TW200816353A - Octagon transfer chamber - Google Patents

Description

200816353 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本㈣之實施例通常係涉及用於在基材上進行多 程而不會破壞真空之 群集式工具（cluster tool)。 • 【先前技術】 於生產平面顯示器及太陽能板時，係於基材上進 個製程以峰吝导故太 p 卜、 座取〜產物。該些製程係於複數個腔室 7於。P分實例中，各個製程係於單獨且分離的系統 ^ 材由處理系統傳輸至另一系統時，係較為 且可能會弓I入不期望之污染物。在單一系統中進行多 程係為有利的，因其可節省時間並減少污染物。 【發明内容】 本發明係揭露-種於一群集式工具中處理基材之 - 纟設備。群集式工具之傳輸室係具有額外腔室（即， (, 冑定室、緩衝室及處理室）可附接於其上之八個位置 、 冑室可以由三個獨立部分所形成。中央部分為矩形， 二個部分為梯形。梯形部分係各具有三個狹縫，基材 過該些狹縫而供處理。傳輸室的中央部分可具有可移 上盡’其允许技術人員易於進出傳輸室。 於一實施例中係揭露一種群集式工具。群集式工 包括八邊傳輸室。傳輸室之各側邊係具有形成於其中 缝’基材可通過該狹縫。有八個腔室可直接輕接至傳奉 個製 行多 中進 中進 麻煩 個製 方法 加載 。傳 其他 可通 除的 具可 之狹 r室。 5 200816353 該些腔室可 衝室。 於另一 包括二傳輸 - 附接於其上 混合式傳輸 接至六邊形 群集式工具 ( 其係透過緩 於另一 部件之八邊 分。當梯形 由將傳輸室 由一位置運 . 【實施方式 本發明 傳輸室包含 腔室可包括 「第1 100之平面； 傳輸室104 有八個側邊 狹縫，基材 輸室104之 例如為處理室、加載鎖定室、卸載鎖定室或缓 實施例中係揭露一種群集式工具。群集式工具 室。各個傳輸室為八邊形，且具有八個腔室可 之位置。於另一實施例中，群集式工具包括一 室系統，其中八邊形傳輸室係透過緩衝室而耦 傳輸室。又另一實施例中，係揭露三個混合式 ，該群集式工具包括一中央之八邊形傳輸室， 衝室而耦接至二個六邊形傳輸室。 實施例中係揭露一多部件之八邊形傳輸室。多 形傳輸室包括一個矩形中央部分及二個梯形部 部分耦接至中央部分時，傳輸室為八邊形。藉 分離為三個部分，則可輕易地將八邊形傳輸室 送至另一位置。 係包括一群集式工具，其具有一傳輸室，且該 有額外腔室可附接於其上之八個位置。額外的 加載鎖定室、缓衝室或是製程室。 圖」係為本發明之一實施例的單一群集式工具 既圖。群集式工具100包括一傳輸室104,且該 中設置有一機械手臂106。傳輸室104包括具 之主體，各側邊係具有形成於其中之一或多個 可通過該些狹缝而進出傳輸室104。附接至傳 各側邊可以為處理室1 02。處理室1 02可以為 6 200816353 任何處理室，例如，蝕刻、化學氣相沉積、物理氣相沉積、 電漿輔助化學氣相沉積等。另外，任何處理室可以為加載 鎖定室或是卸载鎖定室。人側傳輸室104係提供進行多個 製程之彈性，而不會破壞真空。於一實施例中，傳輸室 - 之周圍不存在有加載鎖定室，但是其中之一處理室102係 • 具有與群集式工具100外侧之鄰近腔室麵合的功用，而用 以接收基材並處理基材。 「第2圖」係為本發明之一實施例的雙群集式工且 Γ: 之平面視圖。群集式工具2〇〇包括二傳輸室202，各個傳 輸室202具有八個處理位置，且在各個傳輸室2〇2中係存 在有傳輸室機械手臂204。機械手臂2〇4係沿著其軸旋轉， 且可延伸入所附接之腔室以傳輸基材2〇6。緩衝室2〇8將 二傳輸室202連接在一起。基材2〇6可以透過缓衝室2〇8 而由一傳輸室202傳輸至另一傳輸室2〇2。機械手臂2〇4 可延伸進入緩衝室208而將基材2〇6傳遞出去，另一機械 手臂204則延伸至緩衝室2〇8以接收基材2〇6，接著各個 ， 機械手臂204縮回至傳輸室202 ,則可將基材2〇6傳送至 傳輸室202周圍的腔室。 基材206可透過加載鎖定室210而裝載入群集式工具 200中。另外，在處理之後，基材2〇6可透過加載鎖定室 210而自群集式工具200移出。各個傳輸室2〇2係具有附 接於其上之複數個處理室212、214〇且各値傳輸室2〇2係 至少附接有六個處理室212、214。當加载鎖定室21〇同時 用作為加載鎖定室及卸載鎖定室時，其中之一傳輸室2〇2 係具有七個處理室2丨4，而另一傳輸室2〇2則具有六個處 7 200816353 理室212。當然，亦 、 了解▲需要增加基材產量時，則可以

利用卸載鎖定室來取获杠/ ^ U ♦取代任何的處理室。 第圖」係為混合式群集式工具3 0 0之平面視圖， 其具有六邊形傳輪室302及八邊形傳輸室3〇4。六邊形傳 輸室3〇2具有六個額外腔室可附接於其上之位1，六邊形 傳輸至302具有一機械手臂3〇6設置於其中，機械手臂gw 係沿著其軸而旋轉，並可將傳輸室3〇2中的基材31〇傳送 進入處理室318。機械手臂3〇6係延伸進入處理室318中， 以將基材310置入處理室318，並自其承接基材31〇。 八邊形傳輸室304具有八個額外腔室可附接於其上之 位置’八邊形傳輸室3〇4具有一機械手臂3〇8設置於其中， 機械手臂308係沿著其軸而旋轉，並可將傳輸室3〇4中的 基材310傳送進入處理室316。機械手臂3〇8係延伸進入 處理室316中，以將基材31〇置入處理室316，並自其承 接基材3 1 0。 當將基材310由一傳輸室3〇2傳輸至另一傳輸室3〇4 時，基材310會通過連接傳輸室3 02、3 04之緩衝室312。 支托耆基材3 1 0之機械手臂3 0 6係延伸進入緩衝室3 1 2， 而來自另一相鄰傳輸室304之機械手臂308亦延伸進入緩 衝至312並承接基材310。機械手臂306、308各自縮回其 傳輸室302、304，則可將基材310傳送至傳輸室3〇4周圍 的腔室。 六邊形傳輸室302可具有五個與其附接之處理室 318。八邊形傳輸室304可具有六個與其附接之處理室316 以及一加載鎖定室314。基材310係透過加載鎖定室314 8 200816353 而進出群集式工具300。亦了解當需要增加基材產量時 則可將任何處理室3 1 6、3 1 8替換為卸载鎖定室。 「第4圖」係為根據本發明之一實施例的另一群集气 工具400之平面視圖。群集式工具400包括二個六邊形傳 輸室402以及一個八邊形傳輸室404。六邊形傳輸室4〇2 具有六個額外腔室可附接於其上之位置，六邊形傳輸室 402具有一機械手臂406設置於其中，機械手臂4〇6係沿 著其軸而旋轉，並可將傳輸室402中的基材41〇傳送進入 處理室416、420。機械手臂406係延伸進入處理室416、 420中，以將基材410置入處理室416、420，並自其承接 基材4 1 0。 八邊形傳輸室404具有八個額外腔室可附接於其上之 位置，八邊形傳輸室404具有一機械手臂408設置於其中， 機械手臂408係沿著其軸而旋轉，並可將傳輸室404中的 基材410傳送進入處理室418。機械手臂408係延伸進入 處理室418中，以將基材410置入處理室418，並自其承 接基材4 1 0 ^ 當將基材410由一傳輸室402、4 04傳送至相鄰之傳輸 室4 02、404時，基材410會通過連接傳輸室4 02、4 04之 緩衝室414。支托著基材410之機械手臂406係延伸進入 緩衝室414，而來自另一相鄰傳輸室4 〇4之機械手臂408 亦延伸進入緩衝室4 1 4並承接基材4 1 0。接著，機械手臂 406、408各自縮回其傳輸室4〇2、404，則可將基材410 傳送至傳輸室404周圍的腔室。 六邊形傳輸室402可具有五個與其附接之處理室 9 200816353 416、420。八邊形傳輸室404可具有五個與其附接之處理 室4 1 8以及一加载鎖定室4 1 2。基材4 1 0係透過加載鎖定 室412而進出群集式工具400。亦了解當需要增加基材產 量時，則可將任何處理室4 1 6、4 1 8、4 2 0替換為卸載鎖定 - 室。 用於上述實施例之處理室可以為用於處理基材之任何 腔室，例如沉積室、蝕刻室及退火室。於一實施例中，處 理室係皆為沉積室，其係用於沉積形成PINPIN雙接面 (X ( double junction )所必須之層。處理室可包括用於沉積^ 型（n-doped )摻雜矽、ρ型（p-doped )摻雜矽、非晶矽或 微晶矽之處理室。 於一實施例中，至少一處理室係配置以沉積p型摻雜 矽層，且至少一處理室係配置以沉積n型摻雜矽層。剩餘 的腔室則可配置以沉積本質矽層（intrinsic silieen layer )。本質矽層沉積室係用以沉積非晶矽或微晶矽層。 在PIN型結構中，pin接面之本質層（或I )之沉積時間 • 係長於P層（即，P型摻雜矽）或N層（即，η型摻雜石夕） 〇 之沉積時間。因此，將多個處理室附接至一共用傳輸室係 為有利的，因為八側傳輸室可補償需用於形成I層的額外 時間。 舉例來說’四側群集式工具可包括加载鎖定室、ρ厚 沉積室、I層沉積室及Ν層沉積室。由於I層之沉積時間 較Ρ層或Ν層之沉積時間長’因此基材產量不高。一 材上沉積有Ρ層，則該基材會移動至I層沉積室，而在將 I層沉積於Ρ層之上的過程中，另一基材會在Ρ層沉積室 10 200816353 而，一旦已沉積P層之後， 層沉積於前一個基材的動作 故，P層沉積室及N層沉積 型應用之基材產量。為了補 群集式工具中加設額外的！ 傳輸室，八側傳輸室之P層 I層沉積室，並接著接收新 室可容納足夠數量之處理室 各個P、I及N層之處理室 少處理室停工期而使基材產 由 室 償 層 沉 的 數 量 層 型 係 質 其 輸 室 ， 形 形 中進行處理以沉積P層。然 於I層沉積室仍在進行將I 因此無法接收此另一基材。 會呈現閒置狀態。

八側傳輸室可增加PIN 緩慢的I層沉積製程，需於 ;儿積至。因此，相對於四側 積室可將基材傳送至額外的 基材以進行處理。八側傳輸 以允許技術人員可針對用於 目而使其最佳化，並藉由減 增加。 應了解「PIN型結構」一詞係為用於描述含有三 (即’ P層、I層及N層）之所有結構的通用術語。piN 結構之實例包括單一 PIN結構、piNpiN結構（其中I層 為本質微晶石夕）、混合PINPIN結構（其中一個I層為本 非晶石夕’另一個I層為本質微晶矽）以及PINPIN結構（ 中I層係為本質非晶矽）。 「第5圓」顯示根據本發明之一實施例的八邊形傳 至。傳輸室係區分為三個部分。中央部分5 〇 2係為矩形 二末端部分504係為梯形。當處理大面積基材時，傳輸 係相當大型，但事實上，大型之傳輸室不易運送，因此 可將傳輸室區分為三個部分，一中央部分5〇2以及二梯 部分504。當將三個部分放置在一起，傳輸室則為八邊 之傳輸室。 11 200816353 Γ:

中央部分502包括相對壁516、518。一壁516係具有 開口 528，基材可傳輸通過該開口 528以進行處理。另一 壁5 1 8可包括三個開口 524，基材亦可傳輸通過該些開口 524。應了解可存在有任何數量之開口 （即，1、2、4、$ 個開口等）。中央部分502包括底部520，底部52〇具有一 用於傳輸室機械手臂（圖中未示）的開口 526。中央部分 5 02之一側亦具有一結合介面530,而結合介面53〇係用於 與梯形部分 504接合。中央部分502中包括有凹部 5 22 a〜c，而使基材在未受阻礙下有更多通過空間以進入處 理室。介面530之表面係具有一寬度（以箭頭b標示之）。 梯形部分5 0 4包括開口 5 0 6，基材可通過該開口 5 〇 6 而進入處理室。梯形部分504之頂端具有圓柱形壁508及 凸片結構510。凸片結構510可固定至凸片支撐壁512。凸 片結構5 1 0係支撐梯形部分5 0 4的頂部，以確保頂部不會 於中間處彎曲或是崩塌至傳輸室中。梯形部分5 04具有一 介面514，而其長度係以箭頭A表示。梯形部分504之介 面514的長度係等於中央部分502之介面530的長度。介 面5 1 4、5 3 0可以利用〇型圈而彼此密封。 部分502、5 04之具有開口 524、528、506的側邊之寬 度係以箭頭C表示之。具有開口 506、524、528之側邊的 寬度係相等。另外，開口 506、524、528係具有相同之寬 度及高度。藉由上述之具有相同寬度的側邊，則可易於替 換附接至傳輸室的腔室（即，緩衝室、處理室及加戴鎖定 室）。 「第6圖」係顯示傳輸室600之上視圖，其係由二部 12 200816353 分602、604所組裝而成。中央部分6〇4為矩形，末端立八 602為梯形。一旦將部分6〇2、6〇4密接在一起，則：：： 邊形的傳輸室600。梯形部分6〇2具有圓柱形頂部⑽6及 凸片結構60 8,該凸片結構6〇8係支撐圓柱形頂部^6,以 ' 確保頂部6〇6不會彎曲或是崩塌至傳輸室6〇〇中。凸片= 構608係固定至凸片支撐壁610。可移動的上蓋618係= 部分602耦接，而上蓋618可位於凸片結構6〇8之間。’、 中央部分604具有一頂部612,其係由上蓋支撐件 ( 所支撐，且上蓋支撐件614係以一網狀圖案而横跨整個頂 部612。上蓋支撐件614用於防止頂部612崩塌至傳輸室 600中。另外，上蓋支撐件614係使上蓋612更加堅固， 而使得可容易將上蓋612移除而不會刮傷傳輪室6〇〇之任 何壁面。可藉由舉起上蓋柄616而移除上蓋612。一旦移 除上蓋6 1 2，技術人員則可輕易地檢修組裝之傳輸室6 〇 〇 的内部。 「第7圖」係為傳輸室之梯形部分700的等角視圖。 如「第7圖」所示，一或多個狹縫7 0 2係沿著梯形部分7 〇 〇 之側邊而設置，且係用以使基材穿過其中。梯形部分7 〇 〇 之頂部係由凸片結構706所支撐，而凸片結構7〇6可麵接 至凸片支撐壁712。在凸片結構706之間的三角形部分之 頂部係各自具有穿設於其中之開口 710。可藉由上蓋7〇8 來覆意住開口 710。上益708可错由欲封構件而適以密封 住梯形部分700之頂端部位的開口 7 1 〇。於一實施例中， 密封構件可以為〇蜜圈。「第7圖」僅顯示出一個開口 7 j 〇 及二個上蓋708，但應了解各個上蓋708係可存在有一開 13 200816353 口。亦應了解上蓋708可設置於開口 710上。 為了助於開口 710之密封，在梯形部分700之頂 位的開口 7 1 0周圍係經機械加工而形成平坦表面。舉 言，針對厚度為20 mm的腔室頂端部分，在梯形部分 的頂端部位係設置有深度為2 mm且用於Ο型圈之平 面，以在開口 7 1 0之周圍形成密封凸緣。凸緣厚度T 略為1.2英吋，且具有約略0.015英吋之Ο型圈空隙 上蓋摩擦。任何本技藝已知之傳統緊固件可用於將 708固定至梯形部分700。 於部分實施例中，在腔室處於真空下而不會危害 結構完整性之前提下，開口 7 1 0係盡可能愈大愈好。 置二個以上之開口 7 1 0。開口 7 1 0通常位於梯形部分 之凸片結構706之間的各個三角形部分之中央，但亦 置於其他位置。開口 7 1 0通常係經成形而符合梯形部分 之部分頂端部位的一般形狀，但亦可能為其他形狀。 710可適以提供進出腔室的入口及/或觀看腔室之視野 不需拆卸腔室。開口 710及其相應上蓋708可具有任 用之形狀。開口 7 1 0可用於清洗腔室、將無意沉積於 中之物件取出，及/或用於監視或觀看腔室内的活動。 708可以由鋁或是任何適用之金屬製成。於部分實 中，上蓋708可包括一密封窗或是由光學可穿透之物 成。於一實施例中，上蓋708可以為彎曲或是為圓頂 以增進上蓋708之結構完整性。 傳輸室之各部分可以由鋁、不鏽鋼或是其他適用 輸室之傳統使用的惰性材料製成。 端部 例而 700 坦表 可約 而供 上蓋 腔室 可設 700 可設 ‘700 開口 ，而 何適 腔室 上蓋 施例 質製 狀， 於傳 14 200816353 當基材由一傳輸室而傳送至另一傳輸室時，基材不會 經過任何處理。當基材位於一群集式工具中時，係有利於 減少傳輸基材所需之時間。藉由增加附接至傳輸室之處理 室數目，則可增加基材的產量。 惟本發明雖以較佳實施例說明如上，然其並非用以限 定本發明，任何熟習此技術人員，在不脫離本發明的精神 和範圍内所作的更動與潤飾，仍應屬本發明的技術範疇。 【圖式簡單說明】 藉由上方描述則可詳細暸解本發明之特徵，而簡單摘 要於上之針對本發明的特定說明可參照實施例，且部分亦 說明於所附圖示中。然而，需注意的是，所附圖示僅繪示 本發明之實施例，因此不可認定為限制本發明之範圍，該 發明需承認其他等效的實施例。 第1圖，繪示根據本發明之一實施例的群集式工具之 平面視圖。

第2圖，繪示根據本發明之一實施例的多群集式工具 之平面視圖。 第3圖，繪示根據本發明之另一實施例的多群集式工 具之平面視圖。 第4圖，繪示根據本發明之另一實施例的多群集式工 具之平面視圖。 第5圖，繪示根據本發明之一實施例的傳輸室之分解 等角視圖。 15 200816353 第6圖，繪示根據本發明之一實施例的傳輸室之上視 圖。 第7圖，繪示根據本發明之一實施例的傳輸室之梯形 部分700的等角視圖。 【主要元件符號說明】 100 群 集 式 工 具 102 處 理 室 104 傳 輸 室 106 機 械 手 臂 200 群 集 式 工 具 202 傳 輸 室 204 機 械 手 臂 206 基 材 208 缓 衝 室 210 加 載 鎖 定 室 212 處 理 室 214 處 理 室 300 群 集 式 工 具 302 傳 輸 室 304 傳 輸 室 306 機 械 手 臂 308 機 械 手 臂 310 基 材 312 缓 衝 室 314 加 載 鎖 定 室 316 處 理 室 318 處 理 室 400 群 集 式 工 具 402 傳 輸 室 404 傳 輸 室 406 機 械 手 臂 408 機 械 手 臂 410 基 材 412 加 載 鎖 定 室 414 緩 衝 室 416 處 理 室 418 處 理 室 420 處 理 室 502 部 分 504 部 分 506 開 口 16 200816353 508 壁 510 凸片結構 512 支撐壁 5 14 介面 516,518 壁 520 底部 522a〜c 凹部 524 開口 526 開口 528 開口 530 介面 A 長度 B 寬度/長度 C 寬度 600 傳輸室 602,604 部分 606 頂部 608 凸片結構 610 支撐壁 612 頂部/上蓋 614 支撐件 616 柄 618 上蓋 700 部分 702 狹缝 706 凸片結構 708 上蓋 710 開口 712 支撐壁 T 厚度 / 17

Claims (1)

1. 200816353 十、申請專利範圍： κ 一種傳輸室，包括： 一主體，具有八個面，該主體具有一可移除的上蓋； 一或多個狹縫開口，係形成各個該些面之中； 至少一加載鎖定室，係耦接至該主體；以及 至少一處理室，係耦接至該主體。 2. 如申請專利範圍第1項所述之傳輸室，其更包括： 一中央部件，係大致呈矩形，該中央部件包括一可移 除之上蓋，其中該上蓋包括複數個支撐結構，其中該中央 部件具有一第一平面側邊以及一第二平面側邊，其中該第 一平面側邊及該第二平面側邊係彼此平行且具有相同長 度； 一第一側部件，係耦接至該中央部件，其中該第一側 部件之一侧邊的長度係等於該中央部件之該第一平面侧邊 的長度；以及 一第二側部件，係耦接至該中央部件，其中該第二側 部件之一側邊的長度係等於該中央部件之該第二平面側邊 的長度；其中係藉由將該第一側部件及該第二側部件耦接 至該中央部件而形成該傳輸室，且其中該些支撐結構係位 於該傳輸室之外側。 3. 如申請專利範圍第2項所述之傳輸室，其中該第一側部 18 200816353 件及該第二側部件係為梯形。 4·如申請專利範圍第2項所述之傳輸室，其中該第一側部 件及該第二側部件各包括複數個支撐凸片（fin ),而該些 支撐凸片係位於該第一側部件及該第二侧部件之一頂部 上0 5·如申請專利範圍第2項所述之傳輸室，其中各個該第一 側部件及該第二側部件包括三個側邊，且各個該些側邊係 包括供一基材通過之一開口。 6·如申請專利範圍第2項所述之傳輸室，其中該中央部件 包括二個側邊，且各個該些侧邊係包括供一基材通過之至 少一開口。 7· —種群集式工具（clustertool)，包括： 複數個傳輸室，其中至少一該些傳輸室係具有額外腔 室可附接於其上之八個位置，且其中各個該些傳輸室係透 過一緩衝室而耦接至另一個該些傳輸室； 複數個處理室’係耦接至該些傳輸室，其中至少五個 該些處理室係附接至各個該些傳輸室；以及 僅一個加載鎖定室，其中該加載鎖定室係耦接至一傳 輪室。 19 200816353 8.如申請專利範圍第7項所述之群集式工具，其.更包 傳輸室，其中該些傳輸室之一者係包括七個處理室， 傳輸室之另一者則包括六個處理室。 9.如申請專利範圍第7項所述之群集式工具，其更包 傳輸室，其中該些傳輸室之一者為六邊形，該些傳輸 另一者則為八邊形。 1 0.如申請專利範圍第7項所述之群集式工具，其中至 該些傳輸室包括： 一中央部件，係大致呈矩形，該中央部件包括一 除之上蓋，其中該上蓋包括複數個支撐結構，其中該 部件具有一第一平面側邊以及一第二平面側邊，其中 一平面側邊及該第二平面側邊係彼此平行且具有相 度； 一第一側部件，係耦接至該中央部件，其中該第 部件之一側邊的長度係等於該中央部件之該第一平面 的長度；以及 一第二側部件，係耦接至該中央部件，其中該第 部件之一侧邊的長度係等於該中央部件之該第二平面 的長度； 其中係藉由將該第一側部件及該第二側部件耦接 括二 該些 括二 室之 可移 中央 該第 同長 一側 側邊 二側 側邊 至該 20 200816353 中央部件而形成該傳輸室，且其中該些支撐結構係位於該 傳輸室之外側。 11.如申請專利範圍第10項所述之群集式工具，其中該第 一側部件及該第二側部件係為梯形。 12· —種群集式工具，包括： 至少一傳輸室，該傳輸室係具有額外腔室可附接於其 上之八個位置； 至少一傳輸室，該傳輸室係具有額外腔室可附接於其 上之六個位置，且其中各個該傳輸室係透過一緩衝室而耦 接至另一個該傳輸室； 至少五個處理室，係耦接至各個該傳輸室；以及 一加载鎖定室，係耦接至具有八個位置之該至少一傳 輸室，且其中並無加載鎖定室耦接至任一個具有六個位置 之該至少一傳輸室。 1 3.如申請專利範圍第1 2項所述之群集式工具，其中具有 八個位置之該至少一傳輸室更包括： 一中央部件，係大致呈矩形，該中央部件包括一可移 除之上蓋，其中該上蓋包括複數個支撐結構，其中該中央 部件具有一第一平面側邊以及一第二平面側邊，其中該第 一平面側邊及該第二平面側邊係彼此平行且具有相同長 21 200816353 度； 一第/側部件’係耦接至該中央部件，其中該第一側 部件之一側邊的長度係等於該中央部件之該第一平面側邊 的長度；以及 —第二側部件’係耦接至該中央部件’其中該第二側 部件之一側邊的長度係等於該中央部件之該第二平面侧邊 的長度； 其中係藉由將該第一側部件及該第二側部件耦接至該 中央部件而形成該傳輪室，且其中該些支撐結構係位於該 傳輪室之外側。 工具，其中該第 1 4 ·如申請專利耙圍第1 3項所述之群集式 一側部件及該第二側部件係為梯形。

   15·如申請專利範圍第13項所述之群集式工具， 上：凸片係位於該第-側部件及該第二側部件之一頂部 6·〜種群集式工具，包括： 可附接於其上之 —傳輪室，該傳輪室係具有額外腔室 八個位置； 傳輸室 該些傳輸室係具有額外腔 室可附接於其上 22 200816353 之六個位置，且其中具有六個位置之各個該些傳輸 過一緩衝室而搞接至具有八個位置之該傳輸室； 一加載鎖定室，係耦接至具有八個位置之該傳 以及 五個處理室，係耦接至各個該傳輸室。 17.如申請專利範圍第16項所述之群集式工具，其 八個位置之該傳輸室更包括： 一中央部件，係大致呈矩形，該中央部件包括 除之上蓋，其中該上蓋包括複數個支撐結構，其中 部件具有一第一平面側邊以及一第二平面側邊，其 一平面側邊及該第二平面側邊係彼此平行且具有 度； 一第一側部件，係耦接至該中央部件，其中該 部件之一側邊的長度係等於該中央部件之該第一平 的長度；以及 一第二側部件，係耦接至該中央部件，其中該 部件之一側邊的長度係等於該中央部件之該第二平 的長度； 其中係藉由將該第一側部件及該第二侧部件耦 中央部件而形成該傳輸室，且其中該些支撐結構係 傳輸室之外側。 室係透 輸室； 中具有 一可移 該中央 中該第 相同長 第一側 面側邊 第二側 面側邊 接至該 位於該 23 〇 200816353 18. 如申請專利範固第17項所述之群集式工具 —側部件及該第二側部件係為梯形。 19. 如申請專利範固第17項所述之群集式工具 ^部件及該第二”件各包括複數個支樓凸 撐凸片係位於該第—側部件及該第二侧部子 上〇 2〇.-種處理一基材之方法，包括： 將—基材放置於一傳輸室令’其中該傳輸 腔室可附接於其上之 之八個位置，該傳輸室包括 一中央部件，係大致呈矩形，該中央部 移除之上蓋’其中該上蓋包括複數個支撐結 中央部件具有一笛 弟一平面側邊以及一第二平 中該第一平面側邊乃 遠及該第二平面側邊係彼此 相同長度； 第側部件，係耦接至該中央部件， Μ件t Μ彡的長度係等於該中央部件之 側邊的長度；以及 第一側部件，係耦接至該中央部件， 侧部件之-側邊的長度係等於該中央部件之 側邊的長度； 其中係藉由將該第一側部件及該第二側 其中該第 其中該第 ’而該些 之一頂部 具有額外 包括一可 ，其中該 側邊，其 行且具有 中該第一 第一平面 中該第二 第一平面 ί牛輕接至 24 200816353 該中央部件而形成該傳輸室，且其中該些支撐結構係位 於該傳輸室之外側；以及 將該基材傳輸進入複數個處理室。 25