NL9400041A - Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse. - Google Patents

Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse. Download PDF

Info

Publication number
NL9400041A
NL9400041A NL9400041A NL9400041A NL9400041A NL 9400041 A NL9400041 A NL 9400041A NL 9400041 A NL9400041 A NL 9400041A NL 9400041 A NL9400041 A NL 9400041A NL 9400041 A NL9400041 A NL 9400041A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
slot
coating
substrate
path
gas
Prior art date
Application number
NL9400041A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Glaverbel
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Glaverbel filed Critical Glaverbel
Publication of NL9400041A publication Critical patent/NL9400041A/nl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45595Atmospheric CVD gas inlets with no enclosed reaction chamber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD

Description

Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor de vorming, door pyrolyse, van een bekleding van een metaal of metaalverbinding op één zijde van een bewegend heet glassubstraat door de genoemde zijde in contact te brengen met een gasvormig reagens, welke inrichting dragermid-delen bezit voor het voeren van het substraat door een bekle-dingskamer, middelen voor het toevoeren en verdelen van rea-gensgas naar de bekledingskamer en middelen voor het afvoeren van afgewerkt gas uit de bekledingskamer, en een werkwijze voor het vormen van een bekleding van een metaal of metaalverbinding op een bewegend heet glassubstraat door pyrolyse van een reagens in de gasfase.
De bekleding van een metaal of metaalverbinding gevormd op een heet glassubstraat door pyrolyse wordt gebruikt voor het wijzigen van de schijnbare kleur van het glas en/of het verschaffen van andere eigenschappen die worden vereist ten aanzien van de invallende straling, bijvoorbeeld de eigenschap van het reflecteren van infrarood. Voor deze doeleinden kan een enkele bekleding op het glassubstraat worden toegepast, of een meerlaags bekleding. Voorbeelden zijn bekledingen van tinoxyde Sn02, tinoxyde Sn02 gedoteerd met fluor, titanium-dioxyde Ti02, titaniumnitride TiN, siliciumnitride Si3N4, silica Si02 of SiOx, aluminiumoxyde A1203, vanadiumpentoxyde V205 of wolframoxyde W03 of molybdeniumoxyde Mo03, en in het algemeen oxyden, sulfiden, nitriden of carbiden en een laagstruc-tuur van twee of meer van deze bekledingen.
De bekleding kan worden gevormd op een glasplaat die in een tunneloven beweegt of op een glaslint tijdens de vorming terwijl dit nog heet is. De bekleding kan in de koeloven die op de het glaslint vormende inrichting volgt worden gevormd of in de floattank op de bovenzijde van het glaslint terwijl dit laatste op een bad van gesmolten tin drijft.
Om de bekleding te vormen wordt het substraat in contact gebracht, in een bekledingskamer, met een gasvormig medium dat één of meer stoffen in de gasfase omvat. De bekledingskamer wordt via één of meer sleuven, waarvan de lengte tenmin ste gelijk is aan de te bekleden breedte voorzien van een rea-gensgas, toegevoerd door één of meer uitstroompijpen. Afhankelijk van het te vormen type bekleding en de reactiviteit van de gebruikte stoffen, indien verscheidene stoffen moeten worden gebruikt, worden deze hetzij verdeeld in de vorm van een mengsel door een enkele uitstroompijp in de bekledingskamer via een sleuf, of afzonderlijk door verscheidene uitstroompijpen via afzonderlijke sleuven.
Werkwijzen en inrichtingen voor het vormen van een dergelijke bekleding zijn bijvoorbeeld beschreven in het Franse octrooischrift nr. 2 348 166 (BFG Glassgroup) of in de Franse octrooiaanvrage nr. 2 648 453 Al (Glaverbel). Deze werkwijzen en inrichtingen leiden tot de vorming van bijzonder sterke bekledingen met gunstige optische eigenschappen.
Echter, het is met deze techniek moeilijk om bekledingen te vormen die uniform zijn over de breedte van het substraat, wanneer het substraat een groot oppervlak is, zoals het oppervlak van een floatglaslint dat met relatief hoge snelheid beweegt. Dan wordt een gebrek aan homogeniteit gevonden in de verdeling van deze bekleding over het gehele oppervlak van het te bekleden substraat, hetgeen bijvoorbeeld resulteert in elkaar afwisselende strepen, waarvan het visuele uiterlijk, vooral in reflectie, verschillend is in hetzij de kleur of in de mate van reflectie.
Doel van de onderhavige uitvinding is om de uniformiteit van de afzetting van een bekleding door pyrolyse uitgaande van één of meer stoffen in de gasfase te verbeteren.
Wij hebben gevonden dat dit en andere gunstige doelen kunnen worden bereikt wanneer de middelen voor het verdelen van reagensgas naar de bekledingskamer een uitstroompijp omvatten met een sleuf die direct in de bekledingskamer uitmondt, waarbij de in lengterichting verlopende binnenwanden van de sleuf in hoofdzaak parallel aan elkaar lopen, de sleuf zich dwars op het pad van het substraat uitstrekt, de lengte van de genoemde sleuf tenminste in hoofdzaak gelijk is aan de bekledingsbreedte van het substraat (d.w.z. aan de breedte van dat deel van het substraat waarvan gewenst wordt het te bekleden) , en de binnenwanden van de uitstroompijp een continu convergerend pad bepalen, om ervoor te zorgen dat de stroom reagensgas zich aanpast aan de afmetingen van de opening van de sleuf, waarbij de convergentiehoek van het genoemde convergerende pad op geen enkel punt een bepaalde limiet overschrijdt.
Derhalve wordt volgens de uitvinding een inrichting verschaft voor de vorming door pyrolyse van een bekleding van een metaal of metaalverbinding aan één zijde van een bewegend, heet glassubstraat door de genoemde zijde in contact te brengen met een gasvormig reagens, welke inrichting dragermiddelen bezit voor het voeren van het substraat door een bekledings-kamer, middelen voor het toevoeren en verdelen van reagensgas naar de bekledingskamer en middelen voor het afvoeren van afgewerkt gas uit de bekledingskamer, gekenmerkt doordat de middelen voor het verdelen van het reagensgas naar de bekledingskamer een uitstroompijp omvatten met een sleuf die direct in de bekledingskamer uitmondt, waarbij de in lengterichting verlopende binnenwanden van de sleuf in hoofdzaak parallel aan elkaar lopen, de sleuf zich dwars op het pad van het substraat uitstrekt, de lengte van de genoemde sleuf tenminste in hoofdzaak gelijk is aan de bekledingsbreedte van het substraat, en dat de binnenwanden van de uitstroompijp een continu convergerend pad bepalen, om de reagensgasstroom aan te passen aan de afmetingen van de opening van de sleuf, waarbij de convergentiehoek (a) van het genoemde convergerende pad op geen enkel punt de 14° overschrijdt.
Er werd gevonden, door aan deze voorwaarde met betrekking tot de convergentiehoek van de binnenwanden van de uitstroompijp te voldoen, een homogene stroom reagensgas wordt aangepast aan de afmetingen van de opening van de sleuf en de verdeling van de bekleding over het oppervlak van het substraat uniformer was en de strepen gemakkelijker konden worden vermeden. Er wordt aangenomen dat dit voordeel het gevolg zou kunnen zijn van het feit dat deze hoekbeperking ertoe bijdraagt dat de stroom reagensgas in de uitstroompijp de vorm van een quasi-laminaire stroom heeft. Het is verrassend dat een laminaire stroom in een uitstroompijp helpt bij de vorming van een homogene bekleding. Namelijk is, ten eerste, op dit punt het reagensgas nog niet in contact met het substraat. Ten tweede worden, voornamelijk wanneer verscheidene reagentia nodig zijn om de laag te vormen, turbulentiebewegingen in de leidingen die het gas toevoeren gecreëerd, teneinde een grondige menging van het gasvormige reagens te bevorderen met als doel het verbeteren van de homogeniteit ervan teneinde een uniforme behandeling te bereiken.
De Europese octrooipublikatie EP-A-365240 (Pilkington PLC) beschrijft een apparaat voor het afzetten van een bekleding op het oppervlak van een bewegend lint heet glas. Het apparaat omvat een mondstuk in de vorm van een convergerende rondstraalverdeler die het reagensgas naar een nauwe sleuf stuurt die zich over de breedte van het te bekleden glaslint uitstrekt. Het reagensgas gaat van de nauwe sleuf door een gasstroom beperkend orgaan alvorens in de bekledingskamer te komen. In tegenstelling tot deze opstelling, voorziet de onderhavige uitvinding er in dat de sleuf direct in de bekledingskamer uitmondt. Ofschoon de in EP 365240 beschreven inrichting kan bijdragen aan de vorming van een bekleding waarvan de algemene aanblik relatief uniform is over de breedte van het glaslint wanneer het op een macroscopische wijze wordt onderzocht, kan een streepvrije bekleding waarbij de homogeniteit ook kan worden bevestigd van één klein deel tot het volgende kleine deel van de breedte van de bekleding, i worden bevorderd door hetgeen de onderhavige uitvinding verschaft.
Het continue convergerende pad heeft bij voorkeur een convergentiehoek die op geen enkel punt de 9° overschrijdt.
Dit kenmerk maakt de afzetting van een meer uniforme bekleding i mogelijk. Om de noodzaak tot buitensporige ruimte-eisen te vermijden, is de convergentiehoek op elk punt ten minste 4°. Dit kenmerk bevordert de eenmaking van de stroom over de breedte van de sleuf, dankzij de druktoename veroorzaakt door een voldoende mate van convergentie. Idealiter vormen de in de ) lengterichting verlopende wanden van het convergerende deel van de uitstroompijp een afgeknot tweevlak, waarvan de twee-vlakshoek de genoemde convergentiehoek is. Dit vormt een eenvoudige wijze waarop een regelmatig, continu convergerend stroompad kan worden bereikt.
5 In één uitvoeringsvorm van de uitvinding omvatten de verdelingsmiddelen tenminste één verspreidingsorgaan voor het verspreiden van de stroom gasvormig reagens, hetgeen een divergent pad bepaalt voor het verbreden van de stroom reagensgas van de afmetingen ervan aan de uitlaat van de toevoer-) middelen tot een afmeting die gelijk is aan tenminste een deel yan de lengte van de sleuf. Deze constructie bevordert de loelmatige verdeling van de gastoevoer naar het mondstuk. De binnenwanden van het verspreidingsorgaan (of de -organen) bepalen bij voorkeur een divergentiehoek die de 14° niet overschrijdt, en met de meeste voorkeur niet meer dan 9° is op elk punt, om een uniformere toevoer aan het mondstuk te bereiken.
Wij hebben gevonden dat de geringe divergentie voorkomt dat de gasstroom loslaat van de wanden van het verspreidingsorgaan, waardoor de vorming van wervelbewegingen wordt voorkomen. Terwijl het loslaten van de gasstroom van de wanden van het verspreidingsorgaan wordt vermeden, vermindert het voldoen aan deze voorwaarde ook het risico op de vorming van gebieden waarin de stroom reagensgas vrijwel stationair is. In bet geval van zeer reactief gas of één dat gemakkelijk kan ontleden onder invloed van warmte, zou dit kunnen leiden tot de vorming van vloeibare of vaste afzettingen die tot vorming van defecten in de bekleding kunnen leiden.
Bij voorkeur vormen de verspreidingsorganen en het mondstuk één enkele component, waarbij de verspreidingsorganen bet mondstuk van reagensgas voorzien. Dit vermijdt de noodzaak van overgangszones tussen de verspreidingsorganen en het mondstuk die een verstoring in de stroom van het reactieve gas zouden kunnen veroorzaken.
Bij voorkeur vormt elk van de in de lengterichting verlopende wanden van de uitstroompijp een enkel stuk met de overeenkomstige wand van het verspreidingsorgaan, dat in hoofdzaak de vorm van afgeknotte gelijkbenige driehoeken heeft om de verspreidingsorganen te vormen.
Volgens een voorkeursuitvoering van de uitvinding is de inlaatdoorsnede van elk verspreidingsorgaan rond of rechthoekig (zoals in hoofdzaak vierkant) en de uitlaatdoorsnede is een langwerpige rechthoek die tenminste gedeeltelijk in de inlaatdoorsnede van de uitstroompijp past.
In tegenstelling tot hiervoor voorgestelde opstellingen, zoals die weergegeven in fig. 12 van het Amerikaanse octrooischrift US 5122394 (Lindner/Atochem North America Ine.) waarbij twee reactieve gastoevoersystemen met elkaar zijn verbonden voor de bekleding van een substraat met een grote breedte, voorziet de onderhavige uitvinding er bij voorkeur in dat de verdelingsmiddelen verscheidene verspreidingsorganen omvatten die met elkaar zijn verbonden, om de gasvormige reagentia over de gehele lengte van het mondstuk te verdelen, waarbij een essentieel kenmerk van de onderhavige uitvinding is dat de sleuf zich over de gehele bekledingsbreedte van het substraat uitstrekt. Het voordeel van dit kenmerk is de uniforme toevoer van reactief gas naar een sleuf van enige lengte. De verscheidene verspreidingsorganen zijn bij voorkeur met elkaar verbonden op een afstand van ten minste 10 cm, en bij voorkeur van ten minste 15 cm, van de genoemde sleuf. Door deze afstand wordt vermeden dat de aansluitingen tussen naastliggende toevoeren zouden kunnen resulteren in een verlies aan uniformiteit van de bekleding.
Het mondstuk eindigt in een sleuf die direct in de bekledingskamer uitmondt. De sleuf verschilt van de uitstroom-pijp en de verspreidingsorganen doordat deze parallelle wanden heeft. Van de stroom reactief gas door de sleuf wordt gedacht dat deze niet-laminair is, waarbij het voordeel van de uitvinding in de zin van de vervaardiging van homogene bekledingen i wordt verkregen door de quasi-laminaire stroom door de uit-stroompijp. Ofschoon de sleuf in één lijn kan liggen met de uitstroompijp, is het gebruik van een sleuf geplaatst onder een hoek met de uitstroompijp, of het gebruik van een sleuf die een niet recht gasstroompad verschaft ook mogelijk. Om ; ertoe bij te dragen dat de parallelle plaatsing van de wanden van de sleuf wordt gehandhaafd, kunnen steunen op onderlinge afstand van elkaar worden geplaatst, waarbij deze de tegenover liggende wanden van de sleuf met elkaar verbinden. Om het effect van deze steunen op de uniformiteit van de gasstroom > door de sleuf te verminderen, moet het aantal steunen tot een minimum worden beperkt en het profiel ervan moet zodanig zijn dat zij een lage weerstand veroorzaken voor de gasstroom. Steunen met een doorsnede in de vorm van een waterdruppel zijn voor dit doel geschikt gebleken.
> De in de lengterichting verlopende binnenwanden van de sleuf vormen bij voorkeur, met het bewegingsvlak van het substraat, een hoek tussen 20° en 40°. Bij voorkeur is de sleuf in het mondstuk zelf geïntegreerd.
De sleuf moet een gasstroompad hebben met een lengte ) die voldoende is voor de vorming van een platte straal reactief gas die in de bekledingskamer komt, afhankelijk van de gasstroomsnelheid. Wij hebben gevonden dat bij een gas-stroomsnelheid van 1 m /cm sleufbreedte/uur, een gasstroompad in de sleuf van 40 mm tot 200 mm geschikt is. De onderlinge afstand van de sleufwanden is bij voorkeur ten minste 6 keer kleiner dan het gasstroompad in de sleuf.
Het axiale vlak van de uitstroompijp kan een hoek van tussen 20° en 40° maken met het bewegingsvlak van het substraat. Bij voorkeur is het axiale vlak van het mondstuk in hoofdzaak loodrecht op het bewegingsvlak van het substraat om overbezetting te vermijden.
Het is moeilijk om damp uniform over grote afstanden te verdelen. Om een uniforme bekleding af te zetten over de gehele breedte van het glaslint (bijv. bij benadering 3 m), zou het vanzelfsprekend mogelijk zijn om verscheidene dampver-deelsleuven met elk een vrij korte lengte, bijvoorbeeld 70 cm, zij aan zij te plaatsen om op deze wijze de gehele breedte van het glas te beslaan. Dit levert echter een groot probleem op, aangezien het bij elkaar komen van de gasstromen die uit de verschillende sleuven komen gebreken veroorzaakt in de uniformiteit van de bekleding die op het glas wordt afgezet. Dit probleem wordt bij de uitvoeringen van de onderhavige uitvinding opgelost door gebruik van een enkele sleuf die zich over de gehele bekledingsbreedte van het glas uitstrekt.
De uitvinding strekt zich ook uit tot een werkwijze voor het vormen van een bekleding van een metaal of metaalverbinding op een bewegend heet glassubstraat door pyrolyse van een reagens in de gasfase, gekenmerkt doordat een gasstroom wordt gevormd door aan een uitstroompijp met een direct in de bekledingskamer uitmondende sleuf, waarbij de in de lengterichting verlopende binnenwanden van de sleuf in hoofdzaak parallel aan elkaar lopen en de sleuf zich over tenminste in hoofdzaak de gehele bekledingsbreedte van het substraat uitstrekt, een gasvormig medium toe te voeren dat één of meer stoffen in de gasfase omvat, een stof of stoffen die een chemische reactie of een ontleding ondergaan om het genoemde metaal of de genoemde metaalverbinding op het substraat te vormen, en het substraat wordt in contact gebracht met de genoemde door de sleuf uitgestoten gasstroom, en doordat de convergentiehoek (a) van de gasstroom op elk punt langs het pad ervan in de uitstroompijp kleiner is dan of gelijk is aan 14°.
Twee typen installaties zijn ontwikkeld, welke de continue gealigneerde vorming van een bekleding mogelijk maken door de pyrolyse van een reagens of reagentia in de dampfase (CVD) op een lint van heet glas vervaardigd met het floatpro-ces. De twee typen installaties voor het afzetten van een bekleding kunnen worden beschreven als een asymmetrische installatie en een symmetrische installatie.
Een asymmetrische installatie is reeds beschreven in de octrooipublikaties GB 1524326 en GB 2033374 (BFG Glass Group), terwijl een symmetrische installatie is beschreven in de octrooipublikaties GB 2234264 en GB 2247691 (Glaverbel).
De installaties volgens de uitvinding omvatten betere en verbeterde kenmerken vergeleken met die welke hiervoor zijn beschreven. Beide typen installaties kunnen boven het glaslint zijn geplaatst nadat dit uit de floattank komt of boven het glas terwijl dit zich nog in de floattank bevindt. Zij maken het mogelijk in hoofdzaak de gehele breedte van het glaslint, bijvoorbeeld bij benadering 3,20 m, te bedekken.
Deze installaties kunnen verwijderbaar zijn. Zij kunnen derhalve in positie worden gebracht om bekleed glas te produceren en worden weggenomen al naar gelang dat nodig is.
Een systeem voor het afzetten van een laag in een floattank kan middelen omvatten om een nauwkeurige geometrie en goed functioneren te verzekeren, zelfs bij de hoge temperaturen die in een floattank heersen. Zo kan de bekledingsafzet-inrichting worden gekoppeld aan een bogie die een verscheidenheid aan rollen draagt welke zijn aangepast om vaste leibalken op te nemen. In het bijzonder kan de bogie werken door middel van vier rollen op twee leibalken (I.P.N. 350). Deze balken kunnen ribben hebben met tegenoverliggende platte vlakken die een tweeledig doel hebben: het vergroten van het traagheids-moment, zowel verticaal als horizontaal, en ook het vormen van kanalen waarin water kan worden gecirculeerd, hetgeen het mogelijk maakt een identieke geometrie van de inrichting zowel bij omgevingstemperatuur als bij hoge temperatuur te handhaven. De bogie kan door ten minste één, zoals twee U-vormige rollen die over een eerste leibalk of rail lopen, worden geleid, terwijl zijwaartse bewegingen mogelijk gemaakt kunnen worden door ten minste één, zoals twee cilindrische rollen die over een tweede leibalk lopen om eventuele dwarse golvingen in de loopsporen te compenseren.
Bij voorkeur omvat de inrichting verder middelen voor het bijstellen van de hoogte van de bekledingskamer boven het glassubstraat. Zo kunnen hydraulische rammen zijn verschaft om de afstand tussen het glas en het dak van de bekledingskamer bij te stellen tot een afstand die over het algemeen minder dan 50 mm is (bij voorkeur tussen 3 en 30 mm).
De floattank kan zijn afgesloten op het punt waar de inrichting passeert met behulp van een balgsysteem.
De inrichting kan verder middelen omvatten voor het invangen van afgedwaalde afzettingen in de bekledingskamer, bijvoorbeeld één of meer metaalstaven aangebracht onder de overwelving van de bekledingskamer. Een dergelijke inrichting vormt het onderwerp van onze tegelijk hiermee lopende aanvrage waarvoor de prioriteit wordt ingeroepen van de Britse octrooiaanvrage nr. 93 00 400.0, van 11 januari 1993, op dezelfde dag is ingediend als deze aanvrage, en is getiteld "Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse".
De uitvinding zal thans worden toegelicht onder verwijzing naar de begeleidende tekening waarin: fig. 1 een verticale dwarsdoorsnede is van een asymmetrische inrichting volgens de uitvinding; fig. IA een dwarsdoorsnede is langs de lijn I-I van f ig. 1; fig. 2 een dwarsdoorsnede is, vergelijkbaar met die van fig. IA, van een alternatieve asymmetrische installatie volgens de uitvinding, geschikt voor het bekleden van een breder glassubstraat; fig. 3 een detail weergeeft van een deel van de in fig. 2 weergegeven inrichting, gezien in de richting III van fig. 2; fig. 4 een verticale dwarsdoorsnede is van een symmetrische installatie volgens de uitvinding; fig. 5 een detail weergeeft van een deel van de in fig. 4 weergegeven inrichting; fig. 6 een detail laat zien van hetzelfde deel van de installatie zoals weergegeven in fig. 5, gezien in de richting VI in fig. 5; fig. 7 een alternatieve uitvoeringsvorm laat zien van een deel van de in fig. 4 weergegeven installatie; fig. 8 een detail laat zien van hetzelfde deel van de installatie zoals weergegeven in fig. 7, gezien in de richting VIII in fig. 7; fig. 9 een vergroot deel laat zien van een alternatieve constructie voor een deel van een installatie volgens de uitvinding; en fig. 10 een vergroot deel laat zien van een verdere alternatieve constructie voor een deel van een installatie volgens de uitvinding.
Fig. 1 en IA tonen het geheel van een asymmetrische installatie die drie hoofddelen omvat: (i) twee verdampt of gasvormig reagens-uitstroompij-pen 10, welke elk een hoogte van 85 cm hebben en een sleuf 12a, 12b bevatten, waarbij elke sleuf een gasstroompad van 15 cm heeft, een openingafmeting van 8 mm en een afstand tussen de sleufwanden van 4 mm; (ii) een bekledingskamer 14, bestaande uit een platte overwelving die een naar de bodem, boven het glas 16, geopend kanaal bepaalt; en (iii) een sleuf 18 voor het verwijderen van verbruikte dampen.
Het glaslint 16 wordt gedragen door rollen 20 en in de met de pijl A aangegeven richting gevoerd.
De stroom van de dampen in de bekledingskamer 14 langs het glas 16 wordt voornamelijk door afzuiging gecontroleerd.
Wanneer hete reagentia in contact moeten worden gebracht met het glas 16 op een buiten de floattank gelegen punt, is de hele installatie bij voorkeur geïsoleerd.
Het aantal achtereenvolgende reagenstoevoersleuven 12A, B hangt af van de aard van de te vormen bekleding. Deze sleuven 12A, B hellen in de richting van de bekledingskamer 14.
Het in stand houden van een uniforme damp- of gasstroomsnelheid over de breedte van het substraat wordt ook bevorderd door het parallel zijn van de wanden 24 van de inlaatsleuven 12A, B en afvoersleuf 18.
Deze inrichting kan boven het glas 16 worden geplaatst, zodanig dat de reagentia in de bewegingsrichting A van het lint stromen of in de tegengestelde richting.
De toevoermiddelen voor de gasvormige reagentia worden gevormd door een afgiftepijp 22 verbonden met een adapter 26 die in het mondstuk 10 leidt. De in de lengterichting verlopende wanden 34 van het convergerende deel van de uitstroom-pijp 10 vormen een afgeknot tweevlak 11, waarvan de tweevlaks-hoek (of convergentiehoek a) 9° is, waarbij deze convergentie-hoek (a) wordt bepaald in de transversale richting van de sleuf 12A, B.
De kleine convergentiehoek (a)' zorgt voor een geleidelijke herverdeling van de uitstroomgasstroomdruk op een laminaire wijze, zonder plotselinge lokale drukvariaties. Dit draagt bij aan de uniformiteit van de bekleding.
De overwelving of het dak 38 van de bekledingskamer 14 bevindt zich 20 mm van het glas 16. De lengte van de bekledingskamer 14 is zo gekozen dat het reagens gedurende 6 tot 10 seconden in contact met het glas 16 blijft. In de praktijk wordt de lengte van de bekledingskamer 14 voor eens en altijd gekozen, afhankelijk van de meest gebruikelijke loopsnelheid van het glas 16 - d.w.z. ca. 14 m/min voor 4 mm glas - en de concentratiereagens wordt bijgesteld wanneer dat nodig is afhankelijk van de aard en de dikte van de te verkrijgen bekleding.
De installatie wordt afgesloten met behulp van kool-stofvezelpakkingen wanneer de installatie zich in een float-tank bevindt of door Refrasil®- of Serafelt®- zomen, eventueel geïmpregneerd met boriumcarbide, wanneer de installatie buiten een floattank is geplaatst. De installatie kan ook worden afgesloten, tenminste bovenstrooms, door de aanwezigheid van een gaspakking (vgl. verwijzingscijfers 244 in fig. 4) welke het in de bekledingskamer binnengaan van omgevingsatmosfeer verhindert.
Om vervuiling van de bekledingskamer 14 door zwerf-afzettingen die op het glas 16 kunnen vallen en defecten in de daarop gevormde bekleding kunnen vormen te voorkomen, bevat de installatie een systeem voor het invangen van zwerfafzettingen, zoals beschreven in onze ook lopende aanvrage die op dezelfde dag is ingediend, waaraan hierboven is gerefereerd.
Metalen staven 40, gemaakt van roestvast staal, worden onder de overwelving van de bekledingskamer 14 aangebracht. Deze staven verzamelen bij voorkeur het vaste materiaal dat zich boven het glas 16 vormt en leiden de gasstromen weg van de overwelving, welke schoon blijft. De staven bewegen in zijwaartse richting terwijl het glas 16 loopt, waardoor het mogelijk is om het vervuilde deel voortdurend te verwijderen en te vervangen door een schoon deel. In plaats van zijwaarts bewegende staven is het mogelijk om een kabel te gebruiken die in een kringloop beweegt. Deze inrichting is met name bruikbaar in installaties waarbij van hete reagentia gebruik wordt gemaakt.
De installatie wordt vervaardigd uit ontlaten metaal-stukken welke om thermische vervorming te vermijden eerder met bouten aan elkaar zijn bevestigd dan door lassen.
In de in fig. 2 en 3 weergegeven uitvoeringsvorm zijn verscheidene toevoeren verschaft aangebracht langs een sleuf 112. De speciale geometrie voor de toevoeren verdeelt de reac-tieve damp homogeen over een enkele sleuf 112 die de gehele bekledingsbreedte van een glaslint (bijna 3 mm lang) beslaat om de sleuf gelijkmatig van reactieve dampen te voorzien.
De toevoermiddelen voor de gasvormige reagentia worden gevormd door zes cirkelvormige afgiftepijpen 122 verbonden met zes pyramiden 128 die in de sleuf 112 leiden. De inlaat-doorsnede 129 van elke pyramide 128 is rechthoekig en meet 10 cm bij 20 cm. Om de uitlaatdoorsnede van de afgiftepijpen 122 daaraan aan te passen zijn adapters 126 voorzien. De uitlaatdoor snede van elke pyramide 128, aangegeven met de onderbroken lijn 130, is een langwerpige rechthoek die past op één deel van de inlaatdoorsnede van de uitstroompijp 110, aangegeven met de onderbroken lijn 132.
De zes pyramiden 128 vormen verspreidingsorganen waarvan de divergerende binnenwanden 136 met elkaar een divergentiehoek (β) maken van 14°, waarbij deze divergentie-hoek (B) wordt bepaald in de lengterichting van de sleuf 112. De verspreidingsorganen verbreden samen met de adapters 126 de stroom reagensgas van de afmetingen ervan aan de uitlaat van de afgiftepijpen 122 tot afmetingen gelijk aan de lengte van de sleuf 112. De pyramiden 128 en de adapters 126 vormen samen de verdelingsmiddelen die leiden van de afgiftepijpen 122 naar de uitstroompijp 110.
De in lengterichting verlopende wanden 134 (zie fig.
3) van het convergerende deel van de uitstroompijp 110 en van de zes pyramiden 128 vormen een afgeknot tweevlak 111, waarvan de twevlakshoek, of convergentiehoek (a) 9° is, waarbij deze convergentiehoek (a) wordt bepaald in de dwarsrichting van de sleuf 112. Elke in de lengterichting verlopende wand 134 van de uitstroompijp vormt een enkel stuk met de overeenkomstige wanden van de zes pyramiden, welke in hoofdzaak in de vorm van afgeknotte gelijkbenige driehoeken is gesneden om de zes pyramiden te vormen.
De kleine divergentie- en convergentiehoeken α, β maken het mogelijk dat een gasstroom zonder loslaten van de wanden en derhalve zonder enige wervelingen stroomt en bevorderen de drukvereffening.
De toevoerinrichting maakt het mogelijk om van verscheidene afgiftepijpen 122 met een cirkelvormige doorsnede over te gaan op een enkele rechthoekige doorsnede, zoals sleuf 112 die heeft.
Deze inrichting heeft aanzienlijke voordelen, aangezien deze het mogelijk maakt om een homogene verdeling van damp te verkrijgen zonder enig onnodig verlies van arbeidsvermogen of stilstaande gebieden teweeg te brengen waar corrosie van de materialen van de inrichting op zou kunnen treden.
De hoogte van het tweevlak 111 dat de verbinding verschaft van de zes pyramiden aan de sleuf 112 (in de orde van 20 cm) is gekozen om een goed compromis te verkrijgen tussen het bewerkstelligen van de uniformiteit van het stromen en de grootte van de inrichting. De hoogte van de verspreidingsorga-nen, d.w.z. van de pyramiden 128, is 60 cm.
De afgifte van gas door elke afgiftepijp 122 kan individueel worden gecontroleerd met behulp van afsluiters 123, hetgeen bruikbaar blijkt voor het controleren van de uniformiteit in dwarsrichting van de dikte van de afzetting.
Op deze wijze is het mogelijk om rekening te houden met en te compenseren voor het bestaan van in dwarsrichting verlopende temperatuurgradiënten tussen het centrum en de randen van het glaslint.
Het in stand houden van een uniforme stroomsnelheid van damp of gas over de breedte van het substraat wordt ook vergemakkelijkt door het parallel lopen van de wanden 124 van de inlaatsleuven 112. Dit parallel zijn wordt bewaard dankzij de aanwezigheid van steunen 125 met een profiel in de vorm van een waterdruppel, welke met het breedste deel bovenstrooms in de gasstroom is geplaatst. De keuze van deze geometrie reduceert de vorming van een staart met afwijkende druk benedenstrooms van de steun of neemt deze weg. Een steunhoogte van 29 mm en een grootste breedte van 12 mm is geschikt gebleken. Het geniet de voorkeur dat de steunen 125 voldoende ver weg van de uitgang van de sleuf zijn geplaatst om de vorming van strepen op de bekleding te vermijden. Bij voorkeur is deze afstand ten minste 7 cm. Aan de andere kant moeten de steunen 125 niet te ver van de uitgang van de sleuf worden geplaatst, aangezien zij anders mogelijk niet voldoende stijfheid verschaffen om een constante afstand over de lengte van de sleuf te bewaren. Bij voorkeur is deze afstand minder dan 15 cm, met voordeel tussen 8 en 12 cm, zoals 10 cm. Verder wordt een afstand tussen de steunen van ca. 25 cm gebruikt (voor de duidelijkheid in de figuren overdreven).
Het inbrengen van het reagens in het dragergas ervan vindt plaats in een buisvormige pijp 122 op een punt vóór de verbinding ervan aan de adaptor 126. Deze pijp is uitgerust met venturibuizen 127A, 127B. Bij de hals van een eerste ven-turibuis 127A wordt tinchloride SnCl4 verstoven, bijvoorbeeld, en dit wordt meegevoerd in de hete stikstof, en het mengen van dragergas/damp wordt voltooid door het door een tweede venturi 127B te leiden. Hetzelfde is van toepassing op het inbrengen van waterdamp in een andere pijp.
Wanneer de installatie wordt gebruikt voor het afzetten van een bekleding op een glaslint, welke laatste de float-tank heeft verlaten, kan de gehele machine op een chassis worden geplaatst dat verwarmingselementen omvat voor de drager-gassen en pijpleidingen voor het verbinden van de hete gassen met de adaptors 126 die de sleuven 112 voeden.
Indien wordt gewenst om de verticale afmetingen van de installatie te verminderen, wordt het verticale pyramide-systeem vervangen door pyramiden 128 onder een hoek met het vlak van het substraat, in hetzelfde vlak als de sleuven 12A, B in fig. 1.
De in fig. 9 weergegeven variant kan worden opgenomen in de installatie van fig. 1 of fig. 3. Volgens deze variant heeft het mondstuk 410 een groot bovenste convergerende deel 460 met een in een axiale reichting verlopend vlak dat zich in hoofdzaak loodrecht op het oppervlak van het te bekleden substraat uitstrekt en een klein onderste convergerende deel 462, waarvan het in axiale richting verlopende vlak een hoek maakt met het bekledingsoppervlak, waarbij de wanden 464 van het onderste convergerende deel één geheel vormen en doorlopen met de parallelle wanden 424 van de sleuf 412. Steunen 425 zijn aangebracht in het onderste convergerende deel 462 van het mondstuk 410 teneinde de parallelle plaatsing van de wanden 424 over de breedte van de inrichting in stand te houden.
De in fig. 10 getoonde variant kan worden aangepast aan de installatie van fig. 1 of fig. 3. Volgens deze variant heeft een uitstroompijp 510 een sleuf 512, waarvan het in axiale richting verlopende vlak zich uitstrekt in een richting onder een hoek met het bekledingsoppervlak. De sleuf 512 wordt gevormd door de parallelle zijwanden 524, waarvan elk een stap 565 heeft die een bovenste sleufdeel 566 en een onderste sleu-fdeel 567 bepaalt. In het bovenste sleufdeel 566 zijn de wanden 524 op grotere afstand van elkaar geplaatst dan in het onderste sleufdeel 567. Steunen 525 zijn in het bovenste sleufdeel 566 van de sleuf 512 aangebracht teneinde de parallelle plaatsing van de wanden over de breedte van de inrichting in stand te houden.
Voorbeelden - Asymmetrisch
De volgende voorbeelden lichten het gebruik van een asymmetrische installatie zoals die is beschreven in samenhang met fig. 1, IA, 2 en 3 toe.
De installatie maakt het mogelijk om bijvoorbeeld bekledingen van tinoxyde Sn02, tinoxyde Sn02 gedoteerd met fluor, titaniumdioxyde Ti02, titaniumnitride TiN, silicium-nitride Si3N4 en, in het algemeen, oxyden, sulfiden, nitriden of carbiden af te zetten.
Om bekledingen van tinoxyde Sn02 of titaniumdioxyde Ti02 te vormen worden twee achtereenvolgende sleuven 112 gebruikt. Het reagens dat het metaal (Sn of Ti) draagt (toegevoerd in de eerste sleuf 112A) is een tetrachloride, vloeibaar bij omgevingstemperatuur, dat wordt verdampt in een stroom watervrij dragerstikstofgas van ca. 600°C. Het verdampen wordt vergemakkelijkt door de verstuiving van deze reagentia in het dragergas.
Om het oxyde te produceren worden de tetrachloride-moleculen in aanwezigheid van waterdamp, toegevoerd door de tweede sleuf 112B, gebracht. De waterdamp is oververhit tot ca. 600°C, en wordt ook in een dragergas geïnjecteerd, dat tot ca. 600°C verhitte lucht is. Sn02 kan bijvoorbeeld worden gevormd onder gebruikmaking van de aandelen SnCl4 en H20 gegeven in de Britse octrooipublikatie GB 2026454 (Glaverbel).
In het geval van de vorming van een geleidend tinoxyde (Sn02), is het doteringsmiddel fluor. HF wordt aan de waterdamp toegevoegd. De HF-partieeldruk is pHF = 0,2 pSnCl4. Ook een ander doteringsmiddel kan worden ingebracht: vloeibaar antimoniumchloride (SbCl5) , dat direct met het tinchloride SnCl4 wordt gemengd waarmee het in elke verhouding mengbaar is. De aanwezigheid van antimoniumchloride SbCl5 maakt het mogelijk de bekleding van tinoxyde Sn02 te kleuren, welke vervolgens een deel van de nabije zoninfraroodstraling kan absorberen (en reflecteren).
De gasstroomsnelheid (dragergas + reagens) in elke sleuf 112 is 1 m3/cm sleuf/u, bij de bedrijfstemperatuur.
Om bekledingen van tinoxyde (Sn02) of titaniumdioxyde (Ti02) af te zetten wordt -Inconel 600 of optioneel een zelfs meer vuurvaste legering (Hastalloy) gekozen voor de delen van de inrichting die in contact zijn met tinchloride (SnCl4) of titaniumchloride (TiCl4), en Monel 400 voor de waterdamp- en HF-sleuf.
De laag die wordt gevormd is uniform, zowel wanneer deze op een macroscopische wijze over de gehele breedte van het beklede substraat wordt onderzocht, als wanneer kleine naburige zones worden onderzocht. De bekleding is streepvrij.
De in fig. 4, 5 en 6 getoonde symmetrische installatie bezit een centrale reagensinjectiesleuf 212, waarbij zich aan elke zijde een bekledingskamer 214a, 214b bevindt bestaande uit een met een afzuigsleuf 218a, 218b verbonden kanaal. Deze symmetrische installatie beslaat in hoofdzaak de gehele breedte van het glas 16.
Verscheidene kenmerken van de inrichting zijn hetzelfde als die beschreven in relatie tot de asymmetrische installatie weergegeven in fig. 1, IA, 2 en 3: injectie van reagens in het dragergas met behulp van venturibuizen, en het in stand houden van het parallel zijn van de injectie- en afzuigsleuven met behulp van "waterdruppel"-steunen 225.
De in fig. 4 weergegeven symmetrische installatie is 3 m lang, en is ontworpen om een doorbuiging te hebben die de 1 mm niet overschrijdt, zelfs niet in een omgeving met hoge temperatuur.
De installatie is geschikt voor het afzetten van een bekleding van reagentia die koud zijn gehouden tot op het moment waarop zij contact maken met het hete glas 16. De inrichting omvat slechts een enkele reagenstoevoersleuf 212. Het is mogelijk om door deze sleuf 212 een mengsel van verscheidene reagentia in te brengen die alleen met elkaar zullen reageren wanneer de temperatuur voldoende hoog is, en derhalve ' op het glas 16. De inrichting is vervaardigd uit aluminium en voorzien van koelleidingen 242.
Dit samenstel is geplaatst op een hoogte van minder dan 12 mm boven het glas 16, bijvoorbeeld 4 mm. De aanwezigheid van deze gekoelde inrichting verstoort de temperatuur van i het glas 16 slechts in geringe mate of helemaal niet, aangezien de bekledingskamer 214A, B uit een gepolijste aluminium-overwelving bestaat met een zeer geringe emissiviteit, welke de rol van een thermische spiegel vervult.
De installatie is luchtdicht door de aanwezigheid van i gaspakkingen 244 bovenstrooms en benedenstrooms, welke elke uitwisseling tussen de omgevingsatmosfeer en de bekledingskamer 214A, B verhinderen. In zijwaartse richting verlopende schermen zijn ook verschaft, aangevuld met een afzuig- en een gaspakking, met name wanneer het niet mogelijk is zelfsmerende i mechanische pakkingen (grafiet, boriumcarbide) te gebruiken (in het geval van geoxydeerde lagen).
Om het afzetten mogelijk te maken van een laag op een glassubstraat in een floattank, is het idealiter nodig om middelen op te nemen om een nauwkeurige geometrie en goed functi-) oneren te verzekeren, zelfs bij de hoge temperaturen die in een floattank heersen. Zoals in fig. 4 is weergegeven, is de bekledingsafzettingsinrichting aangebracht op een bogie 247 die rollen draagt aangepast om in vaste leibalken op te nemen. In het bijzonder loopt de bogie 247 met behulp van vier rollen over twee leibalken 249, 251 (I.P.N. 350) De bogie 247 wordt geleid door een paar rollen 248 met een U-vormig profiel, welke over een eerste leibalk of rail 249 lopen, terwijl bewegingen in zijwaartse richting mogelijk kunnen worden gemaakt door een paar cilindrische rollen 250 die op een tweede leibalk 251 lopen, voor het compenseren van eventuele dwarse golvingen in de loopsporen. Deze balken hebben ribben met complementaire vlakke stukken die een dubbel doel hebben: het vergroten van het traagheidsmoment, zowel verticaal als horizontaal, en het vormen van kanalen waarin watercirculatie kan worden verschaft, hetgeen het mogelijk maakt een identieke geometrie van de inrichting zowel bij omgevingstemperatuur als bij hoge temperatuur te handhaven.
De injectiesleuf 212 van het mondstuk 210 is voorzien van vijf instelbare toevoeren 246 die de damp in een uit-stroompijp in de vorm van een tweevlak 211 geleiden, dat eindigt in de sleuf 212, waarbij de tweevlakshoek of convergen-tiehoek (a) 9° is. In plaats daarvan kan een groter aantal instelbare toevoeren, zoals 16, worden verschaft. De hoogte van de sleuf 210 is 20 cm.
De sleuf kan, zoals getoond in fig. 7 en 8, gekromd zijn. Ofschoon dit ontwerp de installatie complexer kan maken, biedt het het voordeel van^een kleiner ruimtebeslag ten aanzien van de hoogte, indien de wanden 324 van de sleuf 312 horizontaal worden geplaatst en het toevoertweevlak ervan verticaal.
Voorbeelden - Symmetrisch
De volgende voorbeelden lichten het gebruik toe van een symmetrische installatie zoals beschreven in samenhang met fig. 4.
De installatie maakt het mogelijk om bekledingen af te zetten van silica Si02 of SiOx uit silaan SiH4 en zuurstof, volgens de beschrijvingen in de Britse octrooipublikaties GB 2234264 en GB 2247691, waarnaar hierboven is verwezen.
Eenzelfde installatie kan ook worden gebruikt om een bekleding te vormen van aluminiumoxyde A1203 uit aluminiumace-tylacetonaatdamp. In dit geval is het materiaal dat in contact staat met de reagensdamp roestvast staal.
Ditzelfde type installatie kan ook worden gebruikt voor het afzetten van een metaalbekleding uit een metaalcarbo-nyl.
Een dergelijke installatie kan worden omgevormd om reagentia te gebruiken die niet met elkaar in contact kunnen komen tijdens het geleiden ervan naar het glas 16. In dit geval worden twee reagenstoevoertweevlakken zij aan zij geplaatst, elk eindigend in een hellende sleuf, waarvan het hellingsvlak convergeert in de richting van het hellingsvlak van de andere sleuf. Deze inrichting moet idealiter niet worden gekoeld.
Bij wijze van voorbeeld, verscheidene achtereenvolgende installaties kunnen worden gebruikt voor het afzetten van bekledingen op glas terwijl dit laatste zich in de float-tank bevindt; ten eerste silica Si02 en vervolgens vanadium-pentoxyde V205 of wolframoxyde W03 of molybdeniumoxyde Mo03, waarin natrium in de atomaire toestand wordt gediffundeerd, om dit oxyde om te zetten in vanadium, wolfram of molybdenium-brons, en tenslotte zal een tinoxyde Sn02-barrière erbovenop worden aangebracht. De tinoxyde Sn02-barrière kan optioneel ook op het lint worden afgezet vlak nadat het uit de floattank komt. Dergelijke afzettingen hebben een elektrische geleiding (brons) zodanig dat zij zich halverwege tussen edelmetalen en zwaar-gedoteerde halfgeleiders bevinden. Derhalve wordt een glas verkregen met een bekleding die optisch zeer selectief is met een metaalachtig uiterlijk bij reflectie en een zeer lage zonnefactor.
De laag die wordt gevormd is uniform, zowel wanneer deze op een macroscopische wijze over de gehele breedte van het beklede substraat wordt onderzocht, als wanneer kleine naburige zones worden onderzocht. De bekleding is streepvrij.

Claims (26)

1. Inrichting voor de vorming door pyrolyse van een bekleding van een metaal of metaalverbinding op een zijde van een bewegend heet glassubstraat (16) door de genoemde zijde in contact te brengen met een gasvormig reagens, welke inrichting dragermiddelen (20) bezit voor het voeren van het substraat (16) door een bekledingskamer (14, 214A, 214B), middelen voor het toevoeren en verdelen van reagensgas in de bekledingskamer en middelen (18, 218A, 218B) voor het afvoeren van afgewerkt gas van de bekledingskamer, met het kenmerk, dat de middelen voor het verdelen van reagensgas over de bekledingskamer een uitstroompijp (10, 110, 210, 410, 510) omvatten met een sleuf (12A, 12B, 112, 212, 312, 412, 512) die direct in de bekledingskamer uitmondt, waarbij de in lengterichting verlopende binnenwanden van de sleuf in hoofdzaak parallel aan elkaar lopen, de sleuf zich dwars op het pad van het substraat uitstrekt, de lengte van de genoemde sleuf tenminste in hoofdzaak gelijk is aan de bekledingsbreedte van het substraat, en dat de binnenwanden van de uitstroompijp een continu convergerend pad bepalen om de reagensgasstroom aan te passen aan de afmetingen van de opening van de sleuf, waarbij de convergentie-hoek (a) van het genoemde convergerende pad op geen enkel punt de 14° overschrijdt.
2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het genoemde continue convergerende pad een convergentie- » hoek (a) heeft die op geen enkel punt de 9° overschrijdt.
3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat het genoemde continue convergerende pad een conver-gentiehoek (a) heeft die op elk punt tenminste 4° is.
4. Inrichting volgens één van de conclusies 1-3, met l het kenmerk, dat de in lengterichting lopende wanden (34, 134) van het convergerende deel van de uitstroompijp (10, 110) een afgeknot tweevlak (11, 111) vormen, waarvan de tweevlakshoek de genoemde convergentiehoek (a) is.
5. Inrichting volgens één van de conclusies 1-4, met > het kenmerk, dat de verdelingsmiddelen ten minste één ver- spreidingsorgaan (128) omvatten, voor het verspreiden van de gasvormige stroom reagens, dat een divergent pad bepaalt voor het verbreden van de stroom reagensgas van de afmetingen ervan aan het uiteinde van de toevoermiddelen (122, 126) tot afmetingen die gelijk zijn aan tenminste een deel van de lengte van de sleuf (112).
6. Inrichting volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de binnenwanden (134, 136) van het verspreidingsorgaan (128) of de -organen de convergentiehoek (a) en een divergen-tiehoek (β) die op geen enkel punt de 14° overschrijdt bepalen, waarbij de genoemde divergentiehoek (B) wordt bepaald in de lengterichting van de sleuf (112), en de genoemde conver-gentiehoek (a) wordt bepaald in de dwarsrichting van de sleuf (112)·
7. Inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de divergentiehoek (β) op geen enkel punt de 9° overschrijdt.
8. Inrichting volgens één van de conclusies 5-7, met het kenmerk, dat de verspreidingsorganen (128) en het mondstuk (110) een enkele component vormen, waarbij de verspreidingsorganen het mondstuk van reagensgas voorzien.
9. Inrichting volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat elk van de in lengterichting lopende wanden (134) van de uitstroompijp (110) een enkel stuk vormt met de overeenkomstige wand van het verspreidingsorgaan (128) welke in hoofdzaak in de vorm van gelijkbenige driehoeken is gesneden om de verspreidingsorganen te vormen.
10. Inrichting volgens één van de conclusies 5-9, met het kenmerk, dat de inlaatdoorsnede (129) van elk verspreidingsorgaan (128) cirkelvormig of rechthoekig is en de uitlaatdoorsnede (130) een langwerpige rechthoek is die past op tenminste een deel van de inlaatdoorsnede (132) van de uitstroompijp (110).
11. Inrichting volgens één van de conclusies 5-10, met het kenmerk, dat de verdelingsmiddelen verscheidene verspreidingsorganen (128) omvatten die met elkaar zijn verbonden teneinde de gasvormige reagentia over de gehele lengte van het mondstuk (110) te verdelen op een afstand van ten minste 10 cm van de genoemde sleuf (112).
12. Inrichting volgens conclusie 11, met het kenmerk, dat de verdelingsmiddelen verscheidene verspreidingsorganen (128) omvatten, welke met elkaar zijn verbonden, teneinde de gasvormige reagentia over de gehele lengte van het mondstuk (110) te verdelen, op een afstand van ten minste 15 cm van de genoemde sleuf (112).
13. Inrichting volgens één van de conclusies 1-12, met het kenmerk, dat de in lengterichting lopende binnenwanden (24, 424, 514) van de sleuf (12, 412, 512) een hoek tussen 20° en 40° maken met het bewegingsvlak van het substraat (16) bepaald door de transportmiddelen.
14. Inrichting volgens één van de conclusies 1-13, met het kenmerk, dat de sleuf (112, 212) één geheel vormt met het mondstuk (110, 210).
15. Inrichting volgens één van de conclusies 1-14, met het kenmerk, dat het in axiale richting verlopende vlak van het mondstuk (10, 210) in hoofdzaak loodrecht op het bewegingsvlak van het substraat (16) staat.
16. Inrichting volgens één van de conclusies 1-15, gekoppeld aan een bogie (247) die een aantal rollen (248, 250) draagt aangepast om vaste leibalken (249, 251) op te nemen.
17. Inrichting volgens conclusie 16, waarbij het aantal rollen ten minste één U-vormige rol (248) omvat aangepast om een eerste vaste leibalk (249) op te nemen en ten minste één cilindrische rol (250) aangepast om een tweede vaste leibalk (251) op te nemen.
18. Inrichting volgens één van de conclusies 1-17, welke verder middelen (40) omvat voor het invangen van zwerf-afzettingen in de bekledingskamer (14).
19. Inrichting volgens conclusie 18, waarbij de genoemde middelen voor het invangen van zwerfafzettingen één of meer metaalstaven (40) omvatten aangebracht onder de over-welving (38) van de bekledingskamer.
20. Inrichting volgens één van de conclusies 1-19, welke verder middelen omvat voor het instellen van de hoogte van de bekledingskamer (14) boven het glassubstraat (16).
21. Inrichting volgens één van de conclusies 1-20, met het kenmerk, dat een verscheidenheid aan steunen (125, 225, 425, 525) onderling op afstand zijn geplaatst en tegenoverliggende in lengterichting lopende binnenwanden (124, 224, 424, 524) van de sleuf met elkaar verbinden om de genoemde wanden in een in hoofdzaak parallel ten opzichte van elkaar staande opstelling te houden.
22. Werkwijze voor het vormen van een bekleding van een metaal of metaalverbinding op een bewegend heet glassubstraat door pyrolyse van een reagens in de gasfase, met het kenmerk, dat een gasstroom wordt gevormd door aan een uit-stroompijp met een direct in de bekledingskamer uitmondende sleuf, waarbij de in de lengterichting lopende binnenwanden van de sleuf in hoofdzaak parallel aan elkaar lopen en de sleuf zich over tenminste in hoofdzaak de gehele bekledings-breedte van het substraat uitstrekt, een gasvormig medium toe te voeren dat één of meer stoffen in de gasfase omvat, een stof of stoffen die een chemische reactie of ontleding ondergaan om het genoemde metaal of de genoemde metaalverbinding op het substraat te vormen, en het substraat wordt in contact gebracht met de genoemde door de genoemde sleuf uitgestoten gasstroom, en dat de convergentiehoek van de gasstroom, op elk punt langs het pad ervan in de uitstroompijp kleiner is dan of gelijk is aan 14°.
23. Werkwijze volgens conclusie 11, met het kenmerk, dat de convergentiehoek van de gasstroom op elk punt langs het pad ervan in de uitstroompijp kleiner is dan of gelijk aan dan 9°.
24. Werkwijze volgens conclusie 22 of 23, met het kenmerk, dat elke divergentiehoek van de gasstroom langs het pad van de afgiftepijp in de toevoerzone van het mondstuk tot de uitlaatsleuf van het mondstuk op elk punt langs het genoemde pad kleiner is dan of gelijk is aan 14°.
25. Werkwijze volgens conclusie 24, met het kenmerk, dat elke divergentiehoek van de gasstroom langs het pad van de afgiftepijp in de toevoerzone van het mondstuk tot de uitlaatsleuf van het mondstuk op elk punt van het genoemde pad kleiner is dan of gelijk is aan 9°.
26. Werkwijze volgens één van de conclusies 22-25, met het kenmerk, dat het genoemde continue convergerende pad een convergentiehoek heeft die op elk punt ten minste 4° is.
NL9400041A 1993-01-11 1994-01-11 Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse. NL9400041A (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9300400 1993-01-11
GB939300400A GB9300400D0 (en) 1993-01-11 1993-01-11 A device and method for forming a coating by pyrolysis

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL9400041A true NL9400041A (nl) 1994-08-01

Family

ID=10728522

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9400042A NL9400042A (nl) 1993-01-11 1994-01-11 Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse.
NL9400041A NL9400041A (nl) 1993-01-11 1994-01-11 Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9400042A NL9400042A (nl) 1993-01-11 1994-01-11 Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse.

Country Status (15)

Country Link
US (3) US5522911A (nl)
JP (2) JP3423388B2 (nl)
AT (2) AT405831B (nl)
BE (2) BE1008559A3 (nl)
CA (2) CA2113028A1 (nl)
CH (2) CH687204A5 (nl)
CZ (2) CZ287432B6 (nl)
DE (2) DE4400209A1 (nl)
ES (2) ES2112093B1 (nl)
FR (2) FR2700325B1 (nl)
GB (3) GB9300400D0 (nl)
IT (2) IT1261393B (nl)
LU (2) LU88451A1 (nl)
NL (2) NL9400042A (nl)
SE (3) SE504491C2 (nl)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6022414A (en) * 1994-07-18 2000-02-08 Semiconductor Equipment Group, Llc Single body injector and method for delivering gases to a surface
US6200389B1 (en) 1994-07-18 2001-03-13 Silicon Valley Group Thermal Systems Llc Single body injector and deposition chamber
US6231971B1 (en) * 1995-06-09 2001-05-15 Glaverbel Glazing panel having solar screening properties
US5882368A (en) * 1997-02-07 1999-03-16 Vidrio Piiano De Mexico, S.A. De C.V. Method for coating glass substrates by ultrasonic nebulization of solutions
US6027766A (en) 1997-03-14 2000-02-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same
US7096692B2 (en) * 1997-03-14 2006-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same
US6103015A (en) * 1998-01-19 2000-08-15 Libbey-Owens-Ford Co. Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe
DE19923591A1 (de) * 1999-05-21 2000-11-23 Fleissner Maschf Gmbh Co Vorrichtung mit einem Düsenbalken zur Erzeugung von Flüssigkeitsstrahlen zur Strahlbeaufschlagung der Fasern einer Warenbahn
US6413579B1 (en) 2000-01-27 2002-07-02 Libbey-Owens-Ford Co. Temperature control of CVD method for reduced haze
US6808741B1 (en) * 2001-10-26 2004-10-26 Seagate Technology Llc In-line, pass-by method for vapor lubrication
JP2006501793A (ja) * 2002-07-31 2006-01-12 シドクラフト、アクチボラグ 電気機械
WO2004084222A1 (ja) 2003-03-19 2004-09-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 車載用記録再生装置、記録再生装置、記録再生システム、および記録再生方法
JP4124046B2 (ja) * 2003-07-10 2008-07-23 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置
US9017480B2 (en) 2006-04-06 2015-04-28 First Solar, Inc. System and method for transport
TW201011114A (en) * 2008-05-19 2010-03-16 Du Pont Apparatus and method of vapor coating in an electronic device
EP2123793A1 (en) * 2008-05-20 2009-11-25 Helianthos B.V. Vapour deposition process
US8557328B2 (en) * 2009-10-02 2013-10-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Non-orthogonal coater geometry for improved coatings on a substrate
FI9160U1 (fi) * 2010-01-04 2011-04-14 Beneq Oy Pinnoituslaite
FI20106088A0 (fi) * 2010-10-21 2010-10-21 Beneq Oy Pinnankäsittelylaite ja -menetelmä
KR101806916B1 (ko) * 2011-03-17 2017-12-12 한화테크윈 주식회사 그래핀 필름 제조 장치 및 그래핀 필름 제조 방법
US20130130597A1 (en) * 2011-11-21 2013-05-23 James William Brown Glass treatment apparatus and methods of treating glass
JP5148743B1 (ja) * 2011-12-20 2013-02-20 シャープ株式会社 薄膜成膜装置、薄膜成膜方法および薄膜太陽電池の製造方法
MX2014013233A (es) * 2014-10-30 2016-05-02 Ct Investig Materiales Avanzados Sc Tobera de inyeccion de aerosoles y su metodo de utilizacion para depositar diferentes recubrimientos mediante deposito quimico de vapor asistido por aerosol.
US20160186320A1 (en) * 2014-12-26 2016-06-30 Metal Industries Research And Development Centre Apparatus for continuously forming a film through chemical vapor deposition
JP6426298B2 (ja) * 2015-10-19 2018-11-21 東芝三菱電機産業システム株式会社 成膜装置
WO2019239192A1 (en) * 2018-06-15 2019-12-19 Arcelormittal Vacuum deposition facility and method for coating a substrate

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3597178A (en) * 1969-04-17 1971-08-03 Ppg Industries Inc Process and apparatus for removing atmospheric contaminants in a float glass operation
US3837832A (en) * 1971-04-29 1974-09-24 Ppg Industries Inc Apparatus for making float glass
US3888649A (en) * 1972-12-15 1975-06-10 Ppg Industries Inc Nozzle for chemical vapor deposition of coatings
GB1507465A (en) * 1974-06-14 1978-04-12 Pilkington Brothers Ltd Coating glass
JPS51126209A (en) * 1975-04-25 1976-11-04 Central Glass Co Ltd Method and apparatus for production of which reflects heat rays
GB1507996A (en) * 1975-06-11 1978-04-19 Pilkington Brothers Ltd Coating glass
GB1524326A (en) * 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
US4092953A (en) * 1976-12-09 1978-06-06 The D. L. Auld Company Apparatus for coating glass containers
EP0007147A1 (en) * 1978-07-12 1980-01-23 Imperial Chemical Industries Plc Liquid dispenser and process for dispensing liquid reaction mixtures onto web or sheet material
CA1138725A (en) * 1978-07-20 1983-01-04 Robert Terneu Glass coating
BE879189A (fr) * 1978-10-19 1980-04-04 Bfg Glassgroup Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus
CH628600A5 (fr) * 1979-02-14 1982-03-15 Siv Soc Italiana Vetro Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede.
CH643469A5 (fr) * 1981-12-22 1984-06-15 Siv Soc Italiana Vetro Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide.
US4595634A (en) * 1983-08-01 1986-06-17 Gordon Roy G Coating process for making non-iridescent glass
GB8408118D0 (en) * 1984-03-29 1984-05-10 Pilkington Brothers Plc Coating glass
US4900110A (en) * 1984-07-30 1990-02-13 Ppg Industries, Inc. Chemical vapor deposition of a reflective film on the bottom surface of a float glass ribbon
US5122394A (en) * 1985-12-23 1992-06-16 Atochem North America, Inc. Apparatus for coating a substrate
US4761171A (en) * 1987-02-09 1988-08-02 Libbey-Owens-Ford Co. Apparatus for coating glass
US4793282A (en) * 1987-05-18 1988-12-27 Libbey-Owens-Ford Co. Distributor beam for chemical vapor deposition on glass
GB2209176A (en) * 1987-08-28 1989-05-04 Pilkington Plc Coating glass
GB8824102D0 (en) * 1988-10-14 1988-11-23 Pilkington Plc Apparatus for coating glass
GB8914047D0 (en) * 1989-06-19 1989-08-09 Glaverbel Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
EP0516714B1 (en) * 1990-02-22 1995-10-18 GORDON, Roy Gerald Titanium nitride or tin oxide bonding to a coater surface
GB2247691B (en) * 1990-08-31 1994-11-23 Glaverbel Method of coating glass
FR2672518B1 (fr) * 1991-02-13 1995-05-05 Saint Gobain Vitrage Int Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux.
FR2677639B1 (fr) * 1991-06-14 1994-02-25 Saint Gobain Vitrage Internal Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium.

Also Published As

Publication number Publication date
GB9400045D0 (en) 1994-03-02
ITTO930986A0 (it) 1993-12-23
ES2111418B1 (es) 1998-10-16
FR2700325B1 (fr) 1996-11-29
JPH072548A (ja) 1995-01-06
GB2274115B (en) 1995-08-23
JP3423388B2 (ja) 2003-07-07
US6112554A (en) 2000-09-05
ITTO930986A1 (it) 1994-07-12
SE9400037D0 (sv) 1994-01-10
GB2274116B (en) 1995-08-23
ATA1494A (de) 1998-11-15
ES2111418A1 (es) 1998-03-01
ES2112093A1 (es) 1998-03-16
IT1261393B (it) 1996-05-20
CZ1694A3 (en) 1995-06-14
CZ287432B6 (en) 2000-11-15
GB2274115A (en) 1994-07-13
BE1008560A3 (fr) 1996-06-04
FR2700326A1 (fr) 1994-07-13
BE1008559A3 (fr) 1996-06-04
CA2113029A1 (en) 1994-07-12
SE9400038D0 (sv) 1994-01-10
FR2700326B1 (fr) 1996-11-29
GB2274116A (en) 1994-07-13
CZ1794A3 (en) 1995-06-14
SE504491C2 (sv) 1997-02-24
CA2113028A1 (en) 1994-07-12
US5709726A (en) 1998-01-20
JPH073463A (ja) 1995-01-06
ES2112093B1 (es) 1998-11-16
CZ284096B6 (cs) 1998-08-12
LU88451A1 (fr) 1994-12-01
FR2700325A1 (fr) 1994-07-13
ITTO930987A0 (it) 1993-12-23
GB9400046D0 (en) 1994-03-02
US5522911A (en) 1996-06-04
CH687203A5 (fr) 1996-10-15
DE4400208A1 (de) 1994-07-14
SE9400038L (sv) 1994-07-12
CH687204A5 (fr) 1996-10-15
DE4400209A1 (de) 1994-07-14
AT405279B (de) 1999-06-25
NL9400042A (nl) 1994-08-01
GB9300400D0 (en) 1993-03-03
ATA1394A (de) 1999-04-15
SE508197C2 (sv) 1998-09-14
SE9400037L (sv) 1994-07-12
AT405831B (de) 1999-11-25
ITTO930987A1 (it) 1995-06-23
IT1261394B (it) 1996-05-20
LU88450A1 (fr) 1994-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL9400041A (nl) Inrichting en werkwijze voor het vormen van een bekleding door pyrolyse.
KR960010097B1 (ko) 유리를 코팅하는 방법 및 코팅된 유리
KR830002475B1 (ko) 고온으로 가열된 썹스트레이트 표면에 고체물질의 층을 연속적으로 용착시키는 방법
US4476158A (en) Method of depositing a mineral oxide coating on a substrate
US3888649A (en) Nozzle for chemical vapor deposition of coatings
CA2000269C (en) Coating glass
JP2014520201A (ja) 薄膜コーティングを被覆するための装置およびこのような装置を用いた被覆方法
US3951100A (en) Chemical vapor deposition of coatings
GB2068935A (en) Coating hot glass with metals or metal compounds, especially oxides
US4349372A (en) Process for coating glass
US3942469A (en) Vapor deposition nozzle
PT649479E (pt) Processo e aparelho para o revestimento de um substrato de vidro
EP0083383A1 (en) Process and apparatus for forming thin films on a moving substrate
IE893249L (en) Depositing a coating on hot glass from at least two gaseous¹reactants

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
BN A decision not to publish the application has become irrevocable