶氮雙異丁腈3質量份，藉由一邊攪拌、一邊在氮氣流下、8 0 °c加熱5小時進行聚合，以得到5 0 %共聚物溶液。在所得之5 0質量。/。共聚物溶液中，加入氫醌〇 . 〇 5質量份、丙稀酸37質量份、及二甲基苄基胺〇.2質量份，並在100 -94- 200837500 °C下進行加成反應24小時。然後’繼續加入四氫酞酸酐4 5質量份、及乙酸卡必醇酯7 9質量份且在1 〇〇 °C下反應3小時，以得到紫外線硬化性樹脂的50質量％溶液（A2)。 (分散例1 ) 如表1所不’將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器中，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散1小時，以得到黃色顏料的分散液1。使用雷射散射方式的粒度分布測定器來測定所得之分散液1的粒子，平均粒徑爲340 nm。結果係如表1所示。 ί顏料分散液絹成]____ •高分子化合物1.......................9 _ 1質量份 •薩多琳黃6 G L (汽巴特殊化學公司製、C · I ·顏料黃 173)、下述構造式（1))..................1〇質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI (股）製）........0·28質量份 •丙二醇蚩甲基醚乙酸酯...............5 0.4質量份

(分散例2) 除了分散時間爲2小時以外’與分散例1同樣地製作分散液2。結果係如表1所示。平均粒徑爲1 6 0 n m。 -95- 200837500 (分散例3) 除了分散時間爲0.5小時以外，與分散例1同樣地製作分散液3。結果係如表1所示。平均粒徑爲1 , 2 5 0 n m。 (分散例4) 如表1所示，預先混合與分散例1相同組成的分散液後，以馬達硏磨機M-200(愛伽（股）製）、使用直徑1 .〇mm的锆珠、在周速度9m/s下分散24小時，以調製黃色顏料的分散液4。結果係如表1所示。以透過型電子顯微鏡（T E Μ)觀察時，從其照片測定任意20個粒子的尺寸，可知平均粒徑爲 6 0 n m。 (分散例5) 如表1所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散1小時，以得到黃色顏料的分散液5。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液5的粒子，平均粒徑爲260nm。結果係如表1所示。丄-顔料分散液細成1____ •咼分子化合物........................9.1質量份 •色宜佳堅牢黃 2770(SEIKAFAST YELLOW 2770)(大曰精化工業（股）製、C.I·顏料黃83)、下述構造式（2)) ...................................... 〇質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）......0.28質量份享單甲基醚乙酸酯.二............50.4暂畺1 -96- 200837500

構造式(2) (分散例6) 如表1所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒3 0份裝入容量2 0 0 m I的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散 '液6。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液6的粒子，平均粒徑爲5 2 0 n m。結果係如表1所示。丄顏料分散液組成1____ •高分子化合物1.......................9.1質量份 •黃2RLT(汽巴.特殊化學公司製、C.I.顏料黃1〇9)、下述構造式（3))........................10質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）........0.28質量份 •丙二醇單甲基醚乙酸酯...............50.4質量份

(分散例7) 如表1所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量20〇m丨的聚乙烯製容器內，以塗料搖 -97- 200837500 動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散液7。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液7的粒子，平均粒徑爲3 5 0 n m。結果係如表1所示。丄顏料分散液組成〕____ •高分子化合物1.......................9.1質量份 • Cromophtal 丫e 11 o w3 RT (汽巴特殊化學公司製、C . I · 顏料黃110)、下述構造式（4))............10質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI (股）製）........0.28質量份二醇II甲基醚乙酸酯...............5 0.4質量份

(分散例8) 如表1所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒3 0份裝入容量2 0 0 m I的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散液8。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液8的粒子，平均粒徑爲4 0 0 n m。結果係如表1所示。分散液絹成]____ •闻分子化合物1.......................9.1負墓份 •Paliotol Yellow D0960(BASF 公司製、C .丨彥頁料頁 138)、下述構造式（5))..................10質量份 -98- 200837500 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）........〇·28質量份 •丙二醇單甲基醚乙酸酯...............5 0.4質量份

構造式(5) (分散例9) 如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散液9。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液9的粒子，平均粒徑爲42 Onm。結果係表示於表2。〔顏料分散液組成〕_ •高分子化合物1.......................9.1質量份 •堅牢黃FGL(大日精化工業（股）製、C.I.顏料黃97)、下述構造式（6))..........................1 〇質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）.......0_28質量份 •丙二醇單甲基醚乙酸酯...............5 0.4質量份 -99- 200837500 cH3a

nhso2

N

H3C

〇〇 qch3 構造式(6)

\^、CI OCH3 (分散例1 0 ) 如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散液1 〇。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液1 0的粒子，平均粒徑爲3 8 0 n m。結果係表示於表2。 ί顏料分散液細成1_____ •高分子化合物 .........................1質量份 •二重氮黃ααρτ(大日精化工業（股）製、CJ.顏料黃 55)、下述構造式（7))......... —里1ζΓ •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）.......0·28質里份 ........5 0.4質量份 •丙二醇單申某醚乙酸^~

構造式(7) -1 00- 200837500 (分散例1 1 ) 如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散液1 1。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液1 1的粒子，平均粒徑爲2 3 0 n m。結果係表示於表2。〔顏料分散液組成〕____ •筒分子化合物1.......................9.1質量份 • PALIOTOL YELLOW D 1 1 5 5 ( C L A R I A N T公司製、c.l· 顏料黃185)、下述構造式（8))............1〇質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI (股）製）........0.28質量份 •丙二醇單甲基醚乙酸酯...............5 0 · 4質量份

構造式（8) (分散例12) 如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2mm的玻璃珠粒3 0份裝入容量2 0 0 m丨的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到黃色顏料的分散液1 2。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液1 2的粒子，平均粒徑爲4 3 0 n m。結果係表示於表2。 -101- 200837500 丄_顏料分散液細成Ί__ •高分子化合物1.......................9 · 1質量份 •Chromophthal黃2RF(汽巴特殊化學公司製、C.I.顏料黃139)、下述構造式（9))............1〇質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）........0.28質量份二西二醇單甲基醚乙酸酯...............5 0 · 4皙畺份

〇〇構造式（9) (分散例1 3) 如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到藍色顏料的分散液1 3。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液1 3的粒子，平均粒徑爲2 8 0 n m。結果係表示於表2。 1-顔料分散液組成1_ •高分子化合物1.......................9.1質量份 •HELIOGEN BLUE D707PB(BASF公司製、C.I·顏料藍 15: 3)、下述構造式（10))................10質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）........0.28質量份 1二醇單甲基醚乙酸酯...............5 0.4質量份 -102- 200837500

如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2mm的玻璃珠粒3 0份裝入容量2 0 0 m丨的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散1小時，以得到藍色顏料的分散液1 4。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液1 4的粒子，平均粒徑爲3 3 0 n m。結果係表示於表2。 L顏料分散液絹成] •筒分子化合物1.......................9.1質量份 •花青藍5025(大日精化工業（股）製、c.l·顏料藍15: 1)、下述構造式（11))...................1〇質量份 •索羅斯帕斯S-200〇〇(ICI (股）製）........〇_28質量份 •丙二醇單甲某醚乙酸酯...............5 0 · 4質量份

-103- 200837500 (分散例15) 如表2所示，將下述顏料分散液組成、與直徑2 m m的玻璃珠粒30份裝入容量200ml的聚乙烯製容器內，以塗料搖動器（東洋精機（股）製）分散2小時，以得到綠色顏料的分散液1 5。使用雷射散射方式的粒度分布測定器測定所得之分散液1 5的粒子，平均粒徑爲3 8 0 n m。結果係表示於表2。 ί顏料分散液組成_ J___ •高分子化合物1.......................9 . 1質量份 •花青綠2G-5 50-D(大日精化工業（股）製、C.I.顏料綠7) 下述構造式（12)).......................10質量份 •索羅斯帕斯S-20000(ICI(股）製）........0.28質量份 .丙二醇單甲某醚乙酸酯 ............5 0.份

(不含顏料之溶液c 1 ) 如表2所示，藉由溶解下述顏料分散液組成以得到 ^ 个含顏料之溶液c 1。 ί滋液組成]_—-

胃籩份

•高分子化合物1.......... -104- 200837500 •索羅斯帕斯s-20000(ICI(股）製）........0.28質量份 •丙二醇單甲基醚乙酸酯...............5 0.4質量份【表1】分散液1 分散液2 分散液3 分散液4 分散液5 分散液6 分散液7 分散液8 C.I·顏料黃173 10.0 10.0 10.0 10.0 C.I.顏料黃83 10.0 C.I.顏料黃109 10.0 C.I.顏料黃110 10.0 C.I.顏料黃138 10.0 C.丨顧料黃97 C.I.顏料黃55 C.I.顏料黃185 C.I.顏料黃139 C.IJ頁料藍15 : 3 C.I顧料綠15 : 1 C.I.顏料綠7 高分子化合物1 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 索羅斯帕斯20000 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 丙二醇單甲基醚乙酸酯 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 顏料分子中的鹵素含量(質量％) 15.8 15.8 15.8 15.8 15.8 15.8 15.8 40.0 顏料的平均粒徑 (nm) 340 160 1250 60 260 520 350 400 -105- 200837500 【表2】分散液9 分散液10 分散液11 分散」夜12 分散液13 分散液14 分散液15 C1 C.I·顏料黃173 C.I顏料黃83 C·丨顧料黃109 C.I·顏料黃110 C.I顧料黃138 C.丨顧料黃97 10 C.IJ頁料黃55 10 C·丨顧料黃185 10 C.I顧料黃139 10 C_丨顧料藍15 : 3 10 C-丨·顏料綠15 : 1 10 C·丨顧料綠7 10 高分子化合物1 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 9.10 索羅斯帕斯20000 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 0.28 丙二醇單甲基醚乙酸酯 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 50.4 顏料分子中的鹵素含量(質量％) 5.85 10.8 0.5 0.2 0 5.8 50.6 - 顏料的平均粒徑 (nm) 420 380 230 430 280 330 380 - (實施例1) 以1 : 2的混合比（質量比）含有分散例1的分散液1(黃色顏料分散液）與分散例13的分散液13(藍色顏料分散液），來調製由下述組成所構成之感光性組成物溶液’塗布至16 μm 厚聚對苯二甲酸乙二酯支撐體（東麗（股）製16FB50)，在乾燥後形成膜厚爲35μπΊ的感光層，其次’在該感光層之上藉由積層機積層做爲保護薄膜之聚丙丨希薄目吴（王子製紙（股）製：A I p h a η Ε 2 0 0、膜厚2 0 μ m )，利用卷繞機進行卷取’以製作感光性薄膜。 -1 06- 200837500 「感来件細成物溶液的細成〕_____ •高分子化合物1......................63.3質量份 •DPHA(日本化藥（股）製，二季戊四醇六丙烯酸酯76質量％稀釋品）.............................2 2 · 2質量份 •下述通式（VI)所代表之雙酚A型沒一甲基環氧樹脂（環氧當量：2 1 4g/eq、黏度：62Pa · s).........18.8質量份 • N-苯基甘胺酸....................· · · 0.2質量份 •下述通式（VII)所代表之增感劑.........〇·20質量份 [ · CGI325(光聚合起始劑） (汽巴特殊化學公司製、下述通式（VIII)所代表之肟衍生物）.................................2_3質量份 •氰胍（熱硬化促進劑）.................〇 · 9 3質量份 •三畊·異三聚氰酸加成物（熱硬化促進劑） (2MAOK、四國化成（股）製）............〇·53質量份 •分散液1 (黃色顏料）..................〇_37質量份 •分散液1 3 (藍色顏料）.................〇 . 7 5質量份 •硫酸鋇分散液量％).........81.4質量份 •氫醌單甲基醚......................〇·〇6質量份 •塗布助劑（氟系界面活性劑F7 80 F、30質量％甲基乙基酮溶液）................................〇_24質量份 •甲基乙某酮........................45.4質量份 >2)硫酸鋇分散液係將硫酸鋇（堺化學工業（股）製、 Β30)29·2質量份、上述高分子化合物1(50質量％)溶液20.9 質量份、與1-甲氧基-2-丙基乙酸酯36質量份預先混合之後，以馬達硏磨機Μ-200(愛伽公司製）、使用直徑1 .〇mm的 -107- (VI) 200837500 鍩珠，在周速度9m/s下分散3.5小時而調製的。

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通式 -感光性積層體的調製- 對已形成配線的覆銅積層板（無貫穿孔’銅f 之表面施加化學硏磨處理以調製做爲前述基體。光性薄膜的感光層相接於前述覆銅積層板的方另前述感光性薄膜中的保護薄膜，一邊使用真空層苟蒙筒（股）製、VP130)來使之積層於該覆銅積層調製依照前述覆銅積層板、前述感光層、前述赛酸乙二酯薄膜（支撐體）之順序積層而成的感光性壓合條件係真空吸引時間爲40秒、壓合溫虔壓合壓力爲0.2 MPa、及加壓時間爲1 〇秒。雾度1 2 μίΠ) 以前述感 :一邊剝離壓機（尼契「板上，以 :對苯二甲薄膜。 :爲 7 (ΓC 、 -108- 200837500 …曝光步驟-- 對於前述所調製之積層體中的感光層，從支撐體側，使用雷射直接影像裝置「INPREX IP-3000(富士軟片（股）製）」，爲得到形成不同直徑穴部之圖案，以20μΓΠ至ΙΟΟμπΊ 每隔1 0 μ m，將4 0 5 n m的雷射光照射曝光圖案使其曝光，以硬化前述感光層的部分領域。 <圖案形成裝置> 使用具備曝光頭30之圖案形成裝置10，該曝光頭係具有做爲前述光照射機構之特開2 0 0 5 - 3 1 1 3 0 5號公報所記載的複合波雷射光源、與做爲前述光調變機構之可控制成僅驅動如第2圖之槪略圖所示之在主掃描方向上排列1 024個微鏡片58之微鏡片列、在副掃描方向上排列76 8組微鏡片陣列中之1 024個X 2 56列的,DM D36，以及具有將如第1圖所示之光成像於前述感光性轉印材料之光學系統。各曝光頭3 0，即各D M D 3 6之設定傾斜角度，可以使用可供使用的1 024列χ256行之微鏡片58，並採用比恰好2次曝光的角度0 ideal稍微大一些的角度。此種角度0 ideal對於 N次曝光之次數N，可供使用的微鏡片5 8之列方向的個數 s、可供使用的微鏡片5 8之列方向的間隔p、及曝光頭3 0呈傾斜狀態時之由於微鏡片所形成的掃描線間距5而言’係具有如下述式1之關係： spsin^ ideal ^ N5 (式 1) 本實施形態中之D M D 3 6，如以上所述，因爲它是一種縱橫之配置間隔爲相等之多數個微鏡片5 8呈矩形格子狀排列之物的緣故，所以： -109- 200837500 p COS0 ideal = 5 (式 2) 因而上述式1乃變成： s tan0 ideal = N (式 3) 由於s = 2 56、N = 2，所以角度0 ideal係約〇·45度。從而設定傾斜角度0 ，例如，可以採用〇·5〇度。首先，爲了補正2次曝光中解像度之變異及曝光不均一現象，所以調整被曝光面之曝光圖案的狀態。結果如第3 圖所示。在第3圖中，係顯示一在令平台14呈靜止之狀態下投影於感光性轉印材料1 2之被曝光面上，具有曝光頭3 〇 1 2 和30212DMD36的可供使用的微鏡片58而來的光點群之圖案。又，在出現如下半部分、上半部分所示之光點群的圖案之狀態下，移動平台1 4進行連續曝光之際，對於曝光區域3 2 i 2和3 2 2，顯示在被曝光面上所形成的曝光圖案的狀態。另外，在第3圖中，雖然爲了方便說明起見而將可供使用的微鏡片5 8之間隔1列的曝光圖案，分開爲畫素列群A之曝光圖案與畫素列群B之曝光圖案來表示，然而實際的被曝光面上之圖案係由此等2種曝光圖案重合而成者。如第3圖所示，可明白：由於曝光頭3 0 i 2和3 0 2 i之間的相對位置的偏離理想狀態的結果，所以畫素列群A之曝光圖案與畫素列群B之曝光圖案雙方，在曝光區域32 12和32 21 之前述曝光頭的掃描方向成垂直的座標軸上之重複曝光範圍之中，皆產生比理想的2次曝光狀態更多曝光的曝光過多的範圍。使用狹縫2 8及光檢出器之組合做爲前述光點位置檢出機構，對於曝光頭3 0 1 2檢測出曝光區域3 2 i 2內的光點p (1， -110- 200837500 1)和P(2 56 ’ 1)的位置、對於曝光頭3 021檢測出曝光區域 3 2，2內的光點P (1，1 〇 2 4)和P (2 5 6，1 0 2 4 )的位置，並測定彼等連結之直線的傾斜角度和曝光頭之掃描方向間形成的角度。使用實質傾斜角度0 ’，分別導出關於曝光頭3(^ 2和 3021之出最接近滿足下述之關係式4 : t 13 π θ =N (式 4 ) 的値t之自然數T。分別導出如下：對於曝光頭3 0 ; 2而言T = 254;對於曝光頭3 02 1而言T = 255。結果，構成在第4 圖中以斜線覆蓋之部分78及80的微鏡片係被界定爲於本曝光時不使用的微鏡片。然後，關於和構成在第4圖中以斜線覆蓋之部分78及80 的光點以外之光點相對應的微鏡片，以同樣的做法界定與構成在第4圖中以斜線覆蓋之範圍82及以網點覆蓋之範圍 84之光點相對應的微鏡片，追加爲於本曝光時不使用的微鏡片。對於此等之曝光時不使用之經界定的微鏡片，藉由圖素部控制機構，送出平時設定爲OFF狀態的角度之信號，來控制此等之微鏡片使成爲實質上與曝光無關。藉此，即可以使得在曝光區域3 2 ! 2和3 2 2 !之中，以複數個前述曝光頭所形成的被曝光面上之重複曝光範圍之頭間連繫區域以外之各範圍中，相對於理想的2次曝光而言，成爲曝光過多的區域、和成爲曝光不足的區域之面積總和可變爲最小。 --顯像步驟一 -111- 200837500 在室溫靜置1 0分鐘後，從前述積層體將支撐體剝離下來，使用1質量％碳酸鈉水溶液做爲鹼性顯像液、於30 °C以最短顯像時間的2倍時間，對於覆銅積層板上感光層的全面進行噴淋顯像，以溶解去除未硬化的區域。（另外，測定直至未硬化之基板上的感光層被溶解的時間以定義爲最短顯像時間）然後，進行水洗並使之乾燥，以形成永久圖案。一硬化處理步驟-- 對於前述永久圖案形成之積層體的全面，以150 °C、60 分鐘實施加熱處理，硬化永久圖案的表面，以提高膜強度。 <評價> 接著，對於所得之各感光性薄膜及各永久圖案，進行著色度、色相、感光區域吸光度、鹵素含量、曝光靈敏度、解像度、保存性及硬化後之光阻劑性能的評價。 <<著色度·色相的評價>> 所製作感光性薄膜之著色度係以在麥克貝斯 (Mach beth)光度計裝上紅色濾光片進行測定所得之麥克貝斯光學濃度來表示。評價基準係以0.5以上爲佳。又，以目視判定色相。結果係表示於表6。 <<在感光區域中吸光度的評價> > 又，使用分光光度計來測定所製作之感光性薄膜的吸收光譜，以測定在4 0 5 n m中的感光區域之吸光度。評價基準係以1 · 0以下爲佳。結果係表示於表6。 < <分散安定性的評價> > 又，將感光性層塗布液於4 0 °C下保存7天，觀察顏料有 -112- 200837500 無凝集。有顏料凝集之情形係顯示爲X、沒有的情爲〇。結果係表示於表6。 < <鹵素含量的測定·評價> > 在燃燒燒瓶内燃燒所製作的前述感光性薄膜光層（1 〇 g )，把所產.生的氣體吸收於純水中，藉由法檢出所得之吸收液中的鹵素含量，並加以定量表示於表6。 <<曝光靈敏度的評價>> 如前所述，在藉由圖案曝光·顯像·水洗而得案時，測定殘留的前述感光層之硬化區域的厚度將雷射光的照射量、與硬化層厚度的關係圖表化靈敏度曲線。根據這樣所得之靈敏度曲線，在配化區域的厚度爲3 0 μ m、硬化區域的表面爲光澤面量，係爲了使感光層硬化所必須的光能量。結果表6。 < <解像度> > 利用光學顯微鏡觀察所得之前述永久圖案形印刷配線基板之表面，在硬化層圖案的穴部沒有測定最小的穴徑，並將其當作解像度。該解像度小的話越良好。結果係表示於表6。 <<邊緣粗糙度>> 自所得前述積層體的聚對苯二甲酸乙二酯？體）上，使用前述圖案形成裝置，照射並2次曝光前述曝光頭的掃瞄方向成直交之方向的橫線圖案距（I i n e / s p a c e ) = 1 /1、線寬3 0 μ m來進行線寬的曝：形則顯示之前述感離子層析。結果係到永久圖。其次，，以得到線上之硬時的光能係表示於成完成的殘膜，且係數値越 ί膜（支撐以形成與，以線/間 -113- 200837500 此時的曝光量係在前述曝光靈敏度的評價中，使經測定之前述感光層硬化所必須的光能量。於室溫靜置1 0分鐘之後，自前述積層體剝離聚對苯二甲酸乙二酯薄膜（支撐體）。以噴霧壓爲〇 . 1 5 Μ P a、於前述顯像時間的評價中所求得最短顯像時間的2倍時間，將30 °C的1質量％碳酸鈉水溶液，噴霧至覆銅積層板上感光層的全面，以溶解去除未硬化區域。在這樣所得的永久圖案之中，使用雷射顯微鏡 (VK-9 5 00、基恩斯（股）製；對物透鏡50倍）觀察線寬30 μ m線的任意5個地方，在視野内的邊緣位置中，求取最凸起之處 (山頂部）、與最細之處（谷底部）之差的絶對値，並算出所觀察的5處之平均値，而將其當作邊緣粗糙度。該邊緣粗糙度係値越小的話，因呈現出良好的性能而爲佳。結果係表示於表6。 < <保存安定性> > 接著，爲了評價經時的顯像性變化，將夾持前述之各種保護薄片、用遮光性防濕袋（東海氧化鋁箔（股）製BF3X) 包裝並以軸襯塞住兩端之輥狀試樣，在加速條件下（3 (TC、 9 0 % R Η )的恆溫恆濕槽中保存3天，來測定顯像性的變化。保存性係將初期的最短顯像時間tQ、與前述加速條件後的最短顯像時間t3d進行比較，由該比（tQ/t3d)値，以下述基準來進行評價。〇：1倍以上、低於2倍 △ : 2倍以上、低於3倍（可供實際使用的水準） -114- 200837500 χ : 3倍以上結果係表示於表6。 -硬化後光阻劑性能- 在剝離保護薄膜後，將上述的感光性積層體真空積層至電路圖案的無覆銅積層板上。將其冷卻至室溫後，以曝光量2 3 m J / c m 2的條件進行曝光，在熱風循環式乾燥爐中 1 5 0 °C下進行硬化6 0分鐘，然後冷卻至室溫，得到錯筆硬度及密著性試驗用評價試樣。利用該評價試樣，根據以下的項目進行硬化膜的性能評價。結果係如表7所示。 < <鉛筆硬度> > 依照J I S K - 5 4 0 0的試驗方法，使用鉛筆硬度試驗機’ 求得在對上述試樣施加1 kg負荷之際，於皮膜上沒有瑕疵的最高硬度。結果係如表7所示。 < <密著性> > 依照J I S D - 0 2 0 2的試驗方法，將橫切（c r 〇 s s c u t)置入上述評價試樣中，接著以目視判定由賽璐玢膠帶的剝離測試後剝離的狀態。判定基準係如下所示。結果係如表7所示。〇：完全看不到剝落者 △:僅看到一點點的剝落者 χ :完全剝落者 < <電氣絶緣性> > 從前述感光性薄膜剝離保護薄膜後，用真空層壓機將其積層至IPC-B-25的梳形電極B試樣（coupon)上，冷卻至室溫之後，以曝光量23mJ/cm2的條件進行曝光’且用熱風循環式乾燥爐在1 5 0 °C下進行硬化6 0分鐘，以得到評價試樣。 -115- 200837500 對該梳形電極施加D C 5 0 0 V的偏壓電壓，以測定絶緣電阻値。結果係如表7所示。 < <耐酸性試驗> > 在2 0 °C下，將使用與前述 < < 電氣絶緣性 > > 相同之評價試樣浸漬於1 0容量。/。硫酸水溶液3 0分鐘後取出，總和性判定評價塗膜的狀態與密著性。結果係如表7所示。判定基準係如以下所示。〇：看不到變化者 △:僅一點點的變化者 X :塗膜上有膨脹或是膨滿脫落者 < <耐鹼性試驗> > 除了將1 〇容量％硫酸水溶液變更爲1 〇容量％氫氧化鈉水溶液以外，與前述 << 耐酸性試驗 >> 進行同樣地試驗評價。結果係如表7所示。 < <無電解金屬鍍敷耐性> > 依照後述之步驟，對於前述之試驗基板進行無電解金屬鍍敷，且對於該試驗基板進行外觀之變化試驗及使用賽 0玢膠帶之剝離試驗，並根據以下的基準評價光阻劑皮膜的剝離狀態。結果係如表7所示。〇：外觀無變化，光阻皮膜全部沒有剝離。 △:雖然外觀無變化，但光阻皮膜有些許剝離。 X :可見到光阻皮膜浮腫，可認知到鍍敷沉陷’於剝離試驗時光阻皮膜大大地剝離。 -無電解金屬鑛敷步驟---脫脂一 -116- 200837500 將試驗基板浸漬於3 0 °C的酸性脫脂液（（股）日本麥克達米德（MacDermid)製、MeltexL-5B的20容量％水溶液）中3 分鐘。 ―水洗-_ 將試驗基板浸漬於流水中3分鐘。一軟蝕刻於室溫下，把試驗基板浸漬於1 4.3質量％的過硫酸銨水溶液中3分鐘。 --水洗-- 將試驗基板浸漬於流水中3分鐘。 …酸浸漬… 把試驗基板於室溫下浸漬於1 0容量％的硫酸水溶液中 1分鐘。 --水洗-- 將試驗基板浸漬於流水中30秒〜1分鐘。 …賦予觸媒-- 把試驗基板浸漬於3 0 °C的觸媒液（梅魯德庫斯製 (股）、金屬板活化劑3 5 0的1 0容量％水溶液）中7分鐘。 …水洗一將試驗基板浸漬於流水中3分鐘。一無電解鍍鎳一將試驗基板於8 5。(：下、浸漬於p Η = 4.6的鍍鎳液（梅魯德庫斯製（股）、金屬板N i - 8 6 5 Μ、2 0容量。/〇水溶液）中2 0分鐘。一酸浸漬一於室溫下把試驗基板浸漬於1 0容量。/。的硫酸水溶液中 -117- 200837500 1分鐘。 --水洗一將試驗基板浸漬於流水中3 0秒〜1分鐘。一無電解金屬鍍敷一將試驗基板於9 5 °C下、浸漬於P Η = 6的鍍金液（梅魯德庫斯製（股）、1 5容量。/。歐烏諾雷酷德諾雷斯U Ρ、3容量％氰化金鉀的水溶液）中1 〇分鐘。 --水洗一將試驗基板浸漬於流水中3分鐘。 …湯洗-- 將試驗基板浸漬於6 0 °C的溫水中，且充分水洗3分鐘後，充分地將水截斷，並使之乾燥。經由如以上之步驟，得到無電解金屬鍍敷之試驗基板。 <<PCT耐性>> 從前述之各積層體將保護薄膜剝離下來後，用真空層壓機積層至印刷配線板上，且冷卻至室溫後，以曝光量 9 0 m J / c m 2的條件曝光，在熱風循環式乾燥爐1 5 0 °C下、進行硬化6 0分鐘，以得到評價試樣。將其冷卻至室溫之後，使用PCT試驗裝置（TABAI ESPEC HAST SYSTEM TPC-412MD)於 121°C、2 氣壓的 f[条件處理1 6 8小時，並評價硬化皮膜的狀態。結果係如表7所示。判定基準係如下所示。〇：沒有剝落、變色以及溶出。 △:有剝落、變色以及溶出中任一者。 X :看到很多的剝落、變色以及溶出。 -118- 200837500 【表3】成分實施例 1 2 3 4 5 6 7 分散液1 0.37 0.56 0.28 0.22 分散液2 0.37 分散液3 0.37 分散液4 0.37 分散液5 分散液6 分散液7 分散液8 分散液9 分散液1 〇分散液1 1 分散液1 2 分散液1 3 0.75 0.75 0.75 0.75 0.56 0.84 0.89 分散液1 4 分散液1 5 不含顔料之溶液C 1 高分子化合物1 (固體成分50質量％) 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 6 3.3 63.3 樹脂A2溶液 (固體成分50質量％) DPHA 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 CGI325 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 3 -氣-N - 丁基B丫卩疋酬 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 Irgacure 9 0 7 KAYACURE-DETX-S 雙酚A型/3 -甲基環氧樹脂 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 EHPE3150 氰胍 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 三聚氰胺 2MAOK 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 F780 F(固體成分30質量 %甲基乙基酮溶液） 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 硫酸鋇分散液 (固體成分42.4質量％) 8 1.4 8 1.4 8 1.4 8 1.4 81 .4 8 1.4 81.4 二氧化石夕氫醌單甲基醚 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 甲基乙基酮 45.4 4 5.4 45.4 45.4 45.4 45.4 4 5.4 200837500 【表4】成分實施例 8 9 10 11 12 13 14 15 16 分散液1 0.19 0.37 0.37 分散液2 分散液3 分散液4 分散液5 0.37 分散液6 0.37 分散液7 0.37 分散液8 0.37 分散液9 0.37 分散液10 0.37 分散液11 分散液12 分散液13 0.75 0.75 0.75 0.75 0.75 0.75 0.37 0.75 0.75 分散液14 分散液15 不含顔料之溶液C1 0.56 高分子化合物1 (固體成分50質量％) 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 50.6 63.3 Lipoxin PR-300 (固體成分68質量％) 9.3 DPHA 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 CGI325 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 3-氯-N-丁基吖啶酮 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 Irgacure 907 KAYACURE-DETX-S 雙酚A型/?-甲基環氧樹脂 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 EHPE3150 氰胍 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 三聚氰胺 2MA0K 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 F780F個體成分30質量％甲基乙基酮溶液） 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 硫酸鋇分散液 (固體成分42.4質量％) 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 二氧化矽氫醌單甲基醚 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 甲基乙基酮 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 -120- 200837500 【表5】成分比較例 1 2 3 4 5 6 7 8 分散液1 0.75 0.19 分散液2 分散液3 分散液4 分散液5 分散液6 分散液7 分散液8 分散液9 分散液10 分散液11 0.37 分散液12 0.4 0.37 分散液13 0.75 0.75 0.37 0.93 1.12 分散液14 0.4 分散液15 1.12 不含顔料之溶液C1 0.95 高分子化合物1 (固體成分50質量％) 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 63.3 樹脂A2溶液 (固體成分50質量％) 50 DPHA 22.2 7 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 22.2 CGI325 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3 3-氯-N-丁基吖啶酮 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 0.74 Irgacure 907 4 KAYACURE-DETX-S 0.5 雙酚A型/3-甲基環氧樹fl旨 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 18.8 8.8 EHPE3150 10 氰胍 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 0.93 三聚氰胺 1 2MAOK 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 F780F(固體成分30質量％甲基乙基酮溶液） 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 0.24 硫酸鋇分散液 (固體成分42.4質量％) 81.4 40 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 81.4 二氧化矽 10 氫醌單甲基醚 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 甲基乙基酮 45.4 28 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 45.4 -121- 200837500 (實施例2) 如表3所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 1的分散液2 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3 (藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例2，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價則述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜的性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例3) 如表3所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 3的分散液3(黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例3，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例4) 如表3所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 -122- 200837500 4的分散液4(黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例4，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例5) 如表3所示，調製以1 : 1之混合比（質量比）含有分散例 1的分散液1 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例5，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 〇 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗f造度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例6) 如表3所不調製以1 : 3之混合比（質量比）含有分散例 1的分散液1 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲 -123- 200837500 實施例6，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例7) 如表3所示，調製以彳·’ 4之混合比（質量比）含有分散例 1的分散液1 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例7，並塗布至支撐體上。以與實施例1同様的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價·。結果係表示於表7。 (實施例8) 如表4所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 1的分散液5(黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例8，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安 -124- 200837500 定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例9) 如表4所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 1的分散液6(黃色顏料分散液）、與分散例13的分散液13(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例9，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例1 0 ) 如表4所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 7的分散液1 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例10，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體.，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光 -1 25 - 200837500 度、_素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗f造度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例11) 如表4所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 8的分散液8(黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例1 1，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例12) 如表4所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 9的分散液9(黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例12，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糖度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對 -126: 200837500 硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例13) 如表4所示，調製以1 : 2之混合比（質量比）含有分散例 1 〇的分散液1 〇 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液 1 3 (藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例1 3，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6 °亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例1 4 ) 如表4所示，調製分散例1的分散液1 (黃色顏料分散液）與分散例1 3的分散液1 3(藍色顏料分散液）爲1 : 2之混合比 (質量比），惟添加量爲實施例1的一半，且含有不含顏料之溶液C 1的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲實施例 14，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體’以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 -127- 200837500 (實施例1 5 ) 如表4所示，除了將實施例1之感光性組成物（感光層塗布液）中的高分子化合物1溶液6 3.3質量份變更爲以丙烯酸開環加成高分子化合物1溶液50.6質量份與Lip oxi η PR-3 00(昭和高分子（股）製：甲酚酚醛清漆環氧樹脂’隨後加成反應四氫酞酸酐所得之樹脂，酸價=8 1、固體成分濃度 6 8 %丙二醇單甲基醚乙酸酯溶液）9.3質量份以外，來調製實施例15，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (實施例16) 在實施例1的圖案形成裝置中，除了基於前述式3算出 N = 1之設定傾斜角度0 ，基於前述式4而導出最接近t t a η Θ ' = 1關係之値t的自然數T，進行n次曝光（N = 1 )以外，對於所得之感光性薄膜輥及、積層體、永久圖案，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (比較例1 ) -128- 200837500 如表5所示，調製含有分散例1 5的分散液1 5(綠色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲比較例 1，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (比較例2) 如表5所示，調製以1 : 1的混合比（質量比）含有分散例 1 2的分散液1 2 (黃色顏料分散液）、與分散例彳4的分散液 1 4 (監色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲比較例2，並塗布至支撐體上。此外，表5所記載之EHPE3150係戴西爾化學工業（股）製的環氧樹脂，Irgacu re 9 07係汽巴特殊化學公司製的光聚合起始劑，KAYACURE DETX-S係日本化藥公司製的光聚合起始劑。又，砂石係使用平均粒徑1 μ nri者。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 -1 29- 200837500 (比較例3 ) 如表5所不，調製以1 : 2的混合比（質量比）含有分散例 1 1的分散液1 1 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液 1 3 (藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲比較例3，並塗布至支撐體上。塗布液雖然在40。〇、 7天後會觀察到凝集物，但是在剛調製完後是沒有凝集的問題，可使用於塗布。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (比較例4) 如表5所示，調製以1 : 2的混合比（質量比）含有分散例 1 2的分散液1 2 (黃色顏料分散液）、與分散例1 3的分散液 1 3 (藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲比較例3 ’並塗布至支撐體上。塗布液雖然在4 〇。〇、 7天後會觀察到凝集物，但是在剛調製完後是沒有凝集的問題，可使用於塗布。以與實施例1同檨的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣 -130- 200837500 粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表 (比較例5) 如表5所示，調製以2 : 1的混合比（質 1的分散液1 (黃色顏料分散液）、與分散例色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感比較例5，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感定性。又，使用前述感光性薄膜、及感为實施例1同樣的方式評價著色度、色相、度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表 (比較例6) 如表5所示，調製以1 : 5的混合比（質 1的分散液1 (黃色顏料分散液）、與分散例色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感比較例6，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感定性。又，使用前述感光性薄膜、及感Μ 實施例1同樣的方式評價著色度、色相、度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表表示於表6。亦對示於表7。量比）含有分散例 1 3的分散液1 3(藍光層塗布液）做爲光層塗布液之安 i性積層體，以與在405nm的吸光及解像度、邊緣表示於表6。亦對 :示於表7。量比）含有分散例 13的分散液13(藍光層塗布液）做爲 ί光層塗布液之安 3性積層體，以與在405nm的吸光及解像度、邊緣表示於表6。亦對 :示於表7。 -131- 200837500 (比較例7 ) 如表5所示，調製僅含有分散例13的分散液13(藍色顏料分散液）的組成之感光性組成物（感光層塗布液）做爲比較例7，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1同樣的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 (比較例8) 如表5所示，調製不含著色顏料的組成之感光性組成物 (感光層塗布液）做爲比較例8，並塗布至支撐體上。以與實施例1同樣的方式評價前述感光層塗布液之安定性。又，使用前述感光性薄膜、及感光性積層體，以與實施例1相同的方式評價著色度、色相、在4 0 5 n m的吸光度、鹵素原子的含量、最短顯像時間、靈敏度、及解像度、邊緣粗糙度、及顯像時間的經時變化。結果係表示於表6。亦對硬化膜之性能進行同樣地評價。結果係表示於表7。 -132- 200837500 【表6】試料分散安定性著色度色相圖案的顯眼感光區域吸光度 (405nm) 鹵素含量 (ppm) 靈敏度 (mJ/cm2) 解像度 (_ 邊緣粗糙度 (_ 保存安定性(顯像性的經時變化）阿貝光學濃度實施例1 〇 0.60 綠色〇 0.70 359 23 40 1.5 〇實施例2 〇 0.61 線色〇 0.80 360 30 40 1.4 〇實施例3 〇 0.58 線色〇 0.60 358 25 60 1.3 〇實施例4 〇 0.51 縁色〇 0.94 357 35 40 1.4 〇實施例5 〇 0.62 綠色〇 0.75 465 25 55 1.3 〇實施例6 〇 0.64 綠色〇 0.71 308 23 35 1.5 〇實施例7 〇 0.65 線色〇 0.65 276 23 40 1.5 〇實施例8 〇 0.52 綠色〇 0.72 380 25 40 1.4 〇實施例9 〇 0.56 綠色〇 0.83 725 30 40 1.3 〇實施例10 〇 0.62 綠色〇 0.75 722 28 40 1.5 〇實施例11 〇 0.53 綠色〇 0.84 682 35 40 1.6 〇實施例12 〇 0.58 綠色〇 0.81 228 34 45 1.4 〇實施例13 〇 0.57 綠色〇 0.75 293 25 45 1.5 〇實施例14 〇 0.45 綠色 Δ 0.74 255 25 50 1.7 〇實施例15 〇 0.60 線色〇 0.70 370 27 50 1.7 〇實施例16 〇 0.60 綠色〇 0.70 359 23 40 2.5 〇比較例1 〇 0.65 線色〇 0.84 2,175 32 60 1.8 X 比較例2 〇 0.64 綠色〇 0.94 90 150 50 1.6 X 比較例3 X 0.54 綠色〇 0.70 150 32 50 1.2 X 比較例4 X 0.56 綠色〇 0.81 152 36 70 1.7 X 比較例5 〇 0.43 黃綠色 Δ 0,89 1,206 40 65 1.3 〇比較例6 〇 0.35 藍綠色 X 0.53 417 30 60 1.8 〇比較例7 X 0.31 藍色 X 0.70 150 23 65 1.2 〇比較例8 〇 0.15 無色 X 0.50 150 20 70 1.5 〇 -133- 200837500 【表7】鉛筆硬度密著性電氣絶緣性 (x10·13) 耐酸性耐鹼性無電解金屬鍍麵性 PCT耐性實施例1 5H ________ 9.5 〇〇實施例2 5H 9.6 〇〇 — 實施例3 5H 〇 9.3 〇〇 —— 實施例4 5H -------- 卜8.9 〇〇 —— 實施例5 5H 9.0 〇〇 —^ 實施例6 5H 〇 9.1 〇〇實施例7 5H 〇 9.5 〇〇 —— 〇二實施例8 5H Γ 〇 9.2 〇〇 - 實施例9 5H 9.3 〇〇 --- δ' 實施例10 5H 9.5 〇〇 —^ 實施例11 5H 〇 9.1 〇〇 ——_〇實施例12 5H 匕〇 9.3 〇〇 — 實施例13 5H 9.4 〇〇 —^ 〇^ 實施例14 5H 9.0 〇〇 — 實施例15 5H ___—----^ 9.5 〇〇實施例16 5H 〇 9.3 〇〇 — 比較例1 5H U 9.2 〇〇1 — 比較例2 5H _ 〇 2.6 ^ 〇〇 —— 比較例3 5H 〇 9.5 ^Oi 〇 —^3- 比較例4 5H 〇 9.1 〇 — 比較例5 5H 〇 9.2 〇〇 — 比較例6 5H _ 〇 9.7 〇〇 =1^0- 比較例7 5H υ 9.3 〇〇 — 比較例8 2H 〇 9.6 〇〇由表6〜7的結果，包含在1分子中具有1個鹵素原子且呈現藍色的顏料、與含有5〜4 0質量。/°範_的平均粒徑爲 100〜1,〇〇〇nm之鹵素原子的呈現頁色之_料、含有呈現綠色之著色劑的實施例1〜1 4之感光性組成物及感光性薄膜，經確認可得到平滑的感光層，保存安定性優異、當使用於藍紫色雷射曝光系統時可得到咼精細的永久圖案。又，感光性組成物中的國素原子含量爲2 2 50〜 8〇〇Ppm、且感光層的曝光靈敏度爲20〜35mJ/Cm之貫施 -1 34- 200837500 例1〜1 6的感光性組成物及感光性薄膜，經確認係分散安定性良好、當使用於藍紫色雷射曝光系統時可得到高精細的永久圖案。又，根據實施例1 6的結果，認爲採用多次曝光的實施例1〜1 5在「靈敏度」、「解像度」及「邊緣粗糙度」之點方面係特別優異。另一方面，由表6〜7所示之結果，比較例1由於感光層中的鹵素含有率超過900ppm而安全方面爲不佳，比較例2 係儘管感光性組成物中的鹵素含量小（9 0 p p m )，但是靈敏度卻顯著地降低，且感光層的保存安定性係變得不佳。又，包含在1分子中不含鹵素原子且呈現藍色的顏料、與不含鹵素原子的呈現黃色之顏料的比較例3〜4，係分散安定性、及感光層的保存安定性爲不適宜的結果。再者，比較例5〜8結果雖然感光層的保存安定性爲適宜的，但是由於不含鹵素的藍色顏料與含鹵素的黃色顏料之混合比爲1 : 1〜4 : 1的範圍以外的比較例5及比較例6係 " 在感光區域中的吸光度及曝光靈敏度爲不適宜，且比較例7 及比較例8係色相爲藍色或無色’所以對於印刷基板等難以或無法辨別該感光性組成物的被覆與否，而爲不適宜的結果。因爲本發明之感光性組成物及感光性薄膜係分散安定性及保存安定性良好、且當使用藍紫色雷射曝光系統時能得到高精細的永久圖案，所以適合做爲保護膜、層間絶緣膜來使用，且可廣泛地應用於印刷配線板（多層配線基板、 -1 35- 200837500 堆疊配線基板等）、彩色濾光片或柱材、肋材、間隔材、隔壁等的顯示器用構件、全息照相、微型機械、樣張（proof) 等的永久圖案形成用，特別是可適合使用於印刷基板之永久圖案形成用。【圖式簡單說明】第1 A圖係顯示曝光頭詳細構成之一例的正面圖。第1 B圖係顯示曝光頭詳細構成之一例的側面圖。第2圖係顯示圖案形成裝置〇 M D之一例的部分擴大圖第 3 圖係顯示在相連接及安裝角度誤差時 j 在被曝例的説明圖〇第 4 圖係顯示僅使用於素部之曝光的説明圖〇【主要元件符號說明 ] Ρ、 Γ 光點 12 感光性轉印 321 2 曝光區域 36 數位微鏡片 38 纖維陣列光 4〇透鏡系統 42 鏡片 44 、4 6 組合透鏡 48 聚光透鏡的曝光頭間有相對位置的變異光面上之圖案所生成的不均之第3圖之例中所選擇的使用圖材料裝置（DMD) 源 -136- 200837500 50 透鏡系統 52、54 透鏡 56 SRAM單位（記憶體） 58 微鏡片 74、7 6 曝光過多的範圍 72、84 網點覆蓋範圍 80、82 斜線覆蓋範圍 -137-

Claims

200837500 十、申請專利範圍： 1 · 一種感光性組成物，其特徵係含有鹼可溶性感光性樹脂、聚合性化合物、與光聚合起始劑及光起始劑系化合物中任一者、熱交聯性樹脂、與著色劑，其中前述著色劑係以1 :彳〜1 ·· 4的混合比（質量比）含有：於 1分子中含有5〜50質量。/。之鹵素原子且呈黃色之顏料 ’及於1分子中不含鹵素原子且呈藍色之顏料，藉由摻混彼等的顏料而呈現綠色，全固體成分中的鹵素含量爲 900ppm 以下。 2 .如申nP3專利範圍第1項之感光性組成物，其中呈現藍色之顏料爲酞菁系顏料；呈現黃色之顏料係選自於單偶氮系化合物與二重氮系化合物之中、二芳胺醯（djary丨1^) 系非色澱（n〇n-lake)型化合物及色澱（丨ake)型化合物、雙乙醯乙醯化物（|3比^^〇3(^131丨(^)系化合物、苯并咪唑酮系化合物、金屬錯合物系化合物、喹啉黃化合物、異吲卩朵琳系化合物與縮合多環系化合物之中、胺基蒽醌系化合物、雜環蒽醌系顏料之中任一者之於分子中含有鹵素分子的顏料。 3 ·如申硝專利範圍帛2項之感光性組成物，其中呈現黃色之頑料係選自於C_丨顏料黃2、c.丨顏料黃3、C·丨顏料頁6、CJ_顏料黃49、C.I.顏料黃73、C.I·顏料黃75、、,、乏、斗W 9 7、C 丨.顏料黃9 8、C · I ·顏料黃1彳彳、c ·丨.顏、〜 6 C ·丨.頻料黃1 0、c ·丨.顏料黃6 0、C ·丨·顏料黃 ^、^.顏料黃”^丄顏料黃^丨顏料黃… -138- 200837500 C .丨·顏料黃1 7、c ·丨·顏料黃5 5、C .丨.顏料黃6 3、c丨顏料黃81、C•丨·顏料黃83、〇.丨_顏料黃87、C·丨顏料黃1〇6 、C•丨.顏料黃113、C.丨.顏料黃1彳4、料黃121、 C.I.顏料黃 124、C.I·顏料黃 126、Cl_ 料黃 127、c ! 顏料黃136、C.I·顏料黃152、C.I.顏料黃17〇、c丨顏料黃1 7 1、C · I ·顏料黃1 7 2、C ·丨.顏料黃1 7 4 广古 4、C」·顏料黃 1 76、C.I.顏料黃 1 88、C」.顏料黃 1 09、c m _ l . | ·顏料黃11 〇、C.I·顏料黃 173、C.I·顏料黃 154、C.l._ 料黃 93、c i 顏料黃94、C.I·顏料黃95、C.I.顏料黃1a8、 _ 、C . I ·頑料黃 1 6 6、及、C . I .顏料黃1 3 8中的任一者。 4 .如申請專利範圍第1項之感光性組成物，> + > # ^ 其中該感光性組成物中所含有的鹵素原子爲500ppm以γ。 5 .如申請專利範圍第1項之感光性組成物，# + θ a 具中呈現頁色之顏料的平均粒徑爲1〇〇nm〜500nm。 6 . —種感光性薄膜，其係具有將如申請專利範@第彳_ & 感光性組成物塗布於支撐體上，隨後藉由乾燥所得之感光層。 7 · —種永久圖案形成方法，其特徵係對於藉由如申請專利範圍第1項之感光性組成物所形成的感光層，進行曝光、顯像。 8 _如申請專利範圍第7項之永久圖案形成方法，其中基體爲已形成配線的印刷配線基板。 9 ·如申請專利範圍第7項之永久圖案形成方法，其係使用 35Gnm〜415nm波長的雷射光來進行曝光。 -139- 200837500 1 0 .如申請專利範圍第7項之永久圖案形成方法，其係在進行顯像之後，對於感光層進行硬化處理。 1 1 . 一種印刷基板，其特徵係藉由如申請專利範圍第7項之永久圖案形成方法以形成永久圖案。 -140-