TW200401756A - Lead-free and arsenic-free special short flint glass - Google Patents

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TW200401756A TW092114592A TW92114592A TW200401756A TW 200401756 A TW200401756 A TW 200401756A TW 092114592 A TW092114592 A TW 092114592A TW 92114592 A TW92114592 A TW 92114592A TW 200401756 A TW200401756 A TW 200401756A
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Karin Naumann
Uwe Kolberg
Frank-Thomas Lentes
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Schott Glas
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum

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Description

200401756 狄、發明說明· C發明所属之技術領域1 本發明係有關一種不含鉛及砷之特殊短性燧石破螭。 【先前技術3 5 發明背景 先前在不含錯的特殊短性縫石玻璃領域中之發展，— 直以棚酸鹽或棚碎酸鹽玻璃糸統（後者具有少量的二氧化 矽及主要組成成份仍為三氧化二硼）為基礎。然而，該等爛 酸鹽或硼矽酸鹽玻璃具有耐化學性不佳之缺點；再者，在 10將該等玻璃加工製成高性能與精密光學器件方面，存在顯 著的問題。此外，鑑於存在於該等玻璃中之高含量的五氧 化二钽之故，製造成本一般非常高。 DE 44 43 173 C2提供一種可歸類屬於二氧化矽·二氧 化锆-ΙΟ玻璃之牙科用玻璃。該玻璃特別含有氧化鈣與五 15氧化二妮作為選擇性組份。依據例示性實施例，該玻璃的 折射率為nd<1.60，及為不透明及一般作為牙科應用的破璃 粉末。依據該文件，用以說明該玻璃内的化學狀況之二氧 化矽/(二氧化鍅+三氧化二鑭+五氧化二鈕）比值為26至14力。 EP 6 453 49揭露-種光學玻璃，其包括二氧化石夕與五 20氧化二鈮作為強制性組份，及亦包括相當大量的選擇性組 份。 該類型玻璃的折射率推定介於152與167之間。該低折 射率係特別基於僅存在有限量的二氧化錘之事實。再者， 該EP文件申請氟之專利。然而，高的氣含量傾向於導致部 200401756 份色散APgF之增加，甚至高達正值。 【鸯^明内容^】 本毛明之一目標係提供一種就其光學位置而言可歸類 屬於特殊短性熥石玻璃之不含錯及石申的玻璃，纟其亦具有 5化予安疋性，及例如在光學組件的製造期間可成功與精確 地進仃機械加工。更詳細地，亦可能以低成本製造該新颖 玻璃。 藉由具有本發明申請專利範圍第1項的所有特性之一 種不含錯及石申之特殊短性燧石玻璃，而達成該目標。一種 10較佳的製造方法係示於申請專利範圍第6項。本發明的較佳 實施例構成各項申請專利範圍之標的。 如本發明之玻璃可歸類屬於矽酸錘玻璃。其等具有作 為特殊短性燧石玻璃所需的光學位置，及再者具有極高的 化學安定性/耐化學性，特別是相較於上所提及的硼酸鹽玻 15璃而言。其具有在拋光製程期間可使用任一液體作為拋光 磨料的載劑之優點，而硼酸鹽玻璃通常必須排除含水的載 劑液體之使用。具有極佳的耐化學性之另一優點，在於如 本發明之玻璃亦可作為多透鏡光學系統中的前透鏡。藉此 拓展了如本發明的玻璃之可能用途範圍。因此，其等亦可 20 用於一侵I虫性環境中。 再者’鑑於大於600之高的羅氏(Knoop)硬度，如本發 明的玻璃之特徵在於優於硼酸鹽玻璃或硼矽酸鹽玻璃之機 械加工性能。藉此光學儀器的製造廠商得以讓研磨與拋光 機器以南速運作，而獲致較低的製造成本。同時，相較於 200401756 石朋酸鹽或棚石夕酸鹽玻璃之較低的三氧化二爛與五氧化二知 含里’係思味者顯者較低的原料成本，亦即能以低成本製 造如本發明的玻璃。 如本發明之玻璃所具有的折射率為16〇SldSl 65，阿貝 5 (Abbe)值為41^^公2，在藍色光譜區的相對部份色散為 〇-551SPgFS〇.570，在紅色光譜區的相對部份色散為 0.507£PCsS0.525，自標準線之相對部份色散的負偏差為厶 PgFS-0-0045 〇 藉由適且地結合具有不同的阿貝（Abbe)值之光學玻 10璃，一般僅可能在透鏡系統中除去或至少降低僅二種顏色 的色差。 / 未校正的顏色所保有的殘餘色差（色彩偏差），係稱作次 級光譜。尤其在高性能光學器件中，該效應因為損及焦距 深度與光學器件的解像能力，而非常地不利。使用本發明 15之具有與不同光譜區彼此匹配的相對部份色散之玻璃，得 以校正或至少大幅降低其他波長的色差。依此方式，可能 建構在寬廣的光譜範圍具有實質上有限繞射型解像能力^ 光學系統。特殊短性燧石玻璃一般用於在一寬廣的光譜帶 内已被校正之多透鏡系統，該短性元件一般具有負折射能 20力。例如，若欲就三個波長進行三合透鏡(三元件透鏡系統） 之色彩校正，該玻璃應覆蓋一圖中之最大可能的三角形面 積，其中藍色光譜區的相對部份色散(如pgF)係以阿貝（Ab㈣ 值之一函數說明之。若欲就四個波長進行三合透鏡之色彩 校正，所用的三個玻璃必需另外符合下列條件：所用的玻 200401756 璃必須位於_·φ 之一直線上，其中紅色光譜區的相對部 一:^ ^ D係以藍色光譜區的相對部份色散(如PgF)值之 一函數彡兄明之。兮榮 邊4性質係指本發明的破璃特別適合作 校正玻璃。 5 10 15 旦 ^月之坡璃具有大於50-65重量〇/◦的二氧化矽含 篁，較佳大於50,重量％ ;及具有大於购重量％的二氧 化錘含量，較佳為1‘20重量％。 曰氧化矽3里有助於達到所欲的低阿貝（Abbe)值。在 一 50重里％的—氧切含量，離析與結晶之風險增加。％ 重里％的二氧切含量則損及雜性質，甚至可能使玻璃 …、溶化此外，在具有高含量的二氧化矽之情況下，很 難達到充分高的折射率。過高的二氧㈣水平使得溶化作 用車又為困難’及可能留存未溶化的顆粒。玻璃因而缺乏均 貝〖生而不適合作為光學玻璃。過低的二氧化錯含量將損 及耐化學性，導致低的折射率及亦導致低的相對部份色散 之負偏差。良好的化學性質係歸因於氧化物二氧化矽與二 氧化錘之組合。此可歸因於其等可鞏固玻璃網絡之事實。 此外，$亥一氧化物具有良好的耐酸與驗之性質。為增進溶 化性貝’以3-11重里/ί>氧化納、〇_6重量％氧化卸及重量 %氧化鋰之形式添加鹼金屬氧化物。鹼金屬氧化物增加二 氧化錘在矽酸鹽玻璃中的溶解度。該組成範圍較佳為：4_U 重量％氧化鈉、0-6重量°/。氧化鋰及〇-6重量％氧化鉀；及甚 至更佳為：5-11重量％氧化鈉、〇_4重量％氧化鋰及〇_6重量 %氧化鉀。若R2〇(=Z氧化納+氧化鉀+氧化鐘)含量增加至 20 200401756 大於爾量％，麵開始結晶。另_方面，若若R20含量降 至小由於3f%’二氧化錯不再溶解及玻璃無法炼化。此 外，申Μ專利範圍第6項所述之製造方法需要一特定的導電 5 10 挫:#面係由二氧化錯所提供及亦獲得較佳為氧化 锂/、氣化納之‘電性驗金屬離子之協助提供。氧化鎮、氧 倾與氧化鋇知降倾⑽度，纽絲玻璃的均質性 而吕係一重要性暂 工_L、/ ,, 王貝，而增加玻璃形成範圍及增進玻璃的熔 化性質。更詳細地’氧化鋇降低結晶化之傾向。 。如本發明，氧化約、氧化鎮與氧化鋇含量為1-12重量 /〇、:-12重置％及〇_8重量％。該等含量較佳為卜8重量％、㈣ 斤里。及G 8重里％ ’或為卜8重量％的氧化約、㈣重量％的 氧化鎂及0.2-8重量％的氧化鋇。 如本發明，氧化舞、氧化镁與氧化鋇之總和Σ為1-25 重置％，較佳以重量％。若該總和增加，阿貝（Abbe)值上 升，及在所主張的範圍内結晶之可能性增加。 立五氧化二鈮對於所欲之低（自標準線之負偏差）的異常 邛份色散有所貢獻。此外，該組份對於低的阿貝幻值 具有一正面效應。 如本發明，五氧化二鈮含量為‘20重量％，較佳為6_2〇 2〇重畺/〇。車父尚的五氧化二銳含量導致結晶作用之增加，及 使得熔化作用更為困難。此外，分批成本增加。較低的五 氧化二銳含量導致不再達到異常負性部份色散，特別是與 低的阿貝（Abbe)值之組合。 再者，玻璃可含有至多15重量％的三氧化二鑭。三氧 200401756 化二鑭增加阿貝（Abbe)值。然而，若三氧化二鑭含量增加 至15重量％以上，則阿貝（Abbe)值上升超過所需水平，此外 亦增加結晶化之風險。玻璃可含有至多1〇重量％及較佳介 5 ;2與1〇重量％之間的五氧化二鈕，藉此促進低的異常部份 5色散。此外，如同其他選擇性組份，五氧化二鈕增加折射 率。因為該原料非常昂貴，即使在技術上可行，鑑於高成 本’一般不會建議使用超過1〇重量％。 二氧化三硼係選擇性的，及藉由降低黏度而增進熔化 性皙 ^ ^ — 、。右二氧化三硼的水平過高，則耐化學性降低及離析 10的風險増加。 再者，如本發明，二氧化矽與二氧化錘+三氧化二鑭+ 五氧化二鈮+五氧化二鈕之間之比值為15_2·3。所選擇的比 值使得nd-d範圍位於所主張的範圍内，同時達到低的部份 色散。此外，依此方式將結晶作用與熔化性質維持於可接 15 受的限值内。 為增進玻璃與氣泡品質，可在批料中添加一般淨化用 途的用量之一或多種已知的淨化劑（二氧化錫、三氧化二 銻）。結果，就不存在氣泡與帶痕而言，玻璃具有特別良好 的内部玻璃性質。依用途與熔化溫度而定，亦可使用硫酸 2〇鹽與氣化物作為淨化劑。然而，如本發明的玻璃毋需使用 淨化劑，亦可製出可接受的玻璃品質。然而，本發明的一 個較佳實施例添加至多2重量％的二氧化錫或三氧化二銻 作為淨化劑。 可使用習知的熔化方法熔化玻璃。然而，鑑於高濃度 11 200401756 、、氣化t與五氣化二銳及/或五氧化二钽，需要鈾-錢合金 作為坩鍋原料。然而，該等合金可能導致褐黃色的變色作 - 用’其通常並非光學玻璃所能接受的。 *員似地’鏗於變色作用及可能亦形成帶痕或節疤之 5故不建議在純二氧化矽以外的標準耐火材料中之熔化作 〇 rj % 万面，純的二氧化矽在所需的高溫非常迅速地溶 解而使付生產作用不經濟。在該情況下，亦存在形成帶 痕之風險。因此，在特定的情況下，生產作用可能在炼融 氧化石夕槽中進行，但其亦承擔上述的缺點。 ⑩ 1〇 如本發明的玻璃較佳藉由稱作凝殼爐之高頻率技術， 加以溶化。一種該類型的方法述於例如DE 199 39 779、de 101 48 754.1、DE 199 39 772及DL· 100 02 019，其揭露内容 在此完整地併入本發明以為參考資料。 I：實施方式】 15 較佳實施例之詳細說明 本务明參妝例示性實施例，更詳細地說明如下： 例示性實施例係以下列方式熔化： 鲁 1. 習知的溶化 以下列方式製造如本發明的玻璃：依據所需的組成， 20稱重氧化物或較佳為碳酸鹽及/或硝酸鹽之氧化物的原 料，及徹底地混合。批料在一間歇性裝置中，在介於1580 C至1680 C之間熔化、淨化及均質化。為避免結晶作用， 亦在1580°C至1680Ό之間進行澆鑄作用。 2. 高頻率落北作1 12 200401756 如上述製造批料。將批料導入凝殼爐中，藉由燃燒器 進行預熔化，直至形成具有良好導電性的部份熔化體積為 止。然後，開啟高頻率加熱作用，將批料完全熔化。此時 可將燃燒器關閉。然後可依連續或間歇模式進行下列方 5 法。在熔化期間，所設定的溫度至高為1800°C ;在淨化期 間’所設定的溫度至高為1900°C。原則上，可能達到更高 的溫度。以一適宜黏度與高於液相溫度（上析晶點··結晶作 用）進行澆鑄作用。 第1至12、16、18與19例示性實施例係藉由習知方法熔 1〇 化’而第13至15及17實施例係藉由高頻率方法熔化。 第20例示性實施例係供比較用之一種以硼酸鹽為主的 坡璃’其具有下列組成（以重量％為單位）： 一氧化石夕（Si〇2) 9.90 % 二氧化二删（B2O3) 38.77 % 15 二氧化二銘（AI2O3) 12.23 % 二氧化锆(Zr02) 1.00 % 二氣化二鋼(La2〇3) 2.30 % 氧化鋅(ZnO) 0.60 % 氧化鉛(PbO) 33.80 % 20 氧化鉀(κ2ο) 1.10 % 二氣化二坤(AS2〇3) 0.15 % 在不具有鉑坩鍋中的變色作用之下，製造該比較實例。 例示性實施例的組成（以氧化物為基礎及以重量％為單 位）及主要性質，係列於第1與2表。該等性質為以ppm/K為 13 200401756 單位的熱膨脹係數α，20/300°C的轉變溫度Tg，及以克/立 方公分為單位的密度。亦顯示光學數據，包括587 nm的折 射率nd，587 nm的阿貝（Abbe：^Vd，介於435 nm與486 nm 波長之間的相對部份色散PgF，自肖特(Schott)玻璃型錄所界 5 定的標準線之相對部份色散的偏差APgF，介於656 nm與 852 nm波長之間的相對部份色散pCs，自標準線之相對部份 色散的偏差ΔΡ&。 第1表 編號 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 二氧化矽 55.0 55.0 55.0 55.0 55.0 51.0 51.0 52.0 51.0 55.0 三氧化二鋁 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 二氧化鍅 18.0 18.0 18.0 18.0 14.0 14.0 14.0 14.0 14.0 13.0 氧化鎂 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 氧化#5 8.0 5.0 6.0 6.0 6.0 11.0 9.0 6.0 7.0 6.0 氧化鋇 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 氧化鈉 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 8.0 10.0 3.0 8.0 3.0 氧化鉀 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 0.0 0.0 5.0 0.0 5.0 氧化鋰 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 三氧化二鐦 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 5.0 五氧化二銳 9.0 9.0 7.0 11.0 15.0 15.0 15.0 15.0 15.0 11.0 五氧化二组 0.0 0.0 4.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 4.0 0.0 匕— 0.0 3.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 3.0 0.0 0.0 總和 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 a 5.97 5.49 5.68 5.71 5.76 6.9 7.24 6.19 6.3 6.03 Tg 754 702 766 753 730 726 716 687 735 738 nd 1.61360 1.61000 1.61031 1.61503 1.61775 1.64239 1.63728 1.62783 1.64108 1.61201 i^d 46.45 46.61 46.47 45.04 43.36 43.00 42.92 43.56 41.60 45.97 PgF 0.5595 0.5595 0.5591 0.5620 0.5663 0.5660 0.5696 0.5659 0.5684 0.5631 △PgF - - 0.0062 0.0059 0.0065 0.0060 0.0045 0.0054 0.0057 0.0046 0.0054 0.0052 PCs 0.5170 - 0.5180 - 0.5100 - - 0.5110 0.5070 - △PCs 0.0060 - 0.0070 0.0060 - 讎 0.0070 0.0070 - 密度 - 14 200401756 第2表 編號 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 (比較例） 二氧化矽 55.0 50.8 51.2 53.4 52.8 53.6 57.0 55.0 51.0 三氧化二銘 1.0 1.0 1.2 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 二氧化锆 15.0 10.2 12.7 13.0 11.1 14.8 18.0 15.0 14.0 氧化鎂 0.0 0.0 0.7 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 氧化鈣 6.0 11.0 4.6 4.0 4.0 4.0 5.0 0.0 11.0 氧化鋇 0.0 0.0 1.9 1.3 0.0 2.0 0.0 0.0 0.0 氧化鈉 8.0 8.0 6.7 7.8 11.0 8.0 6.0 6.0 8.0 氧化鉀 0.0 0.0 3.7 5.0 5.0 5.0 0.0 0.0 0.0 氧化鋰 0.0 0.0 2.0 0.4 0.0 0.0 2.0 2.0 0.0 三氧化二嫻 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 6.0 15.0 五氧化二銳 9.0 15.0 8.9 8.1 9.0 7.6 9.0 9.0 0.0 五氧化二組 6.0 4.0 6.0 6.0 6.0 4.0 6.0 6.0 0.0 三氧化二爛 0.0 0.0 0.3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 總和 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 a 5.96 6.93 7.73 7.4 8.3 7.26 5.79 5.99 7.64 5.5 Tg 755 715 607 668 663 710 702 701 708 492 nd 1.61587 1.63771 1.62128 1.60615 1.60070 1.60461 1.61963 1.62031 1.6193 1.6134 νά 44.85 42.95 45.53 46.20 45.93 46.50 44.28 44.34 51.14 44.29 PgF 0.5611 0.5664 0.5611 0.5598 0.5606 0.5595 0.5622 0.5623 0.5513 0.5607 △PgF - - - 0.0073 0.0051 0.0061 0.0063 0.0060 0.0061 0.0071 0.0070 0.0065 0.0087 PCs 0.5150 - - - 0.5150 - 0.5160 0.5150 0.5230 0.5245 △PCs 0.0080 - - - 0.0050 - 0.0100 0.0090 0.0010 0.0184 密度 - - 2.997 2.952 2.922 2.941 2.956 3.018 3.111 3.2 如本發明之玻璃的耐化學性非常良好，藉此已無法在 例示性實施例之間測得耐酸性180 8424、耐驗性ISO/DIN 10629及抗污損性（肖特(Schott)用於測量光學玻璃的抗污損 性之内部方法一依據AAW FTA-3-5422之加壓、觀察與分類) 之任一差異。對於本發明的所有玻璃而言，下列敘述均為 真。 · 耐酸性：第i級，移除0.i微米所需的時間長於1〇〇小時； 15 200401756 耐鹼性：第1級，移除0.1微米所需的時間長於4小時； 抗污損性：第0級，pH值為4.6，在100小時内的磨損層 小於0.08微米。 測量試樣在耐化學性試驗之後並無變化，此係不同於 5 如第20例示性實施例之以硼酸鹽為主的比較用光學玻璃， 其耐酸性為SR=52.3，AR=4.3及FR= 2，及其中形成污點、 干擾層及不透明塗層。 最後，相較於上述的比較實例，如本發明的玻璃具有 高硬度。因此，最終使用者可採用較高的拋光機器研磨速 10 率，此導致製程成本的顯著降低。 【圖式簡單說明】 (無） 【圖式之主要元件代表符號表】 (無）
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Claims (1)

  1. 200401756 拾、申請專利範圍： 1. 一種不含鉛及砷之特殊短性燧石玻璃，其折射率為 1.6〇Snd£l.65，阿貝（Abbe)值為4l£Vd<52，在藍色光譜 區的相對部份色散為0.551fPgFS〇.570，在紅色光譜區的 相對部份色散為0.507SPCS£0.525，自標準線之相對部份 色散的負偏差為ΔΡρ^〇.〇〇45及具有增進的耐化學 性，及其具有下列組成（以重量％為單位）： ίο 15 20 二氧化矽(Si〇2) 三氧化二銘(Al2〇3) 三氧化二硼(B2〇3) 氧化鋰(Li20) 氧化鈉(Na2〇) 氧化鉀(K20) 氧化鎂(MgO) 氧化鈣(CaO) 氧化鎖(BaO) 三氧化二鑭(La2〇3) 五氧化二組(Ta2〇5) 五氧化二鈮(Nb2〇5) 二氧化锆(Zr02) Σ(氧化鈣+氧化鎂+氧化鋇） Σ(氧化鈉+氧化卸+氧化鐘) >50 - 65 0 - 7 0 - 6 0 - 6 3 0 0 1 0 0 0 4 >10 1 3 二氧化石夕/C二氧化錯+三氧化二货獻五氧化二銳+五氧化二鈕）1.5 11 6 12 12 8 15 10 20 20 25 20 2.3 ❿ 17 200401756 2.如申請專利範圍第1項之不含鉛及砷之特殊短性燧石玻 璃，其具有下列組成（以重量％為單位）： 二氧化矽(Si02) >50 - 60 三氧化二鋁(ai2o3) 0 - 5 5 三氧化二侧(B203) 0 - 3 氧化鋰(Li20) 0 - 6 氧化納(Na20) 4 - 11 氧化鉀(K20) 0 - 6 氧化鎂(MgO) 0 - 8 10 氧化鈣(CaO) 1 - 8 氧化鋇(BaO) 0 - 8 三氧化二鑭(La203) 0 - 15 五氧化二組(Ta2〇5) 0 - 10 五氧化二鈮(Nb2〇5) 6 - 20 15 二氧化鍅(Zr02) 14 - 20 Σ(氧化鈣+氧化鎂+氧化鋇） 1 - 24 Σ (氧化納+氧化卸+氧化链） 4 - 20 二氧化石夕/(二氧化錯+三氧化二_+五氧化二銳 +五氧化二钽）1.5 - 2.3 3.如申請專利範圍第1或2項之不含鉛及砷之特殊短性燧 20 石玻璃，其具有下列組成 (以重量％為單位）： 二氧化矽(Si〇2) >50 - 60 三氧化二鋁(ai2o3) 0 - 3 氧化鋰(Li20) 0 - 4 氧化鈉(Na2〇) 5 - 11
    18 200401756 氧化鉀(K20) 0 - 6 氧化鎂(MgO) 0 - 8 氧化鈣(CaO) 1 - 8 氧化鋇(BaO) 0 - 8 5 三氧化二爛(La2〇3) 0 - 15 五氧化二钽(Ta205) 0 - 10 五氧化二銳(Nb2〇5) 6 - 20 二氧化锆(Zr02) 14 - 20 Σ(氧化鈣+氧化鎂+氧化鋇） 1 - 24 10 Σ(氧化鈉+氧化钟+氧化經） 5 - 20 二氧化石夕/(二氧化錯+三氧化二鑭+五氧化二銳 +五氧化二 二钽）1.5 - 2.3 4. 一種不含鉛及砷之特殊短性燧石玻璃， (以重量％為單位）： 其具有下列組成 二氧化矽(Si〇2) >50 - 60 15 三氧化二紹(AI2O3) 0 - 3 氧化鋰(Li20) 0 - 4 氧化鈉(Na2〇) 5 - 11 氧化鉀(K20) 0 - 6 氧化鎂(MgO) 0 - 8 20 氧化鈣(CaO) 1 - 8 氧化鋇(BaO) 0.2 - 8 三氧化二鑭(La203) 0 - 15 五氧化二組(Ta2〇5) 2 - 10 五氧化二鈮(Nb205) 6 - 20
    19 200401756 二氧化鍅(Zr02) 14 - 20 Σ(氧化#5+氧化鎂+氧化鋇） 1 - 24 Σ(氧化鈉+氧化钟+氧化链） 5 - 20 二氧化石夕/(二氧化錯+三氧化二播t五氧化二銳+五氧化二鈕） 1.5 - 2.3 5 5. —種不含鉛及砷之特殊短性燧石玻璃，其包括標準量的
    淨化劑，較佳為至多2重量％的二氧化錫或三氧化二銻。 6.如申請專利範圍第1至5項中任一項之不含鉛及砷之特 殊短性燧石玻璃，其係使用一種高頻率方法，在一冷卻 的坩鍋中製造之。
    20 200401756 柒、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：第（ ）圖。 (二) 本代表圖之元件代表符號簡單說明： (無) 捌、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： 200401756 产 ¥ 广?’ ％ Γ' /， 發明專利說明書 (本說明書格式、順序及粗體字，請勿任意更動，※記號部分請勿填寫） ※申請案號： * I ί ※申請日期：严hiTi ※”（：分類： 壹、發明名稱：（中文/英文） 不含雜及砷之特殊短性燧石玻璃 lead-free and arsenic-free special short flint glass 貳、 申請人：（共1人） 姓名或名稱：（中文/英文） 鲁 德商•史歐特玻璃公司/SCHOTT GLAS 代表人：（中文/英文）（簽章） ⑴亞姆爾艾恩/AMRHEIN⑵德葛羅特/DE GR00T 住居所或營業所地址：（中文/英文） _ 德國馬因茲•哈登山街 1〇 號 / Hattenbergstr. 10，55122 Mainz, Germany " 國籍：（中文/英文） 德國/Germany 參、 發明人··（共3人） 姓名：（中文/英文） ^ 1·凱林•納曼/NAUMANN, Karin 2·伍威·柯柏格/KOLBERG, Uwe 3·法蘭克-湯瑪斯·蘭特斯/LENTES, Frank-Thomas 住居所地址：（中文/英文） 1.德國歐柏-歐姆•古登柏格衔 19 號/Gutenbergstrasse 19，55270 Ober-Olm, Germany 2·德國馬因茲•亨利-摩桑德街 19a 號/Henry-Moisand-Str. 19a，55130 Mainz, Germany 3.德國賓珍·咼瑟衔 9 號/G〇ethestra/3e 9，55411 Bingen，Germany 國籍：（中文/英文） 1.〜3.德國/Germany 1
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