SU411689A3 - - Google Patents
Info
- Publication number
- SU411689A3 SU411689A3 SU1348740A SU1348740A SU411689A3 SU 411689 A3 SU411689 A3 SU 411689A3 SU 1348740 A SU1348740 A SU 1348740A SU 1348740 A SU1348740 A SU 1348740A SU 411689 A3 SU411689 A3 SU 411689A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- weight
- unsaturated
- added
- compounds
- solution
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
- C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
- C07C49/83—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
- C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/01—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to unsaturated polyesters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
1
Известен фотополимеризуемый состав, содержащий ненасыщенный полиэфир, виниловый мономер и фотосенсибилизатор, бензоииэфиры вторичных спиртов. Однако известные сенсибилизаторы, вводимые в фотоиолимеризуемые массы, не сооби ают последним длительной устойчивости при хранении в темиоте. Так стабильность таких фотополимеризуемых составов в темиоте при 60°С 6- 7 дней.
Согласно насто щему изобретению предлагаетс в качестве фотосенсибилизатора в фотополимеризуемых составах примен ть а-замещенные бензоины формулы
H,C-0-R
I Ar - С - С - Ar
II I О ОН
где Аг - арил, который может быть замещен алкилом, алкоксилом и/или галогеном , R - водород, алкил или арил.
В качестве а-замещеи 1ых бензоинов фотополимеризуемый состав содержит а-гидрокспметилбензоин , а-ацетоксиметилбензоин.
Предлагаемые фотосенсибилизаторы позвол ют проводить быстрое отверждение формовоч1п 1х н покрывных масс и значительно повысить стабильность фотополимеризуемых масс при хранении в темноте (до 10 дней).
Эти соединени примен ют в количествах пор дка 0,1-5 вес. %, предпочтительно пор дка 0,5-2,5 вес. %, каждый в отдельности или в смеси друг с другом.
В качестве исходных фотополимеризуемых
формовочных смесей примен ют смеси ненасыщенных полиэфиров и снособных к полимеризации мономерных соедииений.
Под ненасьпценными полиэфирами понимают обычно продукты поликондепсации а, рненасыщенных дикарбоновых кислот, например малеииовой, фумаровой, итаконовой, мезаконовой и цитраконовой, с полиоламн, например с этиленгликолем, диэтиленгликолем, пропан-, бутан-, гександиолем, триметилолпропаном и пентаэритритом. Часть ненасыщенных кислот может быть заменена ненасыщенными кислотами, например нтарной, глутаровой, адипиновой, фталевой, тетрахлорфталевой , гексахлорендометилентетрагидрофталевой и тримеллитовой кислотами. ВозМОЖ .НЫ дальнейщие модификации путем встраивани одновалентных спиртов, таких как бутанол, бутилгликоль и тетрагидрофур фуриловый спирт, а также путем встраивани
одноосновных кислот, например бензойной.
олеиновой кислоты, жириой кислоты льн ного масла и жирной кислоты рицииена.
Могут быть применены также и так называемые сохнущие на воздухе формовочные массы, содержащие кроме радикалов а.р-иенасыщенных дикарбоновых кислот еще р.уненасыщенные эфирные радикалы в качестве составных частей нолиэфиров.
Под способными к полимеризании мономерными соединени ми следует понимать обычные в полиэфирной технике ненасыщенные соеди 1ени с замещенными, в случае надобности, в ос-положенни виниловыми или замещенными в р-положении аллиловыми груннами, нанример стирол, винилтолуол, дивннилбензол , винилацетат, акриловую кислоту и ее сложные эфиры, акрилпнтрил, метакриловую кислоту и ее соответствующие производные , а также сложные аллиловые эфиры , такие как аллилацетат, аллилакрилат, сложный диаллиловый эфир фталевой кислоты , триаллилфосфат и триаллилцианурат.
Способные к фотонолнмеризании соединени илн смеси могут быть стабилизованы в известных количествах путем добавкн обычных ингибиторов, нанример п-бензохииона, гидрохинона , 3-метилпирокатехина или мед1Н11х соединений , нанример нафтената меди, н могут содержать обычные добавки, В случае надобности можно одновреме Н10 нрнмен ть и катализаторы нолимеризании, нанример перекиси , в количествах от 0,1 до 4 вес. %. Пригодными перекис ми вл ютс , например, грег-бутилнербензоат, нерекись дикумила, бензоила, лауроила, в частности нерекись метилэтилкетона и нерекись циклогексанона. Кроме того, совместное применение перекисей , а именно перекиси метилэтилкетона, рекомендуетс особенно тогда, когда желательно исключить незначительные изменени цвета продуктов отверждени , которые от воздействи света имеют место при облучении, но при известных обсто тельствах также и нри хранении.
В св зи с применением нерекиси кетона с целью ускоренного нолного отверждени можно добавить металлические соединени , такие как нафтенат кобальта, циркони и ванади , или металлические хелаты, такие как ацетилацетонат кобальта или циркони . При одновременном присутствии перекисей и ускорителей металлизации устойчивость массы нри хранении, однако, умепьщаетс . Поэтому рекомендуетс ири изготовлении лаковых покрытий работать но так называемому методу нанесени активного грунта, при котором нокрывную массу нанос т на наложенный до этого на основу, содержащий нерекись, слой.
Особенно выгодно, если нримен емые бензоины используют в таких покрывных массах , к которым добавлены парафин, воск или воскообразные вещества, всплывающие вначале полимеризации и предотвращающие вредное вли ние кислорода воздуха.
Дл защиты светочувствительных грунтоЁ, нанример светлых древесин, к формовочной и нокрывной массе можно нрибавить незначительные количества обычных абсорберов ультрафиолетовых лучей без того, что реакционноснособность будет значитель)10 уменьшена . Кроме этого во врем фотонолимеризацнн могут присутствовать незначительные количества обычных носителей и наполннтелей, а также средства дл тиксоотропии, такие как стекл нные волокна, синтетические волокна , кремнева кислота, тальк.
В качестве источников излучени дл проведени фотонолимеризации можно нрнмен ть естественный солнечный свет или искусственные излучатели, эмисси которых находитс в области от 250 до 500 ммк, нредночтительно 300-400 ммк. Год тс , нанример, ртутные ксеноновые и вольфрамовые лампы. Под ультрафиолетовым и видимым облучением низкоэнергетическими люминесцентными ламнами с эмиссией 300-500 ммк массы также быстро отвердевают почти в бесцветиые формовочиые и нокрывные части.
При изготовленни формовочных частей из сенсибилизированных масс особенно выгодным оказываетс тот факт, что массы могут отвердеть при соответственно дозированном облучении без значительного тенлового эффекта , нричем получают и большие формованные издели без трещин. При отсутствии перекисей и ускорителей металлизации отверждение можио, в случае надобности, прекратить и нуте.м затемнени , и в любое врем довести до конца носле хранени нолученных таким образом форнолимеризатов.
Пример 1. К ненасыщенному полиэфиру , изготовленному нутем конденсации 152 вес. ч. ангидрида малеиновой кислоты, 141 вес. ч. ангидрида фталевой кислоты и 195 вес. ч. нронандиола-1,2 прибавл ют 0,045 вес. ч. (65 вес. %) гидрохинона, растворенного в стироле.
К каждым 100 вес. ч. этой смолы нрибавл ют 2 вес. ч. с одной стороны известных, а с другой стороны предлагаемых фотосенсибилизаторов и хран т смесь в темноте до желироваии нри 60°С. В табл. 1 нриведеиы зиачени устойчивости типичной полиэфирной смолы при храпении в темноте при 60°С в зависимости от вз того сенсибилизатора. Сеисибилизатор добавл ют в количестве 2 вес. ч.
Пример 2. К каждым 100 вес. ч. смолы из примера 1 примешивают 20 вес. ч. стирола и 1 вес. ч. 10%-ного (но весу) раствора из парафина (т. пл. 52-53°С) в толуоле, а также известные и нредлагаемые фотосенсибилизаторы в эквимол рных количествах. Полученный таким образом раствор нри помощи раскладывател нлеики (Filmzieher 500 мкм) нанос т на стекл нные нлиты и облучают лучами люминесцентной ламны Osram 40 w (70-1) на рассто нии 5 см. .
Таблица 1
Устойчивость при хранении при 60°С, 5
Бензоин
Бензоиновоэтиловый эфир а-Гндроксиметилбеизоин а-Гидроксилметил-4,4-Д11ХЛорбензои
2-Гидроксиметил-4,4-диметокснбензоин
а-Ацетоксиметнлбензоин
В табл. 2 приведены врем всплывани парафина и врем до достижени твердости при испытании карандашом -6Н в зависимости от сенсибилизатора.
Таблица 2
Г а б л и ц а 3 дни
10
20
Пример 3. К каждой смесп из 100 вес. ч., описанной в примере 1 поставл емой формы смолы, 20 вес. ч. стирола и 1 вес. ч. 10%-ного 45 (по весу) раствора парафина (т. пл. 52- 53°С) в толуоле прибавл ЕОТ 2 вес. ч. сс-гидроксиметилбепзопна , а также дополнительно перекись или металлическое соединение или прибавл ют оба или абсорбер ультрафиоле- 50 товых лучей или перекись и абсорбер ультрафиолетовых луче1. Слои этих растворов толщиной 5 мкм нанос т на стекл нные плиты при помощи раскладывател пленки и на рассто нии 5 см подвергают их облучению 55 описанной люминесцентной лампой. В табл. 3 приведено врем всплывани парафина и врем до достижени твердости при испытании карандашом 6Ы.60 Пример 4. Активный грунт из раствора 50 г нитроцеллюлозного раствора (20 вес. % в этилацетате), 18 г бутнлацетата, 20 г перекиси метилэтилкетона (40 вее. % в м гчптеле ) и этилацетата, при помощи которого па- 65 полн ют до 100 мл, нанос т па древесину с толщииой сло 100 мкм. После испарени растворител в каждой толщине сло 500 мкм нанос т: а смесь из полиэфирной смолы, состо щую из 100 вее. ч. поставл емой формы смолы, описанной в примере 1, 20 вес. ч. стирола, 1 вес. ч. 10%-пого (по весу) раствора из парафина (т. пл. 52-53°С) в толуоле, 2 вес. ч. а-гидроксиметнлбензоипа, а также б) смесь из полиэфирной смолы согласно а) к которой еще прибавлены 2 вес. ч. раствора из нафтената кобальта и/ в) смесь из полиэфирпой смолы согласно а), к Koropoii еще прибавлены 2 вес. ч. нафтената кобальта и 0,1 вес. ч. абсорбера ультрафиолетовых лучей. После каждых 3 мин деаэранин активный грунт облучают описаппой люминесцентной лампой на рассто нии 5 см. Результаты полимеризации приведены в табл. 4. Таблица 4
Пример 5. Полученный путем конденсации 1765 вес. ч. аигндрида малеиновой кислоты , 756 вес. ч. этнлеигликол , 405 вес. ч. бутаидиола-1,3 и 1540 вес. ч. триметилолпроиапдиаллиловото эфира в -ирисутствии 0,83 вес. ч. гидро.хипоиа, ненасьиценны нолиэфнр раствор ют в стироле (70%-иый раствор ).
К каждым 100 вес. ч. этой ноставл емой фор.мы смолы носле добавки 1 вес. ч. раствора из нафтената кобальта ( в толуоле ) ирибавл ют различные нредлагае.мые сенсибилизаторы. Растворы в виде сло толщиной 500 мкм каждый и а стекле облучают на рассто нии 5 см ог1иса11ной вы1ие люминесцентной ламиой до желатироваии . ЗаТаблица 5
тем форполимер освещают лучами ртутной лампы высокого давлени (Philips НРК 125 w/L) иа рассто нии 10 см, иока иоверхиость нанесенного покрыти не нерестанет быть клепкой. Твердость карандаща составл ет тогда 6Н.
Необ.ходимое врем дл желатинизации иод люл инесцентиой ламиой и врем полного отверждени указано в табл. 5.
П р е д м е т и з о б р е т е и и
1.Фотополимеризуемый состав, содержании неиасытценный полиэфир, виниловый мономер и фотосенсибилизатор, отличающийс тем, что в качестве последнего применены а-замен1,ениые бензоины формулы
H,C-O-R
I Ar - С - С - Ar
Claims (3)
- I I О ОНгде Аг - арил, который может быть замеп еп алкилом, алкоксило л и/или галогеном , R - водород, алкил, арил.
- 2.Состав по п. 1, отличающийс тем, что в качестве а-замещенных бензоинов он содержит а-гидроксиметилбеизоин.
- 3.Состав по п. 1, отличающийс тем, что в качестве а-замещениых бензоинов он содержит сс-ацетоксиметилбензоин.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681769853 DE1769853C3 (de) | 1968-07-26 | Durch UV-Bestrahlen polymerisierbare Massen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU411689A3 true SU411689A3 (ru) | 1974-01-15 |
Family
ID=5700301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1348740A SU411689A3 (ru) | 1968-07-26 | 1969-07-15 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS4722326B1 (ru) |
AT (1) | AT291585B (ru) |
BE (1) | BE736606A (ru) |
CH (1) | CH511902A (ru) |
CS (1) | CS151522B2 (ru) |
DK (1) | DK126427B (ru) |
ES (1) | ES369868A1 (ru) |
FI (1) | FI49050C (ru) |
FR (1) | FR2013827A1 (ru) |
GB (1) | GB1276369A (ru) |
NL (1) | NL161461C (ru) |
SE (1) | SE367005B (ru) |
SU (1) | SU411689A3 (ru) |
Families Citing this family (108)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2022507C2 (de) * | 1970-05-08 | 1982-05-13 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Salze von Ketovaleriansäuren und ihre Verwendung als Fotoinitiatoren in wasserhaltiger Phase |
DE2616408A1 (de) * | 1976-04-14 | 1977-11-03 | Basf Ag | Durch uv-bestrahlung polymerisierbare gemische |
DE3010428A1 (de) | 1980-03-19 | 1981-09-24 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photopolymerisierbare polyesterharze, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als lackbindemittel |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP4348253B2 (ja) | 2003-08-20 | 2009-10-21 | 富士フイルム株式会社 | 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP4967378B2 (ja) | 2005-03-29 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物 |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
US20080132599A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corporation. | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
JP5472670B2 (ja) | 2007-01-29 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法及び記録物 |
US8541063B2 (en) | 2007-02-06 | 2013-09-24 | Fujifilm Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
EP1955850B1 (en) | 2007-02-07 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet recording device having ink-jet head maintenance device and ink-jet head maintenance method |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
US8894197B2 (en) | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
JP4816976B2 (ja) | 2007-08-09 | 2011-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化型インク組成物 |
JP4766281B2 (ja) | 2007-09-18 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP2009269397A (ja) | 2008-02-29 | 2009-11-19 | Seiko Epson Corp | 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5374403B2 (ja) | 2009-02-13 | 2013-12-25 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
JP2010209183A (ja) | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP2011152747A (ja) | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Seiko Epson Corp | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP5692490B2 (ja) | 2010-01-28 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP5554114B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法 |
US8573765B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-11-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter |
JP5606817B2 (ja) | 2010-07-27 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法 |
EP2423277A3 (en) | 2010-08-27 | 2012-05-09 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article |
EP3124557B1 (en) | 2011-02-28 | 2018-08-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and image forming method |
JP2012201874A (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び画像形成方法 |
JP5300904B2 (ja) | 2011-03-31 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
JP5764416B2 (ja) | 2011-07-08 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
CN103842449B (zh) | 2011-09-29 | 2015-12-23 | 富士胶片株式会社 | 喷墨油墨组合物及喷墨记录方法 |
JP5770765B2 (ja) | 2012-03-09 | 2015-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法 |
EP2644664B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
JP5606567B2 (ja) | 2012-04-19 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
CN104603168B (zh) | 2012-09-14 | 2016-07-06 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物及图像形成方法 |
CN104684634B (zh) | 2012-09-28 | 2017-04-26 | 富士胶片株式会社 | 高分子功能性膜及其制造方法 |
JP6126498B2 (ja) | 2013-02-15 | 2017-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
WO2014136697A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置 |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
EP3686225B1 (en) | 2015-08-27 | 2021-09-22 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film |
CN108603024B (zh) | 2016-02-05 | 2021-06-08 | 富士胶片株式会社 | 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法 |
WO2017135088A1 (ja) | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN108602931B (zh) | 2016-02-05 | 2021-03-09 | 富士胶片株式会社 | 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法 |
JP6505875B2 (ja) | 2016-02-10 | 2019-04-24 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
JP6755339B2 (ja) | 2017-01-30 | 2020-09-16 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法 |
CN110366585B (zh) | 2017-02-24 | 2022-04-29 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
WO2018155515A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法 |
CN110392718B (zh) | 2017-03-30 | 2022-03-25 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
JP6900465B2 (ja) | 2017-04-03 | 2021-07-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN110475829B (zh) | 2017-04-03 | 2022-09-20 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
JP6924260B2 (ja) | 2017-04-26 | 2021-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
CN110753731B (zh) | 2017-06-20 | 2022-10-28 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
CN111032794B (zh) | 2017-07-26 | 2022-09-06 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
JP6820429B2 (ja) | 2017-08-29 | 2021-01-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN111133060A (zh) | 2017-09-27 | 2020-05-08 | 富士胶片株式会社 | 活性能量射线固化型喷墨油墨、遮光膜及遮光膜的制造方法 |
WO2019188482A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
WO2019188481A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
GB201815405D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
GB201815407D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions |
WO2020179155A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
CN113557271B (zh) | 2019-03-29 | 2023-06-02 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像记录方法 |
GB201904581D0 (en) | 2019-04-02 | 2019-05-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes and processes for their preparation |
GB201917710D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
EP4183845A4 (en) | 2020-07-15 | 2023-12-06 | FUJIFILM Corporation | INK SET FOR RECORDING A SECURITY IMAGE, SECURITY IMAGE RECORDING METHOD AND SECURITY IMAGE RECORDING |
GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
GB202015379D0 (en) | 2020-09-29 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202015440D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compounds, compositions and polymer films |
GB202015546D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202015436D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compositions and polymer films |
GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
GB202101153D0 (en) | 2021-01-28 | 2021-03-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer films |
GB202104408D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Cationically charged membranes |
GB202104403D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer Film |
GB202113997D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202114000D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202113999D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202113996D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Films and their uses |
GB202201759D0 (en) | 2022-02-11 | 2022-03-30 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202204633D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
GB202204625D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
GB202204631D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202207568D0 (en) | 2022-05-24 | 2022-07-06 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
WO2024068601A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
WO2024068595A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
WO2024068598A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
-
1969
- 1969-07-09 CS CS487069A patent/CS151522B2/cs unknown
- 1969-07-14 AT AT673569A patent/AT291585B/de not_active IP Right Cessation
- 1969-07-15 SU SU1348740A patent/SU411689A3/ru active
- 1969-07-22 FI FI218169A patent/FI49050C/fi active
- 1969-07-24 NL NL6911404A patent/NL161461C/xx not_active IP Right Cessation
- 1969-07-24 GB GB3731769A patent/GB1276369A/en not_active Expired
- 1969-07-24 SE SE1047169A patent/SE367005B/xx unknown
- 1969-07-24 ES ES369868A patent/ES369868A1/es not_active Expired
- 1969-07-25 CH CH1142069A patent/CH511902A/de not_active IP Right Cessation
- 1969-07-25 FR FR6925560A patent/FR2013827A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-07-25 BE BE736606D patent/BE736606A/xx unknown
- 1969-07-25 DK DK406369A patent/DK126427B/da unknown
- 1969-07-26 JP JP5876369A patent/JPS4722326B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI49050C (fi) | 1975-03-10 |
DE1769853A1 (de) | 1971-09-16 |
JPS4722326B1 (ru) | 1972-06-22 |
AT291585B (de) | 1971-07-26 |
ES369868A1 (es) | 1971-07-16 |
CH511902A (de) | 1971-08-31 |
NL161461B (nl) | 1979-09-17 |
NL161461C (nl) | 1980-02-15 |
DK126427B (da) | 1973-07-16 |
FR2013827A1 (ru) | 1970-04-10 |
SE367005B (ru) | 1974-05-13 |
BE736606A (ru) | 1970-01-26 |
FI49050B (ru) | 1974-12-02 |
DE1769853B2 (de) | 1977-05-12 |
CS151522B2 (ru) | 1973-10-19 |
GB1276369A (en) | 1972-06-01 |
NL6911404A (ru) | 1970-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU411689A3 (ru) | ||
DE1769854C3 (de) | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation | |
US3582487A (en) | Polyester moulding and coating compositions hardening by ultra-violet radiation in the presence of a benzoin aryl ether photosensitizer | |
DE1964547B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines durch Strahlung härtbaren Überzugsmaterials | |
DE2207209B2 (de) | Neue photopolymerisierbare Gemische fur lichtempfindliche, Rehefbilder liefern de Aufzeichnungsschichten | |
DE2145935B2 (de) | Lichthärtbare Harzmasse auf der Grundlage eines ungesättigten Glycidylgruppen-haltigen Polyesters | |
US3699022A (en) | Photopolymerizable unsaturated polyesters containing benzoin-ether,organic acid ester,organic phosphine initiators | |
US3639321A (en) | Polyester moulding and coating materials which can be hardened by uv-irradiation | |
US3874906A (en) | Process for applying polyester-acrylate containing ionizing irradiation curable coatings | |
US3923523A (en) | Photocurable composition and a method of preparing same | |
US3657088A (en) | Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation | |
US3898144A (en) | Air-drying, light-curing, unsaturated polyester resins | |
US3824284A (en) | Butyric acid derivatives | |
EP0037463B1 (de) | Photopolymerisierbare Polyesterharze, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Lackbindemittel | |
DE1694149C2 (de) | Polyester-Form- und Überzugsmassen | |
US3766111A (en) | Polyester moulding and coating materials which can be set by ultraviolet irradiation | |
DE2113998C3 (de) | Photopolymerisierbare Form- oder Überzugsmassen aus ungesättigten Polyestern | |
DE2324310C3 (de) | Härten einer ungesättigten Polyesterharz-Mischung durch aktinisches Licht | |
SU310450A1 (ru) | ||
US3574787A (en) | Acetoacetic acid esters as additional accelerators for polyester moulding and coating materials | |
DE1769853C3 (de) | Durch UV-Bestrahlen polymerisierbare Massen | |
US3664937A (en) | Photosensitizing molding and coating compositions with benzoin-silyl-esters | |
DE2259161B2 (de) | Verfahren zur herstellung von formkoerpern, impraegnierungen, ueberzuegen u.dgl. aus durch uv-bestrahlung haertbaren zubereitungen | |
SU326776A1 (ru) | Фотополимеризуемый состав | |
DE1902930C2 (de) | Durch UV-Bestrahlen härtbare Polyesterform- und Überzugsmassen |