CH687204A5 - Dispositif et procédé de formation d'un revêtement pyrolytique. - Google Patents
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Description
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Description
La présente invention se rapporte à un dispositif de formation, par pyrolyse, d'un revêtement de métal ou de composé métallique sur une face d'un substrat en verre chaud par mise en contact de la dite face avec un réactif gazeux, comportant des moyens de support pour acheminer le substrat au travers d'une chambre de revêtement, des moyens d'amenée et de distribution de gaz réactifs à la chambre de revêtement et des moyens pour évacuer les gaz de réaction de la chambre de revêtement, ainsi qu'à un procédé de formation d'un revêtement de métal ou de composé métallique sur un substrat de verre chaud en mouvement par pyrolyse d'un réactif en phase gazeuse.
Le revêtement de métal ou de composé métallique formé sur un substrat de verre chaud par pyrolyse est utilisé pour modifier la couleur apparente du verre et/ou pour présenter d'autres propriétés requises vis-à-vis du rayonnement incident, par exemple la propriété de réfléchir l'infrarouge. On peut utiliser à ces fins un revêtement unique sur le substrat en verre, ou un revêtement multi-couches. On peut citer à titre d'exemples des revêtements d'oxyde d'étain Sn02, d'oxyde d'étain SnÛ2 dopé au fluor, de dioxyde de titane Ti02, de nitrure de titane TiN, de nitrure de silicium SÌ3N4, de silice SÌO2 ou SiOx, d'alumine AI2O3, de pentoxyde vanadium V2O5 ou d'oxyde de tungstène WO3 ou d'oxyde de molybdène M0O3, et des oxydes, des sulfures, des nitrures ou des carbures en général, et un empilage de deux ou plusieurs de ces revêtements.
Le revêtement peut être formé sur une feuille de verre qui se déplace dans un four tunnel ou sur un ruban de verre pendant sa formation, alors qu'il est encore chaud. Le revêtement peut être formé à l'intérieur de la galerie qui suit le dispositif de formation du ruban de verre, ou à l'intérieur de la cuve de flottage sur la face supérieure du ruban de verre pendant qu'il flotte sur un bain d'étain fondu.
Pour former le revêtement, le substrat est amené en contact, dans une chambre de revêtement, avec un milieu gazeux comprenant une ou plusieurs substance(s) en phase gazeuse. La chambre de revêtement est alimentée par un réactif gazeux au travers d'une ou plusieurs fente(s) dont la longueur est au moins égale à la largeur à revêtir, elle(s-mê-me(s) alimentée(s) par une ou plusieurs tuyère(s) d'éjection. En fonction du type de revêtement à former et de la réactivité des substances utilisées, si plusieurs substances doivent être utilisées, celles-ci seront distribuées soit sous forme de mélange par une seule tuyère d'éjection dans la chambre de revêtement via une fente, ou séparément par plusieurs tuyères d'éjection via des fentes séparées.
Des procédés et des dispositifs pour former de tels revêtements sont décrits par exemple dans le brevet français n° 2 348 166 (BFG Glassgroup) ou dans la demande de brevet français n° 2 648 453 A1 (Glaverbel). Ces procédés et ces dispositifs conduisent à la formation de revêtements particulièrement résistants qui présentent des propriétés optiques avantageuses.
Cependant, il est difficile de former par cette technique des revêtements qui sont uniformes sur la largeur du substrat, lorsque le substrat a une surface importante, comme par exemple un ruban de verre flotté se déplaçant à vitesse relativement grande. On a trouvé un manque d'uniformité dans la distribution de ce revêtement sur la totalité de la surface du substrat à revêtir, et il en résulte par exemple des stries alternées dont l'aspect visuel, principalement en réflexion diffère soit en couleur, soit en niveau de réflexion.
Un des objets de la présente invention est d'améliorer l'uniformité du dépôt d'un revêtement effectué par pyrolyse à partir d'une ou plusieurs substance^) en phase gazeuse.
On a trouvé que ceci, ainsi que d'autres objectifs avantageux, peut être obtenu lorsque les moyens de distribution de gaz réactif dans la chambre de revêtement comprennent une tuyère d'éjection pourvue d'une fente s'ouvrant directement dans la chambre de revêtement, les parois internes longitudinales de la fente étant substantiellement parallèles l'une à l'autre, la fente s'étendant transversalement au parcours du substrat, la longueur de la dite fente étant au moins substantiellement égale à la largeur du revêtement du substrat (c'est-à-dire la largeur de la partie du substrat qu'on veut revêtir), et lorsque les parois internes de la tuyère d'éjection délimitent un parcours à convergence continue, pour forcer l'écoulement du gaz réactif à se conformer à la dimension de l'ouverture de le fente, l'angle de convergence du dit parcours convergent n'excédant en aucun point une limite donnée.
Dès lors, la présente invention se rapporte à un dispositif de formation, par pyrolyse, d'un revêtement de métal ou de composé métallique sur une face d'un substrat en verre chaud par mise en contact de la dite face avec un réactif gazeux, comportant des moyens de support pour acheminer le substrat au travers d'une chambre de revêtement, des moyens d'amenée et distribution de gaz réactifs à la chambre de revêtement et des moyens pour évacuer les gaz de réaction de la chambre de revêtement, caractérisé en ce que les moyens de distribution de gaz réactifs à la chambre de revêtement comprennent une tuyère d'éjection pourvue d'une fente s'ouvrant directement dans la chambre de revêtement, les parois internes longitudinales de la fente étant substantiellement parallèles l'une à l'autre, la fente s'étendant transversalement au parcours du substrat, la longueur de la dite fente étant au moins substantiellement égale à la largeur du revêtement du substrat, et en ce que les parois internes de la tuyère d'éjection délimitent un parcours à convergence continue, pour forcer l'écoulement du gaz réactif à se conformer à la dimension de l'ouverture de le fente, l'angle de convergence du dit parcours convergent n'excédant 14° en aucun point.
On a trouvé que, en obéissant à cette condition vis-à vis de l'angle de convergence des parois internes de la tuyère d'éjection, un écoulement uniforme de réactif gazeux se conforme à la dimension de l'ouverture de la fente et que la répartition du revêtement sur la surface du substrat est plus uniforme, et qu'on peut éviter plus facilement les
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stries. On croit que cet avantage peut être dû au fait que cette limite angulaire contribue à rendre quasi laminaire l'écoulement de réactif gazeux dans la tuyère. Il est surprenant qu'un écoulement laminaire dans une tuyère d'éjection contribue à former un revêtement uniforme. En fait, d'abord, à cet endroit, le réactif gazeux n'est pas encore en contact avec le substrat. Ensuite, principalement lorsque plusieurs réactifs sont nécessaires pour former la couche, des mouvements de turbulence sont créés dans les conduits amenant les gaz pour faciliter un mélange intime du réactif gazeux afin d'améliorer sont homogénéité de manière à obtenir un traitement uniforme.
La demande de brevet européen EP-A 365 240 (Pilkington PLC) décrit un dispositif de dépôt d'un revêtement sur la surface d'un ruban de verre chaud en mouvement. Le dispositif comprend une tuyère sous forme d'un distributeur en éventail convergent qui dirige le réactif gazeux vers une fente étroite s'étendant au travers de la largeur du ruban de verre à revêtir. Le réactif gazeux passe de la fente étroite à un étrangleur d'écoulement gazeux avant de pénétrer dans la chambre de revêtement. Par opposition à cette disposition, dans la présente invention, la fente s'ouvre directement dans la chambre de revêtement. Quoique la disposition décrite dans EP 365 240 puisse contribuer à former un revêtement dont l'aspect général est relativement uniforme sur la largeur du ruban de verre lorsqu'il est examiné de manière macroscopique, l'obtention d'un revêtement dépourvu de stries dont l'uniformité peut aussi être confirmée d'une petite portion à la petite portion suivante de la largeur du revêtement peut être facilité par les dispositions de la présente invention.
De préférence, l'angle de convergence du dit parcours à convergence continue n'excède 9° en aucun point. Cette caractéristique permet le dépôt d'un revêtement plus uniforme. Afin d'éviter la nécessité d'exigences d'espace importantes, l'angle de convergence est au moins 4° en n'importe quel point. Cette caractéristique facilite l'unification de l'écoulement sur la largeur de la fente, grâce à l'augmentation de pression due à un certain degré de convergence. Idéalement, les parois longitudinales de la portion convergente de la tuyère d'éjection forment un dièdre tronqué, l'angle du dièdre étant le dit angle de convergence. Ceci constitue une manière simple d'obtenir un parcours d'écoulement à convergence continue.
Dans une forme de réalisation de l'invention, les moyens de distribution comprennent au moins un dispositif de dispersion, pour étaler l'écoulement du réactif gazeux, qui délimite un parcours divergent pour élargir l'écoulement de réactif gazeux depuis sa dimension au sortir des moyens d'alimentation jusqu'à une dimension égale à au moins une partie de la longueur de la fente. Cette construction favorise la distribution efficace du courant gazeux à la tuyère. Les parois internes du/des dispositif(s) de dispersion délimitent un angle de divergence n'excédant 14° en aucun point, et de préférence n'excédant 9° en aucun point, pour obtenir une alimentation plus uniforme de la tuyère.
On a trouvé que la faible divergence évite le décollement de l'écoulement gazeux des parois du dispositif de dispersion, ce qui évite la formation de mouvements tourbillonnaires. Tout en évitant le décollement de l'écoulement gazeux des parois du dispositif de dispersion, le respect de cette condition réduit aussi le risque de formation de zones dans lesquelles l'écoulement du gaz réactif est presque stationnaire. Dans le cas de gaz fortement réactifs ou facilement décomposables sous l'effet de la chaleur, ceci pourrait mener à la formation de dépôts solides ou liquides susceptibles de former des défauts dans le revêtement.
De préférence, les dispositifs de dispersion et la tuyère constituent un composant unique, les dispositifs de dispersion alimentant la tuyère en gaz réactif. Ceci évite la nécessité de zones de transition entre les dispositifs de dispersion et la tuyère, qui pourraient perturber l'écoulement du gaz réactif.
De préférence, chacune des parois longitudinales de la tuyère d'éjection forme une pièce unique avec la paroi correspondante du dispositif de dispersion, qui est découpée substantiellement en forme de triangles isocèles tronqués pour former les dispositifs de dispersion.
Dans des formes préférées de réalisation de l'invention, la section transversale de l'entrée de chaque dispositif de dispersion est circulaire ou rectangulaire (substantiellement carrée par exemple) et la section transversale de la sortie est un rectangle allongé qui s'adapte à au moins une partie de la section d'entrée de la tuyère d'éjection.
Par opposition aux dispositions proposées précédemment, telles que celle représentée à la fig. 12 du brevet américain US 5 122 394 (Lindner/ Ato-chem North America Inc.) dans laquelle deux dispositifs d'alimentation en gaz réactif sont combinés l'un à l'autre pour revêtir un substrat de grande largeur, les moyens de distribution de la présente invention comprennent de préférence plusieurs dispositifs de dispersion qui sont connectés l'un à l'autre, afin de distribuer les réactifs gazeux sur la totalité de la longueur de la tuyère, une caractéristique essentielle de la présente invention étant que la fente s'étend sur la totalité de la largeur de revêtement du substrat. L'avantage de cette caractéristique étant l'alimentation régulière en gaz réactif d'une fente d'une certaine longueur. Les différents dispositifs de dispersion sont de préférence connectés l'un à l'autre à une distance d'au moins 10 cm, et de préférence d'au moins 15 cm de la dite fente. Cette distance évite que les jonctions entre les différentes alimentations provoquent un manque d'uniformité du revêtement.
La tuyère aboutil dans une fente s'ouvrant directement dans la chambre de revêtement. La fente diffère de la tuyère d'éjection et des dispositifs de dispersion par le parallélisme de ses parois. On pense que l'écoulement de gaz réactif au travers de la fente est non-laminaire, l'avantage de l'invention en ce qui concerne la production de revêtements uniformes découlant de l'écoulement quasi laminaire au travers de la tuyère d'éjection. Quoique la fente puisse être en ligne avec la tuyère d'éjection, l'emploi d'une fente disposée angulaire-
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ment par rapport à la tuyère d'éjection, ou l'emploi d'une fente assurant un parcours non rectiligne à l'écoulement gazeux, est également possible. Pour contribuer au maintien du parallélisme des parois de la fente, des entretoises peuvent être disposées à intervalles réguliers, pour relier les parois opposées de la fente l'une à l'autre. Afin de réduire l'effet de ces entretoises sur l'uniformité de l'écoulement gazeux au travers de la fente, le nombre d'entretoises doit être maintenu à un minimum et leur profil doit être tel qu'il présente une résistance faible à l'écoulement de gaz. On a trouvé que des entretoises de section en «goutte d'eau» convenaient à cet effet.
Les parois longitudinales internes de la fente forment, avec le plan du déplacement du substrat défini par les moyens d'acheminement, un angle compris entre 20° et 40°. De préférence, la fente fait partie intégrante de la tuyère elle-même.
La fente doit avoir un parcours d'écoulement gazeux d'une longueur suffisante pour former un jet plat de gaz réactif pénétrant dans la chambre de revêtement, en fonction du débit de gaz. On a trouvé qu'avec un débit gazeux de 1 m3/cm de largeur de fente/heure, on obtient un écoulement gazeux convenable dans une fente de 40 mm à 200 mm. L'espace entre les parois de la fente a de préférence une dimension qui est au moins 6 fois plus petite que le parcours de l'écoulement gazeux dans la fente.
Le plan axial de la tuyère peut être incliné d'un angle compris entre 20 et 40° sur le plan du mouvement du substrat. De préférence, le plan axial de la tuyère est substantiellement perpendiculaire au plan du mouvement du substrat pour éviter un encombrement excessif.
Il est difficile de distribuer uniformément de la vapeur sur une grande largeur. Pour déposer un revêtement uniforme sur la totalité de la largeur d'un ruban de verre (par exemple d'environ 3 m), il serait évidemment possible de placer plusieurs fentes de distribution de vapeur, chacune de longueur nettement plus courte, par exemple 70 cm, côte à côte de manière à occuper de cette façon la totalité de la largeur du ruban. Cependiant, ceci pose une difficulté majeure puisque la jonction des écoulements gazeux provenant des différentes fentes provoque des défauts d'uniformité du revêtement qui est déposé sur le verre. Ce problème est résolu dans les formes de réalisation de la présente invention par l'emploi d'une fente unique s'étendant sur la totalité de la largeur de revêtement du verre.
L'invention s'étend à un procédé de formation d'un revêtement de métal ou de composé métallique sur un substrat de verre chaud en mouvement par pyrolyse d'un réactif en phase gazeuse, caractérisé en ce qu'un écoulement de gaz est formé par alimentation d'une tuyère d'éjection ayant une fente s'ouvrant directement dans la chambre de revêtement, les parois longitudinales internes de la fente étant substantiellement parallèles l'une à l'autre et la fente s'étendant sur au moins substantiellement la totalité de la largeur de revêtement du substrat, avec un milieu gazeux qui comprend une ou plu-sieur substance(s) en phase gazeuse, substance(s) qui subit/subissent une réaction chimique ou une décomposition pour former le dit métal ou composé métallique sur le substrat, et le substrat est mis en contact avec le dit écoulement de gaz éjecté par la dite fente, et en ce que l'angle de convergence de l'écoulement gazeux est, en tous points le long de son parcours à l'intérieur de la tuyère, égal ou inférieur à 14°.
Deux types d'installations ont été développés, qui permettent de former un revêtement par pyrolyse en ligne d'un ou de réactif(s) en phase vapeur (CVD) sur un ruban de verre chaud fabriqué par le procédé de flottage. Les deux types d'installations pour déposer un revêtement peuvent être décrits comme une installation asymétrique et une installation symétrique.
Une installation asymétrique a déjà été décrite dans les brevets britanniques GB 1524 326 et GB 2 033 374 (BFG Glassgroup), tandis qu'une installation symétrique est décrite dans les brevets GB 2 234 264 et GB 2 247 691 (Glaverbel).
L'installation selon l'invention comprend des améliorations et des perfectionnements par rapport à celles décrites précédemment. Les deux types d'installations peuvent être placées au-dessus d'un ruban de verre après sa sortie d'une cuve de flottage ou au-dessus du verre alors qu'il se trouve encore dans la cuve de flottage.
Ceci permet de couvrir substantiellement la totalité de la largeur du ruban de verre, par exemple environ 3,2 m.
Ces installations peuvent être amovibles. Elles peuvent dès lors être mises en place pour produire du verre revêtu, et enlevées chaque fois que nécessaire.
Un système pour le dépôt d'une couche dans une cuve de flottage peut comporter des moyens pour assurer une géométrie et un fonctionnement précis même aux température élevées qui régnent dans une cuve de flottage. De ce fait, le dispositif de dépôt de revêtement peut être couplé à un chariot portant plusieurs galets s'engageant sur des poutres-guides fixes. En particulier, le chariot peut se déplacer au moyen de quatre galets sur deux poutres-guides (I.P.N. 350). Ces poutres peuvent être renforcées de plats supplémentaires qui ont un double but: augmenter le moment d'inertie, tant vertical qu'horizontal, et former des canaux dans lesquels peut circuler de l'eau, ce qui rend possible de maintenir une géométrie identique du dispositif à la température ambiante et à haute température. Le chariot peut être guidé par au moins un, par exemple deux, galet(s) en U s'engageant sur une première poutre-guide, tandis que des mouvements latéraux peuvent être permis par au moins un, par exemple deux, galet(s) cylindrique(s) s'adaptant à une seconde poutre-guide pour compenser des 30 ondulations transversales dans les pistes.
De préférence, le dispositif comprend en outre des moyens pour ajuster la hauteur de la chambre de revêtement au-dessus du substrat en verre. Dès lors, des pistons peuvent être disposés pour ajuster la distance entre le verre et le toit de la chambre de revêtement à une valeur qui est généralement inférieure à 50 mm (comprise de préférence entre 3 et 30 mm).
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La cuve de flottage peut être fermée, à l'endroit de passage du dispositif, par un système de soufflet.
Le dispositif peut en outre comprendre des moyens pour retenir des dépôts parasites dans la chambre de revêtement, par exemple une ou plusieurs barre(s) métallique(s) disposée(s) sous la voûte de la chambre de revêtement. Un tel dispositif est l'objet de la demande de brevet déposée ce jour par la Demanderesse, qui revendique la priorité de la demande de brevet britannique n° 93 00 400.0 du 11 janvier 1993, intitulée «DISPOSITIF ET PROCEDE DE FORMATION D'UN REVETEMENT PAR PYROLYSE».
La présente invention sera maintenant illustrée en se référant aux dessins annexés dans lesquels:
La fig. 1 représente une coupe verticale d'une installation asymétrique selon l'invention;
La fig. 1A est une coupe suivant la ligne M de la fig. 1;
La fig. 2 représente une coupe similaire à la fig. 1A, d'une variante d'installation asymétrique selon l'invention, susceptible de revêtir un substrat de verre plus large;
La fig. 3 représente un détail d'une partie de l'installation représentée à la fig. 2, regardé dans la direction III de la fig. 2;
La fig. 4 représente une coupe verticale d'une installation symétrique selon l'invention;
La fig. 5 représente un détail d'une partie de l'installation représentée à la fig. 4;
La fig. 6 représente un détail de la même partie de l'installation, telle que représentée à la fig. 5, regardée dans la direction VI de la fig. 5;
La fig. 7 représente une forme de réalisation alternative de la partie de l'installation représentée à la fig. 4;
La fig. 8 représente un détail de la même partie de l'installation telle que représentée à la fig. 7, regardée dans la direction Vili de la fig. 7;
La fig. 9 représente, en coupe agrandie, une variante de réalisation d'une partie d'installation selon l'invention; et
La fig. 10 représente, en coupe agrandie, une autre variante de réalisation d'une partie d'installation selon l'invention.
Les fig. 1 et 1A représentent la totalité d'une installation asymétrique qui comprend trois parties principales:
(i) deux tuyères d'éjection (10) de réactif vaporisé ou gazeux, ayant chacune une hauteur de 85 cm et comprenant une fente 12a, 12b, chaque fente ayant un passage de gaz de 15 cm, une ouverture de 8 mm et un espace entre les parois de fente de 4 mm;
(ii) une chambre de revêtement 14, consistant en une voûte plate délimitant un couloir ouvert vers le bas, au-dessus du verre 16; et
(iii) une fente 18 d'extraction des vapeurs usées.
Le ruban de verre 16 est supporté par des rouleaux 20 et acheminé dans la direction indiquée par la flèche A.
L'écoulement des vapeurs dans la chambre de revêtement 14 le long du verre 16 est contrôlé principalement par aspiration.
Lorsque des réactifs chauds sont amenés en contact avec le verre 16 en un point situé en dehors de la cuve de flottage, la totalité de l'installation est de préférence isolée.
Le nombre de fentes d'alimentation en réactif successives 12a, b dépend de la nature du revêtement à former. Ces fentes 12a, b sont inclinées en direction de la chambre de revêtement 14.
Le maintien d'un écoulement uniforme de vapeur ou de gaz sur la largeur du substrat est également facilité par le parallélisme des parois 24 des fentes d'entrée 12a, b et de la fente d'extraction 18.
Ce dispositif peut être placé au-dessus du verre 16 de manière que les réactifs s'écoulent dans la direction du mouvement A du ruban ou dans la direction opposée.
Les moyens d'alimentation en réactifs gazeux sont constitués par un conduit d'alimentation 22 connecté à un raccord 26 menant à la tuyère 10. Les parois longitudinales 34 de la portion convergente de la tuyère d'éjection 10 forment un dièdre tronqué 11, l'angle du dièdre, ou l'angle de convergence (a) étant de 9°, cet angle de convergence (a) étant déterminé dans le sens transversal de la fente 12a, b.
Le faible angle de convergence (a) provoque une redistribution régulière de la pression d'écoulement du courant gazeux de manière laminaire, sans variations locales soudaines de pression. Ceci contribue à l'uniformité du revêtement.
La voûte ou le toit 38 de la chambre de revêtement 14 est à 20 mm du verre 16. La longueur de la chambre de revêtement 14 est choisie de manière que le réactif reste en contact avec le verre 16 pendant 6 à 10 secondes. En pratique, la longueur de la chambre de revêtement 14 est choisie une fois pour toutes, selon la vitesse la plus courante de déplacement du verre - par exemple 14 m/min pour du verre de 4 mm - et la concentration du réactif est ajustée si nécessaire selon la nature et l'épaisseur du revêtement à obtenir.
L'installation est rendue étanche au moyen de joints en fibre de carbone lorsqu'elle est située dans la cuve de flottage ou par des chemises en Refrasil (marque commerciale) ou en Cerafelt (marque commerciale), éventuellement imprégnées de carbure de bore, lorsque l'installation est placée en dehors de la cuve de flottage. L'installation peut aussi être rendue étanche, au moins en amont, par la présence d'un joint gazeux (cfr références 244 dans la fig. 4) qui empêche l'entrée d'atmosphère ambiante dans la chambre de revêtement.
Pour éviter le salissement de la chambre de revêtement 14 par des dépôts parasites qui peuvent tomber sur le verre 16 et créer des défauts dans le revêtement qui y est formé, l'installation comprend un système pour emprisonner des dépôts parasites, comme le décrit la demande brevet déposée ce jour par la Demanderesse, déjà mentionnée. Des barres métalliques 40, de préférence en acier inoxydable, sont disposées sous la voûte de la chambre de revêtement 14. Ces barres collectent
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préférentiellement la matière solide qui se forme au-dessus du verre 16 et écartent le courant gazeux de la voûte, qui reste propre. Les barres se déplacent transversalement au fur et à mesure de l'avance du verre 16, ce qui rend possible d'extraire progressivement la partie salie et de la remplacer par une partie propre. Au lieu de barres transversales, il est possible d'utiliser un câble qui se déplace en circuit fermé. Ce dispositif est particulièrement utile dans des installations utilisant des réactifs chauds.
L'installation est formée de pièces métalliques recuites fixées l'une à l'autre au moyen de boulons, plutôt que par soudure, pour éviter les distorsions thermiques.
Dans la forme de réalisation représentée aux figures 2 et 3, il y a plusieurs alimentations disposées le long d'une fente 112. La géométrie spéciale des alimentations distribue la vapeur réactive de manière homogène le long d'une fente unique 112 occupant la largeur totale de revêtement d'un ruban de verre (presque 3 m de long) pour alimenter régulièrement la fente en vapeurs réactives.
Les moyens d'alimentation en réactifs gazeux sont constitués de six conduits d'alimentation circulaires 122 connectés à six pyramides 128 menant à la fente 112. La section d'entrée 129 de chaque pyramide 128 est un rectangle de 10 cm sur 20 cm. Pour se conformer à la section de sortie des conduits d'alimentation 122, il existe des raccords 126. La section de sortie de chaque pyramide 128, indiquée par la ligne imaginaire 130, est un rectangle allongé qui s'adapte à la section d'entrée de la tuyère d'éjection 110, indiquée par la ligne imaginaire 132.
Les six pyramides 128 constituent des dispositifs de dispersion dont les parois internes divergentes 136 définissent entre elles un angle de divergence (ß) de 14°, cet angle de divergence (ß) étant déterminé dans le sens longitudinal de la fente 112. Les dispositifs de dispersion, avec les raccords 126, élargissent l'écoulement de gaz réactif depuis sa dimension à la sortie des conduits d'alimentation 122 jusqu'à une dimension égale à la longueur de la fente 112. Les pyramides 128 et les raccords 126 constituent ensemble les moyens de distribution menant des conduits de distribution 122 à la tuyère d'éjection 110.
Les parois longitudinales 134 (voir figure 3) de la portion convergente de la tuyère d'éjection 110 et des six pyramides 128 forment un dièdre tronqué 111. L'angle du dièdre, ou l'angle de convergence (a), est de 9°, cet angle de convergence (a) étant déterminé dans le sens transversal de la fente 112. Chaque paroi longitudinale 134 de la tuyère d'éjection forme une pièce unique avec les parois correspondantes des six pyramides, qui est découpée substantiellement sous la forme de triangles isocèles tronqués pour former les six pyramides.
Les faibles angles de convergence (a) et de divergence (ß) permettent au courant gazeux de s'écouler sans se séparer des parois et donc sans tourbillons, et favorisent l'égalisation de pression.
Le dispositif d'alimentation rend possible de passer de plusieurs conduits d'alimentation 122 circulaires à une section reclangulaire unique, comme en possède la fente 112.
Le dispositif présente des avantages considérables puisqu'il rend possible d'obtenir une distribution homogène de vapeur sans introduire de perte de charge non nécessaire ou de surfaces stagnantes où de la corrosion des matières de l'installation peut se produire.
La hauteur du dièdre 111 assurant la connexion des six pyramides de la fente 112 (de l'ordre de 20 cm) est choisie de manière à obtenir un bon compromis entre la production d'un écoulement uniforme et la dimension du dispositif. La hauteur des dispositifs de dispersion, c'est-à-dire des pyramides 128, est 60 cm.
La distribution de gaz par chaque conduit d'alimentation 122 peut être contrôlée individuellement au moyen de robinets 123, ce qui se montre utile pour contrôler l'uniformité transversale du dépôt. De cette manière, il est possible de tenir compte de gradients transversaux de température entre le centre et les bords du ruban de verre, et de les compenser.
Le maintien d'un écoulement uniforme de gaz ou de vapeur sur la largeur du substrat est aussi facilité par le parallélisme des parois 124 des fentes d'entrée 124. Ce parallélisme est maintenu en raison de la présence d'entretoises 125 ayant un profil en goutte d'eau, disposées avec leur partie la plus large en direction amont du courant de gaz. Le choix de cette géométrie réduit ou élimine la formation d'une traînée de pression différente en aval de l'entretoise. On a trouvé qu'une hauteur d'entretoise de 29 mm et une plus grande largeur de 12 mm convenaient. Il est préférable que les entretoises 125 soient disposées suffisamment loin de la sortie de la fente pour éviter la formation de stries dans le revêtement. De préférence, cette distance est d'au moins 7 cm. D'un autre côté, les entretoises 125 ne devraient pas être placées trop loin de la sortie de la fente, sinon elles peuvent ne pas procurer suffisamment de rigidité pour maintenir un écartement constant le long de la fente. Cette distance sera de préférence inférieure à 15 cm, avantageusement comprise entre 8 et 12 cm, par exemple 10 cm. De plus, on utilise un espace d'environ 25 cm entre les entretoises (exagéré dans les figures pour des raisons de clarté).
L'introduction de réactif dans son gaz porteur se produit dans un conduit tubulaire 122 à un point situé avant sa connexion au raccord 126. Ce conduit est pourvu de venturis 127a, 127b. Au col d'un premier venturi 127a, du chlorure d'étain est pulvérisé, par exemple, et celui-ci est entraîné dans l'azote chaud. Le mélange gaz porteur/vapeur est achevé par passage dans un second venturi 127b. La même chose s'applique à l'introduction de vapeur d'eau dans un autre conduit.
Lorsqu'on utilise l'installation pour déposer un revêtement sur un ruban de verre quittant la cuve de flottage, toute la machine peut être placée sur un châssis qui comprend les moyens de chauffage du gaz porteur et les canalisations pour connecter les gaz chauds aux raccord 126 menant aux fentes 112.
Si on désire réduire les dimensions verticales de
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l'installation, le système de pyramides verticales est remplacé par des pyramides 128 inclinées sur le plan du substrat dans le même plan que les fentes 12a, b dans la fig. 1.
La variante représentée dans la fig. 9 peut être adoptée dans l'installation de la fig. 1 ou de la fig. 3. Dans cette variante, la tuyère 410 a une portion supérieure convergente importante 460 ayant un plan axial qui s'étend substantiellement perpendiculairement à la surface du substrat à revêtir et une partie convergente inférieure moins importante 462, dont le plan axial est incliné sur la surface du revêtement, les parois 464 de la portion convergente inférieure faisant partie intégrante et étant continue avec les parois parallèles 424 de la fente 412. Des entretoises 425 sont disposées dans la portion convergente inférieure 462 de la tuyère 410 pour maintenir le parallélisme des parois 424 au travers de la largeur du dispositif.
La variante représentée à la fig. 10 peut être adaptée à Installation de la fig. 1 ou de la fig. 3. Dans cette variante, une tuyère d'éjection 510 a une fente 512, dont le plan axial s'étend dans une direction inclinée sur la surface du revêtement. La fente 512 est constituée de parois parallèles 524, possédant chacune un décrochement 565 qui définit une portion de fente supérieure 566 et une portion de fente inférieure 567. Dans la portion de fente supérieure 566, les parois 524 sont davantage espacées que dans la portion de fente inférieure 567. Des entretoises 525 sont disposées dans la portion de fente supérieure 566 de la fente 512 pour maintenir le parallélisme des parois 524 au travers de la largeur du dispositif.
EXEMPLES - ASYMETRIQUE
Les exemples suivants illustrent l'emploi d'une installation asymétrique telle que décrite en se référant aux figures 1, 1 A, 2 et 3.
L'installation permet de déposer, par exemple, des revêtements d'oxyde d'étain SnÛ2, d'oxyde d'étain SnÛ2 dopé au fluor, de dioxyde de titane TÌO2, de nitrure de titane TiN, de nitrure de silicium SÌ3N4 et, en termes généraux, d'oxydes, de sulfures, de nitrures ou de carbures.
Pour former des revêtements d'oxyde d'étain Sn02 ou de dioxyde de titane TÌO2, on utilise deux fentes successives 112. Le réactif portant le métal (Sn ou Ti) (alimentant la première fente 112a) est un tétrachlorure, liquide à la température ambiante, vaporisé dans un courant porteur d'azote gazeux anhydre à environ 600°C. La vaporisation est facilitée par l'atomisation de ces réactifs dans le gaz porteur.
Pour produire l'oxyde, les molécules de tétrachlorure sont mises en présence de vapeur d'eau amenée à la seconde fente 112b. La vapeur d'eau est surchauffée à environ 600°C, et est également injectée dans un gaz porteur, qui est de l'air chauffé à environ 600°C. Du SnÛ2 peut être formé par exemple au moyen de proportions de SnCU et d'H20 données dans le brevet britannique GB 2 026 454 (Glaverbel).
Dans le cas de la formation d'oxyde d'étain SnÛ2
conducteur, le dopant est du fluor: de l'HF est ajouté à la vapeur d'eau. La pression partielle de HF est pHF = 0,2 pSnCU. On peut également introduire un autre dopant: du chlorure d'antimoine liquide SbCl5 qui est mélangé directement avec le chlorure d'étain SnCU, avec lequel il est miscible en toutes proportions. La présence de chlorure d'antimoine SbCIs rend possible de colorer de revêtement d'oxyde d'étain Sn02, lequel peut alors absorber (et réfléchir) une partie du proche infrarouge du rayonnement solaire.
Le débit de gaz (gaz porteur + réactif) dans chaque fente 112 est 1 m3/cm de fente/h, à la température de travail.
Pour déposer des revêtements de SnÛ2 ou de dioxyde de titane TÌO2, on choisit de Nnconel 600, ou même un alliage encore plus réfractaire (Hastal-loy) pour les parties du dispositif qui sont en contact avec le chlorure d'étain SnCU ou le chlorure de titane TiCU et du Monel 400 pour la fente distribuant la vapeur d'eau et l'HF.
La couche qui est formée est uniforme, aussi bien lorsqu'elle est examinée de manière macroscopique sur la totalité de la largeur du substrat revêtu, que lorsqu'on examine de petites zones voisines. Le revêtement est dépourvu de stries.
L'installation symétrique représentée aux fig. 4, 5 et 6 comprend une fente centrale d'injection de réactif 212, de chaque côté de laquelle se trouve une chambre de revêtement 214a, 214b consistant en un couloir connecté à une fente d'aspiration 218a, 218b. Cette installation symétrique occupe substantiellement la totalité de la largeur du verre 16.
Différentes caractéristiques du dispositif sont similaires à celles décrites en se référant à l'installation asymétrique représentée aux fig. 1, 1A, 2 et 3: l'injection de réactif dans le gaz porteur au moyen de venturis, et le maintien du parallélisme des fentes d'injection et d'aspiration au moyen d'entretoises en «goutte d'eau» 225.
L'installation symétrique, représentée à la fig. 4, a 3 m de long et est conçue pour avoir un fléchissement qui n'excède pas 1 mm, même dans un environnement à haute température.
L'installation convient pour déposer un revêtement à partir de réactifs qui sont maintenus froids jusqu'au moment où ils entrent en contact avec le verre chaud 16. Le dispositif comprend une fente d'alimentation en réactif unique 212. Il est possible d'introduire par cette fente 212 un mélange de plusieurs réactifs qui réagiront l'un avec l'autre seulement lorsque la température est suffisamment élevée, et donc sur le verre 16. L'installation est construite en aluminium et pourvue de conduits de refroidissement 242.
Cet ensemble est disposé à une hauteur de moins de 12 mm au-dessus du verre 16, par exemple 4 mm. La présence de ce dispositif refroidi interfère avec la température du verre 16 seulement dans une faible mesure, ou pas du tout, puisque la chambre de revêtement 214a, b consiste en un toit d'aluminium poli possédant une très faible émissivi-té, qui joue le rôle de miroir thermique.
L'installation est étanche à l'air en raison de la présence de joints gazeux 244, en amont et en
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aval, qui empêchent tout échange entre l'atmosphère ambiante et la chambre de revêtement 214a, b. Des écrans latéraux sont également prévus, aidés par une aspiration et un joint gazeux, en particulier lorsqu'il n'est pas possible d'utiliser des joints mécaniques autolubrifiants (graphite ou carbure de bore) (dans le cas de couches oxydées).
Pour permettre le dépôt d'une couche sur un substrat en verre dans une cuve de flottage, on a besoin idéalement d'inclure des moyens pour assurer une géométrie et un fonctionnement précis, même aux hautes tempétatures qui régnent dans une cuve de flottage. Ainsi que le montre la fig. 4, le dispositif de dépôt de revêtement est fixé à un chariot (247) portant des galets qui s'engagent sur des poutres-guides fixes. En particulier le chariot se déplace au moyen de quatre galets sur deux poutres-guides 249, 251 (I.P.N. 350). Le chariot 247 est guidé par une paire de galets 248 à profil en U, courant sur une première poutre-guide ou rail 249, tandis que les mouvements latéraux sont permis par une paire de galets cylindriques 250 courant sur une seconde poutre-guide 251 pour compenser toutes ondulations transversales des pistes de déplacement. Ces poutres sont renforcées de plats supplémentaires qui ont un double but: augmenter le moment d'inertie, tant vertical qu'horizontal, et former des canaux dans lesquels peut circuler de l'eau, ce qui rend possible de maintenir une géométrie identique du dispositif à la température ambiante et à haute température.
La fente d'injection 212 de la tuyère 210 est pourvue de cinq alimentations ajustables 246 acheminant la vapeur dans une tuyère d'injection ayant la forme d'un dièdre 211 se terminant dans la fente 212, l'angle du dièdre ou angle de convergence (a) étant de 9°. Un plus grand nombre d'alimentations ajustables, par exemple 16, peut en variante être aménagé. La hauteur de la fente 210 est 20 cm.
La fente 312 peut être incurvée, ainsi que le représentent les fig. 7 et 8. Quoique cette conception puisse compliquer l'installation, elle peut offrir l'avantage d'exiger moins de place en hauteur, si les parois 324 de la fente 312 sont disposées horizontalement et le dièdre d'alimentation verticalement.
EXEMPLES - SYMETRIQUE
Les exemples suivants illustrent l'emploi d'une installation symétrique telle que décrite en se référant à la fig. 4.
L'installation permet de déposer des revêtements de silice SÌO2 ou SiOx à partir de silane SÌH4 et d'oxygène selon les descriptions des brevets britanniques GB 2 234 264 et GB 2 247 691, cités ci-dessus.
Une installation similaire peut être utilisée pour former un revêtement d'alumine AI2O3 à partir de vapeur d'acétylacétonate d'aluminium.
Dans ce cas, la matière en contact avec la vapeur de réactif sera de l'acier inoxydable.
On peut aussi utiliser le même type d'installation pour déposer un revêtement métallique à partir de métal carbonyle.
Une telle installation peut être convertie pour utiliser des réactifs qui ne peuvent pas entrer en contact l'un avec l'autre pendant leur trajets vers le verre 16. Dans ce cas, deux dièdres d'alimentation en réactif sont disposés côte à côte, chacun se terminant par une fente inclinée, dont le plan d'inclinaison converge vers le plan d'inclinaison de l'autre fente. Ce dispositif ne devrait idéalement pas être refroidi.
A titre d'exemple, on peut utiliser différentes installations successives pour déposer des revêtements des revêtements sur du verre, alors que ce-lui-ci est dans la cuve de flottage: d'abord de la silice SÌO2, et ensuite du pentoxyde de vanadium V2O5 ou de l'oxyde de tunstène WO3 ou de l'oxyde de molybdène M0O3, dans lequel du sodium à l'état atomique diffusera, pour transformer cet oxyde en bronze de vanadium, tunstène ou molybdène. Finalement on peut superposer une barrière d'oxyde d'étain SnOï. La barrière d'oxyde d'étain Sn02 peut en variante être également déposée sur le ruban juste après qu'il émerge de la cuve de flottage. De tels dépôts ont une conductivité électrique (bronze) telle qu'ils sont à mi-chemin entre du métal précieux et des semi-conducteurs fortement dopés. On peut ainsi obtenir un verre portant un revêtement qui est optiquement très sélectif avec un aspect métallique en réflexion et un facteur solaire très faible.
La couche qui est formée est uniforme, aussi bien lorsqu'elle est examinée de manière macroscopique sur la totalité de la largeur du substrat revêtu, que lorsqu'on examine de petites zones voisines. Le revêtement est dépourvu de stries.
Claims (17)
1. Dispositif de formation, par pyrolyse, d'un revêtement de métal ou de composé métallique sur une face d'un substrat en verre chaud (16) par mise en contact de la dite face avec un réactif gazeux, comportant des moyens de support (20) pour acheminer le substrat (16) au travers d'une chambre de revêtement (14, 214a, 214b), des moyens d'amenée et de distribution de gaz réactifs à la chambre de revêtement et des moyens (18, 218a, 218b) pour évacuer les gaz de réaction de la chambre de revêtement, caractérisé en ce que les moyens de distribution de gaz réactifs à la chambre de revêtement comprennent une tuyère d'éjection (10, 110, 210, 410, 510) pourvue d'une fente (12a, 12b, 112, 212, 312, 412, 512) s'ouvrant directement dans la chambre de revêtement, les parois internes longitudinales de la fente étant substantiellement parallèles l'une à l'autre, la fente s'étendant transversalement au parcours du substrat, la longueur de la dite fente étant au moins substantiellement égale à la largeur du revêtement du substrat, et en ce que les parois internes (34, 134) de la tuyère d'éjection délimitent un parcours à convergence continue, pour forcer l'écoulement du gaz réactif à se conformer à la dimension de l'ouverture de la fente, l'angle de convergence (a) du dit parcours convergent n'excédant 14° en aucun point.
2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé
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3. Dispositif selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que l'angle de convergence (a) du dit parcours à convergence continue est au moins 4° en n'importe quel point.
4. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que les parois longitudinales (34, 134) de la portion convergente de la tuyère d'éjection (10, 110) forment un dièdre tronqué (11, 111), l'angle du dièdre étant le dit angle de convergence (a).
5. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que les moyens de distribution comprennent au moins un dispositif de dispersion (128), pour étaler l'écoulement du réactif gazeux, qui délimite un parcours divergent pour élargir l'écoulement de réactif gazeux depuis sa dimension au sortir des moyens d'alimentation (122, 126) jusqu'à une dimension égale à au moins une partie de la longueur de la fente (112).
6. Dispositif selon la revendication 5, caractérisé en ce que les parois internes (134, 136) du/des dispositif (s) de dispersion (128) délimitent l'angle de convergence (a) et un angle de divergence (ß) n'excédant 14°, et de préférence n'excédant 9°, en aucun point, le dit angle de divergence (ß) étant déterminé dans le sens longitudinal de la fente (112), et le dit angle de convergence (a) étant déterminé dans le sens transversal de la fente (112).
7. Dispositif selon l'une des revendications 5 ou 6, caractérisé en ce que les dispositifs de dispersion (128) et la tuyère (110) constituent un composant unique, les dispositifs de dispersion alimentant la tuyère en gaz réactif.
8. Dispositif selon la revendication 7, caractérisé en ce que chacune des parois longitudinales (134) de la tuyère d'éjection (110) forme une pièce unique avec la paroi correspondante du dispositif de dispersion (128), qui est découpée substantiellement en forme de triangles isocèles pour former les dispositifs de dispersion.
9. Dispositif selon l'une des revendications 5 à 8, caractérisé en ce que la section transversale de l'entrée (129) de chaque dispositif de dispersion (128) est circulaire ou rectangulaire et la section transversale de la sortie (130) est un rectangle allongé qui s'adapte à au moins une partie de la section d'entrée (132) de la tuyère d'éjection (110).
10. Dispositif selon l'une des revendications 5 à
9, caractérisé en ce que les moyens de distribution comprenent plusieurs dispositifs de dispersion (128) qui sont connectés l'un à l'autre, afin de distribuer les réactifs gazeux sur la totalité de la longueur de la tuyère (110), à une distance d'au moins 10 cm, de préférence d'au moins 15 cm, de la dite fente.
11. Dispositif selon l'une des revendications 1 à
10, caractérisé en ce que les parois longitudinales internes (24, 424, 524) de la fente (12, 412, 512) forment, avec le plan du déplacement du substrat (16) défini par les moyens d'acheminement, un angle compris entre 20° et 40°.
12. Dispositif selon l'une des revendications 1 à
11, caractérisé en ce que la fente (112, 212) fait partie intégrante de la tuyère (110, 210).
13. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que plusieurs entretoises (125, 225, 425, 525) sont disposées à intervalles réguliers, reliant les parois internes longitudinales opposées (124, 224, 424, 524) de la fente l'une à l'autre, pour maintenir les dites parois substantiellement parallèles l'une à l'autre.
14. Procédé de mise en action du dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'un écoulement de gaz est formé par alimentaion d'une tuyère d'éjection ayant une fente s'ouvrant directement dans la chambre de revêtement avec un milieu gazeux qui comprend une ou plusieurs substance(s) en phase gazeuse, substance(s) qui subit/subissent une réaction chimique ou une décomposition pour former le dit métal ou composé métallique sur le substrat, et le substrat est mis en contact sur substantiellement toute la largeur du revêtement avec le dit écoulement de gaz éjecté par la dite fente, et en ce que l'angle de convergence de l'écoulement gazeux est, en tous points le long de son parcours à l'intérieur de la tuyère, égal ou inférieur à 14°.
15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que l'angle de convergence de l'écoulement gazeux est, en tous points le long de son parcours à l'intérieur de la tuyère, égal ou inférieur à 9°.
16. Procédé selon l'une des revendications 14 ou
15, caractérisé en ce que tout angle de divergence de l'écoulement gazeux, le long du parcours depuis le conduit d'alimentation vers la zone de distribution de la tuyère jusqu'à la fente de sortie de la tuyère, est, en chaque point du dit parcours, égal ou inférieur à 14°, de préférence égal ou inférieur à 9°.
17. Procédé selon l'une des revendications 14 à
16, caractérisé en ce que le dit parcours à convergence continue a un angle de convergence d'au moins 4° en tous points.
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Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6022414A (en) * | 1994-07-18 | 2000-02-08 | Semiconductor Equipment Group, Llc | Single body injector and method for delivering gases to a surface |
| US6200389B1 (en) | 1994-07-18 | 2001-03-13 | Silicon Valley Group Thermal Systems Llc | Single body injector and deposition chamber |
| US6231971B1 (en) * | 1995-06-09 | 2001-05-15 | Glaverbel | Glazing panel having solar screening properties |
| US5882368A (en) * | 1997-02-07 | 1999-03-16 | Vidrio Piiano De Mexico, S.A. De C.V. | Method for coating glass substrates by ultrasonic nebulization of solutions |
| US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| US7096692B2 (en) * | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
| US6103015A (en) * | 1998-01-19 | 2000-08-15 | Libbey-Owens-Ford Co. | Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe |
| DE19923591A1 (de) * | 1999-05-21 | 2000-11-23 | Fleissner Maschf Gmbh Co | Vorrichtung mit einem Düsenbalken zur Erzeugung von Flüssigkeitsstrahlen zur Strahlbeaufschlagung der Fasern einer Warenbahn |
| US6413579B1 (en) | 2000-01-27 | 2002-07-02 | Libbey-Owens-Ford Co. | Temperature control of CVD method for reduced haze |
| US6808741B1 (en) * | 2001-10-26 | 2004-10-26 | Seagate Technology Llc | In-line, pass-by method for vapor lubrication |
| JP2006501793A (ja) * | 2002-07-31 | 2006-01-12 | シドクラフト、アクチボラグ | 電気機械 |
| WO2004084222A1 (fr) | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dispositif d'enregistrement/reproduction embarque; dispositif, systeme et procede d'enregistrement/reproduction |
| JP4124046B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2008-07-23 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
| US9017480B2 (en) | 2006-04-06 | 2015-04-28 | First Solar, Inc. | System and method for transport |
| TW201011114A (en) * | 2008-05-19 | 2010-03-16 | Du Pont | Apparatus and method of vapor coating in an electronic device |
| EP2123793A1 (fr) * | 2008-05-20 | 2009-11-25 | Helianthos B.V. | Procédé de dépôt de vapeur |
| US8557328B2 (en) * | 2009-10-02 | 2013-10-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Non-orthogonal coater geometry for improved coatings on a substrate |
| FI9160U1 (fi) * | 2010-01-04 | 2011-04-14 | Beneq Oy | Pinnoituslaite |
| FI20106088A0 (fi) * | 2010-10-21 | 2010-10-21 | Beneq Oy | Pinnankäsittelylaite ja -menetelmä |
| KR101806916B1 (ko) * | 2011-03-17 | 2017-12-12 | 한화테크윈 주식회사 | 그래핀 필름 제조 장치 및 그래핀 필름 제조 방법 |
| US20130130597A1 (en) * | 2011-11-21 | 2013-05-23 | James William Brown | Glass treatment apparatus and methods of treating glass |
| JP5148743B1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-02-20 | シャープ株式会社 | 薄膜成膜装置、薄膜成膜方法および薄膜太陽電池の製造方法 |
| MX2014013233A (es) * | 2014-10-30 | 2016-05-02 | Ct Investig Materiales Avanzados Sc | Tobera de inyeccion de aerosoles y su metodo de utilizacion para depositar diferentes recubrimientos mediante deposito quimico de vapor asistido por aerosol. |
| US20160186320A1 (en) * | 2014-12-26 | 2016-06-30 | Metal Industries Research And Development Centre | Apparatus for continuously forming a film through chemical vapor deposition |
| JP6426298B2 (ja) * | 2015-10-19 | 2018-11-21 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 成膜装置 |
| WO2019239192A1 (fr) * | 2018-06-15 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Installation de dépôt sous vide et procédé de revêtement d'un substrat |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3597178A (en) * | 1969-04-17 | 1971-08-03 | Ppg Industries Inc | Process and apparatus for removing atmospheric contaminants in a float glass operation |
| US3837832A (en) * | 1971-04-29 | 1974-09-24 | Ppg Industries Inc | Apparatus for making float glass |
| US3888649A (en) * | 1972-12-15 | 1975-06-10 | Ppg Industries Inc | Nozzle for chemical vapor deposition of coatings |
| GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
| JPS51126209A (en) * | 1975-04-25 | 1976-11-04 | Central Glass Co Ltd | Method and apparatus for production of which reflects heat rays |
| GB1507996A (en) * | 1975-06-11 | 1978-04-19 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
| GB1524326A (en) * | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| US4092953A (en) * | 1976-12-09 | 1978-06-06 | The D. L. Auld Company | Apparatus for coating glass containers |
| EP0007147A1 (fr) * | 1978-07-12 | 1980-01-23 | Imperial Chemical Industries Plc | Dispositif pour déposer des liquides et procédé pour déposer des mélanges réactifs liquides sur un matériau en feuille continue ou en nappe |
| CA1138725A (fr) * | 1978-07-20 | 1983-01-04 | Robert Terneu | Enduction du verre |
| BE879189A (fr) * | 1978-10-19 | 1980-04-04 | Bfg Glassgroup | Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus |
| CH628600A5 (fr) * | 1979-02-14 | 1982-03-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
| CH643469A5 (fr) * | 1981-12-22 | 1984-06-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide. |
| US4595634A (en) * | 1983-08-01 | 1986-06-17 | Gordon Roy G | Coating process for making non-iridescent glass |
| GB8408118D0 (en) * | 1984-03-29 | 1984-05-10 | Pilkington Brothers Plc | Coating glass |
| US4900110A (en) * | 1984-07-30 | 1990-02-13 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of a reflective film on the bottom surface of a float glass ribbon |
| US5122394A (en) * | 1985-12-23 | 1992-06-16 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
| US4761171A (en) * | 1987-02-09 | 1988-08-02 | Libbey-Owens-Ford Co. | Apparatus for coating glass |
| US4793282A (en) * | 1987-05-18 | 1988-12-27 | Libbey-Owens-Ford Co. | Distributor beam for chemical vapor deposition on glass |
| GB2209176A (en) * | 1987-08-28 | 1989-05-04 | Pilkington Plc | Coating glass |
| GB8824102D0 (en) * | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Apparatus for coating glass |
| GB8914047D0 (en) * | 1989-06-19 | 1989-08-09 | Glaverbel | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate |
| EP0516714B1 (fr) * | 1990-02-22 | 1995-10-18 | GORDON, Roy Gerald | Accrochage de nitrure de titane ou d'oxyde stannique a la surface d'une machine a enduire |
| GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
| FR2672518B1 (fr) * | 1991-02-13 | 1995-05-05 | Saint Gobain Vitrage Int | Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux. |
| FR2677639B1 (fr) * | 1991-06-14 | 1994-02-25 | Saint Gobain Vitrage Internal | Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium. |
-
1993
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