SE504491C2 - Anordning och sätt för att genom pyrolys bilda en beläggning av metall eller metallförening på en yta av ett glassubstrat - Google Patents

Description

15 20 25 30 35 504 491 2 För att bilda beläggningen bringas substratet i kontakt i en beläggningskammare med gasformigt medium omfattande en eller flera substanser i gasfasen. Beläggningskammaren matas med en reagens-gas genom en eller flera springor, vilkas längd är åtminstone lika med bredden som skall beläggas, matad genom ett eller flera utströmningsmunstycken. Beroende på belägg- ningstyp som skall bildas och substansernas reaktivitet som användes, om flera substanser måste användas, fördelas dessa antingen i form av en blandning genom ett enda utströmnings- munstycke i beläggningskammaren via en springa eller separat genom flera utströmningsmunstycken via separata springor.

Sätt och anordningar för att bilda en sådan beläggning beskrives t ex i franskt patent nr 2 348 166 (BFG Glassgroup) eller i fransk patentansökan nr 2 648 453 A1 (Glaverbel).

Dessa sätt och anordningar leder till bildning av särskilt starka beläggningar med fördelaktiga optiska egenskaper.

Under det att sådana anordningar kan vara i stånd att bilda beläggningar med acceptabel kvalitet är det en nackdel hos sådana anordningar att vissa beläggningsmaterial avsättes falskt på andra ytor intill beläggningskammaren, särskilt i dess tak och med tiden kan sådana avsättningar bygga upp och störa reagensgasens flöde genom beläggningskammaren och därigenom resultera i ojämn beläggning eller kan även falla ner på glasytan och därvid åstadkomma ännu mera allvarliga defekter.

Det är ett ändamål med föreliggande uppfinning att åstadkomma en anordning och ett sätt varigenom förut nämnda nackdel är lättare att undvika.

Vi har upptäckt att detta ändamål kan uppnås genom att anordna en rörlig skärm i beläggningskammaren.

Sålunda, enligt uppfinningen, avses en anordning för att genom pyrolys bilda en beläggning av metall eller metall- förening på en yta av ett sig rörande, varmt glassubstrat genom att bringa ytan i kontakt med ett gasformigt reagens, 10 15 20 25 30 35 3 504 491 omfattande stödanordning för att transportera substratet genom en beläggningskammare, åtminstone en reagens-gas-ingång i form av en springa, som mynnar direkt i beläggningskammaren och som sträcker sig tvärs för substratets väg för att till- föra och fördela reagens-gas till beläggningskammaren och åtminstone en utsugningsutgång för att utmata avgas från beläggningskammaren kännetecknad av att rörlig skärmanordning finnes, placerad i beläggningskammaren nära dess tak för att minska bildningen av avsättningar på beläggningskammarens tak.

Anordningen enligt uppfinningen är en enkel anordning som möjliggör kontinuerlig avsättning av en beläggning på ett glasband med minimiförorening av beläggningskammarens tak, varigenom en fördel åstadkommes uttryckt i avställningstid erforderlig för rengöring och följaktligen förbättrar anord- ningens produktivitet. Det är överraskande att införandet av en rörlig skärmanordning i beläggningskammaren ej stör beläggningsförfarandet. Detta är särskilt sant då belägg- ningskammarens tak ligger nära glassubstratet, såsom i allmänhet är fallet med CVD-förfaranden (Chemical Vapor Deposition).

Anordningen omfattar vidare anordning för att förflytta skärmanordningen in och ut ur beläggningskammaren, och därvid undviker man behov att förflytta skärmanordningen för hand.

I en utföringsform av uppfinningen omfattar skärmanordningen ett flertal linor, som sträcker sig tvärs över beläggnings- kammaren tvärs för det varma glassubstratets rörelseriktning.

Då ett flertal linor användes som skärmanordningen är linor- nas diameter och deras relativa avstånd från varandra en viktig faktor för att med framgång avskärma beläggningskamma- rens tak från reagensgasen. Vi föredrager att linornas dia- meter bör svara mot från 20% till 60% av avståndet (A) mellan beläggningsytan och beläggningskammarens tak och är anordnad på avstånd från varandra på ett avstånd ekvívalent med mellan 1 och 5 gånger A. 10 15 20 25 30 35 504 491 4 Vid en modifiering av denna utföringsform omfattar skärm- anordningen släta stänger som sträcker sig tvärs över belägg- ningskammarens bredd och som är rörliga in i och ut ur beläggningskammaren för rengöringsändamål. Ehuru det kan vara lättare att avlägsna avsättningsmaterial från släta stänger jämfört med linor är stänger svårare att hålla raka under de höga temperaturförhållanden som råder i beläggningskammaren.

Vid en ytterligare modifiering omfattar skärmanordningen ett band, t ex gjort av stålduk, sträckande sig tvärs över beläggningskammaren tvärs över det varma glassubstratets rörelseriktning.

Anordningen innefattar företrädesvis rengöringsanordning placerad utanför beläggningskammaren för att avlägsna avsätt- ningar från skärmanordningen. Sålunda vid drift kan varje ströavsättning, som bildas på skärmanordningen avlägsnas därifrån medelst rengöringsanordningen vilket möjliggör skärmanordningen att återföras i ett rent tillstånd till beläggningskammaren.

Mest att föredraga omfattar rengöringsanordningen en kyl- kammare och styranordningar för att bringa skärmanordningarna att passera därigenom. Temperaturen i beläggningskammaren kan t ex vara omkring 600'C. Genom att snabbt kyla skärmanord- ningen kan den värmechock som därvid bibringas densamma vara tillräcklig för att förorsaka att något vidhäftat belägg- ningsmaterial löses därifrån och därigenom verksamt rengör skärmanordningen. Detta är ett särskilt fördelaktigt sätt att rengöra då skärmanordningen föreligger i form av linor.

Kylkammaren kan innefatta en vattenmantel eller kan vara i form av en vattenbehållare genom vilken skärmanordningen pâSSEraf .

Som ett alternativ eller ytterligare sätt att rengöra bringas skärmanordningen i kontakt med en rengöringsanordning, såsom en borste eller skrapa placerad utanför beläggningskammaren för att avlägsna avsättningar från skärmanordningen. 10 15 20 25 30 35 5 504 491 Användningen av linor, ett band eller annat böjligt element som skärmanordning möjliggör att skärmanordningarna spännes för att säkerställa att den ligger i ett rakt, förutbestämt plan, som företrädesvis är parallellt till såväl substratytan som beläggningskammarens tak. Vid en föredragen utföringsform av uppfinningen omfattar således skärmanordningen ett böjligt element och anordning för att spänna detsamma i beläggnings- kammaren.

Det böjliga elementet kan föreligga i form av en kontinuerlig slinga som drives konstant under det att beläggnings- förfarandet fortsätter.

Anordningen kan innefatta anordning för at förflytta skärm- anordningen in och ut ur beläggningskammaren och därvid in och ut ur rengöringsanordningen placerad utanför beläggnings- kammaren. När det gäller linor, kan en motordriven brytskiva vara anordnad för detta ändamål. När det gäller ett band kan en motordriven rulle användas.

Vid en alternativ utföringsform omfattar skärmanordningen en sig rörande gardin av inert gas intill beläggningskammarens tak. Särskilt strömmar den inerta gasgardinen i samma rikt- ning som reagens-gasens flöde i beläggningskammaren.

Den inerta gasgardinen kan allmänt undertrycka bildningen av avsättningar. Användningen av en inert gasgardin är fördel- aktig genom att den ej kräver närvaro av rörliga mekaniska element. Det är verkligen överraskande att tillförseln av en gasström in i beläggningskammaren ej sänker beläggnings- sättets effektivitet.

Med uttrycket "inert gas" menar vi en gas som ej i någon betydande grad påverkar den reagenta gasens reaktion vid substratets yta och kommer vanligen att väljas bland kväve, koldioxid, argon och blandningar därav. Den inerta gasen är företrädesvis torr, eftersom någon närvarande vattenånga kan reagera med reagens-gasen beroende på arten av den senare. 10 15 20 25 30 35 504 491 6 Det inerta gasflödet genom beläggningskammaren bör allmänt vara parallellt med reagens-gasens flöde och bör vara sådant att betydande blandning med reagens-gasen undvikes, så att den inerta gasen verksamt bildar en gardin, avskärmande reagens-gasen från beläggningskammarens tak. Icke desto mindre kommer en viss blandning mellan den inerta gasen och reagens-gasen oundvikligen att inträffa vid deras ömsesidiga gräns. Vi har funnit att en relativt kall gasgardin, t ex med en temperatur under omkring 400°C då den inträder i belägg- ningskammaren är verksam med en inert gasflödeshastighet av från 0,4 till 1,5 Nm3/cm.h såsom omkring 0,7 m3/cm bredd på substrat/h.

Den inerta gasen kan injiceras i beläggningskammaren medelst ett flertal ingångsöppningar i beläggningskammarens tak och utdragas därifrån genom gasutdragsutgången. Detta kan uppnås enligt en utföringsform av uppfinningen genom att anordningen omfattar en matarkammare för inert gas, varvid beläggnings- kammarens tak är försett med ett flertal inerta gasöppningar i förbindelse med tillförselkammaren för inert gas och mynnar i beläggningskammaren. Ett avstånd mellan ingångsöppningarna på mellan 5 till 70 mm har befunnits vara lämpliga. Det är att föredraga att göra detta avstånd så litet som möjligt, såsom från 5 mm till 20 mm.

I stället för öppningar som nämnts ovan kan beläggnings- kammaren vara försedd med porösa takdelar som separerar beläggningskammaren från den inerta gastillförselkammaren, varvid denna konstruktion ger ett särskilt enkelt sätt att uppnå enhetlig injicering av den inerta gasen.

Den inerta gasens flödeshastighet genom beläggningskammaren regleras företrädesvis genom att använda en pump med variabel hastighet och/eller genom att anordna en variabel gasbegräns-i ningsventil i den inerta gaskretsen.

Vi har funnit det särskilt fördelaktigt att kombinera de olika utföringsformerna av skärmanordningarna, d v s genom 10 15 20 25 30 35 v 504 491 att använda både rörliga linor och en inert gasgardin inmatad genom porösa takdelar i beläggningskammaren.

Uppfinningen avser även ett sätt för att genom pyrolys bilda en beläggning av metall eller metallförening på en yta av ett sig rörande varmt glassubstrat genom att bringa ytan i kon- takt med ett gasformigt reagens, omfattande: - transportera substratet genom en beläggningskammare; - tillföra och fördela reagens-gas till beläggnings- kammaren medelst åtminstone en reagens-gas-ingång i form av en springa, som mynnar direkt i beläggningskammaren och sträcker sig tvärs över substratets väg; och - utmata avgas från beläggningskammaren, vilket utmärkes av att förflytta skärmanordning i belägg- ningskammaren intill dess tak för att minska bildningen av avsättningar på beläggníngskammarens tak.

Reagens-gas-ingången eller ingångarna inbegriper företrädes- vis ett utströmningsmunstycke med en springa som mynnar direkt i beläggningskammaren, varvid springan sträcker sig tvärs över substratets väg, där längden på springan är åtminstone i huvudsak lika med beläggningsbredden på sub- stratet (d v s den bredd av den del av substratet som man önskar belägga). Vid en utföringsform av uppfinningen bildas springan av en i längd utsträckt fördelare, vars längsgående inre väggar är i huvudsak parallella med varandra och bildar med substratets rörelseplan en vinkel mellan 20' och 40'.

Munstyckets axiella plan kan vara lutat i en vinkel av mellan 20' och 40' mot substratets rörelseplan. Företrädesvis är munstyckets axiella plan i huvudsak vinkelrät mot substratets rörelseplan för att undvika överanhopning.

Två slag av installationer har utvecklats, som medger den kontinuerliga beläggningsbildningen i linje genom pyrolys av ett reagens eller reagenser i ångfasen (CVD) på ett band av varmt glas tillverkat genom float-processen. Två slag av installationer för att avsätta en beläggning kan beskrivas 10 15 20 25 30 35 504 491 8 som en asymmetrisk installation och en symmetrisk installa- tion.

En asymmetrisk installation har redan beskrivits i patent- beskrivningarna GB 1 524 326 och GB 2 033 374 (BFG Glass- group) under det att en symmetrisk installation beskrivits i patentbeskrivningarna GB 2 234 264 och GB 2 247 691 (Glaver- bel).

Båda slagen av installation kan placeras ovanför glasbandet efter det att det utträder från floatvannan eller över glaset under det att det fortfarande befinner sig i floatvannan.

De möjliggör att i huvudsak hela glasbandets bredd, t ex ca 3,2 m kan beläggas.

Dessa installationer kan var borttagbara. De kan därför sättas i läge för att framställa belagt glas och tagas bort närhelst nödvändigt.

Ett system för avsättning av ett skikt i en floatvanna kan inbegripa anordning för att säkerställa noggrann geometri och funktionering även vid de höga temperaturer som råder i en floatvanna. Beläggningsavsättningsanordningen kan vara kopp- lad till en boggi som uppbär ett flertal rullar anpassade att gripa in i fixerade styrbalkar. Företrädesvis omfattar anord- ningen vidare anordning för att justera höjden på belägg- ningskammaren ovanför glassubstratet. Sålunda kan kolv- anordningar finnas för att möjliggöra justering av avståndet mellan glaset och CVD-beläggningskammaren (Chemical Vapor Deposition) till ett avstånd som i allmänhet är mindre än 50 mm (företrädesvis mellan 3 och 30 mm).

Floatvannan kan vara tätad i den punkt där anordningen passe- rar medelst ett bälgsystem.

Uppfinningen kommer nu att beskrivas med hänvisning till de bifogade ritningarna där: 10 15 20 25 30 35 9 504 491 fig. 1 visar i vertikal tvärsektion en asymmetrisk installa- tion enligt uppfinningen; fig. 1A en schematisk tvärsektion tagen utmed linjen I-I i fig. 1; och fig. 2A visar slutligen i vertikal tvärsektion del av en alternativ asymmetrisk installation enligt uppfinningen.

Fig. 1 och 1A visar det hela av en asymmetrisk installation som omfattar tre huvuddelar: (i) två utströmningsmunstycken 10 för ånga eller gas- formig reagens, vart och ett med en höjd av 85 cm och inbegripande en springa 12a, 12b, där varje springa har en gasflödesväg på 15 cm, en öppningsdimension av 8 mm och ett avstånd mellan springans väggar på 4 mm; (ii) en beläggningskammare 14, bestående av ett plant valv som begränsar en kanal öppen mot botten ovanför glaset 16; och (iii) en springa 18 för att dra ut de använda ângorna.

Glasbandet 16 uppbäres av rullar 20 och drives i riktningen antytt medelst pilen A. Ångornas flöde i beläggningskammaren 14 utmed glaset 16 regleras i huvudsak genom sugning.

Då varma reagenser måste bringas i kontakt med glaset 16 i en punkt lokaliserad utanför floatvannan är hela installationen företrädesvis isolerad.

Antalet på varandra följande reagenstillförselspringor 12a,b beror på arten av den beläggning som skall bildas. Dessa springor 12a, b är lutade mot beläggningskammaren 14. 10 15 20 25 30 35 504 491 10 Denna anordning kan placeras över glaset 16, så att reagen- serna strömmar i bandets rörelseriktning A eller i den mot- satta riktningen.

Tillförselanordningen för de gasformiga reaktanterna utgöres av en leveransledning 22 ansluten till en adapter 26, som leder in i munstycket 10.

Valvet eller taket 38 på beläggningskammaren 14 befinner sig på ett avstånd (A) av 20 mm från glaset 16. Bredden på var och en av springorna l2a och 12b är 4 mm. Längden på belägg- ningskammaren 14 väljes så att reagenset förblir i kontakt med glaset 16 under 6 till 10 sekunder. I praktiken väljes beläggningskammarens 14 längd en gång för alla enligt den mest vanliga förflyttningshastigheten på glaset 16 - d v s omkring 14 m/minut för 4 mm glas - och reagenskoncentrationen justeras närhelst nödvändigt enligt arten och tjockleken på beläggningen som skall erhållas.

Installationen är tätad medelst kolfiberfogar (särskilt då installationen är belägen i en floatvanna) eller genom Refrasil (varumärke) eller Cerafelt (varumärke)-kjolar.

För att förhindra nedsmutsning av beläggningskammaren 14 genom ströavsättningar, som kan falla ner på glaset 16 och skapa defekter i den beläggning som bildas på det, innefattar installationen system för att uppfånga ströavsättningar. Ett antal metallinor 40 tillverkade av rostfritt stål är anordna- de under valvet 38 i beläggningskammaren 14. Dessa linor uppsamlar föredraget det fasta material, som bildas ovanför glaset 16 och avleder gasströmmarna bort från valvet som förblir rent. Linorna rör sig tvärs då glaset 16 förflyttas vilket sålunda gör det möjligt att dra tillbaka den för- orenade delen fortskridande och ersätta den med en ren del.

Installationen bildas av glödgade metallstycken fästade till varandra medelst bultar hellre än svetsning för att undvika värme-skevhet. 10 15 20 25 30 35 11 5Û4 491 Med hänvisning till fig. 1A framgår det att varje metallina 40 går genom en kylkammare 42 placerad utanför beläggnings- kammaren 14. Kylkammaren 42 omfattar övre och nedre kylspolar 44, 46 genom vilket en kylvätska såsom vatten av rumstempera- tur strömmar. Vid utträde från kylkammaren 42 går varje lina över en motordriven brytskiva 48. En spännanordning, allmänt betecknad med hänvisningsbeteckningen 50 anbringar spänning på linan 40 för att säkerställa att den senare har en rak väg genom beläggningskammaren 14 parallellt med både glassubstra- tets 16 beläggningsyta och beläggningskammarens tak 38.

Spännanordningen 50 kan vara i form av motvikter på någondera sidan av glasbandet.

Ehuru ej visat i fig. 1A kan liknande kylkamrar och spänn- anordningar finnas på den andra sidan av beläggningskammaren 14, vilket gör det möjligt för linan att först förflyttas i en riktning genom beläggningskammaren och sedan i motsatt riktning, varvid rörelseutsträckningen i vardera riktningen är tillräcklig för att hela linan, som passerar genom belägg- ningskammaren, därefter ledes genom en eller båda kyl- kamrarna. Vi föredrar emellertid att använda en sluten slinga av linan, för att därigenom möjliggöra rörelse i enbart en riktning, varvid behov föreligger för endast en motordriven brytskiva och spännanordning för varje lina.

I stället för kylkammaren 42 kan linorna 40 passera genom ett vattenbad, där direkt kontakt med vattnet däri alstrar den erforderliga värmechocken för att lösgöra det avsatta materi- alet.

I konstruktionsalternativen som visas i fig. 1 och 1A kan linorna 40 ersättas av en ändlös stålduk eller stålband eller genom släta stålstänger.

Vid utföringsformen som visas i fig. 2 uppbäres ett glasband 216 på rullar 220 och anordningen innefattar skärmanordning innefattande en sig rörande kvävegardin intill beläggnings- kammarens tak. Beläggningskammarens 214 tak 238 är bildat med ett flertal kväveingångsöppningar 243, som leder 10 15 20 25 30 35 504 491 R från en förrådskammare 241 för kväve. öppningarna 243 har vardera en öppningsdimension av 2 mm och är anordnade på 2 cm avstånd från varandra. öppningarna är vinklade i reagensgasflödets riktning genom beläggningskammaren 214 från reagensgasingångsmunstycket 212.

Sålunda bringas kvävet, som går genom öppningarna 243, att strömma genom beläggningskammaren 214 i samma riktning som reagens-gasen. Kväve matas till förrådskammaren 241 vid rumstemperatur med en flödeshastighet av omkring 0,7 Nm3/cm bredd på substrat/h. Eftersom anordningen befinner sig vid en förhöjd temperatur stiger temperaturen på kvävet upp till omkring 300'C då det inträder i beläggningskammaren 214. Icke desto mindre befinner sig kvävet vid en temperatur i belägg- ningskammaren 214 som är mindre än den hos reagens-gasen.

Kvävet bildar en gardin 240, som skiljer reagensgasen från beläggningskammarens 214 tak 238. Såväl reagens-gasen och kvävet utträder ur beläggningskammaren genom gasutgången 218.

Vid en alternativ utföringsform kan öppningarna 243 ersättas med porösa metalltakdelar i beläggningskammaren.

Vi har funnit det särskilt fördelaktigt att kombinera sär- dragen i fig. 1 och 2 d v s genom att använda såväl sig rörande linor och en kvävegardin matad genom porösa takdelar i beläggningskammaren.

Exempel Det följande exemplet illustrerar användningen av en asymmet- risk installation såsom beskrivits i anslutning till fig. 1 och 1A. Denna installation möjliggör att man kan t ex avsätta beläggningar av tennoxid SnO2, tennoxid Sn02 dopad med fluor, titandioxid TiO2, titannitrid TiN, kiselnitrid Si3N4 och i' allmänna ordalag oxider, sulfider, nitrider eller karbider.

För att bilda beläggningar av tennoxid SnO2 eller titandioxid TiO2, användes två efter varandra följande springor 12a, 12b.

Reagensen som uppbär metallen (Sn eller Ti) (inmatad i den 10 15 20 25 30 35 n 504 491 första springan 12a) är en tetraklorid, flytande vid omgivan- de temperatur, förångad i en ström av vattenfri kvävebärgas vid en temperatur av omkring 600'C. Förångning underlättas genom finfördelning av dessa reagenser i bärgasen.

För att framställa oxiden, bringas tetrakloridmolekylerna in i närvaron av vattenånga ledd till den andra springan 12b.

Vattenångan är överhettad till omkring 600'C och injiceras även in i en bärgas, som är luftvärmd till omkring 600'C.

Sn02 kan bildas t ex med användning av proportionerna mellan SnCl4 och H20 som angivits i brittiska patentbeskrivningen GB 2 026 454 (Glaverbel).

När det gäller bildning av ledande tennoxid Sn02, är dop- medlet fluor: HF tillsättes vattenångan. HF:s partialtryck är pHF=0,2 pSnCl4. Ett annat dopmedel kan även införas: flytande antimonklorid SbCl5, som direkt blandas med tennkloriden SnCl4, med vilken den är blandbar i vilka proportioner som helst. Närvaron av antimonkloriden SbCl5, gör det möjligt att färga tennoxid, Sn02-beläggningen, som sedan kan absorbera (och reflektera) en del av den nära infraröda solstrålningen.

Flödeshastigheten på gas (bärgas + reagens) i varje springa 12 är 1 m3/cm per springa/h vid drifttemperaturen.

För att avsätta tennoxid Sn02- eller titandioxid Ti02-belägg- ningar väljes Inconel 600 eller valfritt en ännu mer värme- beständig legering (Hastelloy) för anordningens delar som står i kontakt med tennklorid SnCl4 eller titanklorid TiCl4 och Monel 220 för springan med vattenånga och HF.

Linorna 40 har en diameter på 8 mm och är åtskilda på ett ömsesidigt avstånd, parallellt med varandra av 50 mm. De är belägna nära beläggningskammarens 14 tak 38 och underkastas en spänning av två motvikter en på vardera sidan på 15 kg vikt vardera för att säkerställa deras raka och parallella anordning. Det rekommenderas att vidtaga åtgärder för att undvika chocker på linorna under deras rörelser för att undvika frigörandet av material, som avsatts på linornas yta, 5Û4 491 14 vilket skulle alstra fel i beläggningen som bildas på glaset.

Linorna drives genom beläggningskammaren med en hastighet av 1 m/sekund, under det att substratet rör sig med en hastighet av 10 m/minut.

Föroreningen av beläggningskammarens tak under drift av anordningen är låg varvid behovet för att stanna anordningen för rengöringsändamål minskas.

Claims (15)

l0 15 20 25 15 504 491 Patentkrav

1. l. Anordning för att genom pyrolys bilda en beläggning av metall eller metallförening på en yta av ett sig rörande, varmt glassubstrat genom att bringa ytan i kontakt med ett gasforrnigt reagens, omfattande stödanordning (20, 220) för att transportera substratet (16, 216) genom en beläggningskammare (14, 214), åtminstone en reagens-gas-ingångi form av en springa (12, 212), som mynnar direkt i beläggningskammaren och som sträcker sig tvärs för substratets väg för att tillföra och fördela reagens-gas till beläggningskarnrnaren och åtminstone en utsugningsutgång (18, 218) för att utmata avgas från beläggningskammaren, kännetecknad av att rörlig skärmanordning (40, 240) finnes, placerad i beläggningskammaren nära dess tak (38, 238) för att minska bildningen av avsätt- ningar på beläggningskarrunarens tak.

2. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att den vidare omfattar en anordning (48) för att förflytta skärmanordningen in i och ut ur beläggningskammaren.

3. Anordning enligt laav 1 eller 2, kännetecknad av att skärmanordningen omfattar ett böjligt element (40) och anordning (50) för att spárma detsamma i belággningskarnmaren.

4. Anordning enligt krav 3, kännetecknad av att skärmanordningen består av åtminstone en lina (40) sträckande sig tvärs över beläggningskammaren tvärs över det varma glassubstratets rörelserikming.

5. Anordning enligt något av krav 1-4, kännetecknad av att skärmanordrringen i består av ett band, som sträcker sig tvärs över beläggningskaminaren tvärs för det varma glassubstratets rörelseriktning.

6. Anordning enligt något av föregående krav, kännetecknad av att den vidare omfattar en rengöringsanordning (42) placerad utanför beläggningskarnmaren för att avlägsna avsättningar från skärrnanordningen. 10 15 20 25 504 491 16

7. Anordning enligt krav 6, kännetecknad av att rengöringsanordningen omfattar en kylkarnmare (42) och styranordning (48) för att bringa skärmanordningen att passera därigenom.

8. Anordning enligt något av föregående krav, kännetecknad av att skärmanord- ningen består av en sig rörande gardin av inert gas (240) intill beläggningskannnarens tak.

9. Anordning enligt lcrav 8, kännetecknad av att den omfattar en inert gastill- förselkammare (241), varvid beläggningskarnrnarens tak är försett med ett flertal inerta gasöppningar (243) i förbindelse med den inerta gasförrådskammaren och mynnar in i beläggningskammaren.

10. Anordning enligt krav 8, kännetecknad av att den omfattar en inert gastillför- selkarnmare där beläggningskarrnnaren är försedd med porösa takdelar, som skiljer beläggningskammaren från den inerta gastillförselkamrnaren.

11. Anordning enligt något av föregående krav, kännetecknad av att belägg- ningskammarens tak (38, 238) är placerat på ett avstånd av mindre än 50 mm, företrädesvis mellan 3 och 30 mm från det varma glassubstratets (16, 216) yta, som skall beläggas.

12.Sätt att genom pyrolys bilda en beläggning av metall eller metallförening på en yta av ett sig rörande varmt glassubstrat genom att bringa ytan i kotakt med ett gasfonnigt reagens omfattnde att: -leda substratet genom en beläggningskammare; - tillföra och fördela reagens-gas till beläggningskarnmaren medelst åtminstone en reagens-gasingångi form av en springa, som mynnar direkt i beläggningskarrirnaren och sträcker sig tvärs över substratets väg; och 10 17 504 491 - utmata avgas från beläggningskanimaren, kännetecknat av att förflytta skärmanordning i beläggningskammaren intill dess tak för att minska bildningen av avsättningar på belággningskammarens tak.

13. Sätt enligt krav 12, kännetecknat av att det vidare omfattar att skärmanord- ningen röres in i och ut ur beläggningskammaren.

14. Sätt enligt krav 12 eller 13, kännetecknat av att det omfattar att man rör en gardin av inert gas intill beläggningskammarens tak för att minska bildningen av avsättningar på beläggningskammarens tak.

15. Sätt enligt något av krav 12-14, kännetecknat av att beläggningskarrnnarens tak placeras på ett avstånd av mindre än 50 mm, företrädesvis mellan 3 och 30 mm från det varma glassubstratets yta, som skall beläggas.