TW200806549A - Clean stocker and method of storing articles - Google Patents

Clean stocker and method of storing articles Download PDF

Info

Publication number
TW200806549A
TW200806549A TW096105102A TW96105102A TW200806549A TW 200806549 A TW200806549 A TW 200806549A TW 096105102 A TW096105102 A TW 096105102A TW 96105102 A TW96105102 A TW 96105102A TW 200806549 A TW200806549 A TW 200806549A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
container
storage
article
clean
grating
Prior art date
Application number
TW096105102A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI368592B (zh
Inventor
Makoto Yamamoto
Original Assignee
Murata Machinery Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Machinery Ltd filed Critical Murata Machinery Ltd
Publication of TW200806549A publication Critical patent/TW200806549A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI368592B publication Critical patent/TWI368592B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769Storage means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting

Description

200806549 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於清淨地保管半導體曝光用之光柵等的物 品之清淨貯藏庫或使用該清淨貯藏庫的保管方法。 【先前技術】 半導體等的曝光係利用光柵,光柵則是在貯藏庫與曝 • 光裝置之間收納在收納盒中來進行搬運。有關光柵的保管 ,在日本專利文獻1中已有記載,將保管裸露的光柵之棚 架及保管收納盒之棚架,設置在搬運裝置之行走路線的兩 側。然而,這種方式會有因搬運裝置的行走風而污染光柵 之虞。 〔專利文獻1〕 日本專利3 6 8 2 1 7 0號 【發明內容】 # 〈發明所欲''解決之課題〉 本發明的課題係要既緊致又清淨地保管多數的物品及 : 其容器。 f 本發明的申請專利範圍第2、3項中所追加的課題係 要更緊致地保管多數個物品及其容器。 本發明的申請專利範圍第4項中所追加的課題係要使 收納了物品之容器可以有效率地進出庫。 本發明的其他課題係要提供既緊致又清淨地保管多數 個物品及其容器來進行進出庫的方、法。 4- (2) 200806549 <用以解決課題之手段> 本發明是一種將物品收納在容器內,從倉 進出庫,並且在清淨貯藏庫內設有清淨用氣體 清淨貯藏庫,其特徵爲:設置用來對容器進行 出之開關裝置,並且以平面來看時,構成重疊 下重疊地,將從容器取出之物品的保管棚架配 將容器的保管棚架配置在下側,還設有:在前 與倉庫進出口和容器的保管棚架之間,用來搬 器搬運裝置、及在前述開關裝置與物品的保管 用來搬運物品之物品搬運裝置。 前述物品的保管棚架與容器的保管棚架, 相互獨立,可以水平旋轉自如之旋轉式的棚架 尤其,最好是中間隔著前述開關奘置,將 運裝置與容器搬運裝置相對向地配置在前述物 架及容器的保管棚架的其中一側。 另外,最好是在前述容器搬運裝置可以搬 置,除了前述容器的保管棚架之外,還另外設 容器之固定的棚架。 另外,本發明是一種將物品收納在容器內 出口來進出庫,並且設有淨用氣體的下向流, 物品之方法,其特徵爲:利用開關奘置,對從 來進出庫的容器進行物品裝入取出,以平面來 重疊的方式在上下重疊地,將物品的保管棚架 庫進出口來 的下向流之 物品裝入取 的方式在上 置在上側, 述開關裝置 運容器之容 棚架之間, 最好是各別 〇 則述物品搬 品的保管棚 運容器的位 置用來收納 ,從倉庫進 清淨地保管 倉庫進出口 看時,構成 配置在上側 -5- 200806549 (3) ,將容器的保管棚架配置在下側,依照從物品的保管棚架 側往容器的保管棚架側的順序,供應清淨用氣體’設置用 來搬運容器之容器搬運裝置及用來搬運物品之物品搬運裝 置,在開關裝置與倉庫進出口和容器的保管棚架之間’利 * 用容器搬運裝置來搬運容器,並且在物品的保管棚架與開 " 關奘置之間,利用物品搬運裝置來搬運物品。 本提案書中,有關清淨貯藏庫的記載,只要沒有特別 ϋ 的需求的話,也適用於使用清淨貯藏庫之物品的保管方法 ,又有關物品的保管方法的記載,只要沒有特別的需求的 話,也適用於清淨貯藏庫。進而,實施例係以半導體曝光 用的光柵及保管收納該光柵的收納盒爲例,不過保管物品 的種類或收納物品之容器的種類本身則是任意。 【實施方式】 以下,說明用來實施本發明的最佳實施例。 <實施例> : 第1〜5圖中表示實施例中之清淨貯藏庫2及物品的 ~ 保管方法。圖中,圖號2爲清淨貯藏庫,被配置在半導體 工廠或液晶工廠等的清淨室內。圖號4爲光柵用旋轉棚架 ,具備有上下多段的多數個段,在各棚架內保管半導體或 液晶基板之曝光用的光柵,光柵用旋轉棚架4係全體成爲 一體來進行旋轉,各每個段並不旋轉。此外,爲了要以更 加高速地進行光柵的裝入取出,也可以以將光柵用旋轉棚 -6 - (4) (4)200806549 架4分割成上下複數個區塊,各每個區塊獨立地旋轉的方 式來構成。圖號6爲收納盒用旋轉棚架,保管取出光柵之 後的收納盒,收納盒的保管數量小於光柵的保管數量,例 如爲該1 / 1 〇〜1 / 1 00程度。收納盒用旋轉棚架6爲上下 多段的旋轉棚架,全體一體地旋轉。 從正面側來看清淨貯藏庫2的情況(第1圖),在該 內部的前面側左右的其中一方設置收納盒搬運裝置8,在 另一方設置光柵搬運裝置10,將該兩搬運裝置設置在旋 轉棚架4、6之前面側的其中一側,在該兩之間配置收納 盒開啓器1 2。另外,將收納盒用固定棚架1 4、1 5例如設 置在收納盒開啓器1 2的上下,不過也可以只設置在收納 盒開啓器1 2的上下其中一方。進而,搬運裝置8、1 0沿 著升降用導件9、11升降。收納盒搬運裝置8例如爲在2 段的臂8a、8b的前端設置連結手的裝置,具有在水平面 內動作的3個關節8 d、8 e、8 f,這些關節例如可以獨立地 動作,在2段的臂可達到的範圍內,可以朝向任意的方向 搬運收納盒26。光柵搬運裝置1 0也是同樣,在利用關節 1 0c、1 0d來動作之2段的臂1 0a、1 Ob的前端連結手的裝 置。光柵搬運裝置10之連結手的構成,以下參考第4圖 來進行說明。 在清淨貯藏庫2的最上部具有清淨用氣體供應部16 ,例如以下向流來供應清淨空氣或氮氣等的清淨用氣體。 清淨用氣體供應部1 6爲具備有清淨用氣體的生成手段或 扇形濾清器單元的構成,或者是將來自清淨室的頂棚之清 18' 200806549 (5) 淨空氣的下向流送入到貯藏庫2內的構成等。圖號 1 9爲設置在清淨貯藏庫2的高處之高架行走車用裝 ,在與高架行走車(未圖示)之間,進行第3圖所示 納盒26的進出庫。圖號20、21爲地上側裝載埠,例 ' 作者要進行收納盒26的進出庫時使用。圖號22爲終 ' 在以人手來操作清淨貯藏庫2的情況或資料的輸入輸 者是收納盒ID的讀取等使用。圖號24爲清淨貯藏庫 φ 外殻。 光柵用旋轉棚架4被分割成複數個區塊3 0 (第 ),外側設有凸緣2 8,個區塊3 0的各每個段3 1,以 凸緣28來提起上下重疊的段3 1的方式來構成(第4 。驅動部3 2係令光柵用旋轉棚架4旋轉,旋轉棚架 內側的閒置空間係作爲氣體流通路3 6來使用,從清 氣體供應部1 6供應給光柵用旋轉棚架4之清淨用氣 經由氣體流通路3 6,被排往下側(第2圖)。收納 Φ 旋轉棚架6中,在旋轉棚架的中央具有驅動部3 4, 架6旋轉,並且從該周圍的氣體流通路3 8,將棚架 . 的清淨用氣體向下排氣(第3圖)。 ^ 第4圖中表示光柵用旋轉棚架中的區塊30、及 搬運裝置10的前端之連結手42和44。連結手42係 持凸緣來向上側提起,可以裝入取出光柵(未圖示) 式構成。例如在連結手42的下側具有光柵用的連結」 。這兩連結手係利用關結40、41,在水平面內獨立 轉,利用連結手42來夾持凸緣,將段3丨a、3 1 b向上 載璋 的收 如操 端, 出或 2的 2圖 利用 圖) 4之 淨用 體係 盒用 令棚 6內 光柵 以夾 的方 戶44 地旋 側提 -8- 200806549 (6) 起,則連結手44利用關節41來轉動,而裝入取出段31b 的下側之光柵。圖號46爲清淨用氣體供應流通路,由設 置在各段3 1的開口或者是濾清器用的膜等所組成,將清 i 淨用氣體供應給光柵側。 說明實施例的動作。以高架行走車或人手等搬運到裝 載埠1 8〜2 1之收納盒26,利用收納盒搬運裝置8來搬運 到收納盒開啓器1 2或是收納盒用固定棚架1 4、1 5。裝載 φ 埠1 8、1 9與裝載埠20、2 1以及收納盒開啓器1 2與固定 棚架14、1 5,高度標準並不相同,所以令收納盒搬運裝 置8沿著升降用導件9升降。此處,多數個收納盒連續入 庫的情況,收納盒用固定棚架1 4、1 5則作爲用收納盒開 啓器1 2的處理太慢用來緩衝之緩衝區來使用。另外,推 測爲曝光裝置的使用頻率很高,且入庫後立即要出庫之光 柵,不必利用收納盒開啓器1 2來使收納盒2 6分離,在裝 入在收納盒26的狀態下,直到出庫爲止,保管在收納盒 # 用固定棚架1 4、1 5。經由收納盒開啓器1 2所取出的光柵 ,利用光柵搬運裝置1 0收納到光栅用旋轉棚架4。此處 • ,同時進行光柵用旋轉棚架4的旋轉、及光柵搬運裝置 _ 1 〇的升降。如同第4圖的方式,提起所要的段來裝入取 出光柵。另外,餘留在收納盒開啓器1 2之空的收納盒, 利用收納盒搬運裝置8,收納到收納盒用旋轉棚架6。 收納盒出庫的情況,藉由收納盒搬運裝置8來從收納 盒用旋轉棚架6取出空的收納盒,設定在收納盒開啓器 12,同樣地藉由光柵搬運裝置10來從光柵用旋轉棚架4 -9 - 200806549 (7) 取出所要的光柵,藉由收納盒開啓器1 2來設定在收納盒 內。設定了光柵之收納盒,也可以立即利用收納盒搬運裝 置8來搬運到裝載埠18〜21,不過裝載埠18〜21堵塞的 話,暫時保管在收納盒用固定棚架1 4、1 5,等待裝載埠 1 8〜21空出。 清淨貯藏庫2的內部則是清淨用氣體供應部16的清 淨用氣體最先供應給光柵用旋轉棚架4,然後再供應給收 φ 納盒用旋轉棚架6。因而,收納了裸露的光柵之光柵用旋 轉棚架4,尤其要保持清淨的氛圍,可以防止光柵受到污 染。 第5圖中以示意地表示收納盒搬運裝置8及光柵搬運 裝置1 〇的動作範圍。收納盒搬運裝置8係在收納盒用旋 轉棚架6以及收納盒開啓器1 2、收納盒用固定棚架1 4和 1 5、裝載埠1 8〜2 1之間搬運收納盒,令持有多段的臂及 複數個關節之搬運裝置本體,沿著升降用導件升降,以對 # 於各種的高度水平面,在狹窄的空間內,可以有效率地搬 運收納盒。光柵搬運裝置10係在光栅用旋轉棚架4與收 ; 納盒開啓器1 2之間搬運光柵,同樣地令具備有多段的臂 . 及多數個關節之搬運裝置本體,沿著升降用導件升降,以 在狹窄的空間內,對於各種的高度水平面可以搬運光柵。 然後,上下重疊旋轉棚架4、6,在該前面側的閒置空間 ,以收納盒開啓器1 2爲中心來對向地配置搬運裝置8、 1 0,可以有效率地進行貯藏庫內的搬運。另外,在收納盒 開啓器1 2之上下的閒置空間,設置收納盒用固定棚架14 -10- 200806549 (8) 、1 5,可以成爲收納盒進出庫的緩衝區。 實施例獲得以下的效果: (1 )從清淨用氣體供應部1 6,經由光栅用旋轉棚架 .. 4,將清淨用氣體供應給收納盒用旋轉棚架6,可以特別 清淨地保持光柵用旋轉棚架4內的氛圍。 (2 )在收納盒用旋轉棚架6保管少於保管光柵的數 量之數量的收納盒即可,所以使用光柵用旋轉棚架4,可 φ 以既有效率又緊致地保管多數個光柵。 (3 )使用旋轉棚架4、6,則搬運裝置8、1 0不必對 於棚架4、6來進行物品或容器的裝入取出,可以縮小搬 運裝置8、10使用的空間。 (4 )在上下重疊之旋轉棚架4、6的其中一側,中間 隔著收納盒開啓器1 2,設置搬運裝置8、1 〇,可以在狹小 的空間,從裝載埠起至收納盒用旋轉棚架爲止的範圍內, 搬運收納盒,還可以在收納盒開啓器與光柵用旋轉棚架之 • 間,搬運收納盒。 : 〔發明效果〕 , 本發明係將物品的保管棚架配置在上側’將容器的保 管棚架配置在下側,供應清淨用氣體的下向流’所以可以 利用保管棚架來清淨地保管從容器取出的物品。然後’因 爲從容器取出物品來予以保管,所以可以緊致地保管多數 個物品。所保管的物品數量與容器數量不必相等’例如容 器數量少於物品數量,在物品的進出庫中只保管必要數量 11 - (9) (9)200806549 的容器,可以更緊致地收納多數個物品。 此處,以各別相互獨立,可以水平旋轉自如之旋轉式 的棚架(以下稱爲旋轉棚架)來構成物品的保管棚架與容 器的保管棚架,則容器搬運裝置或物品搬運裝置,只要在 旋轉棚架的特定位置,可以從棚架裝入取出容器或物品即 可。因而,可以縮小該兩種搬運裝置的動作範圍,結果是 可以更緊致地保管多數個物品或容器。進而,旋轉棚架中 ,在棚架的中心部餘留空間,可以將該部分用來作爲清淨 用氣體的排氣通路。 此處,中間隔著前述開關奘置,將物品搬運裝置與容 器搬運裝置相對向地配置在物品的保管棚架及容器的保管 棚架的其中一側,則可以更緊致地配置該兩搬運裝置。尤 其,該兩搬運裝置由搬運裝置本體及其升降手段來構成的 話,則即使將容器或物品的旋轉棚架分別設爲上下多段, 且開關裝置與該兩棚架的高度水平面不相同,仍很容易就 可以搬運容器或物品。 此處,除了前述容器的旋轉棚架之外,還另外設置用 來收納容器之固定的棚架,預先保管收納了預定要出庫的 物品之容器,則可以在短時間內有效率地出庫。進而,連 續進行入庫的情況,可以在將容器設定在開關裝置之前暫 時保管在固定的棚架內。在這些原因下,可以有效率地進 行進出庫。 【圖式簡單說明】 -12 - 200806549 (10) 第1圖爲實施例的清淨貯藏庫之正面圖。 第2圖爲第1圖中的II 一 II方向之水平剖面圖。 第3圖爲第1圖中的III 一 III方向之水平剖面圖。 _ 第4圖爲表示實施例中的光柵用連結手之示意圖。 第5圖爲表示對於竇施例中的2個旋轉棚架及收納盒 開啓器、固定棚架、裝載埠,搬運裝置的動作範圍之圖。 φ 【主要元件符號說明】 2 :清淨貯藏庫 4 :光柵用旋轉棚架 6 :收納盒用旋轉棚架 8 :收納盒搬運裝置 10 :光柵搬運裝置 9、11 :升降用導件 1 2 :收納盒開啓器 # 1 4、1 5 :收納盒用固定棚架 1 6 :清淨用氣體供應部 : 1 8、1 9 :高架行走車用裝載埠 . 20、21 :地上側裝載埠 22 :終端 24 _·外殼 26 :收納盒 28 :凸緣 3 0:區塊 -13- 200806549 (11) 31 : 32、 36、 40、 42 - 段 3 4 :驅動部 3 8 :氣體流通路 41 :關節 44 :連結手 46 :清淨用氣體供應流通路

Claims (1)

  1. 200806549 (1) 十、申請專利範圍 1. 一種清淨貯藏庫,是將物品收納在容器內從倉庫進 出口來進出庫,並且在清淨貯藏庫內設有清淨用氣體的下 β 向流之清淨貯藏庫,其特徵爲: 設置用來對容器進行物品裝入取出之開關裝置, 並且以平面來看時,構成重疊的方式在上下重疊地, 將從容器取出之物品的保管棚架配置在上側,將容器的保 Φ 管棚架配置在下側, 還設有: 在前述開關裝置與倉庫進出口和容器的保管棚架之間 ,用來搬運容器之容器搬運裝置;及 在前述開關裝置與物品的保管棚架之間,用來搬運物 品之物品搬運裝置。 如申請專利範圍第1項所記載之清淨貯藏庫,其中 ,前述物品的保管棚架與容器的保管棚架,係各別相互獨 Φ 立,可以水平旋轉自如之旋轉式的棚架。 3 .如申請專利範圍第2項所記載之清淨貯藏庫,其中 : ,中間隔著前述開關奘置,將前述物品搬運裝置與容器搬 . 運裝置相對向地配置在前述物品的保管棚架及容器的保管 棚架的其中一側。 4.如申請專利範圍第2項所記載之清淨貯藏庫,其中 ,在前述容器搬運裝置可以搬運容器的位置,‘除了前述容 器的保管棚架之外,還另外設置用來收納容器之固定的棚 架。 -15- 200806549 (2) 5 . —種物品之保管方法,是將物品收納在容器內從倉 庫進出口來進出庫,並且設有清淨用氣體的下向流,清淨 地保管物品之方法,其特徵爲: 利用開關奘置,對從倉庫進出口來進出庫的容器進行 物品裝入取出, 以平面來看時,構成重疊的方式在上下重疊地,將物 品的保管棚架配置在上側,將容器的保管棚架配置在下側 φ ,依照從物品的保管棚架側往容器的保管棚架側的順序, 供應清淨用氣體, 設置用來搬運容器之容器搬運裝置及用來搬運物品之 物品搬運裝置,在開關奘置與倉庫進出口和容器的保管棚 架之間,利用容器搬運裝置來搬運容器,並且在物品的保 管棚架與開關裝置之間,利用物品搬運裝置來搬運物品。
    -16-
TW096105102A 2006-07-31 2007-02-12 Clean stocker and method of storing articles TW200806549A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006207400A JP4215079B2 (ja) 2006-07-31 2006-07-31 クリーンストッカと物品の保管方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200806549A true TW200806549A (en) 2008-02-01
TWI368592B TWI368592B (zh) 2012-07-21

Family

ID=38621045

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096105102A TW200806549A (en) 2006-07-31 2007-02-12 Clean stocker and method of storing articles

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7731470B2 (zh)
EP (1) EP1884832B1 (zh)
JP (1) JP4215079B2 (zh)
KR (1) KR101291630B1 (zh)
CN (1) CN101118375B (zh)
DE (1) DE602007003151D1 (zh)
TW (1) TW200806549A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI484535B (zh) * 2010-09-13 2015-05-11 Murata Machinery Ltd Automatic Warehouse and Item Removal Method

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7896602B2 (en) 2006-06-09 2011-03-01 Lutz Rebstock Workpiece stocker with circular configuration
US20090028669A1 (en) * 2007-07-25 2009-01-29 Dynamic Micro Systems Removable compartments for workpiece stocker
US20080112787A1 (en) 2006-11-15 2008-05-15 Dynamic Micro Systems Removable compartments for workpiece stocker
US9633881B2 (en) 2008-02-05 2017-04-25 Brooks Automation, Inc. Automatic handling buffer for bare stocker
CN102422408B (zh) 2009-05-12 2015-06-10 村田机械株式会社 洗净装置以及洗净方法
US8759084B2 (en) 2010-01-22 2014-06-24 Michael J. Nichols Self-sterilizing automated incubator
EP2445003A1 (en) * 2010-10-25 2012-04-25 Applied Materials, Inc. Apparatus for providing a rotation carrier magazine, and method of operating thereof
US8641350B2 (en) * 2011-02-18 2014-02-04 Asm International N.V. Wafer boat assembly, loading apparatus comprising such a wafer boat assembly and method for loading a vertical furnace
US8956098B2 (en) 2011-05-02 2015-02-17 Murata Machinery, Ltd. Automated warehouse
WO2012150645A1 (ja) 2011-05-02 2012-11-08 村田機械株式会社 向き調整装置及び向き調整方法
EP2727859A4 (en) * 2011-06-28 2015-01-21 Murata Machinery Ltd STORAGE DEVICE AND STORAGE METHOD
JP5387926B2 (ja) * 2011-09-27 2014-01-15 村田機械株式会社 板状体の検出装置とケースポート及び保管装置
KR101430666B1 (ko) * 2012-11-06 2014-08-19 주식회사 에스에프에이 버퍼 시스템
JP5987988B2 (ja) 2013-07-03 2016-09-07 村田機械株式会社 保管容器
KR102581283B1 (ko) * 2017-10-11 2023-09-20 로제 가부시키가이샤 포드 오프너
US10821871B2 (en) * 2017-11-08 2020-11-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method for transferring container
WO2019102795A1 (ja) 2017-11-27 2019-05-31 村田機械株式会社 保管装置
JP7093318B2 (ja) 2019-02-18 2022-06-29 台湾大福高科技設備股▲分▼有限公司 物品保管設備
KR102481920B1 (ko) * 2019-12-19 2022-12-26 캐논 톡키 가부시키가이샤 처리체 수납 장치와, 이를 포함하는 성막 장치
WO2023078589A1 (en) * 2021-11-08 2023-05-11 Brooks Automation (Germany) Gmbh Stocker system
CN115872085B (zh) * 2023-01-06 2023-08-29 复旦大学附属眼耳鼻喉科医院 一种影像资料收纳装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153935A (ja) * 1982-03-09 1983-09-13 Toshiba Corp フオトマスクの出納方式
JPS62172127A (ja) 1986-01-25 1987-07-29 Teru Saamuko Kk 清浄保管装置
JPH01260819A (ja) * 1988-04-12 1989-10-18 Fujitsu Ltd マスクの保管・搬送装置
US4986715A (en) * 1988-07-13 1991-01-22 Tokyo Electron Limited Stock unit for storing carriers
CN2327664Y (zh) * 1997-06-25 1999-07-07 财团法人工业技术研究院 附有标准机械介面之晶圆运送装置
NL1008143C2 (nl) * 1998-01-27 1999-07-28 Asm Int Stelsel voor het behandelen van wafers.
JP3682170B2 (ja) 1998-09-09 2005-08-10 株式会社東芝 カセット搬送システム、半導体露光装置、及びレチクル運搬方法
JP2987148B1 (ja) * 1999-01-26 1999-12-06 国際電気株式会社 基板処理装置
JP3619042B2 (ja) * 1999-01-26 2005-02-09 キヤノン株式会社 半導体製造装置
US6641350B2 (en) * 2000-04-17 2003-11-04 Hitachi Kokusai Electric Inc. Dual loading port semiconductor processing equipment
US6848876B2 (en) * 2001-01-12 2005-02-01 Asyst Technologies, Inc. Workpiece sorter operating with modular bare workpiece stockers and/or closed container stockers
US6619903B2 (en) 2001-08-10 2003-09-16 Glenn M. Friedman System and method for reticle protection and transport
JP3832294B2 (ja) * 2001-08-31 2006-10-11 株式会社ダイフク 荷保管設備
EP1446828A2 (en) * 2001-11-13 2004-08-18 Fsi International, Inc. Reduced footprint tool for automated processing of substrates
JP2005203498A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Renesas Technology Corp ウエハストッカ、半導体装置の搬送システムおよび搬送方法
JP2005347667A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI484535B (zh) * 2010-09-13 2015-05-11 Murata Machinery Ltd Automatic Warehouse and Item Removal Method

Also Published As

Publication number Publication date
EP1884832B1 (en) 2009-11-11
KR101291630B1 (ko) 2013-08-01
JP4215079B2 (ja) 2009-01-28
JP2008030914A (ja) 2008-02-14
CN101118375A (zh) 2008-02-06
CN101118375B (zh) 2011-06-22
US7731470B2 (en) 2010-06-08
DE602007003151D1 (de) 2009-12-24
TWI368592B (zh) 2012-07-21
EP1884832A1 (en) 2008-02-06
US20080023417A1 (en) 2008-01-31
KR20080012116A (ko) 2008-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200806549A (en) Clean stocker and method of storing articles
TWI333927B (zh)
US11978652B2 (en) Automatic handling buffer for bare stocker
CN101221919A (zh) 物品供给装置
CN108290687B (zh) 保管装置以及输送系统
KR20150041587A (ko) 약액 용기 교환 장치, 용기 재치 모듈, 약액 용기의 교환 방법, 및 기판 처리 장치
CN106711072A (zh) 搬送设备
US20090022575A1 (en) Article storing apparatus
JP2008019017A (ja) 物品収納装置
JPWO2007114293A1 (ja) ウエハー用保管庫及びその保管制御方法
JP2015076472A (ja) 薬液容器交換装置、容器載置モジュール及び薬液容器の交換方法
TWI236999B (en) Processing and keeping apparatus
JP2007186319A (ja) 搬送システム
JP5987808B2 (ja) 基板処理装置
JP4348520B2 (ja) 搬送システム
JP5402156B2 (ja) 走行車システム
JP2005085913A (ja) ウエハの製造システム
JP4371009B2 (ja) 基板搬送装置、基板保管搬送装置、基板搬入システム、基板搬出システム及び基板搬入/搬出システム
WO2004080852A1 (ja) 自動保管システム
JP2008100802A (ja) 基板保管庫
JPS5948581A (ja) 格納設備
JP2009035414A (ja) 別階層工程間搬送システム
JP2001031212A (ja) 自動倉庫
JP7093318B2 (ja) 物品保管設備
JP2008162795A (ja) 自動倉庫システム